KR102515430B1 - 글루포시네이트 제조 방법 - Google Patents
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- IAJOBQBIJHVGMQ-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-[hydroxy(methyl)phosphoryl]butanoic acid Chemical compound CP(O)(=O)CCC(N)C(O)=O IAJOBQBIJHVGMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 18
- 239000005561 Glufosinate Substances 0.000 title claims abstract description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 173
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 123
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 47
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 8-[3-(1-cyclopropylpyrazol-4-yl)-1H-pyrazolo[4,3-d]pyrimidin-5-yl]-3-methyl-3,8-diazabicyclo[3.2.1]octan-2-one Chemical class C1(CC1)N1N=CC(=C1)C1=NNC2=C1N=C(N=C2)N1C2C(N(CC1CC2)C)=O HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 28
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 16
- IAJOBQBIJHVGMQ-BYPYZUCNSA-N glufosinate-P Chemical compound CP(O)(=O)CC[C@H](N)C(O)=O IAJOBQBIJHVGMQ-BYPYZUCNSA-N 0.000 claims description 16
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 16
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 14
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 14
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Substances ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 claims description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical group [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical group [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- -1 alkali metal bicarbonate Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- CDPKWOKGVUHZFR-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)phosphane Chemical group CP(Cl)Cl CDPKWOKGVUHZFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NSSMTQDEWVTEKN-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)phosphane Chemical group CCOP(C)OCC NSSMTQDEWVTEKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 5
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 claims description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 claims description 3
- OGJCIAFFKGRGJC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(chloranyl)ethane Chemical compound ClCCCl.ClCCCl OGJCIAFFKGRGJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000005325 alkali earth metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-IDEBNGHGSA-N chlorobenzene Chemical group Cl[13C]1=[13CH][13CH]=[13CH][13CH]=[13CH]1 MVPPADPHJFYWMZ-IDEBNGHGSA-N 0.000 claims description 2
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 claims description 2
- 150000003053 piperidines Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 claims description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 claims 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 claims 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 11
- GHXPWKHBRYKZPG-UHFFFAOYSA-N chloro-ethoxy-methylphosphane Chemical compound CCOP(C)Cl GHXPWKHBRYKZPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 7
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- QJPWUUJVYOJNMH-VKHMYHEASA-N L-homoserine lactone Chemical compound N[C@H]1CCOC1=O QJPWUUJVYOJNMH-VKHMYHEASA-N 0.000 description 2
- XBKCXPRYTLOQKS-DFWYDOINSA-N [(3s)-2-oxooxolan-3-yl]azanium;chloride Chemical compound Cl.N[C@H]1CCOC1=O XBKCXPRYTLOQKS-DFWYDOINSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- VWBDUAZQYFRETJ-JEDNCBNOSA-N ethyl (2S)-2-(chloroamino)-4-hydroxybutanoate hydrochloride Chemical compound CCOC(=O)[C@H](CCO)NCl.Cl VWBDUAZQYFRETJ-JEDNCBNOSA-N 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical group NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical class [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- QJPWUUJVYOJNMH-UHFFFAOYSA-N alpha-amino-gamma-butyrolactone Natural products NC1CCOC1=O QJPWUUJVYOJNMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- CFXLTWWKEOMXOK-YFKPBYRVSA-N ethyl (2S)-2-(chloroamino)-4-hydroxybutanoate Chemical compound CCOC(=O)[C@H](CCO)NCl CFXLTWWKEOMXOK-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- JZJQCLZQSHLSFB-WCCKRBBISA-N ethyl (2s)-2-amino-3-hydroxypropanoate;hydrochloride Chemical compound Cl.CCOC(=O)[C@@H](N)CO JZJQCLZQSHLSFB-WCCKRBBISA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002363 herbicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004895 liquid chromatography mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 150000007970 thio esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/30—Phosphinic acids [R2P(=O)(OH)]; Thiophosphinic acids ; [R2P(=X1)(X2H) (X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/301—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/30—Phosphinic acids [R2P(=O)(OH)]; Thiophosphinic acids ; [R2P(=X1)(X2H) (X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/32—Esters thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
글루포시네이트 또는 이의 염, 이의 거울상 이성질체, 또는 모든 비율의 이의 거울상 이성질체의 혼합물의 제조 방법으로서, 화학식 II의 화합물 또는 염, 거울상 이성질체, 또는 거울상 이성질체의 혼합물을 하나 이상의 화학식 III의 화합물 또는 이의 혼합물과 모든 비율로 반응시키는 단계를 포함한다.
<화학식 II>
<화학식 III>
<화학식 II>
<화학식 III>
Description
본 발명은 글루포시네이트(glufosinate)의 제조방법에 관한 것이다.
글루포시네이트(Glufosinate)는 중요한 제초제이다.
본 발명은 하기 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학식 I의 글루포시네이트 또는 그의 염, 거울상이성질체 또는 거울상이성질체의 혼합물을 모든 비율로 제조하는 방법을 제공한다:
<화학식 I>
a) 화학식 II의 화합물 또는 그의 염, 거울상이성질체 또는 거울상이성질체의 혼합물을 하나 이상의 화학식 III의 화합물 또는 혼합물과 모든 비율로 반응시키는 단계;
<화학식 II>
상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 V의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 III의 화합물, 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물이며;
<화학식 III>
<화학식 IV>
<화학식 V>
b) 분리 여부에 관계없이 중간체를 물 및 산 또는 염기의 존재 하에 반응시켜 글루포시네이트(glufosinate) (I) 또는 염, 이의 거울상 이성질체 또는 거울상 이성질체의 혼합물을 모든 비율로 수득하는 단계;
상기 식에서, PG가 아미노 보호기(amino protecting group)인 경우, 아미노 보호기를 제거하는 단계를 더 포함할 수 있고;
상기 식에서,
Hal1 및 Hal2는 각각 독립적으로 할로겐(halogen)이고;
PG는 수소 또는 아미노 보호기이고;
R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 알킬(alkyl), 페닐(phenyl) 또는 치환된 페닐이고, 상기 혼합물이 하나 이상의 화학식 IV의 화합물과 하나 이상의 화학식 III의 화합물의 혼합물을 포함하는 경우, 또는 상기 혼합물이 하나 이상의 화학식 III의 화합물, 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물의 혼합물을 포함하는 경우, R2는 R3 또는 R4이고;
키랄 탄소 원자(chiral carbon atom)는 *로 표시된다.
