JP2024503492A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112811912B (zh) * 2021-01-20 2021-11-02 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种高性能氮化硅陶瓷基片的批量化烧结方法
CN113463198A (zh) * 2021-06-17 2021-10-01 江苏富乐德半导体科技有限公司 一种氮化硅陶瓷制备方法
CN113620716B (zh) * 2021-09-02 2022-11-29 北京中材人工晶体研究院有限公司 一种氮化硅陶瓷基板及其制备方法
CN114044682A (zh) * 2021-11-29 2022-02-15 上海材料研究所 一种水基浆料凝胶注模成型制备高导热氮化硅陶瓷的方法
CN114951653A (zh) * 2022-05-26 2022-08-30 南京泉峰汽车精密技术股份有限公司 薄片螺旋结构mim件脱脂烧结工艺
CN115611637B (zh) * 2022-08-19 2023-10-27 江苏方达正塬电子材料科技有限公司 一种隔离粉及其制备方法
CN115259864A (zh) * 2022-09-26 2022-11-01 江苏富乐华功率半导体研究院有限公司 一种电子陶瓷坯体的排胶方法
CN115569610B (zh) * 2022-09-27 2025-11-18 南昌大学共青城光氢储技术研究院 一种超长定向α相氮化硅纤维阵列的生产装置及其制备方法
CN115321993A (zh) * 2022-10-17 2022-11-11 江苏富乐华功率半导体研究院有限公司 一种陶瓷坯体快速排pvb胶的方法
CN116063084A (zh) * 2023-04-04 2023-05-05 江苏富乐华功率半导体研究院有限公司 一种氮化硼印刷浆料的制备方法
CN118405908A (zh) * 2024-03-11 2024-07-30 武汉理工大学 一种高温陶瓷及其批量热压制备方法
CN118530034B (zh) * 2024-05-13 2025-05-16 广东先导元创精密科技有限公司 一种陶瓷坯体的排胶方法
CN118930319A (zh) * 2024-07-24 2024-11-12 江苏富乐华功率半导体研究院有限公司 一种提高氮化硅瓷片热导的浆料制备方法
CN119775028A (zh) * 2024-08-26 2025-04-08 比亚迪股份有限公司 复合增塑剂、氮化硅生坯及其制备方法、氮化硅陶瓷片
CN119241255A (zh) * 2024-09-30 2025-01-03 江苏海古德半导体科技有限公司 一种高导热氮化硅陶瓷坯体的排胶工艺
CN119191853B (zh) * 2024-09-30 2025-06-27 江苏富乐华功率半导体研究院有限公司 一种超高导热氮化硅瓷片的制备方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5945970A (ja) * 1982-08-31 1984-03-15 住友電気工業株式会社 窒化硅素の焼結方法
JPH07108815B2 (ja) * 1988-02-22 1995-11-22 日本特殊陶業株式会社 窒化珪素質焼結体の製造方法
JPH1067586A (ja) * 1996-08-27 1998-03-10 Dowa Mining Co Ltd パワーモジュール用回路基板およびその製造方法
JP2002053376A (ja) * 2000-08-08 2002-02-19 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 窒化ケイ素セラミックスの焼結方法
CN1282626C (zh) * 2003-09-03 2006-11-01 华南理工大学 一种提高氮化硅陶瓷抗氧化性能的表面改性方法
JP5339214B2 (ja) * 2010-03-01 2013-11-13 日立金属株式会社 窒化珪素基板の製造方法および窒化珪素基板
JP5811391B2 (ja) * 2011-04-11 2015-11-11 日立金属株式会社 窒化珪素質セラミックス焼結体の製造方法および焼成容器
JP5673847B2 (ja) * 2011-10-11 2015-02-18 日立金属株式会社 窒化珪素基板および窒化珪素基板の製造方法
CN102795860A (zh) * 2012-07-11 2012-11-28 北京中材人工晶体研究院有限公司 一种氮化硅陶瓷球的制备方法
KR101751531B1 (ko) 2014-03-31 2017-06-27 니혼 파인 세라믹스 가부시키가이샤 질화 규소 기판 제조방법
CN104016694B (zh) * 2014-06-18 2016-09-28 北京中材人工晶体研究院有限公司 一种异形陶瓷的制备方法
JP6399252B2 (ja) 2016-03-28 2018-10-03 日立金属株式会社 回路基板および窒化ケイ素焼結基板の製造方法
CN106518089B (zh) * 2016-11-25 2019-05-14 中国工程物理研究院材料研究所 一种高性能大尺寸氮化硅陶瓷材料的制备方法
JP7062229B2 (ja) * 2018-06-07 2022-05-06 Ｕｂｅ株式会社 板状の窒化ケイ素質焼結体およびその製造方法
CN112912356B (zh) 2018-11-01 2023-05-02 Ube 株式会社 氮化硅基板的制造方法以及氮化硅基板
CN109987944B (zh) * 2019-03-06 2020-09-01 清华大学 一种高导热氮化硅陶瓷基板及其制备方法
CN110818428B (zh) * 2019-12-03 2020-12-04 清华大学 一种共晶增强增韧氮化硅陶瓷的制备方法
CN112811912B (zh) * 2021-01-20 2021-11-02 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种高性能氮化硅陶瓷基片的批量化烧结方法

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