JP2551425B2 - 透過型液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
透過型液晶表示装置の製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液晶を用いた表示装置の製造方法に関する
ものであり、特に透過型液晶表示装置の新規な製造方法
を提案するものである。
ものであり、特に透過型液晶表示装置の新規な製造方法
を提案するものである。
液晶表示装置は、微少電流で駆動できるため、腕時計
などの携帯用装置には最も有用な方式であるが、その働
きは、光透過率を制御するシャッタ作用であり、自己発
色型デスプレーのような高いコントラストを得ることは
出来ない。これに対して携帯用テレビには透過型の液晶
表示装置を用い背後照明方式により、必要な光量とコン
トラストを得ている。この方式は、光量が自由に選べる
こととフィルターの選択により所望の色相を得ることが
容易であるという特長があり、商用電源，カーバッテリ
ーが使用できる分野での利用に適している。
などの携帯用装置には最も有用な方式であるが、その働
きは、光透過率を制御するシャッタ作用であり、自己発
色型デスプレーのような高いコントラストを得ることは
出来ない。これに対して携帯用テレビには透過型の液晶
表示装置を用い背後照明方式により、必要な光量とコン
トラストを得ている。この方式は、光量が自由に選べる
こととフィルターの選択により所望の色相を得ることが
容易であるという特長があり、商用電源，カーバッテリ
ーが使用できる分野での利用に適している。
しかし、液晶自身の遮光能力は不十分なので照明光が
強い場合は背後が明るくなり、十分なコントラストを得
ることが出来ない。これを解決する方法として背後の遮
光用マスクとして金属あるいは金属酸化物の蒸着層を形
成してコントラストを改善する方法が知られている。
強い場合は背後が明るくなり、十分なコントラストを得
ることが出来ない。これを解決する方法として背後の遮
光用マスクとして金属あるいは金属酸化物の蒸着層を形
成してコントラストを改善する方法が知られている。
しかし、この方法は金属層を蒸着したあと、該層のパ
ターンニングのためにフォトエッチング工程が必要であ
り、また、下層の透明電極パターンに悪影響を与えない
ような条件が必要である。従って、単純で安価な遮光用
マスクの製造方法が切望されていた。
ターンニングのためにフォトエッチング工程が必要であ
り、また、下層の透明電極パターンに悪影響を与えない
ような条件が必要である。従って、単純で安価な遮光用
マスクの製造方法が切望されていた。
本発明は、斯かる事情に鑑みてなされたものであり、
光不溶化型感光性組成物を用いることにより透明電極パ
ターン等に影響を及ばさずに遮光用マスクが得られ、ま
た所望の表示色相を容易に得ることができる透過型液晶
表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
光不溶化型感光性組成物を用いることにより透明電極パ
ターン等に影響を及ばさずに遮光用マスクが得られ、ま
た所望の表示色相を容易に得ることができる透過型液晶
表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
第１の発明は、対向する基板間に液晶層を有し、これ
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、５から50重量％のジ
アゾ樹脂とネガ作用感光性ジアゾ化合物と高分子化合物
のバインダーとを含む光不溶化型感光性組成物を用いて
感光層を形成し、次いで該感光層を所要のパターンで露
光，現像することとし、この露光，現像の後において前
記光不溶化型感光性組成物を光不透過性とする処理を行
うことを特徴とする。
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、５から50重量％のジ
アゾ樹脂とネガ作用感光性ジアゾ化合物と高分子化合物
のバインダーとを含む光不溶化型感光性組成物を用いて
感光層を形成し、次いで該感光層を所要のパターンで露
光，現像することとし、この露光，現像の後において前
記光不溶化型感光性組成物を光不透過性とする処理を行
うことを特徴とする。
第２の発明は、対向する基板間に液晶層を有し、これ
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、５から50重量％の付
加重合性不飽和モノマと0.5から20重量％の光重合開始
剤と30から85重量％の高分子重合体のバインダーとを含
む光不溶化型感光性組成物を用いて感光層を形成し、次
いで該感光層を所要のパターンで露光，現像することと
し、この露光，現像の後において前記光不溶化型感光性
組成物を光不透過性とする処理を行うことを特徴とす
る。
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、５から50重量％の付
加重合性不飽和モノマと0.5から20重量％の光重合開始
剤と30から85重量％の高分子重合体のバインダーとを含
む光不溶化型感光性組成物を用いて感光層を形成し、次
いで該感光層を所要のパターンで露光，現像することと
し、この露光，現像の後において前記光不溶化型感光性
組成物を光不透過性とする処理を行うことを特徴とす
る。
第３の発明は、対向する基板間に液晶層を有し、これ
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、アジド化合物と、水
溶性またはアルカリ可溶性高分子化合物と、アジド基を
含むポリマーと、高分子化合物のバインダーとを含む光
不溶化型感光性組成物を用いて感光層を形成し、次いで
該感光層を所要のパターンで露光，現像することとし、
この露光，現像の後において前記光不溶化型感光性組成
物を光不透過性とする処理を行うことを特徴とする。
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、アジド化合物と、水
溶性またはアルカリ可溶性高分子化合物と、アジド基を
含むポリマーと、高分子化合物のバインダーとを含む光
不溶化型感光性組成物を用いて感光層を形成し、次いで
該感光層を所要のパターンで露光，現像することとし、
この露光，現像の後において前記光不溶化型感光性組成
物を光不透過性とする処理を行うことを特徴とする。
第４の発明は、対向する基板間に液晶層を有し、これ
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、ポリエステル化合物
及び／またはポリビニールシンナメート系感光性ポリマ
ーを含む光不溶化型感光性組成物を用いて感光層を形成
し、次いで該感光層を所要のパターンで露光、現像する
こととし、この露光、現像の後において前記光不溶化型
感光性組成物を光不透過性とする処理を行うことを特徴
とする。
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、ポリエステル化合物
及び／またはポリビニールシンナメート系感光性ポリマ
ーを含む光不溶化型感光性組成物を用いて感光層を形成
し、次いで該感光層を所要のパターンで露光、現像する
こととし、この露光、現像の後において前記光不溶化型
感光性組成物を光不透過性とする処理を行うことを特徴
とする。
第５の発明は、対向する基板間に液晶層を有し、これ
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、５から50重量％のジ
アゾ樹脂とネガ作用感光性ジアゾ化合物と高分子化合物
のバインダーと顔料又は染料とからなる光透過率低減物
質を含む光不溶化型感光性組成物を用いて感光層を形成
し、該感光層に対する前記光透過率低減物質が固形分比
で10から60重量％であり、次いで該感光層を所要のパタ
ーンで露光、現像することを特徴とする。
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、５から50重量％のジ
アゾ樹脂とネガ作用感光性ジアゾ化合物と高分子化合物
のバインダーと顔料又は染料とからなる光透過率低減物
質を含む光不溶化型感光性組成物を用いて感光層を形成
し、該感光層に対する前記光透過率低減物質が固形分比
で10から60重量％であり、次いで該感光層を所要のパタ
ーンで露光、現像することを特徴とする。
