JP2024500821A - グルホシネートの調製方法 - Google Patents
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Abstract
グルホシネート又はその塩、それらの鏡像異性体若しくは全ての比率の鏡像異性体の混合物のための調製方法であって、この方法は、グルホシネートの調製に特に適しており、既存の調製プロセスの工程を大幅に短縮する。特にＬ－グルホシネートの調製において、生成物は、原料のｅｅ値を効果的に維持することができる。【選択図】なし
Description
［発明の分野］
本発明は、グルホシネートの調製方法に関する。
本発明は、グルホシネートの調製方法に関する。
［発明の背景］
グルホシネートは重要な除草剤である。
グルホシネートは重要な除草剤である。
［発明の概要］
本発明は、式（Ｉ）のグルホシネート又はその塩、それらの鏡像異性体若しくは全ての比率の鏡像異性体の混合物を調製するための方法であって、当該方法は、
ａ）式（ＩＩ）の化合物又はその塩、それらの鏡像異性体若しくは全ての比率の鏡像異性体の混合物を、
１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物又は混合物と反応させる工程であって、
上記混合物は、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物を含む混合物である工程；
ｂ）中間体を、それが単離されているか否かにかかわらず、水と酸又は塩基との存在下で反応させて、グルホシネート（Ｉ）又はその塩、それらの鏡像異性体若しくは全ての比率の鏡像異性体の混合物を得る工程；
を備え、
ここで、ＰＧがアミノ保護基である場合、当該アミノ保護基を除去する段階をさらに備えることができ；
ここで、ＬＧは、Ｈａｌ１、－ＯＴｓ又は
であり；
Ｈａｌ１及びＨａｌ２はそれぞれ独立してハロゲン、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素であり；
ＰＧは、水素又はアミノ保護基であり；当該アミノ保護基は、好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ又は－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒであり；
Ａは－ＮＨＲ１、－ＮＲ１Ｒ１’又は－ＯＲ１であり；
Ｒ、Ｒ１、Ｒ１’、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ３～１０シクロアルキル、Ｃ６～１０アリール、Ｃ６～１２アラルキル、５から１４員までのヘテロアリール及び３から１０員までのヘテロシクリルからなる群から選択され、混合物が１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物の混合物を含む場合、又は混合物が１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物の混合物を含む場合、Ｒ２はＲ３又はＲ４のいずれかであり；
キラル炭素原子は＊で標識されており；
ただし、以下の条件：
１）式（ＩＩ）の化合物は
ではない；
２）式（ＩＩＩ）の化合物は
ではない；
３）式（ＩＶ）の化合物は
ではない；又は
４）式（Ｖ）の化合物は
ではない；
の少なくとも１つが満たされる、方法を提供する。
本発明は、式（Ｉ）のグルホシネート又はその塩、それらの鏡像異性体若しくは全ての比率の鏡像異性体の混合物を調製するための方法であって、当該方法は、
ａ）式（ＩＩ）の化合物又はその塩、それらの鏡像異性体若しくは全ての比率の鏡像異性体の混合物を、
１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物又は混合物と反応させる工程であって、
上記混合物は、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物を含む混合物である工程；
ｂ）中間体を、それが単離されているか否かにかかわらず、水と酸又は塩基との存在下で反応させて、グルホシネート（Ｉ）又はその塩、それらの鏡像異性体若しくは全ての比率の鏡像異性体の混合物を得る工程；
を備え、
ここで、ＰＧがアミノ保護基である場合、当該アミノ保護基を除去する段階をさらに備えることができ；
ここで、ＬＧは、Ｈａｌ１、－ＯＴｓ又は
であり；
Ｈａｌ１及びＨａｌ２はそれぞれ独立してハロゲン、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素であり；
ＰＧは、水素又はアミノ保護基であり；当該アミノ保護基は、好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ又は－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒであり；
Ａは－ＮＨＲ１、－ＮＲ１Ｒ１’又は－ＯＲ１であり；
Ｒ、Ｒ１、Ｒ１’、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ３～１０シクロアルキル、Ｃ６～１０アリール、Ｃ６～１２アラルキル、５から１４員までのヘテロアリール及び３から１０員までのヘテロシクリルからなる群から選択され、混合物が１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物の混合物を含む場合、又は混合物が１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物の混合物を含む場合、Ｒ２はＲ３又はＲ４のいずれかであり；
キラル炭素原子は＊で標識されており；
ただし、以下の条件：
１）式（ＩＩ）の化合物は
ではない；
２）式（ＩＩＩ）の化合物は
ではない；
３）式（ＩＶ）の化合物は
ではない；又は
４）式（Ｖ）の化合物は
ではない；
の少なくとも１つが満たされる、方法を提供する。
本発明はさらに、式（Ｉ）の鏡像異性的に純粋なグルホシネート又はその塩を調製するための方法であって、
当該方法は、
ａ１）式（ＩＩ）の鏡像異性的に純粋な化合物又はその塩を、
式（ＩＩＩ）の化合物、
又は１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物若しくは混合物と反応させる工程であって；
上記混合物は、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物を含む混合物である工程；
ｂ１）中間体を、それが単離されているか否かにかかわらず、水と酸又は塩基との存在下で反応させて、鏡像異性的に純粋なグルホシネート（Ｉ）又はその塩を得る工程；
を含み、
ここで、ＰＧがアミノ保護基である場合、当該アミノ保護基を除去する段階をさらに備えることができ；
ここで、
ＬＧは、Ｈａｌ１、－ＯＴｓ又は
であり；
Ｈａｌ１及びＨａｌ２はそれぞれ独立してハロゲン、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素であり；
ＰＧは、水素又はアミノ保護基であり；当該アミノ保護基は、好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ又は－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒであり；
