JP2501246B2 - 半導体装置 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 119
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 9
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 24
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000881 depressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000009415 formwork Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49568—Lead-frames or other flat leads specifically adapted to facilitate heat dissipation
-
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/60—Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は樹脂封止された半導体装
置およびその製造方法に関する。
置およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図8により、従来のワイヤボンディング
型半導体装置について説明する。図8において、ワイヤ
ボンディング型半導体装置はベッド5、インナリード
7、およびアウタリード6を一体に有する金属性のリー
ドフレーム3と、ベッド5上に載置された半導体チップ
1とを備えている。また、半導体チップ1とインナリー
ド7との間はボンディングワイヤ4により接続され、半
導体チップ1およびボンディングワイヤ4の周囲は合成
樹脂2によって封止されている。
型半導体装置について説明する。図8において、ワイヤ
ボンディング型半導体装置はベッド5、インナリード
7、およびアウタリード6を一体に有する金属性のリー
ドフレーム3と、ベッド5上に載置された半導体チップ
1とを備えている。また、半導体チップ1とインナリー
ド7との間はボンディングワイヤ4により接続され、半
導体チップ1およびボンディングワイヤ4の周囲は合成
樹脂2によって封止されている。
【0003】ところで、近年の半導体装置における高集
積化および高速度化により、半導体チップ1の発熱量が
増加しており、発熱した半導体チップ1を効果的に放熱
させることが求められている。
積化および高速度化により、半導体チップ1の発熱量が
増加しており、発熱した半導体チップ1を効果的に放熱
させることが求められている。
【0004】半導体チップ1を効果的に放熱させるもの
として、図9に示すワイヤボンディング型半導体装置が
考えられている。図9のワイヤボンディング型半導体装
置は、半導体チップ1が載置されるベッド5の形状を半
導体チップ1の形状と無関係に大きくし、合成樹脂2の
外形近傍まで拡大したものである。図9のワイヤボンデ
ィング型半導体装置によれば熱伝導の悪い合成樹脂2内
において、発熱する半導体チップ1と当接する熱伝導の
良好なヘッド5の形状を拡大させたことにより、効果的
に半導体チップ1の放熱を行なうことができる。しかし
ながら、図9のようにベッド5の形状を拡大させた場
合、半導体チップ1とインナリード7との間の距離が長
くなる。これにともなってボンディングワイヤ4の長さ
も長くなり、このボンディングワイヤ4がベッド5に接
触し、リーク不良になることがある。
として、図9に示すワイヤボンディング型半導体装置が
考えられている。図9のワイヤボンディング型半導体装
置は、半導体チップ1が載置されるベッド5の形状を半
導体チップ1の形状と無関係に大きくし、合成樹脂2の
外形近傍まで拡大したものである。図9のワイヤボンデ
ィング型半導体装置によれば熱伝導の悪い合成樹脂2内
において、発熱する半導体チップ1と当接する熱伝導の
良好なヘッド5の形状を拡大させたことにより、効果的
に半導体チップ1の放熱を行なうことができる。しかし
ながら、図9のようにベッド5の形状を拡大させた場
合、半導体チップ1とインナリード7との間の距離が長
くなる。これにともなってボンディングワイヤ4の長さ
も長くなり、このボンディングワイヤ4がベッド5に接
触し、リーク不良になることがある。
【0005】一方、従来のTAB型半導体装置として、
図10に示すものが知られている。図10においてTA
B型半導体装置は、ミドルリード8およびアウタリード
6を一体に有する金属製のリードフレーム3と、インナ
ワイヤ13およびミドルワイヤ14を有するTABテー
プ11とを備えている。インナワイヤ13とミドルワイ
ヤ14は連結ワイヤ15を介して互いに連結されてお
リ、インナワイヤ13には、バンプ12を介して半導体
チップ1が接続されている。またTABテープ11のミ
ドリワイヤ14はリードフレーム3のミドルリード8に
接続されている。また、半導体チップ1およびTABテ