第６の発明は、対向する基板間に液晶層を有し、これ
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、５から50重量％の付
加重合性不飽和モノマと0.5から20重量％の光重合開始
剤と30から85重量％の高分子重合体のバインダーと顔料
又は染料とからなる光透過率低減物質を含む光不溶化型
感光性組成物を用いて感光層を形成し、該感光層に対す
る前記光透過率低減物質が固形分比で10から60重量％で
あり、次いで該感光層を所要のパターンで露光，現像す
ることを特徴とする。
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、５から50重量％の付
加重合性不飽和モノマと0.5から20重量％の光重合開始
剤と30から85重量％の高分子重合体のバインダーと顔料
又は染料とからなる光透過率低減物質を含む光不溶化型
感光性組成物を用いて感光層を形成し、該感光層に対す
る前記光透過率低減物質が固形分比で10から60重量％で
あり、次いで該感光層を所要のパターンで露光，現像す
ることを特徴とする。
第７の発明は、対向する基板間に液晶層を有し、これ
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、アジド化合物と水溶
性またはアルカリ可溶性高分子化合物とアジド基を含む
ポリマーと高分子化合物のバインダーと顔料又は染料と
からなる光透過率低減物質を含む光不溶化型感光性組成
物を用いて感光層を形成し、該感光層に対する前記光透
過率低減物質が固形分比で10から60重量％であり、次い
で該感光層を所要のパターンで露光，現像することを特
徴とする。
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、アジド化合物と水溶
性またはアルカリ可溶性高分子化合物とアジド基を含む
ポリマーと高分子化合物のバインダーと顔料又は染料と
からなる光透過率低減物質を含む光不溶化型感光性組成
物を用いて感光層を形成し、該感光層に対する前記光透
過率低減物質が固形分比で10から60重量％であり、次い
で該感光層を所要のパターンで露光，現像することを特
徴とする。
第８の発明は、対向する基板間に液晶層を有し、これ
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、ポリエステル化合物
及び／またはポリビニールシンナメート系感光性ポリマ
ーと顔料又は染料とからなる光透過率低減物質を含む光
不溶化型感光性組成物を用いて感光層を形成し、該感光
層に対する前記光透過率低減物質が固形分比で10から60
重量％であり、次いで該感光層を所要のパターンで露
光，現像することを特徴とする。
らの間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パタ
ーンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法に
おいて、前記遮光層の作成に際し、ポリエステル化合物
及び／またはポリビニールシンナメート系感光性ポリマ
ーと顔料又は染料とからなる光透過率低減物質を含む光
不溶化型感光性組成物を用いて感光層を形成し、該感光
層に対する前記光透過率低減物質が固形分比で10から60
重量％であり、次いで該感光層を所要のパターンで露
光，現像することを特徴とする。
第１〜４の発明にあっては、遮光層は所定の材料及び
その組成からなる光不溶化型感光性組成物を用いた感光
層を形成し、この感光層を所要のパターンで露光，現像
することで光不溶化型感光性組成物を光透過性とする処
理を行うことで作成される。
その組成からなる光不溶化型感光性組成物を用いた感光
層を形成し、この感光層を所要のパターンで露光，現像
することで光不溶化型感光性組成物を光透過性とする処
理を行うことで作成される。
また、第５〜８の発明にあっては、光不溶化型感光性
組成物に所定の材料及びその組成からなる光透過率低減
物質を含ませた感光層を形成し、これを所要のパターン
で露光，現像する。
組成物に所定の材料及びその組成からなる光透過率低減
物質を含ませた感光層を形成し、これを所要のパターン
で露光，現像する。
以下本発明をその実施例を示す図面を基づいて詳述す
る。
る。
第１図は本発明に係る透過型液晶表示装置の断面構造
図である。ガラス等よりなる透明な基板1,2が対向配置
されており、これらの外側、つまり非対向側にはネガ型
表示とするための偏光板7,8が被着されており、基板１
側の偏光板７表面にはカラー表示のためのカラーフィル
タ９が被着されている。このカラーフィルタ９側に光源
10が配され、基板２側から表示が観察される。基板1,2
上には日の字パターンを形成すべき透明電極膜を被着形
成しており基板１上の透明電極膜は第２図に示すような
セグメント電極３、基板２上の透明電極膜は第３図に示
すようなコモン電極４となっている。基板２側のコモン
電極４上及びこれが形成されていない基板２上の部分に
は第４図に示す如く日の字パターンに相応するパターン
の遮光層５が形成され、その上層を透明な配向膜６が覆
っている。基板１側のセグメント電極３上も透明な配向
膜６で覆われており、配向膜間にネマチック液晶11が配
されている。12は液晶11の収容スペースを確保するため
のスペーサである。
図である。ガラス等よりなる透明な基板1,2が対向配置
されており、これらの外側、つまり非対向側にはネガ型
表示とするための偏光板7,8が被着されており、基板１
側の偏光板７表面にはカラー表示のためのカラーフィル
タ９が被着されている。このカラーフィルタ９側に光源
10が配され、基板２側から表示が観察される。基板1,2
上には日の字パターンを形成すべき透明電極膜を被着形
成しており基板１上の透明電極膜は第２図に示すような
セグメント電極３、基板２上の透明電極膜は第３図に示
すようなコモン電極４となっている。基板２側のコモン
電極４上及びこれが形成されていない基板２上の部分に
は第４図に示す如く日の字パターンに相応するパターン
の遮光層５が形成され、その上層を透明な配向膜６が覆
っている。基板１側のセグメント電極３上も透明な配向
膜６で覆われており、配向膜間にネマチック液晶11が配
されている。12は液晶11の収容スペースを確保するため
のスペーサである。
本発明は、上記遮光層５の作成に関するものであり、
その工程を第５図に基き説明する。なお、第１〜５図に
示す構造は遮光層５上に配向膜６を設けているが、これ
を逆順とした構造にも本発明は適用できる。
その工程を第５図に基き説明する。なお、第１〜５図に
示す構造は遮光層５上に配向膜６を設けているが、これ
を逆順とした構造にも本発明は適用できる。
さて、第５図（イ）において1.1mm厚のソーダガラス
よりなる基板２の電極形成側の表面にはSiO2等のアンダ
ーコート膜（図示せず）が施される。これはナトリウム
イオンの析出を防止するためである。この基板２表面に
ITO膜をスパッタリングにて所要厚さに被着し、公知の
方法でパターニングして第５図（ロ）に示す如くコモン
電極４を形成する。
よりなる基板２の電極形成側の表面にはSiO2等のアンダ
ーコート膜（図示せず）が施される。これはナトリウム
イオンの析出を防止するためである。この基板２表面に
ITO膜をスパッタリングにて所要厚さに被着し、公知の
方法でパターニングして第５図（ロ）に示す如くコモン
電極４を形成する。
次に第５図（ハ）に示すように光不溶化型感光性組成
物に顔料等、光透過率を低下させる物質を溶解又は分散
してなる感光層50を所要厚さに塗着した。
物に顔料等、光透過率を低下させる物質を溶解又は分散
してなる感光層50を所要厚さに塗着した。
感光層50の組成は次のとおりである。なお（ ）内は
各成分の機能等を示している。
各成分の機能等を示している。
ベンジルメタアクリレート／メタアクリル酸共重合体
（バインダー） 62g 〔モル比70/30,平均分子量Σw20,000〕 ペンタエリスリトール テトラアクリレート（モノマ
ー） 38g ２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−β−ナフトチア
ゾリン（光重合開始剤） 3g ２−（ｐ−メトキシフェニル）−4,6−ビス（トリスク
ロルメチル）−ｓ−トリアジン（熱重合開始剤） 3g カーボンブラック〔例えば三菱化成製のMA−100〕（顔