Ａは－ＮＨＲ１、－ＮＲ１Ｒ１’又は－ＯＲ１であり；
Ｒ、Ｒ１、Ｒ１’、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ３～１０シクロアルキル、Ｃ６～１０アリール、Ｃ６～１２アラルキル、５から１４員までのヘテロアリール及び３から１０員までのヘテロシクリルからなる群から選択され、混合物が１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物の混合物を含む場合、又は混合物が１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物の混合物を含む場合、Ｒ２はＲ３又はＲ４のいずれかであり；
キラル炭素原子は＊で標識されており；
ただし、以下の条件：
１）式（ＩＩ）の化合物は
ではない；
２）式（ＩＩＩ）の化合物は
ではない；
３）式（ＩＶ）の化合物は
ではない；又は
４）式（Ｖ）の化合物は
ではない；
の少なくとも１つが満たされる、方法を提供する。
当該方法は、
ａ１）式（ＩＩ）の鏡像異性的に純粋な化合物又はその塩を、
式（ＩＩＩ）の化合物、
又は１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物若しくは混合物と反応させる工程であって；
上記混合物は、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物を含む混合物である工程；
ｂ１）中間体を、それが単離されているか否かにかかわらず、水と酸又は塩基との存在下で反応させて、鏡像異性的に純粋なグルホシネート（Ｉ）又はその塩を得る工程；
を含み、
ここで、ＰＧがアミノ保護基である場合、当該アミノ保護基を除去する段階をさらに備えることができ；
ここで、
ＬＧは、Ｈａｌ１、－ＯＴｓ又は
であり；
Ｈａｌ１及びＨａｌ２はそれぞれ独立してハロゲン、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素であり；
ＰＧは、水素又はアミノ保護基であり；当該アミノ保護基は、好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ又は－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒであり；
Ａは－ＮＨＲ１、－ＮＲ１Ｒ１’又は－ＯＲ１であり；
Ｒ、Ｒ１、Ｒ１’、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ３～１０シクロアルキル、Ｃ６～１０アリール、Ｃ６～１２アラルキル、５から１４員までのヘテロアリール及び３から１０員までのヘテロシクリルからなる群から選択され、混合物が１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物の混合物を含む場合、又は混合物が１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物の混合物を含む場合、Ｒ２はＲ３又はＲ４のいずれかであり；
キラル炭素原子は＊で標識されており；
ただし、以下の条件：
１）式（ＩＩ）の化合物は
ではない；
２）式（ＩＩＩ）の化合物は
ではない；
３）式（ＩＶ）の化合物は
ではない；又は
４）式（Ｖ）の化合物は
ではない；
の少なくとも１つが満たされる、方法を提供する。
ある特定の実施形態では、１種の式（ＩＩＩ）の化合物が使用される。
ある特定の実施形態では、１種の式（ＩＶ）の化合物及び１種の式（Ｖ）の化合物の混合物が使用され、この混合物に、式（ＩＩＩ）の化合物を任意の比でさらに添加することができる。
さらに、鏡像異性体比は、（Ｌ）：（Ｄ）－鏡像異性体又は（Ｄ）：（Ｌ）－鏡像異性体として、５０．５：４９．５～９９．５：０．５である。
さらに、鏡像異性体比は、（Ｌ）：（Ｄ）－鏡像異性体として、５０．５：４９．５～９９．５：０．５である。
一部の実施形態では、Ｒは、Ｃ１～Ｃ６アルキル又はＣ６～１０アリールであり、好ましくはメチル、エチル、ｔｅｒｔ－ブチル、フェニル又はｐ－メチルフェニルである。
一部の実施形態では、前記ＰＧは、水素、－Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｐｈ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＣ２Ｈ５、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＣ（ＣＨ３）３又は
である。
である。
一部の実施形態では、前記Ｈａｌ１は塩素、臭素又はヨウ素である。
一部の実施形態では、ＬＧは塩素、臭素、ヨウ素、－ＯＴｓ又は
である。
である。
一部の実施形態では、前記Ｈａｌ２は塩素である。
一部の実施形態では、前記Ｒ１、Ｒ１’、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ６アルキル又はＣ６～Ｃ１２アラルキルであり、好ましくはＣ１～Ｃ４アルキル又はベンジルである。
一部の実施形態では、前記Ｒ１及びＲ１’はそれぞれ独立して、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル又はベンジルである。
一部の実施形態では、Ａは、－ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、－Ｎ（ＣＨ３）２、－ＯＣＨ３、－ＯＣＨ２ＣＨ３、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＣＨ（ＣＨ３）２、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２又は－ＯＢｎである。
一部の実施形態では、前記Ｒ２は、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル又はイソブチルであり、好ましくはｎ－プロピル、イソプロピル又はｎ－ブチルである。
一部の実施形態では、前記Ｒ３は、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル又はイソブチルであり、好ましくはｎ－プロピル、イソプロピル又はｎ－ブチルである。
一部の実施形態では、前記Ｒ４は、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル又はイソブチルであり、好ましくはｎ－プロピル、イソプロピル又はｎ－ブチルである。
ある特定の実施形態において、当該混合物は、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物の混合物であり、式（ＩＶ）の化合物と式（ＩＩＩ）の化合物とのモル比が（０．９～１．１）：１又は（０．０５～１．１）：１であり；或いは当該混合物は、１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物の混合物であり、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＩＩ）の化合物とのモル比が（０．９～１．１）：１又は（０．０５～１．１）：１であり；或いは当該混合物は、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物を含む混合物であり、式（ＩＶ）の化合物と式（Ｖ）の化合物とのモル比は（０．９～１．１）：１である。
