JP2570386B2 - クリーンルーム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、クリーンルームに係り、特にプレナムチャ
ンバ内で空調エアを複数の吹出口より供給して循環エア
と混合することで温湿度分布の偏りを少なくしたクリー
ンルームに関する。

〔従来の技術〕

近年、半導体や、医薬品等の生産工程において、品質
保持の点から、クリーンルームの温度及び湿度管理の重
要性が高まっている。

従来のクリーンルームは、第３図に示すように、主に
天井室プレナムチャンバ10、清浄室12、床下チャンバ14
よりなっていた。清浄室12内のエアは、清浄室12の床に
敷設されたグレーチング床面16を通過し、下方に形成し
た床下チャンバ14内へ吸い込まれる。吸い込まれたエア
の一部は、空調機側リターンエア吸込口18より空調機20
へ送られ、温湿度を調整される。残りのエアは、循環フ
ァン側リターンエア吸込口22より循環ファン24により循
環される。これらの空調エア26と循環エア28は、各々ダ
クト30、32を介して、天井室プレナムチャンバ10内にそ
れぞれ１ケ所づつ設けられた空調エア出口34と循環エア
出口36より供給される。天井室プレナムチャンバ10に
て、空調エアと循環エアは、自然対流により混合され、
その混合気はフイルタ38を通過することにより塵埃が捕
捉され、清浄室12内に清浄エアが供給されるしくみであ
った。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、天井室プレナムチャンバ内では、温湿
度の異なる空調エアと循環エアとを短時間で混合せねば
ならず、従来の自然対流による方法では、十分に混合さ
せることができなかった。そのため、フイルタを通って
清浄室へ吹付けられる清浄エアの温室度分布は、不均一
となり、望ましい温湿度を清浄室内の作業エリアで均一
に保つのはむずかしかった。その結果乾燥過多による帯
電などによって被加工物の塵埃付着量が増加したり、静
電気による半導体RAMの静電破壊を招くなどの問題があ
った。従って、清浄室内の温湿度分布に偏りは、厳密な
温湿度管理の要求される半導体や電子部品の製造工場に
おいては、歩留りが悪くなり、生産効率の点からも好ま
しくなかった。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、
温湿度分布の偏りの少ないクリーンルームを提供するこ
とを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、前記目的を達成するために、清浄室と、清
浄室にフイルタを介して清浄エアを供給する天井室プレ
ナムチャンバと、清浄室のエアをグレーチング床を介し
て吸引する床下チャンバと、床下チャンバ内の一部のエ
アを空調して天井室プレナムチャンバに供給する空調機
と、床下チャンバ内の残りのエアをプレナムチャンバに
供給する循環ファンとからなるクリーンルームにおい
て、天井室プレナムチャンバ内で、空調機より送られる
空調エアを旋回流を起こさせるように複数の空調エア吹
出口を設けたことを特徴としている。

〔作用〕

本発明に係るクリーンルームでは、清浄室内のエア
は、清浄室より床面のグレーチングを通り、床下チャン
バへ吸気される。そのエアの一部は、空調機に送られ、
残りのエアは、循環ファンへ送られる。空調機により温
湿度が調整された空調エアは、天井室プレナムチャンバ
内において一定の方向に旋回流が発生するよう設けられ
た２ケ所の空調エア出口により供給される。これによ
り、天井室プレナムチャンバ内では、空調エアの旋回流
が発生する。旋回流が発生している状態で、循環エアを
天井室プレナムチャンバへ供給すると、空調エアと循環
エアとの混合が速やかに行われ、温湿度分布の偏りは減
少する。そしてフイルタユニットを通り清浄なエアとな
って清浄室に供給される。

〔実施例〕

以下添付図面に従って本発明に係るクリーンルームの
好ましい実施例を詳説する。

本発明に係るクリーンルームは、第１図に示すよう
に、天井室プレナムチャンバ10、清浄室12、床チャンバ
14の３層より構成されている。清浄室12には、グレーチ
ング床面16が敷設され、清浄室12内のエアは、グレーチ
ング床面16を通り床下チャンバ14に吸い込まれるように
なっている。