ープ11と、その周囲は合成樹脂2により樹脂封止され
ている。
図10に示すものが知られている。図10においてTA
B型半導体装置は、ミドルリード8およびアウタリード
6を一体に有する金属製のリードフレーム3と、インナ
ワイヤ13およびミドルワイヤ14を有するTABテー
プ11とを備えている。インナワイヤ13とミドルワイ
ヤ14は連結ワイヤ15を介して互いに連結されてお
リ、インナワイヤ13には、バンプ12を介して半導体
チップ1が接続されている。またTABテープ11のミ
ドリワイヤ14はリードフレーム3のミドルリード8に
接続されている。また、半導体チップ1およびTABテ
ープ11と、その周囲は合成樹脂2により樹脂封止され
ている。
【0006】次に図10に示すTAB型半導体装置の製
造方法について、図9乃至図13により説明する。図1
1に示すように、まずポリイミド製の基材を準備し、こ
の基材をパンチングした後、銅箔をラミネートする。次
に銅箔に対してフォトパタン作業、エッチング作業およ
びめっき作業を順次施して、図12に示すようなTAB
テープ11を製造する。他方、図11に示すように、通
常ウェハを準備し、このウェハに対してバンプ形成作
業、プロービング作業を順次施して半導体チップ1を製
造する。また、これらと平行して図11に示すように金
属製素材を準備し、この素材に対してフォトパタン作
業、エッチング作業、およびめっき作業を順次施して、
図13に示すようなリードフレーム3を製造する。次に
半導体チップ1とTABテープ11のインナワイヤ13
とをバンプ12を塊して接続する。その後、TABテー
プ11のミドルワイヤ14の外方部分を切断し、ミドル
ワイヤ14を外方に露出させる。次にTABテープ11
のミドルワイヤ14と、リードフレーム3のミドルリー
ド8とを接続し、その後、半導体チップ1およびTAB
テープ11とその周囲を合成樹脂により封止する。その
後、外装処理作業、アウターリードフォーム作業が施さ
れ、このように図10に示すTAB型半導体装置が製造
される。この半導体装置に対して、その後検査作業が行
なわれる。図10に示す半導体装置において、半導体チ
ップ1は金属製リードフレームに当接していないので、
半導体チップ1で発生した熱は半導体チップ1から熱伝
導の悪い合成樹脂2を通って放熱されることになる。こ
のため図10の半導体装置の放熱特性は良好でない。
造方法について、図9乃至図13により説明する。図1
1に示すように、まずポリイミド製の基材を準備し、こ
の基材をパンチングした後、銅箔をラミネートする。次
に銅箔に対してフォトパタン作業、エッチング作業およ
びめっき作業を順次施して、図12に示すようなTAB
テープ11を製造する。他方、図11に示すように、通
常ウェハを準備し、このウェハに対してバンプ形成作
業、プロービング作業を順次施して半導体チップ1を製
造する。また、これらと平行して図11に示すように金
属製素材を準備し、この素材に対してフォトパタン作
業、エッチング作業、およびめっき作業を順次施して、
図13に示すようなリードフレーム3を製造する。次に
半導体チップ1とTABテープ11のインナワイヤ13
とをバンプ12を塊して接続する。その後、TABテー
プ11のミドルワイヤ14の外方部分を切断し、ミドル
ワイヤ14を外方に露出させる。次にTABテープ11
のミドルワイヤ14と、リードフレーム3のミドルリー
ド8とを接続し、その後、半導体チップ1およびTAB
テープ11とその周囲を合成樹脂により封止する。その
後、外装処理作業、アウターリードフォーム作業が施さ
れ、このように図10に示すTAB型半導体装置が製造
される。この半導体装置に対して、その後検査作業が行
なわれる。図10に示す半導体装置において、半導体チ
ップ1は金属製リードフレームに当接していないので、
半導体チップ1で発生した熱は半導体チップ1から熱伝
導の悪い合成樹脂2を通って放熱されることになる。こ
のため図10の半導体装置の放熱特性は良好でない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述のようにワイヤボ
ンディング型半導体装置において、ベッド5の形状を大
きくした場合、ボンディングワイヤ4が長くなりすぎて
ボンディングワイヤ4がベッド5に接触し、リークの問
題が生じることがある。一方、TAB型半導体装置はリ
ークの問題がなくなるが、半導体チップに発生した熱を
熱伝導の悪い合成樹脂2から放熱しなければならず、放
熱特性が悪いという問題がある。本発明はこのような点
を考慮してなされたものであり、リークの問題を生じさ
せることなく、かつ放熱特性の良好な半導体装置および
その製造方法を提供することを目的とする。
ンディング型半導体装置において、ベッド5の形状を大
きくした場合、ボンディングワイヤ4が長くなりすぎて
ボンディングワイヤ4がベッド5に接触し、リークの問
題が生じることがある。一方、TAB型半導体装置はリ
ークの問題がなくなるが、半導体チップに発生した熱を
熱伝導の悪い合成樹脂2から放熱しなければならず、放
熱特性が悪いという問題がある。本発明はこのような点
を考慮してなされたものであり、リークの問題を生じさ
せることなく、かつ放熱特性の良好な半導体装置および
