JP2007016125A - ケイ素化合物 - Google Patents
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Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
Description
Chem. Rev. 95, 1409 (1995)
ル化剤と使用されているように、有機物中の活性基、たとえば、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、アミド基、メルカプト基をケイ素に置換可能である。また、ハロゲン化シランは高い活性と汎用性を有しており、たとえば、アルコキシシラン、アシロキシシラン、シルチアン、(イソ)シアンシラン、イソシアナトシラン、イソチオシアナートシランおよびアミノシランといった他の活性シラン化合物への誘導が可能であり、広く他の化学種への展開が可能である。そこで、シルセスキオキサン骨格に、ハロゲン化シリル基を組み込むことにより、反応性の高い、含フッ素有機基を有する完全縮合型構造シルセスキオキサン誘導体を見出した。即ち、本発明は下記の構成を有する。
式(3)で示される化合物に、式(5)で示される化合物を反応させることにより、式(6)で示される化合物を得る工程:
遷移金属触媒の存在下で、式(6)で示される化合物と、式(7)で示される化合物とを反応させることにより、式(1−1)で示される化合物を得る工程:
式(4)で示される化合物に、式(5)で示される化合物を反応させることにより、式(6)で示される化合物を得る工程:
遷移金属触媒の存在下で、式(6)で示される化合物と、式(7)で示される化合物とを反応させることにより、式(1−1)で示される化合物を得る工程:
アルキルの例は、2−フルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、3,3,3−トリフルオロプロピル、ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシル、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル、パーフルオロ−1H,1H,2H,2H−ドデシルおよびパーフルオロ−1H,1H,2H,2H−テトラデシルである。
たがって、Z1は−Z3−C2H4−で示される基であることが好ましい。すなわち、式(2)の好ましい例は式(2−1)で示される基である。
端不飽和結合を有する化合物を例示するが本発明はこれに限定されない。
3)と不純物との混合物を、これらをともに溶解する溶剤に溶解させる。このときの化合物(6−3)の好ましい濃度は、1〜15重量%である。次に、上記溶液を濃縮装置、例えばロータリーエバポレーターによって、減圧条件下、結晶が析出し始めるまで濃縮する。その後、大気圧に戻し、室温または低温条件下に保持する。その後、濾過や遠心分離に付することで、不純物を含む溶剤と析出した固体成分とを分離することができる。もちろん不純物を含む溶剤中には、目的とする化合物も含まれるため、上記操作を繰り返し行うことで、化合物(6−3)の回収率を上げることも可能である。
−H基に対する当量比で0.5倍であることが好ましい。そして、化合物(1−3)から未反応の原料化合物や溶剤を分離するためには、長時間高温条件下に保持されることによって化合物(1−3)が分解されるのを防ぐために、未反応の原料化合物、たとえば化合物(7−3)および溶剤を減圧留去させるだけでもよい。
装置:日本分光株式会社製、JASCO GULLIVER 1500 (インテリジェント示差屈折率計 RI-1530)
溶剤:テトラヒドロフラン
流速:1ml/min
カラム温度:40℃
使用カラム:実施例1〜90:東ソー株式会社製、TSKguardcolumn HXL-L(GUARDCOLUMN)+TSKgel G1000HxL(排除限界分子量(ポリスチレン):1,000)+TSkgel G2000HxL(排除限界分子量(ポリスチレン):10,000)
較正曲線用標準試料:Polymer Laboratories社製、Polymer Standards (PL), Polystyrene
Et:エチル
Pr:プロピル
TFPr:3,3,3−トリフルオロプロピル
NFHe:ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシル
TDFOc:トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル
TMS:トリメチルシリル
Mn:数平均分子量
Mw:重量平均分子量
<トリフルオロプロピルトリメトキシシランを原料としたナトリウム結合3,3,3−トリフルオロプロピルシルセスキオキサン化合物の合成>
還流冷却器、温度計および滴下漏斗を取り付けた内容積1リットルの4つ口フラスコに、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン(100g)、THF(500ml)、脱イオン水(10.5g)および水酸化ナトリウム(7.9g)を仕込み、マグネチックスターラーで攪拌しながら、室温からTHFが還流する温度までオイルバスにより加熱した。還流開始から5時間撹拌を継続して反応を完結させた。その後、フラスコをオイルバスから引き上げ、室温で1晩静置した後、再度オイルバスにセットし固体が析出するまで定圧下で加熱濃縮した。析出した生成物は孔径0.5μmのメンブランフィルターを備えた加圧濾過器を用いて濾過した。次いで、得られた固形物をTHFで1回洗浄し、減圧乾燥機にて80℃、3時間乾燥を行い、74gの無色粉末状の固形物を得た。
