JP2544971B2 - 蒸気洗浄乾燥装置 - Google Patents
蒸気洗浄乾燥装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体製造工程における、フォトマスク、
ウェハ等、超精密洗浄を必要とする洗浄乾燥方法および
装置に関するものである。
ウェハ等、超精密洗浄を必要とする洗浄乾燥方法および
装置に関するものである。
[従来の技術] 従来の半導体製造工程等における超精密洗浄装置は、
高揮発性の媒体を、処理部の下部または側部に貯留部を
設け媒体を加熱して、蒸気を発生し、処理部全体を蒸気
雰囲気とし、被洗浄物を蒸気雰囲気中に投入して乾燥を
行なうよう構成されている。
高揮発性の媒体を、処理部の下部または側部に貯留部を
設け媒体を加熱して、蒸気を発生し、処理部全体を蒸気
雰囲気とし、被洗浄物を蒸気雰囲気中に投入して乾燥を
行なうよう構成されている。
[発明が解決しようとする課題] 上記従来例では、処理部を高濃度蒸気雰囲気に保つた
めに、次のような欠点があった。
めに、次のような欠点があった。
(1)大量の高揮発性の媒体を長時間貯留するため媒体
の純度が低下し、本来目的としている、精密洗浄を維持
しにくい。
の純度が低下し、本来目的としている、精密洗浄を維持
しにくい。
(2)大量の蒸気発生を必要とするため、大容量の加熱
部を必要とする。
部を必要とする。
(3)蒸発または揮発した媒体は、常時、冷却、凝縮し
排液するために多量の媒体を必要とする。
排液するために多量の媒体を必要とする。
(4)大量の高揮発性の媒体を加熱するために初期加熱
時間が長い。
時間が長い。
(5)水平段差のある被洗浄部には、洗浄効果が少な
い。
い。
本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたものであ
って、一定量の媒体を蒸発させつつ蒸発した媒体を被洗
浄物に噴射して洗浄し、洗浄中に常時新しい媒体蒸気を
供給可能な蒸気洗浄乾燥装置の提供を目的とする。
って、一定量の媒体を蒸発させつつ蒸発した媒体を被洗
浄物に噴射して洗浄し、洗浄中に常時新しい媒体蒸気を
供給可能な蒸気洗浄乾燥装置の提供を目的とする。
[課題を解決するための手段] 前記目的を達成するため本発明では、洗浄用蒸気発生
部と、被洗浄物を収容して洗浄および乾燥を行なう洗浄
乾燥部と、前記蒸気発生部で発生した蒸気を前記洗浄乾
燥部に供給するための蒸気導入部とを備え、前記蒸気発
生部は、蒸発室と、該蒸発室に設けた蒸発プレートと、
該蒸発プレートを加熱するための加熱手段と、蒸発させ
る媒体を前記蒸発プレート上に所定量づつ滴下するため
の媒体供給手段と、前記媒体の予熱手段とを有すること
を特徴とする。
部と、被洗浄物を収容して洗浄および乾燥を行なう洗浄
乾燥部と、前記蒸気発生部で発生した蒸気を前記洗浄乾
燥部に供給するための蒸気導入部とを備え、前記蒸気発
生部は、蒸発室と、該蒸発室に設けた蒸発プレートと、
該蒸発プレートを加熱するための加熱手段と、蒸発させ
る媒体を前記蒸発プレート上に所定量づつ滴下するため
の媒体供給手段と、前記媒体の予熱手段とを有すること
を特徴とする。
[作用] 蒸気発生部と洗浄乾燥部が分離して設けられ、蒸気発
生部の蒸気は蒸気導入管等の蒸気導入手段により洗浄乾
燥部に送られる。
生部の蒸気は蒸気導入管等の蒸気導入手段により洗浄乾
燥部に送られる。
本発明では、揮発性媒体を沸点以上、発火点以下に加
熱して蒸気を発生する蒸気発生部に対し揮発性媒体を一
定量のみ散布滴下させ、瞬間的に蒸発させる。このとき
の蒸気圧を利用して、処理部(洗浄乾燥部)に蒸気を導
入、洗浄、乾燥を行なうものであり、前記問題点を全て
解決するものである。
熱して蒸気を発生する蒸気発生部に対し揮発性媒体を一
定量のみ散布滴下させ、瞬間的に蒸発させる。このとき
の蒸気圧を利用して、処理部(洗浄乾燥部)に蒸気を導
入、洗浄、乾燥を行なうものであり、前記問題点を全て
解決するものである。
[実施例] 第1図は本発明の一実施例であるガラス板の洗浄乾燥
装置の断面図である。
装置の断面図である。
媒体供給部50は、入口バルブ1と、ガス溜り2と、予
熱ヒーター3と、出口バルブ4とにより構成される。蒸
気発生部60は、加熱ヒーター5と、蒸発プレート6と、
媒体散布ノズル7と、点滴ロート8と、これらを収容す
る蒸発室9とにより構成される。蒸気導入部70は、蒸発
室9に連通しかつ複数本に分岐した蒸気導入管10および
各蒸気導入管10の先端に設けた噴出ノズル12により構成
される。各蒸気導入管10は洗浄すべきガラス20を収容し
た洗浄乾燥室13内に臨み媒体蒸気を噴出する。蒸発室
9、蒸気導入管10および洗浄乾燥室13は保温材11で覆わ
れる。また、洗浄乾燥室13内には保温手段14が備わる。
15は上昇蒸気捕捉室、16,17は冷却手段、18,19は排液管
である。
熱ヒーター3と、出口バルブ4とにより構成される。蒸
気発生部60は、加熱ヒーター5と、蒸発プレート6と、
媒体散布ノズル7と、点滴ロート8と、これらを収容す
る蒸発室9とにより構成される。蒸気導入部70は、蒸発
室9に連通しかつ複数本に分岐した蒸気導入管10および
各蒸気導入管10の先端に設けた噴出ノズル12により構成
される。各蒸気導入管10は洗浄すべきガラス20を収容し
た洗浄乾燥室13内に臨み媒体蒸気を噴出する。蒸発室
9、蒸気導入管10および洗浄乾燥室13は保温材11で覆わ
れる。また、洗浄乾燥室13内には保温手段14が備わる。
15は上昇蒸気捕捉室、16,17は冷却手段、18,19は排液管
である。
上記構成の洗浄乾燥装置の作用は以下のとおりであ
る。バルブ4が閉じた状態でバルブ1を開くことによ
り、予熱ヒータ3に囲まれた配管内に媒体が供給され、
不活性ガス溜り2の圧力が供給源と同圧になると供給が
止まり、一定時間後にバルブ1を閉じる。蒸発プレート
6は、加熱ヒータ5により媒体の沸点以上発火点以下に
加熱される。蒸発室9および蒸気導入管10、および洗浄
乾燥室13は各々保温材11および保温手段14で媒体の沸点
より少し高い温度に保温されている。蒸気が必要な任意
時間にバルブ4を開くことにより散布ノズル7から一定
量の沸点以下に予熱された媒体が蒸発プレート6上に散
布されるとともに点滴ロート8に媒体が満たされる。蒸
気プレート6に散布された媒体は瞬間的に蒸発し蒸気導
入管10を通って洗浄乾燥室13を高濃度蒸気雰囲気にす
る。点滴ロート8に満たされた媒体は洗浄、乾燥処理中
に凝縮、排気された不足蒸気を補充すべく少量づつ蒸発
プレート6に滴下し、洗浄乾燥室13の蒸気濃度を一定時
間、一定に維持する。
る。バルブ4が閉じた状態でバルブ1を開くことによ
り、予熱ヒータ3に囲まれた配管内に媒体が供給され、
不活性ガス溜り2の圧力が供給源と同圧になると供給が
止まり、一定時間後にバルブ1を閉じる。蒸発プレート
6は、加熱ヒータ5により媒体の沸点以上発火点以下に
加熱される。蒸発室9および蒸気導入管10、および洗浄
乾燥室13は各々保温材11および保温手段14で媒体の沸点
より少し高い温度に保温されている。蒸気が必要な任意
時間にバルブ4を開くことにより散布ノズル7から一定
量の沸点以下に予熱された媒体が蒸発プレート6上に散
布されるとともに点滴ロート8に媒体が満たされる。蒸
気プレート6に散布された媒体は瞬間的に蒸発し蒸気導
入管10を通って洗浄乾燥室13を高濃度蒸気雰囲気にす
る。点滴ロート8に満たされた媒体は洗浄、乾燥処理中
に凝縮、排気された不足蒸気を補充すべく少量づつ蒸発
プレート6に滴下し、洗浄乾燥室13の蒸気濃度を一定時
間、一定に維持する。
被洗浄物20に応じて噴出ノズル12の数を変更しまたは
形状を変更することにより、媒体の蒸気圧力による洗浄
効果を変えることもできる。又、蒸気導入管10の途中に
バルブを追加して、蒸気圧力を高くすることも可能であ
る。
形状を変更することにより、媒体の蒸気圧力による洗浄
効果を変えることもできる。又、蒸気導入管10の途中に
バルブを追加して、蒸気圧力を高くすることも可能であ
る。
冷却部19は上昇蒸気を凝縮捕捉し、冷却部17は被洗浄
物20により凝縮捕捉された媒体を再蒸発させないように
冷却し、各々外気圧を考慮したU字排液管18,19で自然
排液される。
物20により凝縮捕捉された媒体を再蒸発させないように
冷却し、各々外気圧を考慮したU字排液管18,19で自然
排液される。
第2図は本発明の応用例であり、被洗浄物20を水平方
向に搬送または間欠連続搬送を可能にし、他の機構との
連結を容易にするものである。第1図の1〜11までの機
構はそのまま、第2図の応用例に接続するものであり、
第1図の構造に対し、シャッタ21,22および搬送機構2
3、被洗浄物ホルダ24を追加する。被洗浄物20は、第2
図の右、または左側のシャッタ21および22を開けて、右
または、左方向に移動可能な水平搬送機構23および被洗
浄物ホルダ24に乗せられて、洗浄乾燥室13に移動搬入さ
れる。シャッタ21および22を閉じた後、噴出ノズル12よ
り蒸気を出し、洗浄乾燥室13全体を高濃度蒸気雰囲気と
する。洗浄乾燥処理後、左右両方または片方のシャッタ
22,21を順次開けて、被洗浄物20を本装置からの取り出
し、または他の機構に搬送する。
向に搬送または間欠連続搬送を可能にし、他の機構との
連結を容易にするものである。第1図の1〜11までの機
構はそのまま、第2図の応用例に接続するものであり、
第1図の構造に対し、シャッタ21,22および搬送機構2
3、被洗浄物ホルダ24を追加する。被洗浄物20は、第2
図の右、または左側のシャッタ21および22を開けて、右
または、左方向に移動可能な水平搬送機構23および被洗
浄物ホルダ24に乗せられて、洗浄乾燥室13に移動搬入さ
れる。シャッタ21および22を閉じた後、噴出ノズル12よ
り蒸気を出し、洗浄乾燥室13全体を高濃度蒸気雰囲気と
する。洗浄乾燥処理後、左右両方または片方のシャッタ
22,21を順次開けて、被洗浄物20を本装置からの取り出
し、または他の機構に搬送する。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明では蒸気発生部と洗浄乾
燥部とを分離し一定量づつ媒体を乾燥(蒸発)させる構
成とすることにより、大量の媒体を長時間貯留加熱する
必要がなくなり、したがって、媒体を高純度に保つこと
ができ、より精密な洗浄乾燥が可能となる。また長時間
の貯留がないため、媒体の接液部を高価な石英ガラスに
する必要がなく、安価なステンレス製でも析出物を最少
限にすることができるため、製作コストを低減できる。
燥部とを分離し一定量づつ媒体を乾燥(蒸発)させる構
成とすることにより、大量の媒体を長時間貯留加熱する
必要がなくなり、したがって、媒体を高純度に保つこと
ができ、より精密な洗浄乾燥が可能となる。また長時間
の貯留がないため、媒体の接液部を高価な石英ガラスに
する必要がなく、安価なステンレス製でも析出物を最少
限にすることができるため、製作コストを低減できる。
また、媒体蒸発室は小さくてすみ、加熱容量も小さく
加熱時間も短縮され効率的な洗浄作用が達成される。
加熱時間も短縮され効率的な洗浄作用が達成される。
第1図は本発明に係る蒸気洗浄乾燥装置の断面図、第2
図は被洗浄物の水平搬送手段を備えた本発明の別の実施
例の一部断面図である。 3:予熱ヒーター、 5:加熱ヒーター、 6:蒸発プレート、 9:蒸発室、 10:蒸気導入管、 12:噴出ノズル、 13:洗浄乾燥室、 15:上昇蒸気捕捉室、 20:ガラス板、 50:媒体供給部、 60:蒸気発生部、 70:蒸気導入部。
図は被洗浄物の水平搬送手段を備えた本発明の別の実施
例の一部断面図である。 3:予熱ヒーター、 5:加熱ヒーター、 6:蒸発プレート、 9:蒸発室、 10:蒸気導入管、 12:噴出ノズル、 13:洗浄乾燥室、 15:上昇蒸気捕捉室、 20:ガラス板、 50:媒体供給部、 60:蒸気発生部、 70:蒸気導入部。
Claims (5)
- 【請求項1】洗浄用蒸気発生部と、被洗浄物を収容して
洗浄および乾燥を行なう洗浄乾燥部と、前記蒸気発生部
で発生した蒸気を前記洗浄乾燥部に供給するための蒸気
導入部とを備え、前記蒸気発生部は、蒸発室と、該蒸発
室に設けた蒸発プレートと、該蒸発プレートを加熱する
ための加熱手段と、蒸発させる媒体を前記蒸発プレート
上に所定量づつ滴下するための媒体供給手段と、前記媒
体の予熱手段とを有することを特徴とする蒸気洗浄乾燥
装置。 - 【請求項2】前記洗浄乾燥部は、洗浄乾燥室と、該洗浄
乾燥室の上方に設けた上昇蒸気捕捉室と、該上昇蒸気捕
捉室内の蒸気を凝縮させるための冷却手段と、前記洗浄
乾燥室の下部に設けた凝縮媒体の再蒸発防止用冷却手段
と、前記上昇蒸気捕捉室の蒸気の凝縮媒体および洗浄乾
燥室の蒸気の凝縮媒体を外部に排出するための排液手段
とからなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の蒸気洗浄乾燥装置。 - 【請求項3】前記蒸気導入部は、前記蒸発室に連通しか
つ複数本に分岐して前記洗浄乾燥室内に臨む蒸気導入管
と、各導入管先端のノズルからなることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の蒸気洗浄乾燥装置。 - 【請求項4】前記洗浄乾燥室の側面に開閉可能なシャッ
ターを具備した被洗浄物の出入口を設け、該出入口を通
して前記被洗浄物を搬入および搬出するための水平方向
搬送手段を備えたことを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の蒸気洗浄乾燥装置。 - 【請求項5】前記蒸発室、蒸気導入管および洗浄乾燥室
の各々は媒体蒸気の保温手段を具備したことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項から第4項までのいずれか一項
記載の蒸気洗浄乾燥装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63286748A JP2544971B2 (ja) | 1988-11-15 | 1988-11-15 | 蒸気洗浄乾燥装置 |
GB8925091A GB2224639B (en) | 1988-11-15 | 1989-11-07 | Vapor cleaning and drying method and apparatus |
NL8902810A NL8902810A (nl) | 1988-11-15 | 1989-11-14 | Dampreinigings- en drooginrichting en -werkwijze. |
FR8914930A FR2638984B1 (fr) | 1988-11-15 | 1989-11-14 | Appareil et procede de nettoyage par vapeur et sechage |
DE3937864A DE3937864C2 (de) | 1988-11-15 | 1989-11-14 | Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen und Trocknen mittels Dampf |
KR1019890016488A KR930007614B1 (ko) | 1988-11-15 | 1989-11-14 | 증기청소 및 건조방법과 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63286748A JP2544971B2 (ja) | 1988-11-15 | 1988-11-15 | 蒸気洗浄乾燥装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02133925A JPH02133925A (ja) | 1990-05-23 |
JP2544971B2 true JP2544971B2 (ja) | 1996-10-16 |
Family
ID=17708524
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63286748A Expired - Lifetime JP2544971B2 (ja) | 1988-11-15 | 1988-11-15 | 蒸気洗浄乾燥装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2544971B2 (ja) |
KR (1) | KR930007614B1 (ja) |
DE (1) | DE3937864C2 (ja) |
FR (1) | FR2638984B1 (ja) |
GB (1) | GB2224639B (ja) |
NL (1) | NL8902810A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6375758B2 (en) * | 1997-06-17 | 2002-04-23 | Tokyo Electron Limited | Cleaning and drying method and apparatus for objects to be processed |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5142873A (en) * | 1990-02-15 | 1992-09-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Vapor control system for vapor degreasing/defluxing equipment |
US5470154A (en) * | 1991-04-18 | 1995-11-28 | Osaka Sanso Kogyo Ltd. | Method of cleaning the reflector mirror in an optical dew point meter and an optical dew point meter equipped with a cleaning device |
US5351419A (en) * | 1992-07-27 | 1994-10-04 | Motorola, Inc. | Method for vapor drying |
DE102011121019A1 (de) * | 2011-12-13 | 2013-06-13 | Thermo Electron Led Gmbh | Reinigungsverfahren für den Nutzraum eines Brutschranks |
KR101395716B1 (ko) * | 2012-09-26 | 2014-05-16 | 주식회사 코디엠 | 유리기판 건조장치 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB988038A (en) * | 1962-05-14 | 1965-03-31 | Du Pont | Method and apparatus for cleaning metals and other materials with boiling solvents |
DE6610651U (de) * | 1967-04-24 | 1975-04-30 | Walter Becker | Dampfreinigungsgeraet. |
NL7010229A (ja) * | 1970-07-22 | 1972-01-12 | ||
US4569695A (en) * | 1983-04-21 | 1986-02-11 | Nec Corporation | Method of cleaning a photo-mask |
DE3509122C3 (de) * | 1985-03-14 | 1995-03-23 | Gerald Dipl Ing Harms | Verfahren zur Reinigung von Gegenständen mit Hilfe von Lösungsmitteln sowie Vorrichtung hierzu |
US4777804A (en) * | 1987-08-26 | 1988-10-18 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for easing surface particle removal by size increase |
-
1988
- 1988-11-15 JP JP63286748A patent/JP2544971B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-11-07 GB GB8925091A patent/GB2224639B/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-14 FR FR8914930A patent/FR2638984B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-14 KR KR1019890016488A patent/KR930007614B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-11-14 DE DE3937864A patent/DE3937864C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-14 NL NL8902810A patent/NL8902810A/nl not_active Application Discontinuation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6375758B2 (en) * | 1997-06-17 | 2002-04-23 | Tokyo Electron Limited | Cleaning and drying method and apparatus for objects to be processed |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2224639A (en) | 1990-05-16 |
FR2638984A1 (fr) | 1990-05-18 |
KR930007614B1 (ko) | 1993-08-14 |
GB8925091D0 (en) | 1989-12-28 |
DE3937864C2 (de) | 1994-11-24 |
GB2224639B (en) | 1993-03-24 |
KR900007493A (ko) | 1990-06-01 |
JPH02133925A (ja) | 1990-05-23 |
DE3937864A1 (de) | 1990-06-21 |
NL8902810A (nl) | 1990-06-01 |
FR2638984B1 (fr) | 1996-08-09 |
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