JP2023554214A5 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JP2023554214A5 JP2023554214A5 JP2023521424A JP2023521424A JP2023554214A5 JP 2023554214 A5 JP2023554214 A5 JP 2023554214A5 JP 2023521424 A JP2023521424 A JP 2023521424A JP 2023521424 A JP2023521424 A JP 2023521424A JP 2023554214 A5 JP2023554214 A5 JP 2023554214A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkyl
- film
- solution
- layer
- resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020209190 | 2020-12-17 | ||
| JP2020209190A JP2022096214A (ja) | 2020-12-17 | 2020-12-17 | 厚膜化されたレジストパターンの製造方法、厚膜化溶液、および加工基板の製造方法 |
| PCT/EP2021/085640 WO2022129015A1 (en) | 2020-12-17 | 2021-12-14 | Method for manufacturing thickened resist pattern, thickening solution, and method for manufacturing processed substrate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023554214A JP2023554214A (ja) | 2023-12-27 |
| JP2023554214A5 true JP2023554214A5 (https=) | 2024-12-24 |
Family
ID=79287964
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020209190A Pending JP2022096214A (ja) | 2020-12-17 | 2020-12-17 | 厚膜化されたレジストパターンの製造方法、厚膜化溶液、および加工基板の製造方法 |
| JP2023521424A Pending JP2023554214A (ja) | 2020-12-17 | 2021-12-14 | 厚膜化されたレジストパターンの製造方法、厚膜化溶液、および加工基板の製造方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020209190A Pending JP2022096214A (ja) | 2020-12-17 | 2020-12-17 | 厚膜化されたレジストパターンの製造方法、厚膜化溶液、および加工基板の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP4264376A1 (https=) |
| JP (2) | JP2022096214A (https=) |
| KR (1) | KR20230117233A (https=) |
| CN (1) | CN116635794A (https=) |
| TW (1) | TW202231798A (https=) |
| WO (1) | WO2022129015A1 (https=) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2024141355A1 (en) | 2022-12-26 | 2024-07-04 | Merck Patent Gmbh | Electronic device manufacturing aqueous solution, method for manufacturing resist pattern and method for manufacturing device |
| EP4649359A1 (en) | 2023-01-13 | 2025-11-19 | Merck Patent GmbH | Electronic device manufacturing aqueous solution, method for manufacturing resist pattern and method for manufacturing device |
| CN120981776A (zh) | 2023-03-20 | 2025-11-18 | 默克专利有限公司 | 厚膜化组合物、制造经厚膜化的抗蚀剂图案的方法、以及制造经加工基板的方法 |
| TW202538046A (zh) | 2023-10-25 | 2025-10-01 | 德商默克專利有限公司 | 電子機器製造水溶液、光阻圖案之製造方法及裝置之製造方法 |
| WO2025228950A1 (en) | 2024-05-02 | 2025-11-06 | Merck Patent Gmbh | Electronic device manufacturing aqueous solution, method for producing resist pattern, and method for manufacturing device |
| WO2026032911A1 (en) | 2024-08-07 | 2026-02-12 | Merck Patent Gmbh | Electronic device manufacturing aqueous solution, method for producing resist pattern, and method for manufacturing device |
| WO2026046920A1 (en) | 2024-08-28 | 2026-03-05 | Merck Patent Gmbh | Electronic device manufacturing aqueous solution, method for producing resist pattern, and method for manufacturing device |
| WO2026046961A1 (en) | 2024-08-28 | 2026-03-05 | Merck Patent Gmbh | Electronic device manufacturing aqueous solution, method for producing resist pattern, and method for manufacturing device |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2845176B2 (ja) * | 1995-08-10 | 1999-01-13 | 日本電気株式会社 | 半導体装置 |
