JP2527946B2 - フルオロエラストマ−の加硫性エラストマ−組成物 - Google Patents
フルオロエラストマ−の加硫性エラストマ−組成物Info
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- JP2527946B2 JP2527946B2 JP61265730A JP26573086A JP2527946B2 JP 2527946 B2 JP2527946 B2 JP 2527946B2 JP 61265730 A JP61265730 A JP 61265730A JP 26573086 A JP26573086 A JP 26573086A JP 2527946 B2 JP2527946 B2 JP 2527946B2
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L27/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L27/02—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08L27/12—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
- C08L27/16—Homopolymers or copolymers or vinylidene fluoride
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L71/02—Polyalkylene oxides
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、ジヒドロキシポリフルオロエーテルの類の
新規な架橋剤および該架橋剤の弗化ビニリデン基剤フル
オロエラストマー架橋における使用に関する。
新規な架橋剤および該架橋剤の弗化ビニリデン基剤フル
オロエラストマー架橋における使用に関する。
弗化ビニリデンと、エチレン性不飽和および弗素原子
少くとも１個を含有する単量体１種若しくは２種以上と
を共重合させた弗化ビニリデン共重合体を基剤とする加
硫エラストマーはよく知られており、また溶剤、潤滑
剤、燃料、酸および類似物に対し高温でも例外的な化学
安定性を要求する応用分野で広く用いられている。
少くとも１個を含有する単量体１種若しくは２種以上と
を共重合させた弗化ビニリデン共重合体を基剤とする加
硫エラストマーはよく知られており、また溶剤、潤滑
剤、燃料、酸および類似物に対し高温でも例外的な化学
安定性を要求する応用分野で広く用いられている。
かかるエラストマー重合体から得られる加硫製品は、
概ね静力学的および動力学的条件のいずれでもシールガ
スケツトとしてきわめて適切に利用され、また自動車、
航空機、ミサイル、船舶、機械ないし化学分野で、更に
は各種支持体の保護不透化で、或いはまた攻撃的化学薬
剤接触用保護布、強い熱輻射にさらされるケーブル用外
被および工業用コンテナの保護膜として利用される。
概ね静力学的および動力学的条件のいずれでもシールガ
スケツトとしてきわめて適切に利用され、また自動車、
航空機、ミサイル、船舶、機械ないし化学分野で、更に
は各種支持体の保護不透化で、或いはまた攻撃的化学薬
剤接触用保護布、強い熱輻射にさらされるケーブル用外
被および工業用コンテナの保護膜として利用される。
最新の従来技術に依れば、弗化ビニリデンを基剤とす
るフルオロエラストマーの加硫性組成物は、 （Ａ） 弗化ビニリデンと、別の、エチレン性不飽和含
有弗素化単量体との共重合体、 （Ｂ） 第四アンモニウム塩、第四ホスホニウム塩、お
よびホスホランアミン誘導体より選定される加硫促進
剤、 （Ｃ） MgOおよびCa（OH）２の如き１種若しくは２種
以上の塩基性受容体（酸の受容体である塩基性剤）およ
び、 （Ｄ） ビスフエノール構造を有する架橋剤例えばビス
フエノールAF よりなる。
るフルオロエラストマーの加硫性組成物は、 （Ａ） 弗化ビニリデンと、別の、エチレン性不飽和含
