JP2023170317A - チオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有フルオレン化合物、及びその製造方法 - Google Patents
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- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 title claims abstract description 22
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 22
- -1 Fluorene compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 19
- 125000005068 thioepoxy group Chemical group S(O*)* 0.000 title claims abstract description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 11
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N hydrogen cyanide Chemical compound N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-N Arsenic acid Chemical compound O[As](O)(O)=O DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229940000488 arsenic acid Drugs 0.000 description 2
- COHDHYZHOPQOFD-UHFFFAOYSA-N arsenic pentoxide Chemical compound O=[As](=O)O[As](=O)=O COHDHYZHOPQOFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWWCURLKEXEFQT-UHFFFAOYSA-N dinitrogen pentaoxide Chemical compound [O-][N+](=O)O[N+]([O-])=O ZWWCURLKEXEFQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- KOUKXHPPRFNWPP-UHFFFAOYSA-N pyrazine-2,5-dicarboxylic acid;hydrate Chemical compound O.OC(=O)C1=CN=C(C(O)=O)C=N1 KOUKXHPPRFNWPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N trioxidane Chemical class OOO JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyloxan-4-one Chemical compound CC1(C)CC(=O)CC(C)(C)O1 NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YHASWHZGWUONAO-UHFFFAOYSA-N butanoyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC(=O)CCC YHASWHZGWUONAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N diphosphonate Chemical compound O=P(=O)OP(=O)=O YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N propionic anhydride Chemical compound CCC(=O)OC(=O)CC WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Inorganic materials O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIFJUMGIHIZEPX-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid;sulfur trioxide Chemical compound O=S(=O)=O.OS(O)(=O)=O HIFJUMGIHIZEPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D331/00—Heterocyclic compounds containing rings of less than five members, having one sulfur atom as the only ring hetero atom
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Abstract
【課題】ポリマーの高屈折率化が可能な、高屈折率光学材料の原料として有用な化合物を提供する。【解決手段】下記式(1)で表されるチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有フルオレン化合物。TIFF2023170317000019.tif4590(式中、R1~R4は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。)【選択図】なし
Description
本発明は、チオエポキシ基及び(メタ)アリル基を有するフルオレン化合物、及びその製造方法に関する。
従来、(メタ)アリル基及びグリシジル基を有するフルオレン化合物として、特許文献1に記載されたものが知られている。この化合物は、屈折率が高くなく、高屈折率光学材料の原料としては不十分であった。
本発明は、前記事情に鑑みなされたもので、ポリマーの高屈折率化が可能な、高屈折率光学材料の原料として有用な化合物を提供することを目的とする。
