JP4431743B2 - 熱処理装置 - Google Patents

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本発明は,被処理体の熱処理を行う熱処理装置,特には,鉄鋼製品の浸炭処理や窒化処理等の表面硬化処理に適した熱処理装置に関するものである。
鉄鋼製品の表面硬度を向上させる表面処理として,浸炭処理や窒化処理等が行われている。例えば浸炭処理を行う装置は,被処理体を炉内に装入して加熱し,カーボン雰囲気によって浸炭を行う構成になっている(例えば,特許文献1参照。)。また,ブラウン管の製造工程においては,ブラウン管の熱処理が行われている。かかる熱処理を行う装置として,炉内にマッフルを設け,マッフルの上部に形成した開口の上方にファンを設け,ファンの回転により,炉内雰囲気がマッフルの開口を介してマッフルの内側から外側に流れるようにした構成が知られている(例えば,特許文献2参照。)。
特開平11−181516号公報 特公平4−6652号公報
従来の熱処理装置にあっては,炉内雰囲気ガスの流れ,それに伴う熱分布の制御が困難であり,炉内の温度分布を均一にすることが難しい問題があった。鉄鋼製品の窒化処理等においては,炉内の温度分布の均一性が悪いと,処理むらが発生したり,被処理体の伸びにばらつきが生じたりして,歩留まりが多くなる。近年,自動車部品において使用されるスチールベルトを窒化処理する場合,厳しい品質が要求され,従来の熱処理装置では対応できない問題があった。
本発明の目的は,処理室内の温度分布の均一性を向上させることができる熱処理装置を提供することにある。
上記課題を解決するために,本発明によれば,被処理体の熱処理を行う熱処理装置であって,処理室の内部に,被処理体の上方及び被処理体の搬送方向に対して被処理体の左右を囲むマッフルを備え,被処理体はマッフルの内側を通過し,前記マッフルの上板に開口が形成され,前記開口の上方にファンを備え,被処理体の搬送方向に対してマッフルの左方及び右方にヒータが配置され,前記ファンの回転により,マッフルの内側の雰囲気が前記開口を通過してマッフルの外側に流れ,マッフルの左右を通過して,ヒータによって加熱され,マッフルの下部の開口を通過し,再びマッフルの内側に流入する構成とし,前記マッフルの上方において,被処理体の搬送方向に対して前記ファンの前方及び後方に,ファンの前方又は後方の空間を被処理体の搬送方向に対して左右に仕切る遮蔽板を備えることを特徴とする,熱処理装置が提供される。かかる熱処理装置によれば,ファンの回転によってマッフルの内側から上昇した雰囲気が,マッフルの上方において遮蔽板の左右に分離され,マッフルの左右に流れる。従って,処理室内の雰囲気が円滑に循環するので,処理室内の温度分布の均一性が向上する。
また,マッフルの外側の空間を被処理体の搬送方向に対して前後に仕切る仕切りを備えても良い。即ち,マッフルの外側の空間を各ファンの風量仕様に合わせた容積に仕切ることにより,処理室内の雰囲気を効率的に循環させることができる。前記ファンはシロッコファンであることが好ましい。
前記処理室は,被処理体の予熱を行う予熱室,及び/又は,被処理体に処理ガスを供給して表面処理を行う熱処理室であることが好ましい。さらに,被処理体の搬送方向に対して前記マッフルの左方及び右方にヒータを備え,前記ヒータは,処理室の天井部からマッフルの下方まで延設されることが好ましい。
本発明によれば,処理室内にマッフルとファンを設け,ファンの前後に遮蔽板を設けたことにより,処理室内の雰囲気が円滑に循環するので,処理室内の温度分布の均一性が向上する。従って,処理むらや歩留まりの発生を抑制することができる。
以下,本発明の好ましい実施の形態を,CVTスチールベルト等の被処理体の熱処理として表面の窒化処理を行う窒化処理装置に基づいて説明する。図1に示すように,本発明にかかる熱処理装置としての窒化処理装置1は,被処理体2の予熱を行う処理室としての予熱室3と窒化処理を行う熱処理室としての2つの窒化室5A,5Bとを有する窒化炉6を備えている。窒化炉6の後方(図1において右方)には,窒化室5A,5Bにおいて窒化処理した被処理体2を冷却させる冷却部7が設けられている。また,窒化炉6の前方(図1において左方)には,窒化炉6に外部雰囲気が流入することを防止する前パージ部10が設けられている。冷却部7の後方には,冷却室7に外部雰囲気が流入することを防止する後パージ部11が設けられている。被処理体2は,前方から後方に向かう搬送方向Dに搬送され,前パージ部10,窒化炉6の予熱室3,窒化室5A,5B,冷却部7,後パージ部11の順に通過するようになっている。