본 발명은 하기 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학식 I의 거울상이성질체적으로 순수한 글루포시네이트 또는 그의 염의 제조 방법을 추가로 제공한다:
<화학식 I>
a1) 거울상이성질체적으로 순수한 화학식 (II)의 화합물 또는 그의 염을 화학식 (III)의 화합물, 또는 하나 이상의 화학식 (III)의 화합물 또는 혼합물과 반응시키는 단계;
<화학식 II>
<화학식 III>
상기 혼합물은 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 V의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 III의 화합물, 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물이며;
<화학식 III>
<화학식 IV>
<화학식 V>
b1) 분리 여부에 관계없이 중간체를 물 및 산 또는 염기의 존재 하에 반응시켜 거울상 이성질체적으로 순수한 글루포시네이트(glufosinate) (I) 또는 염을 수득하는 단계;
상기 식에서, PG가 아미노 보호기(amino protecting group)인 경우, 아미노 보호기를 제거하는 단계를 더 포함할 수 있고;
상기 식에서,
Hal1 및 Hal2는 각각 독립적으로 할로겐(halogen)이고;
PG는 수소 또는 아미노 보호기이고;
R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 알킬(alkyl), 페닐(phenyl) 또는 치환된 페닐이고, 상기 혼합물이 하나 이상의 화학식 IV의 화합물과 하나 이상의 화학식 III의 화합물의 혼합물을 포함하는 경우, 또는 상기 혼합물이 하나 이상의 화학식 III의 화합물, 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물의 혼합물을 포함하는 경우, R2는 R3 또는 R4이고;
키랄 탄소 원자(chiral carbon atom)는 *로 표시된다.
특정 실시양태에서, 하나의 화학식 III의 화합물, 예를 들어, 클로로(에톡시)(메틸)포스판(chloro(ethoxy)(methyl)phosphane)이 사용된다.
특정 실시양태에서, 디클로로(메틸)포스판(dichloro(methyl)phosphane) 및 디에틸 메틸포스포나이트(diethyl methylphosphonite)의 혼합물과 같은 하나의 화학식 IV의 화합물 및 하나의 화학식 V의 화합물의 혼합물이 사용되며, 상기 혼합물에 화학식 III의 화합물, 예를 들어 클로로(에톡시)(메틸)포스판을 임의의 비율로 추가로 첨가할 수 있다.
또한, 상기 거울상 이성지체 비율은 50.5:49.5 내지 99.5:0.5의 (L):(D)-거울상 이성질체 또는 (D):(L)-거울상 이성질체이다.
또한, 상기 거울상 이성질체 비율은 50.5:49.5 내지 99.5:0.5의 (L):(D)-거울상 이성질체이다.
또한, 상기 PG는 수소이다.
또한, 상기 Hal1은 염소 원자이다.
또한, 상기 Hal2는 염소 원자이다.
또한, 상기 R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 C1-C6 알킬, 바람직하게는 C1-C4 알킬이다.
또한, 상기 R1은 에틸이다.
또한, 상기 R2는 에틸이다.
또한, 상기 R3은 에틸이다.
또한, 상기 R4는 에틸이다.
특정 실시양태에서, 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 IV의 화합물과 하나 이상의 화학식 III의 화합물의 혼합물이고, 화학식 (IV)의 화합물 대 화학식 (III)의 화합물의 몰비는 (0.9-1.1):1 또는 (0.05-1.1):1이고; 또는 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 V의 화합물과 하나 이상의 화학식 III의 화합물의 혼합물이고, 화학식 (V)의 화합물 대 화학식 (III)의 화합물의 몰비는 (0.9-1.1):1 또는 (0.05-1.1):1이고; 또는 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물이고, 화학식 (IV)의 화합물 대 화학식 (V)의 화합물의 몰비는 (0.9-1.1):1이다.
또한, 상기 전술한 a) 또는 a1) 단계에서, 상기 반응은 상온에서 진행될 수 있으며, 상기 반응 온도는 20-200℃일 수 있고, 바람직하게는 반응 효율을 고려하여 90-140℃일 수 있다.
또한, 상기 전술한 a) 또는 a1) 단계는 염기 존재 하에 수행된다.
또한, 상기 전술한 a) 또는 a1) 단계의 염기는 유기 염기 또는 암모니아이다.
또한, 상기 전술한 a) 또는 a1) 단계에서, 상기 유기 염기는 유기 아민, 헤테로사이클에서 하나 이상의 탄소 원자에 부착된 1-3개의 치환기를 갖는 피리딘(pyridine) 또는 피리딘 유도체, 헤테로사이클에서 하나 이상의 탄소 원자에 부착된 1-3개의 치환기를 갖는 피페리딘(piperidine) 또는 피페리딘 유도체로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
또한, 상기 유기 염기는 트리에틸아민, 피페리딘 또는 피리딘으로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
또한, 상기 전술한 a) 또는 a1) 단계에서, 상기 염기 대 화학식 III의 화합물 및 화학식 V의 화합물의 총량의 몰비는 (1-10):1이다.
또한, 상기 전술한 a) 또는 a1) 단계에서, 상기 반응은 용매-프리 조건 또는 불활성 용매 하에서 수행된다.
또한, 상기 전술한 a) 또는 a1) 단계에서, 상기 불활성 용매는 벤젠(benzene) 용매, 아미드(amide) 용매, 탄화수소(hydrocarbon) 용매, 할로겐화 탄화수소(halogenated hydrocarbon) 용매, 술폰(sulfone) 또는 술폭시드(sulfoxide) 용매, 에테르(ether) 용매 또는 에스테르(ester) 용매 중 임의의 하나 이상으로부터 선택되고; 바람직하게는, 상기 불활성 용매는 벤젠 용매, 아미드 용매, 할로겐화 탄화수소 용매, 에티르 용매 또는 에스테르 용매 중 하나 임의의 하나 이상으로부터 선택된다.
또한, 상기 전술한 a) 또는 a1) 단계에서, 상기 불활성 용매는 클로로벤젠(chlorobenzene), 트리메틸벤젠(trimethylbenzene), 1,4-디옥산(1,4-dioxane), 1,2-디클로로에탄(1,2-dichloroethane), 디메틸 술폭시드(dimethyl sulfoxide), N-메틸피롤리돈(N-methylpyrrolidone), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide), 석유 에테르(petroleum ether), n-헵탄(n-heptane), 테트라하이드로푸란(tetrahydrofuran), 메틸테트라하이드로푸란(methyltetrahydrofuran), 벤젠(benzene), 톨루엔(toluene), 에틸 아세테이트(ethyl acetate), 및 부틸 아세테이트(butyl acetate)중 임의의 하나 이상으로부터 선택된다.