その製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
インナワイヤおよびミドルワイヤを有するTABテープ
と、前記TABテープのインナワイヤにバンプを介して
接続された半導体チップと、前記TABテープのミドル
ワイヤに接続されたミドルリード、このミドルリードに
連結されたアウタリードおよび前記半導体チップと当接
するベッドを一体に有するリードフレームと、前記半導
体チップおよび前記TABテープとその周囲を封止する
樹脂と、を備え、前記ベッドは前記TABテープと略同
一の長さを有し、かつ前記ベッドは前記TABテープに
平行にかつTABテープに対応する位置に配置されてい
ることを特徴とする半導体装置である。請求項2記載の
発明は、インナワイヤおよびミドルワイヤを有するTA
Bテープと、前記TABテープのインナワイヤにバンプ
を介して接続された半導体チップと、前記TABテープ
のミドルワイヤに接続されたミドルリード、このミドル
リードに連結されたアウタリードおよび前記半導体チッ
プと当接するベッドを一体に有するリードフレームと、
前記半導体チップおよび前記TABテープとその周囲を
封止する樹脂と、を備え、前記リードフレームのミドル
リードおよび前記TABテープは略同一水平面上に配置
され、前記リードフレームのベッドはミドルリードおよ
びTABテープの配置面に対して半導体チップの厚さだ
け離れた水平面上に配置されていることを特徴とする半
導体装置である。
インナワイヤおよびミドルワイヤを有するTABテープ
と、前記TABテープのインナワイヤにバンプを介して
接続された半導体チップと、前記TABテープのミドル
ワイヤに接続されたミドルリード、このミドルリードに
連結されたアウタリードおよび前記半導体チップと当接
するベッドを一体に有するリードフレームと、前記半導
体チップおよび前記TABテープとその周囲を封止する
樹脂と、を備え、前記ベッドは前記TABテープと略同
一の長さを有し、かつ前記ベッドは前記TABテープに
平行にかつTABテープに対応する位置に配置されてい
ることを特徴とする半導体装置である。請求項2記載の
発明は、インナワイヤおよびミドルワイヤを有するTA
Bテープと、前記TABテープのインナワイヤにバンプ
を介して接続された半導体チップと、前記TABテープ
のミドルワイヤに接続されたミドルリード、このミドル
リードに連結されたアウタリードおよび前記半導体チッ
プと当接するベッドを一体に有するリードフレームと、
前記半導体チップおよび前記TABテープとその周囲を
封止する樹脂と、を備え、前記リードフレームのミドル
リードおよび前記TABテープは略同一水平面上に配置
され、前記リードフレームのベッドはミドルリードおよ
びTABテープの配置面に対して半導体チップの厚さだ
け離れた水平面上に配置されていることを特徴とする半
導体装置である。
【0009】
【作用】しかして請求項1記載の発明によれば、ベッド
がTABテープと略同一の長さを有し、ベッドはTAB
テープに平行にかつTABテープに対応する位置に配置
されているので、例えば合成樹脂により樹脂封止する場
合、軟質のTABテープが揺れてもTABテープのミド
ルワイヤがベッドに触れることはなく、またベッドから
良好な放熱を行うことができる。また請求項2記載の発
明によれば、リードフレームのベッドがミドルリードお
よびTABテープの配置面に対して半導体チップの厚さ
だけ離れた水平面上に配置されているので、側方からみ
てミドルリードとベッドとの間に半導体チップの厚さだ
け隙間をあけることができる。このため合成樹脂により
樹脂封止する際、ミドルリードとベッドとの間の隙間か
ら半導体チップの周辺に向って合成樹脂を十分に行き渡
らせることができる。このため、半導体チップ周辺を精
度良く樹脂封止することができる。
がTABテープと略同一の長さを有し、ベッドはTAB
テープに平行にかつTABテープに対応する位置に配置
されているので、例えば合成樹脂により樹脂封止する場
合、軟質のTABテープが揺れてもTABテープのミド
ルワイヤがベッドに触れることはなく、またベッドから
良好な放熱を行うことができる。また請求項2記載の発
明によれば、リードフレームのベッドがミドルリードお
よびTABテープの配置面に対して半導体チップの厚さ
だけ離れた水平面上に配置されているので、側方からみ
てミドルリードとベッドとの間に半導体チップの厚さだ
け隙間をあけることができる。このため合成樹脂により
樹脂封止する際、ミドルリードとベッドとの間の隙間か
ら半導体チップの周辺に向って合成樹脂を十分に行き渡
らせることができる。このため、半導体チップ周辺を精
度良く樹脂封止することができる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
1乃至図5は本発明による半導体装置およびその製造方
法の第1の実施例に示す図である。図1において、本発
明による半導体装置は、ベッド5、ミドルリード8およ
びアウタリード6を一体に有する金属製のリードフレー
ム3と、インナワイヤ13およびミドルワイヤ14を有
するTABテープ11とを備えたTAB型の半導体装置
