JP2014047207A - 新規有機珪素化合物及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、耐熱性、耐水性、耐候性、電気特性等に優れた樹脂として使用可能なポリマーを得ることができる。
前述のように、末端にエポキシ基とアリル基を有するフルオレン化合物を有するジメチルポリシロキサン化合物及びその製造方法の開発が望まれていた。
本発明の新規のフルオレン化合物を有するジメチルポリシロキサン化合物は、下記一般式(1)で示される、末端にアリル基とエポキシ基を有するフルオレン化合物を有するジメチルポリシロキサン化合物である。
たとえば、白金化合物として、白金ジビニルシロキサン、白金環状ビニルメチルシロキサン、トリス(ジベンジリデンアセトン)二白金、塩化白金酸、ビス(エチレン)テトラクロロ二白金、シクロオクタジエンジクロロ白金、ビス(シクロオクタジエン)白金、ビス(ジメチルフェニルホスフィン)ジクロロ白金、テトラキス(トリフェニルホスフィン)白金、白金カーボン等があげられる。
一般式(2)の化合物とエピクロルヒドリンとのモル比も任意であるが、一般式(2)に対してエピクロルヒドリンを大過剰に使用すれば、エポキシ基と一般式(2)の化合物におけるフェノール基とが反応し、連鎖となる成分を含むことなく一般式(1)の化合物を得ることができる。
[実施例1]
窒素ガス導入管、温度計、ジムロート型コンデンサー及び滴下漏斗を備えた1リットルのセパラブルフラスコに、構造式(a)
熟成終了後、ガスクロマトグラフ分析を行い、テトラメチルジシロキサン残存量が2%以下となったことを確認した。
上記の反応生成物をロータリーエバポレーターを使用して、80℃/0.6kPaにて減圧濃縮したところ、淡褐色固体240gが得られた。このものの赤外線吸収スペクトル分析及び、1H核磁気共鳴スペクトル分析を行い、下記構造式(C)に示すような末端にアリル基とフェノール基を有するフルオレン化合物を有するジメチルポリシロキサン化合物が得られたことを確認した。
実施例1における構造式(a)
実施例1におけるテトラメチルジシロキサンのかわりに、構造式(i)
窒素ガス導入管、温度計、ジムロート型コンデンサー及び滴下漏斗を備えた1リットルのセパラブルフラスコに、実施例1で得られた下記構造式(C)
実施例4における下記構造式(C)
Claims (4)
- 前記一般式のmが0であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のジメチルポリシロキサン化合物。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104277225B (zh) * | 2014-10-08 | 2017-01-25 | 江苏苏博特新材料股份有限公司 | 一种提升抗滑系数的有机硅树脂、其制备方法及其应用 |
KR101861917B1 (ko) * | 2016-04-14 | 2018-05-28 | 삼성에스디아이 주식회사 | 에폭시 화합물, 이를 포함하는 반도체 밀봉용 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용하여 밀봉된 반도체 장치 |
TWI640499B (zh) * | 2017-01-19 | 2018-11-11 | 日商杰富意化學股份有限公司 | 亞茀基二烯丙基苯酚類之製造方法及亞茀基二烯丙基苯酚類 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003048988A (ja) * | 2001-08-06 | 2003-02-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 |
JP2004075769A (ja) * | 2002-08-13 | 2004-03-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
JP2007204635A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Nagase Chemtex Corp | 新規なエポキシ樹脂 |
JP2011094115A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-05-12 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | エポキシ基含有高分子化合物、これを用いた光硬化性樹脂組成物、パターン形成方法及び電気・電子部品保護用皮膜 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003048988A (ja) * | 2001-08-06 | 2003-02-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 |
JP2004075769A (ja) * | 2002-08-13 | 2004-03-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
JP2007204635A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Nagase Chemtex Corp | 新規なエポキシ樹脂 |
JP2011094115A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-05-12 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | エポキシ基含有高分子化合物、これを用いた光硬化性樹脂組成物、パターン形成方法及び電気・電子部品保護用皮膜 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104277225B (zh) * | 2014-10-08 | 2017-01-25 | 江苏苏博特新材料股份有限公司 | 一种提升抗滑系数的有机硅树脂、其制备方法及其应用 |
KR101861917B1 (ko) * | 2016-04-14 | 2018-05-28 | 삼성에스디아이 주식회사 | 에폭시 화합물, 이를 포함하는 반도체 밀봉용 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용하여 밀봉된 반도체 장치 |
TWI640499B (zh) * | 2017-01-19 | 2018-11-11 | 日商杰富意化學股份有限公司 | 亞茀基二烯丙基苯酚類之製造方法及亞茀基二烯丙基苯酚類 |
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