또한, 상기 전술한 a) 또는 a1) 단계에서, 화학식 III의 화합물 또는 혼합물 대 화학식 II의 화합물의 몰비는 1:(0.8-10)이고, 바람직하게는 1:(1-3)이며; 또는 화학식 II의 화합물 대 화학식 III의 화합물 또는 혼합물의 몰비는 1:(0.8-10)이고, 바람직하게는 1:(1-3)이다.
또한, 상기 전술한 a) 또는 a1) 단계에서, 상기 무기산 또는 유기산을 첨가한다.
또한, 상기 무기산은 염산 또는 황산이다.
또한, 상기 전술한 b) 또는 b1) 단계에서, 상기 염기는 무기 염기 또는 유기 염기이다.
또한, 상기 염기는 알칼리 금속 수산화물(alkali metal hydroxide), 알칼리-토금속 수산화물(alkali-earth metal hydroxide), 알칼리 금속 카보네이트(alkali metal carbonate), 알칼리-토금속 카보네이트(alkali-earth metal carbonate), 알칼리 금속 바이카보네이트(alkali metal bicarbonate) 또는 알칼리-토금속 바이카보네이트(alkali-earth metal bicarbonate)이다.
또한 상기 염기는 NaOH, KOH 또는 Ba(OH)2이다.
또한, 상기 전술한 b) 또는 b1) 단계에서, 상기 반응 온도는 20 내지 150℃이다.
특정 실시양태에서, 화학식 IIa의 화합물을 화학식 IIIa의 화합물과 반응시킨 다음 산(예를 들어, 염산)에 첨가하여 L-글루포시네이트(L-glufosinate)를 얻는다:
<화학식 IIa>
<화학식 IIIa>
본 발명은 또한 화학식 III의 화합물을 제공한다:
<화학식 III>
상기 식에서, Hal2 및 R2는 상기에 정의된 바와 같다.
본 발명은 또한, 글루포시네이트 또는 이의 염, 또는 L-글루포시네이트 또는 이의 염의 제조에서 화학식 IIIa의 화합물의 용도를 제공한다.
<화학식 IIIa>
본 발명은 또한 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 V의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 III의 화합물, 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물을 제공한다:
<화학식 III>
<화학식 IV>
<화학식 V>
상기 식에서 Hal2, R2, R3 및 R4는 상기에 정의된 바와 같다.
또한, 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물이고, 화학식 (IV)의 화합물 대 화학식 (V)의 화합물의 몰비는 (0.9-1.1):1이며; 또는 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물이고, 화학식 (IV)의 화합물 대 화학식 (III)의 화합물의 몰비는 (0.9-1.1):1 또는 (0.05-1.1):1이며; 또는 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 V의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물이고, 화학식 (V)의 화합물 대 화학식 (III)의 화합물의 몰비는 (0.9-1.1):1 또는 (0.05-1.1):1이다.
또한, 상기 화학식 IV의 화합물은 디에틸 메틸포스포나이트(diethyl methylphosphonite)이고, 상기 화학식 V의 화합물은 디클로로(메틸)포스판(dichloro(methyl)phosphane)이다.
본 발명은 글루포시네이트 또는 이의 염, 또는 L-글루포시네이트 또는 이의 염의 제조에 있어서 전술한 혼합물의 용도를 추가로 제공한다.
본 발명의 방법은 글루포시네이트의 제조에 특히 적합하고, 기존 제조 공정의 단계를 실질적으로 감소시킨다. 특히, L-글루포시네이트의 제조에서, 상기 제품은 원료의 ee 값을 효과적으로 유지할 수 있다. 예를 들어, 거울상 이성질체적으로 순수한 원료(예를 들어, 거울상 이성질체 초과 백분율(% ee)가 90% 초과)가 사용되는 경우, 상기 제조된 L-글루포시네이트의 거울상이성질체 초과 백분율(% ee)은 예를 들어, 50%, 55%, 60%, 65%, 70%, 75%, 80%, 85%, 90% 또는 95% 초과이다.
본 명세서 및 특허청구범위에 사용된 용어는 달리 명시되지 않는 한 다음과 같은 의미를 갖는다.
상기 용어 “아미노 보호기(amino protecting group)"는 아미노기 내의 질소 원자에 부착되어 아미노기가 반응에 참여하는 것을 보호할 수 있고 후속 반응에서 쉽게 제거될 수 있는 기를 의미한다. 적합한 아미노 보호기는 하기 보호기를 포함하지만 이에 제한되지 않는다:
화학식 -C(O)O-R의 카바메이트 기(carbamate group) (상기 식에서, R은 메틸(methyl), 에틸(ethyl), tert-부틸(butyl), 벤질(benzyl), 페네틸(phenethyl), CH2=CH-CH2 등이다); 화학식 -C(O)-R'의 아미드 기(amide group) (상기 식에서, R'는 메틸, 에틸, 페닐(phenyl), 트리플루오로메틸(trifluoromethyl) 등이다); 화학식 -SO2-R''의 N-설포닐 유도체 기(N-sulfonyl derivative group) (상기 식에서, R''는 톨릴(tolyl), 페닐(phenyl), 트리플루오로메틸(trifluoromethyl), 2,2,5,7,8-펜타메틸크로만-6-일-(2,2,5,7,8-pentamethylchroman-6-yl-), 2,3,6-트리메틸- 4-메톡시벤젠(2,3,6-trimethyl-4-methoxybenzene) 등이다).
상기 용어 "알킬(alkyl)"은 1 내지 18개의 탄소 원자를 갖는 선형 및 분지형 기를 포함하는 포화 지방족 탄화수소 기를 의미한다. 메틸(methyl), 에틸(ethyl), 프로필(propyl), 2-프로필, n-부틸(n-butyl), 이소부틸(isobutyl), tert-부틸(butyl) 및 펜틸(pentyl)과 같은 탄소수 1 내지 6의 알킬이 바람직하다. 상기 알킬은 치환되거나 치환되지 않을 수 있고, 치환되는 경우, 치환기는 할로겐(halogen), 니트로(nitro), 설포닐(sulfonyl), 에테르 옥시(ether oxy), 에테르 티오(ether thio), 에스테르(ester), 티오에스테르(thioester) 또는 시아노(cyano)일 수 있다.
상기 C1-C4 알킬은 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 포화 탄화수소 사슬을 포함하는 선형 또는 분지형이다. 이는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, sec-부틸 또는 tert-부틸일 수 있다.
본원에 사용된 바와 같이, "모든 비율의 거울상 이성질체의 혼합물(mixture of the enantiomers in all ratios)"은 "임의의 비율의 거울상 이성질체의 혼합물(mixture of the enantiomers in any ratio)"과 동일한 의미를 갖는다.