前パージ部10は,パージ室15と,戸袋チャンバー16を備えている。パージ室15と戸袋チャンバー16の内部は,窒素ガスによってパージされるようになっている。戸袋チャンバー16は,パージ室15と窒化炉6との間に形成されている。
パージ室15の前部には,被処理体2をパージ室15内に搬入するための搬入口21が形成されており,搬入口21を開閉するシャッター22が設けられている。パージ室15の後部には,被処理体2をパージ室15内から搬出するための搬出口23が形成されており,搬出口23を開閉するシャッター24が設けられている。搬出口23は,戸袋チャンバー16内に連通している。シャッター24は,戸袋チャンバー16の内部において搬出口21を開閉するようになっている。パージ室15の内部には,パージ室15内において被処理体2を載せて搬送する図示しない搬送ベルトが備えられている。また,パージ室15内を真空引きする図示しない真空排気路と,パージ室15内に窒素ガスを供給する図示しない窒素ガス供給路が設けられている。なお,パージ室15は,被処理体2を1個収納することができる大きさに形成されている。
戸袋チャンバー16には,戸袋チャンバー16内を排気する排気路25が設けられている。排気路25には,急速開閉弁26が介設されている。また,戸袋チャンバー16内に窒素ガスを供給する図示しない窒素ガス供給路が設けられている。
被処理体2を窒化処理装置1に搬入するときは,先ず予め窒素ガスによってパージされたパージ室15に被処理体2を搬入して,パージ室15内を密閉してパージ室15内のパージを行った後,搬出口23を開いて,被処理体2を窒化炉6に搬入するようになっている。これにより,窒化炉6内に外部雰囲気が侵入することを防止でき,窒化炉6内の酸素濃度を低く抑えることができる。即ち,窒化炉6における窒化処理において,被処理体2の表面に化合物が析出することを防止できるので,被処理体2の機械的強度が向上する。
窒化炉6の炉体30の前部には,被処理体2を炉体30内に搬入するための搬入口31が形成されており,搬入口31を開閉するシャッター32が設けられている。搬入口31は,戸袋チャンバー16内に連通している。シャッター32は,戸袋チャンバー16の内部において搬入口31を開閉するようになっている。
窒化炉6の炉体30の内部には,被処理体2の搬送方向Dに対して前方から,予熱室3,窒化室5A,窒化室5Bがこの順に設けられている。予熱室3,窒化室5A,窒化室5Bは,それぞれ被処理体2を2個収納することができる大きさに形成されている。炉体30の後部には,被処理体2を炉体30内から搬出するための搬出口33が形成されており,搬出口33を開閉するシャッター34が設けられている。また,炉体30の天井部には,炉体30内を排気する排気路35が設けられている。排気路35には,急速開閉弁36が介設されている。さらに,炉体30内に窒素ガスを供給する図示しない窒素ガス供給路が設けられている。
図2に示すように,窒化炉6の炉体30の内部には,被処理体2を搬入口31と搬出口33との間で前後方向に搬送するローラコンベア40が備えられている。窒化炉6において,搬入口31から搬入された被処理体2は,ローラコンベア40の駆動により,搬送方向Dに沿って搬送され,予熱室3,窒化室5A,窒化室5Bを順に通過し,搬出口33から搬出されるようになっている。
図2及び図3に示すように,予熱室3には,被処理体2を加熱するヒータ45と,予熱室3内の雰囲気を攪拌するファン46が備えられている。ヒータ45としては,例えばラジアントチューブヒータ等を用いることが好ましい。図2及び図3に示す例では,ヒータ45は,ローラコンベア40上の被処理体2の左方及び右方に立設され,また,前後方向に複数本並列に並べて配置されており,輻射熱によって被処理体2を加熱するようになっている。ファン46としては,例えばシロッコファン等を用いることが好ましい。ファン46は,ローラコンベア40上の被処理体2の上方に備えられている。図2に示すように,炉体30の上方には,ファン46を回転させる駆動機構47が備えられている。