さらに、上記工程ａ）又はａ１）において、反応は室温で進行することができ、反応温度は反応効率を考慮して２０～２００℃、好ましくは９０～１４０℃であり得る。
さらに、上記工程ａ）又はａ１）は塩基の存在下で実施される。
さらに、上記工程ａ）又はａ１）における塩基は、有機塩基又はアンモニアである。
さらに、上記工程ａ）又はａ１）において、有機塩基は、有機アミン、ピリジン又は複素環中の１個若しくは複数の炭素原子に結合した１～３個の置換基を有するピリジン誘導体、ピペリジン又は複素環中の１個若しくは複数の炭素原子に結合した１～３個の置換基を有するピペリジン誘導体からなる群から選択される。
さらに、有機塩基は、トリエチルアミン、ピペリジン又はピリジンからなる群から選択される。
さらに、上記工程ａ）又はａ１）において、塩基と式（ＩＩＩ）の化合物及び式（Ｖ）の化合物の総量とのモル比は、（１～１０）：１である。
さらに、上記工程ａ）又はａ１）において、反応は無溶媒条件下又は不活性溶媒中で実施される。
さらに、上記工程ａ）又はａ１）において、不活性溶媒は、ベンゼン溶媒、アミド溶媒、炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素溶媒、スルホン又はスルホキシド溶媒、エーテル溶媒又はエステル溶媒のいずれか１種若しくは複数から選択され；好ましくは、不活性溶媒は、ベンゼン溶媒、アミド溶媒、ハロゲン化炭化水素溶媒、エーテル溶媒又はエステル溶媒のいずれか１種若しくは複数から選択される。
さらに、上記工程ａ）又はａ１）において、不活性溶媒は、クロロベンゼン、トリメチルベンゼン、１，４－ジオキサン、１，２－ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、石油エーテル、ｎ－ヘプタン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、酢酸エチル、及び酢酸ブチルのいずれか１種若しくは複数から選択される。
さらに、上記工程ａ）又はａ１）において、式（ＩＩＩ）の化合物又は混合物と式（ＩＩ）の化合物とのモル比は、１：（０．８～１０）、好ましくは１：（１～３）であり；又は式（ＩＩ）の化合物と式（ＩＩＩ）の化合物又は混合物とのモル比は、１：（０．８～１０）、好ましくは１：（１～３）である。
さらに、上記工程ａ）又はａ１）の合計反応時間は、０．５時間～２５時間、好ましくは１時間～２０時間又は１時間～１５時間、最も好ましくは１時間～５時間である。
さらに、上記工程ｂ）又はｂ１）において、無機酸又は有機酸を添加する。
さらに、無機酸は塩酸又は硫酸である。
さらに、上記工程ｂ）又はｂ１）において、塩基は無機塩基又は有機塩基である。
さらに、塩基は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩又はアルカリ土類金属重炭酸塩である。
さらに、塩基は、ＮａＯＨ、ＫＯＨ又はＢａ（ＯＨ）２である。
さらに、上記工程ｂ）又はｂ１）において、反応温度は２０～１５０℃である。
一部の実施形態では、本開示は、式（ＩＩ）
の化合物又はその塩であって、式（ＩＩ）の化合物が、
からなる群から選択される、式（ＩＩ）の化合物又はその塩を提供する。
の化合物又はその塩であって、式（ＩＩ）の化合物が、
からなる群から選択される、式（ＩＩ）の化合物又はその塩を提供する。
一部の実施形態では、本開示は、グルホシネート若しくはその塩、又はＬ－グルホシネート若しくはその塩の調製における上記化合物の使用を提供する。
本発明の方法は、グルホシネートの調製に特に適しており、既存の調製プロセスの工程を実質的に減少させる。特に、Ｌ－グルホシネートの調製において、生成物は、原料のｅｅ値を効果的に維持することができる。例えば、鏡像異性的に純粋な原料（例えば、鏡像異性体過剰率（％ｅｅ）が９０％超である）が用いられる場合、調製されたＬ－グルホシネートの鏡像異性体過剰率（％ｅｅ）は、例えば、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％又は９５％超である。
特に明記しない限り、本明細書及び特許請求の範囲で使用される用語は、以下の意味を有する。
「アミノ保護基」という用語は、アミノ基中の窒素原子に結合してアミノ基を反応に関与することから保護することができ、その後の反応において容易に除去することができる基を指す。適切なアミノ保護基としては、以下の保護基が挙げられるが、これらに限定されない：
式－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－Ｒａ（式中、Ｒａは例えば、メチル、エチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ベンジル、フェネチル、ＣＨ２＝ＣＨ－ＣＨ２－などである）のカルバメート基；式－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ（式中、Ｒｂはメチル、エチル、フェニル、トリフルオロメチルなどである）のアミド基；式－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｒｃ（式中、Ｒｃは例えば、トリル、フェニル、トリフルオロメチル、２，２，５，７，８－ペンタメチルクロマン－６－イル－、２，３，６－トリメチル－４－メトキシベンゼンなどである）のＮ－スルホニル誘導体基。
式－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－Ｒａ（式中、Ｒａは例えば、メチル、エチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ベンジル、フェネチル、ＣＨ２＝ＣＨ－ＣＨ２－などである）のカルバメート基；式－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ（式中、Ｒｂはメチル、エチル、フェニル、トリフルオロメチルなどである）のアミド基；式－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｒｃ（式中、Ｒｃは例えば、トリル、フェニル、トリフルオロメチル、２，２，５，７，８－ペンタメチルクロマン－６－イル－、２，３，６－トリメチル－４－メトキシベンゼンなどである）のＮ－スルホニル誘導体基。
「アルキル」という用語は、１～１８個の炭素原子を有する直鎖及び分岐鎖基を含む飽和脂肪族炭化水素基を指す。メチル、エチル、プロピル、２－プロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル及びペンチルなどの１～６個の炭素原子（すなわち、Ｃ１～Ｃ６アルキル）を有するアルキルが好ましい。アルキルは、置換又は非置換であり得、置換される場合、置換基は、ハロゲン、ニトロ、スルホニル、エーテルオキシ、エーテルチオ、エステル、チオエステル又はシアノであり得る。
Ｃ１～Ｃ４アルキルは、１～４個の炭素原子を有する飽和炭化水素鎖を含む直鎖又は分岐鎖である。それは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル又はｔｅｒｔ－ブチルであり得る。
