JP2514827B2 - メルカプトメチルフェノ―ルの製造方法 - Google Patents
メルカプトメチルフェノ―ルの製造方法Info
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- JP2514827B2 JP2514827B2 JP62328172A JP32817287A JP2514827B2 JP 2514827 B2 JP2514827 B2 JP 2514827B2 JP 62328172 A JP62328172 A JP 62328172A JP 32817287 A JP32817287 A JP 32817287A JP 2514827 B2 JP2514827 B2 JP 2514827B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/01—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton
- C07C323/02—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton having sulfur atoms of thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
- C07C323/07—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton having sulfur atoms of thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton containing six-membered aromatic rings
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ホルムアルデヒド及びメルカプタンとの反
応によってフェノールから得られるメルカプトメチルフ
ェノールの製造方法に関するものである。
応によってフェノールから得られるメルカプトメチルフ
ェノールの製造方法に関するものである。
（従来の技術、発明が解決しようとする問題点） 例えばβ−ナフトールをトリエチルアミンの存在下で
ホルムアルデヒド及びアリール−若しくはアルキルメル
カプタンと反応させることにより、アリールチオメチル
ナフトール又はアルキルチオメチルナフトールを製造す
ることは知られている〔エフ．ポッペルスドルフ（F.Po
ppelsdorf）ら、ジャーナル オブ ケミカル ソサイ
エティ（J.Chem Soc）1954巻．第1124頁以下参照〕。
しかしながら満足のいく収率を得るためには約６日間の
反応時間を必要とする。
ホルムアルデヒド及びアリール−若しくはアルキルメル
カプタンと反応させることにより、アリールチオメチル
ナフトール又はアルキルチオメチルナフトールを製造す
ることは知られている〔エフ．ポッペルスドルフ（F.Po
ppelsdorf）ら、ジャーナル オブ ケミカル ソサイ
エティ（J.Chem Soc）1954巻．第1124頁以下参照〕。
しかしながら満足のいく収率を得るためには約６日間の
反応時間を必要とする。
例えば、ジアルキルアミン又はトリアルキルアミンの
存在下でフェノールをホルムアルデヒド及びメルカプタ
ンと反応させて2,4−メルカプトメチルフェノールを製
造することはヨーロッパ特許出願EP−Ａ−0165209号公
報に開示されている。しかしながら、具体的にはジブチ
ルアミンのみしか用いられていない。
存在下でフェノールをホルムアルデヒド及びメルカプタ
ンと反応させて2,4−メルカプトメチルフェノールを製
造することはヨーロッパ特許出願EP−Ａ−0165209号公
報に開示されている。しかしながら、具体的にはジブチ
ルアミンのみしか用いられていない。
メルカプトメチルフェノールは価値のある抗酸化剤で
あるので、それを得るための改良方法がまだなお要請さ
れている。今となって、反応をメチルアミン又はエチル
アミンの存在下で行なうことによって都合よく短時間
で、高収率かつ高純度でメルカプトメチルフェノールが
得られることを見い出した。
あるので、それを得るための改良方法がまだなお要請さ
れている。今となって、反応をメチルアミン又はエチル
アミンの存在下で行なうことによって都合よく短時間
で、高収率かつ高純度でメルカプトメチルフェノールが
得られることを見い出した。
（問題点を解決するための手段） 従って本発明は次式III又はIV: 〔各式中、 R2及びZ1は下記の意味を表わし、 R33及びR44は互に独立して水素原子、炭素原子数１な
いし20のアルキル基、アリル基、炭素原子数５ないし12
のシクロアルキル基、フェニル基、フェニル−炭素原子
数１ないし４のアルキル基又はハロゲン原子を表わす
が、R33とR44の少なくとも１つは水素原子を表わし、そ
して Z22は水素原子又は炭素原子数１ないし20のアルキル
基を表わす〕 で表わされるフェノールと、ホルムアルデヒド若しくは
反応条件下でホルムアルデヒドを遊離する化合物、及び
少なくとも１種のメルカプタンR1−SHとを、モノ−，ジ
−若しくはトリメチルアミン又はモノ−若しくはジエチ
ルアミンである塩基の存在下で反応させることによる次
式Ｉ又はII: 〔各式中、 R1は非置換の又は１若しくは２個のヒドロキシル基で
置換された又は−Ｏ−で中断された炭素原子数１ないし
20のアルキル基を表わすか、又は炭素原子数１ないし４
のアルキレン−COOR5、炭素原子数１ないし４のアルキ
レン−CO−NR5R6、炭素原子数５ないし12のシクロアル
キル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル
基、炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基又はフ
ェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数１ないし20のアルキル基、
炭素原子数２ないし18のアルケニル基又はハロゲン原子
を表わし、 R3及びR4は互に独立して炭素原子数１ないし20のアル
キル基、アリル基、炭素原子数５ないし12のシクロアル
キル基、フェニル基、フェニル−炭素原子数１ないし４
のアルキル基、ハロゲン原子又は−CH2−Ｓ−R1を表わ
すがR3とR4の少なくとも１つは−CH2−Ｓ−R1を表わ
し、 R5は炭素原子数１ないし20のアルキル基、アリル基、
炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基、フェニル基
又はベンジル基を表わし、 R6は水素原子、炭素原子数１ないし20のアルキル基又
は炭素原子数２ないし18のアルケニル基を表わし、 Z1は−Ｓ−又は−Ｃ（Z3）（Z4）−を表わし、 Z2は水素原子、炭素原子数１ないし20のアルキル基又
は−CH2−Ｓ−R1を表わし、 Z3は水素原子又はメチル基を表わし、そして Z4は水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基
を表わすが、但し式Ｉ又はIIで表わされるフェノールの
ｍ−位には官能基−CH2−Ｓ−R1を有さない〕 で表わされる化合物の製造方法に関する。
いし20のアルキル基、アリル基、炭素原子数５ないし12
のシクロアルキル基、フェニル基、フェニル−炭素原子
数１ないし４のアルキル基又はハロゲン原子を表わす
が、R33とR44の少なくとも１つは水素原子を表わし、そ
して Z22は水素原子又は炭素原子数１ないし20のアルキル
基を表わす〕 で表わされるフェノールと、ホルムアルデヒド若しくは
反応条件下でホルムアルデヒドを遊離する化合物、及び
