JP2024063299A - 縦型加熱炉 - Google Patents

Abstract

【課題】処理条件を制御する。【解決手段】縦型加熱炉１０は、炉体１１と、ヒータ２５と、搬送装置２０とを備えている。炉体１１は、高さ方向に沿って被搬送物Ａが搬送される炉内空間１２を内部に有している。ヒータ２５は、炉内空間１２に設けられている。搬送装置２０は、炉内空間１２に設定された、被搬送物Ａが搬送される搬送領域１２ａにおいて、高さ方向に沿って被搬送物Ａを搬送する。炉体１１には、炉内空間１２を高さ方向に沿って加熱ゾーンＺ１～Ｚ５を仕切る、仕切り１９が設けられている。【選択図】図１

Description

本開示は、縦型加熱炉に関する。

特開２０２２－０３７８０６号公報には、被搬送物を炉体内空間において上下方向に搬送可能な縦型加熱炉が開示されている。同公報に開示されている縦型加熱炉は、複数本の送り支持部材と、複数本の送り支持部材それぞれから突き出す複数の支持突起と、複数本の送り支持部材の駆動を制御する駆動制御装置とを備えている。複数本の送り支持部材は、炉体内において被搬送物の周りに設けられており、上下方向に長手状に形成されている。複数の支持突起は、それぞれ被搬送物の外周部を一定の間隔を上下方向に隔てた状態で支持する。駆動制御装置は、複数の送り支持部材に対して、往復運動および回転運動を駆動する。これによって、複数個の被搬送物は、上方向または下方向に送られる。

このような縦型加熱炉では、被搬送物の厚みに沿った方向に被搬送物を並べて処理することができる。これによって、水平方向に沿って被搬送物が並べて処理される連続加熱炉と比較して被搬送物が搬送される距離を短くしやすく、炉内空間を狭くしやすい。炉内空間が狭くなることによって炉内を加熱するエネルギーが少なくて済み、設備が省エネルギー化されやすいとされている。

特開２０２２－０３７８０６号公報

ところで、加熱炉内の雰囲気は、被処理物の処理温度に応じて、予め設定された処理温度に制御される。しかしながら、縦型加熱炉では、相対的に高い温度に加熱された雰囲気ガスは上昇し、相対的に低い温度の雰囲気ガスは下降しうる。このため、縦型加熱炉では、被搬送物が搬送される高さ方向に沿って処理条件を制御しにくい。

ここで開示される縦型加熱炉は、高さ方向に沿って被搬送物が搬送される炉内空間を内部に有する炉体と、炉内空間に設けられたヒータと、炉内空間に設定された、被搬送物が搬送される搬送領域において、高さ方向に沿って被搬送物を搬送する搬送装置とを備えている。炉体には、炉内空間を高さ方向に沿って加熱ゾーンを仕切る、少なくとも一つの仕切りが設けられている。かかる縦型加熱炉では、高さ方向に沿って処理条件が制御されやすい。

図１は、縦型加熱炉１０の模式的な断面図である。 図２は、縦型加熱炉１０の模式的な断面図である。 図３は、炉体１１の模式図である。 図４は、制御装置６０による制御を示すタイムチャートである。

以下、本開示における実施形態の１つについて、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下の図面においては、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付して説明している。また、各図における寸法関係（長さ、幅、厚み等）は実際の寸法関係を反映するものではない。上、下、左、右、前、後の向きは、図中、Ｕ、Ｄ、Ｌ、Ｒ、Ｆ、Ｒｒの矢印でそれぞれ表されている。ここで、上、下、左、右、前、後の向きは、説明の便宜上、定められているにすぎず、特に言及されない限りにおいて本願発明を限定しない。本明細書において、「高さ方向」は、図中の矢印で示される上下方向と一致している。「炉体の幅方向」は、図中の矢印で示される左右方向または前後方向と一致している。また、「炉体の幅方向」は、炉体の側壁の厚み方向と一致している。

〈縦型加熱炉１０〉
図１および図２は、縦型加熱炉１０の模式的な断面図である。図１では、縦型加熱炉１０の高さ方向に沿った断面が示されている。なお、図１では、回転体に支持されている被搬送物Ａの図示が一部省略されている。図２は、図１のＩＩ－ＩＩ線に沿った炉体１１の断面が示されている。図２では、被搬送物Ａを支持しうる時の回転体３１，３２，４１，４２の位置は、実線で示されており、被搬送物Ａを支持ない時の回転体３１，３２，４１，４２の位置は、破線で示されている。図２では、炉体１１によって隠れている仕切り１９の位置は、二点鎖線で示されている。図１および図２では、炉体１１の断面のハッチングは省略されている。図３は、炉体１１の模式図である。図３では、側壁１６および仕切り１９が取り外された状態の炉体１１が模式的に示されている。取り外された仕切り１９は、仮想的に炉体１１と並べて記載されている。図３では、ヒータ２５、温度センサ２８、貫通孔１４ｂ，１４ｃ，１５ｂ，１５ｃ等の図示は省略されている。

図１に示されているように、縦型加熱炉１０は、炉体１１と、搬送装置２０とを備えている。縦型加熱炉１０は、搬送装置２０を制御する制御装置６０をさらに備えている。縦型加熱炉１０では、被搬送物Ａが高さ方向に沿って搬送される。縦型加熱炉１０は、被処理物を加熱処理するためのヒータ２５を備えている。被処理物（図示省略）は、被搬送物Ａに載せられた状態で炉体１１内を搬送されつつ加熱処理される。

この実施形態では、被搬送物Ａは、板状である。かかる板状の被搬送物Ａは、セッターとも称される。被搬送物Ａとしては、特に限定されないが、所要の耐熱性および耐反応性を有する材料から構成されるものが適宜選択されうる。この実施形態では、セラミック製の被搬送物Ａが用いられている。図２に示されているように、被搬送物Ａは、平面視において略正方形状である。被搬送物Ａは、一対の第１側面Ａ１（以下、単に側面Ａ１とも称する）と、一対の第２側面Ａ２（以下、単に側面Ａ２とも称する）と、上面と、下面とを有している。一対の第１側面Ａ１は、互いに略平行に形成されている。一対の第２側面Ａ２は、互いに略平行に形成されている。この実施形態では、被搬送物Ａの上面には、縦型加熱炉１０内で加熱処理される被処理物が載せられる。なお、被搬送物は、かかる形態に限定されない。被搬送物は、例えば、サヤまたは匣鉢とも称される箱状のものであってもよい。被搬送物には、蓋が載せられてもよい。また、被搬送物として、例えば、板状の被処理物が直接搬送されてもよい。

〈炉体１１〉
炉体１１は、図１に示されているように、高さ方向に沿って被搬送物Ａが搬送される炉内空間１２を内部に有している。炉内空間１２において、被搬送物Ａが搬送される搬送領域１２ａが設定されている。搬送領域１２ａは、高さ方向に沿って搬送される被搬送物Ａが搬送される領域である。搬送領域１２ａは、高さ方向において、被搬送物Ａが搬入される高さから搬出される高さに設定されている。搬送領域１２ａは、炉体１１の幅方向（左右方向および前後方向）において炉内空間１２の略中央部に設定されている。搬送領域１２ａは、高さ方向に直交する平面において、被搬送物Ａの平面形状に対応した形状（この実施形態では、略正方形状）でありうる。

この実施形態では、炉体１１は、略直方体状に形成されている。炉体１１は、炉体１１の幅方向と比較して炉体１１の高さ方向（上下方向）に長く形成されている。炉体１１は、板状の側壁１４～１７（図１および図２参照）と、底面部１３と、天井部１８とを有している。炉内空間１２は、側壁１４～１７、底面部１３および天井部１８に囲まれている。

この実施形態では、炉体１１の側壁１４～１７と、底面部１３と、天井部１８は、断熱材によって構成されている。断熱材としては、例えば、所定の形状に成形されたセラミックファイバーボードが用いられうる。セラミックファイバーボードは、いわゆるバルクファイバーに無機フィラーと無機・有機結合材とが添加されて板状に成形された板材である。炉体１１は、例えば、セラミックファイバーボードが炉体１１の厚み方向に重ねられて構成されうる。炉体１１の側壁１４～１７と、底面部１３と、天井部１８の厚みは、炉内空間１２の熱が十分に断熱される程度の所要の厚さに設定されている。

〈底面部１３〉
底面部１３は、板状の断熱部材である。この実施形態では、底面部１３は、略矩形状である。底面部１３は、中央部１３ａと、端部１３ｂとを有している。中央部１３ａは、炉体１１の炉内空間１２に露出する部位である。端部１３ｂは、略正方形状の底面部１３の縁に沿って形成されている。端部１３ｂは、中央部１３ａと比較して厚みが薄く形成されている。底面部１３の端部１３ｂには、側壁１４～１７の下端が載せられる。中央部１３ａには、貫通孔１３ｃが形成されている。貫通孔１３ｃには、搬送装置２０の軸３４，４４が挿通される。

〈側壁１４，１５〉
側壁１４，１５は、板状の断熱部材である。側壁１４，１５は、底面部１３から上方に延びている。図２に示されているように、側壁１４および側壁１５は、左右方向において互いに対向している。側壁１４，１５の幅方向において、側壁１４，１５と底面部１３の幅は、略同一である。

