JP2022178868A - チオエポキシ基及び（メタ）アリル基含有化合物及びその製造方法 - Google Patents
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 44
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 title claims abstract description 24
- 125000005068 thioepoxy group Chemical group S(O*)* 0.000 title claims abstract description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 14
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 11
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 10
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 5
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 6
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 abstract description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N hydrogen cyanide Chemical compound N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-N Arsenic acid Chemical compound O[As](O)(O)=O DJHGAFSJWGLOIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229940000488 arsenic acid Drugs 0.000 description 2
- COHDHYZHOPQOFD-UHFFFAOYSA-N arsenic pentoxide Chemical compound O=[As](=O)O[As](=O)=O COHDHYZHOPQOFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWWCURLKEXEFQT-UHFFFAOYSA-N dinitrogen pentaoxide Chemical compound [O-][N+](=O)O[N+]([O-])=O ZWWCURLKEXEFQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- KOUKXHPPRFNWPP-UHFFFAOYSA-N pyrazine-2,5-dicarboxylic acid;hydrate Chemical compound O.OC(=O)C1=CN=C(C(O)=O)C=N1 KOUKXHPPRFNWPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N trioxidane Chemical class OOO JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZBYNWONHYNOB-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylethylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(C)C1CCCCC1 FUZBYNWONHYNOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTAURVAUCOLBHF-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpropan-2-ylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(C)CC1CCCCC1 CTAURVAUCOLBHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFWOEQFASWFTK-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpropylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(CC)C1CCCCC1 ROFWOEQFASWFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAJYARZMPOEGLK-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2-propan-2-ylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C(C)C ZAJYARZMPOEGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyloxan-4-one Chemical compound CC1(C)CC(=O)CC(C)(C)O1 NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCXLOQVMDTWRSP-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylpropan-2-ylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(C)(C)C1CCCCC1 CCXLOQVMDTWRSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIQIPWNPFZCAIQ-UHFFFAOYSA-N 3-cyclohexylpropylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1CCCC1CCCCC1 LIQIPWNPFZCAIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- YHASWHZGWUONAO-UHFFFAOYSA-N butanoyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC(=O)CCC YHASWHZGWUONAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N diphosphonate Chemical compound O=P(=O)OP(=O)=O YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N propionic anhydride Chemical compound CCC(=O)OC(=O)CC WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- -1 siloxane compound Chemical class 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Inorganic materials O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIFJUMGIHIZEPX-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid;sulfur trioxide Chemical compound O=S(=O)=O.OS(O)(=O)=O HIFJUMGIHIZEPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D331/00—Heterocyclic compounds containing rings of less than five members, having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D331/02—Three-membered rings