となっている。インナワイヤ13とミドルワイヤ14は
連結ワイヤ15を介して互いに連結されており、インナ
ワイヤ13にはバンプ12を介して半導体チップ1が接
続されている。またTABテープ11のミドルワイヤ1
4はリードフレーム3のミドルリード8に接続されてい
る。さらに、半導体チップ1およびTABテープ11
と、その周囲は合成樹脂2により樹脂封止されている。
1乃至図5は本発明による半導体装置およびその製造方
法の第1の実施例に示す図である。図1において、本発
明による半導体装置は、ベッド5、ミドルリード8およ
びアウタリード6を一体に有する金属製のリードフレー
ム3と、インナワイヤ13およびミドルワイヤ14を有
するTABテープ11とを備えたTAB型の半導体装置
となっている。インナワイヤ13とミドルワイヤ14は
連結ワイヤ15を介して互いに連結されており、インナ
ワイヤ13にはバンプ12を介して半導体チップ1が接
続されている。またTABテープ11のミドルワイヤ1
4はリードフレーム3のミドルリード8に接続されてい
る。さらに、半導体チップ1およびTABテープ11
と、その周囲は合成樹脂2により樹脂封止されている。
【0011】またリードフレーム3のベッド5は半導体
チップ1の上面に当接しており、このベッド5の形状は
半導体チップ1の形状と無関係に拡大している。すなわ
ち、ベッド5の形状は、合成樹脂2の外縁から内側へ5
mm程度入った地点まで拡大している。またベッド5は
TABテープ11と略同一の長さを有し、ベッド5はT
ABテープ11に平行にかつTABテープ11に対応す
る位置に配置されている(図1参照)。このため、合成
樹脂2により樹脂封止する場合、軟質のTABテープ1
1が揺れてもTABテープ11のミドルワイヤ14がベ
ッド5に触れることはなく、またベッドから良好な放熱
を行うことができる。なお、図1において、リードフレ
ーム3のミドルリード8およびTABテープ11は略同
一水平面上に配置され、リードフレーム3のベッド5は
半導体チップ1の厚さ分だけミドルリード8より上方に
位置している。このように、リードフレーム3のベッド
5がミドルリード8およびTABテープ11の配置面に
対して半導体チップ6の厚さだけ離れた水平面上に配置
されているので、側方からみてミドルリード8とベッド
5との間に半導体チップ6の厚さだけ隙間をあけること
ができる。このため合成樹脂2により樹脂封止する際、
ミドルリード8とベッド5との間の隙間から半導体チッ
プ6の周辺に向って合成樹脂2を十分に行き渡らせるこ
とができる。このため、半導体チップ6周辺を精度良く
樹脂封止することができる。
チップ1の上面に当接しており、このベッド5の形状は
半導体チップ1の形状と無関係に拡大している。すなわ
ち、ベッド5の形状は、合成樹脂2の外縁から内側へ5
mm程度入った地点まで拡大している。またベッド5は
TABテープ11と略同一の長さを有し、ベッド5はT
ABテープ11に平行にかつTABテープ11に対応す
る位置に配置されている(図1参照)。このため、合成
樹脂2により樹脂封止する場合、軟質のTABテープ1
1が揺れてもTABテープ11のミドルワイヤ14がベ
ッド5に触れることはなく、またベッドから良好な放熱
を行うことができる。なお、図1において、リードフレ
ーム3のミドルリード8およびTABテープ11は略同
一水平面上に配置され、リードフレーム3のベッド5は
半導体チップ1の厚さ分だけミドルリード8より上方に
位置している。このように、リードフレーム3のベッド
5がミドルリード8およびTABテープ11の配置面に
対して半導体チップ6の厚さだけ離れた水平面上に配置
されているので、側方からみてミドルリード8とベッド
5との間に半導体チップ6の厚さだけ隙間をあけること
ができる。このため合成樹脂2により樹脂封止する際、
ミドルリード8とベッド5との間の隙間から半導体チッ
プ6の周辺に向って合成樹脂2を十分に行き渡らせるこ
とができる。このため、半導体チップ6周辺を精度良く
樹脂封止することができる。
【0012】次にこのような構成からなる半導体装置の
製造方法について説明する。図2に示すように、まずポ
リイミド性の基材を準備し、この基材をパンチングした
後、銅箔をラミネートする。次に銅箔に対してフォトパ
タン作業、エッチング作業およびめっき作業を順次施し
て、図3に示すようなTABテープ11を製造する。他
方、図2に示すように、通常ウェハを準備し、このウェ
ハに対してバンプ形成作業、プロービング作業、および
ダイシング作業を順次施して半導体チップ1を製造す
る。またこれらと平行して図2に示すように金属製素材
を準備し、この素材に対してフォトパタン作業、エッチ
ング作業、めっき作業およびプレス作業を順次施して、
図4に示すようなリードフレーム3を製造する。このう
ちデプレス作業は、リードフレーム3のうち、ベッド5
の部分を押圧してリードフレーム3の他の部分との間に
段差を形成するものであり、この段差は半導体チップ1
の厚さに略一致している(図5)。
製造方法について説明する。図2に示すように、まずポ
リイミド性の基材を準備し、この基材をパンチングした
後、銅箔をラミネートする。次に銅箔に対してフォトパ