床下チャンバ14内において一部のエアは、空調機側リ
ターンエア吸込口18より空調機20へ送られる。また残り
のエアは、循環ファン側リターンエア吸込口22より循環
ファン24へ送られる。ここまでの構成は、第２図で示し
た従来のクリーンルームと同構成で、同様な部材につい
ては同一の符号を付している。

空調機20の吹出側からは、第１図、第２図に示すよう
に天井室プレナムチャンバ10内の上面と下面に、且つ対
角方向の位置に、設けられた２ケ所の空調エア吹出口5
0、52へ、空調エア54、56がダクト58を介して供給され
るようになっている。また空調エア吹出口50、52は、天
井室プレナムチャンバ10内で、旋回流を起こすよう相反
する方向に向けて設置される。

一方、循環ファン24の吹出側からは、ダクト60を介し
て天井室プレナムチャンバ10内の略中央に循環エア吹出
口62を設け、循環エア64が供給されるようになってい
る。また、天井室プレナムチャンバ10と清浄室12との間
には、エアに含有する塵埃を捕捉するためのHEPAフイル
タ66が配置されている。

以上説明した本発明に係るクリーンルームにおけるエ
アの流れは、次のようになる。清浄室12より、グレーチ
ング床面16を介して、床下チャンバ14へ吸い込まれたエ
アは、床下チャンバ14内のリターンエア吸込口18、22に
より、空調機20と、循環ファン24へと吸い込まれる。

空調機側へ送られたエアは、空調機により温湿度が調
整され、空調エア吹出口50、52より空調エア54、56が天
井室プレナムチャンバ10内へ吹き出される。

第２図は、天井室プレナムチャンバ10内の平面図で、
空調エア54、56の流れを示したものである。空調エア5
4、56は、天井室プレナムチャンバ10内において上下且
つ対角方向に設置された、空調エア吹出口50、52の効果
により、第２図に示す矢印方向に旋回流を発生させる。
旋回流がおきている状態で、循環エア64を、循環エア吹
出口62より供給すると、旋回流によって空調エア54、56
と、循環エア64が攪拌され、速やかに混合される。

これにより、空調エア54、56と循環エア64の温湿度分
布の偏りは、減少し、短時間で均一な混合エアとなる。
混合エアは、天井室プレナムチャンバ10との間に設置さ
れたHEPAフイルタ66によって清浄エア68となり、清浄室
12内へ、ダウンフローする。清浄エア68は、温湿度分布
の偏りが少ないため、半導体電子部品や、医薬品などの
製造工場において、適した環境を提供することができ
る。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明に係るクリーンルームによ
れば、天井室プレナムチャンバ内にて、空調エアにより
旋回流を発生させ、空調エアと循環エアとの混合が速や
かに行われるので、温湿度分布の偏りの少ない清浄エア
を清浄室へ供給することができる。これにより、良好な
製造環境を提供することができ、歩留り並びに品質の向
上に寄与するという効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は、本発明のクリーンルーム実施例の説
明図、第３図は、従来のクリーンルームの説明図であ
る。 10……天井室プレナムチャンバ、12……清浄室、14……
床下チャンバ、50、52……空調エア吹出口、62……循環
エア吹出口、66……HEPAフイルタ。

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】清浄室と、 清浄室にフイルタを介して清浄エアを供給する天井室プ
   レナムチャンバと、 清浄室のエアをグレーチング床を介して吸引する床下チ
   ャンバと、 床下チャンバ内の一部のエアを空調して天井室プレナム
   チャンバに供給する空調機と、 床下チャンバ内の残りのエアをプレナムチャンバに供給
   する循環ファンと、からなるクリーンルームにおいて、 天井室プレナムチャンバ内で、空調機より送られる空調
   エアを旋回流を起こさせるように複数の空調エア吹出口
   を設けたことを特徴とするクリーンルーム。