JP2022152739A - 連続焼成炉 - Google Patents

Abstract

【課題】隣り合う処理室で雰囲気を変えること【解決手段】連続焼成炉１０は、トンネル状の炉体１１と、炉体１１に搬送方向Ｔ１に沿って設けられた搬送路１２とを備えている。炉体１１は、搬送方向に沿って隔壁部２０を介して隣り合う少なくとも一組の第１処理室２１と第２処理室２２とを有している。隔壁部２０は、上部隔壁２０ａと、チャンバースペース２０ｂと、通気孔２０ｃと、排気孔２０ｄとを有している。ここで、炉体１１は、上部隔壁２０ａが装着される凹み１１ｄを有し、チャンバースペース２０ｂは、凹み１１ｄの内部において、当該凹み１１ｄに装着された上部隔壁２０ａの上方に形成されている。【選択図】図１

Description

本開示は、連続焼成炉に関する。

特開平６－８２１６２号公報には、炉体（２）内に連続した焼成通路（３）を形成するとともに、この焼成通路（３）を、該通路（３）の天井から垂下させた隔壁（４）によって焼成領域（５）毎に間仕切りした連続焼成炉が開示されている。各焼成領域（５）の天井側には焼成領域（５）内に雰囲気ガスを供給する雰囲気ガス供給部（８）を設けている。隔壁（４）の底部には焼成領域（５）内の排ガスを外部に排気する排気口（９）を設けている。同公報では、かかる構成によれば、各焼成領域の天井側に設けた雰囲気ガス供給部から焼成領域内に供給された雰囲気ガスは、焼成領域内を下方に向かって満遍なく循環した後、隔壁底部に設けられた排気口から外部に排気されている。また、隔壁底部に流れ込む排ガスの流れによって各焼成領域内の雰囲気は隣接する焼成領域から遮断されるとされている。括弧内の数字は、同公報で付与された符号を示している。

特開２０１８－１６９１３７号公報には、熱処理炉に関する発明が開示されている。ここで開示された熱処理炉では、炉体は、被処理物を第１のガス雰囲気で熱処理する第１空間と、被処理物を第１のガス雰囲気と異なる第２のガス雰囲気で熱処理する第２空間と、第１空間及び第２空間を接続する第３空間とを備えている。搬送装置は、第１空間の一端から第３空間を介して第２空間の他端まで被処理物を搬送する。第３空間の搬送方向に直交する断面積は、第１空間の搬送方向に直交する断面積より小さく、かつ、第２空間の搬送方向に直交する断面積より小さい。第３空間の高さ方向の寸法は、第１空間の高さ方向の寸法より小さく、かつ、第２空間の高さ方向の寸法より小さい。同公報では、第１空間と第２空間の間にこのような第３空間を備えることによって、第１空間と第２空間との間で、一方の雰囲気ガスが他方に、あるいは、他方の雰囲気ガスが一方に流入することを回避することができることができる、とされている。

特開平６－８２１６２号公報 特開２０１８－１６９１３７号

ところで、連続焼成炉の隣り合う処理室で焼成雰囲気を変えたいとのニーズがある。連続焼成炉では、例えば、本焼成前に焼成温度よりも低い温度で被処理物を加熱し、被処理物に含まれるバインダを除去する脱バインダ処理や、本焼成後に焼成温度よりも低い温度で被処理物を加熱し、還元された被処理物に酸素を補う再酸化処理等が行われうる。また、硫化物を処理する場合には、炉内で硫化水素が発生しうる場合がある。このような処理が連続的に行なわれる場合には、焼成炉内の雰囲気をできるかぎり厳格に管理することが求められうる。このように隣り合う処理室で雰囲気に変えて連続的に処理する場合には、隣り合う処理室の雰囲気が適切に切り替えられることが望ましい。

ここで開示される連続焼成炉は、トンネル状の炉体と、炉体に搬送方向に沿って設けられた搬送路とを備えている。炉体は、搬送方向に沿って隔壁部を介して隣り合う少なくとも一組の第１処理室と第２処理室とを有している。隔壁部は、上部隔壁と、チャンバースペースと、通気孔と、排気孔とを有している。上部隔壁は、搬送路の上方に搬送物を搬送する間隙を空けて配置され、かつ、搬送路の上方の空間において第１処理室と第２処理室とを仕切るための隔壁である。チャンバースペースは、上部隔壁の上方に形成されたチャンバーとしての空間である。通気孔は、上部隔壁の内部に形成され、当該上部隔壁と搬送路との間の空間と、チャンバースペースとを連通する孔である。排気孔は、チャンバースペースと外部空間とを連通した孔である。ここで、炉体は、上部隔壁が装着される凹みを有し、チャンバースペースは、凹みの内部において、当該凹みに装着された上部隔壁の上方に形成されている。