本明細書で使用される場合、「シクロアルキル」という用語は、飽和単環式又は多環式（例えば、二環式）炭化水素環（例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルなどの単環式、又はスピロ、縮合又は架橋環系を含む二環式（ビシクロ［１．１．１］ペンチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル、ビシクロ［３．２．１］オクチル又はビシクロ［５．２．０］ノニル、デカヒドロナフタレンなど））を指し、これは１個又は複数（例えば、１～３個）の適切な置換基で任意選択で置換されている。シクロアルキルは、３～１５個の炭素原子を有する。例えば、「Ｃ３～１０シクロアルキル」という用語は、３～１０個の環形成炭素原子を有する飽和単環式又は多環式（例えば、二環式）炭化水素環（例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、又はシクロヘキシル）を指し、これは１個又は複数（例えば、１～３個）の適切な置換基、例えば、メチル置換シクロプロピルで任意選択で置換されている。
本明細書で使用される場合、「ヘテロシクリル」という用語は、２、３、４、５、６、７、８又は９個の炭素原子と、環内に、Ｃ（＝Ｏ）、Ｏ、Ｓ、Ｓ（＝Ｏ）、Ｓ（＝Ｏ）２、及びＮＲｄ（式中、Ｒｄは水素原子、Ｃ１～６アルキル、又はＣ１～６ハロアルキル基を表す）からなる群から選択される１個又は複数（例えば、１、２、３又は４個）のヘテロ原子含有基とを有する飽和又は不飽和の、一価の、単環式又は二環式残基を指す。ヘテロシクリルは、炭素原子又は窒素原子（存在する場合）のいずれか１個を介して残りの分子と結合していてもよい。特に、３～１０員までのヘテロシクリルは、３～１０個の炭素原子と、環内に、これらに限定されないが、オキシラニル、アジリジニル、アゼチジニル、オキセタニル、テトラヒドロフラニル、ジオキソリニル、ピロリジニル、ピロリジノニル、イミダゾリジニル、ピラゾリジニル、ピロリニル、テトラヒドロピラニル、ピペリジニル、モルホリニル、ジチアニル、チオモルホリニル、ピペラジニル又はトリチアニルなどのヘテロ原子（複数可）を有する基を指す。
本明細書で使用される場合、「アリール」という用語は、共役π電子系を有する全炭素単環式又は縮合環多環式芳香族基を指す。例えば、本明細書で使用される場合、「Ｃ６～１０アリール」という用語は、６～１０個の炭素原子を含有する芳香族基、例えばフェニル又はナフチルなどを指す。アリールは、１個又は複数（例えば、１～３個）の適切な置換基（例えば、ハロゲン、－ＯＨ、－ＣＮ、－ＮＯ２、Ｃ１～６アルキル）で任意選択で置換される。
「アラルキル」という用語は、好ましくはアリール置換アルキルを意味し、ここで、アリール及びアルキルは本明細書で定義されている通りである。通常は、アリール基は、６～１０個の炭素原子を有していてもよく、アルキル基は、１～６個の炭素原子を有していてもよい。例示的なアラルキル基としては、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、フェニルブチルが挙げられるが、これらには限定されない。
本明細書で使用される場合、「ヘテロアリール」という用語は、５、６、８、９、１０、１１、１２、１３又は１４個の環原子、特に１又は２又は３又は４又は５又は６又は９又は１０個の炭素原子を有し、同じであっても異なっていてもよい、少なくとも１個のヘテロ原子（Ｏ、Ｎ又はＳなど）を含有する一価の単環式、二環式又は三環式芳香族環系を指す。その上、各場合において、それはベンゾ縮合していてもよい。特に、ヘテロアリールは、チエニル、フリル、ピロリル、オキサゾリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、オキサジアゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリルなど、及びそのベンゾ誘導体；又はピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニルなど、及びそのベンゾ誘導体からなる群から選択される。
本明細書で使用される場合、「全ての比率の鏡像異性体の混合物」は、「任意の比率の鏡像異性体の混合物」と同じ意味を有する。
［発明の詳細な説明］
実施例１ａ：化合物１～５の一般的な調製方法
Ｌ－ホモセリンラクトン塩酸塩（１ａ－１）（ｅｅ値９９％、０．１ｍｏｌ）を丸底フラスコに添加し、アルコール（ホモセリンラクトン塩酸塩とアルコールとのモル比は約１：（１０～１５）であった）を添加した。系の温度を１０℃に下げ、塩化チオニル（０．３ｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。系の温度を１０℃に維持し、３０分間撹拌した。温度を徐々に３５℃に上げ、反応物を２０時間撹拌し、その間に気泡が連続的に発生した。反応が完了するまで、反応をＬＣ－ＭＳ又はＬＣでモニターした（特定の基質を完全に反応させるために、反応温度を上げる必要があった）。系の温度を室温に下げ、残存する塩化チオニル及び溶媒を減圧下留去し、固体残留物を１００ｍＬのｎ－ヘキサン及び酢酸エチルの混合溶媒（ｎ－ヘキサンと酢酸エチルの体積比は２：１であった）でスラリー化し、ろ過によってろ過ケーキを得た。湿潤生成物１ａ－２をアンモニア水で中和し、系をｐＨ７～８に調整し、酢酸エチルで抽出した。有機相を回収し、乾燥させ、濃縮して、目的生成化合物１ａ－３を得た。
実施例１ａ：化合物１～５の一般的な調製方法
Ｌ－ホモセリンラクトン塩酸塩（１ａ－１）（ｅｅ値９９％、０．１ｍｏｌ）を丸底フラスコに添加し、アルコール（ホモセリンラクトン塩酸塩とアルコールとのモル比は約１：（１０～１５）であった）を添加した。系の温度を１０℃に下げ、塩化チオニル（０．３ｍｏｌ）をゆっくりと滴下した。系の温度を１０℃に維持し、３０分間撹拌した。温度を徐々に３５℃に上げ、反応物を２０時間撹拌し、その間に気泡が連続的に発生した。反応が完了するまで、反応をＬＣ－ＭＳ又はＬＣでモニターした（特定の基質を完全に反応させるために、反応温度を上げる必要があった）。系の温度を室温に下げ、残存する塩化チオニル及び溶媒を減圧下留去し、固体残留物を１００ｍＬのｎ－ヘキサン及び酢酸エチルの混合溶媒（ｎ－ヘキサンと酢酸エチルの体積比は２：１であった）でスラリー化し、ろ過によってろ過ケーキを得た。湿潤生成物１ａ－２をアンモニア水で中和し、系をｐＨ７～８に調整し、酢酸エチルで抽出した。有機相を回収し、乾燥させ、濃縮して、目的生成化合物１ａ－３を得た。
実施例１ｂ：化合物１６の調製
工程１
出発原料として化合物１６－１を使用して合成を実施した（Ｗｅｉｔｚ、Ｉｒｉｓ Ｓ．ら、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（１９９７年）、６２（８）、２５２７～２５３４頁に記載された合成を参照してもよい）。室温で、化合物１６－１（４０ｍｍｏｌ）、ＤＣＭ（２０ｍｌ）、四塩化炭素（２０ｍｌ）及びトリフェニルホスフィン（１２０ｍｍｏｌ）を丸底フラスコに添加し、次いで室温で２時間撹拌した。ＴＬＣは、原料が完全な反応を行ったことを示し、カラムクロマトグラフィーによって化合物１６－２を収率５０％で得た。
MS (ESI): m/z [M+H]+ C11H22ClN2O3の計算値: 265.13; 実測値: 265.1.