화합물 1의 제조
반응 플라스크에 L-호모세린 락톤 염산염(L-homoserine lactone hydrochloride )(ee 값 99%, 137.56g/mol, 0.073mol) 10g을 칭량하였고, 에탄올(46.07g/mol, 0.886mol, 0.816g/mL) 50mL를 첨가하였다(호모세린 락톤 염산염 대 에μ올의 몰비는 1:12.1임). 상기 시스템을 10℃로 냉각하고, 티오닐 클로라이드 21.7g(118.97g/mol, 0.182mol)을 천천히 적가하였다(L-호모세린 락톤 하이염산염 대 티오닐 클로라이드의 몰비는 1:2.5임). 상기 시스템 온도를 10℃로 유지하고 30분간 교반하였다. 상기 반응물을 35℃로 가열하고, 20시간 동안 교반하는 동안, 기포가 연속적으로 생성되었다. 상기 반응물을 LC-MS로 모니터링하였다. 상기 반응을 중지하고, 시스템을 실온으로 냉각하고, 잔류하는 염화티오닐(thionyl chloride)과 에탄올(ethanol)을 감압하에 증류 제거하였다. 상기 고체 잔류물을 30mL의 n-헥산/에틸 아세테이트 혼합 용매(n-헥산 대 에틸 아세테이트의 부피비는 2:1)로 슬러리화하고, 여과 및 건조하여 13.69g의 클로로-호모세린 에틸 에스테르 염산염(202.08 g/mol, 0.0657mol)을 얻었고, 여기서, HPLC 순도는 97%이고, 반응물인 L-호모세린 락톤 염산염의 양을 기준으로 계산된 수율은 90%이다.
상기 클로로-호모세린 에틸 에스테르 염산염 고체를 포화 탄산나트륨 용액과 반응시켰다. 상기 시스템의 pH를 7~8로 조절하고 에틸 아세테이트로 3번 추출하였고, 상기 3번의 추출 과정에서 에틸 아세테이트의 양은 각각 30mL, 10mL, 10mL였다. 상기 유기상을 수집하고 농축하여 10.30g의 유성 표적 생성물인 클로로-호모세린 에틸 에스테르(165.62g/mol, 0.0591mol)를 얻었고, 여기서 HPLC 순도는 95%, ee 값은 99%, 중간 생성물 클로로-호모세린 에틸 에스테르 염산염을 기준으로 계산된 수율은 90%였다.
MS (ESI): m/z [M + H]+ C6H13ClNO2에 대한 계산치:166.06, 측정치:166.0.
1H NMR (CDCl3, 400MHz)δ:4.04(q, J=7.1Hz, 2H), 3.65-3.50(m, 2H), 3.48(dd, J=9.0, 4.7Hz, 1H), 2.05(dddd, J=14.7, 8.5, 6.4, 4.6Hz, 1H), 1.87-1.64(m, 3H), 1.13(t, J=7.2Hz, 3H).
실시예 1
질소 기체 하에서, 디에틸 메틸포스포나이트(diethyl methylphosphonite) (65.9g, 484.8mmol, 1.0 당량) 및 용매 1,4-디옥산(1,4-dioxane)(66g)을 둥근 바닥 플라스크에 첨가하고, 1,4-디옥산(63g) 용액 디클로로(메틸)포스판(dichloro(methyl)phosphane)(62.3g, 533.3mmol, 1.1당량)을 정압 깔때기(constant-pressure funnel)를 통해 적가하고, 상기 반응물을 실온에서 밤새 교반하였다. 1,4-디옥산과 클로로(에톡시)(메틸)포스판(chloro(ethoxy)(methyl)phosphane) (무색 액체, 85.8g, 수율: 70%)을 감압하에 증류하였다.
1H NMR (D2O, 43MHz)δ:3.92-2.96(m, 2H), 1.31(d, J=12.8Hz, 3H), 0.84(t, J=7.0Hz, 3H).
실시예 2
질소 기체 하에서, 화합물 1(40.0g, 242.4mmol, 1.0eq), 클로로벤젠(81.9g, 727.2mmol, 3.0eq) 및 트리에틸아민(29.4g, 290.9mmol, 1.2eq)을 3구 플라스크에 각각 첨가하였고, 클로로(에톡시)(메틸)포스판(36.8g, 290.9mmol, 1.2당량)을 적가하고, 상기 반응물을 실온에서 2시간 동안 교반하였다. 상기 반응을 100℃로 가열하고, 20시간 동안 진행시켰다. MS 검출은 원료가 사라진 것으로 나타났다. 상기 반응물을 실온으로 냉각하고, 36% HCl(294.9mL, 3432.6mmol, 14.0당량)을 적가하고, 시작 물질의 반응이 완료될 때까지 환류 가열하였다. 상기 용매를 증발시키고, 95% 에탄올(200mL) 및 물(20mL)을 첨가하고, 상기 생성물이 완전히 용해될 때까지 혼합물을 환류 가열하였다. 상기 혼합물은 냉각 및 결정화, 여과, 건조하여 L-글루포시네이트(백색 결정, 38.4g, 수율: 88%, 98% ee)를 얻었다.
MS (ESI): m/z [M + H]+ C5H13NO4P에 대한 계산치:182.05, 측정치 182.1.
1H NMR (D2O, 400MHz)δ:4.08(t, J=6.2Hz, 1H), 2.11(dddd, J=14.6, 11.0, 8.7, 6.0Hz, 2H), 1.99-1.73(m, 2H), 1.44(d, J=14.2Hz, 3H).
13C NMR (D2O, 100MHz)δ:171.0, 52.8, 52.6, 25.5, 24.6, 22.6, 22.5, 13.9, 13.0.
31P NMR (D2O, 160MHz)δ:53.8.
실시예 3
질소 기체 하에서, 화합물 1(40.0g, 242.4mmol, 1.0eq), 클로로벤젠(81.9g, 727.2mmol, 3.0eq) 및 피리딘(23.0g, 290.9mmol, 1.2eq)을 각각 3구 플라스크에 첨가하였고, 클로로(에톡시)(메틸)포스판(36.8g, 290.9mmol, 1.2당량)을 적가하고, 반응물을 실온에서 2시간 동안 교반하였다. 상기 반응을 100℃로 가열하고, 20시간 동안 진행시켰다. MS 검출은 원료가 사라진 것으로 나타났다. 상기 반응물을 실온으로 냉각하고, 36% HCl(294.9mL, 3432.6mmol, 14.0당량)을 적가하고, 시작 물질의 반응이 완료될 때까지 환류 가열하였다. 상기 용매를 증발시키고, 95% 에탄올(200mL) 및 물(20mL)을 첨가하고, 상기 생성물이 완전히 용해될 때까지 혼합물을 환류 가열하였다. 상기 혼합물을 냉각 및 결정화하고, 여과 및 건조하여 L-글루포시네이트(백색 결정, 35.3g, 수율: 81%, 96% ee)를 얻었다.