少なくとも１種のメルカプタンR1−SHとを、モノ−，ジ
−若しくはトリメチルアミン又はモノ−若しくはジエチ
ルアミンである塩基の存在下で反応させることによる次
式Ｉ又はII: 〔各式中、 R1は非置換の又は１若しくは２個のヒドロキシル基で
置換された又は−Ｏ−で中断された炭素原子数１ないし
20のアルキル基を表わすか、又は炭素原子数１ないし４
のアルキレン−COOR5、炭素原子数１ないし４のアルキ
レン−CO−NR5R6、炭素原子数５ないし12のシクロアル
キル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル
基、炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基又はフ
ェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数１ないし20のアルキル基、
炭素原子数２ないし18のアルケニル基又はハロゲン原子
を表わし、 R3及びR4は互に独立して炭素原子数１ないし20のアル
キル基、アリル基、炭素原子数５ないし12のシクロアル
キル基、フェニル基、フェニル−炭素原子数１ないし４
のアルキル基、ハロゲン原子又は−CH2−Ｓ−R1を表わ
すがR3とR4の少なくとも１つは−CH2−Ｓ−R1を表わ
し、 R5は炭素原子数１ないし20のアルキル基、アリル基、
炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基、フェニル基
又はベンジル基を表わし、 R6は水素原子、炭素原子数１ないし20のアルキル基又
は炭素原子数２ないし18のアルケニル基を表わし、 Z1は−Ｓ−又は−Ｃ（Z3）（Z4）−を表わし、 Z2は水素原子、炭素原子数１ないし20のアルキル基又
は−CH2−Ｓ−R1を表わし、 Z3は水素原子又はメチル基を表わし、そして Z4は水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基
を表わすが、但し式Ｉ又はIIで表わされるフェノールの
ｍ−位には官能基−CH2−Ｓ−R1を有さない〕 で表わされる化合物の製造方法に関する。
本発明方法によって得られる好ましいメルカプトメチ
ルフェノールは、R1が炭素原子数８ないし12のアルキル
基、アルキル基部分に炭素原子を１ないし18個含む−CH
2−COO−アルキル基、−CH2CH2−OH、フェニル基又はベ
ンジル基を表わす式Ｉで表わされる化合物であり、そし
てR1が炭素原子数８ないし12のアルキル基又は−CH2−C
OO−CH2−CH（C2H5）−（CH2）３−CH3を表わすものが
特に好ましい。
ルフェノールは、R1が炭素原子数８ないし12のアルキル
基、アルキル基部分に炭素原子を１ないし18個含む−CH
2−COO−アルキル基、−CH2CH2−OH、フェニル基又はベ
ンジル基を表わす式Ｉで表わされる化合物であり、そし
てR1が炭素原子数８ないし12のアルキル基又は−CH2−C
OO−CH2−CH（C2H5）−（CH2）３−CH3を表わすものが
特に好ましい。
本発明方法によって得られる特に好ましいメルカプト
メチルフェノールは次式： 〔式中、R1,R2及びR4は前記の意味を表わす〕で表わさ
れる化合物であり、その中でもR2が水素原子又はメチル
基を表わし、そしてR4がメチル基、第三ブチル基又はシ
クロヘキシル基を表わす化合物がとりわけ好ましい。
メチルフェノールは次式： 〔式中、R1,R2及びR4は前記の意味を表わす〕で表わさ
れる化合物であり、その中でもR2が水素原子又はメチル
基を表わし、そしてR4がメチル基、第三ブチル基又はシ
クロヘキシル基を表わす化合物がとりわけ好ましい。
また本発明方法によって得られる興味あるメルカプト
メチルフェノールは次式： 〔式中、R1は前記の意味を表わす〕 で表わされる化合物である。
メチルフェノールは次式： 〔式中、R1は前記の意味を表わす〕 で表わされる化合物である。
R1,R2,R3,R4,R5,R6,R33,R44,Z2及びZ22の炭素原子数
１ないし20のアルキル基としては、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
第二ブチル基、第三ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペ
ンチル基、ｎ−ヘキシル基、1,1−ジメチルブチル基、
ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル
基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、1,1,3,3−テトラメ
チルブチル基、1,1,3,3−テトラメチルヘキシル基、ｎ
−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、1,1,3,3,5,5−ヘキ
サメチルヘキシル基、2,2,4,6,6−ペンタメチルヘプチ
−４−イル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキサデシル
基、ｎ−オクタデシル基又はｎ−エイコシル基が挙げら
れる。
１ないし20のアルキル基としては、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
第二ブチル基、第三ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペ
ンチル基、ｎ−ヘキシル基、1,1−ジメチルブチル基、
ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル
基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、1,1,3,3−テトラメ
チルブチル基、1,1,3,3−テトラメチルヘキシル基、ｎ
−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、1,1,3,3,5,5−ヘキ
サメチルヘキシル基、2,2,4,6,6−ペンタメチルヘプチ
−４−イル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキサデシル
基、ｎ−オクタデシル基又はｎ−エイコシル基が挙げら
れる。
Z4の炭素原子数１ないし８のアルキル基としてはメチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、第二ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペン
チル基、ｎ−ヘキシル基、1,1−ジメチルブチル基、ｎ
−ヘプチル基又はｎ−オクチル基が挙げられ、好ましく
は炭素原子数１ないし４のアルキル基で、メチル基が最
も好ましい。
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、第二ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペン
チル基、ｎ−ヘキシル基、1,1−ジメチルブチル基、ｎ
−ヘプチル基又はｎ−オクチル基が挙げられ、好ましく
は炭素原子数１ないし４のアルキル基で、メチル基が最
も好ましい。
R2,R3,R4,R33,R44,Z2及びZ22のアルキル基は炭素原子
数１ないし４のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基又
は第三ブチル基が好ましい。R3′及びR4はメチル基又は
第三ブチル基であるのが最も好ましい。
数１ないし４のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基又