図2及び図3に示すように,窒化室5Aには,被処理体2の上方及び被処理体2の搬送方向Dに対して被処理体2の左右を囲むマッフル50が備えられている。搬送方向Dに対してマッフル50の左方及び右方には,ヒータ51が備えられている。マッフル50の上部には,ファン52が備えられている。搬送方向Dに対してファン52の前方及び後方には,ファン52の前方又は後方の空間を搬送方向Dに対して左右に仕切る遮蔽板53,54がそれぞれ設けられている。マッフル50の前端側及び後端側には,マッフル50の外側の空間を搬送方向Dに対して前後に仕切る仕切り55,56がそれぞれ備えられている。また,窒化室5A内は,窒素ガス雰囲気となっている。
図4に示すように,マッフル50は,ローラコンベア40の上方に配置され,断面略コの字状に形成されている。即ち,マッフル50は,炉体30の略水平な天井面30aに対して略平行に配置された上板50aと,搬送方向Dに対して左方に位置する炉体30の略鉛直な左内側面30bに対して,略平行に配置された左側板50bと,搬送方向Dに対して右方に位置する炉体30の略鉛直な右内側面30cに対して,略平行に配置された右側板50cとによって構成されており,下部の開口はローラコンベア40の上面に対向している。炉体30の天井面30aと上板50aとの間,炉体30の左内側面30bと左側板50bとの間,炉体30の右内側面30cと右側板50cとの間には,それぞれ一定幅の隙間が設けられている。なお,マッフル50の形状は,断面略コの字状に限定されず,炉体30の内面と相似形であることが好ましい。被処理体2は,マッフル50の内側を通過するようになっている。マッフル50の前方及び後方は,被処理体2が通過する開口となっている。
マッフル50の上板50aの中央部には,窒素ガス雰囲気を通流させるための開口60が形成されている。開口60は,ローラコンベア40上の被処理体2の上方に開口するように配置されている。ファン52は,開口60の上方に設けられている。また,マッフル50の左側板50b及び右側板50cの各下縁部には,マッフル50を支持するマッフル支持部材61が複数本設けられている。マッフル支持部材61は,ローラコンベア40の各ローラ40a同士の間に配置されており,マッフル支持部材61の下端部は炉体30の底面に固定され,上端部にマッフル50の左側板50b又は右側板50cの下縁部が固着されている。
ヒータ51は,炉体30の左内側面30bと左側板50bとの間,又は,炉体30の右内側面30cと右側板50cとの間に,それぞれ前後方向に複数本並列に並べて配置されている。ヒータ51としては,例えばラジアントチューブヒータ等を用いることが好ましい。各ヒータ51は,棒状に形成され略鉛直に立設されており,また,窒化室5Aの天井部からマッフル50の下方まで延設されている。即ち,各ヒータ51の上端部は,炉体30の天井部によって支持されている。各ヒータ51の下部は,ローラコンベア40の各ローラ40a同士の間に配置されており,ヒータ51の下端部がマッフル50の下縁部より下方に突出するように設けられている。このようにすると,窒化室5A内の窒素ガス雰囲気を効率的に加熱することができ,また,窒化室5A内の温度分布の均一性を向上させることができる。
ファン52は,マッフル50の上板50aに形成された開口60の上方に設けられている。ファン52の回転軸65は,略鉛直方向に向けて配置されており,炉体30の天井部を貫通するように設けられている。回転軸65の上端側は,炉体30の上方に設けられた回転駆動機構66に接続されている。ファン52としては,例えばシロッコファンを用いることが好ましい。この場合,窒化室5A内の窒素ガス雰囲気を強攪拌して,効率良く循環させることができる。従って,窒化室5A内の温度分布の均一性をより向上させることができる。
回転駆動機構66を駆動させると,ファン52が回転軸65を中心として回転し,マッフル50の内側の窒素ガス雰囲気が開口60を通過して上昇し,ファン52の周囲に流出するようになっている。ファン52の周囲に流出した窒素ガス雰囲気は,炉体30の天井面30aと上板50aとの間から,炉体30の左内側面30bと左側板50bとの間,又は,炉体30の右内側面30cと右側板50cとの間に流入して,ヒータ51によって加熱されながら下降し,ローラコンベア40の各ローラ40a同士の間を通過して,ローラコンベア40の下方の空間に流入する。こうしてマッフル50の外側を流れた窒素ガス雰囲気は,ローラコンベア40の各ローラ40a同士の間を介してマッフル50の下部の開口を通過し,再びマッフル50の内側に流入して,開口60に向かって上昇するようになっている。