실시예 4
질소 기체 하에서, 화합물 1(40.0g, 242.4mmol, 1.0eq), 클로로벤젠(81.9g, 727.2mmol, 3.0eq) 및 피페리딘(24.8g, 290.9mmol, 1.2eq)을 각각 3구 플라스크에 첨가하였고, 클로로(에톡시)(메틸)포스판(36.8g, 290.9mmol, 1.2당량)을 적가하고, 상기 반응물을 실온에서 2시간 동안 교반하였다. 상기 반응물을 100℃로 가열하고, 20시간 동안 진행시켰다. MS 검출은 원료가 사라진 것으로 나타났다. 상기 반응물을 실온으로 냉각하고, 36% HCl(294.9mL, 3432.6mmol, 14.0당량)을 적가하고, 시작 물질의 반응이 완료될 때까지 환류 가열하였다. 상기 용매를 증발시키고, 95% 에탄올(200mL) 및 물(20mL)을 첨가하고, 생성물이 완전히 용해될 때까지 혼합물을 환류 가열하였다. 상기 혼합물은 냉각 및 결정화, 여과 및 건조하여 L-글루포시네이트(백색 결정, 33.2g, 수율: 76%, 94% ee)를 얻었다.
실시예 5
질소 기체 하에서, 화합물 1(40.0g, 242.4mmol, 1.0eq)과 클로로벤젠(81.9g, 727.2mmol, 3.0eq)을 각각 3구 플라스크에 넣었다. 클로로(에톡시)(메틸)포스판(36.8g, 290.9mmol, 1.2당량)을 적가하고, 포화될 때까지 암모니아를 동시에 버블링하였다. 상기 반응물을 실온에서 2시간 동안 교반하였다. 상기 반응물을 100℃로 가열하고, 20시간 동안 진행시켰다. MS 검출은 원료가 사라진 것으로 나타났다. 상기 반응물을 실온으로 냉각하고, 36% HCl(294.9mL, 3432.6mmol, 14.0당량)을 적가하고, 시작 물질의 반응이 완료될 때까지 환류 가열하였다. 상기 용매를 증발시키고, 95% 에탄올(200mL) 및 물(20mL)을 첨가하고, 생성물이 완전히 용해될 때까지 혼합물을 환류 가열하였다. 상기 혼합물은 냉각 및 결정화, 여과, 건조하여 L-글루포시네이트(백색 결정, 38g, 수율: 87%, 97% ee)를 얻었다.
실시예 6
질소 기체 하에서, 화합물 1(40.0g, 242.4mmol, 1.0eq), 1,4-디옥산(64g, 727.2mmol, 3.0eq) 및 트리에틸아민(29.4g, 290.9mmol, 1.2eq)을 각각 3구 플라스크에 첨가하였고, 클로로(에톡시)(메틸)포스판(36.8g, 290.9mmol, 1.2당량)을 적가하고, 반응물을 실온에서 2시간 동안 교반하였다. 상기 반응물을 100℃로 가열하고, 20시간 동안 진행시켰다. MS 검출은 원료가 사라진 것으로 나타났다. 상기 반응물을 실온으로 냉각하고, 36% HCl(294.9mL, 3432.6mmol, 14.0당량)을 적가하고, 시작 물질의 반응이 완료될 때까지 환류 가열하였다. 상기 용매를 증발시키고, 95% 에탄올(200mL) 및 물(20mL)을 첨가하고, 생성물이 완전히 용해될 때까지 혼합물을 환류 가열하였다. 상기 혼합물은 냉각 및 결정화, 여과, 건조하여 L-글루포시네이트(백색 결정, 36.2g, 수율: 83%, 97% ee)를 얻었다.
실시예 7
질소 기체 하에서, 상온(20℃)에서 둥근바닥 플라스크에 디클로로(메틸)포스판(520.5mmol, 0.6eq, 순도: 90%)을 첨가하였고, 디에틸 메틸포스포나이트(1735mmol, 2.0eq, 순도: 98%)를 정압 깔때기를 통해 적가하였고, 적가 후, 상기 반응물을 10분 동안 계속 교반하였다. 1,4-디옥산(500g) 중 화합물 1 (867.5mmol, 1.0eq, 순도: 96%, ee 값: 99%) 및 트리에틸아민(107.5g, 1041mmol, 1.2당량, 순도: 98%)의 용액을 적가하고, 적가 후 상기 반응물을 1.5시간 동안 계속 교반하였다. 이어서, 상기 반응 용액을 90℃로 가열하고, 20시간 동안 진행시켰다. 상기 반응 용액을 상온으로 냉각하고, 흡인여과하고, 상기 필터 케이크를 1,4-디옥산(150mL*3)으로 세척하고, 상기 여과액을 회전 증발시켜 1,4-디옥산을 제거하였다. 상기 반응물에 진한 염산(36%) 100mL를 첨가하고, 90℃로 가열하고, 10시간 동안 진행시켰다. 상기 용매를 회전 증발시켜 건조시키고, 200mL의 진한 염산(36%)을 보충하고, 상기 반응을 90℃에서 10시간 동안 계속하였다. MS 검출은 중간체가 사라진 것으로 나타났고, 이때 반응 용액의 분석은 반응 용액에서 L-글루포시네이트의 거울상 이성질체 과잉 백분율(% ee)이 92%임을 나타내었다. 상기 반응 용액을 상온으로 냉각하고, 회전 증발시켜 용매를 제거하고, 95% 에탄올(300mL)을 첨가하고, 조 생성물이 완전히 용해될 때까지 가열 환류하였다. 상기 혼합물을 냉각 및 결정화하고, 여과 및 건조하여 L-글루포시네이트 화합물을 얻었다(수율: 69%, 97% ee).
본 명세서에 기재된 것 외에도, 전술한 설명에 따르면, 본 발명에 대한 다양한 변형이 당업자에게 명백할 것이다. 이러한 수정은 첨부된 청구항의 범위에 속하는 것으로 의도된다. 본원에 인용된 각 참고 문헌(모든 특허, 특허 출원, 저널 기사, 책 및 기타 공개 내용 포함)은 그 전체가 참고로 본원에 포함된다.