図１に示されているように、側壁１４は、凸部１４ａを有している。凸部１４ａは、板状の側壁１４の一方の面から炉体１１の内側に向かって突出した部位である。凸部１４ａは、側壁１４の幅方向に沿って延びている。凸部１４ａが突出する方向の断面は、略矩形状である。凸部１４ａは、上面１４ｕおよび下面１４ｄを有している。上面１４ｕおよび下面１４ｄは、側壁１４の幅方向および凸部１４ａが突出する方向において略平坦な面である。隣り合う凸部１４ａにおいて、それぞれの上面１４ｕと下面１４ｄは互いに対向している。

側壁１４の幅方向に沿った凸部１４ａの長さは、底面部１３の中央部１３ａと略同一に設定されている。この実施形態では、側壁１４は、複数の凸部１４ａを有している。複数の凸部１４ａは、側壁１４の下方から上方に向かって予め定められた間隔で設けられている。この実施形態では、複数の凸部１４ａの間の間隔は、後述する仕切り１９に合わせて設定されている。複数の凸部１４ａの間の間隔は、仕切り１９の厚みよりも広く設定されている。

凸部１４ａのうち、最も下方の凸部１４ａ１および最も上方の凸部１４ａ２には、炉体１１の内側に向かってさらに突出した部位がそれぞれ形成されている。当該突出した部位は、側壁１４の幅方向における凸部１４ａ１，１４ａ２の端部を除いて形成されている。凸部１４ａのうち、最も下方の凸部１４ａ１は、底面部１３の中央部１３ａに載せられている。このため、側壁１４では、下端が底面部１３の端部１３ｂに支持され、凸部１４ａ１が中央部１３ａに支持されている。

側壁１５は、側壁１４と対向する位置に設けられている。側壁１５の形状および底面部１３に対する位置は、側壁１４と対向する方向において対称である。側壁１５は、凸部１４ａと同数の凸部１５ａを有している。凸部１５ａは、側壁１４の凸部１４ａと同様、側壁１５の一方の面から炉体１１の内側に向かって突出した部位である。側壁１５の凸部１５ａの形状および寸法は、側壁１４の凸部１４ａと同様であるので、詳細な説明は省略する。複数の側壁１５の凸部１５ａは、それぞれ側壁１４の凸部１４ａと対向する位置に設けられている。側壁１５は、側壁１４と同様、下端が底面部１３の端部１３ｂに支持され、最も下方の凸部１５ａ１が中央部１３ａに支持されている。

側壁１４の凸部１４ａと側壁１５の凸部１５ａには、仕切り１９が載せられ支持されうる。換言すると、一対の側壁１４，１５は、仕切り１９を支持する支持部としての凸部１４ａ，１５ａを有している。ここでは、仕切り１９は、凸部１４ａ，１５ａの上面１４ｕ，１５ｕに載せられることで、一対の側壁１４，１５に支持される。また、仕切り１９が載せられている凸部１４ａ，１５ａの上面１４ｕ，１５ｕと対向する凸部１４ａ，１５ａの下面１４ｄ，１５ｄは、仕切り１９を押さえる押さえ部として作用しうる。

側壁１４，１５には、貫通孔１４ｂ，１４ｃ，１５ｂ，１５ｃが形成されている。貫通孔１４ｂ，１４ｃ，１５ｂ，１５ｃは、側壁１４，１５のうち、凸部１４ａ，１５ａを貫通している。貫通孔１４ｂ，１５ｂには、ヒータ２５が挿通されている。貫通孔１４ｃ，１５ｃには、後述する温度センサ２８が挿通されている。

〈側壁１６，１７〉
側壁１６，１７（図２参照）は、板状の断熱部材である。図２に示されているように、側壁１６および側壁１７は、前後方向において互いに対向している。側壁１６，１７の幅は、底面部１３の中央部１３ａ（図１参照）の幅と略同一である。側壁１６，１７の高さは、側壁１４，１５と略同一である。側壁１６，１７は、底面部１３の端部１３ｂ（図１参照）に載せられている。詳細な図示は省略するが、側壁１６，１７の周囲は、底面部１３、側壁１４，１５および天井部１８によって囲まれている。

側壁１６，１７は、炉体１１の内側に向かって突出した複数の凸部１６ａ，１７ａを有している。側壁１６，１７の凸部１６ａ，１７ａは、側壁１４，１５の凸部１４ａ，１５ａと同一の高さにおいて同数設けられている。凸部１６ａ，１７ａの高さ方向における寸法は、側壁１４，１５の凸部１４ａ，１５ａと略同一である。凸部１６ａ，１７ａの、側壁１６，１７の幅方向における長さは、側壁１４の凸部１４ａと側壁１５の凸部１５ａの間の間隔と略同一である。このため、炉体１１の内部において、凸部１４ａ～１７ａは、略同一の高さにおいて連続している。

側壁１６，１７には、貫通孔１６ｂ，１７ｂが形成されている。貫通孔１６ｂ，１７ｂには、ヒータ２５が挿通されている。

〈天井部１８〉
天井部１８（図１参照）は、板状の断熱部材である。図１に示されているように、天井部１８は、高さ方向において底面部１３と対称の形状である。天井部１８は、中央部１８ａと、端部１８ｂとを有している。天井部１８の中央部１８ａと端部１８ｂは、底面部１３の中央部１３ａおよび端部１３ｂと同様の形状であるので、詳細な説明は省略する。天井部１８は、底面部１３に支持された側壁１４，１５に支持されている。天井部１８の端部１３ｂは、側壁１４，１５の上端に支持され、天井部１８の中央部１８ａの一部は、側壁１４，１５の最も上方の凸部１４ａ２，１５ａ２に支持されている。中央部１８ａには、貫通孔１８ｃが形成されている。貫通孔１８ｃには、搬送装置２０の軸３３，４３が挿通される。

炉体１１には、被搬送物Ａを搬入するための搬入口１１ａおよび被搬送物Ａを搬出するための搬出口１１ｂが設けられている。この実施形態では、搬入口１１ａは、炉体１１の下部に設けられている。搬出口１１ｂは、炉体１１の上部に設けられている。被搬送物Ａは、炉内空間１２内を下方から上方に向かって搬送される。

搬入口１１ａは、側壁１４に設けられている。搬入口１１ａは、側壁１４の凸部１４ａ１を側壁１４の厚み方向に沿って貫通して形成されている。搬入口１１ａからは、搬入装置２１によって被搬送物Ａが順次搬入される。詳細な説明は省略するが、搬入装置２１は、搬入口１１ａを介して接続されている搬入室２１ａから炉体１１内に被搬送物Ａを搬入するための装置でありうる。

搬出口１１ｂは、側壁１５に設けられている。搬出口１１ｂは、側壁１５の凸部１５ａ２を側壁１５の厚み方向に沿って貫通して形成されている。搬出口１１ｂからは、搬出装置２２によって被搬送物Ａが順次搬出される。詳細な説明は省略するが、搬出装置２２は、搬出口１１ｂを介して接続されている搬出室２２ａに炉体１１内から被搬送物Ａを搬出するための装置でありうる。

炉体１１は、基台２６に載せられている。基台２６は、炉体１１が載せられている面とは反対側に、空間を有していてもよい。当該空間には、例えば、炉内空間１２内に雰囲気ガスを給排気するための配管、回転体を駆動する駆動装置等が配置されていてもよい。

炉体１１の側面および上面は、外壁２７によって囲まれている。外壁２７は、所要の耐熱性および強度を有する金属製の板によって構成されうる。外壁２７は、例えば、ステンレス製の板でありうる。この実施形態では、外壁２７は、略矩形の板である。炉体１１の天井部１８には、外壁２７ａが取り付けられている。外壁２７ａは、天井部１８よりも幅広に形成されている。外壁２７ａの縁部は、炉体１１よりも外側に突出している。炉体１１の側面（側壁１４～１７）は、周囲を外壁２７ｂに囲まれている。外壁２７ｂの上方および下方の端部は、屈曲されている。外壁２７ｂの当該屈曲された部分は、外壁２７ａの突出した部分および基台２６に接続されている。外壁２７ｂと側壁１４～１７との間には、空間が形成されている。当該空間には、例えば、炉内空間１２内に雰囲気ガスを給排気するための配管、ヒータ２５の電極等が配置されうる。

図示は省略するが、炉体１１には、ガス供給管およびガス排気管が設けられていてもよい。ガス供給管は、炉体１１内に雰囲気ガスを供給するための配管である。ガス供給管には、雰囲気ガスを供給するためのガスボンベが接続されうる。特に限定されないが、雰囲気ガスとしては、例えば、窒素、アルゴン、空気、酸素、二酸化炭素、水素等が用いられうる。雰囲気ガスは、被処理物の加熱条件等に応じて適宜選択される。ガス排気管は、炉体１１内から雰囲気ガスを排気するための配管である。ガス排気管には、排気ポンプ等の排気装置が接続されうる。被処理物から反応ガスが発生した場合に、ガス排気管からは、当該反応ガスが排気される。炉体１１にガス供給管およびガス排気管が設けられていることによって、炉体１１内の雰囲気が調整されうる。