有弗素化単量体との共重合体、 （Ｂ） 第四アンモニウム塩、第四ホスホニウム塩、お
よびホスホランアミン誘導体より選定される加硫促進
剤、 （Ｃ） MgOおよびCa（OH）２の如き１種若しくは２種
以上の塩基性受容体（酸の受容体である塩基性剤）およ
び、 （Ｄ） ビスフエノール構造を有する架橋剤例えばビス
フエノールAF よりなる。
かかる組成物の例は、英国特許第1,356,344号並びに
米国特許第3,876,654号および同第4,259,463号に記され
ている。
米国特許第3,876,654号および同第4,259,463号に記され
ている。
ビスフエノールの構造を有する架橋剤の使用は、在来
の他の架橋剤と較べ、フルオロエラストマーの熱処理安
定性を高めるが、しかしながらその安定性は、熱後処理
ののちの圧縮永久歪の点でさほど高い弾性を伴わない。
の他の架橋剤と較べ、フルオロエラストマーの熱処理安
定性を高めるが、しかしながらその安定性は、熱後処理
ののちの圧縮永久歪の点でさほど高い弾性を伴わない。
また、例えば、米国特許第4,188,352号に記載される
ように他のヒドロキシル末端基含有直鎖架橋剤を用いる
ことが知られている。
ように他のヒドロキシル末端基含有直鎖架橋剤を用いる
ことが知られている。
かかる化合物の代表例はHOCH2−（CF2）３−CH2OHお
よびHOCH2−CF2−CH（CF2）３−CFHCF2CH2OHである。
よびHOCH2−CF2−CH（CF2）３−CFHCF2CH2OHである。
しかしながら、弗化ビニリデンを基剤とするフルオロ
エラストマーの架橋特性に関する総合的バランスの点で
好ましい組成物は、ビスフエノールの類特にビスフエノ
ールAFを用いることによつて取得される。
エラストマーの架橋特性に関する総合的バランスの点で
好ましい組成物は、ビスフエノールの類特にビスフエノ
ールAFを用いることによつて取得される。
而して、押出適性テストおよび圧縮に対するより恒久
的な抵抗（低い圧縮永久歪値）に関連して熱後処理に対
する安定性を改良することのできる架橋剤の開発が強く
望まれてきた。
的な抵抗（低い圧縮永久歪値）に関連して熱後処理に対
する安定性を改良することのできる架橋剤の開発が強く
望まれてきた。
然るに、予想外にまた驚くべきことに、特定のジヒド
ロキシポリフルオロエーテルを架橋剤として用いるな
ら、熱後処理ののちも、上記特性のより総合的なバラン
スを示す弗化ビニリデンを基剤とした加硫物を取得しう
るとわかつた。
ロキシポリフルオロエーテルを架橋剤として用いるな
ら、熱後処理ののちも、上記特性のより総合的なバラン
スを示す弗化ビニリデンを基剤とした加硫物を取得しう
るとわかつた。
かくして、本発明の目的は （Ｉ） フルオロポリオキシアルキレン鎖に沿いランダ
ム（statistically）に分布する（C2F4O）、（CF2O）単
位ないし、 （II） フルオロポリオキシアルキレン鎖に沿いランダ
ムに分布する（C3F6O）、（C2F4O）、（CFXO）（Ｘ＝−
Ｆ又は−CF3）単位 で示されるオキシフルオロアルキレン反復単位よりな
る化合物群から選ばれる、分子量360〜2000のジヒドロ
キシポリフルオロエーテルを提供することである。
ム（statistically）に分布する（C2F4O）、（CF2O）単
位ないし、 （II） フルオロポリオキシアルキレン鎖に沿いランダ
ムに分布する（C3F6O）、（C2F4O）、（CFXO）（Ｘ＝−
Ｆ又は−CF3）単位 で示されるオキシフルオロアルキレン反復単位よりな
る化合物群から選ばれる、分子量360〜2000のジヒドロ
キシポリフルオロエーテルを提供することである。
上記類のジオールは互いに混合した形であつてもよ
い。
い。
類（Ｉ）に属するフルオロポリオキシアルキレンジオ
ールは特に、一般式 HZ−CF2O（C2F4O）ｍ（CF2O）nCF2−ZH 〔ここで （ＤおよびＥは互いに同じか又は別異にして、−Ｈ、−
CH3および−CF3より選ばれる）、ｍおよびｎは整数にし
て好ましくはｍ＋ｎ＝２〜22範囲となる如き値であり、
m/nは0.5〜1.5である〕を有する化合物群から選ばれ