Claims (53)
- 하기 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학식 I의 글루포시네이트 또는 그의 염, 거울상이성질체 또는 거울상이성질체의 혼합물을 모든 비율로 제조하는 방법:
<화학식 I>
a) 화학식 II의 화합물 또는 그의 염, 거울상이성질체 또는 거울상이성질체의 혼합물을 하나 이상의 화학식 III의 화합물 또는 혼합물과 모든 비율로 반응시키는 단계;
<화학식 II>
상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 V의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 III의 화합물, 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물이며;
<화학식 III>
<화학식 IV>
<화학식 V>
b) 분리 여부에 관계없이 중간체를 물 및 산 또는 염기의 존재 하에 반응시켜 글루포시네이트(glufosinate) (I) 또는 염, 이의 거울상 이성질체 또는 거울상 이성질체의 혼합물을 모든 비율로 수득하는 단계;
상기 식에서, PG가 아미노 보호기(amino protecting group)인 경우, 아미노 보호기를 제거하는 단계를 더 포함할 수 있고;
상기 식에서,
Hal1 및 Hal2는 각각 독립적으로 할로겐(halogen)이고;
PG는 수소 또는 아미노 보호기이고;
R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 알킬(alkyl), 페닐(phenyl) 또는 치환된 페닐이고, 상기 혼합물이 하나 이상의 화학식 IV의 화합물과 하나 이상의 화학식 III의 화합물의 혼합물을 포함하는 경우, 또는 상기 혼합물이 하나 이상의 화학식 III의 화합물, 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물의 혼합물을 포함하는 경우, R2는 R3 또는 R4이고;
키랄 탄소 원자(chiral carbon atom)는 *로 표시된다. - 하기 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학식 I의 거울상이성질체적으로 순수한 글루포시네이트 또는 그의 염의 제조 방법:
<화학식 I>
a1) 거울상이성질체적으로 순수한 화학식 (II)의 화합물 또는 그의 염을 화학식 (III)의 화합물, 또는 하나 이상의 화학식 (III)의 화합물 또는 혼합물과 반응시키는 단계;
<화학식 II>
<화학식 III>
상기 혼합물은 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 V의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 III의 화합물, 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물이며;
<화학식 III>
<화학식 IV>
<화학식 V>
b1) 분리 여부에 관계없이 중간체를 물 및 산 또는 염기의 존재 하에 반응시켜 거울상 이성질체적으로 순수한 글루포시네이트(glufosinate) (I) 또는 염을 수득하는 단계;
상기 식에서, PG가 아미노 보호기(amino protecting group)인 경우, 아미노 보호기를 제거하는 단계를 더 포함할 수 있고;
상기 식에서,
Hal1 및 Hal2는 각각 독립적으로 할로겐(halogen)이고;
PG는 수소 또는 아미노 보호기이고;
R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 알킬(alkyl), 페닐(phenyl) 또는 치환된 페닐이고, 상기 혼합물이 하나 이상의 화학식 IV의 화합물과 하나 이상의 화학식 III의 화합물의 혼합물을 포함하는 경우, 또는 상기 혼합물이 하나 이상의 화학식 III의 화합물, 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물의 혼합물을 포함하는 경우, R2는 R3 또는 R4이고;
키랄 탄소 원자(chiral carbon atom)는 *로 표시된다. - 제2항에 있어서, 상기 거울상 이성질체 비율은 50.5:49.5 내지 99.5:0.5의 (L):(D)-거울상 이성질체 또는 (D):(L)-거울상 이성질체인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제3항에 있어서, 상기 거울상 이성질체 비율은 50.5:49.5 내지 99.5:0.5의 (L):(D)-거울상 이성질체인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 PG가 수소인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 Hal1이 염소 원자인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 Hal2가 염소 원자인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 R1, R2, R3 및 R4가 각각 독립적으로 C1-C6 알킬인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제8항에 있어서, 상기 R1, R2, R3 및 R4가 각각 독립적으로 C1-C4 알킬인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 R1이 에틸인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 R2가 에틸인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 R3가 에틸인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 R4가 에틸인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 IV의 화합물과 하나 이상의 화학식 III의 혼합물이고, 상기 화학식 IV의 화합물 대 화학식 III의 화합물의 몰비는 (0.05-1.1):1이거나; 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 V 및 하나 이상의 화학식 III의 혼합물이고, 상기 화학식 V의 화합물 대 화학식 III의 화합물의 몰비는(0.05-1.1):1이거나; 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물이고, 화학식 IV의 화합물 대 화학식 V의 화합물의 몰비는 (0.9-1.1):1인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제14항에 있어서, 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 IV의 화합물과 하나 이상의 화학식 III의 혼합물이고, 상기 화학식 IV의 화합물 대 화학식 III의 화합물의 몰비는 (0.9-1.1):1 이거나; 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 V 및 하나 이상의 화학식 III의 혼합물이고, 상기 화학식 V의 화합물 대 화학식 III의 화합물의 몰비는 (0.9-1.1):1 이거나; 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물이고, 화학식 IV의 화합물 대 화학식 V의 화합물의 몰비는 (0.9-1.1):1인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 a) 단계 또는 a1) 단계에서, 상기 반응 온도는 20 내지 200℃인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 a) 단계 또는 a1) 단계에서, 상기 반응 온도는 90 내지 140℃인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 a) 단계 또는 a1) 단계는 염기의 존재 하에 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제18항에 있어서, 상기 a) 단계 또는 a1) 단계에서 염기는 유기 염기 또는 암모니아(ammonia)인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제19항에 있어서, 상기 a) 단계 또는 a1) 단계에서, 상기 유기 염기는 유기 아민인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제19항에 있어서, 상기 a) 단계 또는 a1) 단계에서, 상기 유기 염기는 헤테로사이클에서 하나 이상의 탄소 원자에 부착된 1-3개의 치환기를 갖는 피리딘(pyridine) 또는 피리딘 유도체, 헤테로사이클에서 하나 이상의 탄소 원자에 부착된 1-3개의 치환기를 갖는 피페리딘(piperidine) 또는 피페리딘 유도체로 이루어진 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 방법.