<トリメチルシリル基の導入>
滴下漏斗、還流冷却器および温度計を取り付けた内容積50mlの4つ口フラスコに、実施例1で得られた無色粉末状の固形物(1.0g)、THF(10g)およびトリエチルアミン(1.0g)を仕込み、乾燥窒素にてシールした。マグネチックスターラーで撹拌しながら、室温でクロロトリメチルシラン(3.3g)を約1分間で滴下した。滴下終了後、室温で、さらに3時間撹拌を継続して反応を完結させた。ついで純水10g投入し
生成した塩化ナトリウムおよび未反応のクロロトリメチルシランを加水分解した。このようにして得られた反応混合物を分液漏斗に移し有機相と水相とに分離し、得られた有機相を脱イオン水により洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返した。得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、ロータリーエバポレーターで減圧濃縮して白色固体の化合物(0.9g)を得た。
得られた白色粉末状の固形物について、GPC、1H−NMR、29Si−NMRおよび13C−NMRにより構造解析を行った。GPCチャートから白色粉末状の固形物は単分散性を示し、その分子量はポリスチレン換算で重量平均分子量1570であり、純度98重量%であることが確認された。1H−NMRチャートから、トリフルオロプロピル基とトリメチルシリル基が7:3の積分比で存在することが確認された。29Si−NMRチャートから、トリフルオロプロピル基を有しT構造を示唆するピークが1:3:3の比で3つ、トリメチルシリル基を示唆するピークが12.11ppmに1つ存在することが確認された。13C−NMRチャートでも131〜123ppm、28〜27ppm、6〜5ppmにトリフルオロプロピル基を示唆するピークが存在し、1.4ppmにトリメチルシリル基を示唆するピークが存在することが確認された。質量分析スペクトルの測定結果から、絶対分子量は式(8)に示す構造体の理論分子量と一致した。X線構造解析による結晶構造解析の結果から、式(8)に示す構造体であることが確認された。これらの結果は、構造解析の対象である無色粉末状の固形物が式(8)の構造を有することを示している。従って、トリメチルシリル化される前の化合物は、式(9)の構造であると判断される。
<ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシルトリメトキシシランを原料としたナトリウム結合ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシルシルセスキオキサン化合物の合成>
還流冷却器、温度計および滴下漏斗を取り付けた内容積200mlの4つ口フラスコに
、ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシルトリメトキシシラン(20.00g)、THF(93.74g)、水酸化ナトリウム(0.93g)および脱イオン水(1.26g)を仕込み、マグネチックスターラーで攪拌しながら加熱した。64.0℃で還流が開始してから5時間撹拌を続けて、反応を終了させた。常圧下で固体が析出するまで反応液を濃縮し、さらに真空乾燥して粘ちょう性の化合物(17.83g)を得た。
<トリメチルシリル基の導入>
滴下漏斗、還流冷却器および温度計を取り付けた内容積50mlの3つ口フラスコに、実施例3で得られた粘ちょう性の化合物(2.0g)、THF(10g)およびトリエチルアミン(0.6g)を仕込み、乾燥窒素にてシールした。マグネチックスターラーで撹拌しながら、室温でクロロトリメチルシラン(1.7g)を約1分間で滴下した。滴下終了後、室温で、さらに4時間撹拌を継続して反応を完結させた。ついで純水10g投入し生成した塩化ナトリウムおよび未反応のクロロトリメチルシランを加水分解した。このようにして得られた反応混合物を分液漏斗に移し、トルエン30mlを加え、有機相と水相とに分離し、得られた有機相を脱イオン水により洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返した。得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、ロータリーエバポレーターで減圧濃縮して粘ちょう性の化合物(1.0g)を得た。
得られた粘ちょう性の化合物について、GPC、1H−NMRおよび29Si−NMRにより構造解析を行った。GPCチャートから粘ちょう性の化合物は単分散性を示し、純度99重量%であることが確認された。1H−NMRチャートから、ノナフルオロヘキシル基とトリメチルシリル基が7:3の積分比で存在することが確認された。29Si−NMRチャートから、ノナフルオロヘキシル基を有しT構造を示唆するピークが1:3:3の比で3つ、トリメチルシリル基を示唆するピークが12.52ppmに1つ存在することが確認された。これらの結果は、構造解析の対象である粘ちょう性の化合物が式(10)の構造を有することを示している。従って、トリメチルシリル化される前の実施例3の化合物は、式(11)の構造であると判断される。
<トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチルトリエトキシシランを原料としたナトリウム結合トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチルシルセスキオキサン化合物の合成>
還流冷却器、温度計および滴下漏斗を取り付けた内容積50mlの4つ口フラスコに、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン(4.9g)、THF(15ml)、水酸化ナトリウム(0.2g)、イオン交換水(0.2g)と仕込み撹拌子を投入し、75℃で加熱還流した。還流開始から5時間撹拌を継続して反応を完結させた。その後、定圧下で加熱濃縮し、減圧乾燥機にて80℃、3時間乾燥を行い、4.0gの粘ちょう性液体を得た。
<トリメチルシリル基の導入>
内容積50mlの3つ口フラスコに、上記の粘ちょう性液体(2.6g)、THF(10g)、トリエチルアミン(1.0g)およびトリメチルクロロシラン(3.3g)を仕込み、マグネチックスターラーで攪拌しながら室温で3時間撹拌した。反応終了後、実施例2の構造確認における場合と同様に処理して、1.3gの粘ちょう性液体を得た。
得られた化合物を、GPCにより分析した。測定を行った結果、粘ちょう性液体は単分散であり、その分子量はポリスチレン換算で重量平均分子量3650で純度100%であることが確認された。この結果と実施例2の結果とから総合的に判断して、分析の対象である粘ちょう性液体は式(12)で示されるケイ素化合物であると推定された。従って、実施例5で得られた化合物は、式(13)で示される構造を有することが示唆される。
<化合物(9)およびアリルトリクロロシランを原料としたアリル−ヘプタキス(3,3,3−トリフルオロプロピル)オクタシルセスキオキサンの合成>
窒素雰囲気下、300ml三口フラスコに化合物(9)(17.2g)、モレキュラーシーブス(4A)によって乾燥したトリエチルアミン(2.30g)および乾燥ジクロロメタン(250ml)を仕込んだ。マグネチックスターラーを用い、室温で攪拌しながら化合物(9)を溶解させた後、氷浴を用いて系内温度を3℃とした。この溶液にアリルトリクロロシラン(3.75g、化合物(9)に対して1.4当量)を速やかに加え、氷浴で1時間攪拌した後、さらに室温にて8時間攪拌した。反応終了後、トリエチルアミン−臭酸塩を濾過により除去した。得られた反応液は、水(300ml)による3回の洗浄を行った後、無水硫酸マグネシウム(15g)にて乾燥した。得られた液体成分はロータリーエバポレーターを用いて溶媒を除去し、白色の粘ちょう物を得た。ここにメタノール150mlおよびジクロロメタン20mlを加えて、固体成分を析出させた。固体成分を十分析出させた後、濾過によって固−液分離を行った。得られた個体を減圧乾燥(400Pa、55℃)して、白色固体を得た(9.84g、収率57%)。
IR(KBr法) ν=2950(-CH3)、2926(-CH2-)、1638(C=C)、1448(-CH2-)、1423(CH=CH2)、1375(-CH3)、1214(-CF3)、1110(Si-O-Si)、660(CH=CH2)
1H−NMR(400MHz、TMS標準:δ=0.0ppm):5.77-5.66(m、1H、Si-CH2-CH=CH2)、5.03-4.99(m、2H、Si-CH2-CH=CH 2)、2.20-2.08(m、14H、Si-CH 2 -CH 2-CF3)、1.69(d、2H、
Si-CH 2-CH=CH2)、0.96-0.91(m、14H、Si-CH 2 -CH2-CF3)
13C−NMR(100MHz、TMS標準:δ=0.0ppm): 130.5(Si-CH2-CH=CH2)、126.9(Si-CH 2 -CH2-CF3)、116.1(Si-CH2-CH=CH2)、27.6(Si-CH 2 -CH2-CF3)、18.8(Si-CH2-CH=CH2)、3.99(Si-CH 2 -CH2-CF3)
29Si−NMR(79MHz、TMS標準:δ=0.0ppm):-67.46、-67.51、-70.2
<化合物(9)およびビニルトリクロロシランを原料としたビニル−ヘプタキス(3,3,3−トリフルオロプロピル)オクタシルセスキオキサンの合成>
アリルトリクロロシランの代わりにビニルトリクロロシランを用いる以外は実施例7と同様の操作を行うことにより、式(15)で示される化合物を得ることができる。
<化合物(9)および5−ヘキセニルトリクロロシランを原料とした5−ヘキセニル−ヘプタキス(3,3,3−トリフルオロプロピル)オクタシルセスキオキサンの合成>
アリルトリクロロシランの代わりに5−ヘキセニルトリクロロシランを用いる以外は実施例7と同様の操作を行うことにより、式(16)で示される化合物を得ることができる。
<化合物(11)およびアリルトリクロロシランを原料としたアリル−ヘプタキス(ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシル)オクタシルセスキオキサンの合成>
化合物(9)の代わりに化合物(11)を用いる以外は実施例7と同様の操作を行うことにより、式(17)で示される化合物を得ることができる。
<化合物(11)およびビニルトリクロロシランを原料としたビニル−ヘプタキス(ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシル)オクタシルセスキオキサンの合成>
化合物(9)の代わりに化合物(11)を用い、アリルトリクロロシランの代わりにビニルトリクロロシランを用いる以外は実施例7と同様の操作を行うことにより、式(18)で示される化合物を得ることができる。
<化合物(11)および5−ヘキセニルトリクロロシランを原料とした5−ヘキセニル−ヘプタキス(ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシル)オクタシルセスキオキサンの合成>
化合物(9)の代わりに化合物(11)を用い、アリルトリクロロシランの代わりに5−ヘキセニルトリクロロシランを用いる以外は実施例7と同様の操作を行うことにより、式(19)で示される化合物を得ることができる。
<化合物(13)およびアリルトリクロロシランを原料としたアリル−ヘプタキス(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)オクタシルセスキオキサンの合成>
化合物(9)の代わりに化合物(13)を用いる以外は実施例7と同様の操作を行うことにより、式(20)で示される化合物を得ることができる。
<化合物(13)およびビニルトリクロロシランを原料としたビニル−ヘプタキス(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)オクタシルセスキオキサンの合成>
化合物(9)の代わりに化合物(13)を用い、アリルトリクロロシランの代わりにビニルトリクロロシランを用いる以外は実施例7と同様の操作を行うことにより、式(21)で示される化合物を得ることができる。
<化合物(13)および5−ヘキセニルトリクロロシランを原料とした5−ヘキセニル−ヘプタキス(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)オクタシルセスキオキサンの合成>
化合物(9)の代わりに化合物(13)を用い、アリルトリクロロシランの代わりに5−ヘキセニルトリクロロシランを用いる以外は実施例7と同様の操作を行うことにより、式(22)で示される化合物を得ることができる。
<化合物(9)を原料としたシラノール含有ヘプタキス(3,3,3−トリフルオロプロピル)シルセスキオキサン化合物の合成>
滴下ロート、還流冷却器、温度計および攪拌子を備えた300mlの4つ口フラスコを氷浴中に設置した。この4つ口フラスコに実施例1で得られた化合物(9)5gを入れ、酢酸ブチル(50g)に溶解させた後、酢酸(0.5g)を滴下した。氷浴のまま1時間撹拌した。室温に戻した後、反応液を脱イオン水(100ml)にて洗浄(3回)した。ロータリーエバポレーターを用いて溶剤を留去し、そのまま減圧乾燥(450Pa、50℃、1時間)を行って、粘ちょう性の液体を得た(4.3g)。得られた化合物のGPC測定を行った結果、単一ピークを示し、不純物等の存在は確認されなかった。さらにIRを用いて解析した結果、化合物(9)では観測されなかったシラノール基の存在を示唆する吸収(3400cm-1付近)を確認した。従って、得られた化合物は式(23)で示される構造を有することが示唆された。
<3−トリクロロシラニルプロピル−ヘプタキス(3,3,3−トリフルオロプロピル)オクタシルセスキオキサンの合成>
窒素雰囲気下、還流冷却器、温度計を取り付けた100mlの三口フラスコに、化合物(14)(0.90g)を仕込み、乾燥テトラヒドロフラン(6.0ml)を加え溶解した。水浴を用いて系内温度を20℃程度に保ち、ここにトリクロロシラン(TCS,0.4ml、TCS/化合物(15)モル比=4.2)を一括導入した。これに、Pt触媒/キシレン溶液(25μl,Pt含有量:3wt.-%,Pt/Si−Hモル比=9.8x10-4)を添加した。触媒添加後、水浴をはずし、室温にて2.5時間攪拌した。真空ポンプを用いて、反応液中に残留する未反応のTCSを減圧留去した後、減圧乾燥(400Pa、75℃)し、固体(0.98g,収率:98%)を得た。
<2−トリクロロシラニルエチル−ヘプタキス(3,3,3−トリフルオロプロピル)オ
クタシルセスキオキサンの合成>
化合物(14)の代わりに化合物(15)を用いること以外は実施例17と同様の操作を行うことにより、式(25)で示される化合物を得ることができる。
<6−トリクロロシラニルヘキシル−ヘプタキス(3,3,3−トリフルオロプロピル)オクタシルセスキオキサンの合成>
化合物(14)の代わりに化合物(16)を用いること以外は実施例17と同様の操作を行うことにより、式(26)で示される化合物を得ることができる。
<3−トリクロロシラニルプロピル−ヘプタキス(ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシル)オクタシルセスキオキサンの合成>
化合物(14)の代わりに化合物(17)を用いること以外は実施例17と同様の操作を行うことにより、式(27)で示される化合物を得ることができる。
<2−トリクロロシラニルエチル−ヘプタキス(ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシル)オクタシルセスキオキサンの合成>
化合物(14)の代わりに化合物(18)を用いること以外は実施例17と同様の操作を行うことにより、式(28)で示される化合物を得ることができる。
<6−トリクロロシラニルヘキシル−ヘプタキス(ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシル)オクタシルセスキオキサンの合成>
化合物(14)の代わりに化合物(19)を用いること以外は実施例17と同様の操作を行うことにより、式(29)で示される化合物を得ることができる。
<3−トリクロロシラニルプロピル−ヘプタキス(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)オクタシルセスキオキサンの合成>
化合物(14)の代わりに化合物(20)を用いること以外は実施例17と同様の操作を行うことにより、式(30)で示される化合物を得ることができる。
<2−トリクロロシラニルエチル−ヘプタキス(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)オクタシルセスキオキサンの合成>
化合物(14)の代わりに化合物(21)を用いること以外は実施例17と同様の操作を行うことにより、式(31)で示される化合物を得ることができる。
Claims (15)
- 請求項1に記載の式(1)におけるR1が炭素数1〜20のフルオロアルキルである、請求項1または2に記載の化合物。
- 請求項1に記載の式(1)におけるR1が2−フルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、3,3,3−トリフルオロプロピル、ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシル、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル、パーフルオロ−1H,1H,2H,2H−ドデシルもしくはパーフルオロ−1H,1H,2H,2H−テトラデシルである、請求項1または2に記載の化合物。
- 請求項1に記載の式(1)におけるR1が3,3,3−トリフルオロプロピル、ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシルまたはトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチルである、請求項1または2に記載の化合物。
- 請求項1に記載の式(1)におけるR1が3,3,3−トリフルオロプロピルまたはノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシルである、請求項1または2に記載の化合物。
- Z1が炭素数2〜8のアルキレンであり;そしてnが0または1である、請求項2に記載の化合物。
- Z1が炭素数2〜4のアルキレンであり;そしてnが0または1である、請求項2に記載の化合物。
- 請求項1に記載の式(1)におけるR1が3,3,3−トリフルオロプロピルであり;式(2)におけるZ1が炭素数2または3のアルキレンであり;そしてnが0である、請求項2に記載の化合物。
- 工程(a1)に続いて工程(b)を実施することを特徴とする式(1−1)で示されるケイ素化合物の製造方法:
<工程(a1)>
式(3)で示される化合物に、式(5)で示される化合物を反応させることにより、式(6)で示される化合物を得る工程:
<工程(b)>
遷移金属触媒の存在下で、式(6)で示される化合物と、式(7)で示される化合物とを反応させることにより、式(1−1)で示される化合物を得る工程:
- 工程(a2)に続いて工程(b)を実施することを特徴とする式(1−1)で示されるケイ素化合物の製造方法:
<工程(a2)>
式(4)で示される化合物に、式(5)で示される化合物を反応させることにより、式(6)で示される化合物を得る工程:
<工程(b)>
遷移金属触媒の存在下で、式(6)で示される化合物と、式(7)で示される化合物とを反応させることにより、式(1−1)で示される化合物を得る工程:
- 式(1−1)においてR1が2−フルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、3,3,3−トリフルオロプロピル、ノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシル、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル、パーフルオロ−1H,1H,2H,2H−ドデシルもしくはパーフルオロ−1H,1H,2H,2H−テトラデシルである、請求項10または11に記載の製造方法。
- 式(1−1)においてR1が3,3,3−トリフルオロプロピルまたはノナフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロヘキシルであり;そしてnが0または1である、請求項10または11に記載の製造方法。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載のケイ素化合物を含むシランカップリング剤。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載のケイ素化合物を含む固体表面処理剤
。
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