〈搬送装置２０〉
搬送装置２０は、被搬送物Ａを高さ方向に沿って搬送する装置である。搬送装置２０は、被搬送物Ａを炉内空間１２に設定された、搬送領域１２ａに沿って搬送する。この実施形態では、搬送装置２０は、被搬送物Ａを下方から上方に向かって順次搬送することができるように構成されている。被搬送物Ａを高さ方向に沿って搬送可能である限りにおいて、搬送装置２０の構成は、特に限定されない。

この実施形態では、搬送装置２０は、複数の回転体３１，３２，４１，４２（図２参照）と、回転装置５０と、昇降装置５５とを備えている。図２に示されているように、回転体３１，３２，４１，４２は、炉内空間１２に設けられており、高さ方向に延びる略矩形の板状に形成されている。回転体３１，３２は、被搬送物Ａを支持する複数の支持部３０ａを有している。回転体４１，４２は、被搬送物Ａを支持する複数の支持部４０ａを有している。複数の支持部３０ａ，４０ａは、高さ方向に沿って略一定の間隔で設けられている。

図１に示されているように、回転体３１，３２の上端には、軸３３が取り付けられている。回転体４１，４２の上端には、４３が取り付けられている。軸３３，４３は、天井部１８に形成された貫通孔１８ｃに挿通されている。回転体３１，３２は、軸３３を介して回転装置５０と接続されている。回転体４１，４２は、軸４３を介して回転装置５０および昇降装置５５と接続されている。回転体３１，３２の下端には、軸３４が取り付けられている。回転体４１，４２の下端には、軸４４が取り付けられている。軸３４，４４は、底面部１３に形成された貫通孔１３ｃに挿通されている。回転体３１，３２は、軸３４を介してガイド２９に挿通されている。回転体４１，４２は、軸４４を介してガイド２９に挿通されている。軸３３，３４は、高さ方向において重なる位置に設けられている。軸４３，４４は、高さ方向において重なる位置に設けられている。回転体３１，３２の回転軸は、軸３３，３４によって設定されている。回転体４１，４２の回転軸は、４３，４４によって設定されている。軸３３，３４，４３，４４は、搬送領域１２ａの周囲に配置されている。この実施形態では、高さ方向に直交する平面において略正方形状に設定された搬送領域１２ａの角部の外側に配置されている。

回転体３１，３２，４１，４２は、回転装置５０（図１参照）によって回転駆動されることによって、被搬送物Ａを支持する支持姿勢と、被搬送物Ａを支持しない非支持姿勢が切り替えられる。図２に示されているように、回転体３１，３２，４１，４２は、支持姿勢から時計回りに９０度回転することによって、非支持姿勢に切り替えられる。また、回転体３１，３２，４１，４２は、非支持姿勢から反時計回りに９０度回転することによって、支持姿勢に切り替えられる。回転体３１，３２，４１，４２の支持姿勢および非支持姿勢の切り替えは、それぞれの回転体において独立に制御されていてもよい。

被搬送物Ａは、回転体３１，３２，４１，４２のうち回転体４１，４２に支持された状態で上方に搬送される。このとき、回転体３１，３２は、非支持姿勢にされている。回転体４１，４２によって上方に搬送された被搬送物Ａは、非支持姿勢であった回転体３１，３２が支持姿勢にされ、回転体３１，３２に支持される。この状態で、回転体４１，４２が非支持姿勢にされ、下方に搬送される。次いで、回転体４１，４２が支持姿勢にされ、回転体３１，３２が非支持姿勢にされる。このように、回転体３１，３２，４１，４２の回転と、回転体４１，４２の昇降が組み合わせられることによって、被搬送物Ａは、上方に向かって順次搬送される。搬送装置２０の具体的な構成及び動作については、後述する。

被搬送物Ａに載せられた被処理物は、搬送装置２０によって搬入口１１ａから搬出口１１ｂに向かって搬送される間に、ヒータ２５によって加熱処理される。

〈ヒータ２５〉
ヒータ２５は、炉体１１の炉内空間１２に設けられている。ヒータ２５は、被搬送物Ａに載せられた被処理物を加熱処理するための装置である。この実施形態では、ヒータ２５は、円筒形状である。ヒータ２５は、側壁１４～１７に形成された貫通孔１４ｂ～１７ｂから炉体１１の内部に挿通されている。ヒータ２５は、炉体１１内において搬送領域１２ａと搬送装置２０を囲う位置に設けられている。ヒータ２５は、炉体１１の幅方向において搬送領域１２ａの周囲に設けられている。ヒータ２５は、搬送装置２０と干渉しないように、搬送装置２０の可動域よりも外側に設けられている。

図１および図２に示されているように、炉体１１には、搬送領域１２ａを挟んで同じ高さに並べられた一対のヒータ２５が設けられている。当該同じ高さに並べられた一対のヒータ２５は、炉体１１の高さ方向に沿って予め定められた間隔で配置されている。この実施形態では、側壁１４，１５に挿通された一対のヒータ２５と、側壁１６，１７に挿通された一対のヒータ２５は、炉体１１の高さ方向に沿って交互に配置されている（図１参照）。互いに異なる方向に沿って延びるヒータ２５が高さ方向に沿って交互に並べられていることによって、炉内空間１２において温度ムラが発生しにくい。このため、被搬送物Ａの加熱条件を合わせやすい。

なお、ヒータ２５の種類は、特に限定されない。例えば、ヒータは、セラミック製のヒータであってもよく、金属製のヒータであってもよい。ヒータは、円筒形状のものに限られず、例えば、板状のパネルヒータが用いられていてもよい。ヒータの種類および形状は、目的とする加熱温度等の加熱条件に応じて適宜選択されうる。

図１に示されているように、炉体１１の炉内空間１２には、高さ方向に沿って複数のゾーン（領域）が設定されている。この実施形態では、炉内空間１２は、下方から上方に向かって、搬入ゾーンＺ０、第１加熱ゾーンＺ１、第２加熱ゾーンＺ２、第３加熱ゾーンＺ３、第４加熱ゾーンＺ４、第５加熱ゾーンＺ５、搬出ゾーンＺ６に仕切られている。搬入ゾーンＺ０には、搬入口１１ａが設けられている。搬出ゾーンＺ６には、搬出口１１ｂが設けられている。第１加熱ゾーンＺ１～第５加熱ゾーンＺ５には、それぞれヒータ２５が設けられている。

第１加熱ゾーンＺ１～第５加熱ゾーンＺ５は、異なる雰囲気温度に設定されている。各ゾーンＺ０～Ｚ６は、仕切り１９によって仕切られている。

〈仕切り１９〉
仕切り１９は、所要の耐熱性を有する板状の断熱部材である。仕切り１９は、例えば、セラミックファイバーボードから構成されうる。仕切り１９は、炉体１１に設けられている。仕切り１９は、炉体１１の側壁１４～１７に支持されている。この実施形態では、仕切り１９は、互いに対向する一対の側壁１４，１５に架け渡されている。仕切り１９は、側壁１４，１５の支持部としての凸部１４ａ，１５ａの上面１４ｕ，１５ｕに支持されている。仕切り１９は、載せられている支持部１４ａ，１５ａのひとつ上方の支持部１４ａ，１５ａの下面１４ｄ，１５ｄの間隙によって形成された溝に配置されている。換言すると、仕切り１９は、一対の側壁１４，１５において、幅方向に沿って形成された溝によって支持されている。側壁１４，１５が対向する方向において、仕切り１９の端部は、溝に挿通され、支持されている。

この実施形態では、炉体１１には、複数の仕切り１９ａ～１９ｆが設けられている。それぞれの仕切り１９ａ～１９ｆは、炉体１１の高さ方向に沿って加熱ゾーンＺ１～Ｚ５を仕切っている。仕切り１９は、また、搬入ゾーンＺ０および搬出ゾーンＺ６を、加熱ゾーンＺ１～Ｚ５から仕切っている。

この実施形態では、仕切り１９の外形形状は、炉体１１の形状に合わせて略矩形状に形成されている。板状の仕切り１９の一方の面は底面部１３に向けられており、他方の面は天井部１８に向けられている。

この実施形態では、仕切り１９は、複数の部材から構成されており、分割可能に構成されている。図２に示されているように、仕切り１９は、第１部１９ｇ１と、第２部１９ｇ２とから構成されている。仕切り１９を構成する第１部１９ｇ１と第２部１９ｇ２の境界は、側壁１４，１５が対向する方向に沿って形成されている。第１部１９ｇ１と第２部１９ｇ２の境界は、側壁１４，１５の幅方向において仕切り１９の略中央部を通る直線状に形成されている。

仕切り１９において、第１部１９ｇ１は、側壁１６（図２参照）側に配置されており、第２部１９ｇ２は、側壁１７（図２参照）側に配置されている。なお、仕切り１９を構成する第１部１９ｇ１と第２部１９ｇ２の形態は、特に限定されない。第１部１９ｇ１と第２部１９ｇ２は、それぞれ対向する面が合わせられた状態で単に並べられて仕切り１９を構成していてもよい。第１部１９ｇ１と第２部１９ｇ２は、一方が他方に対して嵌まり合う構造を有しており、第１部１９ｇ１と第２部１９ｇ２が接続された状態で仕切り１９を構成してもよい。また、仕切り１９は、３つ以上の部材に分割可能に構成されていてもよい。