図3に示すように,ファン52の前方には,遮蔽板53が略鉛直な姿勢で設けられている。遮蔽板53は,ファン52の前端部近傍からマッフル50の上板50aの前縁まで延設されており,ファン52の前方において炉体30の天井面30aと上板50aとの間の空間を左右に仕切るように設けられている。ファン52の後方には,遮蔽板54が略鉛直な姿勢で設けられている。遮蔽板54は,ファン52の後端部近傍からマッフル50の上板50aの後縁まで延設されており,ファン52の後方において炉体30の天井面30aと上板50aとの間の空間を左右に仕切るように設けられている。即ち,ファン52の回転によりファン52の周囲に流出した窒素ガス雰囲気は,遮蔽板53,54の左右に均等に分離され,マッフル50の左右に向かって円滑に流れるようになっている。従って,遮蔽板53,54が設けられていることにより,窒化室5A内の窒素ガス雰囲気が,マッフル50の内側から外側に円滑に循環するので,窒化室5A内の温度分布の均一性が良好になる。また,窒化室5A内における窒素ガス雰囲気のガス組成の均一性が良好になる。
マッフル50の前端側には,仕切り55が備えられている。仕切り55は,マッフル50の外面と炉体30の内面との間の空間を前方において塞ぐように設けられている。即ち,仕切り55によって,マッフル50の外側の空間と予熱室3内の空間とが遮断されている。仕切り55には,マッフル50の前端側の開口と連通するように形成された開口55aが設けられている。さらに,開口55aを予熱室3側から開閉するシャッター68が設けられている。シャッター68は,開口55aを塞ぐ閉塞位置と,閉塞位置から上昇して開口55aを開口させる待機位置とに移動させることができる。また,シャッター68を閉塞位置と待機位置とに移動させる図示しないシャッター移動機構が備えられている。シャッター68を閉塞位置に移動させると,マッフル50の内側の空間と予熱室3内の空間とが遮断されるようになっている。
マッフル50の後端側には,仕切り56が備えられている。仕切り56は,マッフル50の外面と炉体30の内面との間の空間を後方において塞ぐように設けられている。即ち,仕切り56によって,窒化室5A内に備えたマッフル50の外側の空間と窒化室5B内に備えたマッフル50の外側の空間とが遮断されている。仕切り56には,マッフル50の後端側の開口と連通するように形成された開口56aが設けられている。
マッフル50の外側において,窒素ガス雰囲気は,仕切り55,56の間で循環するようになっている。仕切り55,56の間は,ファン52の風量仕様に合わせた容積になっている。従って,窒化室5A内の雰囲気を効率的に循環させることができるようになっている。
窒化室5Bは,図2に示すように,窒化室5Aとほぼ同様の構成を有するマッフル50,ヒータ51,ファン52,遮蔽板53,54を備えている。窒化室5Bに備えたマッフル50の前端側は,前述した窒化室5Aに備えたマッフル50の後端側に配置した仕切り56の後面に近接している。窒化室5Bに備えたマッフル50の後端側は,炉体30の後部内面に近接している。窒化室5B内は,窒素ガス雰囲気となっている。
窒化室5Bにおいては,マッフル50の外側の窒素ガス雰囲気は,仕切り56と炉体30の後部内面との間で循環するようになっている。仕切り56と炉体30の後部内面との間の空間は,窒化室5Bに備えたファン52の風量仕様に合わせた容積になっている。従って,窒化室5B内の雰囲気を効率的に循環させることができるようになっている。
図1に示すように,冷却部7は,戸袋チャンバー71と,冷却室72とを備えている。戸袋チャンバー71は,窒化炉6と冷却室72との間に形成されている。炉体30の後部に形成された搬出口33は,戸袋チャンバー71内に連通している。シャッター34は,戸袋チャンバー71の内部において搬出口33を開閉するようになっている。冷却室72の内部には,冷却室72内において被処理体2を載せて搬送する図示しない搬送ベルトが備えられている。冷却室72の前部の搬入口73は,戸袋チャンバー71に連通している。冷却室72の後部には搬出口74が形成されている。なお,窒化炉6から搬出した直後の被処理体は高温状態であり,そのまま外部雰囲気に接触させると,酸化による変色等が起こり,品質に悪影響があるので,窒素ガスによって予めパージされた冷却室72内において,被処理体2を冷却させるようになっている。
