JP2565598B2 - 電子写真像形成部材用の導電性層とブロッキング層 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用性】本発明は一般に導電性層に関し、さ
らに詳細には、新規な導電性装置およびこの装置の使用
方法に関する。

【０００２】

【従来技術】ゼログラフィー技術においては、光導電性
絶縁層を有するゼログラフプレートを先ずその表面を均
一に静帯電させることによって像形成させる。次いで、
このプレートを光導電性絶縁体の照射領域の電荷は選択
的に逸散させるが非照射領域の静電荷像は残存させる活
性化用電磁線の像に露光させる。この得られた静電潜像
はその後微分割顕電マーキング粒子を光導電性絶縁層上
に付着させることによって現像し可視像とすることがで
きる。

【０００３】ゼログラフィーにおいて使用する光導電性
層はガラス質セレンのような単一材料の均質層であり得
あるいは光導電体と他の材料を含有する複合層であり得
る。ゼログラフィーで使用する１つのタイプの複合光導
電性層は少なくとも２つの電気作動層を有する感光性部
材を記載している米国特許第4,２６5,９９０号に例示さ
れている。１つの層は正孔を光生成させこの光生成性正
孔を連続電荷輸送層に注入し得る光導電性層である。一
般に、２つの電気作動層が連続電荷輸送層と支持導電性
層との間にはさまれた光導電性層を有するように導電性
層上に支持されている場合、電荷輸送層の外表面は通常
負極性の均一電荷で帯電され支持電極は陽極として用い
る。明らかに、支持電極は電荷輸送層が支持電極と電子
を光生成させこの光生成電子を電荷輸送層に注入し得る
光導電性層との間にはさまれている場合にも陽極として
機能し得る。この態様の電荷輸送層は、勿論、光導電性
層からの光生成性電子の注入を支持しこれらの電子を電
荷輸送層を通して輸送し得るものでなければならない。

【０００４】電荷発生層（ＣＧＬ）と電荷輸送層（ＣＴ
Ｌ）用の材料の各種組合せは研究されている。例えば、
米国特許第4,２６5,９９０号に記載された感光性部材は
ポリカーボネート樹脂と１種以上のある種のジアミン化
合物とを含む電荷輸送層と連続接触した電荷発生層を用
いている。正孔の光生成およびこれらの正孔の電荷輸送
層への注入能力を有する光導電性層を含む種々の発生層
もまた研究されている。発生層で用いる典型的な光導電
性材料には、非晶質セレン、三方晶質セレン、およびセ
レン−テルル、セレン−テルル−ひ素、セレン−ひ素お
よびこれらの混合物のようなセレン合金がある。電荷発
生層は均質な光導電性材料またはバインダー中に分散さ
せた粒状光導電性材料を含み得る。均質およびバインダ
ー電荷発生層の他の例は、例えば、米国特許第4,２６5,
９９０号に開示されている。ポリ（ヒドロキシエーテ
ル）樹脂のようなバインダー物質のさらなる例は米国特
許第4,４３9,５０７号に教示されている。これら米国特
許第4,２６5,９９０号および第4,４３9,５０７号の記載
はそのすべてを本明細書に引用する。上述したような少
なくとも２つの電気作動層を有する感光性部材は均一な
負静電荷で帯電させ、光像に露光しその後微分割顕電マ
ーキング粒子で現像しトナー像を形成させたときに優れ
た像を与える。これらの感光性部材のサイクリング操作
中は、転写する前およびクリーニングする前に感光体を
活性化用照射に露光することが望ましい。感光体のトナ
ー像（またはクリーニング前の残留像）面からの露光は
感光体の裏面からよりも望ましくない；何故ならば、ト
ナー像が感光体のその下の部分の完全な露光を妨げるか
ら、即ち、感光体の放電がトナーによって被覆されてな
い領域においてよりもトナーで覆われている領域におい
て完全でないようなシャドー効果が存在するからであ
る。

【０００５】現像前の感光体の未露光部分の消去露光は
濃厚トナー付着物が感光体の縁部に沿って、各原稿間お
よび原稿端部に沿って生ずるのを防止するのに多くの場
合望ましい；何故ならば、そのような付着物はクリーニ
ングするのが難しく、トナー廃棄物を生じまたある場合
には最終プリント書面上に暗トナー帯域を形成させるか
らである。これらのタイプの消去露光は感光体の外表面
に沿って配置させた光源によって実施できるけれどもそ
のような光源はその光源の存在が帯電、現像、転写、紙
はぎ取り、およびクリーニングステーションのような他
の加工ステーションの設置を妨げるので装置設計を大き
く制限する。即ち、感光体のうしろ即ち裏面上での活性
化用照射源の設置が大いに望ましい。しかしながら、樹
脂バインダー中に分散させた導電性粒子を含有する基平
面を感光体で使用する場合、バインダー中の導電性粒子
の不均一分散による幾つかの困難性が存在し得る。導電
性粒子の凝集および他の不均一分散は静帯電、現像、放
電およびクリーニング工程の質に悪影響を及ぼす。さら
にまた、このタイプの基平面は光に対して不透明であり
がちであり、裏面からの消去は不可能であり、実際的で
なくあるいは貧弱な品質を有し得る。

【０００６】また、樹脂バインダー中に分散させた導電
性粒子を含有する基平面においては、その樹脂バインダ
ーおよび／または導電性粒子の導電性層中の樹脂バイン
ダーを少なくとも部分的に溶解する溶媒を含有するその
後塗布する層への移行（マイグレーション）による困難
性も存在し得る。そのような樹脂バインダーまたは導電
性粒子の移行は基平面の一体性並びに基平面および／ま
たはその後の塗布層の電気的性質に悪影響を及ぼす。さ
らに詳細には、基平面用に用いるバインダー中のポリマ
ーは電荷発生層中に移行して電荷の捕捉を生じ得る。電
荷捕捉がサイクル操作中に生じた場合、内部電界が蓄積
しバックグラウンドが最終プリントコピー中に写し出さ
れる。さらに、導電性粒子もその後塗布する層に移行し
て感光体が導電性粒子が移行した領域での十分な静電荷
の受入れを妨げ得る。例えば、カーボン ブラックのよ
うな導電性粒子のその後の塗布層への移行は低電荷アク
セプタンスと恐らくはＶ_R のサイクル アップを生ず
る。低電荷アクセプタンスの領域は最終プリントコピー
中でホワイトスポットとして出現し得る。溶媒による侵
蝕もまた基平面の不連続性を生じ不均一帯電を与え、こ
の不均一帯電は究極的には最終トナー像中にゆがんだ像
を形成させる。基平面中の樹脂バインダーの架橋は溶解
性を減じる。しかしながら、ヒドロキシル化ポリマーの
ようなポリマーを架橋する現存の方法は、架橋方法自体
においては化学的には有効であるけれども、感光体の用
途においては、感光体中に永久的に残存し得る触媒また
は処理残留物のためにあまり望ましいものではない。そ
のような残留物は、。ＰＰＭレベルにおいてさえも、優
れた感光体性能のために必要とする幾つかの感光的な電
気的性質に極めてしばしば有害である。

【０００７】１９８４年１２月２５日付でChamp 等に付
与された米国特許第4,４９0,４５２号は第一級または第
二級アミンを感光体の感光性有機染料を可溶化させたの
ばかりでなくビスフェノール級のエポキシバインダー用
の架橋剤として機能させるために使用している凝集タイ
プのゼログラフィー光導電体を開示している。正孔輸送
分子および電荷発生性染料分子の両方を有する合体ＣＴ
Ｌ／ＣＧＬ層が開示されている。ジフェニルヒドラジン
のような正孔輸送材料も開示されている。

【０００８】１９８４年２月２８日付けでTarumi等に付
与された米国特許第4,４３4,２１８号は、架橋によりネ
ットワーク構造を形成し得る水溶性プレポリマー中に光
導電性硫化カドミウム群の化合物を含有する感光性組成
物を開示しており、この組成物は導電性基体を有する電
子写真用の感光性物品の感光性層として用いられてい
る。上記プレポリマーは光または熱の作用によって架橋
するネットワーク構造を形成し得るか、あるいは硬化剤
または重合促進剤と混合することを必要とし常温でまた
は必要に応じて昇温下で架橋するタイプのものであり得
る。プレポリマーはヒドロキシ基もしくはカルボキシ基
またはアンモニアと結合するカルボキシ基を含有する。
これらのプレポリマーは２０よりも低くない酸価を有す
ることが好ましい。メタノールアミノ基のようなアミノ
基または置換アミノ基を有するプレポリマーを用いる場
合、そのプレポリマーは１５よりも低くないアミン価を
有することが好ましい。多くのプレポリマーの例が、例
えば、第３〜８欄に開示されている。感光性組成物用の
種々の脂肪族溶媒および中和剤が、例えば、第９欄３〜
２４行に記載されている。カーボン、熱硬化性アルキッ
ド樹脂およびブトリル酸（butril acid ）を含有する中
間導電性層が第１１欄に記載されている。導電性接着層
用の同様な調製物が第１４欄に記載されている。単独ま
たはアクリル酸、メタクリル酸もしくはアクリルアミド
とコポリマーの形で組合せて使用できるポリビニルアル
コール、ポリビニルピロリドンおよびポリビニルエーテ
ルのプレポリマーは、例えば、第８欄１３〜１８行に記
載されている。

【０００９】１９７３年１２月４日付でUsmariに付与さ
れた米国特許第3,７７6,７２４号は、アクリレート、ビ
ニルモノマー、およびアクリルアシドまたは重合性アミ
ン化合物を含む電子写真用樹脂組成物を開示している。
この組成物は像を複写するのに用いる紙用の酸化亜鉛コ
ーティングのバインダーとしての用途に特に適し得る。

【００１０】１９７６年１月１３日付でＥ．Ａ．Perez-
Albuerneに付与された米国特許第3,９３2,１７９号は、
導電性層、光導電性層、およびこれらの導電性層と光導
電性層との間の約１０¹²オーム／Ｓｑより大きい表面抵
抗値を有する高分子中間層を含む多層電子写真要素を開
示している。その中間層は（ａ）フィルム形成性の水溶
性またはアルカリ−水可溶性ポリマーおよび（ｂ）電気
絶縁性のフィルム形成性疎水性ポリマーとを含む少なく
とも２種の異なる高分子相のブレンドを含む。例えば、
導電性層はポリメチルメタクリレートとポリメタクリル
酸の共重合バインダー中にインビビションさせた沃化第
１銅を含有し得る。ポリ（メチルメタクリレート−塩化
ビニリデン−イタコン酸）の複合ターポリマー（６５重
量％）とポリ（ビニル メチル エーテル−無水マレイ
ン酸）（３５重量％）とからなる複合２相曇り層は有機
溶媒のバリヤー、接着助剤および正孔ブロッキング層と
して用いている。フィルム形成性の水溶性またはアルカ
リ−水可溶性ポリマーは酸基、ヒドロキシ基、アルコキ
シ基またはエステル基のような基からなるペンダント側
鎖を含有し得る。

【００１１】１９７８年４月４日付でSteklenski等に付
与された米国特許第4,０８2,５５１号は、導電性層、そ
の上の光導電性層、およびこれらの導電性層と光導電性
層との間に挿入された多層中間層とを有する単一光導電
性要素を開示している。多層中間層組成物は、酸性ポリ
マー物質を含有する層、塩基性ポリマー物質含有層、お
よびこれらの酸性ポリマー含有層と塩基性ポリマー含有
層との界面に形成された酸−塩基反応生成物領域とを含
む。塩基性ポリマー物質はアミノ基の存在のために塩基
性であるようである。種々のアミノメタクリレートおよ
びアクリレートのモノマーおよびポリマーが開示されて
いる。例えば、ＣｕＩ導電性層に隣接している複合バリ
ヤー二重膜（bilayer ）はアクリル酸またはメタクリル
酸コポリマーからなる得、トップ層は塩中間層がこれら
の酸性および塩基性ポリマーの界面で生成するようなポ
リ−２−ビニルピロリドン−ポリメチルメタクリレート
コポリマーからなり得る。多層中間層組成物は得られる
単一要素の導電性層と光導電性層間の良好な接着を与え
て正電荷キャリヤーをブロッキングする電気バリヤーと
して機能し得、さもないと、正電荷キャリヤーは下層の
導電性層から光導電性層中へ注入され得る。

【００１２】１９８６年４月２２日付けでLin 等に付与
された米国特許第4,５８4,２５３号は、電荷発生層、連
続電荷輸送層および電荷発生層と同じ電荷輸送層の面上
にあるセルロース質正孔捕捉材料とを含む電子写真像形
成部材を開示している。１つの例においては、セルロー
ス質正孔捕捉材料は電荷発生層と導電性層との間に挿入
させ得る。

【００１３】１９６３年１２月３日付けでＰ．Cassiers
等に付与された米国特許第3,１１3,０２２号は導電性潜
像の形成用電子写真像形成部材を開示している。この部
材の導電性層は金および吸湿性および／または抗静電性
化合物と親水性結合剤を含む親水性物質のような種々の
他の材料を含み得る。適当な吸湿性および／または抗静
電性化合物には、例えば、グリセリン、グリコール、ポ
リエチレングリコール、ヒドロキシプロピル サクロー
スモノラウレート等がある。適当な親水性結合剤には親
水性層と疎水性高分子シートとの良好な接着を得るため
のゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、硫酸セルロース、セ
ルロース ヒドロゲン フタレート、セルロース−アセ
テートサルフェート、ヒドロキシ エチル セルロース
等がある。また、高分子物質のコーティングを紙シート
上で用いて有機高分子光導電性物質と照射感応性物質が
紙シート内に浸透するのを防止することができる。高分
子物質のコーティングは照射中の電子の露光像領域から
の奪い取り（carry off ）を防止するものでなければな
らない。コーティングにはセルロースジアセテート、セ
ルロース トリアセテート、セルロース アセトブチレ
ート、エチルセルロース、エチルセルロースステアレー
トまた他のセルロース誘導体；ポリアクリル酸エステ
ル、ポリメタクリル酸エステルのような重合体；ポリエ
チレン グリコール エステル、ジエチレン グリコー
ル ポリエステルのような重縮合物等がある。有機高分
子光導電性物質は照射感応性物質と共に有機溶媒中に溶
解または分散させ適当な支持体上にコーティングしてい
る。

【００１４】１９６６年４月１２日付けでＤ．Trevoy等
に付与された米国特許第3,２４5,８３３号は、写真フィ
ルム上の抗静電剤として有用な導電性コーティングをニ
トリル溶媒中の沃化第一銅と有機ポリマーから調製して
いる（例えば、実施例６）。７〜９×１０³ オーム／Ｓ
ｑ．の表面抵抗をスピンコーティングし乾燥させたのち
に得ている。厚さは開示されてないようである。コーテ
ィングの用途は電子写真でないようであり、高分子絶縁
性バインダーは常に沃化第一銅と共に使用されている
（この化合物は（ＣｕＩ）を含有する半導体金属は１５
〜９０容量％の範囲で存在する）。

【００１５】Ｄ．Trevoyに付与された米国特許第3,４２
8,４５１号は米国特許第3,２４5,８３３号（上記参照）
に開示された導電性コーティングの幾つかを照射感応性
記録要素用の導電性支持体として用いているようである
（例えば、直接の電子記録を行う電子顕微鏡におい
て）。コーティングの用途は電子写真ではないようであ
る。

【００１６】米国特許第3,５５4,７４２号は、米国特許
第3,２４5,８３３号（上記参照）に開示された導電性コ
ーティング（例えば、ＣｕＩと高分子バインダー）を電
子写真用途で用いているようである。バインダーを沃化
第一銅と一緒に用いて導電性層としている。この導電性
層（ＣｕＩと高分子バインダー）と光導電性層（例え
ば、チアピリリウム）との間に存在させたブロックコポ
リカーボネートのバリヤー層が相互の接着性および帯電
値を改善している。しかしながら、サイクル操作上の電
気的データは示されいない。

【００１７】Ｗ．Ｄ．Humphries 等に付与された米国特
許第3,６４0,７０８号は、ＣｕＩと高分子バインダーの
混合物を電子写真装置用の導電性層として用いている。
引例（３）に記載されているように配置した硝酸セルロ
ースと、メチルアクリレート、アクリロニトリル、アク
リル酸および塩化ビニリデンの複合テトラポリマーとの
高分子ブレンドの厚さ0.３〜0.５μｍのバリヤー層が暗
減衰を低減し接着性を改善することが見い出されてい
る。サイクル操作上の電気的データは示されていない。

【００１８】Ｗ．Ｅ．Yoerger 等に付与された米国特許
第3,７４5,００５号は、高分子バインダー（ポリビニル
ホルマール）中の沃化第一銅を導電性層として用いてい
る。バリヤー層（0.３〜７μｍ）は酢酸ビニルとビニル
ピロリドンまたは酢酸ビニルとαβ−不飽和モノアルケ
ン酸のコポリマーからなり、１５〜８０％のＲＨ範囲で
６００〜７００ボルトの範囲の帯電値を与えている。請
求項３と７はバインダー中に分散させたカーボンの導電
性層に言及しているが、この種の導電性層はこの特許の
他の箇所では説明されてない。サイクル操作用の電気的
データは示されていない。

【００１９】Ｍ．Scozzafava等に付与された米国特許第
4,４８5,１６１号は高分子バインダー中に沃化第一銅を
含有する導電性層を開示している。バリヤー層は少なく
とも１個のアクリレートまたはメタクリレート基を有し
さらにまた芳香核または脂環式核を有する重合性で架橋
性のモノマーから溶液またはバルク（塊）コーティング
している。バリヤー層コーティングはまた純モノマーコ
ーティングのμＶ線硬化を促進するのに必要な少量の感
光剤とアミン活性化剤も含有している。２〜８μｍの乾
燥バリヤー層コーティング厚が得られている。これらの
装置はコロナ荷電により1.３〜1.６×１０⁶ ボルト／cm
の電界を支持できる。Ｅ１／２感光度は６４０ｎｍ照射
光で約１０エルグ／cm² である（実施例３）・Ｅ１／３
感光度（実施例２、４、５および６）は同じ光源を用い
て6.７〜１4.９エルグ／cm² の範囲にある。繰返しのゼ
ログラフサイクル操作によるバリヤー層Ｖ_O およびＶ_R
挙動の試験はなされていない。上記のデータは１サイク
ルにおいてのみである。これらの架橋バインダー層は像
形成フィルム中で生ずるホワイト・スポットの数を減じ
ている。このバリヤー層はまたその正孔注入バリヤーと
しての電気的機能以外にも溶媒バリヤーとしても機能し
ている。