1H NMR(400 MHz, CDCl3) δ 4.84 (td, J = 8.8, 4.0Hz, 1H), 3.80 - 3.44 (m, 2H), 3.12 (s, 3H), 2.97 (s, 3H), 2.16 - 2.03 (m, 1H),1.96 (ddt, J = 14.5, 8.9, 5.6 Hz, 1H), 1.43 (s, 9H).
工程１
出発原料として化合物１６－１を使用して合成を実施した（Ｗｅｉｔｚ、Ｉｒｉｓ Ｓ．ら、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（１９９７年）、６２（８）、２５２７～２５３４頁に記載された合成を参照してもよい）。室温で、化合物１６－１（４０ｍｍｏｌ）、ＤＣＭ（２０ｍｌ）、四塩化炭素（２０ｍｌ）及びトリフェニルホスフィン（１２０ｍｍｏｌ）を丸底フラスコに添加し、次いで室温で２時間撹拌した。ＴＬＣは、原料が完全な反応を行ったことを示し、カラムクロマトグラフィーによって化合物１６－２を収率５０％で得た。
MS (ESI): m/z [M+H]+ C11H22ClN2O3の計算値: 265.13; 実測値: 265.1.
1H NMR(400 MHz, CDCl3) δ 4.84 (td, J = 8.8, 4.0Hz, 1H), 3.80 - 3.44 (m, 2H), 3.12 (s, 3H), 2.97 (s, 3H), 2.16 - 2.03 (m, 1H),1.96 (ddt, J = 14.5, 8.9, 5.6 Hz, 1H), 1.43 (s, 9H).
工程２
化合物１６－２（２０ｍｍｏｌ）を丸底フラスコに添加し、続いて１，４－ジオキサン（６０ｍｌ）及び３６％ＨＣｌ（１６ｍｌ）を添加し、反応物を室温で終夜撹拌した。反応溶液を濃縮し、次いで中和のためにアンモニア水を添加し、ｐＨを７～８に調整した。混合物を酢酸エチルで抽出し、乾燥させ、濃縮して化合物１６を得た。
化合物１６－２（２０ｍｍｏｌ）を丸底フラスコに添加し、続いて１，４－ジオキサン（６０ｍｌ）及び３６％ＨＣｌ（１６ｍｌ）を添加し、反応物を室温で終夜撹拌した。反応溶液を濃縮し、次いで中和のためにアンモニア水を添加し、ｐＨを７～８に調整した。混合物を酢酸エチルで抽出し、乾燥させ、濃縮して化合物１６を得た。
以下の表中のホモセリン類似体は、実施例１ａ、実施例１ｂの方法又は当技術分野で既知の類似の方法によって調製した。
実施例２
－１０℃で、ｎ－プロパノール（０．９ｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．９ｍｏｌ）及びｎ－ヘキサン（４５０ｍｌ）を丸底フラスコに添加し、定圧滴下漏斗によってジクロロ（メチル）ホスファン（０．４５ｍｏｌ）を約１時間滴下した。反応物を０℃に温め、完全な反応のために２時間進行させた。混合物をろ過し、固体をｎ－ヘキサン（１５０ｍｌ×２）で洗浄し、母液を減圧下で蒸発させて溶媒を除去した。分別によってジプロピルメチルホスホナイト（無色液体、収率：８６％、含有率：９４％）を得た（分別温度は６０℃以下である）。
MS (ESI): m/z [M+H]+ C7H18O2Pの計算値: 165.11; 実測値: 165.1.
1H NMR(400 MHz, CDCl3) δ 3.65 (ddddt, J = 10.0,6.2, 5.0, 3.5, 1.7 Hz, 4H), 1.51 (q, J = 7.1 Hz, 4H), 1.12 (dd, J = 8.3, 1.2Hz, 3H), 0.82 (td, J = 7.4, 1.1 Hz, 6H).
13C NMR(100 MHz, CDCl3) δ 68.2, 24.6, 19.9, 10.2.
31P NMR(160 MHz, CDCl3) δ 33.5.
－１０℃で、ｎ－プロパノール（０．９ｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．９ｍｏｌ）及びｎ－ヘキサン（４５０ｍｌ）を丸底フラスコに添加し、定圧滴下漏斗によってジクロロ（メチル）ホスファン（０．４５ｍｏｌ）を約１時間滴下した。反応物を０℃に温め、完全な反応のために２時間進行させた。混合物をろ過し、固体をｎ－ヘキサン（１５０ｍｌ×２）で洗浄し、母液を減圧下で蒸発させて溶媒を除去した。分別によってジプロピルメチルホスホナイト（無色液体、収率：８６％、含有率：９４％）を得た（分別温度は６０℃以下である）。
MS (ESI): m/z [M+H]+ C7H18O2Pの計算値: 165.11; 実測値: 165.1.
1H NMR(400 MHz, CDCl3) δ 3.65 (ddddt, J = 10.0,6.2, 5.0, 3.5, 1.7 Hz, 4H), 1.51 (q, J = 7.1 Hz, 4H), 1.12 (dd, J = 8.3, 1.2Hz, 3H), 0.82 (td, J = 7.4, 1.1 Hz, 6H).
13C NMR(100 MHz, CDCl3) δ 68.2, 24.6, 19.9, 10.2.
31P NMR(160 MHz, CDCl3) δ 33.5.