は第三ブチル基が好ましい。R3′及びR4はメチル基又は
第三ブチル基であるのが最も好ましい。
R1は好ましくは炭素原子数２ないし18のアルキル基で
最も好ましくは炭素原子数８ないし12のアルキル基、例
えばｎ−オクチル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル
基、ｎ−ドデシル基又は第三ドデシル基〔1,1,3,3,5,5
−ヘキサメチルヘキシル基と1,1,4,6,6−ペンタメチル
ヘプチ−４−イル基の混合物〕である。
最も好ましくは炭素原子数８ないし12のアルキル基、例
えばｎ−オクチル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル
基、ｎ−ドデシル基又は第三ドデシル基〔1,1,3,3,5,5
−ヘキサメチルヘキシル基と1,1,4,6,6−ペンタメチル
ヘプチ−４−イル基の混合物〕である。
R1の、１又は２個のヒドロキシル基で置換された炭素
原子数１ないし20のアルキル基としてはヒドロキシメチ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピ
ル基、２−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシヘキシ
ル基、２−ヒドロキシオクチル基、２−ヒドロキシデシ
ル基、２−ヒドロキシドデシル基、２−ヒドロキシテト
ラデシル基、２−ヒドロキシヘキサデシル基、２−ヒド
ロキシオクタデシル基、２−ヒドロキシエイコシル基又
は2,3−ジヒドロキシプロピル基が挙げられる。R1は好
ましくは炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル
基、例えば２−ヒドロキシプロピル基又は2,3−ジヒド
ロキシプロピル基を、そして最も好ましくは２−ヒドロ
キシエチル基を意味する。
原子数１ないし20のアルキル基としてはヒドロキシメチ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピ
ル基、２−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシヘキシ
ル基、２−ヒドロキシオクチル基、２−ヒドロキシデシ
ル基、２−ヒドロキシドデシル基、２−ヒドロキシテト
ラデシル基、２−ヒドロキシヘキサデシル基、２−ヒド
ロキシオクタデシル基、２−ヒドロキシエイコシル基又
は2,3−ジヒドロキシプロピル基が挙げられる。R1は好
ましくは炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル
基、例えば２−ヒドロキシプロピル基又は2,3−ジヒド
ロキシプロピル基を、そして最も好ましくは２−ヒドロ
キシエチル基を意味する。
R1の−Ｏ−で中断されたアルキル基としては、１個又
はそれ以上の酸素原子で、例えば１ないし６個、好まし
くは１又は２個の酸素原子で中断されいてよく、そして
例えば３−オキサプロピル基、３−オキサブチル基、３
−オキサペンチル基、3,6−ジオキサヘプチル基、3,6,9
−トリオキサデシル基又は3,6,9,12,15,18−ヘキサオキ
サノナデシル基が挙げられる。
はそれ以上の酸素原子で、例えば１ないし６個、好まし
くは１又は２個の酸素原子で中断されいてよく、そして
例えば３−オキサプロピル基、３−オキサブチル基、３
−オキサペンチル基、3,6−ジオキサヘプチル基、3,6,9
−トリオキサデシル基又は3,6,9,12,15,18−ヘキサオキ
サノナデシル基が挙げられる。
R2及びR6の炭素原子数２ないし18のアルケニル基とし
てはビニル基、アリル基、ブテ−３−エニル基、ペンテ
−４−エニル基、ヘキセ−５−エニル基、オクテ−７−
エニル基、デセ−９−エニル基、ドデセ−11−エニル基
又はオクタデセ−17−エニル基が挙げられる。ビニル基
又はアリル基が好ましい。
てはビニル基、アリル基、ブテ−３−エニル基、ペンテ
−４−エニル基、ヘキセ−５−エニル基、オクテ−７−
エニル基、デセ−９−エニル基、ドデセ−11−エニル基
又はオクタデセ−17−エニル基が挙げられる。ビニル基
又はアリル基が好ましい。
R1,R3,R4,R5,R33及びR44の炭素原子数５ないし12のシ
クロアルキル基としてはシクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロ
ノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基又はシ
クロドデシル基が挙げられる。好ましい意味では炭素原
子数５ないし７のシクロアルキル基であり、シクロヘキ
シル基が特に好ましい。
クロアルキル基としてはシクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロ
ノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基又はシ
クロドデシル基が挙げられる。好ましい意味では炭素原
子数５ないし７のシクロアルキル基であり、シクロヘキ
シル基が特に好ましい。
R1,R3,R4,R33及びR44のフェニル−炭素原子数１ない
し４のアルキル基としてはベンジル基、フェニルエチル
基、α−メチルベンジル基又はα，α−ジメチルベンジ
ル基が挙げられる。ベンジル基が好ましい。
し４のアルキル基としてはベンジル基、フェニルエチル
基、α−メチルベンジル基又はα，α−ジメチルベンジ
ル基が挙げられる。ベンジル基が好ましい。
R1の炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基とし
ては１ないし３、好ましくは１又は２個のアルキル基を
含んでいてよく、そして例えばｏ−,m−又はｐ−トリル
基、2,4−、2,6−、3,5−又は3,6−ジメチルフェニル
基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、イソプロ
ピルフェニル基、第三ブチルフェニル基又はジ−第三−
ブチルフェニル基が挙げられる。トリル基が好ましい。
ては１ないし３、好ましくは１又は２個のアルキル基を
含んでいてよく、そして例えばｏ−,m−又はｐ−トリル
基、2,4−、2,6−、3,5−又は3,6−ジメチルフェニル
基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、イソプロ
ピルフェニル基、第三ブチルフェニル基又はジ−第三−
ブチルフェニル基が挙げられる。トリル基が好ましい。
R2,R3,R4,R33及びR44のハロゲン原子としては塩素原
子又は臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
子又は臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
本発明方法において、フェノール、ホルムアルデヒド
及びメルカプタンの各反応剤は化学量論的割合で用いる
ことができる。しかし場合によってはホルムアルデヒド
及び／又はメルカプタンを過剰に用いるのが有利かもし
れない。フェノール及び／又はメルカプタンの混合物も
また反応させることができる。
及びメルカプタンの各反応剤は化学量論的割合で用いる
ことができる。しかし場合によってはホルムアルデヒド
及び／又はメルカプタンを過剰に用いるのが有利かもし
れない。フェノール及び／又はメルカプタンの混合物も
また反応させることができる。
本発明方法は、塩基としてのモノ−、ジ−又はトリメ
チルアミン或はモノ−又はジエチルアミンの存在下で行
なわれる。モノ−又はジメチルアミンを用いるのが好ま