かかる連続焼成炉によれば、チャンバースペースを設ける構造が簡単である。通気孔、チャンバースペースおよび排気孔を通じて、上部隔壁と搬送路との間の空間からガスがスムーズに抜けていく。このため、第１処理室と第２処理室との雰囲気ガスが混ざりにくい。

通気孔は、断面円形の孔でもよい。上部隔壁は、搬送方向に沿って通気孔の前後に、通気孔の内径よりも厚い隔壁を有していてもよい。また、搬送方向に直交する幅方向において、通気孔の位置と排気孔の位置がずれていてもよい。

また、上部隔壁は、炉体とは別体であってもよい。この場合、凹みに対する上部隔壁の高さが調整可能に構成されていてもよい。炉体は、両側の側壁に装着穴を有していてもよい。上部隔壁は、両側の側壁に向けてそれぞれ突出し、装着穴に装着された支持棒を有していてもよい。装着穴は、搬送方向に沿った両側の側壁に上下方向に沿った長穴であってもよい。上部隔壁は、両側の側壁に向けてそれぞれ突出し、長穴に装着された支持棒を有していてもよい。

凹みは、略矩形の凹みであってもよい。上部隔壁は、略矩形の凹みに装着される矩形の部材であってもよい。この場合、炉体と上部隔壁を簡単な構造で実現できる。

連続焼成炉は、排気孔の出口に設けられたフードと、フード内に接続された吸引装置とを有していてよい。フードは、外気を取り込む取り込み口を有していてもよい。また、上部隔壁と上下に対向する位置において、搬送路の下方に空間を有し、当該搬送路の下方の空間を第１処理室と第２処理室とで仕切る下部隔壁をさらに備えていてもよい。

図１は、連続焼成炉１０の一部を模式的に示す縦断面図である。 図２は、連続焼成炉１０のＩＩ－ＩＩ断面を示す横断断面図である。 図３は、隔壁部２０の上部隔壁２０ａを模式的に示す模式図である。

以下、本開示における典型的な実施形態の１つについて、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、以下の図面においては、同じ作用を奏する部材・部位には同じ符号を付して説明している。また、各図における寸法関係（長さ、幅、厚みなど）は実際の寸法関係を反映するものではない。上、下、左、右、前、後の向きは、図中、Ｕ、Ｄ、Ｌ、Ｒ、Ｆ、Ｒｒの矢印でそれぞれ表されている。ここで、上、下、左、右、前、後の向きは、説明の便宜上、定められているに過ぎず、特に言及されない限りにおいて本願発明を限定しない。

図１は、連続焼成炉１０の一部を模式的に示す縦断面図である。図２は、連続焼成炉１０のＩＩ－ＩＩ断面を示す横断断面図である。図１に示された形態では、連続焼成炉１０は、炉内の製品をローラに乗せて搬送するタイプの連続型の焼成炉である。このような連続焼成炉は、いわゆるローラーハースキルンと称される。なお、ここでは、連続焼成炉には、ローラーハースキルンが例示されているが、特段言及されない限りにおいて、連続焼成炉はローラーハースキルンに限定されない。連続焼成炉は、例えば、プッシャー炉でもよい。

連続焼成炉１０は、図１に示されているように、炉体１１と、搬送路１２とを備えている。炉体１１は、トンネル状の炉体である。この実施形態では、炉体１１は、直線状の搬送空間１１ａを有している。搬送空間１１ａの片側には、被処理物１３を搬入するための入口１１ｂが設けられている。搬送空間１１ａの反対側には、被処理物１３を搬出するための出口１１ｃが設けられている。搬送空間１１ａには、入口１１ｂから出口１１ｃに向かって被処理物１３を搬送する搬送方向Ｔ１が設定されている。被処理物１３は、例えば、電子部品に用いられるセラミックス材料や、電池の活物質材料などでありうる。このようなセラミックス材料や活物質材料は、サヤやセッターや匣鉢などと称される焼成容器に収容されて搬送されうる。

〈炉体１１〉
この実施形態では、炉体１１は、搬送空間１１ａの周りを全周に亘って囲う炉壁３１を有している。炉壁３１は、断熱材によって構成されている。炉壁３１は、所定の形状に成形されたセラミックファイバーボードが重ねられているとよい。セラミックファイバーボードは、例えば、いわゆるバルクファイバーに無機フィラーと無機・有機結合材とが添加されて板状に成形された板材である。炉壁３１は、セラミックファイバーボードが、例えば、厚み方向に積み重ねられているとよい。炉体１１を構成する炉壁３１には、図２に示されているように、天井３１ａと、床壁３１ｂと、左右一対の側壁３１ｃ，３１ｄとが含まれている。各炉壁３１ａ～３１ｂの厚さは、搬送空間１１ａの熱が十分に断熱される程度の所要の厚さに設定されている。炉体１１は、例えば、基台の上に設けられていてもよい。炉体１１が基台の上に設けられていることで、床壁３１ｂの下に配管や、駆動装置を配置することができる。また、左右の側壁３１ｃ，３１ｄや天井３１ａは、熱が外部に漏れないようにさらにカバーで覆われていてもよい。左右の側壁３１ｃ，３１ｄには、搬送ローラ１２ａが挿通される貫通穴３１ｃ１，３１ｄ１が設けられている。

