JP2024160333A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2024160333A5 JP2024160333A5 JP2024134088A JP2024134088A JP2024160333A5 JP 2024160333 A5 JP2024160333 A5 JP 2024160333A5 JP 2024134088 A JP2024134088 A JP 2024134088A JP 2024134088 A JP2024134088 A JP 2024134088A JP 2024160333 A5 JP2024160333 A5 JP 2024160333A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- region
- electrostatic chuck
- bias
- electrical bias
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2024134088A JP7763304B2 (ja) | 2020-03-25 | 2024-08-09 | 静電チャック、基板支持器、及びプラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020054019A JP7450427B2 (ja) | 2020-03-25 | 2020-03-25 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 |
| JP2023194441A JP7538935B2 (ja) | 2020-03-25 | 2023-11-15 | プラズマ処理装置 |
| JP2024134088A JP7763304B2 (ja) | 2020-03-25 | 2024-08-09 | 静電チャック、基板支持器、及びプラズマ処理装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023194441A Division JP7538935B2 (ja) | 2020-03-25 | 2023-11-15 | プラズマ処理装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2025173456A Division JP2025188223A (ja) | 2025-10-15 | 単一の誘電体部、静電チャック、基板支持器、及びプラズマ処理装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2024160333A JP2024160333A (ja) | 2024-11-13 |
| JP2024160333A5 true JP2024160333A5 (enExample) | 2024-12-11 |
| JP7763304B2 JP7763304B2 (ja) | 2025-10-31 |
Family
ID=77808922
Family Applications (4)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020054019A Active JP7450427B2 (ja) | 2020-03-25 | 2020-03-25 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 |
| JP2023194441A Active JP7538935B2 (ja) | 2020-03-25 | 2023-11-15 | プラズマ処理装置 |
| JP2023194450A Active JP7519525B2 (ja) | 2020-03-25 | 2023-11-15 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 |
| JP2024134088A Active JP7763304B2 (ja) | 2020-03-25 | 2024-08-09 | 静電チャック、基板支持器、及びプラズマ処理装置 |
Family Applications Before (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020054019A Active JP7450427B2 (ja) | 2020-03-25 | 2020-03-25 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 |
| JP2023194441A Active JP7538935B2 (ja) | 2020-03-25 | 2023-11-15 | プラズマ処理装置 |
| JP2023194450A Active JP7519525B2 (ja) | 2020-03-25 | 2023-11-15 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US11935729B2 (enExample) |
| JP (4) | JP7450427B2 (enExample) |
| KR (3) | KR102864932B1 (enExample) |
| CN (1) | CN113451095A (enExample) |
| SG (1) | SG10202101800TA (enExample) |
| TW (3) | TW202531486A (enExample) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7344821B2 (ja) * | 2020-03-17 | 2023-09-14 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
| JP7450427B2 (ja) | 2020-03-25 | 2024-03-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 |
| JP7462803B2 (ja) * | 2021-01-29 | 2024-04-05 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びソース高周波電力のソース周波数を制御する方法 |
| US12400845B2 (en) * | 2021-11-29 | 2025-08-26 | Applied Materials, Inc. | Ion energy control on electrodes in a plasma reactor |
| JP7740979B2 (ja) * | 2021-12-13 | 2025-09-17 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及び電位制御方法 |
| JP2023146282A (ja) * | 2022-03-29 | 2023-10-12 | 住友大阪セメント株式会社 | 静電チャック装置 |
| JPWO2023223736A1 (enExample) * | 2022-05-19 | 2023-11-23 | ||
| JP2024022859A (ja) * | 2022-08-08 | 2024-02-21 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及び静電チャック |
| KR20250051704A (ko) | 2022-08-16 | 2025-04-17 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 플라스마 처리 장치 및 정전 척 |
| JP2024105999A (ja) * | 2023-01-26 | 2024-08-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板支持部 |
| JP7768914B2 (ja) * | 2023-01-31 | 2025-11-12 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置、静電チャック及びプラズマ処理方法 |
| KR20250150573A (ko) * | 2023-02-14 | 2025-10-20 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 플라즈마 처리 장치 |
| TW202439372A (zh) * | 2023-03-27 | 2024-10-01 | 日商Ｔｏｔｏ股份有限公司 | 靜電吸盤 |
| JP2025004870A (ja) | 2023-06-27 | 2025-01-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 |