しく、そしてジメチルアミンが最も好ましい。
チルアミン或はモノ−又はジエチルアミンの存在下で行
なわれる。モノ−又はジメチルアミンを用いるのが好ま
しく、そしてジメチルアミンが最も好ましい。
該塩基は例えばエタノール、メタノール又は他の低級
アルコールの10〜35％溶液の形態であっても或は純粋な
形態であってもよい。ジメチルアミンはまたガス状の形
態で用いることもできる。
アルコールの10〜35％溶液の形態であっても或は純粋な
形態であってもよい。ジメチルアミンはまたガス状の形
態で用いることもできる。
本発明方法において、塩基はメルカプタンに基づいて
１〜50モル％の量で用いることができ、好ましくは２〜
30モル％、そして最も好ましくは５〜20モル％である。
１〜50モル％の量で用いることができ、好ましくは２〜
30モル％、そして最も好ましくは５〜20モル％である。
本発明方法は溶媒の存在下で行なうことができる。
適当な溶媒の例は炭素原子数１ないし６のアルコー
ル、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール、ペンタノール又はヘキサノールである。しか
しジオール、ポリオール及びそれらのエーテル、例えば
グリコール、ググリセロール及びポリエチレングリコー
ルもまた使用できる。反応は極性の非プロトン性溶媒、
例えばジメチルホルムアミドやジメチルスルホキシド中
で行なうことができ、或は高沸点の芳香族又は脂肪族炭
化水素又は塩素化炭化水素、例えばトルエン、リグロイ
ン又はクロロベンゼンを用いてもよい。好ましい溶媒は
ジメチルホルムアミドであり、それは上記低級アルコー
ル又は塩素化炭化水素の１種で希釈される。
ル、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール、ペンタノール又はヘキサノールである。しか
しジオール、ポリオール及びそれらのエーテル、例えば
グリコール、ググリセロール及びポリエチレングリコー
ルもまた使用できる。反応は極性の非プロトン性溶媒、
例えばジメチルホルムアミドやジメチルスルホキシド中
で行なうことができ、或は高沸点の芳香族又は脂肪族炭
化水素又は塩素化炭化水素、例えばトルエン、リグロイ
ン又はクロロベンゼンを用いてもよい。好ましい溶媒は
ジメチルホルムアミドであり、それは上記低級アルコー
ル又は塩素化炭化水素の１種で希釈される。
しかしながら本発明方法は溶媒の不存在下で行なうの
が好ましい。
が好ましい。
本発明方法は都合よくは80゜ないし160℃、好ましく
は90゜ないし150℃、そして最も好ましくは90゜ないし1
50℃の温度範囲で、及び常圧で又は減圧下（例えば0.01
ないし５バール）で行なうことができる。溶媒不存在下
においては反応は減圧下で行なうのが好ましい。
は90゜ないし150℃、そして最も好ましくは90゜ないし1
50℃の温度範囲で、及び常圧で又は減圧下（例えば0.01
ないし５バール）で行なうことができる。溶媒不存在下
においては反応は減圧下で行なうのが好ましい。
特定のフェノール及びメルカプタンが用いられること
に拠って反応時間は変化し、そして例えば１ないし24時
間、好ましくは１ないし６時間である。反応混合物は都
合よくは窒素ガス雰囲気中、還流下に加熱される。
に拠って反応時間は変化し、そして例えば１ないし24時
間、好ましくは１ないし６時間である。反応混合物は都
合よくは窒素ガス雰囲気中、還流下に加熱される。
室温まで冷却した後、反応混合物は慣用の分離及び精
製手段で後処理される。
製手段で後処理される。
しかしながら本発明方法の更に別の利点は、最終生成
物が、それらの他への直接使用を可能するほどの純度で
得られることである。
物が、それらの他への直接使用を可能するほどの純度で
得られることである。
本発明方法によって製造されるメルカプトメチル化合
物の殆んどは公知化合物である。出発物のフェノール及
びメルカプタンもまた公知であり、幾つかは市販されて
いるか又は公知方法によって製造することができる。
物の殆んどは公知化合物である。出発物のフェノール及
びメルカプタンもまた公知であり、幾つかは市販されて
いるか又は公知方法によって製造することができる。
ホルムアルデヒド又は反応条件下でホルムアルデヒド
を遊離する化合物例えばパラホルムアルデヒド又はヘキ
サメチレンテトラミンが反応のために使用される。ホル
ムアルデヒドを使用するのは好ましいが、パラホルムア
ルデヒドは特に好ましい。
を遊離する化合物例えばパラホルムアルデヒド又はヘキ
サメチレンテトラミンが反応のために使用される。ホル
ムアルデヒドを使用するのは好ましいが、パラホルムア
ルデヒドは特に好ましい。
本発明方法によって製造される前記式Ｉ又はIIで表わ
される化合物は、酸素、熱、光又は高エネルギー照射の
作用による傷害から有機材料を保護するための安定剤と
して用いることができる。これら化合物は、例えば欧州
特許第165209号に記載されているように、有機ポリマー
及びエラストマー、或は鉱油又は合成潤滑剤に入れる抗
酸化剤として使用するのが好ましい。
される化合物は、酸素、熱、光又は高エネルギー照射の
作用による傷害から有機材料を保護するための安定剤と
して用いることができる。これら化合物は、例えば欧州
特許第165209号に記載されているように、有機ポリマー
及びエラストマー、或は鉱油又は合成潤滑剤に入れる抗
酸化剤として使用するのが好ましい。
式Ｉ及びIIで表わされる化合物の混入は例えば当分野
に採用されている慣用的方法によって本発明の生成物と
更に任意の添加物を、前記ポリマーから形成される成形
品の製造前又は製造中に混合するか、或はまた、溶解ま
たは分散された化合物を、その後溶媒を蒸発させるか若
しくはさせることなしに該ポリマーに適用することによ
り行なうことができる。本発明の生成物は、該生成物を
含むマスターバッチの形態、例えば2.5ないし25重量％
の濃度で、安定化させる材料に加えることもできる。
に採用されている慣用的方法によって本発明の生成物と
更に任意の添加物を、前記ポリマーから形成される成形
品の製造前又は製造中に混合するか、或はまた、溶解ま
たは分散された化合物を、その後溶媒を蒸発させるか若
しくはさせることなしに該ポリマーに適用することによ
り行なうことができる。本発明の生成物は、該生成物を
含むマスターバッチの形態、例えば2.5ないし25重量％
の濃度で、安定化させる材料に加えることもできる。
架橋性ポリエチレンの場合、本化合物は架橋に先立っ
て加えられる。
て加えられる。
実際には、式Ｉ及びIIで表わされるメルカプトメチル
フェノールは他の安定剤と一緒に加えられる。
フェノールは他の安定剤と一緒に加えられる。
潤滑油製剤は、特定の使用特性を改良するための他の
添加剤、例えば別の酸化防止剤、金属不動態化剤、防錆
剤、粘度指数改良剤、流動点降下剤、分散剤／界面活性
剤及び耐摩耗剤を含有することもできる。
添加剤、例えば別の酸化防止剤、金属不動態化剤、防錆
剤、粘度指数改良剤、流動点降下剤、分散剤／界面活性
剤及び耐摩耗剤を含有することもできる。
（実施例及び発明の効果） 以下、実施例により本発明を更に詳しく説明する。化
合物の純度は高圧液体クロマトグラフィーにより測定さ
れる。括弧内に示される純収率は、純度決定後に粗生成
物の収率と純度から計算される。
合物の純度は高圧液体クロマトグラフィーにより測定さ
れる。括弧内に示される純収率は、純度決定後に粗生成
物の収率と純度から計算される。
実施例1:2,4−ビス（ｎ−オクチルチオメチル）−６−
メチルフェノールの製造 ｏ−クレゾール16.22g（0.15モル）、ｎ−オクタンチ
オール43.88g（0.3モル）、パラホルムアルデヒド18.02
g（0.6モル）、ジメチルアミンの33％エタノール溶液4.