〈搬送路１２〉
搬送路１２は、炉体１１の搬送方向に沿って設けられている。この実施形態では、搬送路１２には、複数の搬送ローラ１２ａが、炉体１１の搬送方向に沿って並べられている。搬送ローラ１２ａは、円筒軸状である。搬送ローラ１２ａには、セラミック製の中空軸が用いられている。搬送ローラ１２ａには、例えば、アルミナ製等の耐熱性能の高い管状体が用いられるとよい。各搬送ローラ１２ａの内径、外径および長さは、許容されうる製造誤差を除き概ね同じである。搬送ローラ１２ａは、炉体１１の第１側壁３１ｃと第２側壁３１ｄとを幅方向に貫通するように所要の長さを有している。搬送ローラ１２ａは、それぞれ左右の側壁３１ｃ，３１ｄに形成された貫通穴３１ｃ１，３１ｄ１を貫通し、炉体１１の外で支持されている。

図示は省略するが、複数の搬送ローラ１２ａは、炉体１１の外で、動力伝達機構と、駆動装置（モータ）とに接続されている。動力伝達機構と、駆動装置とによって、搬送ローラ１２ａは、所定の速度で同じ方向に回転し、被処理物１３を搬送するように構成されている。搬送ローラ１２ａの支持構造や、動力伝達機構や、駆動装置（モータ）などは、適宜に公知の構造が採用されうる。また、搬送ローラ１２ａの支持構造や、動力伝達機構や、駆動装置（モータ）などは、特段の言及がない限りにおいて、公知の構造に限定されず、種々変更されうる。

なお、この実施形態では、搬送路１２は、複数の搬送ローラ１２ａが、炉体１１の搬送方向に沿って並べられた形態が例示されている。かかる形態の搬送路１２は、例えば、ローラーハースキルンに採用されている。搬送路１２の形態は、かかる形態に限定されない。搬送路１２は、搬送ローラ１２ａが用いられていなくてもよい。搬送路１２は、例えば、被処理物１３が載せられる台板が送られる床を備えた構造であってもよい。この場合、左右の側壁３１ｃ，３１ｄにガイドが設けられていてもよい。このような搬送路は、例えば、特開平６－８２１６２号で開示されている、プッシャー式の連続炉に採用されうる。このように、搬送路１２の形態は、図１に示された形態に限定されず、種々の構成が採用されうる。

〈第１処理室２１，第２処理室２２〉
炉体１１の搬送空間１１ａには、搬送方向に沿って隔壁部２０を介して隣り合う少なくとも一組の第１処理室２１と第２処理室２２とを有している。この実施形態では、第１処理室２１と第２処理室２２は、それぞれ仕切り４１が設けられている。さらに仕切り４１によって仕切られた空間にそれぞれガス導入管４２と、ガス排気管４３と、ヒータ４４とが設けられている。ここでは、第１処理室２１と第２処理室２２に設けられる仕切り４１、ガス導入管４２、ガス排気管４３、ヒータ４４を順に説明した後で、第１処理室２１と第２処理室２２との間に設けられる隔壁部２０を説明する。

〈仕切り４１〉
仕切り４１は、第１処理室２１と第２処理室２２の空間を、搬送空間１１ａに沿ってさらに仕切るための仕切りである。仕切り４１は、セラミックファイバーボードのように断熱性を有する壁で形成されているとよい。この実施形態では、搬送ローラ１２ａの上側の空間と、下側の空間をそれぞれ仕切るように、並べられた搬送ローラ１２ａの上側と下側にそれぞれ仕切り４１が設けられている。

〈ガス導入管４２〉
ガス導入管４２は、第１処理室２１と第２処理室２２にそれぞれ雰囲気ガスを供給する管路である。第１処理室２１と第２処理室２２では、ガス導入管４２には、それぞれ適当なガスが導入される。これによって、第１処理室２１と第２処理室２２とは、異なる雰囲気ガスが充填されるように構成されている。つまり、第１処理室２１と第２処理室２２とは、それぞれ仕切り４１によって、さらに小さい空間に区切られているが、第１処理室２１内には、同じ雰囲気ガスが供給されている。また、第２処理室２２内には、同じ雰囲気ガスが供給されている。