仕切り１９には、炉体１１の高さ方向（仕切り１９の厚み方向）に沿って貫通する貫通孔１９ｈが形成されている。貫通孔１９ｈは、仕切り１９を、被搬送物Ａが搬送される方向に沿って貫通している。貫通孔１９ｈは、搬送装置２０が挿通され、かつ、被搬送物Ａが通過できる形状に形成されている。

この実施形態では、貫通孔１９ｈは、被搬送物Ａが通過する第１孔部１９ｈ１と、搬送装置２０が挿通されている第２孔部１９ｈ２によって構成されている。第１孔部１９ｈ１は、仕切り１９の略中央部に形成されている。第１孔部１９ｈ１は、被搬送物Ａが通過可能な寸法および形状である。この実施形態では、第１孔部１９ｈ１は、被搬送物Ａの形状に合わせて、略矩形状に形成されている。第１孔部１９ｈ１は、炉体１１の幅方向に沿った平面が略矩形状の搬送領域１２ａよりもわずかに大きく形成されている。

第１孔部１９ｈ１では、第１孔部１９ｈ１を形成する仕切り１９の内周面は、搬送領域１２ａを囲っている。仕切り１９の内周面は、被搬送物Ａが通過する際に、被搬送物Ａの側面と対向する。このため、被搬送物Ａが通過する際に、第１孔部１９ｈ１が形成されている部位において、仕切り１９の内周面と被搬送物Ａの間には、不可避的に隙間が形成される。各ゾーンＺ０～Ｚ６の雰囲気が高さ方向に沿って隣り合うゾーンに及ばないように、仕切り１９の内周面と搬送領域１２ａの間の隙間は小さいことが好ましい。仕切り１９の内周面と、搬送領域１２ａとの間の隙間は、仕切り１９を構成する断熱材の膨張特性を考慮して定められうる。仕切り１９の内周面と、搬送領域１２ａとの間の隙間は、例えば、炉内空間１２が予め定められた最高温度になった際に、仕切り１９が搬送領域１２ａに達しない最小限に設定されることが好ましい。

第２孔部１９ｈ２では、第２孔部１９ｈ２を形成する仕切り１９の内周面は、搬送装置２０のうち回転体３１，３２，４１，４２の可動域を囲っている。この実施形態では、第２孔部１９ｈ２は、回転体３１，３２，４１，４２それぞれの可動域を囲っている。このため、仕切り１９には、回転体３１，３２，４１，４２それぞれに対応した複数（この実施形態では、４つ）の第２孔部１９ｈ２が形成されている。第２孔部１９ｈ２は、それぞれ搬送領域１２ａの角部に形成されている。

第２孔部１９ｈ２は、搬送装置２０の可動域を囲う寸法および形状である。この実施形態では、回転体３１，３２，４１，４２は、それぞれ回転軸に沿って９０度回転駆動されることによって、支持姿勢と非支持姿勢とが切り替えられる。第２孔部１９ｈ２は、回転体３１，３２，４１，４２が支持姿勢と非支持姿勢とが切り替えられる時に移動する領域よりも大きい略矩形状に形成されている。このため、第２孔部１９ｈ２が形成されている部位において、仕切り１９の内周面と、回転体３１，３２，４１，４２との間には、不可避的に隙間が形成される。第１孔部１９ｈ１と同様に、第２孔部１９ｈ２が形成されている部位においても、各ゾーンＺ０～Ｚ６の雰囲気が高さ方向に沿って隣り合うゾーンに及ばないように、仕切り１９の内周面と搬送領域１２ａの間の隙間は小さいことが好ましい。仕切り１９の内周面と、回転体３１，３２，４１，４２の間の隙間は、第１孔部１９ｈ１と同様に、仕切り１９を構成する断熱材の膨張特性を考慮して定められうる。

第１孔部１９ｈ１と第２孔部１９ｈ２は、搬送領域１２ａの角部において繋がっている。仕切り１９の貫通孔１９ｈは、１つの第１孔部１９ｈ１と４つの第２孔部１９ｈ２から構成されている。なお、貫通孔１９ｈの形態は、かかる形態に限定されない。貫通孔１９ｈは、例えば、搬送領域１２ａと搬送装置２０の両方が通るように十分な寸法を有する略矩形の孔であってもよい。貫通孔１９ｈの形状は、略矩形状に限られず、円を含んだ楕円形状であってもよく、四角形を含んだ多角形形状であってもよい。貫通孔１９ｈの形状は、被搬送物Ａおよび搬送装置２０の形状に応じて適宜変更されてもよい。また、仕切り１９は、必ずしも貫通孔１９ｈを有する必要はない。仕切り１９は、例えば、側壁１４～１７のうち、一対の対向する側壁に架け渡された板状の断熱材によって構成されていてもよい。

この実施形態では、図１に示されているように、炉体１１には、炉体１１の高さ方向に沿って６箇所に仕切り１９ａ～１９ｆが設けられている。仕切り１９ａ～１９ｆは、同一の形状である。仕切り１９ａは、搬入ゾーンＺ０と第１加熱ゾーンＺ１を仕切っている。仕切り１９ｂは、第１加熱ゾーンＺ１と第２加熱ゾーンＺ２を仕切っている。仕切り１９ｃは、第２加熱ゾーンＺ２と第３加熱ゾーンＺ３を仕切っている。仕切り１９ｄは、第３加熱ゾーンＺ３と第４加熱ゾーンＺ４を仕切っている。仕切り１９ｅは、第４加熱ゾーンＺ４と第５加熱ゾーンＺ５を仕切っている。仕切り１９ｆは、第５加熱ゾーンＺ５と搬出ゾーンＺ６を仕切っている。なお、炉内空間１２に設定されているゾーンの数および仕切り１９の数は特に限定されない。

仕切り１９によって仕切られている第１加熱ゾーンＺ１～第５加熱ゾーンＺ５は、温度センサ２８によって雰囲気温度が検出されている。

〈温度センサ２８〉
温度センサ２８は、側壁１４，１５に形成された貫通孔１４ｃ，１５ｃに挿通されている。温度センサ２８は、それぞれ各加熱ゾーンＺ１～Ｚ５内の温度を検出している。特に限定されないが、各加熱ゾーンＺ１～Ｚ５には、対向する側壁１４，１５に挿通された２つずつの温度センサが設けられている。換言すると、各加熱ゾーンＺ１～Ｚ５では、異なる位置に温度センサ２８が設けられている。各加熱ゾーンＺ１～Ｚ５において、異なる位置に設けられた複数の温度センサ２８によって雰囲気温度が検出されている。これによって、各加熱ゾーンＺ１～Ｚ５の雰囲気温度の検出精度が向上しうる。

この実施形態では、温度センサ２８として、熱電対が用いられている。なお、温度センサ２８は、熱電対に限られず、例えば、赤外線温度計等が用いられていてもよい。温度センサ２８は、設定される温度に応じて適宜選択されうる。

温度センサ２８およびヒータ２５は、図示しない温度制御装置に接続されている。温度制御装置は、仕切り１９によって仕切られた各加熱ゾーンＺ１～Ｚ５内の温度を制御する。温度制御装置は、例えば、温度センサ２８によって検出された加熱ゾーンＺ１～Ｚ５内の温度に応じて加熱ゾーンＺ１～Ｚ５に設けられているヒータ２５の出力を制御しうる。

温度制御装置によって、各加熱ゾーンＺ１～Ｚ５内の温度は、任意に設定されうる。この実施形態では、第１加熱ゾーンＺ１の温度は、６００度に設定されている。第２加熱ゾーンＺ２の温度は、８００度に設定されている。第３加熱ゾーンＺ３の温度は、１０００度に設定されている。第４加熱ゾーンＺ４の温度は、８００度に設定されている。第５加熱ゾーンＺ５の温度は、６５０度に設定されている。なお、加熱ゾーンＺ１～Ｚ５の設定温度は、特に限定されず、被処理物の加熱処理温度等によって適宜設定されうる。

上述した実施形態では、縦型加熱炉１０は、炉体１１と、ヒータ２５と、搬送装置２０とを備えている。炉体１１は、高さ方向に沿って被搬送物Ａが搬送される炉内空間１２を内部に有している。ヒータ２５は、炉内空間１２に設けられている。搬送装置２０は、炉内空間１２に設定された、被搬送物Ａが搬送される搬送領域１２ａにおいて、高さ方向に沿って被搬送物Ａを搬送する。炉体１１には、炉内空間１２を高さ方向に沿って加熱ゾーンＺ１～Ｚ５を仕切る、仕切り１９が設けられている。加熱ゾーンＺ１～Ｚ５がそれぞれ仕切り１９によって仕切られていることによって、高さ方向に沿って隣り合うゾーン間において雰囲気が干渉しにくい。このため、各加熱ゾーンＺ１～Ｚ５における雰囲気が制御されやすくなり、隣り合うゾーン間において設定された温度差が実現されやすくなる。さらに、炉体１１内に仕切り１９が設けられていることによって、隣り合うゾーン間において大きな温度差を実現させやすくなる。この実施形態では、隣り合う加熱ゾーンＺ１～Ｚ５間で約２００度の温度差が実現されている。このように、縦型加熱炉１０では、仕切り１９が設けられていることによって処理条件が制御されやすくなる。