【００２０】Ｋ．Kawamura等に付与された米国特許第4,
４６5,７５１号と、沃化第一銅を高分子基体または該高
分子基体上の接着層中に沃化第一銅−アセトニトリル溶
液を該溶液中にバインダーを含ませないでコーティング
した場合にインビビションさせることによる沃化第一銅
導電性層の形成を開示している。即ち、沃化第一銅用の
バインダーは適当な溶媒膨潤および／または加熱により
ＣｕＩの真下で形成させると、その結果がＣｕＩ−バイ
ンダー導電性層である。場合によってはセルロース ア
セテート ブチレートを高分子バインダーとして用いた
ＣｕＩ−バインダー導電性層を直接コーティングする。
ＣｕＩはインビビションされてはっきりしたＣｕＩ層を
残存しない。

【００２１】１９８３年１０月１８日付でLelental等に
付与された米国特許第4,４１0,６１４号は、高分子電気
活性導電性層を含む電気的に活性化可能な記録要素を開
示している。この高分子電気活性導電性層用の有用なコ
ポリマーの例は第６欄、３６〜６２行に見い出され得る
多くのポリメタクリレートがある。合成ポリマーが該電
気活性化可能な記録要素の各層中のベヒクルおよびバイ
ンダー剤として好ましい。ポリ（ビニルピロリドン）、
ポリスチレンおよびポリ（ビニルアルコール）のような
ポリマーの使用が第１１欄、１４〜４８行に開示されて
いる。

【００２２】１９８１年４月１４日付でBurwasser に付
与された米国特許第4,２６2,０５３号、静電写真記録用
の誘導体膜用の抗ブロッキング剤を開示している。その
誘電性像形成部材は誘電体膜、膜支持体および導電性層
を含み得る。導電性層はビニルピロリドンの脂肪酸エス
テルによる第４級化ポリマーのようなポリマー、金属コ
ーティングポリエステル膜を有するポリアクリル酸塩の
ポリマー等である。導電性層はスチレン化アクリルのよ
うな種々の誘導性樹脂でコーティングできる。

【００２３】Koji Abe、 Mikio-KoideおよびEishum Tcu
chida 、Macromolecules１０、（６）、１２５９−６４
（１９７７）は高分子複合体を４−ビニルピリジン（塩
基性ポリマー）とポリメチルアクリル酸（酸性ポリマ
ー）とから調製して有意量のイオン化塩構造を得ている
（第３図）。

【００２４】Ｍ．Ｍ. Coleman およびＤ．Ｊ．Skrovane
k 、Conference Proceeding of４４th ＡＮＴＥＣ、
３２１−２（１９８６）は、ポリ−２−ビニルピリジン
が非晶質中性ナイロンポリマー内の通常の水素結合を遮
断することを示唆している。この中性ポリマーはアミド
水素を水素結合部位として与える。

【００２５】Ｓ．Ｊ．Schoenfeldに１９６７年１月３日
付で付与された米国特許第3,２９5,９６７号は、高電気
抵抗性の非金属基材、該基材上の導電性増大用のコーテ
ィング（このコーティングはゼラチン状水和ケイ酸と、
吸湿性水和無機塩を含む）、および該コーティングを被
覆する光導電性薄層を含有する電子写真記録部材を開示
している。

【００２６】１９８４年８月７日付でＬ．Ａ．Teuscher
に付与された米国特許第4,４６4,４５０号は、金属導電
性陽極の金属酸化物層上にコーティングされたシロキサ
ン膜（このシロキサンはケイ素原子に結合した反応性Ｏ
Ｈ基およびアンモニウム基を有する）上の電気作動層を
有する静電写真像形成部材を開示している。

【００２７】１９８２年４月２３日付で公開されたTada
ju Fukuda 等の英国特許出願ＧＢ第２００９６００号は
支持体、ケイ素原子をマトリックスとして含む非晶質材
料からなる光導電性層およびこれら支持体と光導電性層
との間バリヤーとを含み、このバリヤー層がケイ素原子
をマトリックスとして含み導電性を調整する不純物を含
有する非晶質材料からなる第１補助層とこの第１補助層
と構成する非晶質材料と異なる電気絶縁材料からなる第
２補助層とを含むところの光導電性部材を開示してい
る。

【００２８】即ち、導電性電荷注入表面を有する支持
体、ブロッキング層および少なくとも１つの光導電性層
を含む感光性部材の特徴は電子写真像形成部材として不
足点を示している

【００２９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は前述の
欠点を克服する装置並びにその製造および使用方法を提
供することである。

【００３０】本発明のもう１つの目的は半透明の導電性
層を有する装置を提供することである。

【００３１】本発明のもう１つの目的は導電性粒子が均
一に分散された導電性層を有する装置を提供することで
ある。

【００３２】本発明のもう１つの目的は広湿度範囲に亘
って安定である装置を提供することである。

【００３３】本発明のもう１つの目的は延長された寿命
を有する静電写真像形成部材を提供することである。

【００３４】本発明のもう１つの目的はゼログラフィー
で有用な高電圧に帯電する静電写真像形成部材を提供す
ることである。

【００３５】本発明のもう１つの目的はより暗安定であ
る静電写真像形成部材を提供することである。

【００３６】本発明のもう１つの目的はサイクル操作中
に低残留電圧による放電を可能にする静電写真像形成部
材を提供することである。

【００３７】本発明のもう１つの目的は製造するのが簡
単である静電写真像形成部材を提供することである。

【００３８】本発明のもう１つの目的はその後の塗布層
の成分による拡乱または溶解に抵抗性のある基平面層お
よびブロッキング層を有する静電写真像形成部材を提供
することである。

【００３９】

【課題を解決するための手段】本発明の上記および他の
目的は、基体を用い、この基体に、溶媒中に溶解させた
フィルム形成性ポリマーを含む塩基性溶液中の約１μｍ
以下の平均粒度と酸性また中性外表面とを有する導電性
粒子の分散体を含むコーティングを塗布し、このコーテ
ィングを乾燥させて溶媒を除去し連続の半透明導電性層
を形成させることを特徴とする連続の半透明導電性層を
含む装置の製造方法を提供することによって達成され
る。この方法で製造した物品は感光体および電子写真像
形成部材用の半透明基平面、太陽電池の半透明電極、電
子装置用の半透明電気シールディング、半透明電極を用
いる任意の他の電子装置等の多くの用途を有する。

【００４０】支持基体層は任意の適当な硬質または可撓
性の部材を含み得る。支持基体層は不透明または実質的
に透明であり得所定の機械的性質を有する多くの適当な
材料を含み得る。例えば、支持基体は電気絶縁性支持層
を含み得る。典型的な下地可撓性支持層には導電性粒子
を含むまたは含まない種々の樹脂または樹脂混合物を含
む絶縁性または非導電性材料がある。典型的なポリマー
には例えば、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリア
ミド、ポリウレタン等がある。導電性層を担持する支持
基体層は硬質または可撓質であり得、例えば、シート、
円筒体、スクロール、エンドレス可撓性ベルト等の任意
の多くの形状を有し得る。好ましいのは、可撓性支持基
体層は透明エンドレス可撓性高分子ウェブまたは透明ポ
リマーを含む円筒体を含む。基体の透明性は感光体中の
光生成性材料が感応するスペクトル領域において少なく
とも１０％の可視光および近赤外線を透過するのに十分
であるべきである。好ましい透明性は少なくとも約２０
％であるべきであり、最適の透明性は少なくとも約４０
％であるべきである。

【００４１】半透明導電性層は連続バインダーマトリッ
クス中に均一に分散させた導電性粒子を含む。約１μｍ
以下の平均粒度を有しかつ酸性また実質的に中性の外表
面を有する任意の適当な導電性粒子を本発明の半透明導
電性層において使用できる。本発明の導電性層を製造す
るのに用いる酸性また塩基は通常のルイス酸−塩基用語
によって定義される、即ち、ルイス酸は電子受容体であ
りルイス塩基は電子供与体である。導電性粒子の酸性ま
た中性外表面は塩基性ポリマー溶液と粒子電荷交換（ル
イス酸−塩基反応）を可能にする。従って、ポリマー溶
液による導電性粒子の湿潤化促進され、導電性粒子の凝
集が最小化され、小導電性粒子径を有する安定な分散体
が得られる。導電性粒子の酸性また中性外表面はＰＨ約
３〜７であるべきである。任意の適当な通常の方法をＰ
Ｈを測定するのに使用できる。典型的な方法は単に通常
のＰＨメーターを用いてＰＨ値を測定することを含む。
即ち、導電性材料は高誘電性溶媒または溶媒混合物（約
１０以上の誘電定数）中に良好に分散または溶解されて
電荷交換解離が起り得る。ＰＨが約７を超える場合、導
電性粒子の塩基性ポリマー溶液による湿潤化は導電性粒
子の良好で安定な分散を得るのに十分ではない。不安定
で貧弱な分散液からのコーティングは均一な透明性と導
電性を示さない。ＰＨ約７以下では、導電性粒子とポリ
マー溶液間の電荷交換は強い。従って、導電性粒子のポ
リマー溶液による湿潤化および得られる分散液品質は粒
子である。典型的な酸性また実質的に中性の外表面を有
する導電性粒子には、例えば、カーボン ブラック（Ｐ
Ｈ７を有するコロンビアン ケミカルズ社から入手でき
るＣ−９７５ウルトラ、ＰＨ5.７を有するキャボット社
より入手できるバルカンＸＣ−７２Ｒ、およびＰＨ７を
有するキャボット社からのバルカン６等）がある。電子
受容性を有する他の導電性粒子には、例えば、酸代錫、
酸化アンチモン等のような電子受容性金属酸化物があ
る。他の典型的な導電性粒子には、例えば、アルミニウ
ム、チタン、ニッケル、クロム、黄銅、金、ステンレス
スチール、グラファイト、メタロイド、沃化第１銅、イ
ンジウム錫酸化物合金、沃化銅、金および他の貴金属、
白金、ポリピロール、ポリ芳香族縮合性ポリマー、ポリ
チオフェン等がある。これらの金属または金属酸化物材
料はこれらの金属または金属酸化物材料よりも塩基性で
ある（即ち、ルイス酸−塩基関係において、より小さい
電子親和性を有する）溶液中に分散させたときに電子受
容体である。この金属酸化物または金属粒子の電子受容
特性は塩基性ポリマー溶液と同様な電荷交換を与え、導
電性粒子のポリマー溶液による良好な湿潤化をもたら
し、従って、良好で安定な小導電性粒子を含む分散液を
形成する。粒子の導電性は少なくとも１０² （オーム・
cm）^-1であるべきである。満足できる透明性を有する薄
い導電性コーティングは約１μｍ以下の平均粒度を有す
る導電性粒子によって得ることができる。約0.６〜約0.
０６μｍの平均粒度がより大きい透明性が得られる故に
好ましい。導電性粒子は最終の薄い乾燥導電性粒子が光
に対し半透明であり導電性であるように十分に小でなけ
ればならない。導電性粒子の含有量は好ましくはコーテ
ィング混合物の総固形分の少なくとも約５容量％であ
る。含有量が約５容量％より少なくまた導電性の漏出限
界以下である場合、乾燥コーティングの抵抗性は導電性
粒子ドーピング比の何らかのわずかな変化により鋭敏に
増大するであろうし、上記コーティング抵抗値の再現性
は制御するのに極めて難しくなる。導電性粒子含有量は
不透明導電性粒子においてはコーティング混合物の総固
形分の約７０容量％以下透明導電性粒子においては約４
０容量％以下であることが好ましく、過度の含有量にお
いては、導電性粒子分散性は恐らく貧弱であろう。最適
の結果のためには、導電性粒子含有量はコーティング混
合物の総固形分の約１５〜約３０容量％であるべきであ
る。乾燥導電性コーティングの抵抗性は繰返しのサイク
ル操作における効率的な感光体放電のために好ましくは
１０⁸ オーム／Ｓｑ．以下であるべきである。連続導電
性層の厚さは満足できる透明性において好ましくは約５
０μｍ以下である。より詳細には、導電性層は約0.１〜
約３０μｍであり得る。約0.５〜約５μｍの導電性層が
常に良好な透明性を得ることができるので好ましい。好
ましくは、乾燥導電性層の透明性は感光体で基平面とし
て使用する場合可視光および近赤外線においておよび光
導電性層の適切な放電のために少なくとも約５％である
べきある。

【００４２】溶媒中に溶解させたフィルム形成性の好ま
しくは架橋性のポリマーの任意の適当な塩基性溶液を導
電性粒子用のバインダーとして使用できる。ポリマーと
溶媒の組合せは塩基性でなければならないが、溶液の塩
基性は塩基性ポリマー、塩基性溶媒、または塩基性ポリ
マーと塩基性溶媒の組合せによって溶液に付与できる。
即ち、ポリマーは溶媒が塩基性である場合極めて塩基性
である必要はなく（例えば、約８の塩基性が適する）、
その逆も同様である。塩基性ポリマーは乾燥段階におい
て導電性粒子の凝集を防止する。満足できる結果はＰＨ
約８〜約１４を有する塩基性溶液によって達成できる。
約８より小さいＰＨではポリマー溶液と導電性粒子表面
間の電荷交換が、導電性粒子のポリマー溶液による良好
な湿潤化を得るのに十分に強くなく、導電性粒子は凝集
しがちである。換言すれば、分散液は安定でない。溶液
のＰＨ値は通常のＰＨメーターのような任意の適当な方
法で測定できる。

【００４３】導電性層中のバインダーマトリックス用の
ポリマーは単一のホモポリマーまたはコポリマーあるい
は少なくとも２種のホモポリマーまたはコポリマーのブ
レンドであり得る。ポリマーブレンドである場合、少な
くとも１つのポリマーが酸性また中性の導電性粒子の分
散を促進する塩基性基を含有する。塩基性ポリマーはア
ミン、イミドまたは第３級アミド基のような塩基性単位
を含有する。塩基性単位を含有する典型的なポリマーに
は、例えば、ポリビニルピリジン、ポリビニルピロリド
ン、ポリイミド等がある。任意の他のフィルム形成性ポ
リマーと導電性コーティングにおいて使用できる。これ
らのポリマーは好ましくは架橋性である。典型的な架橋
性フィルム形成性ポリマーにはポリメチル アクリル
アミドグリコレート アルキル エーテル、ポリ（オキ
シジエチレンマレート）、Ｎ−フェニルマレイミド−ス
チレンコポリマー、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−塩
化ビニルコポリマー等がある。他の典型的フィルム形成
性ポリマーには、例えば、ポリスチレン、ポリカーボネ
ート、ポリエステル、メチル アクリル アミドグリコ
レート アルキル エーテル−酢酸ビニルコポリマー等
がある。バインダーポリマーの架橋能力は最終の乾燥コ
ーティングに向上した化学安定性を付与する。架橋は乾
燥導電性コーティングを特に複合装置で用いる場合にそ
の後塗布する溶媒および周囲湿度による物理的はく離ま
たは侵蝕から保護する。導電性コーティング成分のその
後の塗布層への移行は未架橋バインダーポリマーがその
後塗布するコーティング溶媒によって溶解された場合に
起り得る。そのような移行が起る場合、導電性層および
他の上部層は物理的に劣下し電気的に悪影響を受け得
る。例えば、感光体装置の基平面として使用する場合、
基平面層成分と電荷ブロッキング層および電荷発生体層
のようなその後の塗布層との混合により低電荷アクセプ
タンスと高残留電圧を生じ得る。架橋度は架橋し得る単
位の繰返し単位比、酸触媒ドーピング値、加熱時間およ
び加熱温度を変化させることによって調整し得る。例え
ば、部分架橋は導電性層を低乾燥温度で加熱することに
よって得ることができる。所望の架橋度は完成装置の接
着および可撓性条件によって決定する。例えば、部分架
橋は次の隣接層中の物質にさらに結合する機会を隣接層
を有する装置を縮合反応が生ずるのに十分に高い温度で
加熱することによって与える。このことは導電性層と隣
接上部層間の接着性を増大させる。

【００４４】メチル アクリル アミド グリコレート
アルキル エーテルとＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミ
ド、Ｎ−ビニルピロリドン、２および４−ビニルピリシ
ンのような塩基性基を有する単位とのコポリマーはこれ
らのコポリマーが所定の塩基性と好ましい架橋能力を有
するので特に好ましい。これら塩基性コポリマーと他の
コポリマーとのブレンドも導電性層バインダー用に適し
ている。他のコポリマーは好ましくはメチル アクリル
アミド アルキル エーテルとビニルモノマーを含
む。メチル アクリル アミド グリコレート アルキ
ル エーテルのコポリマーのようなポリマーは加熱時に
一緒に架橋するであろう。典型的な共重合性ビニルモノ
マーにはアクリロニトリル、メタクリロニトリル、メチ
ルビニルエーテル、他のアルキルおよびアリールビニル
エーテル、スチレンおよび置換スチレン、エチレン、プ
ロピレン、イソブチレン、種々のメタクリレートおよび
アクリレートエステルおよび塩化ビニル等がある。酢酸
ビニルおよびメチルメタクリレートのような他のモノマ
ーは接着性および可撓性を向上させるためにメチルアク
リル アミド グリコレート アルキル エーテルと共
重合させ得る。ビニルモノマーでないビニル様重合を受
けるある種のモノマーもまたメチル アクリル アミド
グリコレート アルキル エーテルと共重合し得る。

