JP2025116237A5 - - Google Patents

Info

Publication number
JP2025116237A5
JP2025116237A5 JP2025093877A JP2025093877A JP2025116237A5 JP 2025116237 A5 JP2025116237 A5 JP 2025116237A5 JP 2025093877 A JP2025093877 A JP 2025093877A JP 2025093877 A JP2025093877 A JP 2025093877A JP 2025116237 A5 JP2025116237 A5 JP 2025116237A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laminated film
resistive layer
heating
film according
ppm
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2025093877A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2025116237A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2020182131A external-priority patent/JP7736429B2/ja
Application filed filed Critical
Priority to JP2025093877A priority Critical patent/JP2025116237A/ja
Publication of JP2025116237A publication Critical patent/JP2025116237A/ja
Publication of JP2025116237A5 publication Critical patent/JP2025116237A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2025093877A 2020-10-30 2025-06-05 積層フィルム、第2積層フィルムの製造方法およびひずみセンサの製造方法 Pending JP2025116237A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2025093877A JP2025116237A (ja) 2020-10-30 2025-06-05 積層フィルム、第2積層フィルムの製造方法およびひずみセンサの製造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020182131A JP7736429B2 (ja) 2020-10-30 2020-10-30 積層フィルム、第2積層フィルムの製造方法およびひずみセンサの製造方法
JP2025093877A JP2025116237A (ja) 2020-10-30 2025-06-05 積層フィルム、第2積層フィルムの製造方法およびひずみセンサの製造方法

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020182131A Division JP7736429B2 (ja) 2020-10-30 2020-10-30 積層フィルム、第2積層フィルムの製造方法およびひずみセンサの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2025116237A JP2025116237A (ja) 2025-08-07
JP2025116237A5 true JP2025116237A5 (https=) 2026-04-22

Family

ID=81383386

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020182131A Active JP7736429B2 (ja) 2020-10-30 2020-10-30 積層フィルム、第2積層フィルムの製造方法およびひずみセンサの製造方法
JP2025093877A Pending JP2025116237A (ja) 2020-10-30 2025-06-05 積層フィルム、第2積層フィルムの製造方法およびひずみセンサの製造方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020182131A Active JP7736429B2 (ja) 2020-10-30 2020-10-30 積層フィルム、第2積層フィルムの製造方法およびひずみセンサの製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20230408244A1 (https=)
JP (2) JP7736429B2 (https=)
CN (1) CN116438062A (https=)
TW (1) TW202225651A (https=)
WO (1) WO2022092202A1 (https=)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022150486A (ja) * 2021-03-26 2022-10-07 Tdk株式会社 歪抵抗膜、圧力センサおよび積層体

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2562610B2 (ja) * 1987-08-08 1996-12-11 株式会社豊田中央研究所 歪ゲ−ジ用薄膜抵抗体
JP3642449B2 (ja) * 1997-03-21 2005-04-27 財団法人電気磁気材料研究所 Cr−N基歪抵抗膜およびその製造法ならびに歪センサ
CA2391164A1 (en) * 1999-04-29 2002-05-02 The Board Of Governors For Higher Education, State Of Rhode Island And P Rovidence Plantations Self-compensated ceramic strain gage for use at high temperatures
JP6022881B2 (ja) * 2012-10-04 2016-11-09 公益財団法人電磁材料研究所 歪ゲージ
JP2018151204A (ja) * 2017-03-10 2018-09-27 公益財団法人電磁材料研究所 水素ガス環境用歪センサ
CN107331487B (zh) * 2017-06-20 2019-04-09 华南理工大学 一种用于高温环境的TaN薄膜电阻及其制备方法
JP2019066312A (ja) * 2017-09-29 2019-04-25 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ
JP6793103B2 (ja) * 2017-09-29 2020-12-02 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ
JP2019066454A (ja) * 2017-09-29 2019-04-25 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ、センサモジュール
JP2019066453A (ja) * 2017-09-29 2019-04-25 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ
JP2019066313A (ja) * 2017-09-29 2019-04-25 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ
JP2019082424A (ja) * 2017-10-31 2019-05-30 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ
JP2019090724A (ja) * 2017-11-15 2019-06-13 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ
JP2019090723A (ja) * 2017-11-15 2019-06-13 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ
JP2019113411A (ja) * 2017-12-22 2019-07-11 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ、センサモジュール
JP2019132790A (ja) * 2018-02-02 2019-08-08 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ
JP2019184344A (ja) * 2018-04-05 2019-10-24 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ及びその製造方法
JP2020053433A (ja) * 2018-09-21 2020-04-02 Koa株式会社 歪センサ抵抗器
WO2020085247A1 (ja) * 2018-10-23 2020-04-30 ミネベアミツミ株式会社 アクセルペダル、ステアリング、6軸センサ、エンジン、バンパー等
JP2020129013A (ja) * 2020-06-05 2020-08-27 ミネベアミツミ株式会社 ひずみゲージ
JP7698949B2 (ja) * 2020-10-30 2025-06-26 日東電工株式会社 積層フィルム、その製造方法およびひずみセンサ
JP7659380B2 (ja) * 2020-10-30 2025-04-09 日東電工株式会社 積層フィルムおよび歪みセンサの製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2025116237A5 (https=)
JP2020524412A5 (https=)
JPWO2021187573A5 (https=)
TW201214673A (en) Resistive switching memories and the manufacturing method thereof
JP2011501426A5 (https=)
TWI456629B (zh) 形成複數個間隔特徵之方法
JP2020535643A5 (https=)
WO2001004594A1 (fr) Jauge de contrainte
CN110132445B (zh) 一种负温度系数电阻型深低温温度传感器及制备方法
JPWO2022202168A5 (https=)
JP2012129225A5 (https=)
CN108807346A (zh) 一种探测器、热敏电阻、氧化钒薄膜及其制造方法
JP2022007763A5 (https=)
JP7755708B2 (ja) ひずみゲージ
US9595401B1 (en) Method of fabricating graphene nano-mesh
KR101659615B1 (ko) 저항성 온도 센서를 포함하는 장치 및 그를 제조하는 방법
CN111509120A (zh) 磁性隧道结及其制造方法
KR102142042B1 (ko) 고온 안정성 압력센서의 제조 방법
JP2018169248A (ja) 温度センサ及びその製造方法
JP2002133614A5 (https=)
JPWO2021187577A5 (https=)
JP7697758B2 (ja) ひずみゲージ
TW201248128A (en) Thermopile sensing element
US20080174322A1 (en) Thin film resistance measurement method and tunnel magnetoresistive element fabrication method
CN207611064U (zh) 一种层结构质量及加速度传感器