る。而して、このオキシフルオロアルキレン単位は鎖に
沿いランダムに分布している。かかる化合物は、例え
ば、米国特許第3,810,874号に記載の方法に従つて調製
することができる。
ールは特に、一般式 HZ−CF2O（C2F4O）ｍ（CF2O）nCF2−ZH 〔ここで （ＤおよびＥは互いに同じか又は別異にして、−Ｈ、−
CH3および−CF3より選ばれる）、ｍおよびｎは整数にし
て好ましくはｍ＋ｎ＝２〜22範囲となる如き値であり、
m/nは0.5〜1.5である〕を有する化合物群から選ばれ
る。而して、このオキシフルオロアルキレン単位は鎖に
沿いランダムに分布している。かかる化合物は、例え
ば、米国特許第3,810,874号に記載の方法に従つて調製
することができる。
類（II）に属する弗素化ジオールは特に、一般式 HZ−CF2O−（C3F6O）ｒ（C2F4O）ｓ（CFXO）ｔ−CF2−Z
H （ここでＸは−Ｆ又は−CF3であり、ｒ、ｓおよびｔ
は整数にして、夫々１〜３、１〜７および１〜７範囲で
あり、そしてＺは先に定義した通りである）を有する化
合物群から選ばれる。このような化合物は、米国特許第
3,665,041号に記載の如く、C3F6とC2F4との混合物を光
酸化させ、次いで米国特許第3,847,978号および同第3,8
10,874号に記載の既知方法に従つて末端基−COFを末端
基−OH含有基に転化させることにより調製することがで
きる。
H （ここでＸは−Ｆ又は−CF3であり、ｒ、ｓおよびｔ
は整数にして、夫々１〜３、１〜７および１〜７範囲で
あり、そしてＺは先に定義した通りである）を有する化
合物群から選ばれる。このような化合物は、米国特許第
3,665,041号に記載の如く、C3F6とC2F4との混合物を光
酸化させ、次いで米国特許第3,847,978号および同第3,8
10,874号に記載の既知方法に従つて末端基−COFを末端
基−OH含有基に転化させることにより調製することがで
きる。
前出の成分（Ａ）を構成するフルオロエラストマーは
一般に、弗化ビニリデンとヘキサフルオロプロペンとの
共重合体で、テトラフルオロエチレンを随意成分として
含む。
一般に、弗化ビニリデンとヘキサフルオロプロペンとの
共重合体で、テトラフルオロエチレンを随意成分として
含む。
ヘキサフルオロプロペンの代りに、クロロトリフルオ
ロエチレン、１−ヒドロペンタフルオロプロペンおよび
２−ヒドロペンタフルオロプロペンを用いることができ
る。また、これらコモノマーの混合物を用いることもで
きる。
ロエチレン、１−ヒドロペンタフルオロプロペンおよび
２−ヒドロペンタフルオロプロペンを用いることができ
る。また、これらコモノマーの混合物を用いることもで
きる。
共重合体中のテトラフルオロエチレンおよび（又は）
ヘキサフルオロプロペン単位を部分的ないし完全にペル
フルオロアルキルビニルエーテルで置換させてもよい。
ヘキサフルオロプロペン単位を部分的ないし完全にペル
フルオロアルキルビニルエーテルで置換させてもよい。
ペルフルオロアルキルビニルエーテルの量は一般に、
共重合体の総量に対し0.5〜15モル％であり、好ましく
は５モル％未満である。
共重合体の総量に対し0.5〜15モル％であり、好ましく
は５モル％未満である。
また、他の弗素化単量体であつても、エチレン型二重
結合および少くとも１個の弗素原子を含有する限りコモ
ノマーとして用いることができる。
結合および少くとも１個の弗素原子を含有する限りコモ
ノマーとして用いることができる。
化合物（Ａ）は、文献Encyclopaedia of Chem.Techno
logy〔Kirk−Othmer、第８巻（1979年）第500頁以下〕
に記載の如く、好ましくは、水性エマルジョン中随意、
米国特許第4,000,356号に記された連鎖移動剤の如き薬
剤の存在で反応させることにより製せられうる。
logy〔Kirk−Othmer、第８巻（1979年）第500頁以下〕
に記載の如く、好ましくは、水性エマルジョン中随意、
米国特許第4,000,356号に記された連鎖移動剤の如き薬
剤の存在で反応させることにより製せられうる。