タン作業、エッチング作業およびめっき作業を順次施し
て、図3に示すようなTABテープ11を製造する。他
方、図2に示すように、通常ウェハを準備し、このウェ
ハに対してバンプ形成作業、プロービング作業、および
ダイシング作業を順次施して半導体チップ1を製造す
る。またこれらと平行して図2に示すように金属製素材
を準備し、この素材に対してフォトパタン作業、エッチ
ング作業、めっき作業およびプレス作業を順次施して、
図4に示すようなリードフレーム3を製造する。このう
ちデプレス作業は、リードフレーム3のうち、ベッド5
の部分を押圧してリードフレーム3の他の部分との間に
段差を形成するものであり、この段差は半導体チップ1
の厚さに略一致している(図5)。
【0013】次に半導体チップ1とTABテープ11イ
ンナワイヤ13とをバンプ12を介して接続する。その
後、TABテープ11のミドルワイヤ14の外方部分お
よび不要のテープ部分11aを切断し、ミドルワイヤ1
4を外方に露出させる。次にTABテープ11のミドル
ワイヤ14と、リードフレーム3のミドルリード8とを
接続させ、同時に半導体チップ1とリードフレーム3の
ベッド5とを接続させる。その後、半導体チップ1およ
びTABテープ11とその周囲を合成樹脂2により樹脂
封止する。その後、外装処理作業、アウターリードフォ
ーム作業が順次施され、このようにして図11に示すT
AB型半導体装置が製造される。この半導体装置に対し
て、その後検査作業が行なわれる。
ンナワイヤ13とをバンプ12を介して接続する。その
後、TABテープ11のミドルワイヤ14の外方部分お
よび不要のテープ部分11aを切断し、ミドルワイヤ1
4を外方に露出させる。次にTABテープ11のミドル
ワイヤ14と、リードフレーム3のミドルリード8とを
接続させ、同時に半導体チップ1とリードフレーム3の
ベッド5とを接続させる。その後、半導体チップ1およ
びTABテープ11とその周囲を合成樹脂2により樹脂
封止する。その後、外装処理作業、アウターリードフォ
ーム作業が順次施され、このようにして図11に示すT
AB型半導体装置が製造される。この半導体装置に対し
て、その後検査作業が行なわれる。
【0014】本実施例によれば、半導体チップ1で発生
した熱は、半導体チップ1に接続された金属製ベッド5
によって放熱されることになる。この場合、ベッド5の
形状を合成樹脂2の外縁近傍まで拡大させたので、半導
体チップ1の熱を熱伝導の良好なシリコン製の半導体チ
ップ1、および金属製ベッド5を通って合成樹脂2の外
縁近傍まで良好に放熱することができる。このため高集
積化・高速化により消費電力が高くなった半導体チップ
1についても、良好に放熱することができるので、半導
体チップの正常な動作を維持することができる。
した熱は、半導体チップ1に接続された金属製ベッド5
によって放熱されることになる。この場合、ベッド5の
形状を合成樹脂2の外縁近傍まで拡大させたので、半導
体チップ1の熱を熱伝導の良好なシリコン製の半導体チ
ップ1、および金属製ベッド5を通って合成樹脂2の外
縁近傍まで良好に放熱することができる。このため高集
積化・高速化により消費電力が高くなった半導体チップ
1についても、良好に放熱することができるので、半導
体チップの正常な動作を維持することができる。
【0015】具体例 次に本実施例の具体例について説明する。QFP(Quad
Flat Package )144ピンおよび5mm角の半導体チッ
プを有する従来の半導体装置において、その熱抵抗は8
0℃/w程度であった。一方、本発明による半導体装置
において、その熱抵抗は60℃/w程度まで改善され
た。このことによって、例えば半導体チップの使用限界
温度が85℃の場合、常温25℃における本発明の半導
体装置の使用が可能となった。すなわち従来の半導体装
置においては、同一の半導体チップを用いた場合、周囲
温度を5℃以下に保つか、あるいは封止体を合成樹脂か
らセラミック等に変更させる必要がある。
Flat Package )144ピンおよび5mm角の半導体チッ
プを有する従来の半導体装置において、その熱抵抗は8
0℃/w程度であった。一方、本発明による半導体装置
において、その熱抵抗は60℃/w程度まで改善され
た。このことによって、例えば半導体チップの使用限界
温度が85℃の場合、常温25℃における本発明の半導
体装置の使用が可能となった。すなわち従来の半導体装
置においては、同一の半導体チップを用いた場合、周囲
温度を5℃以下に保つか、あるいは封止体を合成樹脂か
らセラミック等に変更させる必要がある。
【0016】次に本発明の第2の実施例について、図6
および図7により説明する。図6に示すように、本実施
例による半導体装置は、リードフレーム3のミドルリー
ド8とベッド5とを同一水平面上に配置するとともに、
TABテープ11のミドルワイヤ14を上方に折曲げリ
ードフレーム3のミドルリード8に接続したものであ
り、他は第1の実施例と略同様の構成となっている。
および図7により説明する。図6に示すように、本実施
例による半導体装置は、リードフレーム3のミドルリー
ド8とベッド5とを同一水平面上に配置するとともに、