料） 20g セロソルブ アセテート（溶剤） 650g 塗着後80℃で２分程度乾燥する。この感光層50に用い
る光不溶化型感光性組成物については後に詳述する。ま
た上記顔料は所望の色のものを用いればよい。
（バインダー） 62g 〔モル比70/30,平均分子量Σw20,000〕 ペンタエリスリトール テトラアクリレート（モノマ
ー） 38g ２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−β−ナフトチア
ゾリン（光重合開始剤） 3g ２−（ｐ−メトキシフェニル）−4,6−ビス（トリスク
ロルメチル）−ｓ−トリアジン（熱重合開始剤） 3g カーボンブラック〔例えば三菱化成製のMA−100〕（顔
料） 20g セロソルブ アセテート（溶剤） 650g 塗着後80℃で２分程度乾燥する。この感光層50に用い
る光不溶化型感光性組成物については後に詳述する。ま
た上記顔料は所望の色のものを用いればよい。
次に、第５図（ニ）に示すようにPVA（ポリビニルア
ルコール）膜51を感光層50上に形成する。これは感光層
の露光の際に酸素を遮断するためのものである。PVA膜5
1に用いるPVAはケン化度82％、重合度約500の５％水溶
液であり、塗着後80℃で２分程度乾燥される。
ルコール）膜51を感光層50上に形成する。これは感光層
の露光の際に酸素を遮断するためのものである。PVA膜5
1に用いるPVAはケン化度82％、重合度約500の５％水溶
液であり、塗着後80℃で２分程度乾燥される。
次いで、第５図（ホ）に示すように形成すべき遮光層
５のパターンに対応するマスク52をPVA膜51上に配して2
Kwのメタルハライドランプにて１分間程度露光する。
５のパターンに対応するマスク52をPVA膜51上に配して2
Kwのメタルハライドランプにて１分間程度露光する。
露光後直ちに70℃で５分程度加熱する。これにより現
像の際の水洗時にパターンが流出する虞れがなくなる。
なお、このような露光後の加熱工程に替えて加熱しなが
ら露光しても同効を奏するし、更に露光時間を５分間と
長くした場合も同効を奏する。最後に炭酸ナトリウムの
１％水溶液を用いて感光層50の現像を有する。露光され
た部分が不溶となっているので、第５図（ヘ）に示すよ
うにこの部分が残って遮光層５となることになる。
像の際の水洗時にパターンが流出する虞れがなくなる。
なお、このような露光後の加熱工程に替えて加熱しなが
ら露光しても同効を奏するし、更に露光時間を５分間と
長くした場合も同効を奏する。最後に炭酸ナトリウムの
１％水溶液を用いて感光層50の現像を有する。露光され
た部分が不溶となっているので、第５図（ヘ）に示すよ
うにこの部分が残って遮光層５となることになる。
その後200℃で10分間程度のポストベークを行ったあ
と、公知の方法で配向膜６を塗着形成すればよい。例え
ばポリイミドプレカーサー（日立化成性:PZX）を塗布し
乾燥後300℃で30分間程度加熱する。
と、公知の方法で配向膜６を塗着形成すればよい。例え
ばポリイミドプレカーサー（日立化成性:PZX）を塗布し
乾燥後300℃で30分間程度加熱する。
基板１側は公知の方法でセグメント電極３、配向膜６
を形成すればよく、両配向膜6,6に対して配向処理をし
た後、２つの基板1,2をスペーサ12を介して組合せ、両
者間にネマチック液晶11を注入し封止することでこの装
置が完成する。
を形成すればよく、両配向膜6,6に対して配向処理をし
た後、２つの基板1,2をスペーサ12を介して組合せ、両
者間にネマチック液晶11を注入し封止することでこの装
置が完成する。
次に、本願発明に用いる光不溶化型感光性組成物につ
き説明する。この感光性組成物は次の４つに分類され
る。
き説明する。この感光性組成物は次の４つに分類され
る。
〔１〕ジアゾ樹脂とバインダとからなる感光性組成物 ネガ作用感光性ジアゾ化合物としては、米国特許第2,
063,631号及び同第2,667,415号の各明細書に開示されて
いるジアゾニウム塩と、アルドール又はアセタールのよ
うな反応性カルボニル基を含有する有機縮合剤との反応
生成物であるジフェニルアミン−ｐ−ジアゾニウム塩と
フォルムアルデヒドとの縮合生成物（所謂感光性ジアゾ
樹脂）が好適である。この他の有用な縮合ジアゾ化合物
は特公昭49−48001号、同49−45322号、同49−45323号
の各公報等に開示されている。
063,631号及び同第2,667,415号の各明細書に開示されて
いるジアゾニウム塩と、アルドール又はアセタールのよ
うな反応性カルボニル基を含有する有機縮合剤との反応
生成物であるジフェニルアミン−ｐ−ジアゾニウム塩と
フォルムアルデヒドとの縮合生成物（所謂感光性ジアゾ
樹脂）が好適である。この他の有用な縮合ジアゾ化合物
は特公昭49−48001号、同49−45322号、同49−45323号
の各公報等に開示されている。
これらの型の感光性ジアゾ化合物は通常水溶性無機塩
の型で得られ、従って水溶液として塗布することが出来
る。また、これらの水溶性ジアゾ化合物を特公昭47−11
67号公報に開示された方法により１個またはそれ以上の
フェノール性水酸基、スルホン酸基またはその両者を有
する芳香族または脂肪族化合物と反応させ、その反応生
成物である実質的に水不溶性の感光性ジアゾ樹脂を使用
することもできる。
の型で得られ、従って水溶液として塗布することが出来
る。また、これらの水溶性ジアゾ化合物を特公昭47−11
67号公報に開示された方法により１個またはそれ以上の
フェノール性水酸基、スルホン酸基またはその両者を有
する芳香族または脂肪族化合物と反応させ、その反応生
成物である実質的に水不溶性の感光性ジアゾ樹脂を使用
することもできる。
フェノール性水酸基を有する反応物の例としては、ヒ
ドロキシベンゾフェノン、4,4−ビス（４′−ヒドロキ
シフェニル）ペンタン酸、レゾルシノール、またはレゾ
ルシノールのようなジフェノール酸であって、これらは
更に置換基を有していてもよい。ヒドロキシベンゾフェ
ノンには４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２、４−ジ
ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン、２、２′−ジヒドロキシ−４、
４′−ジメトキシベンゾフェノンまたは２、２′、４、
４′−テトラヒドロキシベンゾフェノンが含まれる。
ドロキシベンゾフェノン、4,4−ビス（４′−ヒドロキ
シフェニル）ペンタン酸、レゾルシノール、またはレゾ
ルシノールのようなジフェノール酸であって、これらは
更に置換基を有していてもよい。ヒドロキシベンゾフェ
ノンには４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２、４−ジ
ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン、２、２′−ジヒドロキシ−４、
４′−ジメトキシベンゾフェノンまたは２、２′、４、
４′−テトラヒドロキシベンゾフェノンが含まれる。
好ましいスルホン酸としては、例えばベンゼン、トル
エン、キシレン、ナフタリン、フェノール、ナフトール
及びベンゾフェノン等のスルホン酸のような芳香族スル
ホン酸、またはそれらの可溶性塩類、例えばアンモニウ
ム及びアルカリ金属塩が例示できる。スルホン酸基含有
化合物は、一般に低級アルキル、ニトロ基、ハロ基、お
よび／またはもう１つのスルホン酸基で置換されてもよ
い。このような化合物の好ましいものとしては、ベンゼ
ンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホ
ン酸、２、５−ジメチルベンゼンスルホン酸、ベンゼン
スルホン酸ナトリウム、ナフタリン−２−スルホン酸、
１−ナフトール−２（または４）−スルホン酸、２、４
−ジニトロ−１−ナフトール−７−スルホン酸、２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン
酸、ｍ（Ｐ′−アニリノフェニルアゾ）ベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、アリザリンスルホン酸、Ｏ−トイルジ
ン−ｍ−スルホン酸及びエタンスルホン酸等があげられ
る。
エン、キシレン、ナフタリン、フェノール、ナフトール
及びベンゾフェノン等のスルホン酸のような芳香族スル
ホン酸、またはそれらの可溶性塩類、例えばアンモニウ