特に、弗化ビニリデン40〜85モル％、ペルフルオロプ
ロペン15〜30モル％およびテトラフルオロエチレン０〜
30モル％の共重合体が好ましい。
ロペン15〜30モル％およびテトラフルオロエチレン０〜
30モル％の共重合体が好ましい。
加硫促進剤は、前記（Ｂ）で列挙した三つの類に属
し、好ましくは下記化合物である： −第四アンモニウム塩： メチルトリオクチルアンモニウム塩化物、ラウリルピ
リジニウム臭化物、ペンジルトリオクチルアンモニウム
塩化物、 −第四ホスホニウム塩： ベンジルトリフエニルホスホニウム塩化物、ベンジル
トリフエニルホスホニウムテトラフルオロ硼酸塩、メチ
ルトリオクチルホスホニウム酢酸塩、カルブエトキシメ
チルトリフエニルホスホニウム臭化物、 −ホスホルアミン誘導体又はアミノホスホニウム化合
物： １−クロロ−１−ベンジル−１−ジフエニル−Ｎ−
（ジエチル）ホスホランアミン;1−テトラフルオロポレ
ート−１−ベンジル−N,N′,N″−（ヘキサメチル）ホ
スホラントリアミン;1−ブロモ−１−ベンジル−１−フ
エニル−N,N′−（テトラエチル）ホスホランジアミ
ン。
し、好ましくは下記化合物である： −第四アンモニウム塩： メチルトリオクチルアンモニウム塩化物、ラウリルピ
リジニウム臭化物、ペンジルトリオクチルアンモニウム
塩化物、 −第四ホスホニウム塩： ベンジルトリフエニルホスホニウム塩化物、ベンジル
トリフエニルホスホニウムテトラフルオロ硼酸塩、メチ
ルトリオクチルホスホニウム酢酸塩、カルブエトキシメ
チルトリフエニルホスホニウム臭化物、 −ホスホルアミン誘導体又はアミノホスホニウム化合
物： １−クロロ−１−ベンジル−１−ジフエニル−Ｎ−
（ジエチル）ホスホランアミン;1−テトラフルオロポレ
ート−１−ベンジル−N,N′,N″−（ヘキサメチル）ホ
スホラントリアミン;1−ブロモ−１−ベンジル−１−フ
エニル−N,N′−（テトラエチル）ホスホランジアミ
ン。
成分（Ｃ）は、無機化合物例えば二価金属の酸化物
（例 ZnO、MgO、PbO、CaO）又はこれら金属の酸化物と
水酸化物との混合物、或いは米国特許第3,876,654号に
記載の如く弱酸の塩である。
（例 ZnO、MgO、PbO、CaO）又はこれら金属の酸化物と
水酸化物との混合物、或いは米国特許第3,876,654号に
記載の如く弱酸の塩である。
本発明の成分（Ｄ）は、既述の如くジヒドロキシポリ
フルオロエーテルである。
フルオロエーテルである。
一般に、弗化ビニリデン（Ａ）と既述の弗素化単量体
１種若しくは２種以上とのエラストマー共重合体100重
量部当り： −先に特定した如き二価金属酸化物１種若しくは２種以
上よりなる塩基性受容体（Ｃ）〔これは随意カチオン錯
体又はキレート形状をなし、またカルシウム、ストロン
チウムおよびバリウムの水和物並びに、カルシウム、ス
トロンチウム、バリウム、ナトリウムおよびカリウムの
炭酸塩、安息香酸塩ないし燐酸塩の如き弱酸の金属塩
（これらは随意、周知タイプの通常カチオンキレート若
しくは錯形成剤との錯体形状をなす）よりなる群から選
ばれる塩基性化合物１種若しくは２種以上を０〜10重量
部量で随意存在させうる〕は１〜40重量部で用いられ； −また、先に特定した如きジヒドロキシポリフルオロエ
ーテル（Ｄ）は１〜15重量部；および −前記類の化合物から選定される加硫促進剤（Ｂ）され
る）は0.05〜５重量部 の各割合で用いられる。
１種若しくは２種以上とのエラストマー共重合体100重
量部当り： −先に特定した如き二価金属酸化物１種若しくは２種以
上よりなる塩基性受容体（Ｃ）〔これは随意カチオン錯
体又はキレート形状をなし、またカルシウム、ストロン
チウムおよびバリウムの水和物並びに、カルシウム、ス
トロンチウム、バリウム、ナトリウムおよびカリウムの
炭酸塩、安息香酸塩ないし燐酸塩の如き弱酸の金属塩
（これらは随意、周知タイプの通常カチオンキレート若
しくは錯形成剤との錯体形状をなす）よりなる群から選
ばれる塩基性化合物１種若しくは２種以上を０〜10重量
部量で随意存在させうる〕は１〜40重量部で用いられ； −また、先に特定した如きジヒドロキシポリフルオロエ