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
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- C08L81/02—Polythioethers; Polythioether-ethers
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C09D181/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing sulfur, with or without nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on polysulfones; Coating compositions based on derivatives of such polymers
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C09J181/00—Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing sulfur, with or without nitrogen, oxygen, or carbon only; Adhesives based on polysulfones; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J181/02—Polythioethers; Polythioether-ethers
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Abstract
【課題】耐熱性樹脂材料用マクロモノマーとして有用であり、さらに、得られるポリマーの高屈折化が可能な高屈折光学材料としても有用な材料を提供する。【解決手段】下記式（１）で表されるチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物。TIFF2022178868000026.tif3187（式中、Ｒ1は、炭素数２～２０の３価又は４価の炭化水素基である。Ｒ2は、水素原子又はメチル基である。ｎは、３又は４である。）【選択図】なし
Description
本発明は、チオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物及びその製造方法に関する。
従来、(メタ)アリル基とグリシジル基を有する化合物として、特許文献１に記載されたものが知られている。この化合物は、耐熱性等に優れていたが、屈折率が高くなく、高屈折光学材料原料としては不十分であった。
本発明は、前記事情に鑑みなされたもので、耐熱性樹脂材料用マクロモノマーとして有用であり、さらに、得られるポリマーの高屈折化が可能な高屈折光学材料としても有用な材料を提供することを目的とする。
本発明者は、前記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、下記式（２）
（式中、Ｒ1は、炭素数２～２０の３価又は４価の炭化水素基である。Ｒ2は、水素原子又はメチル基である。ｎは、３又は４である。）
で表されるグリシジル基及び(メタ)アリル基含有化合物と、チオ尿素又はチオシアン酸塩とを反応させることで、下記式（１）
（式中、Ｒ1は、炭素数２～２０の３価又は４価の炭化水素基である。Ｒ2は、水素原子又はメチル基である。ｎは、３又は４である。）
で表される、チオエポキシ基と(メタ)アリル基を１分子内にそれぞれ３つ以上有する化合物が得られることを知見し、本発明をなすに至った。
で表されるグリシジル基及び(メタ)アリル基含有化合物と、チオ尿素又はチオシアン酸塩とを反応させることで、下記式（１）
で表される、チオエポキシ基と(メタ)アリル基を１分子内にそれぞれ３つ以上有する化合物が得られることを知見し、本発明をなすに至った。
したがって、本発明は、下記チオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物及びその製造方法を提供する。
１．下記式（１）で表されるチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物。
（式中、Ｒ1は、炭素数２～２０の３価又は４価の炭化水素基である。Ｒ2は、水素原子又はメチル基である。ｎは、３又は４である。）
２．Ｒ1が、炭素数２～１５の３価又は４価の炭化水素基である請求項１記載のチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物。
３．下記式（２）で表されるグリシジル基及び(メタ)アリル基含有化合物と、チオ尿素又はチオシアン酸塩とを反応させる、下記式（１）で表されるチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物の製造方法。
（式中、Ｒ1は、炭素数２～２０の３価又は４価の炭化水素基である。Ｒ2は、水素原子又はメチル基である。ｎは、３又は４である。）
（式中、Ｒ1は、炭素数２～２０の３価又は４価の炭化水素基である。Ｒ2は、水素原子又はメチル基である。ｎは、３又は４である。）
１．下記式（１）で表されるチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物。
２．Ｒ1が、炭素数２～１５の３価又は４価の炭化水素基である請求項１記載のチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物。
３．下記式（２）で表されるグリシジル基及び(メタ)アリル基含有化合物と、チオ尿素又はチオシアン酸塩とを反応させる、下記式（１）で表されるチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物の製造方法。
本発明のチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物は、(メタ)アリル基を利用したポリマー化及びチオエポキシ環を利用したポリマー化の双方が可能であり、それぞれの官能基を１分子内に３つ以上有することから、得られるポリマーは３次元架橋構造を有することができる。また、それらを利用したポリマー化後の架橋、硬化が可能であり、得られるポリマーは、強度、耐熱性、耐候性及び耐水性が良好となる。本発明のチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物は、耐熱性樹脂材料用マクロモノマーとして有用な化合物である。さらに、本発明のチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物は、チオエポキシ基を有していることから、得られるポリマーの高屈折化が可能であり、高屈折光学材料として有用な材料として期待できる。