後パージ部11は,戸袋チャンバー81と,パージ室82とを備えている。戸袋チャンバー81とパージ室82の内部は,窒素ガスによってパージされるようになっている。戸袋チャンバー81は,冷却室72とパージ室82との間に形成されている。冷却室72の後部の搬出口74は,戸袋チャンバー81に連通している。
戸袋チャンバー81には,戸袋チャンバー81及び冷却室72内を排気する排気路85が設けられている。排気路85には,急速開閉弁86が介設されている。また,戸袋チャンバー81及び冷却室72内に窒素ガスを供給する図示しない窒素ガス供給路が設けられている。
パージ室82の前部には,被処理体2を戸袋チャンバー81からパージ室82内に搬入するための搬入口91が形成されており,搬入口91を開閉するシャッター92が設けられている。シャッター92は,戸袋チャンバー81の内部において搬入口91を開閉するようになっている。パージ室82の後部には,被処理体2をパージ室82内から搬出するための搬出口93が形成されており,搬出口93を開閉するシャッター94が設けられている。パージ室82の内部には,パージ室82内において被処理体2を載せて搬送する図示しない搬送ベルトが備えられている。また,パージ室82内を真空引きする図示しない真空排気路と,パージ室82内に窒素ガスを供給する図示しない窒素ガス供給路が設けられている。なお,パージ室82は,被処理体2を1個収納することができる大きさに形成されている。
被処理体2を窒化処理装置1から搬出するときは,冷却室72から搬出口74,搬入口91を介して,予め窒素ガスによってパージされたパージ室82に被処理体2を搬入する。そして,シャッター94によって搬入口91を閉じた後,搬出口93を開き,パージ室82から被処理体2を搬出する。その後,シャッター94によって搬出口93を閉じたら,パージ室82内のパージを行い,次の被処理体2の搬出を待つ。これにより,冷却室72や窒化炉6内に外部雰囲気が侵入することを防止でき,冷却室72,窒化炉6内の酸素濃度を低く抑えることができる。即ち,窒化炉6における窒化処理において,被処理体2の表面に化合物が析出することを防止できるので,被処理体2の機械的強度が向上する。また,冷却室72内で被処理体2の酸化による変色等の品質劣化が生じることを防止できる。
この窒化処理装置1においては,パージ室15に被処理体2を搬入するとき,炉体30に設けた排気路35の急速開閉弁36と,戸袋チャンバー81に設けた排気路85の急速開閉弁86は閉じておく。このようにすると,パージ室15に被処理体2を搬入するときに戸袋チャンバー16内の雰囲気が急激に冷却され,戸袋チャンバー16内が負圧となっても,排気路35,排気路85から炉体30や戸袋チャンバー81,冷却室72内に雰囲気が吸い込まれることを防止できる。即ち,排気路35,排気路85から炉体30や戸袋チャンバー81,冷却室72内に酸素を含有した雰囲気が流入することを防止でき,炉体30,戸袋チャンバー81,冷却室72内の酸素濃度を低く抑えることができる。なお,パージ室15に被処理体2を搬入するとき,戸袋チャンバー16に設けた排気路25から雰囲気が吸い込まれても,パージ室15のパージと並行して戸袋チャンバー16の窒素ガスによるパージを行うことで,戸袋チャンバー16内の圧力を回復させると共に,戸袋チャンバー16内に流入した酸素を排出することができる。
また,パージ室82から被処理体2を搬出するときは,炉体30に設けた排気路35の急速開閉弁36と,戸袋チャンバー16に設けた排気路25の急速開閉弁26は閉じておく。このようにすると,パージ室82から被処理体2を搬出するときに戸袋チャンバー16内が減圧しても,排気路35,排気路25から炉体30や戸袋チャンバー16内に雰囲気が吸い込まれることを防止できる。即ち,排気路35,排気路25から炉体30や戸袋チャンバー16内に酸素を含有した雰囲気が流入することを防止でき,炉体30や戸袋チャンバー16内の酸素濃度を低く抑えることができる。なお,パージ室82から被処理体2を搬出するとき,戸袋チャンバー81に設けた排気路85から雰囲気が吸い込まれても,パージ室82に被処理体2を搬入した後,戸袋チャンバー71,冷却室72,戸袋チャンバー81の窒素ガスによるパージを行うことで,戸袋チャンバー71,冷却室72,戸袋チャンバー81内に流入した酸素を排出することができる。