1g（ジメチルアミン約0.03モルに相当）及びN,N−ジメ
チルホルムアミド22.5ml（21.35g）の混合物を、還流冷
却器及び機械的撹拌機を備えたスルホン化フラスコ中、
窒素ガス下で加熱する。反応混合物の温度は115℃であ
る。次いで90〜95℃の浴温及び減圧下で揮発成分を除去
する。続いてその残渣を100゜〜120℃及び1.33mbarで乾
燥すると2,4−ビス（ｎ−オクチルチオメチル）−６−
メチルフェノール61.8g（理論値の96.9％）が純度94.6
％の黄色液体として得られる（純収率91.7％）。
メチルフェノールの製造 ｏ−クレゾール16.22g（0.15モル）、ｎ−オクタンチ
オール43.88g（0.3モル）、パラホルムアルデヒド18.02
g（0.6モル）、ジメチルアミンの33％エタノール溶液4.
1g（ジメチルアミン約0.03モルに相当）及びN,N−ジメ
チルホルムアミド22.5ml（21.35g）の混合物を、還流冷
却器及び機械的撹拌機を備えたスルホン化フラスコ中、
窒素ガス下で加熱する。反応混合物の温度は115℃であ
る。次いで90〜95℃の浴温及び減圧下で揮発成分を除去
する。続いてその残渣を100゜〜120℃及び1.33mbarで乾
燥すると2,4−ビス（ｎ−オクチルチオメチル）−６−
メチルフェノール61.8g（理論値の96.9％）が純度94.6
％の黄色液体として得られる（純収率91.7％）。
元素分析 理論値:70.70％Ｃ 実測値:70.71％Ｃ 10.44％Ｈ 10.41％Ｈ 15.10％Ｓ 15.09％Ｓ 後記する実施例２及び３は、溶媒の存在下で2,4−ビ
ス（ｎ−オクチルチルメチル）−６−メチルフェノール
を製造するための相違する製法を示しているが、実施例
４及び５は溶媒無しでの製法を示す。
ス（ｎ−オクチルチルメチル）−６−メチルフェノール
を製造するための相違する製法を示しているが、実施例
４及び５は溶媒無しでの製法を示す。
実施例2: ｏ−クレゾール108.14g（１モル）、ｎ−オクタンチ
オール292.56g（２モル）、パラホルムアルデヒド120.1
2g（４モル）、ジメチルアミンの33％エタノール溶液2
7.33g（ジメチルアミン約0.2モルに相当）及びN,N−ジ
メチルホルムアミド50ml（47.4g）の混合物を実施例１
に記したように還流下で２時間加熱する（反応混合物の
温度155℃）。
オール292.56g（２モル）、パラホルムアルデヒド120.1
2g（４モル）、ジメチルアミンの33％エタノール溶液2
7.33g（ジメチルアミン約0.2モルに相当）及びN,N−ジ
メチルホルムアミド50ml（47.4g）の混合物を実施例１
に記したように還流下で２時間加熱する（反応混合物の
温度155℃）。
実施例１に記したように後処理した後、生成物を以下
のように更に精製する：粗生成物をヘキサン800ml中に
入れ、その溶液を分離漏斗中、水200mlで４回洗浄す
る。次いでヘキサン相を分離し、乾燥する。蒸留により
溶媒を除去すると、実施例１で得られた化合物と同一（
1H−NMRスペクトル分析及び薄層クロマトグラフィーに
より確認）であり、純度が97.9％の黄色がかった液体40
9.5％（理論値の96.4％）が得られる（純収率94.4
％）。
のように更に精製する：粗生成物をヘキサン800ml中に
入れ、その溶液を分離漏斗中、水200mlで４回洗浄す
る。次いでヘキサン相を分離し、乾燥する。蒸留により
溶媒を除去すると、実施例１で得られた化合物と同一（
1H−NMRスペクトル分析及び薄層クロマトグラフィーに
より確認）であり、純度が97.9％の黄色がかった液体40
9.5％（理論値の96.4％）が得られる（純収率94.4
％）。
実施例3: ｏ−クレゾール16.22g（0.15モル）、ｎ−オクタンチ
オール43.88g（0.3モル）、パラホルムアルデヒド18.02
g（0.6モル）、N,N−ジメチルホルムアミド22.5ml（21.
35g）及びジメチルアミン1.14g（0.031モル）の混合物
を用いて実施例１の操作を繰り返す。ジメチルアミンは
上記各成分の懸濁液（懸濁液の温度20゜〜30℃）中へガ
ス状形態で通す。収量：純度98.3％の黄色液体としての
2,4−ビス（ｎ−オクチルチオメチル）−６−メチルフ
ェノール55.6g（理論値の87.2％）（純収率87.7％）。
オール43.88g（0.3モル）、パラホルムアルデヒド18.02
g（0.6モル）、N,N−ジメチルホルムアミド22.5ml（21.