また、上述した縦型加熱炉１０では、搬入ゾーンＺ０と第１加熱ゾーンＺ１は、仕切り１９ａによって仕切られている。搬出ゾーンＺ６と第５加熱ゾーンＺ５は、仕切り１９ｆによって仕切られている。このため、搬入ゾーンＺ０および搬出ゾーンＺ６には、加熱ゾーンＺ１～Ｚ５の熱が及びにくくなっている。これによって、搬入ゾーンＺ０に被搬送物Ａを搬入する搬入装置２１および搬出ゾーンＺ６から被搬送物Ａを搬出する搬出装置２２の劣化が抑制されうる。

なお、仕切り１９ａ～１９ｆを構成する材料および寸法は、必ずしも同じでなくてもよい。高い温度に設定されているゾーン間を仕切る仕切り１９は、低い温度に設定されているゾーン間を仕切る仕切り１９と比較して、耐熱性の高い材料が選択されうる。温度差が大きいゾーン間を仕切る仕切り１９は、温度差の小さいゾーン間を仕切る仕切り１９と比較して、厚い断熱材が選択されうる。このように、仕切り１９ａ～１９ｆの構成は、間を仕切る各ゾーンＺ０～Ｚ６の雰囲気温度および雰囲気ガスの種類等に応じて適宜選択されうる。

上述した実施形態では、仕切り１９には、高さ方向に沿って被搬送物Ａおよび搬送装置２０が通る貫通孔が形成されている。被搬送物Ａが仕切り１９を通過する領域が貫通孔１９ｈによって設定されていることによって、被搬送物Ａの周囲の全周に亘って隣り合うゾーン間の雰囲気が仕切られている。このため、例えば、隣り合うゾーン間が、例えば、一対の側壁に架け渡される板状の断熱材等で仕切られている場合と比較して、雰囲気の干渉がより抑えられやすい。その結果、加熱ゾーンＺ１～Ｚ５における雰囲気が制御されやすくなる。

縦型加熱炉１０では、各ゾーンＺ０～Ｚ６は、仕切り１９に加えて、被搬送物Ａによっても仕切られうる。上述したように、被搬送物Ａは、貫通孔１９ｈの第１孔部１９ｈ１を通過できる寸法に設定されている（図２参照）。このため、高さ方向において被搬送物Ａが仕切り１９と重なる高さを搬送されている際には、被搬送物Ａによって貫通孔１９ｈの中央部が塞がれる。被搬送物Ａが貫通孔１９ｈの中央部を塞ぐことによって、隣り合うゾーン間において雰囲気が干渉しにくくなる。特に限定されないが、被処理物の加熱処理中は、少なくとも１つの被搬送物Ａが仕切り１９ａ～１９ｆそれぞれの高さに配置されていてもよい。これによって、各ゾーンＺ０～Ｚ６の雰囲気の干渉がより抑えられうる。

特に限定されないが、被処理物が載せられた被搬送物Ａが搬送される前、および、被処理物が載せられた被搬送物Ａが搬送された後に、被処理物が載せられていない被搬送物Ａが搬送されてもよい。被処理物が載せられていない被搬送物Ａが搬送されることによって、各ゾーン間の温度が制御されやすくなる。これによって、被処理物が搬送され加熱処理されるタイミングによらず、略同一の条件で被処理物が加熱処理されうる。また、被処理物が載せられた被搬送物Ａを、間欠的に回転体３１，３２，４１，４２の支持部３０ａ，４０ａに配置して搬送する場合にも、間の支持部３０ａ，４０ａに被処理物が載せられていない被搬送物Ａが搬送されてもよい。このように、被処理物が載せられていない被搬送物Ａが搬送されることによって、各ゾーンＺ０～Ｚ６の雰囲気の干渉がより抑えられてもよい。

上述した縦型加熱炉１０は、炉体１１を分解できるように構成されている。この実施形態では、側壁１４～１７のうち、側壁１６を炉体１１から着脱可能に構成されている。換言すると、炉体１１は、着脱可能な側壁１６を有している。

図２に示されているように、炉体１１の側面を囲う外壁２７ｂのうち、側壁１６側の外壁２７ｂ１には、押さえ板２７ｂ２と、蓋２７ｂ３とが取り付けられている。押さえ板２７ｂ２は、外壁２７ｂ１よりも炉体１１側に設けられている。押さえ板２７ｂ２は、外壁２７ｂ１の内側に取り付けられた状態で炉体１１の側壁１６に接している。これによって、側壁１６が炉体１１の外側に向かって傾くことを防がれている。外壁２７ｂ１と押さえ板２７ｂ２の間には、空間が形成されている。当該空間には、ヒータ２５の電極等が収められうる。蓋２７ｂ３は、外壁２７ｂ１のうち、側壁１６に挿通されているヒータ２５と対応する位置に設けられている。蓋２７ｂ３を開けることによって、ヒータ２５を側壁１６，１７から取り外すことができる。

側壁１６が取り外される際には、はじめに、蓋２７ｂ３が開けられ、側壁１６，１７に挿通されているヒータ２５が取り外される。次いで、外壁２７ｂ１が取り外される。外壁２７ｂ１が取り外されると、次いで、側壁１６を押さえる押さえ板２７ｂ２が側壁１６から外される。これによって、側壁１６は、外部に露出した状態になる。この状態で、側壁１６は、炉体１１から取り外される。側壁１６には、炉体１１からの着脱を容易にするための取っ手、窪み等が設けられていてもよい。なお、側壁１６と押さえ板２７ｂ２が互いに接続されており、同時に取り外すことができるように構成されていてもよい。

側壁１６が取り外されることによって、炉体１１の内部が露出される。炉体１１の内部を露出させることによって、炉内設備（例えば、搬送装置２０のうち、炉体１１の内部に設けられた部分）の交換、清掃等のメンテナンスが可能になる。また、底面部１３、側壁１４，１５，１７、天井部１８、仕切り１９のうち、炉内空間１２に露出している部分の清掃等のメンテナンスが可能になる。このように、側壁１６が着脱可能に構成されていることによって、メンテナンス性が向上しうる。

なお、炉体１１には、側壁１６以外にも着脱可能な部位が含まれていてもよい。例えば、炉体１１は、側壁１６と対向する側壁１７も着脱可能に構成されていてもよい。側壁１７を着脱可能とした場合の側壁１７の構成は、側壁１６と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。炉体１１が互いに対向する一対の着脱可能な側壁１６，１７を有していることによって、炉体１１内の一方からは届きにくい部分がメンテナンスされやすくなる。これによって、メンテナンス性がより向上しうる。

上述した実施形態では、着脱可能な側壁１６と隣り合う一対の側壁１４，１５は、仕切り１９を支持する支持部（この実施形態では、凸部１４ａ，１５ａの上面１４ｕ，１５ｕ）を有している。仕切り１９は、一対の側壁１４，１５の支持部に架け渡されている。このため、側壁１６を取り外した場合にも、仕切り１９がずれたり落下したりする事象が起こりにくい。これによって、仕切り１９のメンテナンス性が向上しうる。

上述した実施形態では、着脱可能な側壁１６と隣り合う一対の側壁１４，１５は、支持部（この実施形態では、凸部１４ａ，１５ａの上面１４ｕ，１５ｕ）の上方に、仕切り１９を押さえる押さえ部（この実施形態では、凸部１４ａ，１５ａの上面１４ｕ，１５ｕと対向する凸部１４ａ，１５ａの下面１４ｄ，１５ｄ）を有している。仕切り１９が下方から支持されているだけではなく、上方からも押さえられていることによって、仕切り１９の脱落が抑制されうる。また、仕切り１９が炉体１１内に支持された状態でのメンテナンスしたい場合にも、仕切り１９が脱落しにくくなっており、仕切り１９、炉体１１内部等のメンテナンス性が向上しうる。

上述した実施形態では、仕切り１９は、第１部１９ｇ１と、第２部１９ｇ２とから構成されており、分割可能に構成されている。仕切り１９を構成する第１部１９ｇ１と第２部１９ｇ２は、着脱可能な側壁１６が取り外される方向（側壁１６，１７が対向する方向）に沿って分割可能に構成されている。このため、側壁１６を取り外した状態で第１部１９ｇ１を取り外すことができる。また、互いに対向する側壁１６，１７が炉体１１に対して着脱可能に構成されている場合には、第１部１９ｇ１および第２部１９ｇ２を、それぞれ反対方向から取り外すことができる。これによって、仕切り１９が交換されやすくなり、仕切り１９のメンテナンス性が向上しうる。また、被処理物の加熱条件に応じて適切な材質および寸法の仕切り１９を設置することができる。

上述した実施形態では、仕切り１９には、高さ方向に沿って被搬送物Ａおよび搬送装置２０が通る貫通孔１９ｈが形成されている。貫通孔１９ｈは、分割可能に構成された仕切り１９の境界に形成されている。これによって、仕切り１９を構成する第１部１９ｇ１が取り外されると、側壁１６側から搬送装置２０が交換および清掃されやすくなる。第２部１９ｇ２が取り外されると、側壁１７側から搬送装置２０が交換および清掃されやすくなる。このため、搬送装置２０のメンテナンス性が向上しうる。