ム及びアルカリ金属塩が例示できる。スルホン酸基含有
化合物は、一般に低級アルキル、ニトロ基、ハロ基、お
よび／またはもう１つのスルホン酸基で置換されてもよ
い。このような化合物の好ましいものとしては、ベンゼ
ンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホ
ン酸、２、５−ジメチルベンゼンスルホン酸、ベンゼン
スルホン酸ナトリウム、ナフタリン−２−スルホン酸、
１−ナフトール−２（または４）−スルホン酸、２、４
−ジニトロ−１−ナフトール−７−スルホン酸、２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン
酸、ｍ（Ｐ′−アニリノフェニルアゾ）ベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム、アリザリンスルホン酸、Ｏ−トイルジ
ン−ｍ−スルホン酸及びエタンスルホン酸等があげられ
る。
アルコールのスルホン酸エステルとその塩類もまた有
用である。このような化合物は通常アニオン性界面活性
剤として容易に入手できる。その例としてはラウリルサ
ルフェート、アルキルアリールサルフェート、ｐ−ノニ
ルフエニルサルフェート、２−フェニルエチルサルフェ
ート、イソオクチルフェノキシジエトキシエチルサルフ
ェート等のアンモニウムまたはアルカリ金属塩が上げら
れる。
用である。このような化合物は通常アニオン性界面活性
剤として容易に入手できる。その例としてはラウリルサ
ルフェート、アルキルアリールサルフェート、ｐ−ノニ
ルフエニルサルフェート、２−フェニルエチルサルフェ
ート、イソオクチルフェノキシジエトキシエチルサルフ
ェート等のアンモニウムまたはアルカリ金属塩が上げら
れる。
これらの実質的に水不溶性ジアゾ樹脂は、水溶性の感
光性ジアゾ樹脂と、前記の芳香族または脂肪族化合物の
水溶液を好ましくはほぼ等量となる量で混合することに
よって沈澱として単離される。
光性ジアゾ樹脂と、前記の芳香族または脂肪族化合物の
水溶液を好ましくはほぼ等量となる量で混合することに
よって沈澱として単離される。
また、米国特許第1,312,925号明細書に記載されてい
るジアゾ樹脂も好ましい。最も好適なジアゾ樹脂はｐ−
ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物
の２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルベン
ゼンスルホン酸塩である。
るジアゾ樹脂も好ましい。最も好適なジアゾ樹脂はｐ−
ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物
の２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルベン
ゼンスルホン酸塩である。
ジアゾ樹脂の含有量は、感光層中に５〜50重量％が適
当である。ジアゾ樹脂の量が少なくなれば感光性は当然
良化するが、経時安定性が低下する。適当のジアゾ樹脂
の量は約８〜20重量％である。
当である。ジアゾ樹脂の量が少なくなれば感光性は当然
良化するが、経時安定性が低下する。適当のジアゾ樹脂
の量は約８〜20重量％である。
一方、バインダーとしては、種々の高分子化合物が使
用され得るが、本発明においてはヒドロキシ、アミノ、
カルボン酸アミド、スルホンアミド、活性エチレン、チ
オアルコール、エポキシ等の基を含むものが好ましい。
この様な好ましいバインダーには、英国特許第1,350,52
1号明細書に記載されているシェラック、英国特許第1,4
60,978号及び米国特許第4,123,276号の各明細書に記載
されているようなヒドロキシエチルアクリレート単位ま
たはヒドロキシエチルメタアクリレート単位を主なる繰
り返し単位として含むポリマー、米国特許第3,751,257
号明細書に記されているポリアミド樹脂、英国特許第1,
074,392号明細書に記されているフェノール樹脂及び例
えばポリビニールフォルマール樹脂、ポリビニールブチ
ラール樹脂のようなポリビニールアセタール樹脂、米国
特許第3,660,097号明細書に記されている線状ポリウレ
タン樹脂、ポリビニールアルコールのフタレート化樹
脂、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンから縮合さ
れたエポキシ樹脂、ポリアミノスチレンやポリアルキル
アミノ（メタ）アクリレートのようなアミノ基を含むポ
リマー、酢酸セルロース、セルロースアルキルエーテ
ル、セルロースアセテートフタレート等のセルロース誘
導体、水溶性のポリビニールアルコール等が包含され
る。
用され得るが、本発明においてはヒドロキシ、アミノ、
カルボン酸アミド、スルホンアミド、活性エチレン、チ
オアルコール、エポキシ等の基を含むものが好ましい。
この様な好ましいバインダーには、英国特許第1,350,52
1号明細書に記載されているシェラック、英国特許第1,4
60,978号及び米国特許第4,123,276号の各明細書に記載
されているようなヒドロキシエチルアクリレート単位ま
たはヒドロキシエチルメタアクリレート単位を主なる繰
り返し単位として含むポリマー、米国特許第3,751,257
号明細書に記されているポリアミド樹脂、英国特許第1,
074,392号明細書に記されているフェノール樹脂及び例
えばポリビニールフォルマール樹脂、ポリビニールブチ
ラール樹脂のようなポリビニールアセタール樹脂、米国
特許第3,660,097号明細書に記されている線状ポリウレ
タン樹脂、ポリビニールアルコールのフタレート化樹
脂、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンから縮合さ
れたエポキシ樹脂、ポリアミノスチレンやポリアルキル
アミノ（メタ）アクリレートのようなアミノ基を含むポ
リマー、酢酸セルロース、セルロースアルキルエーテ
ル、セルロースアセテートフタレート等のセルロース誘
導体、水溶性のポリビニールアルコール等が包含され
る。
〔２〕光重合性感光性組成物 光重合性感光性組成物は、米国特許第3,549,367号明
細書等に開示されている付加重合性不飽和モノマー、光
重合開始剤およびバインダーからなる。付加重合性不飽
和モノマーは少なくとも１個の付加重合可能なエチレン
性不飽和基をもち沸点が常圧で100℃以上の化合物であ
る。例えばポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリ
レート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリ
レート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、等の
単官能のアクリレートやメタアクリレート；ポリエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロール
エタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイル
オキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエ
チル）イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロール
エタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプ
ロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレー
ト化したもの、特公昭48−41708号、特公昭50−6034
号、特開昭51−37193号公報に記載されているようなウ
レタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49
−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されている
ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）
アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類
等の多官能のアクリレートやメタアクリレートをあげる