35g）及びジメチルアミン1.14g（0.031モル）の混合物
を用いて実施例１の操作を繰り返す。ジメチルアミンは
上記各成分の懸濁液（懸濁液の温度20゜〜30℃）中へガ
ス状形態で通す。収量：純度98.3％の黄色液体としての
2,4−ビス（ｎ−オクチルチオメチル）−６−メチルフ
ェノール55.6g（理論値の87.2％）（純収率87.7％）。
実施例4: 撹拌羽根、内部温度計、冷却器及び受器と真空で接続
する蒸留ヘッド、窒素ガス導入口及びガス供給管を備え
た１反応容器（2barまでの過剰加圧が可能）からなる
装置に、室温でｏ−クレゾール194.6g（1.80モル）、10
0％パラホルムアルデヒド113.5g（3.78モル）及び１−
オクタンチオール526.7g（3.60モル）を連続して入れ
る。その懸濁液を窒素ガスで覆ってから室温（25℃）で
充分に撹拌しつつ20mbarに減圧する。次いでガス状形態
のジメチルアミン9.7g（0.216モル）をガス供給パイプ
を通じて10分間にわたり懸濁液に通すと、著しい発熱反
応が観察され、反応混合物の温度が約10℃上昇するの
で、装置内の真空度は約100mbarまで後退する。
する蒸留ヘッド、窒素ガス導入口及びガス供給管を備え
た１反応容器（2barまでの過剰加圧が可能）からなる
装置に、室温でｏ−クレゾール194.6g（1.80モル）、10
0％パラホルムアルデヒド113.5g（3.78モル）及び１−
オクタンチオール526.7g（3.60モル）を連続して入れ
る。その懸濁液を窒素ガスで覆ってから室温（25℃）で
充分に撹拌しつつ20mbarに減圧する。次いでガス状形態
のジメチルアミン9.7g（0.216モル）をガス供給パイプ
を通じて10分間にわたり懸濁液に通すと、著しい発熱反
応が観察され、反応混合物の温度が約10℃上昇するの
で、装置内の真空度は約100mbarまで後退する。
懸濁液を120℃まで加熱し、この温度で６時間撹拌す
ると圧力は100mbarから約2.2bar（1.2barの過圧に相
当）に上昇する。同時に懸濁液は透明な黄褐色溶融物に
変化し、反応が終りに近ずくにつれて該溶融物は発生す
る水によってひどく濁るようになる。
ると圧力は100mbarから約2.2bar（1.2barの過圧に相
当）に上昇する。同時に懸濁液は透明な黄褐色溶融物に
変化し、反応が終りに近ずくにつれて該溶融物は発生す
る水によってひどく濁るようになる。
反応混合物を50℃に冷却する。ジメチルアミン、水及
び多少過剰なパラホルムアルデヒドの混合物の蒸留を、
この温度で20mbarに減圧することにより行ない、100℃/
20mbarで完了させる。
び多少過剰なパラホルムアルデヒドの混合物の蒸留を、
この温度で20mbarに減圧することにより行ない、100℃/
20mbarで完了させる。
次いで水蒸気蒸留（温度約135℃）によって過剰のオ
クタンチオールから透明な溶融物を分離し、続いて150
℃/20mbarで乾燥すると純度89.6％の2,4−ビス（ｎ−オ
クチルチオメチル）−６−メチルフェノール690g（理論
値の90％）が得られる（純収率80.6％）。
クタンチオールから透明な溶融物を分離し、続いて150
℃/20mbarで乾燥すると純度89.6％の2,4−ビス（ｎ−オ
クチルチオメチル）−６−メチルフェノール690g（理論
値の90％）が得られる（純収率80.6％）。
実施例5: プロペラ撹拌機、ガス供給パイプ、内部温度計、窒素
ガス導入口及び塩水冷却型還流冷却器を備えた350mlス
ルホン化フラスコからなる装置に、ｏ−クレゾール32.4
g（0.30モル）、１−オクタンチオール87.8g（0.60モ
ル）及びパラホルムアルデヒド18.9g（0.63モル）を室
温にて入れる。次いでその懸濁液の中へ、充分撹拌しな
がら、10分間でジメチルアミン4.06g（0.09モル）をガ
ス状形態で通すと、温度は約20℃上昇する。軽度の窒素
ガス充填下で、懸濁液を112〜114℃に加熱すると懸濁液
は最初に透明な溶融物に変化し、そして還流が始まる。
還流下で４時間撹拌を続ける。溶融物は最初濁るが、そ
の後は二相（水の存在）になり、そして温度は102゜〜1
04℃に下がる。
ガス導入口及び塩水冷却型還流冷却器を備えた350mlス
ルホン化フラスコからなる装置に、ｏ−クレゾール32.4
g（0.30モル）、１−オクタンチオール87.8g（0.60モ
ル）及びパラホルムアルデヒド18.9g（0.63モル）を室
温にて入れる。次いでその懸濁液の中へ、充分撹拌しな
がら、10分間でジメチルアミン4.06g（0.09モル）をガ
ス状形態で通すと、温度は約20℃上昇する。軽度の窒素
ガス充填下で、懸濁液を112〜114℃に加熱すると懸濁液
は最初に透明な溶融物に変化し、そして還流が始まる。
還流下で４時間撹拌を続ける。溶融物は最初濁るが、そ
の後は二相（水の存在）になり、そして温度は102゜〜1
04℃に下がる。
実施例４に記したように後処理を行なう。
収量：純度89.9％の2,4−ビス（ｎ−オクチルチオメチ
ル）−６−メチルフェノール120.8g（理論値の84.8％）
（純収率76.2％）。
ル）−６−メチルフェノール120.8g（理論値の84.8％）
（純収率76.2％）。
実施例6:2,4,6−トリス〔３′−（２″−エチルヘキシ
ルオキシカルボニル）−２′−チアプロピル〕フェノー
ルの製造 〔式中、R1は を表わす〕 還流冷却器と撹拌器を備えたスルホン化フラスコ中
で、フェノール18.82g（0.2モル）、２−エチルヘキシ
ルチオグリコレート122.60g（0.6モル）、パラホルムア
ルデヒド36.0g（1.2モル）、ジメチルアミンの33％エタ
ノール溶液5.46g（ジメチルアミン約0.04モルに相当）
及びN,N−ジメチルホルムアミド2.0ml（1.9g）の混合物
を窒素ガス下、90℃に６時間加熱する。次いでトルエン