- 제19항에 있어서, 상기 유기 염기는 트리에틸아민(triethylamine), 피페리딘(piperidine) 또는 피리딘(pyridine)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 a) 단계 또는 a1) 단계에서, 상기 염기 대 화학식 III의 화합물 및 화학식 V의 화합물의 총량의 몰비는 (1-10):1인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 a) 단계 또는 a1) 단계에서, 상기 반응은 용매-프리 조건 또는 불활성 용매 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제24항에 있어서, 상기 a) 단계 또는 a1) 단계에서, 상기 불활성 용매는 아미드(amide) 용매, 탄화수소(hydrocarbon) 용매, 할로겐화 탄화수소(halogenated hydrocarbon) 용매, 술폰(sulfone) 또는 술폭시드(sulfoxide) 용매, 에테르(ether) 용매 또는 에스테르(ester) 용매 중 임의의 하나 이상으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제24항에 있어서, 상기 a) 단계 또는 a1) 단계에서, 상기 불활성 용매는 벤젠 용매, 아미드 용매, 할로겐화 탄화수소 용매, 에티르 용매 또는 에스테르 용매 중 하나 임의의 하나 이상으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제26항에 있어서, 상기 a) 단계 또는 a1) 단계에서, 상기 불활성 용매는 벤젠 용매인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제24항에 있어서, 상기 a) 단계 또는 a1) 단계에서, 상기 불활성 용매는 클로로벤젠(chlorobenzene), 트리메틸벤젠(trimethylbenzene), 1,4-디옥산(1,4-dioxane), 1,2-디클로로에탄(1,2-dichloroethane), 디메틸 술폭시드(dimethyl sulfoxide), N-메틸피롤리돈(N-methylpyrrolidone), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide), 석유 에테르(petroleum ether), n-헵탄(n-heptane), 테트라하이드로푸란(tetrahydrofuran), 메틸테트라하이드로푸란(methyltetrahydrofuran), 벤젠(benzene), 톨루엔(toluene), 에틸 아세테이트(ethyl acetate), 및 부틸 아세테이트(butyl acetate)중 임의의 하나 이상으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 a) 단계 또는 a1) 단계에서, 화학식 III의 화합물 또는 혼합물 대 화학식 II의 화합물의 몰비는 1:(0.8-10)이며; 또는 화학식 II의 화합물 대 화학식 III의 화합물 또는 혼합물의 몰비는 1:(0.8-10)인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제29항에 있어서, 상기 화학식 III의 화합물 또는 혼합물 대 화학식 II의 화합물의 몰비는 1:(1-3)이며; 또는 화학식 II의 화합물 대 화학식 III의 화합물 또는 혼합물의 몰비는 1:(1-3)인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 b) 단계 또는 b1)에서, 상기 무기산 또는 유기산을 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제31항에 있어서, 상기 무기산은 염산 또는 황산인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 b) 단계 또는 b1) 단계에서, 상기 염기는 무기 염기 또는 유기 염기인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제33항에 있어서, 상기 염기는 알칼리 금속 수산화물(alkali metal hydroxide), 알칼리-토금속 수산화물(alkali-earth metal hydroxide), 알칼리 금속 카보네이트(alkali metal carbonate), 알칼리-토금속 카보네이트(alkali-earth metal carbonate), 알칼리 금속 바이카보네이트(alkali metal bicarbonate) 또는 알칼리-토금속 바이카보네이트(alkali-earth metal bicarbonate)인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제33항에 있어서, 상기 염기는 NaOH, KOH 또는 Ba(OH)2인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 b) 단계 또는 b1) 단계에서, 상기 반응 온도는 20 내지 150℃인 것을 특징으로 하는 방법.
- 화학식 IIa의 화합물을 화학식 IIIa의 화합물과 반응시킨 다음 산에 첨가하여 L-글루포시네이트(L-glufosinate)를 수득하는 것을 특징으로 하는 L-글루포시네이트 또는 그의 염의 제조 방법.
<화학식 IIa>
<화학식 IIIa>
- 제37항에 있어서, 상기 산은 염산인 것을 특징으로 하는 방법.
- 하기 화학식 III의 화합물을 사용하는 단계를 포함하는, 글루포시네이트 또는 그의 염, 또는 L-글루포시네이트 또는 그의 염의 제조방법:
<화학식 III>
상기 식에서, Hal2 는 할로겐(halogen)이고; 및
R2는 알킬(alkyl), 페닐(phenyl) 또는 치환된 페닐이다. - 제39항에 있어서, 상기 Hal2 는 염소 원자인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제39항에 있어서, 상기 R2는 C1-C6 알킬인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제41항에 있어서, 상기 R2는 C1-C4 알킬인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제42항에 있어서, 상기 R2는 에틸인 것을 특징으로 하는 방법.
- 하기 화학식 IIIa의 화합물을 사용하는 단계를 포함하는, 글루포시네이트 또는 이의 염, 또는 L-글루포시네이트 또는 이의 염의 제조방법.
<화학식 IIIa>
- 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 V의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물; 또는 하나 이상의 화학식 III의 화합물, 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물을 포함하는 혼합물:
<화학식 III>
<화학식 IV>
<화학식 V>
상기 식에서 Hal2는 할로겐(halogen)이고;및
R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 알킬(alkyl), 페닐(phenyl) 또는 치환된 페닐이고, 상기 혼합물이 하나 이상의 화학식 IV의 화합물과 하나 이상의 화학식 III의 화합물의 혼합물을 포함하는 경우, 또는 상기 혼합물이 하나 이상의 화학식 III의 화합물, 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 V의 화합물의 혼합물을 포함하는 경우로서, R2, R3 및 R4 중 어느 것도 메틸이 아닌 경우, R2는 R3 또는 R4이다. - 제45항에 있어서, 상기 Hal2 는 염소 원자인 것을 특징으로 하는 혼합물.
- 제45항에 있어서, 상기 R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 C1-C6 알킬인 것을 특징으로 하는 혼합물.
- 제47항에 있어서, 상기 R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 C1-C4 알킬인 것을 특징으로 하는 혼합물.
- 제48항에 있어서, 상기 R2 또는 R3 또는 R4는 에틸인 것을 특징으로 하는 혼합물.
- 제45항에 있어서, 상기 혼합물은 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물이고, 화학식 (IV)의 화합물 대 화학식 (III)의 화합물의 몰비는(0.05-1.1):1이며; 또는 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 V의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물이고, 화학식 (V)의 화합물 대 화학식 (III)의 화합물의 몰비는 (0.05-1.1):1인 것을 특징으로 하는 혼합물.
- 제50항에 있어서, 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 IV의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물이고, 화학식 (IV)의 화합물 대 화학식 (III)의 화합물의 몰비는 (0.9-1.1):1이며; 또는 상기 혼합물은 하나 이상의 화학식 V의 화합물 및 하나 이상의 화학식 III의 화합물을 포함하는 혼합물이고, 화학식 (V)의 화합물 대 화학식 (III)의 화합물의 몰비는 (0.9-1.1):1인 것을 특징으로 하는 혼합물.