【００４５】マレイミド単位を含有するコポリマーまた
はホモポリマーとヒドロキシ単位または小ジオール分子
を含有するコポリマーまたはホモポリマーとのブレンド
もまたマレイミド単位が所定の塩基性を有しヒドロキシ
単位が加熱時にイミド単位と結合し得るので特に好まし
い。そのような結合は導電性に架橋一体性を付与し得
る。マレイミド単位を有する典型的なコポリマーまたは
ホモポリマーには、例えば、Ｎ−フェニルマレイミド−
スチレンコポリマー、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−
塩化ビニルコポリマー、Ｎ−フェニルマレイミド−メチ
ルメタクリレートコポリマー等がある。ヒドロキシ単位
または小ジオール分子を含有する典型的なコポリマーま
たはホモポリマーには、例えば、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、ビス−フェノールＡ、ジエ
チレングリコール等がある。バインダーマトリックスは
酸触媒をドーピングしたあるいはドーピングしていない
コーティングを加熱することによって架橋させ得る。導
電性層中の成分（乾燥前の）すべてが導電性層の塗布後
にコーティングを塗布するのに用いる溶媒に不溶性であ
る場合、導電性層中のポリマーの架橋は単に任意であ
る。

【００４６】本発明の感光体の導電性層を製造するのに
用いるイミドポリマーにはマレイミド官能基を含有する
任意の適当なポリマーがある。典型的なマレイミドポリ
マーには、例えば、Ｎ−フェニルマレイミド−スチレン
コポリマー、Ｎ−フェニルマレイミド−メチルメタクリ
レートコポリマー、Ｎ−フェニルマレイミド−塩化ビニ
ルコポリマー、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−スチレ
ンコポリマー、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド−メチル
メタクリレートコポリマー、Ｎ−シクロヘキシルマレイ
ミド−塩化ビニルコポリマー等がある。

【００４７】本発明の感光体の導電性層を製造するのに
使用するヒドロキシポリマーはヒドロキシ官能基を有す
る任意の適当なポリマーであり得る。典型的なヒドロキ
シポリマーには、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルブチラール等がある。

【００４８】本発明の感光体の導電性層を製造するのに
使用するジオール分子には少なくとも２個のヒドロキシ
官能基を含有する任意の適当な分子がある。典型的なジ
オール分子には、例えば、エチレングリコール、ジエチ
レングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ビス−フ
ェノールＡ等がある。

【００４９】本発明の感光体の導電性層で用いる好まし
いポリマーの主鎖を調製するのに使用するアルキル ア
クリル アミド グリコレート アルキル エーテルは
下記の式によって表わし得る。

【００５０】

【化１】 （式中、Ｒ¹ およびＲ² は、個々に、１〜１０個の炭素
原子を有する低級脂肪族基より選ばれ、Ｒ³ は水素また
は１〜１０個の炭素原子を有する低級脂肪族基であ
る。）

【００５１】好ましくは、Ｒ¹ およびＲ² は１〜４個の
炭素原子を含有し、最適の結果はＲ¹ とＲ² がメチル基
である場合に得られる。典型的なアルキル アクリル
アミド グリコレート アルキル エーテルには、例え
ば、メチル アクリル アミド グリコレート メチル
エーテル、ブチル アクリル アミド グリコレート
メチル エーテル、メチル アクリル アミド グリ
コレート ブチル エーテル、ブチル アクリル アミ
ド グリコレート ブチル エーテル等がある。

【００５２】アルキル アクリル アミド グリコレー
ト アルキル エーテルから誘導されたポリマーはホモ
ポリマーまたはコポリマーであり得、コポリマーは２種
以上のモノマーのコポリマーである。アルキル アクリ
ル アミド グリコレートアルキル エーテルモノマー
は不飽和結合を介しての重合により線状ポリマーにする
ことができる。アルキル アクリル アミド グリコレ
ート アルキル エーテルとのコポリマーを調製するの
に用いるモノマーはヒドロキシ基を含有する必要はな
い。これらのポリマーと他の混和性ポリマーとのブレン
ドもまた使用し得る。これらのブレンドは相溶性である
べきでかつ約１０μｍ以上の平均粒度を有する分離相を
何ら含むべきでない。乾燥固形ポリマーブレンドの試験
層はあり得る分離相が約１０μｍ以下の平均粒径を有す
る場合適度に透明である。

【００５３】本発明の導電性用のポリマーは溶媒に溶解
させた未架橋線状ポリマーとして塗布できるので、該ポ
リマーはオーブン中で触媒の助けなしで架橋でき、従っ
て、何らポットライフ問題または触媒残留問題がない。
アルキル アクリル アミドグリコレート アルキル
エーテルをホモポリマーとして使用する場合、何ら他の
物質の存在なしで架橋し得る。このホモポリマーの架橋
はＲ¹ およびＲ² 基を介して行い得る。満足できる結果
は線状ホモポリマーの数平均分子量が少なくとも約２０
００である場合でポリマーを実際に架橋させた場合に得
られる。好ましくは、ホモポリマーは少なくとも２0,０
００の数平均分子量を有し、最適の結果は架橋前に少な
くとも約５0,０００の数平均分子量のよって得られる。
ホモポリマーを最終乾燥コーティング中で線状ポリマー
のまゝとすべきときには、満足できる結果は少なくとも
約２0,０００の数平均分子量によって得られる。好まし
くは、数平均分子量は少なくとも約５0,０００であり、
最適の結果はポリマーを未架橋の線状ポリマーのまゝに
した場合少なくとも１０ 0, ０００の数平均分子量によ
って得られる。

【００５４】９９モル％までの任意の適当なビニルモノ
マーをアルキル アクリル アミドグリコレート アル
キル エーテルモノマーと共重合させて本発明の導電性
層のポリマーバインダーを調製できる。典型的なビニル
モノマーには、例えば、塩化ビニル、酢酸ビニル、スチ
レン、アクリロニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルア
ミド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルア
クリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
ヒドロキシメチルアクリルアミド、ヒドロキシメチルメ
タクリレート、２−ビニルピリジン、４−ビニルピリジ
ン、Ｎ−ビニルピロリドン、メチルメタクリレート等が
ある。

【００５５】好ましいアルキル アクリル アミド グ
リコレート アルキル エーテルはメチル アクリル
アミド グリコレート メチル エーテルであり、これ
は下記の式によって表わし得る。

【００５６】

【化２】 メチル アクリル アミド グリコレート メチル エ
ーテル モノマーは例えば、アメリカン サイアナミド
社より商品名ＭＡＧＭＥとして商業的に入手できる。こ
のモノマーはアメリカン サイアナミド社製品パンフレ
ット４−２１１−３Ｋには種々の他のビニルタイプモノ
マーと共重合可能であると記載されている。また、上記
パンフレットにはその殆んどの架橋化学機構は加熱およ
び／または加熱による酸触媒の関数であることも示唆し
ている。メチル アクリル アミド グリコレート メ
チル エーテル モノマーは多官能性アクリルモノマー
であり、それ自体でまたは他のビニルモノマーと一緒に
標準のビニル重合を受けて線状ポリマーを形成したの
ち、幾つかの化学経路によって架橋し得る化学反応サイ
トを与える。アルキル アクリル アミド グリコレー
ト アルキル エーテル ホモポリマーの架橋はＲ¹ お
よびＲ² 基を介して達成し得る。アルキル アクリル
アミド グリコレート アルキル エーテル含有ポリマ
ーのアルキルアクリル アミド グリコレート アルキ
ル エーテル繰返し単位中のアルキルエステルおよびア
ルキルエーテルの各反応サイトはジアミン、ジアルコー
ル、またはビスフェノールのような２官能性求核物質と
も反応して共有結合架橋ポリマーネットワークを与え得
る。そのような架橋バインダーはカーボン ブラックの
ような導電性粒子をカプセル化し永久的に定着し得る。
種々の溶媒または溶媒混合物中のその後塗布するコーテ
ィング組成物はこれらの粒子を漏出させることはできな
い。半導体粒子の移行によって通常生ずる有害な電気的
効果（低電荷アクセプタンス、高暗減衰および高残留電
圧）は導電性粒子の感光体の他の層への上方向の移動を
防止することによって最小化される。アルキル アクリ
ル アミドグリコレート アルキル エーテル含有ポリ
マーのアルキル アクリル アミド グリコレート ア
ルキル エーテル繰返し単位上でのこれら求核置換反応
のすべてにおいて、アルカノールが発生する。メチル
アクリル アミド グリコレート メチル エーテル繰
返し単位からのメタノールのような揮発性アルコール副
生成物は反応をメタノールの沸点（６５℃）よりかなり
上の約１3.５℃で行うので蒸発してコーティングを残
す。

【００５７】アルキル アクリル アミド グリコレー
ト アルキル エーテルと共重できる好ましいビニルモ
ノマーは下記の式を有するビニルヒドロキシエステルま
たはビニルヒドロキシアミドである。

【００５８】

【化３】 （式中、Ｘは−Ｏ−Ｒ−（ＯＨ）_Z 、−ＮＨ−Ｒ−（Ｏ
Ｈ）_Z 、−ＮＲ−Ｒ−（ＯＨ）_Z および−Ｎ−〔Ｒ−
（ＯＨ）_Z 〕₂ からなる群より選ばれ；Ｒは１０個まで
の炭素原子を含有する脂肪族基、芳香族基、ヘテロ脂肪
族基、ヘテロ芳香族基、縮合芳香族環基およびヘテロ芳
香族環基からなる群より選ばれた２価の基であり；Ｚは
１〜１０であり；Ｒ′、Ｒ″およびＲ″′は、それぞ
れ、水素、１〜１０個の炭素原子を含有する低級脂肪族
基、芳香族基、ヘテロ脂肪族基、ヘテロ芳香族基、縮合
芳香族環基およびヘテロ芳香族環基からなる群から選ば
れた１価の基である。）

【００５９】典型的な２価Ｒ脂肪族基にはメチレン、エ
チリデン、プロピリデン、イソプロピリデン、ブチレ
ン、イソブチレン、デカメチレン、フェニレン、ビフェ
ニレン、ピペラジニレン、テトラヒドロフラニレン、ピ
ラニレン、ピペラジニレン、ピリジレン、ビピリジレ
ン、ピリダジニレン、ピリミジニレン、ナフチリデン、
キノリニルデン、シクロヘキシレン、シクロペンチレ
ン、シクロブチレン、シクロヘプチレン等がある。

【００６０】典型的な１価Ｒ′、Ｒ″およびＲ″′基に
は水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、デシル、フェニル、ビフェニル、ピ
ペラジニル、テトラヒドロフラニル、ピラニル、ピペラ
ジニル、ピリジル、ビピリジル、ピリダジニル、ナフチ
ル、キノニル、シクロヘキシル、シクロペンチル、シク
ロブチル、シクロヘプチル等がある。

【００６１】１０個までの炭素原子を含有する典型的な
脂肪族、ヘテロ脂肪族、ヘテロ芳香族、縮合芳香族環お
よびヘテロ芳香族環基には、ナフタレン、チオフェン、
キノリン、ピリジン、トルエン、フラン、ピロール、イ
ソキノリン、ベンゼン、ピラジン、ピリミジン、ビピリ
ジン、ピリダジン等のような線状、単一環、多環、縮合
および非縮合の基がある。

【００６２】アルキル アクリル アミド グリコレー
ト アルキル エーテルから誘導された主鎖を有するコ
ポリマーは２種以上のモノマーのコポリマーまたはポリ
マーブロックであり得る。アルキル アクリル アミド
グリコレート アルキルエーテルとビニル ヒドロキ
シ エステルまたはビニル ヒドロキシ アミドモノマ
ーとのコポリマーは、これらのコポリマーが非イオン性
で中性でありかつ化学的に無害で感光体の電気的性質に
悪影響を与えないので、特に好ましい。これらのコポリ
マーはアルキル アクリル アミド グリコレート ア
ルキル エーテルの塩基性コポリマーとブレンドして導
電性層として使用できる。量または塩基性のいずれかに
よるより塩基性の溶媒を用いてポリマー溶液に十分な塩
基性を付与させることができる。必要ならば、アルキル
アクリル アミド グリコレート アルキル エーテ
ル モノマーとビニル ヒドロキシ エステル または
ビニル ヒドロキシ アミド モノマーとのコポリマー
は任意の他の適当な反応性モノマーとも共反応させても
良い。

【００６３】上記構造を有するビニル ヒドロキシ エ
ステルおよびビニル ヒドロキシアミド モノマーの好
ましい実施態様の例には下記の式（ａ）および（ｂ）を
有するものがある。

【００６４】

【化４】

【００６５】

【化５】 （式中、Ｒは１〜５個の炭素原子を有する低級脂肪族基
であり、Ｒ″′はＣＨ₃または水素であり、Ｚは１〜５
である。）

【００６６】最適の結果は下記の構造を有するモノマー
のような上記の構造を有するモノマーによって得られ
る。

【００６７】

【化６】 （式中、Ｒは２〜３個の炭素原子を有する低級脂肪族基
であり、Ｒ″′はＣＨ₃または水素であり、Ｚは１また
２である。）

【００６８】典型的なビニル ヒドロキシ エステルお
よびビニル ヒドロキシ アミドモノマーには、４−ヒ
ドロキシブチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチル
アクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２，３−ジ
ヒドロキシプロピルメタクリレート、２，３，４−トリ
ヒドロキシブチルメタクリレート、２，３，４−トリヒ
ドロキシブチルアクリレート、Ｎ−２，３−ジヒドロキ
シプロピルメタクリルアミド、Ｎ−２，３−ジヒドロキ
シプロピルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルメタ
クリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド、
Ｎ−２−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−２−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、４−ヒドロキシフェ
ニルメタクリレート、４−ヒドロキシフェニルアクリレ
ート、３−ヒドロキシフェニルメタクリレート、３−ヒ
ドロキシフェニルアクリレート、Ｎ−３または４−ヒド
ロキシフェニルメタクリルアミド、Ｎ−３または４−ヒ
ドロキシフェニルアクリルアミド、４（２−ヒドロキシ
ピリジル）メタクリレート、４（２−ヒドロキシピリジ
ル）アクリレート、４（３−ヒドロキシピペリジニル）
メタクリレート、４（３−ヒドロキシピペリジニル）ア
クリレート、Ｎ−〔４（２−ヒドロキシピリジル）〕メ
タクリルアミド、Ｎ−〔４（２−ヒドロキシピリジ
ル）〕アクリルアミド、Ｎ−〔４（３−ヒドロキシピペ
リジニル）〕メタクルアミド、Ｎ−〔４（３−ヒドロキ
シピペリジニル）〕アクリルアミド、〔１（５−ヒドロ
キシナフチル）〕メタクリレート、〔１（５−ヒドロキ
シナフチル）〕アクリレート、Ｎ−〔１（５−ヒドロキ
シエチルナフチル）〕メタクリルアミド、Ｎ−〔１（５
−ヒドロキシエチルナフチル）〕アクリルアミド、１
（４−ヒドロキシシクロヘキシル）〕メタクリレート、
１（４−ヒドロキシシクロヘキシル）〕アクリレート、
Ｎ−〔１（３−ヒドロキシシクロヘキシル）〕メタクリ
ルアミド、Ｎ−〔１（３−ヒドロキシシクロヘキシ
ル）〕アクリルアミド等がある。

【００６９】これらのビニル ヒドロキシ エステルま
たはビニル ヒドロキシ アミドモノマーはアルキル
アクリル アミド グリコレート アルキル エーテル
と共重合させて電気的に有害な触媒および／またはモノ
マー残留物を含まずまた高重量平均分子量（例えば、≧
１０0,０００）で高純度を有するランダムまたはブロッ
クコポリマー組成を得ることができる。

【００７０】アルキル アクリル アミド グリコレー
ト アルキル エーテルとビニルヒドロキシ エステル
またはビニル ヒドロキシ アミドとから誘導された主
鎖を有するコポリマーはコポリマー、ターポリマー等で
あり得る。さらにまた、コポリマーはランダムコポリマ
ーまたはブロックコポリマーであり得る。架橋前の線状
形の好ましいコポリマーは下記の式によって示される。

【００７１】

【化７】 （式中、Ｒ¹ およびＲ² は、各々、１〜４個の炭素原子
を含有するアルキル基から選択され、ｙは１００モル％
〜１モル％であり、ｘは０モル％から９９モル％であ
り、Ｘは次の群：−Ｏ−Ｒ−（ＯＨ）_Z 、−ＮＨ−Ｒ−
（ＯＨ）_Z 、−ＮＲ−Ｒ−（ＯＨ）_Z および−Ｎ−〔Ｒ
−（ＯＨ）_Z 〕₂ から選ばれ、Ｒは１０個までの炭素原
子を有する脂肪族基、芳香族基、ヘテロ脂肪族基、ヘテ
ロ芳香族基、縮合芳香族環基およびヘテロ芳香族環基か
らなる群より選ばれ、Ｚは１〜１０個のヒドロキシ基を
含有し、Ｒ′、Ｒ″およびＲ″′は、各々、水素、並び
に１０個までの炭素原子を有する脂肪族基、芳香族基、
ヘテロ脂肪族基、ヘテロ芳香族基、縮合芳香族環基およ
びヘテロ芳香族環基からなる群より選ばれる。）

【００７２】一般に、満足できる結果はＸが約０〜９９
モル％でありｙが約１００〜約１モル％のときに得られ
る。好ましいのは、ｙが約３３〜約９０モル％でありｘ
が約６７〜約１０モル％のときである。最適の結果はｙ
が約３３〜約６７モル％でありｘが約６７〜約３３モル
％のときに得られる。必要に応じて、本発明のアルキル
アクリル アミド グリコレート アルキル エーテ
ルはコポリマーの代りにホモポリマーとしても使用でき
る。このホモポリマーは何ら他の物質を存在させないで
架橋できる。

【００７３】満足できる結果は線状ホモポリマーまたは
コポリマーの数平均分子量が少なくとも2,０００であり
これらポリマーは塗布コーティング内で実際に架橋させ
た場合に得られる。好ましくは、ホモポリマーまたはコ
ポリマーは架橋前に少なくとも２0,０００の数平均分子
量を有し、最適の結果は少なくとも５0,０００の数平均
分子量によって得られる。数平均分子量の上限は加工の
ための粘度条件のみに制限されるようである。

【００７４】本発明のホモポリマーまたはコポリマーが
最終の乾燥ブロッキング層コーティング中で線状ポリマ
ーのまゝである場合には、満足できる結果は少なくとも
約１0,０００の数平均分子量によって達成し得る。好ま
しくは、数平均分子量は少なくとも約２0,０００あるべ
きであり、最適の結果はポリマーが未架橋の線状ポリマ
ーのまゝである場合少なくとも５0,０００の数平均分子
量によって得られる。数平均分子量の上限は加工のため
の粘度条件のみに制限されるようである。