| WO2025004843A1 (ja) * | 2023-06-27 | 2025-01-02 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及び電位制御方法 |
| US20250201538A1 (en) * | 2023-12-18 | 2025-06-19 | Applied Materials, Inc. | Esc design with enhanced tunability for wafer far edge plasma profile control |
| WO2025169740A1 (ja) * | 2024-02-05 | 2025-08-14 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置、電源システム、制御方法、及びプログラム |
| WO2025187456A1 (ja) * | 2024-03-07 | 2025-09-12 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置、バイアス電源システム、及びプラズマ処理方法 |
| JP7749883B1 (ja) * | 2024-03-07 | 2025-10-06 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びバイアス電源システム |
| KR20250168674A (ko) * | 2024-05-13 | 2025-12-02 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 플라스마 처리 장치 및 기판 지지기 |
| WO2025238994A1 (ja) * | 2024-05-13 | 2025-11-20 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及び基板支持器 |
Family Cites Families (41)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6081414A (en) | 1998-05-01 | 2000-06-27 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for improved biasing and retaining of a workpiece in a workpiece processing system |
| KR20000001982A (ko) * | 1998-06-16 | 2000-01-15 | 김영환 | 반도체 웨이퍼 식각장비의 듀얼바이어스정전척 |
| JP2000183038A (ja) * | 1998-12-14 | 2000-06-30 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
| JP4436575B2 (ja) | 2001-01-31 | 2010-03-24 | 京セラ株式会社 | ウエハ支持部材及びその製造方法 |
| JP2003124298A (ja) | 2001-10-17 | 2003-04-25 | Anelva Corp | プラズマ支援ウェハー処理反応容器の二重静電チャックウェハーステージ |
| JP4547182B2 (ja) | 2003-04-24 | 2010-09-22 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
| US20040261946A1 (en) * | 2003-04-24 | 2004-12-30 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus, focus ring, and susceptor |
| JP4566789B2 (ja) | 2005-03-07 | 2010-10-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 |
| JP4833890B2 (ja) | 2007-03-12 | 2011-12-07 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ分布補正方法 |
| JP5160802B2 (ja) | 2007-03-27 | 2013-03-13 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
| US20100018648A1 (en) | 2008-07-23 | 2010-01-28 | Applied Marterials, Inc. | Workpiece support for a plasma reactor with controlled apportionment of rf power to a process kit ring |
| JP5371466B2 (ja) * | 2009-02-12 | 2013-12-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理方法 |
| JP5496568B2 (ja) * | 2009-08-04 | 2014-05-21 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
| JP5960384B2 (ja) * | 2009-10-26 | 2016-08-02 | 新光電気工業株式会社 | 静電チャック用基板及び静電チャック |
| JP2011228436A (ja) | 2010-04-19 | 2011-11-10 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
| JP5896595B2 (ja) * | 2010-10-20 | 2016-03-30 | ラム リサーチ コーポレーションＬａｍ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | ２層ｒｆ構造のウエハ保持体 |
| KR101413898B1 (ko) | 2012-11-06 | 2014-06-30 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 서셉터 |
| JP6552346B2 (ja) * | 2015-09-04 | 2019-07-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
| US10109464B2 (en) * | 2016-01-11 | 2018-10-23 | Applied Materials, Inc. | Minimization of ring erosion during plasma processes |
| US10685862B2 (en) | 2016-01-22 | 2020-06-16 | Applied Materials, Inc. | Controlling the RF amplitude of an edge ring of a capacitively coupled plasma process device |
| US10665433B2 (en) | 2016-09-19 | 2020-05-26 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Extreme edge uniformity control |
| JP6869034B2 (ja) | 2017-01-17 | 2021-05-12 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
| US10763081B2 (en) * | 2017-07-10 | 2020-09-01 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for manipulating radio frequency power at an edge ring in plasma process device |
| JP7045152B2 (ja) | 2017-08-18 | 2022-03-31 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
| US10510575B2 (en) | 2017-09-20 | 2019-12-17 | Applied Materials, Inc. | Substrate support with multiple embedded electrodes |
| WO2019087977A1 (ja) | 2017-10-30 | 2019-05-09 | 日本碍子株式会社 | 静電チャック及びその製法 |