TABテープ11のミドルワイヤ14を上方に折曲げリ
ードフレーム3のミドルリード8に接続したものであ
り、他は第1の実施例と略同様の構成となっている。
【0017】次にこのような構成からなる半導体装置の
製造方法について図7により説明する。図7に示すよう
に、まずポリイミド製の基材を準備し、この基材をパン
チングした後、銅箔をラミネートする。次に銅箔に対し
てフォトパタン作業、エッチング作業およびめっき作業
を順次施して、TABテープ11を製造する(図3参
照)。他方、図7に示すように、通常ウェハを準備し、
このウェハに対してバンプ成形作業、プロービング作
業、およびダイシング作業を順次施して半導体チップ1
を製造する。また、これらと平行して図7に示すように
金属製素材を準備し、この素材に対してフォトパタン作
業、エッチング作業、およびめっき作業を順次施して、
リードフレーム3を製造する(図4参照)。
製造方法について図7により説明する。図7に示すよう
に、まずポリイミド製の基材を準備し、この基材をパン
チングした後、銅箔をラミネートする。次に銅箔に対し
てフォトパタン作業、エッチング作業およびめっき作業
を順次施して、TABテープ11を製造する(図3参
照)。他方、図7に示すように、通常ウェハを準備し、
このウェハに対してバンプ成形作業、プロービング作
業、およびダイシング作業を順次施して半導体チップ1
を製造する。また、これらと平行して図7に示すように
金属製素材を準備し、この素材に対してフォトパタン作
業、エッチング作業、およびめっき作業を順次施して、
リードフレーム3を製造する(図4参照)。
【0018】次に、半導体チップ1とTABテープ11
のインナワイヤ13とをパンプ12を介して接続する。
その後、TABテープ11のミドルワイヤ14の外方部
分および不要のテープ部分11aを切断し、ミドルワイ
ヤ14を外方に露出させる。その後、TABテープ11
のミドルワイヤ14をフォーミングして上方に折曲げ、
リードフレーム3のミドルリード8と接続し易いように
する。次にTABテープ11のミドルワイヤ14と、リ
ードフレーム3のミドルリード8とを接続させ、同時に
半導体チップ1とリードフレーム3のベッド5とを接続
させる。その後、半導体チップ1およびTABテープ1
1とその周囲を合成樹脂2により樹脂封止する。その
後、外装処理作業、アウターリードフォーム作業が順次
施され、このようにして図6に示すTAB型半導体装置
が製造される。この半導体装置に対して、その後検査作
業が行なわれる。
のインナワイヤ13とをパンプ12を介して接続する。
その後、TABテープ11のミドルワイヤ14の外方部
分および不要のテープ部分11aを切断し、ミドルワイ
ヤ14を外方に露出させる。その後、TABテープ11
のミドルワイヤ14をフォーミングして上方に折曲げ、
リードフレーム3のミドルリード8と接続し易いように
する。次にTABテープ11のミドルワイヤ14と、リ
ードフレーム3のミドルリード8とを接続させ、同時に
半導体チップ1とリードフレーム3のベッド5とを接続
させる。その後、半導体チップ1およびTABテープ1
1とその周囲を合成樹脂2により樹脂封止する。その
後、外装処理作業、アウターリードフォーム作業が順次
施され、このようにして図6に示すTAB型半導体装置
が製造される。この半導体装置に対して、その後検査作
業が行なわれる。
【0019】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明によれば、半導体チップと当接するベッドを有してい
るので、半導体チップに発生する熱を、リーク不良の問
題を生じさせることなくベッドを介して良好に放熱させ
ることができる。また合成樹脂により樹脂防止する際、
軟質のTABテープが揺れてもTABテープのミドルワ
イヤがベッドに触れることなく、良好な放熱を行うこと
ができる。請求項2記載の発明によれば、合成樹脂によ
る樹脂防止の際、ミドルリードとベッド2と間の隙間か
ら半導体チップの周辺に向って合成樹脂を十分に行き渡
らせることができ、このため半導体チップの周辺を精度
良く樹脂防止することができる。
明によれば、半導体チップと当接するベッドを有してい
るので、半導体チップに発生する熱を、リーク不良の問
題を生じさせることなくベッドを介して良好に放熱させ
ることができる。また合成樹脂により樹脂防止する際、
軟質のTABテープが揺れてもTABテープのミドルワ
イヤがベッドに触れることなく、良好な放熱を行うこと
ができる。請求項2記載の発明によれば、合成樹脂によ
る樹脂防止の際、ミドルリードとベッド2と間の隙間か
ら半導体チップの周辺に向って合成樹脂を十分に行き渡
らせることができ、このため半導体チップの周辺を精度
良く樹脂防止することができる。
【図1】本発明による半導体装置の第1の実施例を示す
側断面図。
側断面図。
【図2】図1の半導体装置の製造方法を示すフロー図。
【図3】半導体装置の製造に用いるTABテープの平面
図。
図。
【図4】半導体装置の製造に用いるリードフレームの平
面図。
面図。
【図5】図くの5−5線断面図。
【図6】本発明による半導体装置の第2の実施例を示す
側断面図。
側断面図。