図示は省略するが、炉体１１の外側からガス導入管４２に雰囲気ガスを供給するための供給管Ｇａ１，Ｇａ２が接続される。この実施形態では、ガス導入管４２は、床壁３１ｂを貫通し、第１処理室２１と第２処理室２２の底部に雰囲気ガスを処理室２１，２２に導入するための噴き出し口４２ａが設けられている。処理室２１，２２の内部において、ガス導入管４２の噴き出し口４２ａの上方には、遮蔽棒４２ｂが設けられている。遮蔽棒４２ｂは、セラミックス製の棒材であり、左右の側壁３１ｃ，３１ｄ（図２参照）を貫通するように設けられている。かかる遮蔽棒４２ｂが設けられていることによって、噴き出し口４２ａから噴き出す雰囲気ガスは、遮蔽棒４２ｂに当たって処理室内に拡散する。また、遮蔽棒４２ｂが設けられているので、噴き出し口４２ａから噴き出す雰囲気ガスが勢いよく被処理物１３に当たらない。このため、被処理物１３を収容した焼成容器が損傷したり、被処理物１３が雰囲気ガスを直接受けて飛び散ったりすることが抑止される。

〈ガス排気管４３〉
ガス排気管４３は、第１処理室２１と第２処理室２２のそれぞれにおいて雰囲気ガスを排気する管路である。この実施形態では、ガス導入管４２から雰囲気ガスが導入されることによって、処理室内の内圧が上がるとその分、ガス排気管４３から雰囲気ガスが抜ける。この実施形態では、処理室２１，２２には、炉体１１の天井３１ａにガス排気管４３へ通じる排気口４３ａが設けられている。ガス排気管４３に、炉体１１から排気される雰囲気ガスを収集するための収集管Ｇｂ１，Ｇｂ２が接続される。この実施形態では、第１処理室２１と第２処理室２２とで、雰囲気ガスが異なる。第１処理室２１と第２処理室２２とで、それぞれ異なる収集管Ｇｂ１，Ｇｂ２に接続されている。

〈ヒータ４４〉
炉体１１の搬送空間１１ａには、図１に示されているように、複数のヒータ４４が配置されている。ヒータ４４は、搬送空間１１ａにおいて被処理物１３を加熱する装置である。複数のヒータ４４は、複数の搬送ローラ１２ａを挟むようにして、搬送方向に沿って搬送空間１１ａの上方と下方に所定の間隔を空けて並べられている。この実施形態では、ヒータ４４は円筒軸状であり、第１側壁３１ｃと第２側壁３１ｄを貫通している。ヒータ４４としては、加熱温度等に応じて種々のヒータを用いることができ、例えば、セラミック製のヒータを用いることができる。なお、図２では、ヒータ４４の図示は省略されている。

この実施形態では、第１処理室２１と第２処理室２２の空間は、仕切り４１によって、搬送方向Ｔ１に沿ってさらに仕切られている。第１処理室２１と第２処理室２２は、仕切り４１でさらに仕切られている。このため、搬送空間１１ａに沿って段階的に温度を変えることができ、目的の温度に向けて徐々に昇温させたり、徐々に降温させたりすることができる。ヒータ４４の数や配置によって、第１処理室２１と第２処理室２２の昇温や降温が調整される。この実施形態では、搬送ローラ１２ａの下側と上側の両方にヒータ４４が配置されている。

ところで、第１処理室２１と第２処理室２２に導入されるガスには、例えば、不活性ガス、中性ガス、酸化性ガス、還元性ガス、脱炭性ガス、浸炭性ガス、窒化性ガスなどがある。不活性ガスには、アルゴン（Ａｒ）やヘリウム（Ｈｅ）などが挙げられる。中性ガスには、窒素（Ｎ_２）や乾燥水素（dry Ｈ_２）やアンモニア（ＮＨ_３）などが挙げられる。酸化性ガスには、酸素（Ｏ_２）や水蒸気（Ｈ_２Ｏ）や炭酸ガス（ＣＯ_２）などが挙げられる。還元性ガスには、水素（Ｈ_２）や一酸化炭素（ＣＯ）や炭化水素ガス（ＣＨ_４、Ｃ_３Ｈ_８、Ｃ_４Ｈ_１０）などが挙げられる。脱炭性ガスには、酸化性ガスなどが挙げられる。浸炭性ガスには、水素（Ｈ_２）や一酸化炭素（ＣＯ）や炭化水素ガス（ＣＨ_４、Ｃ_３Ｈ_８、Ｃ_４Ｈ_１０）や都市ガスやメタノール（ＣＨ_３ＯＨ）やエタノール（Ｃ_２Ｈ_５ＯＨ）やエーテル（Ｃ_４Ｈ_１０Ｏ）などが挙げられる。窒化性ガスにはアンモニアガスが挙げられる。また、処理室には、適宜に大気（Air）が導入されうる。例えば、N₂+H₂、N₂+H₂+Air、N₂+Airなどのような混合ガスが導入されてもよい。また、導入されるガスは、処理室毎に濃度を変えた混合ガスであってもよい。