【００７５】メチル アクリル アミド グリコレート
メチル エーテル（ＭＡＧＭＥ）と２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート（ＨＥＭＡ）とから誘導された主鎖
を有する他の典型的なコポリマーは下記の式で表わされ
る。

【００７６】

【化８】 （式中、ｙは１００〜１モル％であり、ｘは０〜９９モ
ル％である）

【００７７】もう１つの好ましいポリマーは下記の式で
表わされるメチル アクリル アミド グリコレート
メチル エーテル（ＭＡＧＭＥ）と２−ヒドロキシ プ
ロピル メタクリレート（ＨＰＭＡ）とから誘導された
主鎖を有するコポリマーである。

【００７８】

【化９】 （式中、ｙは１００〜１モル％であり、ｘは０〜９９モ
ル％である）

【００７９】さらにもう１つの好ましいポリマーは下記
の式で表わされるメチル アクリルアミド グリコレー
ト メチル エーテルと２−ヒドロキシ エチル アク
リレート（ＨＥＡ）とから誘導された主鎖を有するコポ
リマーである。

【００８０】

【化１０】 （式中、ｙは１００〜１モル％であり、ｘは０〜９９モ
ル％である）

【００８１】さらにもう１つの好ましいポリマーは下記
の式で表わされるメチル アクリルアミド グリコレー
ト メチル エーテルと２−ヒドロキシ プロピル ア
クリレートとから誘導された主鎖を有するコポリマーで
ある。

【００８２】

【化１１】 （式中、ｙは１００〜１モル％であり、ｙは０〜９９モ
ル％である）

【００８３】本発明の導電性層で使用できる化合物はま
た上記の化合物と１種以上の共重合性ビニルまたは他の
適当なモノマーとのフィルム形成性コポリマーも包含す
る。典型的な共重合性ビニルモノマーにはアクリロニト
リル、メタクリロニトリル、メチルビニルエーテルおよ
び他のアルキルおよびアリールビニルエーテル、スチレ
ンおよび置換スチレン、エチレン、プロピレン、イソブ
チレン、酢酸ビニル、種々のメタクリレートおよびアク
リレートエステル、および塩化ビニル等がある。ビニル
モノマーでないビニル様重合を受ける幾つかのモノマー
もまたアルキルアクリル アミド グリコレート アル
キル エーテルおよびヒドロキシ エステルまたはヒド
ロキシ アミド ビニル モノマーと共重合性であり得
る。これらには、例えば、ブタジエン、イソブレン、ク
ロロブレン、他の共役ジェンモノマー等がある。

【００８４】本発明の塩基性ポリマーは他の適当な相溶
性ポリマーとブレンドし得る。相溶性ポリマーはアルキ
ル アクリル アミド アルキル エーテルおよび上述
の他のモノマーとから誘導された本発明のポリマーと混
和性である。乾燥後のコーティングは約１０μｍ以下の
平均粒径を有するあり得る分離ドメインによって実質的
に透明であるべきである。（これらタイプの相溶性ブレ
ンドは共通繰返し単位が各ブレンドポリマー中に存在せ
ず、相溶性が広範な水素結合を介して得られるブレンド
である。）このタイプの相溶性ブレンドは、アルキル
アクリル アミド グリコレート アルキル エーテル
含有ポリマーによって調製でき第２ポリマー中に強力な
水素結合アクセプター繰返し単位を含み得る。この繰返
し単位は強塩基性ではなく、エチロキサゾリン、ビニル
ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドの繰返し
単位、および他の任意の第３級アミド含有繰返し単位が
ある。ブレンドすべき第１ポリマーは、多くの場合、ア
ルキル アクリル アミドグリコレート アルキル エ
ーテル繰返し単位とヒドロキシ基を介してブレンドすべ
き第２ポリマーのわずかに塩基性の水素結合アクセプタ
ー繰返し単位の第３級アミド部位に水素結合得るヒドロ
キシエステル（またはアミド）繰返し単位を含有してい
る。この水素結合はブレンドした各ポリマー間の十分な
相溶性をその後のアルキル アクリル アミド グリコ
レート アルキル エーテル繰返し単位の熱架橋ありま
たはなしで維持している。好ましい組成のブレンドは、
１つの成分としてメチル アクリル アミド グリコレ
ート メチル エーテル（ＭＡＧＭＥ）とビニルピロリ
ドン（ＶＰ）または２−または４−ビニルピリジン（Ｖ
Ｐ_y ）の繰返し単位を含有するコポリマー（ＭＡＧＭＥ
繰返し単位含有量は約３３〜約６３モル％であり、ヒド
ロキシエステル繰返し単位含有量は約３７〜約６７モル
％である）、および第２の成分としてポリ（エチロキサ
ゾリン）Ｐ（ＥＯ_x ）ホモポリマーを含む。ポリ（エチ
ロキサゾリン）は下記の式によって表わし得る。

【００８５】

【化１２】 （式中、Ｘは３００〜２0,０００の数である。）

【００８６】上記のポリ（エチロキサゾリン）との好ま
しいブレンドにおいては、各ブレンドポリマーの重量％
を用いてブレンド組成を示す。導電性層およびブロッキ
ング層の感光体用途においては、アルキル アクリル
アミド グリコレート アルキル エーテル含有ポリマ
ーはＰ（ＥＯ_x ）に対して前者のみが架橋（自己に対し
て）し得るのでブレンド組成の主要を占めるであろう。
従って、Ｐ（ＥＯ_x ）は、架橋ＶＰ−ＭＡＧＭＥまたは
ＶＰ_y −ＭＡＧＭＥのヒドロキシ基への水素結合により
またそれ自体の三次元（架橋）ネットワークにより幾分
かは拘束されるけれども，その後のコーティング層へそ
の溶媒コーティング中に依然として移行し得る。等重量
のＰ（ＥＯ_x ）とＶＰ−ＭＡＧＭＥまたはＶＰ_y −ＭＡ
ＧＭＥコポリマーとを含有するブレンドは相溶性である
けれども、これらのブレンドは他の層へ移行してサイク
ル操作上の電気特性に欠陥を生じ得る大量のＰ（Ｅ
Ｏ_x ）故に感光体の用途において一般に望ましいのもで
はない。満足できる導電性層および／またはブロッキン
グ層ブレンド組成物はブレンドの約≦３０重量％がＰ
（ＥＯ_x ）であるときに得られ、好ましい組成物は約≦
２０重量％のＰ（ＥＯ_x ）を含有し、また、最適の組成
物は約≦１０重量％のＰ（ＥＯ_x ）を含有する。これら
ブレンド組成物の残りはアルキル アクリル アミド
グリコレート アルキル エーテル含有ポリマーを含
む。アルキル アクリル アミド グリコレート アル
キル エーテル含有ポリマーと第２ポリマー〔Ｐ（ＥＯ
_x ）またはＰ（ＶＯ_AC−ＶＰ）ではない〕とが湿潤コー
ティングの通常のオーブン乾燥中に共有結合的に架橋さ
せ得る場合には、そのような導電性層またはブロッキン
グ層からのポリマー移行はその後の感光体層の溶媒コー
ティング中には生じない。その結果、ブレンド中で使用
できる各ポリマーの重量％に関しての制限は存在しな
い。未架橋感光体用途においては、ＭＡＧＭＥとＮ，Ｎ
−ジメチルアクリルアミド（ＤＭＡ）、酢酸ビニルおよ
びＮ−ビニルピロリドン（ＶＰ）から誘導された他の可
溶性繰返し単位との総量は最小（≦４０±５モル％）に
保ってその後のコーティング工程においてマクロ分子移
行を防止するべきである。感光体導電性層の少なくとも
部分架橋は殆んどの導電性層において好ましく溶媒バリ
ヤー特性を向上させる。

【００８７】ブレンドすべき等量の２種のコポリマーを
溶解し得るコーティング溶媒からのタイプＩＩの相溶性
ブレンドコーティングの典型的な例は表１のとおりであ
る。表中で示した組成値はモル％繰返し単位である。

【００８８】

【表１】 表１のモノマー略号（繰返し単位として示した）は次の
とおりである： ＨＥＭＡ ２−ヒドロキシ エチル メタクリレート ＭＡＧＭＥ メチル アクリル アミド グリコレート メチル エーテル ＤＭＡ Ｎ，Ｎ−ジメチル アクリル アミド ＶＯＡｃ 酢酸ビニル ＶＰ Ｎ−ビニルピロリドン ＥＯｘ エチル オキサゾリン

【００８９】アルキル アクリル アミド グリコレー
ト アルキル エーテルから誘導された主鎖は、基平面
層においては、基平面層を同じポリマーを含有するコー
ティング溶液またはメチル アクリル アミド グリコ
レート アルキル エーテルから誘導された未架橋ポリ
マーを攻撃する溶媒でコーティングする場合には、常に
架橋または部分架橋させる。マレイミドポリマーおよび
ヒドロキシポリマーは基平面層中で常に架橋または部分
架橋させる。ブロッキング層もまたアルキルアクリル
アミド グリコレート アルキル エーテルから誘導さ
れたポリマーを含有する場合、ブロッキング層ポリマー
は乾燥ブロッキング層内では未架橋（即ち、線状）、部
分架橋または架橋させ得る。架橋または部分架橋ポリマ
ーは、カーボン ブラックのような導電性粒子が永久的
にカプセル化されそれによって上部層のコーティング中
にこの上部層中への導電性粒子の移行が防止されるの
で、基平面層中で上記の状況下において使用される。移
行が生じた場合、この移行は低い電荷アクセプタンスと
恐らくはＶ_R サイクル アップを生じ、それで、そのよ
うな導電性粒子の移行を回避することが望まれる。架橋
はホモポリマーまたはコポリマーを溶媒溶液からコーテ
ィングとして塗布したのちの乾燥工程において酸の存在
または不存在下に単に加熱することよって行い得る。酸
ドーピングありまたはなしの架橋度は加熱温度によって
調製できる。メチル アクリル アミド グリコレート
メチル エーテル ホモポリマーの架橋はＲ¹ および
Ｒ² 基を介して行い得る。ビニル ヒドロキシ エステ
ルまたはビニル ヒドロキシアミド モノマーから誘導
されたヒドロキシ繰返し単位をアルキル アクリルアミ
ド グリコレート アルキル エーテルと反応させたと
きには、共有結合架橋を低級アルキル エステル基の置
換によって得ることができる。導電性層中のアルキル
アクリル アミド グリコレート アルキル エーテル
繰返し単位の限られたまたは部分的架橋は上記の理由に
よりまたは導電性層表面上の残存未架橋アルキル アク
リル アミド グリコレート アルキル エーテル繰返
し単位がブロッキング層中のビニル ヒドロキシ エス
テルまたはビニル ヒドロキシアミド単位および／また
はアルキル アクリル アミド グリコレート アルキ
ル エーテル単位のヒドロキシ基と反応するのに利用で
きるので望ましい。このことは化学反応を起して導電性
層−ブロッキング層界面で共有結合を形成させそれによ
ってこれら２つの層間の接着性も改良するので望まし
い。マレイミドポリマーとヒドロキシポリマー（または
ジオール分子）の架橋はまた下記の式で示す加熱を介し
てのマレイミドの開環によって行うことができる。

【００９０】

【化１３】 架橋度はマレイミド単位とヒドロキシ単位（またはジオ
ール分子）の数、または加熱時間と温度を変化させるこ
とによって調製できる。導電性層中のポリマーの架橋は
導電性に影響を与えない。例えば，厚い（例えば８〜１
０μｍ）カーボン ブラック充填（例えば、１５重量
％）導電性層は体積導電性でありすべて周囲湿度におい
て１０³ 〜１０⁴ オーム／Ｓｑの４点試験プローブ抵抗
値を示す。用いた任意のブロッキング層中のコポリマー
の架橋はその後塗布するコーティング組成物に対してよ
り溶媒抵抗性のバリヤー層を与えるので、ブロッキング
層においても架橋ポリマーが好ましい。

【００９１】一般的には、酸ドパントの不存在下では、
溶媒は飛散して残存する導電性コーティング中のポリマ
ーは乾燥温度を約９０℃以下に維持する場合には未架橋
のまゝであろう。約１２０℃以上の乾燥温度では、残存
ポリマーコーティングは架橋するであろう。約９０℃〜
１２０℃の間の温度では、アルキル アクリル アミド
グリコレート アルキル エーテル繰返し単位とヒド
ロキシ含有繰返し単位との両方を含有するコポリマーは
部分架橋するようである。これらのポリマーは感光体コ
ーティングの通常の乾燥中に容易に架橋させ得るので、
この架橋方法はオーブン乾燥工程を含む任意の製造方法
による感光体の製造において極めて好都合である（余分
な乾燥工程または余分な架橋剤物質または触媒を必要と
しない）。

【００９２】実質的に同じコポリマー鎖間の架橋は２つ
の化学経路によって起り得る。１つのコポリマー鎖中の
メチル アクリル アミド グリコレート メチル エ
ーテル単位は第２ポリマー鎖中のメチル アクリル ア
ミド グリコレート メチルエーテル単位と自己縮合し
て下記に示す複合メチレン ビス アミド架橋を与え
る。

【００９３】

【化１４】 この架橋経路はこの化学反応が酸触媒の不存在下では１
３５℃でもゆっくりと生ずるので小経路であると考えら
れている。しかしながら、酸触媒を用いる場合には、こ
の経路はもっと重要となる。小分子酸種（ｐ−トルエン
スルホン酸）の他の層への移行（そのコーティング中）
は有害な電気効果を生ずるので、これら導電性層の架橋
は酸触媒無しが好ましく、架橋は、例えば、送風循環炉
中で単に加熱し同時にコーティング溶媒を除去するだけ
で行う。即ち、上記の化学反応は小架橋経路のまゝであ
り、１３５℃で酸触媒に依存することの少ない第２架橋
経路に関与するメチル アクリル アミド グリコレー
ト メチル エーテル単位の大部分を残す。

【００９４】第２架橋経路は下記のように示される。

【００９５】

【化１５】 この第２架橋経路においては、１つのコポリマーからの
ヒドロキシ基がもう１つのコポリマーのエーテルおよび
エステルメトキシ基の両方を置換して相応するエーテル
およびエステル架橋を与える。この反応はポリマーがＯ
Ｈ基とＭＡＧＭＥ基を含む場合１３５℃で触媒なしでも
急速に進行する。

【００９６】本発明の導電性層においては、ポリマーは
十分に架橋してブロッキング層またはその後の塗布層を
塗布するのに用いた溶媒に対しての実質的な不溶性を確
立すべきである。実質的な不溶性は未架橋条件のコーテ
ィングバインダーを通常溶解する溶媒で示したＱチップ
で乾燥導電性コーティングをゆるくこすることによって
測定できる。架橋度は分散導電性粒子の色、例えば、カ
ーボン ブラック充填コーティングの場合の“黒色性”
がＱチップ上でいかに強くみえるかによって測定でき
る。

【００９７】本発明の乾燥半透明導電性層のバインダー
マトリックスは任意に電荷輸送性であり得る。電荷輸送
ポリマーマトリックスは電荷輸送性ポリマーまたは電荷
輸送小分子でドーピングしたポリマーを使用することに
よって調製できる。使用する場合、小分子電荷輸送ドパ
ントは好ましくは強い水素結合かまたは共有結合によっ
て高分子バインダーに結合して導電性コーティングから
のはく離と上部層への移行を防止する。移行が生ずる場
合、導電性層を含有する感光体装置は表面電荷を良好に
保持しないであろう。即ち、ポリマー自体が電荷輸送能
力を有し得るかあるいはポリマーが溶解または分子的に
分散した電荷輸送小分子を含有して異なる湿度でのその
抵抗性を維持する。電荷輸送小分子の含有量は総バイン
ダー重量の約４０重量％までの任意の適当な値であり得
る。この上限量を著しく越える含有量は、分散液粘度は
所望の導電性コーティング厚さを得るのに低くなり過ぎ
るのであまり好ましくない。

【００９８】ブレンド中のコポリマーの１つは電荷輸送
性の、例えば、ＭＡＧＭＥ−ビニルカルバゾールのコポ
リマーであり得る。ヒドロキシ基含有電荷輸送分子をド
パントとして添加する場合、バインダーポリマーの１つ
は電荷輸送分子のヒドロキシ基に開環反応によって架橋
し得る無水物、イミドまたはエポキシ基を含有し得る。
無水物またはイミド基含有ポリマーとヒドロキシ基含有
分子を含む開環反応は下記のように示される。

【００９９】

【化１６】 エポキシ基含有ポリマーとヒドロキシ含有分子またはポ
リマーを含む開環反応は下記のとおりである。

【０１００】

【化１７】 電荷輸送能力を有する任意の適当なフィルム形成性ポリ
マーを本発明の導電性層の導電性マトリックスの連続相
中のバインダーとして使用できる。電荷輸送能力を有す
るバインダーは意図する用途のスペクトル領域では実質
的に非吸収性であるが適用した電界中で導電性粒子によ
って注入した電荷キャリヤーを輸送し得る点で“活性”
である。電荷輸送性フィルム形成性ポリマーは当該技術
において周知である。そのような電荷輸送フィルム形成
性ポリマーの１部の代表的なものは次のとおりである：