なお、側壁１６，１７のうち、側壁１６のみが着脱可能な場合には、仕切り１９の第１部１９ｇ１が取り外された後に、搬送装置２０が炉体１１内部から取り出されてもよい。この状態で、仕切り１９の第２部１９ｇ２が側壁１６側から取り外されてもよい。

上述した実施形態では、仕切り１９を支持する支持部は、一対の側壁１４，１５から炉体１１の内側に向かって突出した凸部１４ａ，１５ａである。仕切り１９を凸部１４ａ，１５ａの上面１４ｕ，１５ｕに載せたり、凸部１４ａ，１５ａの上面１４ｕ，１５ｕから降ろしたりすることによって、仕切り１９の清掃、交換等のメンテナンスをすることができる。このため、仕切り１９および炉体１１の内部のメンテナンスがより容易になりうる。

上述した実施形態では、仕切り１９の支持部としての凸部１４ａ，１５ａは、一対の側壁１４，１５の幅方向に沿って延びている。このため、凸部１４ａ，１５ａ上をスライドさせながら仕切り１９を外すことができる。このため、仕切り１９の着脱が容易である。また、仕切り１９が炉体１１に取り付けられている時には、仕切り１９の両端は、側壁１４，１５の凸部１４ａ，１５ａによって線状に支持されている。このため、仕切り１９がずれたり脱落したりしにくい。

なお、仕切り１９を支持する支持部は、上述した凸部１４ａ，１５ａの形態に限定されない。支持部は、例えば、側壁１４～１７において、それぞれの側壁の幅方向に沿って間欠的に設けられた突起であってもよい。側壁１４～１７のうち、一対の側壁（例えば、側壁１４，１５）に架け渡された板状の部材であってもよい。

以下、本発明に用いられる搬送装置２０の構成および動作の一例について説明する。しかしながら、搬送装置２０の構成および動作は、以下で説明される形態に限定されず、種々の変更が可能である。

上述したように、搬送装置２０は、複数の回転体３１，３２，４１，４２（図２参照）と、回転装置５０と、昇降装置５５とを備えている。

〈複数の回転体３１，３２，４１，４２〉
回転体３１，３２，４１，４２は、耐熱性に優れた材料によって形成されている。この実施形態では、回転体３１，３２，４１，４２は、セラミック製である。回転体３１，３２，４１，４２は、略同一形状に形成されている。回転体３１，３２は、上端部と下端部がそれぞれブラケット３３ａ，３４ａに装着されて保持されている。回転体３１，３２の上端部および下端部には、高さ方向に沿った軸３３，３４が取り付けられている。回転体３１，３２の軸３３，３４は、ブラケット３３ａ，３４ａから上方および下方にそれぞれ延びるように設けられている。回転体４１，４２は、上端部と下端部がそれぞれブラケット４３ａ，４４ａに装着されて保持されている。回転体４１，４２の上端部および下端部には、高さ方向に沿った軸４３，４４が取り付けられている。回転体４１，４２の軸４３，４４は、ブラケット４３ａ，４４ａから上方および下方にそれぞれ延びるように設けられている。回転体４１，４２の軸４３，４４は、ブラケット４３ａ，４４ａに一体的に設けられていてもよい。ブラケット３３ａ，３４ａ，４３ａ，４４ａおよび軸３３，３４，４３，４４は、所要の耐熱性と機械強度を有する金属製の部材であるとよい。

回転体４１，４２は、回転体３１，３２とは異なる位置に配置されている。この実施形態では、回転体３１，３２および回転体４１，４２は、前後方向および左右方向において略正方形状に設定された搬送領域１２ａの角部の外側にそれぞれの回転軸が設けられるように配置されている。以下、回転体３１の形状について説明する。回転体３２，４１，４２の構成は、回転体３１と同様であるので、詳細な説明は省略する。

図１に示されているように、回転体３１は、高さ方向に延びる略矩形の板状に形成されている。回転体３１の高さは、回転体の幅および厚みと比べて長い。回転体３１は、高さ方向において炉内空間１２に収められる寸法である。回転体３１の長さは、炉体１１の底面部１３と天井部１８の間の距離よりも短く、かつ、高さ方向に沿った搬送領域の距離よりも長い。

この実施形態では、複数の支持部３０ａは、回転体３１の一方の面において、高さ方向に沿って予め定められた間隔で設けられている。この実施形態では、支持部３０ａ，４０ａの間隔は、被搬送物Ａの厚みよりも広い間隔である。支持部３０ａの間隔は、被搬送物Ａの寸法等に応じて適宜選択されうる。

図２に示されているように、支持部３０ａは、平面視において、基端から先端に向かってわずかに幅が狭くなった略台形形状である。支持部３０ａは、被搬送物Ａを支持する上端面を有している。支持部３０ａの上端面は、略水平な平面である。換言すると、支持部３０ａの上端面は、基端から先端に向かって傾斜していない。これによって、支持部３０ａの上端面に載せられた被搬送物Ａがずれにくい。支持部３０ａの上端面とは反対側の面は、支持部３０ａの先端から基端に向かって徐々に厚みが厚くなるように傾斜している。これによって、支持部３０ａの強度が向上されている。例えば、縦型加熱炉１０が長期使用に伴って支持部３０ａに負荷がかかった場合にも、支持部３０ａが折れにくい。このため、縦型加熱炉１０の耐久性が良好でありうる。なお、支持部３０ａの形状は、特に限定されない。

上述したように、回転体３１，３２には、高さ方向（回転体３１，３２の長さ方向）に沿って回転軸が設定されている。回転軸は、回転体３１，３２の幅方向において一方に偏った位置に設定されている（図２参照）。軸３３，３４は、回転体３１，３２に設定されている回転軸に沿って取り付けられている。この実施形態では、軸３３，３４は、回転体３１，３２の幅方向の端部に取り付けられている。

下方の軸３４，４４は、炉体１１の底面部１３に形成されている貫通孔１３ｃに挿通されている。貫通孔１３ｃと軸３４，４４の間は、断熱性および耐熱性を有するシール材によって隙間が埋められていてもよい。底面部１３に挿通されている軸３４，４４は、基台２６に取り付けられたガイド２９に挿通されている。ガイド２９は、基台２６の裏面（炉体１１が載せられている面とは反対側の面）に取り付けられている。ガイド２９としては、例えば、ブッシュ等が用いられうる。

図１に示されているように、上方の軸３３，４３は、炉体１１の天井部１８に形成されている貫通孔１８ｃに挿通されている。貫通孔１８ｃと軸３３，４３の間は、断熱性および耐熱性を有するシール材によって隙間が埋められていてもよい。軸３３，４３は、炉体１１の外部において、回転装置５０に接続されている。この実施形態では、回転体３１，３２に取り付けられている軸３３には、回転装置５０が接続されている。回転体４１，４２の回転体４１，４２に取り付けられている軸４３には、回転装置５０および昇降装置５５が接続されている。

〈回転装置５０〉
回転装置５０は、回転体３１，３２，４１，４２を回転軸周りに回転させる装置である。詳細な図示は省略するが、この実施形態では、回転装置５０は、回転体３１，３２，４１，４２と同数設けられている。特に限定されないが、回転装置５０は、回転体３１，３２それぞれに接続されている２つの回転装置５０ａと、回転体４１，４２それぞれに接続されている２つの回転装置５０ｂとを含んでいる。回転装置５０ａは、回転体３１，３２を回転軸周りに回転させる。回転装置５０ｂは、回転体４１，４２を回転軸周りに回転させる。回転装置５０は、炉体１１の外部に設けられている。

回転装置５０は、接続されているそれぞれの回転体３１，３２，４１，４２の回転角度を制御し、回転体３１，３２，４１，４２を予め定められた角度に回転させる。この実施形態では、回転装置５０は、回転体３１，３２，４１，４２を回転させることによって、被搬送物Ａを支持しうる支持姿勢と、被搬送物Ａを支持しない非支持姿勢とを切り替える。回転装置５０は、例えば、サーボモータ、ロータリーアクチュエーター等によって実現されうる。
図２に示されているように、回転装置５０は、回転体３１，３２，４１，４２を回転させることによって、支持姿勢と非支持姿勢とを切り替える。支持姿勢では、回転体３１，３２，４１，４２の支持部３０ａ，４０ａは、高さ方向において搬送領域１２ａと重なる位置に配置される。非支持姿勢では、回転体３１，３２，４１，４２の支持部３０ａ，４０ａは、高さ方向において搬送領域１２ａと重ならない位置に配置される。

図２に示されている実施形態では、回転体３１，３２，４１，４２は、支持姿勢から時計回りに９０度回転することによって、非支持姿勢に切り替えられる。回転体３１，３２，４１，４２は、非支持姿勢から反時計回りに９０度回転することによって、支持姿勢に切り替えられる。なお、回転体の回転する向きおよび角度は、かかる形態に限定されない。回転体の回転する向きおよび角度は、回転体の数、形状、被搬送物の形状等によって適宜設定されうる。