ことができる。更に日本接着協会誌Vo1,20,No.7,300〜3
08頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介され
ているものも使用できる。使用量は、５〜50重量％好ま
しくは、10〜40重量％である。
細書等に開示されている付加重合性不飽和モノマー、光
重合開始剤およびバインダーからなる。付加重合性不飽
和モノマーは少なくとも１個の付加重合可能なエチレン
性不飽和基をもち沸点が常圧で100℃以上の化合物であ
る。例えばポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリ
レート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリ
レート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、等の
単官能のアクリレートやメタアクリレート；ポリエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロール
エタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイル
オキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエ
チル）イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロール
エタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプ
ロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレー
ト化したもの、特公昭48−41708号、特公昭50−6034
号、特開昭51−37193号公報に記載されているようなウ
レタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49
−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されている
ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）
アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類
等の多官能のアクリレートやメタアクリレートをあげる
ことができる。更に日本接着協会誌Vo1,20,No.7,300〜3
08頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介され
ているものも使用できる。使用量は、５〜50重量％好ま
しくは、10〜40重量％である。
光重合開示剤としては、米国特許第2,367,660号明細
書に開示されているビシナールポリケタルドニル化合
物、米国特許第2,367,661号および第2,367,670号明細昭
に開示されているアルファカルボニル化合物、米国特許
第2,448,828号明細書に開示されているアシロインエー
テル、米国特許第2,722,512号明細書に開示されている
アルファー炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合
物、米国特許第3,046,127号および第2,951,758号明細書
に開示されている多核キノン化合物、米国特許第3,549,
367号明細書に開示されているトリアリルイミダゾール
ダイマー/p−アミノフェニルケトンの組合せ、特開昭51
−48516号公報に開示されているベンゾチアゾール系化
合物／トリハロメチール−ｓ−トリアジン系化合物、米
国特許第4,239,850号明細書に開示されているトリハロ
メチル−ｓ−トリアジン系化合物、米国特許第4,212,97
6号明細書に記載されているオキサジアゾール化合物等
があげられる。使用量は固形分比で約0.5〜20重量％、
より好ましくは２〜15重量％が適当である。
書に開示されているビシナールポリケタルドニル化合
物、米国特許第2,367,661号および第2,367,670号明細昭
に開示されているアルファカルボニル化合物、米国特許
第2,448,828号明細書に開示されているアシロインエー
テル、米国特許第2,722,512号明細書に開示されている
アルファー炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合
物、米国特許第3,046,127号および第2,951,758号明細書
に開示されている多核キノン化合物、米国特許第3,549,
367号明細書に開示されているトリアリルイミダゾール
ダイマー/p−アミノフェニルケトンの組合せ、特開昭51
−48516号公報に開示されているベンゾチアゾール系化
合物／トリハロメチール−ｓ−トリアジン系化合物、米
国特許第4,239,850号明細書に開示されているトリハロ
メチル−ｓ−トリアジン系化合物、米国特許第4,212,97
6号明細書に記載されているオキサジアゾール化合物等
があげられる。使用量は固形分比で約0.5〜20重量％、
より好ましくは２〜15重量％が適当である。
バインダーは、モノマーに対して相溶性のある線状有
機高分子重合体で、有機溶剤に可溶であり、弱アルカリ
水溶液で現像できるものが好ましい。このような線状有
機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポ
リマー、例えば、特開昭59−44615号、特公昭54−34327
号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特公昭59
−53836号、特開昭59−71048号明細書に記載されている
ようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イ
タコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共
重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等があり、
また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘
導体がある。この他に水酸基を有するポリマーに酸無水
物を付加させたものなどが有用である。特にこれらのな
かでベンジール（メタ）アクリレート／（メタ）アクリ
ル酸共重合体やベンジル（メタ）アクリレート／（メ
タ）アクリル酸／および他のモノマーとの多元共重合体
が好適である。この他に水溶性ポリマーとして、ポリビ
ニールピロリドンやポリエチレンオキサイド、ポリビニ
ールアルコール等も有用である。また硬化被膜の強度を
あげるためにアルコール可溶性ナイロン或は２、２−ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロ
ルヒドリンのポリエーテルなども有用である。これらの
ポリマーは任意な量を混合させることが出来るが、90重
量％を越えることは形成される画像強度等の点で好まし
い結果を与えない。好ましくは30〜85重量％である。
機高分子重合体で、有機溶剤に可溶であり、弱アルカリ
水溶液で現像できるものが好ましい。このような線状有
機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポ
リマー、例えば、特開昭59−44615号、特公昭54−34327
号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特公昭59
−53836号、特開昭59−71048号明細書に記載されている
ようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イ
タコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共
重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等があり、
また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘
導体がある。この他に水酸基を有するポリマーに酸無水
物を付加させたものなどが有用である。特にこれらのな
かでベンジール（メタ）アクリレート／（メタ）アクリ