本発明のチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物は、下記式（１）で表されるものである。
式（１）中、Ｒ1は、炭素数２～２０の３価又は４価の炭化水素基である。Ｒ2は、水素原子又はメチル基である。ｎは、３又は４である。
前記炭素数２～２０の３価又は４価の炭化水素基は、飽和でも不飽和でもよく、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。その具体例としては、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、これらの構造異性体等のアルカン；シクロペンタン、シクロヘキサン、ビシクロへキシル、ジシクロへキシルメタン、１,１－ジシクロへキシルエタン、１,２－ジシクロへキシルエタン、１,１－ジシクロへキシルプロパン、１,２－ジシクロへキシルプロパン、１,３－ジシクロへキシルプロパン、２,２－ジシクロへキシルプロパン等の環式飽和炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルイソプロピルベンゼン等の芳香族炭化水素から３又は４個の水素原子を取り除いて得られる基が挙げられる。
Ｒ1としては、炭素数２～１５の３価又は４価の炭化水素基が好ましく、特に以下に示す基が好ましい。
（式中、破線は、結合手である。）
式（１）で表される化合物としては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。
式（１）で表される化合物は、下記式（２）で表されるグリシジル基及び(メタ)アリル基含有化合物と、チオ尿素又はチオシアン酸塩とを反応させることで合成することができる。
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びｎは、前記と同じである。）
式（２）で表される化合物としては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。
式（２）で表される化合物とチオシアン酸塩又はチオ尿素との反応における反応温度は、任意であるが、通常０～１００℃あり、好ましくは２０～７０℃である。反応時間は、反応が完結する時間であれば特に限定されないが、通常２０時間以下が適当である。
チオシアン酸塩及びチオ尿素は、化学量論的にはエポキシ化合物のエポキシ基の物質量に対応する物質量を使用するが、生成物の純度、反応速度、経済性等を重視するのであれば、これ以下の量を使用してもよく、これ以上の量を使用してもよい。好ましくは、エポキシ化合物のエポキシ基１モルに対し、チオシアン酸塩及びチオ尿素を、０モルを超え５モル以下程度、より好ましくは０.９～５.０モル程度、更に好ましくは１.０～３.０モル程度を使用し、反応させる。
反応は、無溶媒で行ってもよく、溶媒中で行ってもよい。溶媒を使用するときは、チオシアン酸塩又はチオ尿素及び式（２）で表される化合物のいずれかが可溶なものを使用することが好ましい。具体例としては、水、メタノール、エタノール等のアルコール類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のヒドロキシエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。また、これらの溶媒の混合溶媒でもよく、例えば、アルコール類と水との混合溶媒、エーテル類、ヒドロキシエーテル類、ハロゲン化炭化水素類又は芳香族炭化水素類とアルコール類との混合溶媒等は、効果的な場合がある。
また、反応液中に、重合抑制剤を添加することは、反応成績を上げることから有効である。前記重合抑制剤としては、酸、酸無水物等が挙げられる。前記酸及び酸無水物等の具体例としては、硝酸、塩酸、硫酸、発煙硫酸、ホウ酸、ヒ酸、リン酸、シアン化水素酸、酢酸、過酢酸、チオ酢酸、シュウ酸、酒石酸、プロピオン酸、酪酸、コハク酸、マレイン酸、安息香酸、無水硝酸、無水硫酸、酸化ホウ素、五酸化ヒ酸、五酸化燐、無水クロム酸、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水安息香酸、無水フタル酸、シリカゲル、シリカアルミナ、塩化アルミニウム等が挙げられる。前記重合抑制剤を添加する場合、その添加量は、通常、反応液総量中、０.００１～１０質量％が好ましく、０.０１～１質量％がより好ましい。前記重合抑制剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
反応生成物は、酸性水溶液を用いて洗浄することで、得られる化合物の安定性を向上させることが可能である。前記酸性水溶液に用いる酸の具体例としては、硝酸、塩酸、硫酸、ホウ酸、ヒ酸、リン酸、シアン化水素酸、酢酸、過酢酸、チオ酢酸、シュウ酸、酒石酸、コハク酸、マレイン酸等が挙げられる。また、これらは単独でも２種類以上を混合して用いてもよい。前記酸性水溶液は、通常ｐＨ６以下で効果を発揮するが、ｐＨ１～５がより効果的である。前記酸は、１種単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明のチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物は、チオエポキシ基と(メタ)アリル基を１分子中にそれぞれ３個以上持つ化合物であり、(メタ)アリル基の反応性を使用し、Ｓｉ－Ｈを含むシロキサン化合物とヒドロシリル化反応を行いポリマー化すれば、チオエポキシ基を持った３次元架橋構造を有する高分子シリコーン材料を得ることもできるし、チオエポキシ基の反応性を使用し、３次元架橋構造を有する硬化性材料として使用することもできる。それらの基を利用し、ポリマー化した後、残りの官能基を用いて架橋、硬化が可能である。したがって、本発明のチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物は、耐熱性樹脂材料用マクロモノマーとして有用な化合物である。
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されない。
［実施例１］
窒素ガス導入管、温度計、ジムロート型コンデンサー、バキュームコントローラー及びアスピレーターを備えた３Ｌのセパラブルフラスコに、下記式（２－１）
で表される化合物２９７ｇ（０.５ｍｏｌ）、チオ尿素３０４ｇ（４ｍｏｌ）、無水酢酸１０ｇ、並びに溶媒としてトルエン１,０００ｇ及びメタノール１,０００ｇを仕込み、５０℃で８時間反応させた。反応後、トルエンで抽出し、１質量％硫酸水溶液で洗浄し、水洗した後、過剰の溶媒を留去し、３０５ｇの生成物を得た。Perkin Elmer社製全自動元素分析装置 2400II CHNS/Oを用いて元素分析を行い、Agilent社製 7890Aを用いてGC-MS質量分析を行った結果、分子量は、６４２であることを確認した。Bruker社製AV400Mを用いて1H-NMR分析を行い、Thermo Fisher Scientific社製Nicolet 6700を用いてFT-IR分析を行った結果、前記生成物は、式（１－１）で表される化合物であることを確認した（収率９５％）。
窒素ガス導入管、温度計、ジムロート型コンデンサー、バキュームコントローラー及びアスピレーターを備えた３Ｌのセパラブルフラスコに、下記式（２－１）
［実施例２］
式（２－１）で表される化合物のかわりに、下記式（２－２）