次に,以上のように構成された窒化処理装置1を用いた被処理体2の窒化処理工程について説明する。先ず,パージ室15の搬入口21から被処理体2をパージ室15に搬入し,シャッター22によって搬入口21を閉じて,パージ室15内を密閉状態にする。搬出口23はシャッター24によって予め閉じられており,パージ室15内は,被処理体2を搬入する前に予め窒素ガスによってパージされている。被処理体2をパージ室15に搬入してパージ室15内を密閉したら,再びパージ室15内の排気と窒素ガスの供給を行ってパージ室15内をパージし,被処理体2を搬入したときに流入した外部雰囲気をパージ室15内から排出させる。なお,このパージ室15のパージは,2回行うことが好ましい。これにより,パージ室15から酸素を効果的に排出することができる。
また,シャッター22によって搬入口21を閉じた後,戸袋チャンバー16内を窒素ガスによってパージする。これにより,戸袋チャンバー81内の圧力を回復させると共に,排気路25から戸袋チャンバー16内に吸い込まれた酸素を,戸袋チャンバー16内から排出する。なお,パージ室15に被処理体2を搬入するとき,炉体30に設けた排気路35の急速開閉弁36と,戸袋チャンバー81に設けた排気路85の急速開閉弁86は閉じておく。これにより,排気路35,排気路85から炉体30や戸袋チャンバー81,冷却室72内に酸素を含有した雰囲気が吸い込まれることを防止できる。
パージ室15内と戸袋チャンバー16内をパージした後,搬出口23,搬入口31を開き,被処理体2をパージ室15から窒化炉6の炉体30内に移動させる。そして,搬出口23,搬入口31を閉じ,ローラコンベア40を駆動させ,被処理体2を予熱室3に移動させる。予熱室3において,被処理体2は,ヒータ45によって昇温される。これにより,窒化室5A,5Bにおける窒化処理の時間を短縮することができる。
予熱室3で昇温させた後,シャッター68を移動させて仕切り55の開口55aを開口させ,ローラコンベア40の駆動により,被処理体2を搬送方向Dに搬送して窒化室5Aに移動させる。被処理体2は,窒化室5Aに設けたマッフル50の前端側の開口部からマッフル50の内側に進入する。そして,開口55aを閉じ,窒化室5A内で被処理体2の表面の窒化処理を行う。
図4に示すように,窒化室5Aにおいて,窒素ガス雰囲気は,ファン52の回転によりマッフル50の内側から開口60を通過してマッフル50の外側に流れ,マッフル50の左右を通過して,ヒータ51によって加熱され,マッフル50の下方から再びマッフル50の内側に流入するように循環している。即ち,マッフル50の内側において,加熱された窒素ガス雰囲気が被処理体2に供給され,被処理体2の窒化処理が行われる。マッフル50の外側において,窒素ガス雰囲気は,仕切り55,56の間で循環するようになっている。仕切り55,56の間は,ファン52の風量仕様に合わせた容積になっている。従って,窒化室5A内の雰囲気を効率的に循環させることができるようになっている。また,開口60から上昇してファン52の周囲に流出した窒素ガス雰囲気は,遮蔽板53,54の左右に均等に分離され,マッフル50の左右に向かって円滑に流れる。炉体30の左内側面30bと左側板50bとの間,炉体30の右内側面30cと右側板50cとの間には,ほぼ同じ流量で窒素ガス雰囲気が流れる。このように,遮蔽板53,54が設けられていることにより,窒化室5A内の窒素ガス雰囲気が円滑に循環するので,窒化室5A内の温度分布の均一性が良好になる。また,窒化室5A内における窒素ガス雰囲気中のガス組成の均一性が良好になる。即ち,窒化室5A内の温度分布や窒素の分布状態を均一にすることにより,被処理体2に処理むらが発生したり,被処理体2の伸びにばらつきが生じたりすることを防止できる。従って,歩留まりを低減することができ,品質を向上させることができる。
また,ヒータ51が窒化室5Aの天井部からマッフル50の下方まで延設されていることにより,窒化室5A内の窒素ガス雰囲気を効率的に加熱することができ,また,窒化室5A内の温度分布の均一性をより向上させることができる。