【図7】図6の半導体装置の製造方法を示すフロー図。
【図8】従来のワイヤボンディング型半導体装置を示す
側断面図。
側断面図。
【図9】従来のワイヤボンディング型半導体装置を示す
側断面図。
側断面図。
【図10】従来のTAB型半導体装置を示す側断面図。
【図11】従来のTAB型半導体装置の製造方法を示す
フロー図。
フロー図。
【図12】従来のTAB型半導体装置の製造に用いるT
ABテープの平面図。
ABテープの平面図。
【図13】従来のTAB型半導体装置の製造に用いるリ
ードフレームの平面図。
ードフレームの平面図。
1 半導体チップ 2 合成樹脂 3 リードフレーム 5 ベッド 6 アウタリード 8 ミドルリード 11 TABテープ 12 バンプ 13 インナワイヤ 14 ミドルワイヤ 15 連結ワイヤ
Claims (3)
- 【請求項1】インナワイヤおよびミドルワイヤを有する
TABテープと、 前記TABテープのインナワイヤにバンプを介して接続
された半導体チップと、 前記TABテープのミドルワイヤに接続されたミドルリ
ード、このミドルリードに連結されたアウタリードおよ
び前記半導体チップと当接するベッドを一体に有するリ
ードフレームと、 前記半導体チップおよび前記TABテープとその周囲を
封止する樹脂と、を備え、 前記ベッドは前記TABテープと略同一の長さを有し、
かつ前記ベッドは前記TABテープに平行にかつTAB
テープに対応する位置に配置されていることを特徴とす
る半導体装置。 - 【請求項2】インナワイヤおよびミドルワイヤを有する
TABテープと、 前記TABテープのインナワイヤにバンプを介して接続
された半導体チップと、 前記TABテープのミドルワイヤに接続されたミドルリ
ード、このミドルリードに連結されたアウタリードおよ
び前記半導体チップと当接するベッドを一体に有するリ
ードフレームと、 前記半導体チップおよび前記TABテープとその周囲を
封止する樹脂と、を備え、 前記リードフレームのミドルリードおよび前記TABテ
ープは略同一水平面上に配置され、前記リードフレーム
のベッドはミドルリードおよびTABテープの配置面に
対して半導体チップの厚さだけ離れた水平面上に配置さ
れていることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項3】前記ベッドは前記TABテープと略同一の
長さを有し、かつ前記ベッドは前記TABテープに平行
にかつTABテープに対応する位置に配置されてること
を特徴とする請求項2記載の半導体装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3005238A JP2501246B2 (ja) | 1991-01-21 | 1991-01-21 | 半導体装置 |
KR1019920000738A KR950006970B1 (ko) | 1991-01-21 | 1992-01-20 | 반도체 장치 및 그 제조방법 |
US07/822,721 US5248895A (en) | 1991-01-21 | 1992-01-21 | Semiconductor apparatus having resin encapsulated tab tape connections |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3005238A JP2501246B2 (ja) | 1991-01-21 | 1991-01-21 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04236434A JPH04236434A (ja) | 1992-08-25 |
JP2501246B2 true JP2501246B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=11605621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3005238A Expired - Lifetime JP2501246B2 (ja) | 1991-01-21 | 1991-01-21 | 半導体装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5248895A (ja) |
JP (1) | JP2501246B2 (ja) |
KR (1) | KR950006970B1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960006970B1 (ko) * | 1993-05-03 | 1996-05-25 | 삼성전자주식회사 | 필름 캐리어 및 그 제조방법 |
JPH08111491A (ja) * | 1994-10-12 | 1996-04-30 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP3170182B2 (ja) * | 1995-08-15 | 2001-05-28 | 株式会社東芝 | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