以下の化合物は、上記の方法と類似した方法に従って調製した。
実施例３
窒素雰囲気下、－１０℃で、式（ＩＶ）の化合物（０．６ｅｑ、９０％純度）のクロロベンゼン溶液を丸底フラスコに添加し、ジクロロ（メチル）ホスファン（０．６ｅｑ、９８％純度）のクロロベンゼン溶液を、定圧滴下漏斗によって１ｄ／ｓの速度で滴下した。滴下が完了した後、反応物を１０分間撹拌した（このとき、対応する式（ＩＩＩ）の化合物
が生成する可能性があった（式中、Ｈａｌ２は塩素であり、Ｒ２はＲ３又はＲ４である））。続いて、式（IIａ）の化合物（１．０ｅｑ）及びトリエチルアミン（１．２ｅｑ、９８％純度）のクロロベンゼン溶液を４ｄ／ｓの速度でそれに添加し、滴下後に撹拌を３０分間続けた。反応物を室温に温め、１時間撹拌し、次いで温度を９０℃に上げ、反応を１２時間続けた。反応物を室温に自然冷却し、吸引ろ過し、ろ過ケーキをクロロベンゼン（１５０ｍＬ×３）で洗浄した。ろ液を回転蒸発させてクロロベンゼンを除去し、その結果中間体を得た。中間体に１００ｍＬの濃塩酸（３６％）を加え、９０℃に加熱し、反応を１０時間進行させた。ＭＳ検出は中間体が消失したことを示し、混合物を室温に自然冷却し、回転蒸発させて溶媒を除去し、９５％エタノール（３００ｍＬ）を添加した。粗生成物が完全に溶解するまで溶液を加熱還流し、結晶化のために自然冷却し、ろ過し、乾燥させてＬ－グルホシネート塩酸塩を得た。
窒素雰囲気下、－１０℃で、式（ＩＶ）の化合物（０．６ｅｑ、９０％純度）のクロロベンゼン溶液を丸底フラスコに添加し、ジクロロ（メチル）ホスファン（０．６ｅｑ、９８％純度）のクロロベンゼン溶液を、定圧滴下漏斗によって１ｄ／ｓの速度で滴下した。滴下が完了した後、反応物を１０分間撹拌した（このとき、対応する式（ＩＩＩ）の化合物
が生成する可能性があった（式中、Ｈａｌ２は塩素であり、Ｒ２はＲ３又はＲ４である））。続いて、式（IIａ）の化合物（１．０ｅｑ）及びトリエチルアミン（１．２ｅｑ、９８％純度）のクロロベンゼン溶液を４ｄ／ｓの速度でそれに添加し、滴下後に撹拌を３０分間続けた。反応物を室温に温め、１時間撹拌し、次いで温度を９０℃に上げ、反応を１２時間続けた。反応物を室温に自然冷却し、吸引ろ過し、ろ過ケーキをクロロベンゼン（１５０ｍＬ×３）で洗浄した。ろ液を回転蒸発させてクロロベンゼンを除去し、その結果中間体を得た。中間体に１００ｍＬの濃塩酸（３６％）を加え、９０℃に加熱し、反応を１０時間進行させた。ＭＳ検出は中間体が消失したことを示し、混合物を室温に自然冷却し、回転蒸発させて溶媒を除去し、９５％エタノール（３００ｍＬ）を添加した。粗生成物が完全に溶解するまで溶液を加熱還流し、結晶化のために自然冷却し、ろ過し、乾燥させてＬ－グルホシネート塩酸塩を得た。
上記方法に従って、下表の基質からＬ－グルホシネート塩酸塩を調製した。生成物の反応収率及びｅｅ値を下表に示す。
実施例４
窒素雰囲気下、－１０℃で、ジエチルメチルホスホナイト（８６１．７ｇ、０．５５ｅｑ、９０％純度）のクロロベンゼン（６．０ｋｇ）溶液を２０Ｌジャケット付ガラス反応器に添加し、ジクロロ（メチル）ホスファン（６７９．５ｇ、０．５５ｅｑ、９８％純度）のクロロベンゼン（２．０ｋｇ）溶液を、定圧滴下漏斗によって５ｄ／ｓの速度で滴下した。滴下が完了した後、反応物を１０分間撹拌した（このとき、クロロ（エトキシ）（メチル）ホスファン
が生成する可能性があった）。続いて、式（IIａ）の化合物－ブチルエステル（２．０ｋｇ、１．０ｅｑ）及びトリエチルアミン（１．２ｋｇ、１．１ｅｑ、９８％純度）のクロロベンゼン（８．０ｋｇ）溶液を１０ｄ／ｓの速度でそれに添加し、滴下後に撹拌を３０分間続けた。反応物を室温に温め、３０分間撹拌し、次いで温度を９０℃に上げ、反応を２時間続けた。反応物を室温に自然冷却し、吸引ろ過し、ろ過ケーキをクロロベンゼン（２．５Ｌ×２）で洗浄した。ろ液を回転蒸発させてクロロベンゼンを除去し、その結果中間体を得た。中間体に４．２ｋｇの３６％ｗｔ．塩酸を加え、９５℃に加熱し、反応を１０時間進行させ、同時に、生成したブタノールを蒸留除去した。ＭＳ検出は中間体が消失したことを示し、混合物を室温に自然冷却し、回転蒸発させて溶媒を除去し、９５％エタノール（６Ｌ）を添加した。粗生成物が完全に溶解するまで溶液を加熱還流し、結晶化のために自然冷却し、ろ過し、乾燥させてＬ－グルホシネート塩酸塩（白色、収率８８％、ｅｅ値９８％）を得た。
窒素雰囲気下、－１０℃で、ジエチルメチルホスホナイト（８６１．７ｇ、０．５５ｅｑ、９０％純度）のクロロベンゼン（６．０ｋｇ）溶液を２０Ｌジャケット付ガラス反応器に添加し、ジクロロ（メチル）ホスファン（６７９．５ｇ、０．５５ｅｑ、９８％純度）のクロロベンゼン（２．０ｋｇ）溶液を、定圧滴下漏斗によって５ｄ／ｓの速度で滴下した。滴下が完了した後、反応物を１０分間撹拌した（このとき、クロロ（エトキシ）（メチル）ホスファン
が生成する可能性があった）。続いて、式（IIａ）の化合物－ブチルエステル（２．０ｋｇ、１．０ｅｑ）及びトリエチルアミン（１．２ｋｇ、１．１ｅｑ、９８％純度）のクロロベンゼン（８．０ｋｇ）溶液を１０ｄ／ｓの速度でそれに添加し、滴下後に撹拌を３０分間続けた。反応物を室温に温め、３０分間撹拌し、次いで温度を９０℃に上げ、反応を２時間続けた。反応物を室温に自然冷却し、吸引ろ過し、ろ過ケーキをクロロベンゼン（２．５Ｌ×２）で洗浄した。ろ液を回転蒸発させてクロロベンゼンを除去し、その結果中間体を得た。中間体に４．２ｋｇの３６％ｗｔ．塩酸を加え、９５℃に加熱し、反応を１０時間進行させ、同時に、生成したブタノールを蒸留除去した。ＭＳ検出は中間体が消失したことを示し、混合物を室温に自然冷却し、回転蒸発させて溶媒を除去し、９５％エタノール（６Ｌ）を添加した。粗生成物が完全に溶解するまで溶液を加熱還流し、結晶化のために自然冷却し、ろ過し、乾燥させてＬ－グルホシネート塩酸塩（白色、収率８８％、ｅｅ値９８％）を得た。
本明細書に記載されたものに加えて、前述の記載に従って、本発明に対する種々の改変が当業者に明らかである。このような改変は、添付の特許請求の範囲内にあることが意図される。本明細書に引用される各参考文献（全ての特許、特許出願、学術論文、書籍、及び任意の他の開示を含む）は、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
Claims (31)
- 式（Ｉ）のグルホシネート又はその塩、それらの鏡像異性体若しくは全ての比率の鏡像異性体の混合物を調製するための方法であって、当該方法は、
ａ）式（ＩＩ）の化合物又はその塩、それらの鏡像異性体若しくは全ての比率の鏡像異性体の混合物を、