【０１０１】米国特許第4,３０2,５２１号に記載されて
いるポリビニルカルバゾールとルイス酸。米国特許第3,
９７2,７１７号に記載されているようなポリビニルアン
トラセン、ポリアセナフチレンのようなビニル芳香族ポ
リマー；ホルムアルデヒドと３−ブロモピレンの縮合物
のようなホルムアルデヒド縮合生成物；２，４，７−ト
リニトロフルオレオエン、および３，６−ジニトロ−Ｎ
−ｔ−ブチルナフタルイミド。ポリ−１−ビニルピレ
ン、ポリ−９−ビニルアントラセン、ポリ−９−（４−
ペンチル）−カルバゾール、ポリ−９−（５−ヘキシ
ル）−カルバゾール、ポリメチレンピレン、ポリ−１−
（ピレニル）−ブタジエン；ポリ−３−アミノカルバゾ
ール、１，３−ジブロモ−ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ルおよび３，６−ジブロモ−ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾ
ールのようなアルキル、ニトロ、アミノ、ハロゲンおよ
びヒドロキシ置換ポリマーのようなポリマーのような他
の輸送物質；並びに米国特許第3,８７0,５１６号に記載
されているような多くの他の透明有機高分子輸送物質。
例えば、米国特許第4,８０6,４４３号、第4,８０6,４４
４号、第4,４１8,６５０号または第4,８１8,６５０号に
記載されているようなポリ〔Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−
Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ヒドロキシフェニル）−〔１，１
−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン〕カーボネートの
ようなポリカーボネート輸送ポリマー、Ｎ，Ｎ′−ジフ
ェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミンおよび
Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（４−２，３−
エポキシプロポキシ）−フェニル）〔１，１′−ビフェ
ニル〕−４，４′−ジアミン系のポリヒドロキシエーテ
ル樹脂。上述の電荷輸送能力を有するバインダーに関す
る各米国特許の記載はすべて本明細書に引用する。ＭＡ
ＧＭＥとビニルカルバゾール様基のような電荷輸送基を
有するポリマーとのコポリマーはこのコポリマーが導電
性層中でバインダーとして使用する他のＭＡＧＭＥホモ
ポリマーまたはコポリマーと相溶性でありかつこれらポ
リマーに架橋し得るので好ましい電荷輸送バインダーポ
リマーである。これらのタイプのコポリマーはビニルカ
ルバゾールとＭＡＧＭＥモノマーとの熱誘起ラジカル開
始型反応によって合成し得る。該フィルム形成性バイン
ダーは連続フィルムを形成し得かつ下地の光導電性層が
感応する活性化用照射に対して実質的に透明でなければ
ならない。換言すれば、透過した活性化用照射は下地の
光導電性層中で電荷キャリヤー、即ち、電子−正孔対を
発生させ得なければならない。

【０１０２】フィルム形成性バインダーとして機能し得
るかあるいはフィルム形成性バインダー中に可溶性また
は分子規模で分散性である任意の適当な電荷輸送分子を
本発明の導電性層の連続バインダーマトリックス中で使
用できる。非フィルム形成性電荷輸送物質の１部の代表
的なものは次のとおりである：

【０１０３】米国特許第4,３０6,００８号第4,３０4,８
２９号、第4,２３3,３８４号、第4,１１5,１１６号、第
4,２９9,８９７号、第4,２６5,９９０号および第4,０８
1,２７４号に記載されているタイプのジアミン輸送分
子。典型的なジアミン輸送分子には、アルキルが例えば
メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル等であるＮ，
Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（アルキルフェニ
ル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミ
ン、例えば、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス
（３″−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕
−４，４′−ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，
Ｎ′−ビス（４−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフ
ェニル〕−４，４′−ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル
−Ｎ，Ｎ′−ビス（２−メチルフェニル）−〔１，１′
−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフ
ェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−エチルフェニル）−
〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン、Ｎ，
Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（４−エチルフェニ
ル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（４−ｎ−
ブチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，
４′−ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（３−クロロフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕
−４，４−ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′
−ビス（４−クロロフェニル）−〔１，１′−ビフェニ
ル〕−４，４′−ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−
Ｎ，Ｎ′−ビス（フェニルメチル）−〔１，１′−ビフ
ェニル〕−４，４′−ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−
テトラフェニル−〔２，２′−ジメチル−１，１′−ビ
フェニル−４，４′−ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−
テトラ（４−メチルフェニル）−〔２，２′−ジメチル
−１，１−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン、Ｎ，
Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（４−メチルフェニ
ル）−〔２，２′−ジメチル−１，１′−ビフェニル〕
−４，４−ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′
−ビス（２−メチルフェニル）−〔２，２′−ジメチル
−１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン、Ｎ，
Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニ
ル）−ピレニル−１，６−ジアミン等がある。米国特許
第4,３１5,９８２号、第4,２７8,７４６号および第3,８
３7,８５１号に開示されているようなピラゾリン輸送分
子。典型的なピラゾリン輸送分子には、１−〔レピジル
−（２）〕−３−（Ｐ−ジエチルアミノフェニル）−５
−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン、１−
〔キノリル−（２）〕−３−（Ｐ−ジエチルアミノフェ
ニル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリ
ン、１−〔ピリジル−（２）〕−３−（Ｐ−ジエチルア
ミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノフェニル）
ピラゾリン、１−〔６−メトキシピリジル−（２）〕−
３−（Ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエ
チルアミノフェニル）ピラゾリン、１−フェニル−３−
〔Ｐ−ジメチルアミノスチリル〕−５−（ｐ−ジエチル
アミノスチリル）ピラゾリン、１−フェニル−３−〔Ｐ
−ジエチルアミノスチリル〕−５−（ｐ−ジエチルアミ
ノスチリル）ピラゾリン等がある。米国特許第4,２４5,
０２１号に記載されているような置換フルオレン電荷輸
送分子。典型的なフルオレン電荷輸送分子には、９−
（４′−ジメチルアミノベンジリデン）フルオレン、９
−（４′−メトキシベンジリデン）フルオレン、９−
（２′，４′−ジメトキシベンジリデン）フルオレン、
２−ニトロ−９−ベンジリデン−フルオレン、２−ニト
ロ−９−（４′−ジエチルアミノベンジリデン）フルオ
レン等がある。ドイツ特許第1,０５8,８３６号、および
1,０６0,２６０号および第1,１２0,８７５号、および米
国特許第3,８９5,９４４号に開示されている２，５−ビ
ス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキ
サジアゾール、ピラゾリン、イミダゾール、チオゾール
およびその他のようなオキサジアゾール輸送分子。ヒド
ラジン輸送分子の典型的な例には、例えば、米国特許第
4,１５0,９８７号に開示されているｐ−ジエチルアミノ
ベンズアルデヒド−（ジフェニルヒドラゾン）、ｏ−エ
トキシ−ｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド−（ジフ
ェニルヒドラゾン）、ｏ−メチル−ｐ−ジエチルアミノ
ベンズアルデヒド−（ジフェニルヒドラゾン）、ｏ−メ
チル−ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド−（ジフェ
ニルヒドラゾン）、ｐ−ジプロピルアミノベンズアルデ
ヒド−（ジフェニルヒドラゾン）、ｐ−ジエチルアミノ
ベンズアルデヒド−（ベンジルフェニルヒドラゾン）、
ｐ−ジブチルアミノベンズアルデヒド−（ジフェニルヒ
ドラゾン）、ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド−
（ジフェニルヒドラゾン）等がある。他のヒドラゾン輸
送分子には１−ナフタレンカルボアルデヒド１−メチル
−１−フェニルヒドラゾン、１−ナフタレンカルボアル
デヒド１，１−フェニルヒドラゾン、４−メトキシナフ
タレン−１−カルボアルデヒド、１−メチル−１−フェ
ニルヒドラゾンがあり、さらにほかのヒドラゾン輸送分
子は、例えば、米国特許第4,３８5,１０６号、第4,３３
8,３８８号、第4,３８7,１４７号、第4,３９9,２０８
号、および第4,３９9,２０７号に開示されている。もう
１つの電荷輸送分子は９−メチルカルバゾール−３−カ
ルボアルデヒド−１，１′−ジフェニルヒドラゾン、９
−エチルカルバゾール−３−カルボアルデヒド−１−メ
チル−１−フェニルヒドラゾン、９−エチルカルバゾー
ル−３−カルボアルデヒド−１−エチル−１−フェニル
ヒドラゾン、９−エチルカルバゾール−３−カルボアル
デヒド−１−エチル−１−ベンジル−１−フェニルヒド
ラゾン、９−エチルカルバゾール−３−カルボアルデヒ
ド−１，１′−ジフェニルヒドラゾンがあり、他の適当
なカルバゾールフェニルヒドラゾン輸送分子は、例え
ば、米国特許第4,２５6,８２１号に記載されている。同
様なヒドラゾン輸送分子は例えば米国特許第4,２９7,４
２６号にも記載されている。典型的な９−フルオレニリ
デンメタン電荷輸送性誘導体には（４−ｎ−ブトキシカ
ルボニル−９−フルオレニリデン）マロノニトリル、
（４−フェネトキシカルボニル−９−フルオレニリデ
ン）マロノニトリル、（４−カルビトキシ−９−フルオ
レニリデン）マロノニトリル、（４−ｎ−ブトキシカル
ボニル−２，７−ジニトロ−９−フルオレニリデン）マ
ロネート等がある。他の典型的な輸送物質には米国特許
第3,８７0,５１６号に記載されている多くの透明有機非
高分子輸送物質および米国特許第4,３４6,１５７号に記
載されているノニオン性化合物がある。フィルム形成性
バインダー中に可溶性または分子規模で分散性である電
荷輸送分子に関する上述の各米国特許の記載はすべて本
明細書に引用する。ポリ−１−ビニルピレン、ポリ−９
−ビニルアントラセン、ポリ−９−（４−ペンテニル）
−カルバゾール、ポリ−９−（５−ヘキシル）−カルバ
ゾール、ポリメチレンピレン、ポリ−１−（ピレニル）
−ブダジエン；ポリ−３−アミノカルバゾール、１，３
−ジブロモ−ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよび３，
６−ジブロモ−ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールのような
他の輸送物質；並びに多くの他の透明有機高分子または
非高分子輸送物質のような他の輸送物質は米国特許第3,
８７0,５１６号に記載されている。さらに他の電荷輸送
小分子にはジアミン、ジアルコールまたはビスフェノー
ルタイプの２官能性求核物質等を含むヒドラゾンタイプ
の分子がある。Ｎ，Ｎ′−ビス（３″−ヒドロキシフェ
ニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミ
ン）のような２個以上のヒドロキシ官能基を含有する電
荷輸送小分子は加熱時にＭＡＧＭＥまたは無水物単位と
酸触媒なしで急速に架橋する。この無水物基含有ポリマ
ーおよびヒドロキシ基含有分子を含むこの開環反応は前
述している。ＭＡＧＭＥ含有ポリマーのＭＡＧＭＥ繰返
し単位のメチルエステルおよびメチルエーテル反応部位
はジアミン、ジアルコールまたはビスフェノールのよう
な２官能性求核物質と反応して共有架橋ポリマーネット
ワークを与える。単官能性求核物質をＭＡＧＭＥ含有ポ
リマーのＭＡＧＭＥ単位との反応に用いた場合または２
官能性求核物質の求核部位の１つのみが利用し得るある
ＭＡＧＭＥ単位と反応した場合には、反応性求核物含有
分子は１つのＭＡＧＭＥ繰返し単位に共有結合する。こ
の場合、架橋は求核物質の１端のみが１つのポリマー鎖
に結合するだけであるので生じない；そのような結合は
ＭＡＧＭＥ繰返し単位が求核性修飾剤分子の共有結合に
より化学的に修飾されたことを単に意味するポリマー修
飾と称する。さらに、これら求核置換架橋反応の活性エ
ネルギーはフェノール基の求核性を増大させることによ
って低減できる。これはフェノール性ＯＨ基をポリマー
（ビニルピロリドンのような）中のわずかに塩基性の部
位をコンプレックス化することによって達成される。わ
ずかに塩基性の溶媒成分もまた触媒として関与する前に
加熱温度で蒸発しない限り同じ形である塩基性触媒を提
供する。

【０１０４】一般的には、ポリマー中での低濃度の電荷
輸送単位（例えば、ビニルカルバゾール）または低含有
量の小分子が電荷輸送目的には適する。使用する電荷輸
送分子の量は特定の電荷輸送物質およびその相溶性（例
えば、導電層の連続絶縁フィルム形成性バインダー相中
での可溶性）等によって変化し得る。満足できる範囲は
バインダーマトリックスの総重量基準で約５〜約４０重
量％の小分子または電荷輸送単位である。

【０１０５】任意の適当な溶媒を塩基性溶液中で用いて
導電性コーティングを形成させることができる。前述し
たように、塩基性溶液は塩基性ポリマー、塩基性溶媒ま
たは塩基性ポリマーと塩基性溶媒の組合せを含有し得
る。典型的な塩基性溶媒には、例えば、ジメチル、アミ
ノエタノール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、２−ジ
メチルアミノ−２−メチル−１−プロパノール、２−ジ
エチルアミノエタノール、１−ジエチルアミノ−２，３
−プロパノール等がある。ジメチルアミノエタノールの
ような塩基性溶媒または低塩基性のＴＨＦを分散剤とし
て用いポリマー溶液中での導電性粒子の分散を助長させ
得る。一般的には、塩基性溶媒は約８〜約１４のＰＨ値
を有する。分散剤（溶媒）はコーティングの乾燥工程で
除去される。他の典型的な溶媒にはＤＭＦ等がある。

【０１０６】酸性または中性の導電性粒子−塩基性溶液
の組合せが導電性粒子上でのバインダーポリマーの優れ
た湿潤化を促進する。導電性粒子の良好な湿潤化は導電
性粒子のバインダーによる完全カプセル化を確立し、導
電性粒子の大きい凝集物への凝集を防止し、さらに、半
透明性を向上させる。例えば、分散液中の小カーボンブ
ラック粒子は塗布コーティングの乾燥が経るまで安定な
混合物中に分散したまゝである。

【０１０７】任意の適当なコーティング方法を用いて導
電性コーティング分散液を塗布できる。典型的なコーテ
ィング方法には、例えば、スプレーコーティング、押出
コーティング、延伸棒コーティング、スピンコーティン
グ、デイップコーティング、ワイヤーコーティング、ウ
エブコーティング等がある。好ましいのは、バインダー
マトリックス物質溶液中の導電性粒子の分散液を濃厚形
で調製しその後希釈する。分散液中の好ましい総固形分
濃度は総分散液重量の約１０〜約５０重量％である。分
散液は通常のロール ミリングまたは摩砕法によって調
製できる。濃厚分散液は適当な溶媒を加えて希釈し、そ
の後、例えば、スプレーコーティング、押出コーティン
グ、延伸棒コーティング、スピンコーティング、デイッ
プコーティング等によって基体に塗布できる。

【０１０８】塗布した導電性コーティングは任意の適当
な方法で乾燥できる。典型的な加熱方法には、例えば、
オーブン加熱、赤外線加熱、強制送風加熱等がある。一
般的には、加熱に用いる温度はコーティングから溶媒の
実質的すべてを除去するのに十分であるべきである。ま
た、乾燥に用いた加熱温度と時間は使用する特定の材料
および所望する架橋度による。

【０１０９】導電性層コーティング混合物は支持基体表
面に塗布する。本発明の導電性コーティング混合物は任
意の適当な通常の方法によって塗布できる。典型的な塗
布方法にはスプレー法、デイップコーティング、ロール
コーティング、ワイヤー巻棒コーティング、延伸棒コー
ティング等がある。コーティング組成物は通常溶媒中に
溶解したポリマーによって塗布する。典型的な溶媒に
は、例えば、ドワノール（Dowanol ）ＰＭ、ＤＭＦ、Ｔ
ＨＦ、メタノール、ｎ−ブタノール、これらの混合物等
がある。導電性層用の溶媒の選択は導電性層を塗布する
支持基体の性質および導電性層を構成するポリマーの性
質による。乾燥導電性層は、好ましくは架橋または部分
架橋させるので、その後の塗布層の塗布に用いるいかな
る溶媒にも実質的に不溶性である。適切な溶媒は、一般
に、当該技術において周知であるように、個々のポリマ
ーの既知の性質に基づいて選択できる。溶媒混合物も必
要ならば使用できる。使用する溶媒の割合は使用するコ
ーティング方法の種類、例えば、デイップコーティン
グ、スプレーコーティング、ワイヤー巻コーティン
グ、、延伸棒コーティング、ロールコーティング等によ
り変化し、コーティング混合物の粘度と揮発性を使用す
るコーティング法の種類に合せるようにする。一般的に
は、溶媒の量はコーティング組成物の総重量基準で約９
9.８〜約９０重量％の範囲である。特定の溶媒とポリマ
ーの典型的な組合せには、例えば、メチル アクリル
アミド グリコレート アルキル エーテル−ビニルピ
リシンコポリマーのようなアルキル アクリル アミド
グリコレート アルキル エーテル誘導ポリマーと１
−メトキシ−２−ヒドロキシプロパン〔ドワノール（Do
wanol ）ＰＭ、ダウケミカル社より入手できる）または
ジメチルアミノエタノールがある。ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドおよびＮ−メチルピロリドン
（それぞれ、ＤＭＦ、ＤＭＡＣおよびＮＭＰ）のような
高沸点双極性非プロトン溶媒もメチル アクリル アミ
ド グリコレート アルキル エーテル−ビニルピロリ
ドン コポリマーのようなメチル アクリル アミド
グリコレート アルキル エーテル誘導ポリマーを溶解
する。

【０１１０】必要に応じて、少量の任意成分としての添
加剤を導電性層コーティング組成物またはブロッキング
層コーティング組成物中に添加して下地層表面の改良さ
れた湿潤性を得ることができる。任意の適当な添加剤を
使用できる。典型的な添加剤にはサルフィノール（Surf
ynol）（エア プロダクツ アンド ケミカルズ社より
入手できる）のような湿潤剤がある。他の添加剤にはグ
リセリン、ジエチレングリコール、ｐ−トルエン エチ
ル スルホン アミド等がある。同様に、染料等の他の
添加剤も添加できる。一般に、任意成分添加剤の量は乾
燥導電性層コーティングの総重量基準で２重量％以下で
あるべきである。

【０１１１】導電性層またはブロッキング層ポリマーが
その後の層をコーティングするのに用いる有機溶媒のい
ずれかに可溶性である場合、その厚さの均一性および一
体性は有機溶媒が導電性層材料および／またはブロッキ
ング層材料を電荷発生層および／または電荷輸送層中に
洗い出すので悪影響を受け得る。薄いブロッキング層ま
たはブロッキング層材料の領域欠陥は極めて貧弱なある
いは無視さえし得る電荷アクセプタンスと高暗減衰速度
を与える。