- 제45항에 있어서, 상기 화학식 IV의 화합물은 디에틸 메틸포스포나이트(diethyl methylphosphonite)이고, 상기 화학식 V의 화합물은 디클로로(메틸)포스판(dichloro(methyl)phosphane)인 것을 특징으로 하는 혼합물.
- 제45항 내지 제52항 중 어느 한 항에 따른 혼합물을 사용하는 단계를 포함하는, 글루포시네이트 또는 그의 염, 또는 L-글루포시네이트 또는 그의 염의 제조방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010064268 | 2020-01-20 | ||
| CN202010064268.7 | 2020-01-20 | ||
| PCT/CN2021/072854 WO2021147894A1 (zh) | 2020-01-20 | 2021-01-20 | 草铵膦的制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20220113365A KR20220113365A (ko) | 2022-08-12 |
| KR102515430B1 true KR102515430B1 (ko) | 2023-03-29 |
Family
ID=76992072
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020227017101A KR102515430B1 (ko) | 2020-01-20 | 2021-01-20 | 글루포시네이트 제조 방법 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US11680077B2 (ko) |
| EP (1) | EP4043468A1 (ko) |
| JP (2) | JP2022551341A (ko) |
| KR (1) | KR102515430B1 (ko) |
| CN (1) | CN113490671B (ko) |
| AU (1) | AU2021209728B2 (ko) |
| BR (1) | BR112022008792B1 (ko) |
| CA (1) | CA3157884C (ko) |
| IL (1) | IL292593B2 (ko) |
| MX (1) | MX2022005442A (ko) |
| WO (1) | WO2021147894A1 (ko) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023001132A1 (zh) * | 2021-07-20 | 2023-01-26 | 利尔化学股份有限公司 | 制备草铵膦或其类似物的方法 |
| AU2022314007B2 (en) * | 2021-07-20 | 2023-09-14 | Lier Chemical Co., Ltd. | Preparation Method for Glufosinate |
| AR126485A1 (es) * | 2021-07-20 | 2023-10-11 | Lier Chemical Co Ltd | Proceso para preparar glufosinato o análogos del mismo |
| TW202333573A (zh) * | 2021-12-13 | 2023-09-01 | 中國大陸商利爾化學股份有限公司 | L-草銨膦衍生物、包含其的組合物及其製備方法和用途 |
| CN115201358B (zh) * | 2022-06-30 | 2023-10-17 | 北京怡力生物科技有限公司 | 一种草铵膦中间体草铵膦氨基腈的定量检测方法 |
| CN115093339A (zh) * | 2022-07-20 | 2022-09-23 | 永农生物科学有限公司 | 一种l-草铵膦中间体的合成方法 |
| CN115636849A (zh) * | 2022-09-09 | 2023-01-24 | 河北威远生物化工有限公司 | 一种l-草铵膦的合成方法 |
| CN115246857B (zh) * | 2022-09-22 | 2022-12-13 | 山东新和成氨基酸有限公司 | 一种l-草铵膦的制备方法 |
| EP4371992A1 (en) | 2022-11-17 | 2024-05-22 | YongNong BioSciences Co., Ltd | Methods of preparing glufosinate |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109232644A (zh) | 2018-09-30 | 2019-01-18 | 武汉工程大学 | 草铵膦的合成方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU165724A1 (ru) | 1962-09-11 | 1964-10-26 | Ю. М. Зиновьев, В. Н. Кулакова , Л. Соборовский | Способ получения эфиров алкилхлорфосфинистыхкислот |
| TW353663B (en) * | 1991-04-06 | 1999-03-01 | Hoechst Ag | Process for the preparation of phosphorus-containing L-amino acids, their derivatives and intermediates for this process |
| CN106083922B (zh) | 2016-08-23 | 2018-08-31 | 山东省农药科学研究院 | 一种精草铵膦的制备方法 |
| WO2021143712A1 (zh) | 2020-01-13 | 2021-07-22 | 利尔化学股份有限公司 | 一种制备l-草铵膦中间体的方法 |
| WO2021143713A1 (zh) | 2020-01-13 | 2021-07-22 | 利尔化学股份有限公司 | 制备l-草铵膦中间体的方法 |
-
2021
- 2021-01-20 AU AU2021209728A patent/AU2021209728B2/en active Active
- 2021-01-20 US US17/610,051 patent/US11680077B2/en active Active
- 2021-01-20 EP EP21743682.3A patent/EP4043468A1/en active Pending
- 2021-01-20 CA CA3157884A patent/CA3157884C/en active Active
- 2021-01-20 BR BR112022008792-6A patent/BR112022008792B1/pt active IP Right Grant
- 2021-01-20 CN CN202180002115.2A patent/CN113490671B/zh active Active
- 2021-01-20 JP JP2022534422A patent/JP2022551341A/ja active Pending
- 2021-01-20 KR KR1020227017101A patent/KR102515430B1/ko active IP Right Grant
- 2021-01-20 WO PCT/CN2021/072854 patent/WO2021147894A1/zh active Application Filing
- 2021-01-20 MX MX2022005442A patent/MX2022005442A/es unknown
- 2021-01-20 IL IL292593A patent/IL292593B2/en unknown
-
2023
- 2023-05-04 US US18/312,088 patent/US20230271985A1/en active Pending
- 2023-11-20 JP JP2023196418A patent/JP2024023340A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109232644A (zh) | 2018-09-30 | 2019-01-18 | 武汉工程大学 | 草铵膦的合成方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Advances in Organophosphorus Chemistry Based on Dichloro(methyl)phosphane, |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU2021209728B2 (en) | 2022-08-18 |
| WO2021147894A1 (zh) | 2021-07-29 |
| CA3157884C (en) | 2024-02-13 |
| US11680077B2 (en) | 2023-06-20 |
| CA3157884A1 (en) | 2021-07-29 |
| MX2022005442A (es) | 2022-08-10 |
| BR112022008792B1 (pt) | 2023-12-26 |
| JP2022551341A (ja) | 2022-12-08 |
| CN113490671A (zh) | 2021-10-08 |
| EP4043468A1 (en) | 2022-08-17 |
| JP2024023340A (ja) | 2024-02-21 |
| US20230271985A1 (en) | 2023-08-31 |
| US20220259232A1 (en) | 2022-08-18 |
| BR112022008792A2 (pt) | 2022-07-26 |
| CN113490671B (zh) | 2022-04-12 |
| AU2021209728A1 (en) | 2022-05-26 |
| KR20220113365A (ko) | 2022-08-12 |
| IL292593B1 (en) | 2023-07-01 |
| IL292593B2 (en) | 2023-11-01 |
| IL292593A (en) | 2022-07-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |