JP5913208B2

JP5913208B2 - 新規フルオレン化合物及びその製造方法

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Publication number: JP5913208B2
Application number: JP2013125976A
Authority: JP
Inventors: 柳澤　秀好; 秀好柳澤
Original assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Current assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date: 2012-09-04
Filing date: 2013-06-14
Publication date: 2016-04-27
Anticipated expiration: 2033-06-14
Also published as: KR20140092204A; TWI592404B; KR101819186B1; US9006465B2; TW201412725A; US20140066636A1; JP2014065701A

Description

本発明は、分子内にメタリル基を持った新規なフルオレン化合物に関する。

従来、アリル基とエポキシ基を持ったフルオレン化合物としては、特許文献１で開示されているような下記一般式（Ｘ）で表される化合物が機能性エポキシ樹脂として知られているが、この化合物は、不飽和結合がアリル基であることから、Ｓｉ−Ｈを持った有機珪素化合物とヒドロシリル化反応を行った際、位置選択性が悪い為、内部に付加したβ付加体が生成し、この内部付加した部分は耐熱性に劣ることから化合物の耐熱性が悪いという問題があった。

特許第４８７３２２３号公報

本発明は、上記問題に鑑みなされたものであって、Ｓｉ−Ｈ含有有機珪素化合物とヒドロシリル化する際の位置選択性に優れ、内部に付加したβ付加体生成量が少ない化合物となる為、有機珪素化合物の耐熱性を向上させることが可能な分子内にメタリル基を持った新規なフルオレン化合物およびその製造方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、本発明では、下記一般式（１）で示される、分子内にメタリル基を持った新規なフルオレン化合物を提供する。

（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示す。）

このように、メタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物であれば、Ｓｉ−Ｈ含有有機珪素化合物とヒドロシリル化する際の位置選択性に優れ、内部に付加したβ付加体生成量が少ない化合物となる。

また、本発明は前記メタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物の製造方法であって、少なくとも下記一般式（２）で示される、メタリル基を有するフルオレン化合物と、エピクロルヒドリンとを反応させ、下記一般式（１）で示される化合物を得ることを特徴とするフルオレン化合物の製造方法を提供する。

（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示す。）

（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示す。）

このような、製造方法であれば、新規のフルオレン化合物であるメタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物を収率よく製造することができる。

また、本発明では、上記本発明のフルオレン化合物と、Ｓｉ−Ｈ含有有機珪素化合物を触媒下、ヒドロシリル化反応させることにより、シロキサン導入フルオレン化合物を製造することを特徴とするシロキサン導入フルオレン化合物の製造方法を提供する。

このような製造方法であれば、得られるシロキサン導入フルオレン化合物が内部に付加したβ付加体生成量が少ない化合物となる為好ましい。

また、本発明では、下記一般式（２）で示される、メタリル基を有するフルオレン化合物を提供する。

（Ｒは水素原子又はメチル基を示す。）

このようなメタリル基を有するフルオレン化合物であれば、Ｓｉ−Ｈ含有有機珪素化合物とヒドロシリル化する際、位置選択性に優れたメタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物を得ることができる。

以上説明したように、本発明のメタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物は、従来知られているアリル基を持ったフルオレン化合物に比較し、Ｓｉ−Ｈ含有有機珪素化合物とヒドロシリル化する際の位置選択性に優れ、内部に付加したβ付加体生成量が少ない化合物となる為、有機珪素化合物の耐熱性の向上が期待できるため有用な化合物であり、その製造方法により、メタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物を収率よく製造することができる。

以下、本発明についてより詳細に説明する。
前述のように、Ｓｉ−Ｈ含有有機珪素化合物とヒドロシリル化する際の位置選択性に優れ、内部に付加したβ付加体生成量が少ない、メタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物の開発が望まれていた。

そこで、本発明者らは、上記目的を達成すべく、鋭意検討を重ねた。
その結果、本発明者らは、下記一般式（２）

で表されるメタリル基含有フルオレン化合物を作製し、該化合物にエピクロルヒドリンを反応させることで、下記一般式（１）

で表される新規なメタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物が得られるとともに、この化合物がＳｉ−Ｈ含有有機珪素化合物とヒドロシリル化を行った際、位置選択性に優れ、内部に付加したβ付加体生成量が少ない化合物となることを見出し、この為、得られた有機珪素化合物の耐熱性、耐水性、耐候性、電気特性等に優れる化合物となることが期待される化合物となることを知見し、本発明をなすに至った。一般式（２）の化合物に対してエピクロルヒドリンの使用量を下げると、エポキシ基と一般式(２)の化合物におけるフェノール基とが反応し、連鎖となる成分も含まれるが、この成分が本発明を妨げるものではない。

以下、本発明について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明のメタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物は、下記一般式（１）で表される、新規なメタリル基を有し、エポキシ基を含有するフルオレン化合物である。下記一般式（１）において、Ｒは水素原子又はメチル基を示している。

このような一般式（１）で示される化合物としては、下記のものを代表例として例示することができる。

このような本発明のメタリル基を持ったエポキシ基含有フルオレン化合物は、上述したように一般式（２）で表されるメタリル基を有するフルオレン化合物にエピクロルヒドリンを反応させて得られるものである。

上記式（２）において、Ｒは水素原子又はメチル基を示している。

このような一般式（２）で示される化合物としては、下記のものを代表例として例示することができる。

この一般式（２）の化合物は、公知の４，４’−（９−フルオレニリデン）ジフェノール１モルに塩基化合物の存在下、ハロゲン化メタリルを２〜１０モル、好ましくは２〜５モル作用させ、４，４’−（９−フルオレニリデン）ジフェノールのジメタリルエーテルとし、これをクライゼン転位反応することで得ることが出来る。

上記ハロゲン化メタリルは、塩化メタリル、臭化メタリル、フッ化メタリルのいずれかを用いれば良く、塩化メタリル、臭化メタリルが好ましい。

塩基化合物としては、金属水酸化物（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム等）、炭酸アルカリ（炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）や金属アルコキシド、アンモニウム塩等が上げられる。塩基性化合物は、原料となるフルオレン化合物１モルに対し２〜１０モル、好ましくは２〜５モルである。

また、溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、ベンゼン、キシレン等の芳香族類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性溶媒等公知の溶媒が使用される。反応温度として、１０〜１００℃であり、１〜１００時間程度反応させてエーテル化物を得る。その後、得られたエーテル化物を３０〜３００℃、好ましくは５０〜２５０℃で３〜５０時間加熱を行うことで、クライゼン転位反応させて、使用した溶媒を留去することで一般式（２）の化合物を得ることができる。

このようにして得た一般式（２）の化合物とエピクロルヒドリンとを反応させることで、本発明の一般式（１）のメタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物を得ることが出来、その方法は、当該分野で知られている方法を応用することができる。

一般式（２）の化合物とエピクロルヒドリンとの反応における反応温度は、任意ではあるが、通常５０〜１２０℃にて行えばよく、反応時間は、３〜３０時間程度である。

一般式（２）の化合物とエピクロルヒドリンとのモル比も任意ではあるが、一般式（２）に対してエピクロルヒドリンを大過剰に使用することで、一般式（１）の化合物を得ることが出来る。一般式（２）に対してエピクロルヒドリンの使用量を下げるとエポキシ基と一般式(２)の化合物におけるフェノール基とが反応し、連鎖となる成分も含まれているが、この成分が本発明を妨げるものではない。

一般式（２）１モルに対するエピクロルヒドリンの使用量は、通常１．０〜３０モル、好ましくは２．０〜２０モル、より好ましくは３．０〜１５モルである。

一般式（１）の化合物を得る反応の際、触媒の使用は任意であり、通常は、アルカリ金属水酸化物が使用される。アルカリ金属水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。アルカリ金属水酸化物の添加方法は、固形物として添加しても良く、また、水溶液として添加しても良い。アルカリ金属水酸化物の使用量としては、フェノール性水酸基１当量に対して０．０１〜０．２モルが好ましい。

アルカリ金属水酸化物の固形物を使用する際、これらは１種のみまたは組み合わせて用いることが出来、分割または連続的に系内に添加すればよい。また、アルカリ金属水酸化物の水溶液を用いる際は、アルカリ金属水酸化物の水溶液から持ち込まれる水が多くなるため、反応中、系内から水を除去する必要がある。

反応する際、溶媒としては、エピクロルヒドリンを大過剰に加え、反応溶媒として使用することも可能であるが、さらに他の溶媒の使用も任意であり、その際は、非プロトン性極性溶媒の使用が好ましい。非プロトン性極性溶媒としては、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，４−ジオキサン等が挙げられる。非プロトン性極性溶媒の使用量はエピクロルヒドリンの重量に対し通常５〜２００重量％、好ましくは１０〜１５０重量％である。

また、反応に際してテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライドなどの第四級アンモニウム塩を触媒として使用することもできる。この場合の第四級アンモニウム塩の使用量は一般式（２）の化合物の水酸基１当量に対して通常０．００１〜０．２モル、好ましくは０．０５〜０．１モルである。

これらの反応生成物は水洗後、または水洗無しに加熱減圧下過剰のエピクロルヒドリンや、その他使用した溶媒等を除去することで本発明の化合物を得ることが出来る。また、加熱減圧下過剰のエピクロルヒドリンや、その他使用した溶媒等を除去した後、トルエン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン等の溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて再び反応を行うことにより全ハロゲン量の低いエポキシ樹脂を得ることが出来る。反応終了後副生した塩をろ過、水洗などにより除去し、さらに加熱減圧下トルエン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン等の溶媒を留去することにより本発明の化合物を得ることができる。

本発明の化合物は、末端にメタリル基とエポキシ基を持った新規なフルオレン化合物であり、メタリル基を使用し、Ｓｉ−Ｈ含有の有機珪素化合物とヒドロシリル化反応を行うことができる。

Ｓｉ−Ｈ含有の有機珪素化合物としては、特に限定されないが、トリメトキシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリエチルシラン等のヒドロシラン類、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、α，ω−ジヒドロジメチルポリシロキサン、α，ω−ジヒドロメチルフェニルポリシロキサン等の両末端Ｓｉ−Ｈ含有ジメチルポリシロキサン、１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１，１，１，３，３，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン等の片末端Ｓｉ−Ｈ含有ジメチルポリシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン等の側鎖Ｓｉ−Ｈ含有ジメチルポリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサメチル−３−フェニルトリシロキサン等の側鎖Ｓｉ−Ｈ含有メチルフェニルポリシロキサン、２，４，６−トリメチルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラメチルシクロテトラシロキサン等のＳｉ−Ｈ含有環状ポリシロキサン、Ｓｉ−Ｈ含有分岐ポリシロキサン、Ｓｉ−Ｈ含有メチルシリコーンレジン、Ｓｉ−Ｈ含有メチルフェニルシリコーンレジン、Ｓｉ−Ｈ含有シルフェニレン化合物、Ｓｉ−Ｈ含有シルアルキレン化合物等が挙げられる。また、本発明の化合物とＳｉ−Ｈ含有有機珪素化合物とでヒドロシリル化反応を行う際、他のビニル含有化合物と共反応させることも任意である。他のビニル化合物の例としては、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、α，ω−ジビニルジメチルポリシロキサン、α，ω−ジビニルメチルフェニルポリシロキサン等の両末端ビニル含有ジメチルポリシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−ビニルトリシロキサン等の側鎖ビニル含有ジメチルポリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサメチル−３−ビニル−３−フェニルトリシロキサン等の側鎖ビニル含有メチルビニルフェニルポリシロキサン、２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリビニルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラメチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン等のビニル含有環状ポリシロキサン、ビニル含有分岐ポリシロキサン、メチルビニルシリコーンレジン、メチルビニルフェニルシリコーンレジン等が挙げられる。

Ｓｉ−Ｈ含有有機珪素化合物とヒドロシリル化反応する際、触媒としては、例えば白金（白金黒を含む）、ロジウム、パラジウム等の白金族金属単体；Ｈ_２ＰｔＣｌ_４・ｘＨ_２Ｏ、Ｈ_２ＰｔＣｌ_６・ｘＨ_２Ｏ、ＮａＨＰｔＣｌ_６・ｘＨ_２Ｏ、ＫＨＰｔＣｌ_６・ｘＨ_２Ｏ、Ｎａ_２ＰｔＣｌ_６・ｘＨ_２Ｏ、Ｋ_２ＰｔＣｌ_４・ｘＨ_２Ｏ、ＰｔＣｌ_４・ｘＨ_２Ｏ、ＰｔＣｌ_２、Ｎａ_２ＨＰｔＣｌ_４・ｘＨ_２Ｏ（式中、ｘは０〜６の整数が好ましく、特に０又は６が好ましい。）等の塩化白金、塩化白金酸及び塩化白金酸塩；アルコール変性塩化白金酸（米国特許第３，２２０，９７２号明細書）；塩化白金酸とオレフィンとの錯体（米国特許第３，１５９，６０１号明細書、米国特許第３，１５９，６６２号明細書、米国特許第３，７７５，４５２号明細書）；白金黒やパラジウム等の白金族金属をアルミナ、シリカ、カーボン等の担体に担持させたもの；ロジウム−オレフィン錯体；クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（所謂ウィルキンソン触媒）；塩化白金、塩化白金酸又は塩化白金酸塩とビニル基含有シロキサン（特にビニル基含有環状シロキサン）との錯体等が挙げられる。その使用量は触媒量であり、通常、白金族金属として反応生成物の総量に対して０．００１〜０．１質量％であることが好ましい。

上記ヒドロシリル化反応においては、必要に応じて溶剤を使用してもよい。溶剤としては、例えばトルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶剤、アセトニトリル等が挙げられ、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤の使用が好ましい。上記反応条件として、触媒が失活せず、かつ、短時間で反応の完結が可能という観点から、反応温度は、例えば４０〜１５０℃、特に６０〜１２０℃が好ましい。反応時間は、反応生成物の種類及び量にもよるが、およそ０．５〜１００時間、特に０．５〜３０時間で終了するのが好ましい。このようにしてヒドロシリル化反応を終了後、溶剤を使用した場合はこれを留去すればよい。

本発明の化合物を用いた場合、従来知られた化合物であるアリル基を持ったフルオレン化合物に比較し、珪素が結合する位置選択性に優れ、内部に付加したβ付加体生成量が少ない化合物となる為、得られた有機珪素化合物の耐熱性の向上が期待できることから有用な化合物である。

以下、実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
［合成例１］
窒素ガス導入管、温度計、ジムロート型コンデンサー及び滴下漏斗を備えた２リットルのセパラブルフラスコに、４，４’−（９−フルオレニリデン）ジフェノール１７５．２ｇ（０．５モル）、炭酸カリウム１３９．６ｇ（１．０１モル）、塩化メタリル１０８．７ｇ（１．２モル）、および脱水アセトン１０００ｇを仕込んで４０時間、加熱還流した。終了後、反応液をろ過して残渣をアセトン８００ｇで洗浄した。ろ液と洗液を合わせてアセトンを留去した。濃縮物にトルエン１０００ｇを加えて溶解し、１０００ｇの水で２回洗浄した。トルエン溶液に無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、次いでトルエンを留去したところ、２１８．４ｇの固体が得られた。赤外線吸収スペクトル分析及び、１Ｈ核磁気共鳴スペクトル分析し、４，４’−（９−フルオレニリデン）ジフェノールのジメタリルエーテルであることを確認した。収率は、９５．３％であった。続いて、４，４’−（９−フルオレニリデン）ジフェノールのジメタリルエーテル２１０ｇ（０．４６モル）をＮ，Ｎ−ジエチルアニリン３５０ｇに溶解して系内を窒素で置換した。反応温度１５０℃で２０時間反応し、溶媒を減圧下で留去したところ、２０５．６ｇの固体が得られた。赤外線吸収スペクトル分析及び、１Ｈ核磁気共鳴スペクトル分析で分析し、一般式（３）である４，４’−（９−フルオレニリデン）ジメタリルフェノールであることを確認した。
［実施例１］
窒素ガス導入管、温度計、ジムロート型コンデンサー及び滴下漏斗を備えた２リットルのセパラブルフラスコに、下記構造式（３）で表される化合物２２９ｇ（０．５ｍｏｌ）をエピクロルヒドリン６９４ｇ（７．５ｍｏｌ）に溶解し、さらにテトラメチルアンモニウムクロライド１．１ｇを加え、１００℃にて５時間攪拌した。

次に、減圧下（２０ｋＰａ）、７０℃にて４０％水酸化ナトリウム水溶液１１０ｇを３時間かけて滴下した。その間、生成する水をエピクロルヒドリンとの共沸により系外に除き、留出したエピクロルヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、さらに３０分間反応を継続した。その後、濾過により生成した塩を取り除き、さらに水洗した後、エピクロルヒドリンを留去したところ、無色の固体２３８ｇを得た。このものの赤外線吸収スペクトル分析及び、１Ｈ核磁気共鳴スペクトル分析を行い、下記構造式（４）で示される、本発明のメタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物であることを確認した。

［実施例２］
実施例１における下記構造式（３）

で表される不飽和基含有化合物のかわりに、合成例１と同様な方法で、２，２’−ジメチル−４，４’−（９−フルオレニリデン）ジフェノールを用いて下記構造式（５）

で表される不飽和基含有化合物を２４３ｇ（０．５ｍｏｌ）とした他は実施例１と同様の反応を行い、後処理を行ったところ、無色固体２４３ｇが得られた。このものの赤外線吸収スペクトル分析及び、１Ｈ核磁気共鳴スペクトル分析を行い、下記構造式（６）で示される、本発明のメタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物であることを確認した。

［合成例２］
窒素ガス導入管、温度計、ジムロート型コンデンサー及び滴下漏斗を備えた１リットルのセパラブルフラスコに、実施例１で得られた下記構造式（４）で示される

メタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物１４３ｇ（０．２５ｍｏｌ）、トルエン２００ｇ、白金換算濃度で２重量％であるトリス（１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチル−ジシロキサン）−二白金（０）（Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒）０．０５ｇを仕込み、７５℃にて、ペンタメチルジシロキサン７４ｇ（０．５ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。この滴下には３０分を要した。滴下終了後、７５℃にて５時間熟成を続けた。
熟成終了後、ガスクロマトグラフ分析を行い、ペンタメチルジシロキサン残存量が２％以下となったことを確認した。
このものをロータリーエバポレーターにより、８０℃／０．６ｋＰａにて減圧濃縮したところ、無色固体２１０ｇが得られた。このものの赤外線吸収スペクトル分析及び、１Ｈ核磁気共鳴スペクトル分析を行った結果、メタリル基部分とＳｉ−Ｈとが反応しシロキサンが導入されたフルオレン化合物、下記構造式（７）

が得られたことを確認した。このものを１Ｈ核磁気共鳴スペクトル分析にて解析するとα付加体の純度は９８％であり、下記構造式（８）

で表される異性体（β付加体）は、２％が生成したに過ぎないことを確認した。

［比較例１］
合成例２にして使用した下記構造式（４）

の代わりに、下記構造式（９）

で表される不飽和基含有化合物１３６ｇ（０．２５ｍｏｌ）とした他は同様に反応を行い無色固体２０２ｇが得られた。このものの赤外線吸収スペクトル分析及び、１Ｈ核磁気共鳴スペクトル分析を行った結果、アリル基部分とＳｉ−Ｈとが反応しシロキサンが導入されたフルオレン化合物、下記構造式（１０）

が得られたが、このものの純度を１Ｈ核磁気共鳴スペクトル分析にて解析すると、このα付加体が８５％であり、残りの約１５％は、β付加体である下記構造式（１１）で示される異性体であることが確認された。

ただし、１Ｈ核磁気共鳴スペクトル分析における解析であるため、分子内で片側が末端に珪素が付いたもの（α付加体）と、もう一方が内部付加したもの（β付加体）も含まれているが、そのような化合物の分析分離はできない。そのようなタイプを考慮するとこの比較例にて合成した場合の目的物はさらに純度が低いと考えられる。

以上の結果より、本発明のメタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物は、Ｓｉ−Ｈ含有有機珪素化合物とのヒドロシリル化反応において、内部に付加したβ付加体生成量が少ない化合物を与えることが実証された。
すなわち、このような本発明のフルオレン化合物であれば、内部に付加したβ付加体生成量が少ない化合物となる為、有機珪素化合物の耐熱性の向上が期待できる。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

Claims

下記一般式（１）で示される、メタリル基を有するエポキシ基を含有するフルオレン化合物。

（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示す。）
下記一般式（２）で示される、メタリル基を有するフルオレン化合物と、エピクロルヒドリンとを反応させ、下記一般式（１）で示される化合物を得ることを特徴とするフルオレン化合物の製造方法。

（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示す。）

（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示す。）
請求項１に記載のフルオレン化合物と、Ｓｉ−Ｈ含有有機珪素化合物を触媒下、ヒドロシリル化反応させることにより、シロキサン導入フルオレン化合物を製造することを特徴とするシロキサン導入フルオレン化合物の製造方法。
下記一般式（２）で示される、メタリル基を有するフルオレン化合物。

（Ｒは水素原子又はメチル基を示す。）