【０１１２】導電性層またはブロッキング層コーティン
グを塗布したのち、塗布コーティングを加熱して溶媒を
除去し、固形連続膜を形成させる。一般に、約１１０℃
〜約１３５℃の乾燥温度が導電性層を乾燥させ酸触媒の
不存在下でコポリマーの十分な架橋を確立するのに好ま
しい。それより低い温度も酸触媒を使用した場合は使用
できる。導電性層においては、コポリマーは十分に架橋
させてブロッキング層を塗布するのに用いる溶媒での実
質的な不溶性を確立すべきである。導電性層中のポリマ
ーの架橋は好ましいけれども、ポリマーは乾燥中に架橋
する必要はない。しかしながら、導電性層ポリマーはそ
の後の層を塗布するのに用いる溶媒に実質的に不溶性で
なければならない。即ち、乾燥層で用いるべきポリマー
が、線状であるために、後の層を塗布するのに用いる溶
媒に可溶である場合、ポリマーは乾燥コーティング中で
十分に架橋させて他のコーティングを引き続き塗布する
ときに不溶性でよるようでなければならない。使用する
乾燥温度は基体の温度感受性にもある程度依存してい
る。

【０１１３】乾燥温度はオーブン、強制送風炉、放射加
熱ランプ等の任意の適当な方法で維持し得る。乾燥時間
は使用温度による。即ち、高温度を用いる場合、短時間
でよい。一般に、乾燥時間を長くすれば、除去する溶媒
の量は増大する。十分な乾燥が起っているかどうかはク
ロマトグラフまたは重量分析により容易に測定できる。
導電性層の典型的な処理は１／２ミル（１2.７μｍ）の
バードコーティング棒によるコーティングの塗布その後
の塗布コーティングの１３５℃、約１０〜３０分間の加
熱を含む。

【０１１４】本発明の導電性層を電子写真像形成部材、
即ち、感光体において用いる場合、任意成分としての電
荷ブロッキング層を導電性層と像形成層との間に介在さ
れ得る。像形成部材は少なくとも１つの光導電性層を含
む。任意成分としてのブロッキング層材料は正電荷をブ
ロックする。電荷ブロッキング層は均一で連続性で凝集
性であるべきであり、任意の適当なブロッキング材料を
含み得る。典型的なブロッキング材料には、例えば、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリ塩化
ビニル、ポリエステル、ポリアミド、セルロース、ポリ
メチル、メタクリレート、ポリビニルフェノール等があ
る。メチル アクリル アミド グリコレート アルキ
ル エーテルから誘導された主鎖を有するポリマーもま
た優れたブロッキング層を形成する。必要に応じて、メ
チル アクリル アミド グリコレート アルキル エ
ーテルから誘導されたポリマーはブロッキング層におい
て線状のホモポリマーまたはコポリマーとしてあるいは
架橋または部分架橋のホモポリマーまたはコポリマーと
して使用できる。満足できる結果は約0.０２〜約８μｍ
の厚さを有する乾燥コーティングにおいて得られる。層
厚が８μｍを越える場合、電子写真像形成部材はサイク
ル操作中に貧弱な放電特性と消去後の残留電圧蓄積を示
し得る。約0.０５μｍより小さい厚さはブロッキング層
の異なる領域の厚さの不均一性によるピンホール並びに
高暗減衰と低電荷アクセプタンスを一般に与える傾向に
ある。好ましい厚さ範囲は約0.５〜約1.５μｍである。
基平面で使用する特定の組成が使用するブロッキング層
の厚さにいかに影響するかを示せば、上層のブロッキン
グ層を有しない分散カーボン ブラック含有の部分電荷
注入性基平面層を用いた感光体は約３ボルト／μｍまた
は２０ボルト／μｍに帯電し、使用するポリマーバイン
ダーのタイプに依存している。十分に厚いブロッキング
層を沃化銅含有基平面層上に塗布した場合、感光体は少
なくとも３０ボルト／μｍのレベルに帯電するであろ
う。少なくとも約３０ボルト／μｍの帯電値が好ましく
最適の結果は少なくとも約４０ボルト／μｍの値で得ら
れる。約２０ボルト／μｍより低い値では、コントラス
ト電位像および明るい像は２成分乾燥ゼログラフィー現
像剤によっては現像できない。乾燥ブロッキング層の表
面抵抗は、４０％相対湿度条件下での室温（２５℃）お
よび１気圧下で測定したとき、約１０¹⁰オーム／ｓｑ以
上であるべきである。この最小電気抵抗はブロッキング
層が導電性となり過ぎるのを防止する。

【０１１５】任意成分としてのブロッキング層コーティ
ング混合物は支持基体の表面および導電性層の表面にそ
れぞれ塗布する。ブロッキング層コーティング混合物は
任意の適当な方法により塗布できる。典型的な塗布方法
にはスプレー法、ディップコーティング法、ロールコー
ティング法、ワイヤー巻棒コーティング法がある。コー
ティング組成物は溶媒中に溶解させたポリマーによって
通常塗布する。典型的な溶媒にはメタノール、１−メト
キシ−２−ヒドロキシプロパン、ｔ−ブチルアルコー
ル、水およびこれらの溶媒と他のアルコール溶媒および
テトラヒドロフランとの混合物等がある。ブロッキング
層用の溶媒の選択はブロッキング層を塗布する支持基体
の性質およびブロッキング層を構成するポリマーの性質
による。乾燥ブロッキング層はその後の塗布層の塗布に
使用するいずれの溶媒においても実質的に不溶性である
べきである。一般には、適切な溶媒は、当該技術におい
て周知であるように、個々のポリマーの既知性質に基づ
いて撰定できる。溶媒混合物も必要に応じて使用でき
る。使用する溶媒の割合は使用するコーティング方法の
種類例えば、ディップコーティング、スプレーコーティ
ング、ワイヤー巻き棒コーティング、延伸棒コーティン
グ、ロールコーティング等により変化し、コーティング
混合物の粘度と揮発性を使用するコーティング法の種類
に合せるようにする。一般的には、溶媒の量はコーティ
ング組成物の総重量基準で約９9.８〜約９０重量％の範
囲である。特定の溶媒とポリマーの典型的な組合せに
は、例えば、ゼラチンポリマーと水がある。ポリメチル
アクリル アミド グリコレートメチル エーテルの
ようなアルキル アクリル アミド グリコレート ア
ルキル エーテル誘導ポリマーと１−メトキシ−２−ヒ
ドロキシプロパン〔ドワノールＰＭ、ダウ ケミカル社
より入手できる）。ジメチルアミノエタノールのような
塩基性アルコールおよび２，２，２−トリフルオロエタ
ノールのような酸性アルコールもポリメチル アクリル
アミド グリコレート メチル エーテルのようなア
ルキル アクリル アミド グリコレート アルキル
エーテル誘導ポリマーを溶解するが、痕跡量の残留溶媒
に基づき感光体の電気性能に影響を与える基平面または
他の層への干渉を回避するためには溶媒中性が通常は望
ましい。ジメチル ホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドおよびＮ−メチルピロリドン（それぞれ、ＤＭＦ、Ｄ
ＭＡＣおよびＮＭＰ）のような高沸点双極性非プロトン
溶媒もアルキル アクリル アミド グリコレート ア
ルキル エーテル誘導ポリマーを広範囲に溶解するが、
コーティングからの完全溶媒除去をその高沸点故に行う
のが難しくあまり望ましくない。

【０１１６】必要に応じて、少量の任意成分としての添
加剤をブロッキング層コーティング組成物中に添加して
下地層表面の改良された湿潤性を得ることができる。任
意の適当な添加剤を使用できる。典型的な添加剤にはサ
ルフィノール（Surfynol）（エア プロダクツ アンド
ケミカルズ社より入手できる）のような湿潤剤があ
る。他の添加剤にはグリセリン、ジエチレングリコー
ル、ｐ−トルエン エチルスルホン アミド等がある。
同様に、染料等の他の添加剤も添加できる。一般に、任
意成分添加剤の量は乾燥導電性層コーティングの総重量
基準で２重量％以下であるべきである。

【０１１７】導電性層ポリマーがその後の層をコーティ
ングするのに用いる有機溶媒のいずれかに可溶性である
場合、その厚さの均一性および一体性は有機溶媒が導電
性材料および／またはブロッキング層材料を電荷発生層
および／または電荷輸送層中に洗い出すので悪影響を受
け得る。薄いブロッキング層またはブロッキング層材料
の領域欠陥は極めて貧弱なあるいは無視さえし得る電荷
アクセプタンスと高暗減衰速度を与える。

【０１１８】任意成分としてのブロッキング層コーティ
ングを塗布したのち、塗布コーティングを加熱して溶媒
を除去し固形連続膜を形成させる。一般に、約８０℃〜
約１３０℃の乾燥温度がブロッキング層を乾燥させるの
に好ましい。ブロッキング層コーティングの乾燥におい
ては、約１１０℃〜約１３５℃の温度が残留溶媒を最小
にし、２軸配合型ポリエチレンテレフタレートのような
有機フィルム基体へのゆがみを最小化するのに好まし
い。ブロッキング層中のポリマーの架橋は好ましいけれ
ども、ポリマーは乾燥中に架橋させる必要はない。線状
ポリマーを含有する乾燥ブロッキング層を形成する場合
には、乾燥温度と時間はコーティング溶媒を除去するに
は十分でポリマーを架橋させるのには不十分であるべき
である。しかしながら、導電性層ポリマーはその後の層
を塗布するのに用いる溶媒に実質的に不溶性でなければ
ならない。即ち、乾燥層で用いるべきポリマーが、線状
であるために、後の層を塗布するのに用いる溶媒に可溶
である場合、ポリマーは乾燥コーティング中で十分に架
橋させて他のコーティングを引続き塗布するときに不溶
性でよるようでなければならない。使用する乾燥温度は
基体の温度感受性にもある程度依存している。

【０１１９】乾燥温度はオーブン、強制送風炉、放射加
熱ランプ等の任意の適当な方法で維持し得る。乾燥時間
は使用温度による。即ち、高温度を用いる場合、短時間
でよい。一般に、乾燥時間を長くすれば、除去する溶媒
の量は増大する。十分な乾燥が起っているかどうかはク
ロマトグラフまたは重量分析により容易に測定できる。
ブロッキング層の典型的な処理は１／２ミル（１2.７ｍ
μ）のバードコーティング棒でコーティングを塗布し次
いで塗布コーティングを１３０℃で約１０〜３０分間加
熱することを含む。

【０１２０】ブロッキング層材料の幾つかは接着層とし
ても機能する層を形成し得る。しかしながら、必要に応
じて、任意成分としての接着層を使用できる。任意の適
当な接着材料をブロッキング層に塗布できる。典型的な
接着材料にはポリエステル（例えば、Ｅ．Ｉ．デュポン
社より入手できる４９０００、およびグッドイヤータイ
ヤ アンド ラバー社より入手できるＰＥ１００および
ＰＥ２００）、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、ポリビニルピロリドン、ポリアミド、ポリウレ
タン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、
ポリカーボネート、これらのコポリマー、これらのブレ
ンド等がある。一般に、満足できる結果は厚さ約0.０１
〜約1.０μｍを有する接着層によって得られる。好まし
い厚さは約0.０２〜約0.１２μｍである。最適の結果は
ポリビニルピリジンのような材料からの約0.０３μｍ
（３００オングストローム）〜約0.１２μｍの厚さによ
って達成される。接着層はビニルヒドロキシエステルま
たはビニルヒドロキシアミドブロッキング層ポリマーに
貧弱にしか接着しないポリビニルカルバゾールのような
材料を含有する電荷発生層への接着層を向上させるのに
特に有用である。典型的な接着層材料にはポリ（４−ビ
ニルピリジン）、ポリ（２−ビニルピリジン）等のよう
なビニルヒドロキシエステルまたはビニルヒドロキシア
ミドポリマーとの強力な水素結合を与えるものがある。
ポリ（４−ビニルピリジン）を含有する接着層はビニル
ヒドロキシエステルまたはビニルヒドロキシアミドブロ
ッキング層ポリマーとの水素結合高分子複合体を形成
し、この複合体は該接着をも溶媒バリヤー層として機能
せしめる溶解性特性を有する特異な接着組成物であると
考えられる。

【０１２１】一般に、前述したようにあるいは後述する
ように、本発明の光導電性像形成部材は架橋、部分架橋
または線状のフィルム形成性ポリマーを含む塩基性連続
マトリックス中の約１μｍ以下の平均粒度と酸性または
中性外表面を有する導電性粒子の分散体を含む連続の半
透明導電性層をコーティングした基体を含む。感光体用
途においては、上記半透明導電性層は任意成分のブロッ
キング層、任意成分の接着層、および少なくとも１つの
光導電性像形成層でコーティングし得る。光導電性層は
当該技術において周知の任意の適当な光導電性材料を含
み得る。

【０１２２】即ち、光導電性層は、例えば、均質光導電
性材料またはバインダー中に分散させた光導電性粒子の
単一層、または電荷輸送層をオーバーコーティングさせ
た電荷発生層のような複数層を含み得る。光導電性層は
均質、不均質、無機または有機組成物を含有し得る。不
均質組成物を含有する電子写真像形成層の１つの例は米
国特許第3,１２1,００６号に記載されており、光導電性
無機化合物の微分割粒子を電気絶縁性有機樹脂バインダ
ー中に分散させている。この米国特許の記載はすべて参
考として本明細書に引用する。他の周知の電子写真像形
成層には非晶質セレン、ハロゲンドーピング非晶質セレ
ン、セレン−ひ素、セレン−テルル、セレン−ひ素−ア
ンチモンのような非晶質セレン合金、ハロゲンドーピン
グセレン合金、硫化カドミウム等がある。一般的には、
これらの無機光導電性材料には比較的均質な層として付
着させる。

【０１２３】本発明は２つの電気作動層、即ち電荷発生
層と電荷輸送層を含む電子写真像形成層にといて特に望
ましい。

【０１２４】任意の適当な電荷発生または光生成性材料
を本発明の多層光導電体実施態様の２つの電気作動層の
１つとして使用できる。典型的な電荷発生材料には、米
国特許第3,３５7,９８９号に記載されている無金属フタ
ロシアニン、銅フタロシアニンのような金属フタロシア
ニン、バナジルフタロシアニン、三方晶セレンのような
セレン含有材料、ビスアゾ化合物、、キナクリドン類、
米国特許第3,４４2,７８１号に開示されている置換２，
４−ジミノ−トリアジン、並びにアライド ケミカル社
より商品名インドファースト ダブル スカーレット、
インドファースト バイオレット レーキＢ、インドフ
ァースト ブリリアント スカーレットおよびインドフ
ァースト オレンジとして入手できる多核芳香族キノリ
ン類がある。電荷発生層の他の例は米国特許第4,２６5,
９９０号、米国特許第4,２３3,３８４号、米国特許第4,
４７1,０４１号、米国特許第4,４８9,１４３号、米国特
許第4,５０7,４８０号、米国特許第4,３０6,００８号、
米国特許第4,２９9,８９７号、米国特許第4,２３2,１０
２号、米国特許第4,２３3,３８３号、米国特許第4,４１
5,６３９号および米国特許第4,４３9,５０７号に開示さ
れている。これら米国特許の記載はすべて参考として本
明細書に引用する。

【０１２５】任意の適当な不活性樹脂バインダー材料を
電荷発生層において使用できる。典型的な有機樹脂バイ
ンダーにはポリカーボネート、アクリレートポリマー、
メタクリレートポリマー、ビニルポリマー、セルロース
ポリマー、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、エポキシ、ポリビニルアセタール等
がある。多くの有機樹脂バインダーが、例えば、米国特
許第3,１２1,００６号および第4,４３9,５０７号に開示
されており、これら米国特許の記載はすべて参考として
本明細書に引用する。有機樹脂ポリマーはブロック、ラ
ンダムまたは交互コポリマーであり得る。光生成性化合
物または顔料は樹脂バインダー組成物中に種々の量で存
在する。電気的に不活性な絶縁樹脂を用いる場合、光導
電性粒子間で粒子−粒子接触があることが不可欠であ
る。これには光導電性材料がバインダー層の少なくとも
約１５容量％の量で存在することが必要であり、バイン
ダー層中での光導電体の最大量についての制限はない。
マトリックス即ちバインダーが活性材料例えば、ポリビ
ニルカルバゾールを含む場合、その光導電性材料はバイ
ンダー層の約１容量％以下を含むだけでよく、バインダ
ー層中でのこの光導電体の最大量についての制限はな
い。一般に、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールのような電
気的に活性なマトリックスまたはバインダーを含有する
電荷発生層においては、約５〜約６０容量％の光生成性
顔料を光生成性顔料を約４０〜約９５容量％のバインダ
ー中に分散させ、好ましいのは、約７〜約３０容量％の
光生成性顔料を約７０〜約９３容量％のバインダーに分
散させる。使用する特定の割合はまた発生体層の厚さに
もある程度よる。

【０１２６】光生成バインダー層の厚さは特に臨界的で
はない。約0.０５〜約４0.０μｍの層厚が満足できるこ
とが見い出されている。光導電性化合物および／または
顔料と樹脂バインダー材料とを含有する光生成バインダ
ー層は約0.１〜約5.０μｍの厚さ範囲にあり、最良の光
吸収並びに改良された暗減衰安定性と機械的性質のため
には約0.３〜約３μｍの最適厚さを有する。

【０１２７】他の典型的な光導電性層には非晶質セレ
ン、またはセレン−ひ素、セレン−ひ素−テルル、セレ
ン−テルルのようなセレンの合金等がある。

【０１２８】活性電荷輸送層は電荷発生層からの光生成
正孔および電子の注入を支持しかつこれら正孔または電
子の有機層を通して輸送し表面電荷を選択的に放電させ
得る任意の適当な透明有機ポリマーまたは非高分子材料
を含み得る。活性電荷輸送層は正孔または電子を輸送す
るように作動するだけでなく感光体層を磨耗または化学
侵蝕から保護し、従って、感光体像形成部材の操作寿命
を延長する。電荷輸送層はゼログラフィーにおいて有用
の光の波長、例えば、４０００〜８０００オングストロ
ームの波長に露光させたときあり得るが無視し得る放電
を示す。従って、電荷輸送層は感光体を使用すべき領域
の照射に対して実質的に透明である。即ち、活性電荷輸
送層は発生層からの光生成正孔または電子の注入を支持
する実質的に非光導電性材料である。活性輸送層は露光
をこの活性層を通して行って照射光の殆んどを下層の電
荷キャリヤー発生体層により効果的な光発生のために利
用するようにしたときは通常透明である。透明基体を用
いた場合、像形成的露光は基体を通して行い得、光は基
体を通る。この場合、活性輸送材料は使用波長領域で吸
収性である必要はない。本発明の発生層と接触した電荷
輸送層は輸送層上の静電荷が照射の不存在下で導電性で
なく、即ち、輸送層上の静電像の形成および保持を防止
するのに十分な速度で放電しない程度に絶縁体である材
料である。