本発明者は、前記目的を達成するため検討を重ねた結果、下記式(2)
(式中、R1~R4は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。)
で表されるグリシジル基及び(メタ)アリル基含有フルオレン化合物と、チオ尿素又はチオシアン酸塩とを反応させることで、下記式(1)
(式中、R1~R4は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。)
で表される一分子内にチオエポキシ基及び(メタ)アリル基を有するフルオレン化合物が得られることを知見し、本発明をなすに至った。
で表されるグリシジル基及び(メタ)アリル基含有フルオレン化合物と、チオ尿素又はチオシアン酸塩とを反応させることで、下記式(1)
で表される一分子内にチオエポキシ基及び(メタ)アリル基を有するフルオレン化合物が得られることを知見し、本発明をなすに至った。
本発明のチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有フルオレン化合物は、(メタ)アリル基を利用したポリマー化、及びチオエポキシ基を利用したポリマー化の双方が可能である。また、それらを利用したポリマー化後の架橋、硬化が可能である。本発明のチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有フルオレン化合物は、一分子内にチオエポキシ基を2つ有し、高屈折率化可能な芳香環を有することから、これから得られるポリマーは、高屈折率化が期待でき、高屈折率光学材料の原料として有用である。
式(1)中、R1~R4は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基である。R1及びR2は水素原子又はメチル基であることが好ましく、R3及びR4は水素原子であることが好ましい。
式(1)で表される化合物は、下記式(2)で表されるグリシジル基及び(メタ)アリル基含有フルオレン化合物と、チオ尿素又はチオシアン酸塩とを反応させることで製造することができる。
(式中、R1~R4は、前記と同じ。)
式(2)で表される化合物とチオシアン酸塩又はチオ尿素との反応における反応温度は、任意であるが、通常0~100℃であり、好ましくは20~70℃である。反応時間は、反応が完結する時間であれば特に限定されないが、通常20時間以下が適当である。
チオシアン酸塩及びチオ尿素は、化学量論的にはエポキシ化合物のエポキシ基の物質量に対応する物質量を使用するが、生成物の純度、反応速度、経済性等を重視するのであれば、これ以下の量を使用してもよく、これ以上の量を使用してもよい。本発明においては、好ましくは、式(2)で表される化合物のエポキシ基1モルに対し、チオシアン酸塩及びチオ尿素を0モルを超え5モル以下程度使用し、より好ましくは0.9~5モル程度使用し、より好ましくは1~3モル程度使用し、反応させる。
反応は、無溶媒で行ってもよく、溶媒中で行ってもよい。溶媒を使用するときは、チオシアン酸塩又はチオ尿素及び式(2)で表される化合物のいずれかが可溶のものを使用することが好ましい。具体例としては、水、メタノール、エタノール等のアルコール類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のヒドロキシエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。また、これらの溶媒の混合溶媒でもよく、例えば、アルコール類と水との混合溶媒、エーテル類、ヒドロキシエーテル類、ハロゲン化炭化水素類又は芳香族炭化水素類とアルコール類との混合溶媒等は、効果的な場合がある。前記溶媒を使用する場合、その使用量は、式(2)で表される化合物100質量部に対し、0.1~500質量部が好ましく、1~400質量部がより好ましい。
また、反応液中に、重合抑制剤を添加することは、反応成績を上げることから有効である。前記重合抑制剤としては、酸、酸無水物等が挙げられる。前記酸及び酸無水物等の具体例としては、硝酸、塩酸、硫酸、発煙硫酸、ホウ酸、ヒ酸、リン酸、シアン化水素酸、酢酸、過酢酸、チオ酢酸、シュウ酸、酒石酸、プロピオン酸、酪酸、コハク酸、マレイン酸、安息香酸、無水硝酸、無水硫酸、酸化ホウ素、五酸化ヒ酸、五酸化燐、無水クロム酸、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水安息香酸、無水フタル酸、シリカゲル、シリカアルミナ、塩化アルミニウム等が挙げられる。前記重合抑制剤を添加する場合、その添加量は、通常、反応液総量中、0.001~10質量%が好ましく、0.01~1質量%がより好ましい。前記重合抑制剤は、1種単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
反応生成物は、酸性水溶液を用いて洗浄することで、得られる化合物の安定性を向上させることが可能である。前記酸性水溶液に用いる酸の具体例としては、硝酸、塩酸、硫酸、ホウ酸、ヒ酸、リン酸、シアン化水素酸、酢酸、過酢酸、チオ酢酸、シュウ酸、酒石酸、コハク酸、マレイン酸等が挙げられる。また、これらは単独でも2種類以上を混合して用いてもよい。前記酸性水溶液は、通常pH6以下で効果を発揮するが、pH0~3がより効果的である。前記酸は、1種単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明のチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有フルオレン化合物は、一分子内にチオエポキシ基及び(メタ)アリル基をそれぞれ2個有する化合物であり、(メタ)アリル基の反応性を使用し、Si-Hを含むシロキサン化合物とヒドロシリル化反応を行いポリマー化すれば、チオエポキシ基を有する3次元架橋が可能な構造を有する高分子シリコーン材料を得ることもできるし、チオエポキシ基の反応性を使用し、3次元架橋が可能な構造を有する硬化性材料として使用することもできる。それらの基を利用し、ポリマー化した後、残りの官能基を用いて架橋、硬化が可能である。したがって、本発明のチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有フルオレン化合物は、高い屈折率を有する耐熱性樹脂材料用マクロモノマーとして有用な化合物である。