200ml及び水100mlを加え、そしてそのバッチを軽く撹き
混ぜる。分離漏斗で有機相を分離し、蒸発乾燥する。該
残渣を70℃/0.133mbarで２時間乾燥すると、142.7g（理
論値の96％）の2,4,6−トリス〔３′−（２″−エチル
ヘキシルオキシカルボニル）−２′−チアプロピル〕フ
ェノールが透明無色油として80.8％の純度で得られる
（純収率77.6％）。
ルオキシカルボニル）−２′−チアプロピル〕フェノー
ルの製造 〔式中、R1は を表わす〕 還流冷却器と撹拌器を備えたスルホン化フラスコ中
で、フェノール18.82g（0.2モル）、２−エチルヘキシ
ルチオグリコレート122.60g（0.6モル）、パラホルムア
ルデヒド36.0g（1.2モル）、ジメチルアミンの33％エタ
ノール溶液5.46g（ジメチルアミン約0.04モルに相当）
及びN,N−ジメチルホルムアミド2.0ml（1.9g）の混合物
を窒素ガス下、90℃に６時間加熱する。次いでトルエン
200ml及び水100mlを加え、そしてそのバッチを軽く撹き
混ぜる。分離漏斗で有機相を分離し、蒸発乾燥する。該
残渣を70℃/0.133mbarで２時間乾燥すると、142.7g（理
論値の96％）の2,4,6−トリス〔３′−（２″−エチル
ヘキシルオキシカルボニル）−２′−チアプロピル〕フ
ェノールが透明無色油として80.8％の純度で得られる
（純収率77.6％）。
元素分析 理論値:63.03％Ｃ 実測値:62.59％Ｃ 8.95％Ｈ 8.98％Ｈ 12.94％Ｓ 12.38％Ｓ 実施例7: ジメチルアミンガス1.80g（0.04モル）を用いて実施
例６の操作を繰り返す。ガスは懸濁物の中へ20゜〜30℃
（懸濁物の温度）で通す。
例６の操作を繰り返す。ガスは懸濁物の中へ20゜〜30℃
（懸濁物の温度）で通す。
生成物：実施例６で得られた化合物と同一（1H−NMRス
ペクトル分析及び薄層クロマトグラフィーで確認）であ
って82.5％の純度を有する透明無色油141.2g（理論値の
95％）（純収率78.4％）。
ペクトル分析及び薄層クロマトグラフィーで確認）であ
って82.5％の純度を有する透明無色油141.2g（理論値の
95％）（純収率78.4％）。
実施例8:2,6−ビス（ｎ−オクチルチオメチル）−４−
第三ブチルフェノールの製造 ４−第三ブチルフェノール22.53g（0.15モル）、パラ
ホルムアルデヒド18.02g（0.6モル）、ｎ−オクタンチ
オール43.88g（0.3モル）、ジメチルアミンの33％エタ
ノール溶液4.1g（ジメチルアミン約0.03モルに相当）及
びN,N−ジメチルホルムアミド22.5ml（21.4g）の混合物
を用いて実施例１の操作を繰り返す。反応時間は３時間
である。
第三ブチルフェノールの製造 ４−第三ブチルフェノール22.53g（0.15モル）、パラ
ホルムアルデヒド18.02g（0.6モル）、ｎ−オクタンチ
オール43.88g（0.3モル）、ジメチルアミンの33％エタ
ノール溶液4.1g（ジメチルアミン約0.03モルに相当）及
びN,N−ジメチルホルムアミド22.5ml（21.4g）の混合物
を用いて実施例１の操作を繰り返す。反応時間は３時間
である。
該組生成物を酢酸エチル150mlに入れ、その溶液を水1
00mlで洗浄する。有機相を蒸発させて乾燥すると、2,6
−ビス（ｎ−オクチルチオメチル）−４−第三ブチルフ
ェノール51g（理論値の97％）が無色油として93.3％の
純度で得られる（純収率90.5％）。
00mlで洗浄する。有機相を蒸発させて乾燥すると、2,6
−ビス（ｎ−オクチルチオメチル）−４−第三ブチルフ
ェノール51g（理論値の97％）が無色油として93.3％の
純度で得られる（純収率90.5％）。
元素分析 理論値:72.04％Ｃ 実測値:71.91％Ｃ 10.80％Ｈ 10.83％Ｈ 13.74％Ｓ 13.55％Ｓ 実施例9:溶媒を用いない2,6−ビス（ｎ−オクチルチオ
メチル）−４−第三ブチルフェノールの製造 ４−第三ブチルフェノール240.3g（1.6モル）、パラ
ホルムアルデヒド468.2g（3.2モル）及びｎ−オクタン
チオール100.9g（3.32モル）の混合物を用いて実施例４
の操作を繰り返す。次いでその懸濁液の中にガス状のジ
メチルアミン8.7g（0.19モル）を通す。反応時間は３時
間である。収量：純度94.1％の2,6−ビス（ｎ−オクチ
ルチオメチル）−４−第三ブチルフェノール670g（理論
値の90％）（純収率84.7％）。
メチル）−４−第三ブチルフェノールの製造 ４−第三ブチルフェノール240.3g（1.6モル）、パラ
ホルムアルデヒド468.2g（3.2モル）及びｎ−オクタン
チオール100.9g（3.32モル）の混合物を用いて実施例４
の操作を繰り返す。次いでその懸濁液の中にガス状のジ
メチルアミン8.7g（0.19モル）を通す。反応時間は３時
間である。収量：純度94.1％の2,6−ビス（ｎ−オクチ
ルチオメチル）−４−第三ブチルフェノール670g（理論
値の90％）（純収率84.7％）。
実施例10:2,2−ビス〔4,4′−ジヒドロキシ−3,3′,5,
5′−テトラキス（ｎ−オクチルチオメチル）フェニ
ル〕プロパンの製造 ビスフェノールA23.3g（0.10モル）、パラホルムアル
デヒド20.4g（0.68モル）、ｎ−オクタンチオール60.33
g（0.41モル）、ジメチルアミンの33％エタノール溶液
7.5g（ジメチルアミン約0.056モルに相当）及びN,N−ジ
メチルホルムアミド40ml（38g）からなる混合物を用い
て実施例８の操作を繰り返す。反応時間は６時間であ
る。収量:94.6％の純度の淡黄色油としての生成物86.4
％（理論値の99％）（純収率93.7％）。
5′−テトラキス（ｎ−オクチルチオメチル）フェニ