【０１２９】活性電荷輸送層は電気的に不活性な高分子
材料中に分散させこれらの材料を電気的に活性にする添
加剤として使用できる活性化用化合物を含み得る。これ
らの化合物は発生材料からの光生成正孔の注入を支持し
得がこれら正孔の輸送を行うことのできない高分子材料
に添加し得る。これにより電気的に不活性な高分子材料
を発生層からの光生成正孔の注入を支持し得かつこれら
正孔の活性層を通しての輸送を行い活性層上の表面電荷
を放電し得る材料に転換する。

【０１３０】本発明の多層光導電体実施態様の２つの電
気作動層の１つで用いる特に好ましい輸送層は約２５〜
約７５重量％の少なくとも１種の電荷輸送芳香族アミン
化合物と約７５〜約２５重量％の高分子フィルム形成性
樹脂（上記芳香族アミン可溶性である）とを含む。

【０１３１】電荷発生層からの光生成正孔の注入を支持
しかつ電荷輸送層を通してこれら正孔を輸送し得る電荷
輸送層用の電荷輸送芳香族アミンの例には、不活性樹脂
バインダー中に分散させたトリフェニルメタン、ビス
（４−ジエチルアミン−２−メチルフェニル）フェニル
メタン、４′，４″−ビス（ジエチルアミノ）−２′，
２″−ジメチルトリフェニル−メタン、Ｎ，Ｎ′−ビス
（アルキルフェニル）−〔１，１−ビフェニル〕−４，
４′−ジアミン（アルキルは、例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、ｎ−ブチル等である）、Ｎ，Ｎ′−ジフ
ェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（クロロフェニル）−〔１，１
−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジフ
ェニル−Ｎ，Ｎ′ビス（３″−メチルフェニル）−
（１，１′−ビフェニル）−４，４′−ジアミン等があ
る。

【０１３２】塩化メチレンまたは他の適当な溶媒に可溶
性の任意の適当な不活性樹脂バインダーを本発明の方法
において使用できる。塩化メチレンに可溶性の典型的な
不活性樹脂バインダーにはポリカーボネート樹脂、ポリ
ビニルカルバゾール、、ポリエステル、ポリアクリレー
ト、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリエーテ
ル、ポリスルホン等がある。分子量は約２0,０００〜約
1,５０0,０００で変化し得る。

【０１３３】好ましい電気的に不活性の樹脂材料は分子
量約２0,０００〜約１０0,０００より好ましくは約５0,
０００〜約１０0,０００を有するポリカーボネート樹脂
である。電気的に不活性な樹脂材料として最も好ましい
材料はジェネラル エレクトリック社からレクサン（Le
xan ）１４５として入手できる分子量約３5,０００〜約
４0,０００を有するポリ（４，４′−ジプロピリデン−
ジフェニレンカーボネート）；ジェネラル エレクトリ
ック社からレクサン１４１として入手できる分子量約４
0,０００〜約４5,０００を有するポリ（４，４′−イソ
プロヒリデン−ジフェニレンカーボネート）；ファルベ
ン ファブリケン バイエル社からマクロロン（Makrol
on）として入手できる分子量約５0,０００〜約１０0,０
００を有するポリカーボネート樹脂；モーベイケミカル
社からメルロン（Merlon）として入手できる分子量約２
6,０００〜約５0,０００を有するポリカーボネート樹
脂；およびポリ（４，４′−ゾフェニル−１，１−シク
ロヘキサンカーボネート）である。塩化メチレン溶媒は
成分すべてを適切に溶解するためにまたその低沸点故に
電荷輸送層コーティング混合物の特に望ましい成分であ
る。しかしながら、使用する溶媒のタイプは使用する特
定の樹脂バインダーによる。

【０１３４】上記の電荷輸送層のすべてにおいて、電気
的に不活性な高分子材料を電気的に活性にする活性化用
化合物は約１５〜約７５重量％の量で存在すべきであ
る。

【０１３５】必要ならば、電荷輸送層は電気的に不活性
なバインダー中に溶解または分散させた電荷輸送モノマ
ーの代りに任意の適当な電気的に活性な電荷輸送ポリマ
ーを含む。電荷輸送層として用いる電気的に活性な電荷
輸送ポリマーは、例えば、米国特許第4,８０6,４４３
号、第4,８０6,４４４号および第4,８１8,６５０号に記
載されており、これら米国特許の記載はすべて参考とし
て本明細書に引用する。

【０１３６】任意の適当な通常の方法を用いて電荷輸送
層コーティング混合物を混合しその後電荷発生層に塗布
できる。典型的な塗布方法には、スプレー法、ディップ
コーティング法、ロールコーティング法、ワイヤー巻き
棒、コーティング法、延伸棒コーティング法、ウェブコ
ーティング法等がある。塗布コーティングの乾燥はオー
ブン乾燥、赤外線照射乾燥、風乾等がある。一般に、輸
送層の厚さは約５〜１００μｍであるが、この範囲外の
厚さも使用できる。

【０１３７】電荷輸送層は電荷輸送層上の静電荷が照射
の不存在下ではその上の静電潜像の形成および保持を妨
げるに十分な速度では伝導しない程度に絶縁体であるべ
きである。一般に、電荷輸送層対電荷発生層の厚さの比
は好ましくは約２：１〜２００：１に維持されるが、あ
る場合には、４００：１程に大きい。

【０１３８】場合によっては、オーバーコート層を用い
て耐磨耗性を改善することもできる。ある場合には、裏
打コーティングを感光体の裏面に施して平坦性および／
または耐磨耗性を与えることもできる。これらのオーバ
ーコーティングおよび裏打コーティング層は電気絶縁性
またはわずかに半導性である有機ポリマーまたは無機ポ
リマーを含み得る。

【０１３９】即ち、本発明は静電写真像形成部材の寿命
を延長させる。本発明の半透明基平面は感光体の裏から
の消去（裏面からの露光）を可能にする。また、本発明
の均一分散基平面は均一な基平面導電性と均一な感光体
表面帯電性を与える。通常の感光体乾燥条件（時間と温
度）において通常用いられる加熱によってのみ触媒され
る架橋メカニズムを使用でき、無毒の揮発性の副生成物
の発生は装置内のどこにも残留物を残さい。

【０１４０】燥条件（時間および温度）中に通常用いら
れる加熱によってのみ触媒される架橋メカニズムを用い
得、無毒の揮発性副生成物の発生は装置内のどこにも残
留物架橋ポリマーコーティングのもう１つの利点は、架
橋能力が、完全に消費され得ず部分的には感光体の他の
層へ移行し得る外部的に加えた低分子量の架橋材からで
はなく、高分子ポリマーの繰返し単位中にすでに存在す
るペンダント基に由来するということである。この架橋
部位導入方法はその後の層の溶媒コーティング中に他の
層へ移行し得る比較的低分子量の架橋剤による中間層の
汚染を阻止する。さらに、ポリマー中の未使用ペンダン
ト架橋部位および新しく形成された架橋物は許容し得る
感光体の電気的性能に対して無害である（あるいは影響
を与えない）。導電性カーボンブラックのような粒状導
電性物質を含有する基平面層ポリマーの架橋は導電性粒
子のネットワーク包囲を確実にし、かくしてその後用い
る溶媒コーティング組成物により大きい耐溶媒性（化学
安定性）を与える。有害な正孔注入が生じ得る粒子の感
光体の他の層中へ逸散および移行の可能性は架橋した耐
溶媒性基平面においては排除される。さらにまた、本発
明の導電性層において用いるポリマー物質はより長期の
貯蔵寿命を有し、無毒であり、均質であり、相分離物質
を含まず、さらに、容易に架橋できる。本発明のブロッ
キング層はブロッキング層を被覆する層をコーティング
するのに用いる共通のコーティング溶媒の殆んどに対し
ての溶媒バリヤーを形成し、例えば、トルエン、テトラ
ヒドロフラン、および塩化メチレンのような溶媒に実質
的に不溶性である。即ち、本発明の静電写真像形成部材
は殆んどの周囲相対湿度下で光放電を可能にする。この
ことは繰返しのサイクル操作を可能にする。

【０１４１】

【実施例】以下、幾つかの実施例を提示し、本発明を実
施するのに使用できる種々の化合物および条件を例示す
る。すべての割合は特に断らない限り重量による。しか
しながら、本発明は多くのタイプの化合物によって実施
できかつ上述に従ったあるいは後述するような多くの種
々の用途を有することは明白である。

【０１４２】実施例１ 導電性層をカーボンブラック／ポリマー分散液から製造
した。分散液は、２オンスこはくびん中で2.１ｇのＭＡ
ＧＭＥ−ビニルピロリドンコポリマー（３３：６７モル
比）を2.１ｇのドワノールＰＭと１ｇのジメチルアミノ
エタノール（ｐＨ約１０〜１１）の溶媒混合物中に溶解
させることによって調製した。0.５２５ｇのカーボンブ
ラック〔Ｃ−９７５ウルトラ（ｐＨ＝７）、コロンビア
ン ケミカルズ社より入手できる）と７０ｇのステンレ
ス スチール球（１／８インチ＝3.１７５mm径）を溶液
に加えた。混合物をペイントシェーカーを用いて９０分
間分散させた。この分散液中のカーボンブラック粒度を
ホリバＣＡＰＡ−７００粒子アナライザーで測定したと
ころ、９７容量％のカーボン粒子において0.２μｍ以下
であった。分散液を薄いポリエチレン テレフタレート
シート上にメイヤー棒でコーティングした。異なる厚
さの各コーティングを＃4.６および８のメイヤー棒を用
いて製造した。各コーティングを１３５℃で１時間乾燥
させてＭＡＧＭＥ−ビニルピロリドンコポリマーを架橋
させた。光透過顕微鏡で検査した乾燥コーティングは１
μｍ以下の粒度のカーボンブラック粒子を有していた。
顕微鏡の解像限界は１μｍであった。コーティングは半
透明であり、表２で示すように約１０⁴ オーム／Ｓｑ．
の抵抗を有していた。

【０１４３】 表 ２ 白色光に対する透明性 抵抗（オーム／Ｓｑ） ４％ １×１０⁴ １０％ ２×１０⁴ ２７％ ５×１０⁴

【０１４４】各コーティングの抵抗性は４点プローブ抵
抗測定装置によって測定した。これらのコーティングの
架橋度はコーティング表面をメタノール溶媒で湿したコ
ーティング表面をこすることによって試験した。Ｑチッ
プはこすったとき黒色化してなかった。加熱前のＭＡＧ
ＭＥ−ビニルピロリドンはメタノールに極めて可溶であ
る。Ｑチップは加熱しない未乾燥コーティング上でこす
ったときは容易に黒変した。

【０１４５】実施例２ 導電性層をカーボンブラック／ポリマーで分散液からコ
ーティングした。この分散液は2.１ｇのＭＡＧＭＥ−ビ
ニルピロリドンコポリマー（３３：６７モル比）を２1.
５ｇのドワノールＰＭと0.５ｇのジメチルアミノエタノ
ールの溶媒混合物中に溶解することによって調製した。
0.３ｇのカーボンブラック（バルカンＸＣ−７２Ｒ、ｐ
Ｈ＝5.７、キャボット社より入手できる）と７０ｇのス
テンレススチール球（3.１７５mm径）を溶液に加えた。
分散液を薄いポリエチレン テレフタレート シートに
メイヤー棒（＃８）でコーティングした。コーティング
を１３５℃で２時間乾燥させた。乾燥コーティングを光
透過顕微鏡で検査し、１μｍ以下の粒度を有するカーボ
ンブラック粒子を含有していることを見い出した（実施
例１で述べたのと同様な品質）。コーティングは白色光
に対して１７％の透過性を有する半透明であり、５×１
０⁴ オーム／Ｓｑ．の抵抗を有していた。このコーティ
ングの架橋度をコーティング表面をメタノール溶媒で湿
したＱチップでこすることによって試験した。Ｑチップ
はこすったときに黒変しなかった。

【０１４６】実施例３ 導電性層をカーボンブラック／ポリマーで分散液からコ
ーティングできる。分散液は実施例２で記載したのと同
じ方法で調製できる。単なる違いはＭＡＧＭＥ−ビニル
ピロリドンコポリマー（３３：６７モル比）をｎ−フェ
ニルマレイミド−スチレンコポリマーおよびビスフェノ
ールＡで置換えたことである。ｎ−フェニルマレイミド
−スチレンコポリマー対ビスフェノールＡの重量比は６
０モル％のマレイミド単位対２０モル％のビスフェノー
ルＡであった。この分散液は実施例２で述べたのと同じ
方法でコーティングし乾燥させることができる。実施例
２で述べたのと同様の透明性、導電性および架橋性につ
いての結果が予期できる。

【０１４７】実施例４ 導電性層を修正分散液調製物から実施例１で述べたのと
同じ方法でコーティングした。修正分散液は2.１ｇのＭ
ＡＧＭＥ−ビニルピロリドンコポリマーを２１ｇのドワ
ノールＰＭ溶媒と２ｇのジメチルアミノエタノールとか
らなる溶媒混合物に溶解し次いで0.５１ｇのＮ，Ｎ′−
ビス（３″−ヒドロキシフェニル）−〔１，１′−ビフ
ェニル〕−４，４′−ジアミン（ＢＨＢＤ）を加えるこ
とによって調製した。Ｎ，Ｎ′−ビス（３″−ヒドロキ
シフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４″−
ジアミンの溶解後、0.５３ｇのカーボンブラック（Ｃ−
９７５ウルトラ）と７０ｇの１／８インチ（3.１７５m
m）のステンレス スチール球を加え、混合物を９０分
間ペイントシェーカー中で分散させた。次いで、分散液
をさらに２０ｇのドワノールＰＭを加えることによって
希釈した。希釈溶液をその後５μｍフィルターで濾過
し、薄いポリエチレン テレフタレート シート上に５
ミル（１２７μｍ）の空隙を有する延伸棒でコーティン
グした。コーティングを１３５℃で1.５時間乾燥させ架
橋させた。コーティングの抵抗を種々の温度および湿度
で４点プローブ抵抗測定装置で測定した。コーティング
の抵抗は温度と湿度に実際に依存していた。修正および
非修正コーティングによる比較装置を表３に示す。

【０１４８】

【表３】 ９５重量％以上のＮ，Ｎ′−ビス（３″−ヒドロキシフ
ェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４″−ジア
ミンがＭＡＧＭＥ−ビニルピロリドンポリマーに加熱後
結合していることが分った。その試験は次の溶液を調製
することによって行った：0.８００４ｇのＭＡＧＭＥ−
ビニルピロリドンポリマー、0.２０８９ｇのＮ，Ｎ′−
ビス（３″−ヒドロキシフェニル）−〔１，１′−ビフ
ェニル〕−４，４′−ジアミン、８ｇのドワノールＰＭ
および0.７６ｇのジメチルアミノエタノール。0.３５ｇ
の調製溶液を２つの２５cc容量フラスコの各々に秤量し
て入れた。上記Ｎ，Ｎ′−ビス（３″−ヒドロキシフェ
ニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミ
ン、ＭＡＧＭＥ−ビニルピロリドンおよび溶媒比は基平
面コーティングで使用できる典型的な濃度範囲であっ
た。１つのフラスコを１３５℃で1.５時間加熱し、もう
１つのフラスコを周囲条件でオーバーナイト真空炉中で
乾燥させた。２５ccのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を
各フラスコに再び加えた。各フラスコをオーバーナイト
放置して未結合Ｎ，Ｎ′−ビス（３″−ヒドロキシフェ
ニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４″−ジアミ
ンを抽出させた。次いで、溶液をピペットで出し、可視
吸収スペクトルを試験した。ＴＨＦ中のＮ，Ｎ′−ビス
（３″−ヒドロキシフェニル）−〔１，１′−ビフェニ
ル〕−４，４″−ジアミンは２４０〜４００nmにおいて
３つの異なるピークを示した。吸光係数を各ピークにお
いて既知濃度のＮ，Ｎ′−ビス（３″−ヒドロキシフェ
ニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４″−ジアミ
ン／ＴＨＦ溶液から決定した。２つの試験フラスコの抽
出Ｎ，Ｎ′−ビス（３″−ヒドロキシフェニル）−
〔１，１′−ビフェニル〕−４，４″−ジアミン濃度を
吸収ピーク高と吸光係数を測定することによって決定し
た。結果は、加熱処理なしでは、６５重量％のＮ，Ｎ′
−ビス（３″−ヒドロキシフェニル）−〔１，１′−ビ
フェニル〕−４，４″−ジアミンを抽出したが、加熱処
理混合物からは３重量％以下のＮ，Ｎ′−ビス（３″−
ヒドロキシフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−
４，４″−ジアミンしか抽出されなかったことを示し
た。従って、殆んどのＮ，Ｎ′−ビス（３″−ヒドロキ
シフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４″−
ジアミンはそのような加熱処理によってＭＡＧＭＥ−ビ
ニルピロリドンに化学的に結合しており、後のコーティ
ング中に混合し得ずまた低表面帯電のような電気的問題
も生じ得ない。