で表される化合物３２１ｇ（０.５ｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、２２３ｇの生成物を得た。Perkin Elmer社製全自動元素分析装置 2400II CHNS/Oを用いて元素分析を行い、Agilent社製 7890Aを用いてGC-MS質量分析を行った結果、分子量は、６９０であることを確認した。Bruker社製AV400Mを用いて1H-NMR分析を行い、Thermo Fisher Scientific社製Nicolet 6700を用いてFT-IR分析を行った結果、前記生成物は、式（１－２）で表される化合物であることを確認した（収率９２％）。
式（２－１）で表される化合物のかわりに、下記式（２－２）
［実施例３］
式（２－１）で表される化合物のかわりに、下記式（２－３）
で表される化合物４５７ｇ（０.５ｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、４５５ｇの生成物を得た。Perkin Elmer社製全自動元素分析装置 2400II CHNS/Oを用いて元素分析を行い、Bruker社製AV400Mを用いて1H-NMR分析を行い、Thermo Fisher Scientific社製Nicolet 6700を用いてFT-IR分析を行った結果、前記生成物は、式（１－３）で表される化合物であることを確認した（収率９３％）。
式（２－１）で表される化合物のかわりに、下記式（２－３）
実施例１～３で得られた化合物、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂jER828、フェノール硬化剤及び触媒としてトリフェニルホスフィン（ＴＰＰ）を用い、１７５℃にて２時間硬化し、架橋樹脂を作製した。得られた樹脂の屈折率を測定した結果、各架橋樹脂は、１.６５～１.７０と高屈折率を示すことを確認した。また、樹脂の弾性率は２,０００～３,０００ＭＰａであり、曲げ強度は１００～１５０ＭＰａと高いことが確認できた。さらに、２５０℃耐熱テストを行った結果、これらの架橋樹脂は、全く問題なく、高い耐熱性を示すことを確認した。
Claims (3)
- 下記式（１）で表されるチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物。
- Ｒ1が、炭素数２～１５の３価又は４価の炭化水素基である請求項１記載のチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物。
- 下記式（２）で表されるグリシジル基及び(メタ)アリル基含有化合物と、チオ尿素又はチオシアン酸塩とを反応させる、下記式（１）で表されるチオエポキシ基及び(メタ)アリル基含有化合物の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021085967A JP2022178868A (ja) | 2021-05-21 | 2021-05-21 | チオエポキシ基及び（メタ）アリル基含有化合物及びその製造方法 |
| EP22804441.8A EP4342888A1 (en) | 2021-05-21 | 2022-03-31 | Thioepoxy group- and (meth)allyl group-containing compound, and method for producing same |
| KR1020237043314A KR20240012447A (ko) | 2021-05-21 | 2022-03-31 | 티오에폭시기 및 (메타)알릴기 함유 화합물 및 그 제조 방법 |
| CN202280035454.5A CN117295723A (zh) | 2021-05-21 | 2022-03-31 | 含有硫代环氧基和（甲基）烯丙基的化合物及其制造方法 |
| PCT/JP2022/016405 WO2022244525A1 (ja) | 2021-05-21 | 2022-03-31 | チオエポキシ基及び（メタ）アリル基含有化合物及びその製造方法 |
| TW111118629A TW202313583A (zh) | 2021-05-21 | 2022-05-19 | 含有硫環氧基及（甲基）烯丙基的化合物及其製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021085967A JP2022178868A (ja) | 2021-05-21 | 2021-05-21 | チオエポキシ基及び（メタ）アリル基含有化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022178868A true JP2022178868A (ja) | 2022-12-02 |
Family
ID=84141246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021085967A Pending JP2022178868A (ja) | 2021-05-21 | 2021-05-21 | チオエポキシ基及び（メタ）アリル基含有化合物及びその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP4342888A1 (ja) |
| JP (1) | JP2022178868A (ja) |
| KR (1) | KR20240012447A (ja) |
| CN (1) | CN117295723A (ja) |
| TW (1) | TW202313583A (ja) |
| WO (1) | WO2022244525A1 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3378522A (en) * | 1961-11-29 | 1968-04-16 | Shell Oil Co | Epithio compounds, their preparation and polymers |
| JP4651768B2 (ja) * | 1999-12-27 | 2011-03-16 | 新日鐵化学株式会社 | 新規な芳香族エピスルフィド化合物、これを含有する組成物及び硬化物 |
| JP6763293B2 (ja) | 2016-01-07 | 2020-09-30 | 信越化学工業株式会社 | アリール化合物及びその製造方法 |
-
2021
- 2021-05-21 JP JP2021085967A patent/JP2022178868A/ja active Pending
-
2022
- 2022-03-31 EP EP22804441.8A patent/EP4342888A1/en active Pending
- 2022-03-31 CN CN202280035454.5A patent/CN117295723A/zh active Pending
- 2022-03-31 KR KR1020237043314A patent/KR20240012447A/ko unknown
- 2022-03-31 WO PCT/JP2022/016405 patent/WO2022244525A1/ja active Application Filing
- 2022-05-19 TW TW111118629A patent/TW202313583A/zh unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN117295723A (zh) | 2023-12-26 |
| WO2022244525A1 (ja) | 2022-11-24 |
| EP4342888A1 (en) | 2024-03-27 |
| TW202313583A (zh) | 2023-04-01 |
| KR20240012447A (ko) | 2024-01-29 |
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