例えば、第１処理室２１では酸化処理が行なわれる場合には、第１処理室２１には酸化性ガスである酸素が供給されるとよい。そして、隔壁部２０を介して第１処理室２１に隣接する第２処理室２２で窒化処理が行なわれる場合には、第２処理室２２には、窒化性ガスであるアンモニアガスが供給されるとよい。隔壁部２０は、第１処理室２１と第２処理室２２とで、雰囲気を変えるため、充填されている雰囲気ガスが混ざるのを防止するための構造を備えているとよい。また、第１処理室２１と第２処理室２２は、供給される雰囲気ガスだけでなく、被焼成物１３からガスが発生する場合がある。例えば、硫化物系の電極活物質を焼成する用途では、硫化水素ガスが発生する場合がある。このように処理中に発生するガスが次工程の処理室に混ざることが抑制されることが望ましい。

〈隔壁部２０〉
隔壁部２０は、上部隔壁２０ａと、チャンバースペース２０ｂと、通気孔２０ｃと、排気孔２０ｄとを有している。図３は、隔壁部２０の上部隔壁２０ａを模式的に示す模式図である。

〈上部隔壁２０ａ〉
上部隔壁２０ａは、搬送ローラ１２ａの上方の空間において、第１処理室２１と第２処理室２２とを仕切る隔壁である。上部隔壁２０ａは、搬送ローラ１２ａの上方に搬送物を搬送する間隙を空けて配置されている。上部隔壁２０ａは、炉体１１とは別体で設けられている。この実施形態では、上部隔壁２０ａは、炉体１１の左右の側壁３１ｃ，３１ｄの内側に収まる長方形のブロック状の部材である。上部隔壁２０ａは、例えば、所定の形状に切り出されたセラミックボードを重ねた所定の厚さのブロック状の壁部材で構成されている。

この実施形態では、上部隔壁２０ａは、炉体１１とは別体で設けられている。そして、凹み１１ｄに対して上部隔壁２０ａの高さが調整可能に構成されている。図２に示されているように、この実施形態では、炉体１１は、左右両側の側壁３１ｃ，３１ｄに装着穴３１ｃ２，３１ｄ２を有している。上部隔壁２０ａは、両側の側壁３１ｃ，３１ｄに向けてそれぞれ突出した支持棒２４を有している。支持棒２４は、装着穴３１ｃ２，３１ｄ２に装着されている。この実施形態では、上部隔壁２０ａには、左右幅方向に貫通した貫通穴２６が形成されている。かかる貫通穴２６には、支持棒２４が装着されている。支持棒２４は、上部隔壁２０ａを左右に貫通する所要の長さを有している。支持棒２４は、貫通穴２６に挿通されて、上部隔壁２０ａから左右の側壁３１ｃ，３１ｄに向けてそれぞれ突出している。左右の側壁３１ｃ，３１ｄの装着穴３１ｃ２，３１ｄ２に装着されている。これにより、上部隔壁２０ａは、装着穴３１ｃ２，３１ｄ２に装着された支持棒２４によって支持されている。

この実施形態では、装着穴３１ｃ２，３１ｄ２は、縦長の長穴であり、支持棒２４が装着される高さが縦方向に調整できる。支持棒２４が装着される高さが調整されることによって、天井３１ａの凹み１１ｄに対する上部隔壁２０ａの位置が決められる。長穴に対する支持棒２４が装着される高さの調整は、例えば、長穴に支持棒２４を支える土台を設定するとよく、土台の高さを変えることで、支持棒２４が装着される高さが調整されるとよい。

このように、上部隔壁２０ａは、炉体１１と別体であり、凹み１１ｄに対する上部隔壁２０ａの高さが調整可能に構成されていることによって、搬送ローラ１２ａと上部隔壁２０ａとの間の空間２０ｅの幅が変更できる。そして、搬送ローラ１２ａの上を搬送される被処理物１３の高さに応じて、被処理物１３が上部隔壁２０ａに当たらないように上部隔壁２０ａの高さを変更できる。搬送ローラ１２ａの上を搬送される被処理物１３の高さに対して、搬送ローラ１２ａと上部隔壁２０ａとの間の空間２０ｅの幅が広すぎると、第１処理室２１と第２処理室２２との間でガスを遮断することが難しくなる。被処理物１３が上部隔壁２０ａに当たらない程度で、上部隔壁２０ａが低く設定されるとよい。これにより、第１処理室２１と第２処理室２２との間のガスの流通を抑制できる。なお、ここでは、炉体１１に対する上部隔壁２０ａの支持構造および上部隔壁２０ａの高さを調整可能とする構造を種々説明したが、これらの構造は、かかる形態に限定されず、種々の変更が可能である。