| JPH1124286A (ja) * | 1997-07-02 | 1999-01-29 | Citizen Watch Co Ltd | 感光性樹脂のパターン形成方法 |
| JP2000150502A (ja) * | 1998-11-16 | 2000-05-30 | Matsushita Electronics Industry Corp | 有機絶縁膜の形成方法 |
| JP6157151B2 (ja) | 2013-03-05 | 2017-07-05 | アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ | 微細レジストパターン形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
| JP6159746B2 (ja) * | 2014-02-28 | 2017-07-05 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、処理剤、電子デバイス及びその製造方法 |
| TWI607285B (zh) * | 2014-03-14 | 2017-12-01 | Az電子材料盧森堡有限公司 | 微細光阻圖案形成用組成物及使用其之圖案形成方法 |
| JP2017165846A (ja) | 2016-03-15 | 2017-09-21 | アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ | 微細パターン形成用組成物およびそれを用いた微細パターン形成方法 |
| JP6838369B2 (ja) * | 2016-11-28 | 2021-03-03 | Hdマイクロシステムズ株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、硬化パターンの製造方法、硬化物及び電子デバイス |
| JP7001374B2 (ja) * | 2017-06-19 | 2022-02-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜方法、記憶媒体及び成膜システム |
| JP7241502B2 (ja) * | 2018-10-18 | 2023-03-17 | 旭化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法 |
-
2020
- 2020-12-17 JP JP2020209190A patent/JP2022096214A/ja active Pending
-
2021
- 2021-12-14 WO PCT/EP2021/085640 patent/WO2022129015A1/en not_active Ceased
- 2021-12-14 EP EP21839848.5A patent/EP4264376A1/en active Pending
- 2021-12-14 CN CN202180084405.6A patent/CN116635794A/zh active Pending
- 2021-12-14 KR KR1020237023827A patent/KR20230117233A/ko not_active Ceased
- 2021-12-14 JP JP2023521424A patent/JP2023554214A/ja active Pending
- 2021-12-16 TW TW110147171A patent/TW202231798A/zh unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2023554214A5 (https=) | ||
| KR100479488B1 (ko) | 포토레지스트층의 패턴치수의 축소방법 | |
| JP2014164177A5 (https=) | ||
| KR101900660B1 (ko) | 미세 레지스트 패턴 형성용 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법 | |
| JP2005300853A5 (https=) | ||
| JP5058733B2 (ja) | ケイ素含有微細パターン形成用組成物を用いた微細パターン形成方法 | |
| KR20230117233A (ko) | 후막화된 레지스트 패턴의 제조방법, 후막화 용액 및가공 기판의 제조방법 | |
| US9411232B2 (en) | Composition for forming fine resist pattern, and pattern formation method using same | |
| JP2013187408A (ja) | ブロックコポリマー含有組成物及びパターンの縮小方法 | |
| JP2016526183A5 (https=) | ||
| JP2023159163A5 (https=) | ||
| TW202124692A (zh) | 光阻圖案間置換液、及使用其之光阻圖案之製造方法 | |
| JP6790107B2 (ja) | 微細パターン形成用組成物およびそれを用いた微細パターン形成方法 | |
| JP4644492B2 (ja) | 電子デバイスの二次加工に保護層を用いる方法 | |
| CN111675963B (zh) | 导电性高分子组合物、覆盖品及图案形成方法 | |
| TW200813639A (en) | Micropattern-forming resin composition and method for forming micropattern using the same | |
| KR102609535B1 (ko) | 포토레지스트 패턴 코팅용 조성물 및 이를 이용한 미세 패턴 형성 방법 | |
| JP2006091889A (ja) | 半導体素子製造用のマスクパターン及びその形成方法、並びに微細パターンを持つ半導体素子の製造方法 | |
| JP2006347062A (ja) | スクリーン印刷版の版膜面処理剤 | |
| CN120742629B (zh) | 一种针对厚光阻抗蚀剂的剥除液及制备方法 | |
| JP2010072130A5 (https=) | ||
| KR100653959B1 (ko) | 인쇄법을 이용한 금속 기판의 패턴 형성 방법 | |
| JP3578403B2 (ja) | 微細レジストパターン形成用水溶性樹脂の選択方法 | |
| JP2001033982A (ja) | レジストパターンの形成方法 | |
| JPWO2024084615A5 (ja) | 発光素子の製造方法 |