窒化室5A内を通過させた後,仕切り56の開口56aを介して,被処理体2を窒化室5Aから窒化室5Bに移動させる。被処理体2は,窒化室5Aに設けたマッフル50の前端側の開口部からマッフル50の内側に進入する。そして,引き続き被処理体2の表面の窒化処理を行う。窒化室5Bにおいても,窒化室5Aと同様にして窒素ガス雰囲気が円滑に循環し,窒化室5B内の温度分布の均一性,窒素ガス雰囲気のガス組成の均一性が良好な状態になっている。
窒化室5B内を通過させた後,搬出口33を開口させ,戸袋チャンバー71を介して冷却室72内に被処理体2を移動させ,搬出口33を閉じる。戸袋チャンバー71,冷却室72,戸袋チャンバー81内は,窒素ガスによって予めパージされており,搬入口91は閉じられている。そして,窒化炉6から搬出した直後の高温状態の被処理体2を冷却室72内において十分に冷却させる。
冷却室72で被処理体2を冷却させたら,搬入口91を開口させ,被処理体2をパージ室82に移動させ,搬入口91を閉じる。パージ室82の搬出口93は予め閉じられており,パージ室82内は予め窒素ガスによってパージされている。搬入口91を閉じた後,搬出口93を開口させ,パージ室82から被処理体2を搬出する。こうして,窒化処理装置1における被処理体2の処理が終了する。なお,パージ室82から被処理体2を搬出するとき,炉体30に設けた排気路35の急速開閉弁36と,戸袋チャンバー16に設けた排気路25の急速開閉弁26は閉じておく。これにより,排気路35,排気路25から炉体30や戸袋チャンバー16内に酸素を含有した雰囲気が吸い込まれることを防止できる。
パージ室82から被処理体2を搬出した後,搬出口93を閉じ,パージ室82を密閉して,パージ室82内の排気と窒素ガスの供給を行ってパージ室82内をパージし,被処理体2を搬出したときに流入した外部雰囲気をパージ室82内から排出させる。なお,このパージ室82のパージは,2回行うことが好ましい。これにより,パージ室82から酸素を効果的に排出することができる。こうして,パージ室82内から酸素を排出することにより,冷却室72や窒化炉6内に酸素が侵入することを防止でき,冷却室72,窒化炉6内の酸素濃度を低く抑えることができる。
かかる窒化処理装置1によれば,窒化室5A,5B内にマッフル50とファン52を設けたことにより,窒化室5A内の雰囲気を循環させ,加熱された窒素ガス雰囲気を被処理体2に効率良く供給し,窒化処理を効率良く行うことができる。さらに,ファン52の前後に遮蔽板53,54を設けたことにより,ファン52によって攪拌された窒素ガス雰囲気が,遮蔽板53,54の左右に均等に分離され,マッフル50の左右に向かって円滑に流れる。従って,窒化室5A内の窒素ガス雰囲気が円滑に循環するので,窒化室5A内の温度分布の均一性が向上する。これにより,被処理体2に処理むらが発生したり,被処理体2の伸びにばらつきが生じたりすることを防止できる。従って,被処理体2の窒化処理における歩留まりを低減することができ,品質を向上させることができる。
また,ヒータ51が窒化室5Aの天井部からマッフル50の下方まで延設されていることにより,窒化室5A内の窒素ガス雰囲気を効率的に加熱することができる。さらに,窒化室5A内の温度分布の均一性をより向上させることができる。
以上,本発明の好ましい実施の形態を説明したが,本発明はかかるものに限定されない。例えば,本実施の形態では,窒化室5A,5Bにマッフル50,ファン52,遮蔽板53,54を備えることとしたが,予熱室3にマッフル50,ファン52,遮蔽板53,54を備え,窒素ガス雰囲気を循環させることとしても良い。即ち,左右のヒータ45同士の間にマッフル50を備え,窒素ガス雰囲気をマッフル50の外側においてヒータ45によって加熱し,マッフル50内の被処理体2に熱風を供給して加熱するようにする。この場合,予熱室3内の温度分布の均一性を向上させることができる。
また,冷却室72にマッフル50,ファン52,遮蔽板53,54を備え,窒素ガス雰囲気を循環させることとしても良い。即ち,冷却室72内に備えたマッフル50の左右に冷却管を備え,窒素ガス雰囲気をマッフル50の外側において冷却管によって冷却し,マッフル50内の被処理体2に冷風を供給して冷却するようにする。これにより,被処理体2を効率良く冷却できる。また,冷却室72内の温度分布の均一性を向上させることができる。