US6856013B1 (en) * | 1999-02-19 | 2005-02-15 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit packages, ball-grid array integrated circuit packages and methods of packaging an integrated circuit |
US6825550B2 (en) * | 1999-09-02 | 2004-11-30 | Micron Technology, Inc. | Board-on-chip packages with conductive foil on the chip surface |
US20030064542A1 (en) * | 2001-10-02 | 2003-04-03 | Corisis David J. | Methods of packaging an integrated circuit |
TW200836315A (en) * | 2007-02-16 | 2008-09-01 | Richtek Techohnology Corp | Electronic package structure and method thereof |
US7753633B2 (en) * | 2007-11-14 | 2010-07-13 | Newfrey Llc | Power seal bolt assembly |
WO2018142864A1 (ja) * | 2017-02-06 | 2018-08-09 | 富士電機株式会社 | 半導体モジュール、電気自動車およびパワーコントロールユニット |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5314560A (en) * | 1976-07-26 | 1978-02-09 | Mitsubishi Electric Corp | Production of semiconductor device |
US4147889A (en) * | 1978-02-28 | 1979-04-03 | Amp Incorporated | Chip carrier |
US4330790A (en) * | 1980-03-24 | 1982-05-18 | National Semiconductor Corporation | Tape operated semiconductor device packaging |
US4459607A (en) * | 1981-06-18 | 1984-07-10 | Burroughs Corporation | Tape automated wire bonded integrated circuit chip assembly |
JPS6386530A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-16 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
US4839713A (en) * | 1987-02-20 | 1989-06-13 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Package structure for semiconductor device |
US4796078A (en) * | 1987-06-15 | 1989-01-03 | International Business Machines Corporation | Peripheral/area wire bonding technique |
JPH02292836A (ja) * | 1989-05-02 | 1990-12-04 | Nippon Steel Corp | Icチップ実装用フィルムキャリア |
-
1991
- 1991-01-21 JP JP3005238A patent/JP2501246B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-01-20 KR KR1019920000738A patent/KR950006970B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1992-01-21 US US07/822,721 patent/US5248895A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04236434A (ja) | 1992-08-25 |
KR950006970B1 (ko) | 1995-06-26 |
US5248895A (en) | 1993-09-28 |
KR920015521A (ko) | 1992-08-27 |
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