JP2522165B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP2522165B2
JP2522165B2 JP5163383A JP16338393A JP2522165B2 JP 2522165 B2 JP2522165 B2 JP 2522165B2 JP 5163383 A JP5163383 A JP 5163383A JP 16338393 A JP16338393 A JP 16338393A JP 2522165 B2 JP2522165 B2 JP 2522165B2
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JP
Japan
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cap
semiconductor device
sealing
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sapphire plate
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俊道 栗原
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Nippon Electric Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16195Flat cap [not enclosing an internal cavity]

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に関し、特に
サファイアキャップを有する半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図4(a)および(b)ならびに図5
(a)および(b)を参照すると、従来の半導体装置
は、サファイアキャップ1にチタン及び金をメタライズ
されたキャップ部メタライズ18が形成されている(例
えば、特開昭60−250654号公報)。
【0003】このキャップを実際に封着する場合、図5
(a)及び(b)に示すように、キャップ部メタライズ
18が、金すず等のシールロー材7によって、セラミッ
クパッケージ10のパッケージ側壁上に形成された、パ
ッケージ側シール部メタライズ8に300℃程度の加熱
によるろう付けされ、メタライズ8及び18の金とろう
材7が溶け、シール部合金層19を形成して、半導体装
置を気密化していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の半導体装置は、サファイアの表面に直接メタライズ
が形成されており、メタライズの密着性が悪い場合に
は、封着時の熱的歪でメタライズがはがれ、半導体装置
の気密性が悪くなり、その結果として半導体装置の気密
試験時に歩留りが低下するという問題点があった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
サファイア板から形成されたキャップを用いて半導体チ
ップを気密封止する半導体装置において、前記キャップ
のサファイア板に封着する前にあらかじめ低融点のろう
材をろう付され、前記キャップのサファイア板より熱伝
導率の低い材質で形成される側壁を備える。また、本発
明の半導体装置は、前記半導体チップをセラミックのケ
ースに収納することもできる。
【0006】さらにまた、本発明の半導体装置の前記側
壁はアルミナセラミックからなる構成とすることもでき
る。
【0007】また、さらに本発明の半導体装置の前記側
壁の一部はエポキシ樹脂からなる構成とすることもでき
る。
【0008】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
【0009】図1(a)及び(b)は本発明の第1の実
施例の半導体装置のキャップの平面図及び断面図であ
る。
【0010】このキャップの製造に当たっては、図1
(c)に示すように、メタライズ5を施されたサファイ
ア板1及び高さが3mm、太さが0.5mm程度のアル
ミナセラミックのキャップ側壁3を、融点260℃程度
の金すずのろう材6でろう付けしてある。
【0011】次に、図2(a)及び(b)はそれぞれ、
前記キャップを封着する時の工程断面図である。
【0012】この時、融点280℃程度の金すずのシー
ルろう材7を300℃程度に加熱されたセラミックパッ
ケージ10のシール部に形成されたパッケージ側シール
部メタライズ8の上に置き、シールろう材7が、溶け始
めた頃に前記キャップを載せ、数秒で封着を行なう。
【0013】この結果、従来のキャップの封着時におい
ての熱が直接サファイア板のメタライズに伝わっていた
のを、低熱伝導率のアルミナセラミックのキャップ側壁
3を追することによって、熱の伝わりを遅くし、サファ
イア板1のメタライズ5の温度が高くなる前に、封着を
完了でき、封着時の熱によるサファイア板のメタライズ
のはがれを防止することができる。
【0014】また、封着時に、サファイア板1のメタラ
イズ5に熱が伝わりにくいため、サファイア板1のキャ
ップ側壁3へのろう付け温度を低くできるので、高熱に
よるサファイア板のメタライズのはがれを抑えることも
できる。
【0015】さらに、この実施例において、キャップ側
壁3を、熱伝導率の低いエポキシ樹脂等を一部使用して
さらに効果を上げることもできる。
【0016】次に、本発明の第2の実施例の半導体装置
を説明する。図3(a)及び(b)はそれぞれ第2実施
例の半導体装置のキャップの平面図及び断面図である。
【0017】このキャップにおいては、キャップ側壁1
6をサファイア板1のメタライズ2を覆うように形成し
ており、このため、半導体装置の封着時の周囲温度より
の熱を防ぐことができ、第1の実施例より、さらに効果
を上げることができる。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、サファイ
ア板に熱伝導率の低いキャップ側壁を形成し、封着時の
熱が、サファイア板のメタライズのろう付け部に伝わり
にくくしたので、サファイア板のキャップ側壁へのろう
付けの温度を低くでき、サファイア板のメタライズのは
がれを、封着時及び、キャップ製造時に抑えることがで
き、また、工程ばらつきにより、サファイア板のメタラ
イズ貼り付き強度が低いものが発生しても、キャップ製
造時に発見でき、コストダウンにつながるという結果を
有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の半導体装置を示す図
で、(a)は半導体装置のキャップの平面図を示し、
(b)は部分図(a)のA−A′での断面図を示し、
(c)はキャップ製造時の断面図を示す。
【図2】図1に示したキャップの封着時の工程断面図で
ある。
【図3】本発明の第2の実施例の半導体装置を示す図
で、(a)は半導体装置のキャップの平面図を示し、
(b)は部分図(a)のB−B′での断面図を示す。
【図4】従来の半導体装置を示す図で、(a)は半導体
装置のキャップの平面図を示し、(b)は部分図(a)
のC−C′での断面図を示す。
【図5】図4に示したキャップの封着時の工程断面図で
ある。
【符号の説明】
1 サファイア板 2 キャップ部合金層 3 キャップ側壁 4 キャップ側シール部メタライズ 5 メタライズ 6 ろう材 7 シールろう材 8 パッケージ側シール部メタライズ 9 リード 10 セラミックパッケージ 11 マウント部 12 ペレット 13 ボンディングワイヤ 14 シール部合金層 15 キャップ部合金層 16 キャップ側壁 17 キャップ側シール部メタライズ 18 キャップ部メタライズ 19 シール部合金層

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 サファイア板から形成されたキャップを
    用いて半導体チップを気密封止する半導体装置におい
    て、前記キャップのサファイア板に封着する前にあらか
    じめ低融点のろう材をろう付され、前記キャップのサフ
    ァイア板より熱伝導率の低い材質で形成される側壁を備
    えることを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記半導体チップをセラミックのケース
    の収納することを特徴とする請求項1記載の半導体装
    置。
  3. 【請求項3】 前記側壁はアルミナセラミックからなる
    ことを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記側壁の一部はエポキシ樹脂からなる
    ことを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置。
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