１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物又は混合物と反応させる工程であって、
この混合物が、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物を含む混合物である工程；
ｂ）中間体を、それが単離されているか否かにかかわらず、水と酸又は塩基との存在下で反応させて、グルホシネート（Ｉ）又はその塩、それらの鏡像異性体若しくは全ての比率の鏡像異性体の混合物を得る工程；
を備え、
ここで、ＰＧがアミノ保護基である場合、当該アミノ保護基を除去する段階をさらに備えることができ；
ここで、ＬＧは、Ｈａｌ１、－ＯＴｓ又は
であり；
Ｈａｌ１及びＨａｌ２はそれぞれ独立してハロゲン、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素であり；
ＰＧは、水素又はアミノ保護基であり；当該アミノ保護基は、好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ又は－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒであり；
Ａは－ＮＨＲ１、－ＮＲ１Ｒ１’又は－ＯＲ１であり；
Ｒ、Ｒ１、Ｒ１’、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ３～１０シクロアルキル、Ｃ６～１０アリール、Ｃ６～１２アラルキル、５から１４員までのヘテロアリール及び３から１０員までのヘテロシクリルからなる群から選択され、混合物が１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物の混合物を含む場合、又は混合物が１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物の混合物を含む場合、Ｒ２はＲ３又はＲ４のいずれかであり；
キラル炭素原子は＊で標識されており；
ただし、以下の条件：
１）式（ＩＩ）の化合物は
ではない；
２）式（ＩＩＩ）の化合物は
ではない；
３）式（ＩＶ）の化合物は
ではない；又は
４）式（Ｖ）の化合物は
ではない；
の少なくとも１つが満たされる
ことを特徴とする、方法。 - 式（Ｉ）の鏡像異性的に純粋なグルホシネート又はその塩を調製するための方法であって、
当該方法は、
ａ１）式（ＩＩ）の鏡像異性的に純粋な化合物又はその塩を、
式（ＩＩＩ）の化合物、
又は１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物若しくは混合物と反応させる工程であって；
この混合物が、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物を含む混合物；又は１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物を含む混合物である工程；
ｂ１）中間体を、それが単離されているか否かにかかわらず、水と酸又は塩基との存在下で反応させて、鏡像異性的に純粋なグルホシネート（Ｉ）又はその塩を得る工程；
を備え、
ここで、ＰＧがアミノ保護基である場合、当該アミノ保護基を除去する段階をさらに備えることができ；
ここで、
ＬＧは、Ｈａｌ１、－ＯＴｓ又は
であり；
Ｈａｌ１及びＨａｌ２はそれぞれ独立してハロゲン、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素であり；
ＰＧは、水素又はアミノ保護基であり；当該アミノ保護基は、好ましくは－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ又は－Ｓ（＝Ｏ）２Ｒであり；
Ａは－ＮＨＲ１、－ＮＲ１Ｒ１’又は－ＯＲ１であり；
Ｒ、Ｒ１、Ｒ１’、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ６アルキル、Ｃ３～１０シクロアルキル、Ｃ６～１０アリール、Ｃ６～１２アラルキル、５から１４員までのヘテロアリール及び３から１０員までのヘテロシクリルからなる群から選択され、混合物が１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物の混合物を含む場合、又は混合物が１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物の混合物を含む場合、Ｒ２はＲ３又はＲ４のいずれかであり；
キラル炭素原子は＊で標識されており；
ただし、以下の条件：
１）式（ＩＩ）の化合物は
ではない；
２）式（ＩＩＩ）の化合物は
ではない；
３）式（ＩＶ）の化合物は
ではない；又は
４）式（Ｖ）の化合物は
ではない；
の少なくとも１つが満たされる
ことを特徴とする、方法。 - 鏡像異性体比が、（Ｌ）：（Ｄ）－鏡像異性体又は（Ｄ）：（Ｌ）－鏡像異性体として、５０．５：４９．５～９９．５：０．５であることを特徴とする、請求項２に記載の方法。
- 鏡像異性体比が、（Ｌ）：（Ｄ）－鏡像異性体として、５０．５：４９．５～９９．５：０．５であることを特徴とする、請求項３に記載の方法。
- Ｒが、Ｃ１～Ｃ６アルキル又はＣ６～１０アリールであり、好ましくはメチル、エチル、ｔｅｒｔ－ブチル、フェニル又はｐ－メチルフェニルであり；
好ましくは、ＰＧが、水素、－Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３、－Ｃ（＝Ｏ）Ｐｈ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＣ２Ｈ５、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＣ（ＣＨ３）３又は
である
ことを特徴とする、請求項１～４のいずれか一項に記載の方法。 - Ｈａｌ１が塩素、臭素又はヨウ素であり；
好ましくは、ＬＧが塩素、臭素、ヨウ素、－ＯＴｓ又は
である
ことを特徴とする、請求項１～５のいずれか一項に記載の方法。 - Ｈａｌ２が塩素であることを特徴とする、請求項１～６のいずれか一項に記載の方法。
- Ｒ１、Ｒ１’、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４が、それぞれ独立して、Ｃ１～Ｃ６アルキル又はＣ６～Ｃ１２アラルキルであり、好ましくはＣ１～Ｃ４アルキル又はベンジルであることを特徴とする、請求項１～７のいずれか一項に記載の方法。
- Ｒ１及びＲ１’がそれぞれ独立して、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル又はベンジルであり；