炉体１１は、上部隔壁２０ａが装着される凹み１１ｄを有している。この実施形態では、炉体１１の天井３１ａには、上方に凹んだ凹み１１ｄを有している。上部隔壁２０ａの上端部が、かかる凹み１１ｄに装着されている。この実施形態では、凹み１１ｄは、上部隔壁２０ａの形状に合った略矩形の凹みであり、上部隔壁２０ａは、略矩形の凹み１１ｄに装着される略矩形の壁材である。このように、凹み１１ｄと上部隔壁２０ａがそれぞれ矩形で形成されているので、セラミックボードから所定の形状で切り出して重ねるとよく。炉体１１と上部隔壁２０ａの作成が容易である。凹み１１ｄの内側面１１ｄ２の幅ｗ１は、上部隔壁２０ａの幅ｗ２に合わせられている。このため、上部隔壁２０ａは、凹み１１ｄに概ねぴったりと装着される。凹み１１ｄの奥には、段差１１ｄ１が設けられている。段差１１ｄ１は、凹み１１ｄの内部において、凹み１１ｄの内側面が内側に張り出している。かかる段差１１ｄ１によって、凹み１１ｄに装着される上部隔壁２０ａの上限が定められている。

〈下部隔壁２８〉
図１に示された形態では、搬送路１２の下側にも空間がある。上部隔壁２０ａと上下に対向する位置において、搬送路１２の下方の空間を第１処理室２１と第２処理室２２とで仕切る下部隔壁２８をさらに備えている。つまり、この実施形態では、炉体１１は、搬送ローラ１２ａの下方に空間を有している。下部隔壁２８は、搬送ローラ１２ａの下方で搬送ローラ１２ａに当たらない程度にギリギリの高さを有しているとよい。下部隔壁２８は所要の厚さを有しているとよく、セラミックボードを所定の形状に切り出して重ねられているとよい。かかる下部隔壁２８によって、搬送ローラ１２ａの下方の空間は、第１処理室２１と第２処理室２２とで仕切られている。また、下部隔壁２８は、第１処理室２１と第２処理室２２とで、断熱する機能も備えているとよい。下部隔壁２８は、第１処理室２１と第２処理室２２との間で所要の幅を有しているとよい。なお、連続焼成炉１０が、いわゆるプッシャー炉であり、搬送炉の下側に空間がないような場合には、下部隔壁２８は設けられていなくてもよい。

〈チャンバースペース２０ｂ〉
チャンバースペース２０ｂは、凹み１１ｄに装着された上部隔壁２０ａの上方に形成されたチャンバーとなる空間である。この実施形態では、上部隔壁２０ａは、炉体１１に設けられた凹み１１ｄに装着される。凹み１１ｄには段差１１ｄ１があり、上部隔壁２０ａは、凹み１１ｄ内に嵌まり切らない。このため、上部隔壁２０ａの上方にはチャンバーとなるチャンバースペース２０ｂが形成される。

〈通気孔２０ｃ〉
通気孔２０ｃは、上部隔壁２０ａの内部に形成されおり、上部隔壁２０ａと搬送ローラ１２ａとの間の空間２０ｅと、チャンバースペース２０ｂとを連通する孔である。この実施形態では、通気孔２０ｃは、上部隔壁２０ａの左右幅方向に離間した複数箇所（この実施形態では、２箇所）に形成されている。通気孔２０ｃは、それぞれ断面円形の孔である。チャンバースペース２０ｂは、かかる通気孔２０ｃの内径ｗ３に比べて十分に広いスペースが確保されている。通気孔２０ｃは、それぞれ断面円形の孔であり、通気孔２０ｃよりも十分に広いチャンバースペース２０ｂに通じている。このため、上部隔壁２０ａと搬送ローラ１２ａとの間の空間２０ｅからチャンバースペース２０ｂに通気孔２０ｃを通じてスムーズにガスが抜ける。なお、通気孔２０ｃは、上部隔壁２０ａの左右幅方向に離間した複数箇所に形成されているが、上部隔壁２０ａと搬送ローラ１２ａとの間の空間２０ｅからガスを漏れなく吸引するのに適当な間隔で形成されているとよい。ここでは、通気孔２０ｃは、断面円形の孔としているが、楕円や長円形状の孔などとしてもよい。この場合も、通気孔２０ｃの内周面が滑らかな周側面であるので、内部で渦流が生じ難く、スムーズにガスが排気されうる。