ル酸共重合体やベンジル（メタ）アクリレート／（メ
タ）アクリル酸／および他のモノマーとの多元共重合体
が好適である。この他に水溶性ポリマーとして、ポリビ
ニールピロリドンやポリエチレンオキサイド、ポリビニ
ールアルコール等も有用である。また硬化被膜の強度を
あげるためにアルコール可溶性ナイロン或は２、２−ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロ
ルヒドリンのポリエーテルなども有用である。これらの
ポリマーは任意な量を混合させることが出来るが、90重
量％を越えることは形成される画像強度等の点で好まし
い結果を与えない。好ましくは30〜85重量％である。
以上の他に、更に、熱重合防止剤を加えておくことが
好ましく、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェ
ノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロー
ル、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チ
オビス（３−メチール−６−ｔ−ブチルフェノール）、
2,2′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフ
ェノール）、２−メルカプトベンゾイミダゾール等が有
用である。
好ましく、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェ
ノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロー
ル、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チ
オビス（３−メチール−６−ｔ−ブチルフェノール）、
2,2′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフ
ェノール）、２−メルカプトベンゾイミダゾール等が有
用である。
〔３〕アジド化合物とバインダー（高分子化合物）から
なる感光性組成物 例えば、英国特許第1,235,281号、同第1,495,861号の
各明細書および特開昭51−32331号、同51−36128号公報
などに記載されているアジド化合物と水溶性またはアル
カリ可溶性高分子化合物からなる組成物の他、特開昭50
−5102号、同50−84302号、同53−12984号公報などに記
載されているアジド基を含むポリマーとバインダーとし
ての高分子化合物からなる組成物が含まれる。
なる感光性組成物 例えば、英国特許第1,235,281号、同第1,495,861号の
各明細書および特開昭51−32331号、同51−36128号公報
などに記載されているアジド化合物と水溶性またはアル
カリ可溶性高分子化合物からなる組成物の他、特開昭50
−5102号、同50−84302号、同53−12984号公報などに記
載されているアジド基を含むポリマーとバインダーとし
ての高分子化合物からなる組成物が含まれる。
〔４〕感光性ポリマー 例えば、特開昭52−96696号に開示されているポリエ
ステル化合物、英国特許第1,112,277号、同第1,313,390
号、同第1,341,004号、同第1,377,747号等の各明細書に
記載のポリビニールシンナメート系感光性ポリマーなど
が含まれる。
ステル化合物、英国特許第1,112,277号、同第1,313,390
号、同第1,341,004号、同第1,377,747号等の各明細書に
記載のポリビニールシンナメート系感光性ポリマーなど
が含まれる。
感光層50を光不透過性とするには、前述のように顔料
を分散するとか染料を溶解しておく外に光不溶化型感光
性組成物を用いてなる感光層に所望のパターンを露光
し、現像した後、染料溶液で染色することによってもよ
い。
を分散するとか染料を溶解しておく外に光不溶化型感光
性組成物を用いてなる感光層に所望のパターンを露光
し、現像した後、染料溶液で染色することによってもよ
い。
顔料や染料は、光透過率が低い金属あるいは金属酸化
物または光吸収率の高いカーボンブラック，黒色染料な
どが有用であるが、表示装置として使用する場合、光不
透過性パターンの色相も表示の一部として使うこともで
きる。その様な場合、所望の色相の顔料あるいは染料と
光不透過性の顔料を組み合わせて使うこともできる。
物または光吸収率の高いカーボンブラック，黒色染料な
どが有用であるが、表示装置として使用する場合、光不
透過性パターンの色相も表示の一部として使うこともで
きる。その様な場合、所望の色相の顔料あるいは染料と
光不透過性の顔料を組み合わせて使うこともできる。
感光層中に占める該顔料または染料の比率は、固形分
比で５〜90重量％であり、より好ましくは10〜60重量％
である。
比で５〜90重量％であり、より好ましくは10〜60重量％
である。
該感光層は、光不溶化型感光性組成物を適当な溶媒に
溶解し、該顔料を分散するか或いはそれと共に染料を溶
解した溶液をスピンナー、ホワイラー、ローラーコータ
ー、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター等により適
当な基板上に塗着する。
溶解し、該顔料を分散するか或いはそれと共に染料を溶
解した溶液をスピンナー、ホワイラー、ローラーコータ
ー、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター等により適
当な基板上に塗着する。
好ましい溶剤は、エチレングリコール モノメチルエ
ーテル、エチレングリコール モノエチルエーテル、プ
ロピレングリコール モノメチルエーテル、プロピレン
グリコール モノエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、エチレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、エチレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ル モノエチルエーテルアセテート、メチルエチルケト
ン等であり、単独または組合せで使用することができ
る。
ーテル、エチレングリコール モノエチルエーテル、プ
ロピレングリコール モノメチルエーテル、プロピレン
グリコール モノエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、エチレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、エチレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ル モノエチルエーテルアセテート、メチルエチルケト
ン等であり、単独または組合せで使用することができ
る。
溶液濃度は、１〜50重量％の範囲で利用できるが、よ
り好ましい範囲は、５〜30重量％であり、感光層の乾燥
膜厚は0.5〜５μｍが適当である。
り好ましい範囲は、５〜30重量％であり、感光層の乾燥
膜厚は0.5〜５μｍが適当である。
なお、遮光層５の形成後に配向膜６を形成するから配
向膜６の塗布剤溶液に不溶性でかつ膨潤することがな
く、高温に加熱されたときも変色，変形及び絶縁性劣化
があってはならない。特に光重合組成物によって形成さ
れた光透過性パターンは、配向膜６のためのポリイミド
プレカーサーの塗布によって、膨潤あるいは下層との密
着不良を引き起こすことがある。これは、ポリイミドプ
レカーサーの主溶媒であるＮ−メチル ピロリドン、ジ
メチルフォルムアミド、シクロヘキサノン等による膨潤
が原因と考えられる。このような場合、感光層に所望の
パターンを露光した後加熱するか、加熱しながら露光す
るか、あるいは両者の組合せ条件で露光し、加熱した後
現像するとこの欠陥は改良される。加熱温度は室温〜10
0℃、好ましくは35℃〜85℃の範囲で、加熱時間は、10
秒〜10分間であり、好ましくは、30秒〜５分間である。
この加熱は、露光時間を短縮するのにも有効であり、特
に光透過率を下げるためにカーボンブラックを分散した
感光性組成物は、それ自身の光吸収のために感光性組成
物の感光性を極めて悪化させるが、該加熱処理により露
光量を通常の1/2〜1/8程度に抑えることができる。また
イミド化工程で300〜350℃に数分間〜数10分間加熱する