好ましくは、Ａが、－ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、－Ｎ（ＣＨ３）２、－ＯＣＨ３、－ＯＣＨ２ＣＨ３、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＣＨ（ＣＨ３）２、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、－ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２又は－ＯＢｎである
ことを特徴とする、請求項１～８のいずれか一項に記載の方法。 - Ｒ２が、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル又はイソブチルであり、好ましくはｎ－プロピル、イソプロピル又はｎ－ブチルであることを特徴とする、請求項１～９のいずれか一項に記載の方法。
- Ｒ３が、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル又はイソブチルであり、好ましくはｎ－プロピル、イソプロピル又はｎ－ブチルであることを特徴とする、請求項１～１０のいずれか一項に記載の方法。
- Ｒ４が、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル又はイソブチルであり、好ましくはｎ－プロピル、イソプロピル又はｎ－ブチルであることを特徴とする、請求項１～１１のいずれか一項に記載の方法。
- 混合物が、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物の混合物であり、式（ＩＶ）の化合物と式（ＩＩＩ）の化合物とのモル比が（０．９～１．１）：１又は（０．０５～１．１）：１であり；或いは当該混合物が、１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物及び１種若しくは複数の式（ＩＩＩ）の化合物の混合物であり、式（Ｖ）の化合物と式（ＩＩＩ）の化合物とのモル比が（０．９～１．１）：１又は（０．０５～１．１）：１であり；或いは当該混合物が、１種若しくは複数の式（ＩＶ）の化合物及び１種若しくは複数の式（Ｖ）の化合物を含む混合物であり、式（ＩＶ）の化合物と式（Ｖ）の化合物とのモル比は（０．９～１．１）：１であることを特徴とする、請求項１～１２のいずれか一項に記載の方法。
- 工程ａ）又はａ１）において、反応温度が２０～２００℃、好ましくは９０～１４０℃であることを特徴とする、請求項１～１３のいずれか一項に記載の方法。
- 工程ａ）又はａ１）が塩基の存在下で実施されることを特徴とする、請求項１～１４のいずれか一項に記載の方法。
- 工程ａ）又はａ１）における塩基が、有機塩基又はアンモニアであることを特徴とする、請求項１５に記載の方法。
- 工程ａ）又はａ１）において、有機塩基が、有機アミン、ピリジン又は複素環中の１個若しくは複数の炭素原子に結合した１～３個の置換基を有するピリジン誘導体、ピペリジン又は複素環中の１個若しくは複数の炭素原子に結合した１～３個の置換基を有するピペリジン誘導体からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
- 有機塩基が、トリエチルアミン、ピペリジン又はピリジンからなる群から選択されることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。
- 工程ａ）又はａ１）において、塩基と式（ＩＩＩ）の化合物及び式（Ｖ）の化合物の総量とのモル比が、（１～１０）：１であることを特徴とする、請求項１～１８のいずれか一項に記載の方法。
- 工程ａ）又はａ１）において、反応が無溶媒条件下又は不活性溶媒中で実施されることを特徴とする、請求項１～１９のいずれか一項に記載の方法。
- 上記工程ａ）又はａ１）において、不活性溶媒が、ベンゼン溶媒、アミド溶媒、炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素溶媒、スルホン又はスルホキシド溶媒、エーテル溶媒又はエステル溶媒のいずれか１種若しくは複数から選択され；好ましくは、不活性溶媒が、ベンゼン溶媒、アミド溶媒、ハロゲン化炭化水素溶媒、エーテル溶媒又はエステル溶媒のいずれか１種若しくは複数から選択されることを特徴とする、請求項１～２０のいずれか一項に記載の方法。
- 工程ａ）又はａ１）において、不活性溶媒が、クロロベンゼン、トリメチルベンゼン、１，４－ジオキサン、１，２－ジクロロエタン、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、石油エーテル、ｎ－ヘプタン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、酢酸エチル、及び酢酸ブチルのいずれか１種若しくは複数から選択されることを特徴とする、請求項２１に記載の方法。
- 工程ａ）又はａ１）において、式（ＩＩＩ）の化合物又は混合物と式（ＩＩ）の化合物とのモル比が、１：（０．８～１０）、好ましくは１：（１～３）であり；又は式（ＩＩ）の化合物と式（ＩＩＩ）の化合物又は混合物とのモル比が、１：（０．８～１０）、好ましくは１：（１～３）であることを特徴とする、請求項１～２２のいずれか一項に記載の方法。
- 工程ｂ）又はｂ１）において、無機酸又は有機酸を添加することを特徴とする、請求項１～２３のいずれか一項に記載の方法。
- 無機酸が塩酸又は硫酸であることを特徴とする、請求項２４に記載の方法。
- 工程ｂ）又はｂ１）において、塩基が無機塩基又は有機塩基であることを特徴とする、請求項１～２５のいずれか一項に記載の方法。
- 塩基が、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩又はアルカリ土類金属重炭酸塩であることを特徴とする、請求項２６に記載の方法。
- 塩基が、ＮａＯＨ、ＫＯＨ又はＢａ（ＯＨ）２であることを特徴とする、請求項２７に記載の方法。
- 工程ｂ）又はｂ１）において、反応温度が２０～１５０℃であることを特徴とする、請求項１～２８のいずれか一項に記載の方法。
- 式（ＩＩ）の化合物又はその塩であって、
式（ＩＩ）の化合物が、
からなる群から選択される、式（ＩＩ）の化合物又はその塩。 - グルホシネート若しくはその塩、又はＬ－グルホシネート若しくはその塩の調製における請求項３０に記載の化合物の使用。
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