〈排気孔２０ｄ〉
排気孔２０ｄは、チャンバースペース２０ｂと外部空間とを連通した孔である。この実施形態では、排気孔２０ｄには、チャンバースペース２０ｂに連通するように天井３１ａを貫通している。この実施形態では、図２に示されているように、左右幅方向において、通気孔２０ｃが設けられた位置と、排気孔２０ｄが設けられる位置がずれている。このため、通気孔２０ｃを通ってチャンバースペース２０ｂに導入されたガスは、チャンバースペース２０ｂ内に拡散した後に、排気孔２０ｄから排出される。通気孔２０ｃを通ってチャンバースペース２０ｂに導入されたガスが、チャンバースペース２０ｂ内に拡散するので、通気孔２０ｃの脈動が抑えられる。排気孔２０ｄには、煙突状の筒２０ｄ１が装着されている。

この連続焼成炉１０では、このように上部隔壁２０ａの上部にチャンバースペース２０ｂが形成されている。チャンバースペース２０ｂは、上部隔壁２０ａに設けられた通気孔２０ｃよりも広くなっているので、通気孔２０ｃに生じるガスの脈動が抑えられる。このため、通気孔２０ｃ、チャンバースペース２０ｂおよび排気孔２０ｄを通じて、上部隔壁２０ａと搬送路１２との間の空間２０ｅからガスがスムーズに抜けていく。このため、第１処理室２１と第２処理室２２との雰囲気ガスが混ざりにくい。炉体１１は、上部隔壁２０ａが装着される凹み１１ｄを有し、チャンバースペース２０ｂは、凹み１１ｄの内部において、当該凹み１１ｄに装着された上部隔壁２０ａの上方に形成されている。このため、チャンバースペースを設ける構造が簡単である。

ここでは、搬送方向Ｔ１に沿って隔壁部２０を介して隣り合う第１処理室２１と第２処理室２２は、連続焼成炉１０の炉体１１の内部に設けられている。搬送方向Ｔ１に沿って隔壁部２０を介して隣り合う第１処理室２１と第２処理室２２は、連続焼成炉１０の炉体１１の内部に複数設けられていてもよい。

この実施形態では、上部隔壁２０ａは、搬送方向Ｔ１に沿って通気孔２０ｃの前後に、通気孔２０ｃの内径ｗ３よりも厚い隔壁２０ａ１，２０ａ２を有している。このため、通気孔２０ｃを通るガスの温度が、第１処理室２１と第２処理室２２とに影響しにくい。

排気孔２０ｄは、チャンバースペース２０ｂと外部空間とを連通した孔である。この実施形態では、排気孔２０ｄには、チャンバースペース２０ｂに連通するように天井３１ａを貫通している。排気孔２０ｄには、煙突状の筒２０ｄ１が装着されている。このため、チャンバースペース２０ｂから排気孔２０ｄを通じてスムーズにガスが抜けていく。

さらに、この実施形態では、図３に示されているように、フード５１と、吸引装置５２を備えている。フード５１は、排気孔２０ｄの出口に設けられている。フード５１は、排気孔２０ｄの出口を大凡覆っているものの、外気を取り込む取り込み口を有している。吸引装置５２は、フード５１内に接続されている。

吸引装置５２で、フード５１内からガスを吸引することによって、フード５１内は、外気を取り込みつつ、常に負圧にすることができる。フード５１は、外気を取り込む取り込み口を有しているので、吸引装置５２がガスを吸引する際に生じるガスの脈動が、フード５１内では緩和される。吸引装置５２がガスを吸引する際に生じるガスの脈動は、排気孔２０ｄには影響しにくい。さらに、排気孔２０ｄはチャンバースペース２０ｂに通じているので、吸引装置５２がガスを吸引する際に生じるガスの脈動は、通気孔２０ｃには、さらに影響しにくい。

この実施形態では、フード５１は、大凡円錐形状であり、排気孔２０ｄの出口の上方を覆っている。この実施形態では、フード５１の下端が開口しており、フード５１の全周から外気が取り込まれうる。吸引装置５２は、フード５１の上端部に接続されており、円錐形状のフード５１の頂部からガスが吸引される。吸引装置５２によってフード５１内のガスを吸引すると、フード５１内からスムーズにガスが抜けて、フード５１内に負圧が形成される。フード５１の形状や吸引装置５２が接続される部位などは、特に言及されない限りにおいて特段限定されない。フード５１の形状は、円錐に限らず、上方が平坦になった円錐台形でもよい。またフード５１の形状は、円形に限らず、角型でもよい。