ーテル（Ｄ）は１〜15重量部；および −前記類の化合物から選定される加硫促進剤（Ｂ）され
る）は0.05〜５重量部 の各割合で用いられる。
上記タイプの加硫性組成物は先ず該組成物を加圧下13
0〜230℃好ましくは160〜200℃の温度で0.5〜60分間好
ましくは１〜20分間加熱することよりなる方法によつて
加硫される。次いで、得られた生成物は、オーブン又は
炉内で大気圧下130〜315℃好ましくは200〜275℃の温度
で５〜48時間好ましくは10〜24時間の後加硫に付され
る。
0〜230℃好ましくは160〜200℃の温度で0.5〜60分間好
ましくは１〜20分間加熱することよりなる方法によつて
加硫される。次いで、得られた生成物は、オーブン又は
炉内で大気圧下130〜315℃好ましくは200〜275℃の温度
で５〜48時間好ましくは10〜24時間の後加硫に付され
る。
驚くべきことに、本発明の加硫性組成物は、押出成形
および後続加硫を介し、また高度自動化射出技法を用
い、いかなる形状ないし寸法の製品にも変えることがで
きる。しかも、射出成形で通常用いられる可塑化温度に
おいて、スコーチ若しくは熱間引裂現象による欠点は事
実上何ら生じない。
および後続加硫を介し、また高度自動化射出技法を用
い、いかなる形状ないし寸法の製品にも変えることがで
きる。しかも、射出成形で通常用いられる可塑化温度に
おいて、スコーチ若しくは熱間引裂現象による欠点は事
実上何ら生じない。
かかる製品は圧縮永久歪に対する安定性がすぐれ、貯
蔵時間および貯蔵温度、又は押出の如き特定加工技法の
温度を関数とするスコーチ傾向が非常に低く、熱老化に
対する安定性が高く、しかも種々の金属基材に結合し高
温でもかなりの付着力を示しうる。
蔵時間および貯蔵温度、又は押出の如き特定加工技法の
温度を関数とするスコーチ傾向が非常に低く、熱老化に
対する安定性が高く、しかも種々の金属基材に結合し高
温でもかなりの付着力を示しうる。
また、前記成分（Ａ）〜（Ｄ）を含む加硫性組成物は
金型の粘着若しくは金型汚染現象を惹起せず、それゆえ
に事実上不合格製品がなく、高い生産基準と最大限の系
統立つた加工サイクルの達成を可能にすることも観察さ
れている。
金型の粘着若しくは金型汚染現象を惹起せず、それゆえ
に事実上不合格製品がなく、高い生産基準と最大限の系
統立つた加工サイクルの達成を可能にすることも観察さ
れている。
より一般的に示えば、本発明に従つた方法は有利に
も、弗素および塩素以外の置換基を随意含有するエラス
トマータイプの弗化ビニリデン基剤弗素化重合体物質並
びに弗素化エラストマー２種以上の混合物全てに適用す
ることができる。
も、弗素および塩素以外の置換基を随意含有するエラス
トマータイプの弗化ビニリデン基剤弗素化重合体物質並
びに弗素化エラストマー２種以上の混合物全てに適用す
ることができる。
本発明に従つて加硫性組成物には、前記物質（Ａ）〜
（Ｄ）以外にカーボンブラツク、白ないし着色充填剤、
通常の可塑剤および潤滑剤例えばステアレート、アリー
ルホスフエート、ポリエーテル、ポリエステル、ポリエ
チレン、スルホン、スルホキシドその他既知の転化剤
を、弗素化エラストマーのユーザーが通常採用している
技法によつて含ませることができる。
（Ｄ）以外にカーボンブラツク、白ないし着色充填剤、
通常の可塑剤および潤滑剤例えばステアレート、アリー
ルホスフエート、ポリエーテル、ポリエステル、ポリエ
チレン、スルホン、スルホキシドその他既知の転化剤
を、弗素化エラストマーのユーザーが通常採用している
技法によつて含ませることができる。
本発明に従つた加硫性組成物の成分は、個々に或いは
予備混合して、弗化ビニリデンのエラストマー共重合体
へ容易に混入させることができる。
予備混合して、弗化ビニリデンのエラストマー共重合体
へ容易に混入させることができる。
このようにして、実際の加硫に先立つ予備加工段階
（前加硫）でスコーチの危険を何ら伴うことなく通常の
加工温度において高い加硫速度に到達することが可能で
ある。
（前加硫）でスコーチの危険を何ら伴うことなく通常の
加工温度において高い加硫速度に到達することが可能で