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されな
い。
い。
[実施例1]
窒素ガス導入管、温度計、ジムロート型コンデンサー、バキュームコントローラー及びアスピレーターを備えた3Lのセパラブルフラスコに、下記式(2-1)
で表される化合物271g(0.5mol)、チオ尿素304g(4mol)、無水酢酸10g、並びに溶媒としてトルエン1000g及びメタノール1000gを仕込み、50℃で8時間反応させた。反応後、トルエンで抽出し、1質量%硫酸水溶液で洗浄し、水洗した後、過剰の溶媒を留去し、272gの生成物を得た。Perkin Elmer社製全自動元素分析装置 2400II CHNS/Oを用いて元素分析を行い、Agilent社製7890Aを用いてGC-MS質量分析を行い、ブルカー社製AV400Mを用いて1H-NMR分析を行い、Thermo Fisher SCIENTIFIC社製Nicolet 6700を用いてFT-IR分析を行った結果、前記生成物は、下記式(1-1)で表される化合物であることを確認した(収率95%)。また、式(1-1)で表される化合物70gにトルエン30gを加えて調製した70質量%トルエン溶液の屈折率を株式会社アタゴ製アッベ屈折計NAR-1T LIQUIDを用いて測定したところ、1.58であり、高屈折化合物であることを確認した。
窒素ガス導入管、温度計、ジムロート型コンデンサー、バキュームコントローラー及びアスピレーターを備えた3Lのセパラブルフラスコに、下記式(2-1)
[実施例2]
式(2-1)で表される化合物のかわりに、下記式(2-2)
で表される化合物285g(0.5mol)を用いた以外は、実施例1と同様の方法で、288gの生成物を得た。Perkin Elmer社製全自動元素分析装置 2400II CHNS/Oを用いて元素分析を行い、Agilent社製7890Aを用いてGC-MS質量分析を行い、ブルカー社製AV400Mを用いて1H-NMR分析を行い、Thermo Fisher SCIENTIFIC社製Nicolet 6700を用いてFT-IR分析を行った結果、前記生成物は、下記式(1-2)で表される化合物であることを確認した(収率96%)。また、式(1-2)で表される化合物70gにトルエン30gを加えて調製した70質量%トルエン溶液の屈折率を株式会社アタゴ製アッベ屈折計NAR-1T LIQUIDを用いて測定したところ、1.58であり、高屈折化合物であることを確認した。
式(2-1)で表される化合物のかわりに、下記式(2-2)
Claims (2)
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022081983A JP2023170317A (ja) | 2022-05-19 | 2022-05-19 | チオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有フルオレン化合物、及びその製造方法 |
PCT/JP2023/017430 WO2023223891A1 (ja) | 2022-05-19 | 2023-05-09 | チオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有フルオレン化合物、及びその製造方法 |
TW112118512A TW202402746A (zh) | 2022-05-19 | 2023-05-18 | 含有硫代環氧基及(甲基)烯丙基之茀化合物、及其之製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022081983A JP2023170317A (ja) | 2022-05-19 | 2022-05-19 | チオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有フルオレン化合物、及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023170317A true JP2023170317A (ja) | 2023-12-01 |
Family
ID=88835262
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022081983A Pending JP2023170317A (ja) | 2022-05-19 | 2022-05-19 | チオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有フルオレン化合物、及びその製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2023170317A (ja) |
TW (1) | TW202402746A (ja) |
WO (1) | WO2023223891A1 (ja) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4873223B2 (ja) * | 2006-02-02 | 2012-02-08 | ナガセケムテックス株式会社 | 新規なエポキシ樹脂 |
JP5890288B2 (ja) * | 2012-09-20 | 2016-03-22 | 信越化学工業株式会社 | 新規有機珪素化合物の製造方法 |
JP6546023B2 (ja) * | 2014-07-22 | 2019-07-17 | 学校法人 関西大学 | エピスルフィド化合物を含む硬化性組成物並びに硬化物及びその製造方法 |
-
2022
- 2022-05-19 JP JP2022081983A patent/JP2023170317A/ja active Pending
-
2023
- 2023-05-09 WO PCT/JP2023/017430 patent/WO2023223891A1/ja unknown
- 2023-05-18 TW TW112118512A patent/TW202402746A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202402746A (zh) | 2024-01-16 |
WO2023223891A1 (ja) | 2023-11-23 |
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