ル〕プロパンの製造 ビスフェノールA23.3g（0.10モル）、パラホルムアル
デヒド20.4g（0.68モル）、ｎ−オクタンチオール60.33
g（0.41モル）、ジメチルアミンの33％エタノール溶液
7.5g（ジメチルアミン約0.056モルに相当）及びN,N−ジ
メチルホルムアミド40ml（38g）からなる混合物を用い
て実施例８の操作を繰り返す。反応時間は６時間であ
る。収量:94.6％の純度の淡黄色油としての生成物86.4
％（理論値の99％）（純収率93.7％）。
元素分析 理論値:71.10％Ｃ 実測値:70.87％Ｃ 10.30％Ｈ 10.51％Ｈ 14.89％Ｓ 14.87％Ｓ 実施例11:2,4−ビス（ｎ−オクチルチオメチル−６−メ
チルフェノールの製造 塩基としてジメチルアミン0.03モルの代わりにメチル
アミン0.93g（0.03モル）を用いて実施例１の操作を繰
り返す。収量：純度78.3％の黄色液体としての生成物6
0.38g（理論値の98.5％）（純収率77.1％）。
チルフェノールの製造 塩基としてジメチルアミン0.03モルの代わりにメチル
アミン0.93g（0.03モル）を用いて実施例１の操作を繰
り返す。収量：純度78.3％の黄色液体としての生成物6
0.38g（理論値の98.5％）（純収率77.1％）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロジャー マルティン スイス国，1711 テントリンゲン，ウフ エム ベルク ２ (72)発明者 レト ルイソーリ スイス国，4434 ヘルスタイン，スツッ ツリンク ３ (56)参考文献 特開 昭61−43158（ＪＰ，Ａ)
Claims (10)
- 【請求項１】次式III又はIV: 〔各式中、 R2及びZ1は下記の意味を表わし、 R33及びR44は互に独立して水素原子、炭素原子数１ない
し20のアルキル基、アリル基、炭素原子数５ないし12の
シクロアルキル基、フェニル基、フェニル−炭素原子数
１ないし４のアルキル基又はハロゲン原子を表わすが、
R33とR44の少なくとも１つは水素原子を表わし、そして Z22は水素原子又は炭素原子数１ないし20のアルキル基
を表わす〕 で表わされるフェノールと、ホルムアルデヒド若しくは
反応条件下でホルムアルデヒドを遊離する化合物、及び
少なくとも１種のメルカプタンR1−SHとを、モノ−，ジ
−若しくはトリメチルアミン又はモノ−若しくはジエチ
ルアミンである塩基の存在下で反応させることによる次
式Ｉ又はII: 〔各式中、 R1は非置換の又は１若しくは２個のヒドロキシル基で置
換された又は−Ｏ−で中断された炭素原子数１ないし20
のアルキル基を表わすか、又は炭素原子数１ないし４の
アルキレン−COOR5、炭素原子数１ないし４のアルキレ
ン−CO−NR5R6、炭素原子数５ないし12のシクロアルキ
ル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、
炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル基又はフェニ
ル−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数１ないし20のアルキル基、炭
素原子数２ないし18のアルケニル基又はハロゲン原子を
表わし、 R3及びR4は互に独立して炭素原子数１ないし20のアルキ
ル基、アリル基、炭素原子数５ないし12のシクロアルキ
ル基、フェニル基、フェニル−炭素原子数１ないし４の
アルキル基、ハロゲン原子又は−CH2−Ｓ−R1を表わす
が、R3とR4の少なくとも１つは−CH2−Ｓ−R1を表わ
し、 R5は炭素原子数１ないし20のアルキル基、アリル基、炭
素原子数５ないし12のシクロアルキル基、フェニル基又
はベンジル基を表わし、 R6は水素原子、炭素原子数１ないし20のアルキル基又は
炭素原子数２ないし18のアルケニル基を表わし、 Z1は−Ｓ−又は−Ｃ（Z3）（Z4）−を表わし、 Z2は水素原子、炭素原子数１ないし20のアルキル基又は
−CH2−Ｓ−R1を表わし、 Z3は水素原子又はメチル基を表わし、そして Z4は水素原子又は炭素原子数１ないし８のアルキル基を
表わすが、但し式Ｉ又はIIで表わされるフェノールのｍ
−位には官能基−CH2−Ｓ−R1を有さない〕 で表わされる化合物の製造方法。 - 【請求項２】塩基がモノメチルアミン又はジメチルアミ
ンである特許請求の範囲第１項記載の方法。 - 【請求項３】塩基がジメチルアミンである特許請求の範
囲第２項記載の方法。 - 【請求項４】メルカプタンに基づき、１ないし50モル％
の塩基を用いる特許請求の範囲第１項記載の方法。 - 【請求項５】溶媒不在下で反応させる特許請求の範囲第
１項記載の方法。 - 【請求項６】次式： 〔式中、R1,R2及びR4は特許請求の範囲第１項で定義し
た意味を表わす〕 で表わされる化合物を製造するための特許請求の範囲第
１項記載の方法。 - 【請求項７】R2が水素原子又はメチル基を表わし、R4が
メチル基、第三ブチル基又はシクロヘキシル基を表わす
特許請求の範囲第６項記載の方法。 - 【請求項８】R1が炭素原子数８ないし12のアルキル基、
アルキル部分に１ないし18個の炭素原子を含む−CH2−C
OO−アルキル基、−CH2−CH2−OH、フェニル基又はベン
ジル基を表わす式Ｉで表わされる化合物を製造するため
の特許請求の範囲第１項記載の方法。 - 【請求項９】R1が炭素原子数８ないし12のアルキル基を
表わす特許請求の範囲第８項記載の方法。 - 【請求項１０】R1が−CH2−COO−CH2−CH（C2H5）−（C
H2）３−CH3を表わす特許請求の範囲第８項記載の方
法。
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