ある。
本発明の別の特徴は、弗素化エラストマー製品の密閉
式金型内加圧下での加硫特にＯリングガスケツトの場合
において、望ましくない「還元モールド収縮」を完全に
排除することである。
式金型内加圧下での加硫特にＯリングガスケツトの場合
において、望ましくない「還元モールド収縮」を完全に
排除することである。
本発明に従つた方法の好ましい具体化では、弗素化エ
ラストマー（100重量部）にホスホルアミン促進剤
（Ｂ）（0.2〜２重量部）と架橋剤ジヒドロキシポリフ
ルオロエーテル（Ｄ）（２〜８重量部）を加えたあと
で、塩基性受容体（２〜10重量部）、塩基性化合物（１
〜７重量部）、不活性補強充填剤、潤滑剤、可塑剤その
他任意の添加剤が加えられる。
ラストマー（100重量部）にホスホルアミン促進剤
（Ｂ）（0.2〜２重量部）と架橋剤ジヒドロキシポリフ
ルオロエーテル（Ｄ）（２〜８重量部）を加えたあと
で、塩基性受容体（２〜10重量部）、塩基性化合物（１
〜７重量部）、不活性補強充填剤、潤滑剤、可塑剤その
他任意の添加剤が加えられる。
このように行なうことにより、混合物の各種加工段階
で或いはその貯蔵のあいだスコーチの如き望ましくない
現象を生じさせることなく、迅速且つ一様な制御性加硫
を達成することが可能となる。
で或いはその貯蔵のあいだスコーチの如き望ましくない
現象を生じさせることなく、迅速且つ一様な制御性加硫
を達成することが可能となる。
本発明の組成物から調製される加硫エラストマーは、
静力学的および動力学的条件のいずれでもシールガスケ
ツトとして利用し得、また自動車、機械、航空機分野
で、更には攻撃的化学薬剤接触用保護被服や、強力な熱
輻射にさらされるケーブルの保護外被として或いはまた
既述の類似用途で利用することができる。
静力学的および動力学的条件のいずれでもシールガスケ
ツトとして利用し得、また自動車、機械、航空機分野
で、更には攻撃的化学薬剤接触用保護被服や、強力な熱
輻射にさらされるケーブルの保護外被として或いはまた
既述の類似用途で利用することができる。
下記例は本発明を例示するためのもので、その可能な
具体化を限定するものと解されるべきでない。
具体化を限定するものと解されるべきでない。
例１〜６ 表１に掲載した例において、下記物質を用いた： フルオロエラストマー Technoflon NM（Montedison社の商品名）として知ら
れる、25℃での比重量1.8を有するCH2＝CF2/C3F6（モル
比4/1）共重合体。
れる、25℃での比重量1.8を有するCH2＝CF2/C3F6（モル
比4/1）共重合体。
促進剤１ １−クロロ−1,1−ジフエニル−ベンジル−Ｎ−ジエ
チルホスホランアミン。
チルホスホランアミン。
促進剤２ ベンジルトリフエニルホスホニウム塩化物。
ジヒドロキシポリフルオロエーテル１ 式 HOCH2CF2O（C2F4O）ｍ（CF2O）nCF2CH2OH （m/n比＝0.9）を有する平均分子量（ヒドロキシル滴定
量を基準とする）400の架橋剤。
量を基準とする）400の架橋剤。
ジヒドロキシポリフルオロエーテル２ 上記と同じ式を有する平均分子量800の化合物。
表１に記載の試験結果から、本発明の組成物は、架橋
剤としてビスフエノールAFを用いた比較例１の組成物と
較べ圧縮永久歪値が高く、275℃での老化後の熱安定性
が改善され、また押出適正テストでの向上もみられるこ
とがわかった。
剤としてビスフエノールAFを用いた比較例１の組成物と
較べ圧縮永久歪値が高く、275℃での老化後の熱安定性
が改善され、また押出適正テストでの向上もみられるこ
とがわかった。
例７（対照例） 例５と同じであるが、但しジヒドロキシフルオロエー
テル２に代えて下記化合物（ジヒドロキシポリフルオロ
エーテル３）： HOCH2−（CF2）４−Ｏ−CF（CF3）−CH2OH を使用。
テル２に代えて下記化合物（ジヒドロキシポリフルオロ
エーテル３）： HOCH2−（CF2）４−Ｏ−CF（CF3）−CH2OH を使用。
表１に記載の試験結果から、本発明の組成物は、架橋
剤としてジヒドロキシポリフルオロエーテル３を用いた