| KR102387008B1 (ko) | 2017-11-06 | 2022-04-18 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 정전 척 어셈블리, 정전 척 및 포커스 링 |
| US11848177B2 (en) | 2018-02-23 | 2023-12-19 | Lam Research Corporation | Multi-plate electrostatic chucks with ceramic baseplates |
| JP7061922B2 (ja) | 2018-04-27 | 2022-05-02 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
| KR102600003B1 (ko) | 2018-10-30 | 2023-11-09 | 삼성전자주식회사 | 반도체 공정 챔버 및 반도체 소자의 제조 방법 |
| US11289310B2 (en) * | 2018-11-21 | 2022-03-29 | Applied Materials, Inc. | Circuits for edge ring control in shaped DC pulsed plasma process device |
| US11562887B2 (en) | 2018-12-10 | 2023-01-24 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus and etching method |
| US11955314B2 (en) | 2019-01-09 | 2024-04-09 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus |
| JP7271330B2 (ja) | 2019-06-18 | 2023-05-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台及びプラズマ処理装置 |
| JP7474651B2 (ja) | 2019-09-09 | 2024-04-25 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
| JP7411463B2 (ja) | 2020-03-17 | 2024-01-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 検査方法及び検査装置 |
| US11551916B2 (en) * | 2020-03-20 | 2023-01-10 | Applied Materials, Inc. | Sheath and temperature control of a process kit in a substrate processing chamber |
| JP7450427B2 (ja) | 2020-03-25 | 2024-03-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 |
| JP7458287B2 (ja) | 2020-10-06 | 2024-03-29 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
| JP7638930B2 (ja) | 2021-05-31 | 2025-03-04 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
| CN115705991A (zh) | 2021-08-10 | 2023-02-17 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理装置和等离子体处理方法 |
-
2020
- 2020-03-25 JP JP2020054019A patent/JP7450427B2/ja active Active
-
2021
- 2021-02-23 SG SG10202101800T patent/SG10202101800TA/en unknown
- 2021-02-26 TW TW114113710A patent/TW202531486A/zh unknown
- 2021-02-26 TW TW110106942A patent/TWI857215B/zh active
- 2021-02-26 TW TW113130245A patent/TWI887081B/zh active
- 2021-03-01 CN CN202110226313.9A patent/CN113451095A/zh active Pending
- 2021-03-02 KR KR1020210027728A patent/KR102864932B1/ko active Active
- 2021-03-02 US US17/190,178 patent/US11935729B2/en active Active
-
2023
- 2023-11-15 JP JP2023194441A patent/JP7538935B2/ja active Active
- 2023-11-15 JP JP2023194450A patent/JP7519525B2/ja active Active
-
2024
- 2024-02-20 US US18/582,329 patent/US12293903B2/en active Active
- 2024-02-20 US US18/582,163 patent/US20240194457A1/en not_active Abandoned
- 2024-07-10 KR KR1020240091189A patent/KR102719832B1/ko active Active
- 2024-08-09 JP JP2024134088A patent/JP7763304B2/ja active Active
- 2024-12-23 US US18/999,446 patent/US20250132136A1/en active Pending
-
2025
- 2025-08-08 KR KR1020250109697A patent/KR20250127005A/ko active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2024160333A5 (enExample) | ||
| KR102877761B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
| CN201465987U (zh) | 等离子体处理装置 | |
| JP2023159093A5 (enExample) | ||
| JP3737786B2 (ja) | エッチングあるいはコーティング装置 | |
| KR930001351A (ko) | 전자기 rf 연결부를 사용하는 플라즈마 처리기 및 방법 | |
| KR20110112804A (ko) | 플라즈마 프로세싱 시스템에서의 이온 에너지 분배 제어 | |
| CN111052873B (zh) | 活性气体生成装置 | |
| JP2007266533A5 (enExample) | ||
| WO2002023588A3 (en) | Capacitively coupled plasma reactor | |
| JPH08236602A (ja) | 静電吸着装置 | |
| US20130255575A1 (en) | Plasma generator | |
| TW202042276A (zh) | 電容耦合電漿蝕刻設備 | |
| TW201508806A (zh) | 等離子體處理裝置 | |
| TWI851092B (zh) | 半導體加工設備 | |
| JPS5633839A (en) | Plasma treatment and device therefor | |
| JP4220316B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
| TWI566644B (zh) | A radio frequency system for controllable harmonics of a plasma generator | |
| CN108281243B (zh) | 放电等离子体处理微堆层结构绝缘材料表面的装置及方法 | |
| JPH08120469A (ja) | ドライエッチング装置 | |
| JPWO2022065422A5 (enExample) | ||
| CN113035677B (zh) | 等离子体处理设备以及等离子体处理方法 | |
| TWI741439B (zh) | 電漿處理裝置 | |
| CN215008137U (zh) | 一种等离子体处理装置 | |
| JPWO2023026908A5 (enExample) |