と、カーボンブラックを分散した光重合性感光性組成物
から形成した遮光層５は、絶縁性不良を引き起こすこと
があるが、該加熱処理を行うことによってこの点も改良
される。
向膜６の塗布剤溶液に不溶性でかつ膨潤することがな
く、高温に加熱されたときも変色，変形及び絶縁性劣化
があってはならない。特に光重合組成物によって形成さ
れた光透過性パターンは、配向膜６のためのポリイミド
プレカーサーの塗布によって、膨潤あるいは下層との密
着不良を引き起こすことがある。これは、ポリイミドプ
レカーサーの主溶媒であるＮ−メチル ピロリドン、ジ
メチルフォルムアミド、シクロヘキサノン等による膨潤
が原因と考えられる。このような場合、感光層に所望の
パターンを露光した後加熱するか、加熱しながら露光す
るか、あるいは両者の組合せ条件で露光し、加熱した後
現像するとこの欠陥は改良される。加熱温度は室温〜10
0℃、好ましくは35℃〜85℃の範囲で、加熱時間は、10
秒〜10分間であり、好ましくは、30秒〜５分間である。
この加熱は、露光時間を短縮するのにも有効であり、特
に光透過率を下げるためにカーボンブラックを分散した
感光性組成物は、それ自身の光吸収のために感光性組成
物の感光性を極めて悪化させるが、該加熱処理により露
光量を通常の1/2〜1/8程度に抑えることができる。また
イミド化工程で300〜350℃に数分間〜数10分間加熱する
と、カーボンブラックを分散した光重合性感光性組成物
から形成した遮光層５は、絶縁性不良を引き起こすこと
があるが、該加熱処理を行うことによってこの点も改良
される。
更に必要ならば、現像後、曝光および／または加熱す
ることができる。この工程での曝光および／または加熱
処理も上記の耐溶剤性および絶縁性改良に効果がある。
曝光は、パターン露光量と同程度もしくはその数倍程度
が好ましく、特に酸素を遮断した条件で露光することが
好ましい。加熱温度は120℃以上とすることが必要であ
り、150℃〜300℃が好ましく、より好ましい範囲は180
℃〜260℃、時間は５分間から30分間程度である。
ることができる。この工程での曝光および／または加熱
処理も上記の耐溶剤性および絶縁性改良に効果がある。
曝光は、パターン露光量と同程度もしくはその数倍程度
が好ましく、特に酸素を遮断した条件で露光することが
好ましい。加熱温度は120℃以上とすることが必要であ
り、150℃〜300℃が好ましく、より好ましい範囲は180
℃〜260℃、時間は５分間から30分間程度である。
以上の如き本発明にあっては、遮光層を適正な原料及
びその組成からなる光不溶化型感光性組成物を用いた感
光層を所要のパターンで露光，現像して得ることとして
いるからフォトエッチング工程が不要となり、またこの
光不溶化型感光性組成物に適正な材料及びその組成の光
透過率低下物質を含ませることで、安価に効率よく、製
造することができ、また遮光層を所望の色にすることが
出来る等の効果がある。
びその組成からなる光不溶化型感光性組成物を用いた感
光層を所要のパターンで露光，現像して得ることとして
いるからフォトエッチング工程が不要となり、またこの
光不溶化型感光性組成物に適正な材料及びその組成の光
透過率低下物質を含ませることで、安価に効率よく、製
造することができ、また遮光層を所望の色にすることが
出来る等の効果がある。
第１図は本発明に係る透過型液晶表示装置の断面構成
図、第2,3,4図はその部分平面図、第５図は製造方法の
工程図である。 1,2……基板、3,4……電極、５……遮光層、６……配向
膜、50……感光層、51……PVA膜、52……マスク
図、第2,3,4図はその部分平面図、第５図は製造方法の
工程図である。 1,2……基板、3,4……電極、５……遮光層、６……配向
膜、50……感光層、51……PVA膜、52……マスク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−237403（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−106407（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−141502（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−14103（ＪＰ，Ａ)
Claims (14)
- 【請求項１】対向する基板間に液晶層を有し、これらの
間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パターン
の遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法におい
て、 前記遮光層の作成に際し、５から50重量％のジアゾ樹脂
とネガ作用感光性ジアゾ化合物と高分子化合物のバイン
ダーとを含む光不溶化型感光性組成物を用いて感光層を
形成し、次いで該感光層を所要のパターンで露光，現像
することとし、この露光，現像の後において前記光不溶
化型感光性組成物を光不透過性とする処理を行うことを
特徴とする透過型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項２】対向する基板間に液晶層を有し、これらの
間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パターン
の遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法におい
て、 前記遮光層の作成に際し、５から50重量％の付加重合性
不飽和モノマと0.5から20重量％の光重合開始剤と30か
ら85重量％の高分子重合体のバインダーとを含む光不溶
化型感光性組成物を用いて感光層を形成し、次いで該感
光層を所要のパターンで露光，現像することとし、この
露光，現像の後において前記光不溶化型感光性組成物を
光不透過性とする処理を行うことを特徴とする透過型液
晶表示装置の製造方法。 - 【請求項３】対応する基板間に液晶層を有し、これらの
間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パターン
の遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法におい
て、 前記遮光層の作成に際し、アジド化合物と、水溶性また
はアルカリ可溶性高分子化合物と、アジド基を含むポリ
マーと、高分子化合物のバインダーとを含む光不溶化型
感光性組成物を用いて感光層を形成し、次いで該感光層
を所要のパターンで露光，現像することとし、この露
光，現像の後において前記光不溶化型感光性組成物を光
不透過性とする処理を行うことを特徴とする透過型液晶
表示装置の製造方法。 - 【請求項４】対向する基板間に液晶層を有し、これらの
間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パターン
の遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法におい
て、 前記遮光層の作成に際し、ポリエステル化合物及び／ま
たはポリビニールシンナメート系感光性ポリマーを含む
光不溶化型感光性組成物を用いて感光層を形成し、次い
で該感光層を所要のパターンで露光，現像することと
し、この露光，現像の後において前記光不溶化型感光性
組成物を光不透過性とする処理を行うことを特徴とする
透過型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項５】前記露光後及び／又は露光中において、前
記感光層を加熱する特許請求の範囲第１項乃至第４項の
いずれかに記載の透過型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項６】前記現像後、形成されたパターンを前面曝
光する特許請求の範囲第１項乃至第４項のいずれかに記
載の透過型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項７】前記現像後、形成されたパターンを120℃
以上に加熱する特許請求の範囲第１項乃至第４項のいず
れかに記載の透過型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項８】対向する基板間に液晶層を有し、これらの