対照例７の組成物と較べモジュラス、圧縮永久歪及び熱
安定性が改善され、また別の有意な特性として低温脆性
が向上していることもわかる。
剤としてジヒドロキシポリフルオロエーテル３を用いた
対照例７の組成物と較べモジュラス、圧縮永久歪及び熱
安定性が改善され、また別の有意な特性として低温脆性
が向上していることもわかる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 //(Ｃ０８Ｌ 27/16 (Ｃ０８Ｌ 27/16 71:00） 71:00） (Ｃ０８Ｌ 27/20 (Ｃ０８Ｌ 27/20 71:00） 71:00） (56)参考文献 特開 昭59−217749（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−191725（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−156726（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−119253（ＪＰ，Ａ) 特公 昭59−30724（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (4)
- 【請求項１】加工性、圧縮永久歪および、熱後処理に対
する安定性において改良された、弗化ビニリデンとヘキ
サフルオロプロペンおよび随意成分テトラフルオロエチ
レンの共重合体よりなるフルオロエラストマーの加硫性
組成物であって、 （１）フルオロエラストマー 100重量部、 （２）下記（ａ）および（ｂ）の化合物： （ａ） HZ−CF2O−（C2F4O）ｍ（CF2O）nCF2−ZH ［ここでＺ＝−CDE−Ｏ（ＤおよびＥは互いに同じか又
は別異にして、Ｈ、CH3およびCF3より選ばれる）、ｍお
よびｎは整数であり、m/nは0.5〜1.5である］の化合物
にして、オキシフルオロアルキレン単位が鎖に沿いラン
ダムに分布している化合物、および （ｂ） HZ−CF2O−（C3F6O）ｒ（C2F4O）ｓ（CFXO）ｔ −CF2−ZH （ここでＸはＦ又はCF3であり、ｒ、ｓ、ｔは整数であ
り、Ｚは先に定義した通りである）の化合物にして、オ
キシフルオロアルキレン単位が鎖に沿いランダムに分布
している化合物の群から選ばれる、分子量360〜2000の
ジヒドロキシポリフルオロエーテルよりなる架橋剤 １
〜15重量部、 （３）第四アンモニウム塩、第四ホスホニウム塩および
ホスホランアミン誘導体よりなる群から選ばれる加硫促
進剤 0.05〜５重量部、並びに （４）塩基性受容体 １〜40重量部 よりなる加硫性組成物。 - 【請求項２】アンモニウム塩がメチルトリオクチルアン
モニウム塩化物、ラウリルピリジニウム臭化物およびベ
ンジルトリオクチルアンモニウム塩化物から選ばれる、
請求項１の加硫性組成物。 - 【請求項３】ホスホニウム塩がベンジルトリフェニルホ
スホニウム塩化物、ベンジルトリフェニルホスホニウム
テトラフルオロ硼酸塩、メチルトリオクチルホスホニウ
ム酢酸塩およびカルブエトキシメチルトリフェニルホス
ホニウム臭化物から選ばれる、請求項１の加硫性組成
物。 - 【請求項４】ホスホランアミン誘導体が１−クロロ−１
−ベンジル−１−ジフェニル−Ｎ−ジエチル−ホスホラ
ンアミン、１−テトラフルオロボレート−１−ベンジル
−N,N′,N″−ヘキサメチル−ホスホラントリアミンお
よび１−ブロモ−１−ベンジル−１−フェニル−N,N′
−テトラエチル−ホスホランジアミンから選ばれる、請
求項１の加硫性組成物。
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- 1985-11-15 IT IT22864/85A patent/IT1188202B/it active
-
1986
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|---|---|---|---|
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