遮蔽板53,54の形状は,実施の形態に示したものに限定されない。例えば,図5に示すように,遮蔽板53の前部の左右,遮蔽板54の後部の左右に,それぞれ気流をガイドするガイド部材101,102,103,104を設けても良い。図5において,ガイド部材101は,遮蔽板53の左側面と仕切り55との間の角部に配置されており,前方に向かうほど遮蔽板53から離隔するように,遮蔽板53に対して傾斜させて設けられている。ガイド部材102は,遮蔽板53の右側面と仕切り55との間の角部に配置されており,前方に向かうほど遮蔽板53から離隔するように,遮蔽板53に対して傾斜させて設けられている。
ガイド部材103は,遮蔽板54の左側面と仕切り56との間の角部に配置されており,後方に向かうほど遮蔽板54から離隔するように,遮蔽板54に対して傾斜させて設けられている。ガイド部材104は,遮蔽板54の右側面と仕切り56との間の角部に配置されており,後方に向かうほど遮蔽板54から離隔するように,遮蔽板54に対して傾斜させて設けられている。このようにガイド部材101,102,103,104を設けることにより,窒素ガス雰囲気がマッフル50の左右に向かってより円滑に流れるようにすることができる。即ち,ファン52の回転により攪拌され,遮蔽板53の左右に沿って前方に向かって流れた窒素ガス雰囲気が,それぞれガイド部材101,102に沿って流れ,左右に円滑に誘導される。また,ファン52の回転により攪拌され,遮蔽板54の左右に沿って後方に向かって流れた窒素ガス雰囲気が,それぞれガイド部材103,104に沿って流れ,左右に円滑に誘導されるようになる。また,ガイド部材101,102,103,104によって遮蔽板53,54が補強され,遮蔽板53,54を安定させて設置することができる。
本発明は,鉄鋼製品の窒化処理を行う装置に限定されず,鉄鋼製品の浸炭処理や,ブラウン管の熱処理等,種々の熱処理を行う装置に適用できる。
本実施の形態にかかる窒化処理装置の構成を説明する説明図である。 窒化炉の構成を説明する概略縦断面図である。 予熱室,窒化室の構成を説明する概略横断面図である。 図2におけるA−A線による断面図である。 別の実施の形態にかかる遮蔽板とガイド部材の構成を説明する説明図である。
符号の説明
1 窒化処理装置
2 被処理体
3 予熱室
5A,5B 窒化室
6 窒化炉
50 マッフル
51 ヒータ
52 ファン
53,54 遮蔽板
55,56 仕切り
60 開口

Claims (5)

  1. 被処理体の熱処理を行う熱処理装置であって,
    処理室の内部に,被処理体の上方及び被処理体の搬送方向に対して被処理体の左右を囲むマッフルを備え,被処理体はマッフルの内側を通過し,
    前記マッフルの上板に開口が形成され,前記開口の上方にファンを備え,
    被処理体の搬送方向に対してマッフルの左方及び右方にヒータが配置され,
    前記ファンの回転により,マッフルの内側の雰囲気が前記開口を通過してマッフルの外側に流れ,マッフルの左右を通過して,ヒータによって加熱され,マッフルの下部の開口を通過し,再びマッフルの内側に流入する構成とし,
    前記マッフルの上方において,被処理体の搬送方向に対して前記ファンの前方及び後方に,ファンの前方又は後方の空間を被処理体の搬送方向に対して左右に仕切る遮蔽板を備えることを特徴とする,熱処理装置。
  2. マッフルの外側の空間を被処理体の搬送方向に対して前後に仕切る仕切りを備えることを特徴とする,請求項1に記載の熱処理装置。
  3. 前記ファンはシロッコファンであることを特徴とする,請求項1又は2に記載の熱処理装置。
  4. 前記処理室は,被処理体の予熱を行う予熱室,及び/又は,被処理体に処理ガスを供給して表面処理を行う熱処理室であることを特徴とする,請求項1,2又は3に記載の熱処理装置。
  5. 被処理体の搬送方向に対して前記マッフルの左方及び右方にヒータを備え,
    前記ヒータは,処理室の天井部からマッフルの下方まで延設されたことを特徴とする,請求項1,2,3又は4に記載の熱処理装置。
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