【０１４９】実施例５ ６層からなる感光体装置を製造した。導電性層は実施例
１で述べたのと同じ方法で製造した。上部の４層は別々
の溶液から順次延伸棒でコーティングした。ブロッキン
グ層はドワノールＰＭ中の６重量％はＨＥＭＡ溶液を導
電性層上に0.５ミル（１2.７μｍ）の空隙の延伸棒によ
ってコーティングすることによって製造した。このコー
ティングは送風循環炉中で１１０℃で１時間乾燥させ
た。乾燥コーティングは約１μｍの厚さを有していた。
接着層はポリ−４−ビニルピロリドン（４−ＰＶＰｙ）
溶液から0.５ミル（１2.７μｍ）空隙の延伸棒でコーテ
ィングした。４−ＰＶＰｙ溶液は0.１２ｇの４−ＰＶＰ
ｙ（レイルレン４２００、レイリータール アンド ケ
ミカル社より入手できる）を１7.８９ｇのイソブタノー
ルと1.９９ｇのイソプラパノール中に溶解させることに
よって調製した。４−ＰＶＰｙ接着コーティングは周囲
温度で１時間次いで送風循環炉中で１００℃、１時間乾
燥させた。乾燥コーティングは0.０６μｍの厚さを有し
ていた。２8.５重量％の三方晶セレン、１６重量％の
Ｎ，Ｎ′−ビス（３″−メチルフェニル）−〔１，１′
−ビフェニル〕−４，４″−ジアミンおよび５5.５重量
％のＰＶＫを含む厚さ１μｍの光生成層は１：１重量比
のＴＨＦとトルエン溶媒混合物中の１３％総固形分を有
する分散液から0.５ミル（１2.７μｍ）延伸棒空隙によ
ってコーティングした。このコーティングは１００℃で
１時間乾燥させた。厚さ２８μｍを有する輸送層は４０
重量％のＮ，Ｎ′−ビス（３″−メチルフェニル）−
〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミンと６０
重量％のマクロロンポリカーボネート５７０５を含んで
いた。このコーティングは４ミル（１０1.６μｍ）の延
伸棒空隙で4.２ｇのポリカーボネート（マクロロン５７
０５、バイエル社より入手できる）、2.８ｇのＮ，Ｎ′
−ビス（３″−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェ
ニル〕−４，４″−ジアミンおよび４０ｇの塩化メチレ
ンからなる溶液からコーティングした。コーティングは
周囲温度で１時間次いで送風循環炉中で５０℃〜１１０
℃で２時間ゆっくりと、さらに１１０℃で２０分間乾燥
させた。

【０１５０】得られた装置をサイクル スキャナーで２
００サイクル周囲条件（２0.５℃および３３％相対湿
度）で電気的に試験した。装置を１４０ナノクーロン／
cm² のコロナ電流密度で３秒／スキャナーサイクルの速
度で負にコロナ帯電させた。キセノンランプを消去に用
いた。光誘起放電曲線も５５０nmの波長で測定した。帯
電および消去後の表面電位、および感光度値を表４に示
す。

【０１５１】 表 ４ Ｖ Ｖ Ｖ 感光度 （帯電後0.19秒）（帯電後1.13秒）（消去後） (V.cm²/エルク゛) １回目のサイクル 1,５００ 1,４４０ ６ 測定せず ２回目のサイクル 1,５００ 1,４８０ ６ 測定せず 200 回目のサイクル 1,５６０ 1,５０１ ６ １６８

【０１５２】装置は極めて良好な帯電性（〜５０Ｖ／μ
ｍ帯電レベル）、消去後の低残留電圧、良好な感光性と
サイクル安定性を示した。

【０１５３】実施例６ 実施例５で製造した装置と同様な構造を有する感光体装
置を製造できる。導電性層、ブロッキング層、発生体層
および電荷輸送層は実施例５で述べたのと同じ方法でコ
ーティングできる。しかしながら、接着層は0.５ｇのポ
リエステル（４９０００、Ｅ．Ｉ．デュポン社より入手
できる）、７０ｇのＴＨＦおよび２9.５ｇのシクロヘキ
サノンからなる溶液から0.５ミル（１2.７μｍ）空隙延
伸棒でコーティングすべきである。コーティングは１０
０℃で１５分間乾燥すべきである。装置は実施例５で述
べたのと同じ方法で電気的に試験できる。実施例５で示
した結果と同じように帯電および消去後の表面電位、お
よび感光度値についての結果を得ることができる。

【０１５４】実施例７ 実施例６で記載した装置と同じような構造を有する２つ
の感光体装置を製造できる。導電性層、ブロッキング層
および輸送層は実施例６で述べたのと同じ方法で製造で
きる。単なる違いはこれら２つの装置が接着層を有さず
異なる光生成層を有することである。装置の１つはフェ
ノキシポリマー〔ユニオン カーバイド社からのＰＫＨ
Ｈ（８５０００ＭＷ）〕中のセレン粒子分散体からコー
ティングした光生成層を有する。この分散体は3.２９ｇ
のＰＫＨＨを１7.８５ｇのシクロヘキサンと１8.５８ｇ
のアセトンの溶媒混合物中に４オンスびん中で溶解する
ことによって調製できる。6.５８ｇのセレン粒子と１０
０ｇのステンレススチール球（１／８インチ）をこの溶
液に加えることができる。混合物は５日間ロールミリン
グできる。この光生成層はこの分散液から0.５ミル（１
2.７μｍ）空隙延伸棒でコーティングし、１１０℃で１
時間乾燥することができる。もう１つの装置はポリビニ
ル ブチラール（Ｂ−７６、モンサント ケミカル社よ
り入手できる）中のセレン粒子分散体からコーティング
した光生成層を有するよう製造すべきである。分散体は
0.７１ｇのＢ−７６を１２ｇのトルエンと４ｇのＴＨＦ
の溶媒混合物中に２オンスびん中で溶解させることによ
って調製できる。1.３４ｇのセレン粒子と１００ｇのス
チール球（１／８インチ）をこの溶液に加えることがで
きる。混合物は５日間ロールミリングし等重量のトルエ
ン／ＴＨＦ混合物（３／１重量比）を加えることによっ
て希釈できる。この層はこの分散液から0.５ミル（１2.
７μｍ）空隙の延伸棒でコーティングし１１０℃で１時
間乾燥できる。装置は実施例６で述べたのと同じ方法で
電気試験することができる。実施例６で示した結果と同
じような帯電および消去後の表面電位と感光度値につい
ての結果を得ることができる。

【０１５５】実施例８ 実施例７に記載した装置と同様な構造を有する２つの感
光体装置を製造できる。単なる違いはこれら２つの装置
が異なるブロッキング層を有することである。ブロッキ
ング層は実施例７で述べたのと同じ方法で製造できる。
単なる違いはコーティングの調製に用いるポリマーと溶
媒である。ポリビニルアルコールポリマーと水をＨＥＭ
ＡとドワノールＰＭ溶媒の代りに用いる。導電性層、光
生成層および輸送層は実施例７で述べたのと同じ方法で
製造する。装置は実施例６で述べたのと同じ方法で電気
的に試験することができる。実施例７の結果と同様な結
果が得られる。

【０１５６】実施例９ 実施例７に記載した装置と同様な構造を有する２つの感
光体装置を製造できる。単なる違いはこれら２つの装置
が異なるブロッキング層を有することである。ブロッキ
ング層は実施例７で述べたのと同じ方法で製造できる。
単なる違いはコーティングの調製に用いるポリマーと溶
媒である。ゼラチンポリマーと水をＨＥＭＡとドワノー
ルＰＭ溶媒の代りに用いることができる。。導電性層、
光生成層および輸送層は実施例７で述べたのと同じ方法
で製造する。装置は実施例７で述べたのと同じ方法で電
気的に試験できる。実施例７の結果と同様な結果が得ら
れる。

【０１５７】実施例１０ 実施例７で記載した発生体層としてフェノキシポリマー
〔ＰＫＨＨ（８５０００ＭＷ）、ユニオン カーバイド
社より入手できる〕中に分散させたセレン粒子を含む装
置と同様な構造を有する感光体装置を試験することがで
きる。すべての層は実施例７で述べた方法と同じ方法で
製造できる。単なる違いは導電性層とブロッキング層の
乾燥条件である。導電性層は９０℃で１時間だけ乾燥さ
せる。導電性層は加熱処理後部分架橋するだけである。
導電性層はメタノール溶媒を湿したＱチップで１部ふき
取られる。ＨＥＭＡブロッキング層はコーティング後１
３５℃で1.５時間乾燥する。ブロッキング層を乾燥させ
たのち、導電性層はブロッキング層に架橋し結合する。
ブロッキング層と導電性層の接着は増大する。装置は同
様な電気試験を行ったのち実施例７の装置と同様の電気
的性質を有している。

【０１５８】実施例１１ 実施例７で記載した発生体層としてポリビニルブチラー
ルポリマー〔Ｂ−７６、モンサント ケミカル社より入
手できる〕中に分散させたセレン粒子を含む装置と同様
の構造を有する感光体装置を試験することができる。単
なる違いは導電層およびブロッキング層の処方とポリエ
チレン テレフタレート シートの処理である。ポリエ
チレン テレフタレート シートはコロナ処理する。カ
ーボンブラック分散液は1.０２９ｇのＭＡＧＭＥ−ビニ
ルピロリドン（３３：６７モル比）と1.０２９ｇのＭＡ
ＧＭＥ−酢酸ビニル（５０：５０モル比）を１０ｇのジ
メチルホルムアミド（ＤＭＦ）と５ｇのドワノールＰＭ
の溶媒混合物中に溶解させることによって調製できる。
この溶液に0.５４ｇのカーボンブラック（Ｃ−９７５ウ
ルトラ）と７０ｇの１／８インチスチール球を加えるこ
とができる。次いで、混合物をペイントシェーカー中で
1.５時間振とうさせることができる。得られた分散液を
コロナ処理ポリエチレン テレフタレート シート上に
＃１４メイヤー棒でコーティングできる。コーティング
は１３５℃で1.５時間乾燥できる。

【０１５９】電荷発生体層はポリビニル ブチラール
（モンサント ケミカル社からのＢ−７６）中のセレン
分散体からコーティングできる。この分散体は1.８８ｇ
のＢ−７６を１２ｇのトルエンと４ｇのＴＨＦの溶媒混
合物中に２オンスびん中で溶解させることによって調製
できる。1.８８ｇのセレン粒子と１００ｇのスチール球
（１／８インチ）をこの溶液に加える。混合物は５日間
ロールミリングレ、等重量のトルエン／ＴＨＦ混合物
（３／１重量比）を加えることによって希釈できる。層
はこの分散液から0.５ミル（１2.７μｍ）空隙延伸棒に
よってコーティングし１３５℃で２０分間乾燥できる。
得られた装置は実施例６で述べたのと同じ方法で電気的
に試験できる。良好な帯電性、低暗減衰、低残留電圧お
よび良好な感度が得られる。

【０１６０】この装置はまたインストロン（Instron ）
装置によってはがし試験を行うこともできる。導電性基
平面と光生成層間および導電性基平面とコロナ処理基体
間の接着力は導電性層バインダー中のＭＡＧＭＥ−酢酸
ビニルの存在によりこのＭＡＧＭＥ−酢酸ビニルを含ま
ない装置（実施例１で用いた導電性層）に比し増大して
いることが予期できる。

【０１６１】実施例１２ 実施例１１で記載した装置と同様の構造を有する感光体
装置を製造できる。基体層を除くすべての層は実施例１
１で記載した方法と同じ方法で製造できるが、使用する
基体層はポリエチレン テレフタレート ドラムであり
得る。得られた装置は実施例１１と同じ方法で電気的に
試験できる。実施例１１で示したのと同様な結果が得ら
れる。

【０１６２】実施例１３ 実施例７で記載した発生体層として、フェノキシポリマ
ー〔ＰＫＨＨ（８５０００ＭＷ）、ユニオン カーバイ
ド社〕中のセレン粒子分散体を含む装置と同様の構造を
有する感光体装置を製造できる。発生体層を除くすべて
の層は実施例７で記載した方法と同じ方法で製造する。
単なる違いは接着層をポリエチレン テレフタレート基
体と導電性層の間に形成させることである。接着層は６
ｇのアセチルアセトン酸チタニウム（Ｅ．Ｉ．デュポン
社からのチゾールＴＡＡ）を４１７ｇのＴＨＦと１７７
ｇのシクロヘキサノン中に溶解させることによって製造
できる。この溶液をポリエチレン テレフタレート シ
ート上に0.５ミル（１2.７μｍ）を空隙延伸棒でコーテ
ィングできる。コーティングは１１０℃で２０分間乾燥
できる。得られた装置は実施例６で記載したのと同じ方
法で電気的に試験できる。装置はまたインストロン装置
によりはがし試験することもできる。導電性基平面とポ
リエチレン テレフタレート基体間の結合を破壊するの
必要な力は約１０ｇ／cm以上のようである。

【０１６３】実施例１４ 実施例１１で記載した装置と同様の構造を有する２つの
感光体装置を製造できる。単なる違いは導電性層を架橋
させる条件である。

【０１６４】装置No. １は次のようにして調製したカー
ボンブラック分散液からコーティングした導電性層を有
する：1.０２９ｇのＭＡＧＭＥ−ビニルピロリドン（３
３：６７モル比）と1.０２９ｇのＭＡＧＭＥ−酢酸ビニ
ル（５０：５０モル比）を１０ｇのＤＭＦと５ｇのドワ
ノールＰＭとの溶媒混合物中に溶解させた。この溶液
に、0.０２ｇのｐ−トルエンスルホン酸、0.５４ｇのカ
ーボンブラック（Ｃ−９７５ウルトラ）および７０ｇの
１／８インチ（3.１７５mm）スチール球を加えることが
できる。次に混合物をペイントシェーカー中で1.５時間
振とうすることができる。得られた分散液はその後コロ
ナ処理ポリエチレン テレフタレート上にマイヤー棒
（＃１４）でコーティングできる。この導電性層は１３
５℃で1.５時間乾燥させる。

【０１６５】装置No. ２は実施例１１で記載したものと
同一の分散液調製物からコーティングした導電性を有す
る。装置No. ２の導電性コーティングは９０℃で１時間
乾燥させる、従って、部分架橋するだけである。これら
の装置は実施例１１で記載したのと同じ方法で電気的に
試験できる。両方の装置において良好な電気的性質が得
られる。導電性層とブロッキング層の接着は装置２にお
けるよりも装置１において強いようである。

【０１６６】実施例１５ 実施例１１で記載した発生体層としてポリビニル ブチ
ラールポリマー（Ｂ−７６、モンサント ケミカル社よ
り入手できる）中に分散させたセレン粒子を含む装置と
同様の構造を有する感光体装置を製造できる。基平面は
カーボンブラック分散液を用いてスプレーコーティング
できる。分散液は１3.２ｇのＭＡＧＭＥ−ビニルピロリ
ドンと１3.２ｇのＭＡＧＭＥ−酢酸ビニルを９７ｇのＤ
ＭＦと４９ｇのドワノールＰＭ中に溶解させることによ
って調製できる。8.２５ｇのカーボンブラック（Ｃ−９
７５ウルトラ）と５００ｇのスチール球を加える。混合
物を５日間ロールミリングする。次いで、分散液を２８
μｍフィルターで濾過し、９０ｇのＴＨＦと９５ｇのド
ワノールＰＭとで希釈する。希釈分散液は金属ドラム上
に取り付けたポリエチレン テレフタレート シート上
にスプレーコーティングできる。ポリエチレン テレフ
タレート シートは、実施例５で記載したのと同じ方法
で、ポリエステル樹脂層（４９０００、Ｅ．Ｉ．デュポ
ン社から入手できる）を前以って引延しコーティングで
きる。導電性コーティングはその後１３５℃で１時間乾
燥できる。コーティングは約１０⁴ オーム／Ｓｑ．の抵
抗値を有すべきである。約0.８μｍの厚さを有するＨＥ
ＭＡブロッキング層もスプレーコーティングして１１０
℃で１時間乾燥できる。発生体層はポリエステル樹脂
（ＰＥ−１００、グッドイヤー ケミカル社より入手で
きる）中に分散させたバナジル フタロシアニンから調
製した分散液からスプレーコーティングできる。発生体
層は0.７４μｍの厚さを有する。発明体層は１２５℃で
３０分間乾燥できる。輸送層は４０重量％のＮ，Ｎ′−
ビス（３″−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニ
ル〕−４，４″−ジアミンと６０重量％のポリカーボネ
ート（メルロン、モーベイケミカル社から入手できる）
との固形分を有する塩化メチレン／１，１，２トリクロ
ロエタン溶媒混合物からスプレーできる。輸送層は室温
〜１３５℃で１時間次いで１３５℃で２０分間乾燥でき
る。得られた装置は実施例６で記載したのと同じ方法で
電気的に試験できる。光放電曲線は８２５nmの波長を有
する露光で測定する。良好な表面帯電性、低暗減衰およ
び良好な感度が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 コンスタンス ジェイ ソーントン アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14519 オンタリオ トンプソン トレ イル 7203 (72)発明者 ジョセフ マンミノ アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14526 ペンフィールド ベラ ドライ ヴ 59 (72)発明者 ロバート シー ユー イュー アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14580 ウェブスター ヒデン ヴァリ ー トレイル 1169 (72)発明者 ヴィンセント イー ハミルトン アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14605 ロチェスター イースト メイ ン ストリート 699 アパートメント 310 (72)発明者 ウィリアム ダブリュー リンバーグ アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14526 ペンフィールド クレアヴィュ ー ドライヴ 66 (72)発明者 シンディー チェン アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14625 ロチェスター ベスナル グリ ーン ８ (56)参考文献 特開 昭62−296145（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−93063（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−63853（ＪＰ，Ａ)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基体を用意し、この基体に、溶媒中に溶
   解させたフィルム形成性ポリマーを含む塩基性溶液中の
   約１μｍ以下の平均粒度を有しかつ酸性または中性外表
   面を有する導電性粒子の分散体を含むコーティングを塗
   布し、このコーティングを乾燥させて上記溶媒を除去し
   連続半透明導電性層を形成させることを特徴とする連続
   半透明導電性層を含む感光体の製造方法。
2. 【請求項２】 連続半透明導電性層をコーティングした
   基体を含み、この層がフィルム形成性ポリマーを含む連
   続塩基性マトリックス中に分散させた約１μｍ以下の平
   均粒度を有しかつ酸性または中性外表面を有する導電性
   粒子を含むことを特徴とする感光体。