以上、具体的な実施形態を挙げて、ここで開示される発明の詳細な説明を行ったが、これらは例示にすぎず、請求の範囲を限定するものではない。また、ここでの開示は、種々変更でき、特段の問題が生じない限りにおいて、各構成要素やここで言及された各処理は適宜に省略され、または、適宜に組み合わされうる。

１０ 連続焼成炉
１１ 炉体
１１ａ 搬送空間
１１ｂ 入口
１１ｃ 出口
１１ｄ 凹み
１１ｄ１ 段差
１１ｄ２ 内側面
１２ 搬送路
１２ａ 搬送ローラ
１３ 被処理物
２０ 隔壁部
２０ａ 上部隔壁
２０ａ１，２０ａ２ 隔壁
２０ｂ チャンバースペース
２０ｃ 通気孔
２０ｄ 排気孔
２０ｄ１ 筒
２０ｅ 搬送ローラ１２ａと上部隔壁２０ａとの間の空間
２１ 第１処理室
２２ 第２処理室
２４ 支持棒
２６ 貫通穴
２８ 下部隔壁
３１ 炉壁
３１ａ 天井
３１ｂ 床壁
３１ｃ，３１ｄ 左右の側壁
３１ｃ１，３１ｄ１ 貫通穴
３１ｃ２，３１ｄ２ 装着穴
４１ 仕切り
４２ ガス導入管
４２ａ 噴き出し口
４２ｂ 遮蔽棒
４３ ガス排気管
４３ａ 排気口
４４ ヒータ
５１ フード
５２ 吸引装置
Ｇａ１，Ｇａ２ 供給管
Ｇｂ１，Ｇｂ２ 収集管
Ｔ１ 搬送方向
ｗ１ 凹み１１ｄの内側面１１ｄ２の幅
ｗ２ 上部隔壁２０ａの幅
ｗ３ 通気孔２０ｃの内径

Claims (10)

1. トンネル状の炉体と、
   前記炉体に搬送方向に沿って設けられた搬送路と
   を備え、
   前記炉体は、
   前記搬送方向に沿って隔壁部を介して隣り合う少なくとも一組の第１処理室と第２処理室とを有し、
   前記隔壁部は、
   前記搬送路の上方に搬送物を搬送する間隙を空けて配置され、かつ、前記搬送路の上方の空間において前記第１処理室と前記第２処理室とを仕切るための上部隔壁と、
   前記上部隔壁の上方に形成されたチャンバースペースと、
   前記上部隔壁の内部に形成され、当該上部隔壁と前記搬送路との間の空間と、前記チャンバースペースとを連通する通気孔と、
   前記チャンバースペースと外部空間とを連通した排気孔と
   を有しており、
   前記炉体は、前記上部隔壁が装着される凹みを有し、
   前記チャンバースペースは、前記凹みの内部において、当該凹みに装着された前記上部隔壁の上方に形成されている、
   連続焼成炉。
2. 前記通気孔は、断面円形の孔である、請求項１に記載された連続焼成炉。
3. 前記上部隔壁は、前記搬送方向に沿って前記通気孔の前後に、前記通気孔の内径よりも厚い隔壁を有する、請求項１または２に記載された連続焼成炉。
4. 前記搬送方向に直交する幅方向において、前記通気孔の位置と前記排気孔の位置がずれている、請求項１から３までの何れか一項に記載された連続焼成炉。
5. 前記上部隔壁は、前記炉体とは別体であり、
   前記凹みに対する前記上部隔壁の高さが調整可能に構成された、請求項１から４までの何れか一項に記載された連続焼成炉。
6. 前記炉体は、両側の側壁に装着穴を有し、
   前記上部隔壁は、前記両側の側壁に向けてそれぞれ突出し、前記装着穴に装着された支持棒を有する、請求項１から５までの何れか一項に記載された連続焼成炉。
7. 前記装着穴は、前記搬送方向に沿った両側の側壁に上下方向に沿った長穴であり、
   前記上部隔壁は、前記両側の側壁に向けてそれぞれ突出し、前記長穴に装着された支持棒を有する、
   請求項６に記載された連続焼成炉。
8. 前記凹みは、略矩形の凹みであり、
   前記上部隔壁は、略矩形の凹みに装着される矩形の部材である、
   請求項１から７までの何れか一項に記載された連続焼成炉。
9. 前記排気孔の出口に設けられたフードと、
   前記フード内に接続された吸引装置と
   を有し、
   前記フードは、外気を取り込む取り込み口を有する、
   請求項１から８までの何れか一項に記載された連続焼成炉。
10. 前記上部隔壁と上下に対向する位置において、前記搬送路の下方に空間を有し、当該搬送路の下方の空間を前記第１処理室と前記第２処理室とで仕切る下部隔壁をさらに備えた請求項１から９までの何れか一項に記載された連続焼成炉。
    
    

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