間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パターン
の遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法におい
て、 前記遮光層の作成に際し、５から50重量％のジアゾ樹脂
とネガ作用感光性ジアゾ化合物と高分子化合物のバイン
ダーと顔料又は染料とからなる光透過率低減物質を含む
光不溶化型感光性組成物を用いて感光層を形成し、該感
光層に対する前記光透過率低減物質が固形分比で10から
60重量％であり、次いで該感光層を所要のパターンで露
光、現像することを特徴とする透過型液晶表示装置の製
造方法。 - 【請求項９】対向する基板間に液晶層を有し、これらの
間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パターン
の遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法におい
て、 前記遮光層の作成に際し、５から50重量％の付加重合性
不飽和モノマと0.5から20重量％の光重合開始剤と30か
ら85重量％の高分子重合体のバインダーと顔料又は染料
とからなる光透過率低減物質を含む光不溶化型感光性組
成物を用いて感光層を形成し、該感光層に対する前記光
透過率低減物質が固形分比で10から60重量％であり、次
いで該感光層を所要のパターンで露光，現像することを
特徴とする透過型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１０】対向する基板間に液晶層を有し、これら
の間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パター
ンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法にお
いて、 前記遮光層の作成に際し、アジド化合物と水溶性または
アルカリ可溶性高分子化合物とアジド基を含むポリマー
と高分子化合物のバインダーと顔料又は染料とからなる
光透過率低減物質を含む光不溶化型感光性組成物を用い
て感光層を形成し、該感光層に対する前記光透過率低減
物質が固形分比で10から60重量％であり、次いで該感光
層を所要のパターンで露光，現像することを特徴とする
透過型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１１】対向する基板間に液晶層を有し、これら
の間に配された配向膜の基板側又は液晶側に所要パター
ンの遮光層を有する透過型液晶表示装置の製造方法にお
いて、 前記遮光層の作成に際し、ポリエステル化合物及び／ま
たはポリビニールシンナメート系感光性ポリマーと顔料
又は染料とからなる光透過率低減物質を含む光不溶化型
感光性組成物を用いて感光層を形成し、該感光層に対す
る前記光透過率低減物質が固形分比で10から60重量％で
あり、次いで該感光層を所要のパターンで露光，現像す
ることを特徴とする透過型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１２】前記露光後及び／又は露光中において、
前記感光層を加熱する特許請求の範囲第８項乃至第11項
のいずれかに記載の透過型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１３】前記現像後、形成されたパターンを前面
曝光する特許請求の範囲第８項乃至第11項のいずれかに
記載の透過型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１４】前記現像後、形成されたパターンを120
℃以上に加熱する特許請求の範囲第８項乃至第11項のい
ずれかに記載の透過型液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3409987A JP2551425B2 (ja) | 1987-02-17 | 1987-02-17 | 透過型液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3409987A JP2551425B2 (ja) | 1987-02-17 | 1987-02-17 | 透過型液晶表示装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63309916A JPS63309916A (ja) | 1988-12-19 |
| JP2551425B2 true JP2551425B2 (ja) | 1996-11-06 |
Family
ID=12404828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3409987A Expired - Fee Related JP2551425B2 (ja) | 1987-02-17 | 1987-02-17 | 透過型液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2551425B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5418094A (en) * | 1991-12-17 | 1995-05-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming a light shielding pattern |
| JP2007177179A (ja) | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Fujifilm Corp | インク、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3045149A1 (de) * | 1980-11-29 | 1982-07-01 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von reliefkopien |
| JPS59188690A (ja) * | 1983-04-12 | 1984-10-26 | 大日本スクリ−ン製造株式会社 | 多色液晶表示素子及びその製造方法 |
| JPS608303A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-17 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JPS60129707A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-11 | Agency Of Ind Science & Technol | カラーフィルター，カラー液晶表示装置およびそれらの製造方法 |
| JPS60237403A (ja) * | 1984-05-10 | 1985-11-26 | Toppan Printing Co Ltd | カラ−フィルタ−およびその製造方法 |
| JPS619644A (ja) * | 1984-06-25 | 1986-01-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS61144642A (ja) * | 1984-12-18 | 1986-07-02 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS62106407A (ja) * | 1985-11-01 | 1987-05-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示用カラ−フイルタの製造方法 |
| JPH0679088B2 (ja) * | 1985-12-16 | 1994-10-05 | 松下電器産業株式会社 | 液晶表示体用カラ−フイルタの製造法 |
-
1987
- 1987-02-17 JP JP3409987A patent/JP2551425B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63309916A (ja) | 1988-12-19 |
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