〈昇降装置５５〉
昇降装置５５は、回転体を回転軸に沿って昇降させる装置である。昇降装置５５は、複数の回転体３１，３２，４１，４２のうち、回転体４１，４２を昇降させる。昇降装置５５としては、例えば、シリンダ等が用いられうる。昇降装置５５は、炉体１１の上部の外壁２７ａに設けられている。特に限定されないが、昇降装置５５は、回転体４１，４２に接続された回転装置５０ａを介して回転体４１，４２の上方の軸４３に接続されている。この実施形態では、昇降装置５５は、回転体４１，４２、および、回転体４１，４２が接続された回転装置５０ｂを昇降させる。この実施形態では、昇降装置５５からは、上方に向かってロッド５１が延びており、ロッド５１には、回転装置５０ｂを支持する支持板５２が取り付けられている。昇降装置５５は、ロッド５１および支持板５２を介して回転装置５０ｂを昇降させる。

回転体４１，４２は、昇降装置５５によって予め設定された位置に昇降されるように構成されている。昇降装置５５には、回転体４１，４２の基準位置が設定されている。基準位置は、回転体４１，４２を昇降させる基準となる位置である。この実施形態では、昇降しない回転体３１，３２と回転体４１，４２とが同じ高さに配置されるように、基準位置が設定されている。換言すると、回転体４１，４２が基準位置にある時には、回転体３１，３２と回転体４１，４２が同じ高さに配置される。昇降装置５５には、回転体４１，４２を昇降させる際の昇降位置が設定されている。この実施形態では、回転体４１，４２を上昇させる際の上位置が設定されている。上位置は、基準位置から支持部３０ａ，４０ａのピッチ分高い位置に設定されている。昇降装置５５は、回転体４１，４２を、上述した基準位置および上位置よりもわずかに高い位置または低い位置に昇降させることができるように構成されている。これによって、一方の支持部に支持された被搬送物Ａに対して他方の支持部が干渉しない位置に調整されうる。

昇降装置５５による回転体４１，４２の昇降と、回転装置５０による回転体３１，３２および回転体４１，４２の回転が組み合わせられることによって、被搬送物Ａは、順次高さ方向に沿って搬送される。この実施形態では、被搬送物Ａは、支持部３０ａ，４０ａのピッチに相当する距離ずつ上方に搬送される。

〈制御装置６０〉
制御装置６０は、回転装置５０および昇降装置５５を制御している。制御装置６０は、例えば、マイクロコンピュータによって実現されている。制御装置６０には、回転装置５０によって回転体３１，３２，４１，４２を回転させる角度およびタイミングがプログラムされている。制御装置６０には、昇降装置５５によって回転体３１，３２，４１，４２を昇降させる高さおよびタイミングがプログラムされている。なお、この実施形態では、昇降装置５５は、回転体３１，３２，４１，４２のうち、回転体４１，４２を昇降させる。

制御装置６０は、予め定められたプログラムに従って回転装置５０を制御し、回転体３１，３２，４１，４２を回転させる。これによって、制御装置６０は、回転体３１，３２，４１，４２の角度を、被搬送物Ａを支持しうる支持姿勢と、被搬送物Ａを支持せずに支持部３０ａ，４０ａが搬送領域１２ａから退避する非支持姿勢とに切り替える。

この実施形態では、一対の回転体３１，３２は、同じタイミングで回転し、一対の回転体４１，４２は、同じタイミングで回転するように構成されている。換言すると、制御装置６０は、回転体３１，３２を同じタイミングで回転させるように回転装置５０ａを制御している。制御装置６０は、回転体４１，４２を同じタイミングで回転させるように回転装置５０ｂを制御している。被搬送物Ａは、被搬送物Ａを挟んで一対の回転体３１，３２および一対の回転体４１，４２のうち少なくともいずれかによって支持される。

制御装置６０は、予め定められたプログラムに従って昇降装置５５を制御し、回転体４１，４２を昇降させる。この実施形態では、制御装置６０は、回転体４１，４２を予め定められた位置に移動させるように、昇降装置５５を制御している。基準位置は、上述したように、昇降装置５５に接続されてない回転体３１，３２と同じ高さになる位置に設定されている。回転体４１，４２が基準位置に位置している時には、回転体３１，３２と回転体４１，４２の上端および下端は、略同一の高さに配置される。回転体４１，４２が上位置に位置している時には、回転体４１，４２は、基準位置よりも支持部３０ａ，４０ａのピッチ分高い位置に配置される。回転体４１，４２が移動する位置としては、上位置および基準位置の他に、上位置および基準位置とはわずかに異なる高さの位置も設定されている。回転体４１，４２を上位置および基準位置よりも高い位置または低い位置に移動させることによって、一方の支持部に支持された被搬送物Ａに対して他方の支持部が干渉することを抑制しうる。換言すると、回転体４１，４２を上位置および基準位置よりもわずかに高い位置または低い位置に移動させることによって、回転体３１，３２と回転体４１，４２との間で被搬送物Ａの受け渡しがスムーズになりうる。なお、回転体が昇降される位置は、かかる位置に限定されない。

回転装置５０による回転体３１，３２および回転体４１，４２の回転と、昇降装置５５による第２回転体の昇降が組み合わせられることによって、被搬送物Ａは、下方から上方に向かって順次搬送される。被搬送物Ａは、回転体３１，３２による支持と回転体４１，４２による支持とが繰り返されながら搬送される。以下、制御装置６０によって実現される回転装置５０および昇降装置５５の制御の一例を説明する。

図４は、制御装置６０による制御を示すタイムチャートである。図４では、制御装置６０によって回転装置５０および昇降装置５５が制御されることによって実現される回転体３１，３２および回転体４１，４２の動作が時系列に沿って示されている。図４では、回転体３１，３２の角度および位置は二点鎖線で示されており、回転体４１，４２の角度および位置は実線で示されている。

〈ステップＳ０〉
ステップＳ０（図４参照）は、初期状態でありうる。ステップＳ０では、回転体３１，３２および回転体４１，４２は、いずれも支持姿勢に設定されている。回転体３１，３２および回転体４１，４２の位置は、いずれも基準位置に設定されている。被搬送物Ａは、回転体３１，３２の支持部３０ａによって支持されている。

〈ステップＳ１〉
ステップＳ１（図４参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、回転体４１，４２を上昇させる処理を実行する。昇降装置５５は、回転体４１，４２を基準位置よりも高い位置に上昇させる。昇降装置５５は、回転体４１，４２の支持部４０ａが被搬送物Ａを支持し、かつ、被搬送物Ａ（または被搬送物Ａに載せられた被処理物）が上方の回転体３１，３２の支持部３０ａに当たらない位置まで上昇させる。ここでは、昇降装置５５は、回転体３１，３２よりもわずかに高くなるように回転体４１，４２を上昇させる。これによって、被搬送物Ａは、回転体４１，４２に支持された状態になる。このため、後の処理で回転体３１，３２を回転させた場合にも支持部３０ａが被搬送物Ａの側面Ａ２に当たりにくく、被搬送物Ａのずれが生じにくくなる。

〈ステップＳ２〉
ステップＳ２（図４参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、回転体３１，３２を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、回転体３１，３２を９０度時計回りに回転させる。回転体３１，３２は、非支持姿勢に設定される。回転体４１，４２は、支持姿勢のままである。

〈ステップＳ３〉
ステップＳ３（図４参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、回転体４１，４２を上昇させる処理を実行する。この実施形態では、昇降装置５５は、支持部３０ａ，４０ａのピッチ分、回転体４１，４２を上昇させる。これによって、被搬送物Ａを支持する回転体４１，４２は、上位置よりも上方に持ち上げられる。被搬送物Ａは、一段上方の支持部３０ａよりも上方であり、かつ、後の処理で回転体３１，３２が回転する際にも支持部３０ａが被搬送物Ａの側面Ａ２に当たらない位置持ち上げられる。

〈ステップＳ４〉
ステップＳ４（図４参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ａを制御し、回転体３１，３２を回転させる処理を実行する。回転装置５０ａは、回転体３１，３２を９０度反時計回りに回転させる。回転体３１，３２は、支持姿勢に設定される。これによって、回転体３１，３２の支持部３０ａは、被搬送物Ａを支持する位置に配置される。回転体３１，３２および回転体４１，４２は、いずれも支持姿勢に設定される。

〈ステップＳ５〉
ステップＳ５（図４参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、回転体４１，４２を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、回転体４１，４２を、回転体３１，３２の支持部３０ａが被搬送物Ａを支持する位置まで下降させる。ここでは、昇降装置５５は、回転体４１，４２を上位置まで下降させる。これによって、被搬送物Ａは、回転体４１，４２から回転体３１，３２に受け渡され、回転体３１，３２に支持された状態になる。このため、後の処理で回転体４１，４２を回転させた場合にも支持部４０ａが被搬送物Ａの側面Ａ１に当たりにくく、被搬送物Ａのずれが生じにくくなる。

〈ステップＳ６〉
ステップＳ６（図４参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、回転体４１，４２を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、回転体４１，４２を９０度時計回りに回転させる。回転体４１，４２は、非支持姿勢に設定される。回転体３１，３２は、支持姿勢に設定されている。

〈ステップＳ７〉
ステップＳ７（図４参照）では、制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、回転体４１，４２を下降させる処理を実行する。昇降装置５５は、被搬送物Ａが回転体３１，３２に支持される位置まで回転体４１，４２を下降させる。昇降装置５５は、回転体４１，４２を、後の処理で回転体４１，４２が回転する際にも支持部４０ａが被搬送物Ａの側面に当たらない位置まで下降させる。ここでは、昇降装置５５は、回転体４１，４２が基準位置よりもわずかに低くなるように、回転体４１，４２を下降させる。被搬送物Ａは、回転体３１，３２に支持されているため、昇降されない。

〈ステップＳ８〉
ステップＳ８（図４参照）では、制御装置６０は、回転装置５０ｂを制御し、回転体４１，４２を回転させる処理を実行する。回転装置５０ｂは、回転体４１，４２を９０度反時計回りに回転させる。回転体３１，３２の角度および回転体４１，４２は、支持姿勢に設定される。

ステップＳ８で回転体４１，４２が支持姿勢に設定された後は、再びステップ１の処理が実行される。制御装置６０は、昇降装置５５を制御し、回転体４１，４２を基準位置よりも高い位置に上昇させる。ここでは、昇降装置５５は、回転体４１，４２を基準位置よりもわずかに高い位置に上昇させる。これによって、被搬送物Ａは、回転体３１，３２から回転体４１，４２に受け渡され、回転体４１，４２に支持された状態になる。

このように、ステップＳ１～Ｓ８の処理によって、被搬送物Ａは、一段ずつ上方の支持部３０ａ，４０ａに搬送される。縦型加熱炉１０では、制御装置６０によって、ステップＳ１～Ｓ８の処理が繰り返し実行されうる。このとき、昇降装置５５によって昇降される回転体は、回転体４１，４２に限られている。このため、制御装置６０による制御がシンプルになりうる。また、回転体３１，３２が昇降されないため、回転体３１，３２，４１，４２の駆動がシンプルになる。これによって、比較的簡易な装置構成が実現されうる。また、回転体３１，３２の駆動が回転だけになるため、回転体３１，３２に取り付けられている軸３３，３４と炉体１１との間のシール材が劣化しにくくなる。これによって、耐久性やメンテナンス性が良好でありうる。

なお、制御装置６０による制御は、上述した形態に限定されず、種々の変更が可能である。例えば、上述した実施形態では、下方から上方に向かって搬送されるように制御装置６０のプログラムが変更されてもよい。昇降装置５５が回転体３１，３２，４１，４２を昇降させる高さを変更することにより、１ストロークあたりの搬送距離が変更されてもよい。実現されうる。このように、制御装置６０の制御プログラムを変更することによって、被搬送物Ａの搬送の方向、速度、タイミング等の搬送条件は、適宜設定されうる。

上述した実施形態では、回転体４１，４２のみに昇降装置５５が接続されているが、かかる形態に限定されない。回転体３１，３２および回転体４１，４２の両方に昇降装置５５が接続され、それぞれ独立に昇降可能に構成されていてもよい。被搬送物Ａは、例えば、回転体３１，３２および回転体４１，４２の回転および昇降が組み合わせられることによって、回転体３１，３２および回転体４１，４２によって交互に搬送されるように構成されていてもよい。

以上、具体的な実施形態を挙げて詳細な説明を行ったが、これらは例示にすぎず、請求の範囲を限定するものではない。このように、請求の範囲に記載の技術には、以上に記載した実施形態を様々に変形、変更したものが含まれる。

なお、本明細書は以下の項目１～１０を含んでいる。以下の項目１～１０は、上記した実施形態には限定されない。

項目１は、縦型加熱炉に関する。項目１における、縦型加熱炉は、
高さ方向に沿って被搬送物が搬送される炉内空間を内部に有する炉体と、
前記炉内空間に設けられたヒータと、
前記炉内空間に設定された、前記被搬送物が搬送される搬送領域において、高さ方向に沿って前記被搬送物を搬送する搬送装置と
を備え、
前記炉体には、前記炉内空間を高さ方向に沿って加熱ゾーンを仕切る、少なくとも一つの仕切りが設けられている。

項目２は、項目１に記載された縦型加熱炉であって、
前記仕切りには、高さ方向に沿って前記被搬送物および前記搬送装置が通る貫通孔が形成されている。

項目３は、項目１または２に記載された縦型加熱炉であって、
前記炉体は、直方体状に形成されており、かつ、少なくとも一つの着脱可能な側壁を有する。

項目４は、項目３に記載された縦型加熱炉であって、
前記炉体は、互いに対向する一対の着脱可能な側壁を有している。

項目５は、項目３または４に記載された縦型加熱炉であって、
前記着脱可能な側壁と隣り合う一対の側壁は、前記仕切りを支持する支持部を有しており、
前記仕切りは、前記一対の側壁の前記支持部に架け渡されている。

項目６は、項目５に記載された縦型加熱炉であって、
前記仕切りは、前記着脱可能な側壁が取り外される方向に沿って分割可能に構成されている。

項目７は、項目６に記載された縦型加熱炉であって、
前記仕切りには、高さ方向に沿って前記被搬送物および前記搬送装置が通る貫通孔が形成されており、前記貫通孔は、分割可能に構成された前記仕切りの境界に形成されている。

項目８は、項目５～７のいずれか一項に記載された縦型加熱炉であって、
前記支持部は、前記一対の側壁から前記炉体の内側に向かって突出した部位である。

項目９は、項目８に記載された縦型加熱炉であって、
前記支持部は、前記一対の側壁の幅方向に沿って延びている。

項目１０は、項目８または９に記載された縦型加熱炉であって、
前記一対の側壁は、前記支持部の上方に、前記仕切りを押さえる押さえ部を有している。

Ａ 被搬送物
Ｚ０ 搬入ゾーン
Ｚ１～Ｚ５ 加熱ゾーン
Ｚ６ 搬出ゾーン
１０ 縦型加熱炉
１１ 炉体
１２ 炉内空間
１２ａ 搬送領域
１３ 底面部
１４～１７ 側壁
１４ａ～１７ａ 凸部
１４ａ，１５ａ 支持部
１４ｂ～１７ｂ 貫通孔
１４ｃ，１５ｃ 貫通孔
１８ 天井部
１９，１９ａ～１９ｆ 仕切り
１９ｇ１ 第１部
１９ｇ２ 第２部
１９ｈ 貫通孔
１９ｈ１ 第１孔部
１９ｈ２ 第２孔部
２０ 搬送装置
２５ ヒータ
２７，２７ｂ，２７ｂ１ 外壁
２７ｂ２ 押さえ板
２７ｂ３ 蓋
２８ 温度センサ
３０ａ，４０ａ 支持部
３１，３２，４１，４２ 回転体
３３，３４，４３，４４ 軸
５０ 回転装置
５５ 昇降装置
６０ 制御装置

上述した実施形態では、仕切り１９は、第１部１９ｇ１と、第２部１９ｇ２とから構成されており、分割可能に構成されている。仕切り１９を構成する第１部１９ｇ１と第２部１９ｇ２は、側壁１６、１７に平行な方向に沿って分割可能に構成されている。このため、側壁１６を取り外した状態で第１部１９ｇ１を取り外すことができる。また、互いに対向する側壁１６，１７が炉体１１に対して着脱可能に構成されている場合には、第１部１９ｇ１および第２部１９ｇ２を、それぞれ反対方向から取り外すことができる。これによって、仕切り１９が交換されやすくなり、仕切り１９のメンテナンス性が向上しうる。また、被処理物の加熱条件に応じて適切な材質および寸法の仕切り１９を設置することができる。

Claims (10)

1. 高さ方向に沿って被搬送物が搬送される炉内空間を内部に有する炉体と、
   前記炉内空間に設けられたヒータと、
   前記炉内空間に設定された、前記被搬送物が搬送される搬送領域において、高さ方向に沿って前記被搬送物を搬送する搬送装置と
   を備え、
   前記炉体には、前記炉内空間を高さ方向に沿って加熱ゾーンを仕切る、少なくとも一つの仕切りが設けられている、縦型加熱炉。
2. 前記仕切りには、高さ方向に沿って前記被搬送物および前記搬送装置が通る貫通孔が形成されている、請求項１に記載された縦型加熱炉。
3. 前記炉体は、直方体状に形成されており、かつ、少なくとも一つの着脱可能な側壁を有する、請求項１または２に記載された縦型加熱炉。
4. 前記炉体は、互いに対向する一対の着脱可能な側壁を有している、請求項３に記載された縦型加熱炉。
5. 前記着脱可能な側壁と隣り合う一対の側壁は、前記仕切りを支持する支持部を有しており、
   前記仕切りは、前記一対の側壁の前記支持部に架け渡されている、請求項３に記載された縦型加熱炉。
6. 前記仕切りは、前記着脱可能な側壁が取り外される方向に沿って分割可能に構成されている、請求項５に記載された縦型加熱炉。
7. 前記仕切りには、高さ方向に沿って前記被搬送物および前記搬送装置が通る貫通孔が形成されており、前記貫通孔は、分割可能に構成された前記仕切りの境界に形成されている、請求項６に記載された縦型加熱炉。
8. 前記支持部は、前記一対の側壁から前記炉体の内側に向かって突出した部位である、請求項５に記載された縦型加熱炉。
9. 前記支持部は、前記一対の側壁の幅方向に沿って延びている、請求項８に記載された縦型加熱炉。
10. 前記一対の側壁は、前記支持部の上方に、前記仕切りを押さえる押さえ部を有している、請求項８に記載された縦型加熱炉。
    
    

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