KR101097522B1 - 유기 규소 화합물의 제조 방법 - Google Patents

유기 규소 화합물의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101097522B1
KR101097522B1 KR1020067027806A KR20067027806A KR101097522B1 KR 101097522 B1 KR101097522 B1 KR 101097522B1 KR 1020067027806 A KR1020067027806 A KR 1020067027806A KR 20067027806 A KR20067027806 A KR 20067027806A KR 101097522 B1 KR101097522 B1 KR 101097522B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
compound
formula
trialkoxysilane
hexafluorocarbinol
Prior art date
Application number
KR1020067027806A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20070045156A (ko
Inventor
카츠히코 코무로
히로시 스즈키
Original Assignee
도아고세이가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도아고세이가부시키가이샤 filed Critical 도아고세이가부시키가이샤
Publication of KR20070045156A publication Critical patent/KR20070045156A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101097522B1 publication Critical patent/KR101097522B1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • C07F7/1872Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
    • C07F7/1876Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages

Abstract

본 발명에 따르면, 헥사플루오로카르비놀기를 갖는 유기 규소 화합물을 복잡한 제조 공정을 거치지 않고, 공업적 규모로 쉽게 제조할 수 있는 방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 (1)과 트리알콕시실란을 히드로실릴화 반응시킴으로써 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 (2)를 얻는다.
본 발명에 의해 얻어지는 화합물은 3 관능성 알콕시실란이기 때문에, 가교 반응을 이용함으로써 실리콘 수지, 실세스퀴옥산을 구축할 수 있다. 헥사플루오로카르비놀기는 우수한 알칼리 수용성기로서 기능한다.
<화학식 1>
Figure 112006098057559-pct00012
<화학식 2>
Figure 112006098057559-pct00013
식 중, R은 탄소수 1 내지 3의 알콕시기이다.
트리알콕시실란, 히드로실릴화, 유기 규소 화합물.

Description

유기 규소 화합물의 제조 방법{PROCESS FOR PRODUCING ORGANOSILICON COMPOUND}
본 발명은 헥사플루오로카르비놀기를 갖는 트리알콕시실란의 제조 방법에 관한 것이다.
페놀기 또는 카테콜기를 갖는 알콕시실란으로서 각종 화합물이 알려져 있다. 이들 알콕시실란으로부터 제조되는 유기 규소 수지는 우수한 알칼리 가용성을 발현하고, 수지 첨가제, 전자 재료, 각종 반응기 재료로서 사용되고 있다[특허 문헌 1, 특허 문헌 2]. 그러나, 이들 수지는 페닐기를 갖기 때문에, UV광을 흡수하고, 투명성, 내후성, 미세 가공 등의 점에서 문제가 있었다.
최근, 페닐기를 갖지 않는 각종 알칼리 가용성 수지가 개발되어, 카르복실기가 도입된 유기 규소 수지가 보고되어 있다(특허 문헌 3).
그러나, 이들 카르복실기를 갖는 유기 규소 수지에서는 페놀기에 필적하는 우수한 알칼리 가용성을 발현시키는 것이 곤란하여, 알칼리 가용성의 향상이 요구되고 있었다. 따라서, 페놀과 동일한 정도의 pKa(9.82)를 갖고, 우수한 알칼리 가용성을 발현하는 관능기로서 헥사플루오로카르비놀기가 주목받게 되었다.
이제까지 헥사플루오로카르비놀기를 유기기로 보호한 트리클로로실란이 알려 져 있다(특허 문헌 4). 이 화합물을 얻는 반응은 유기기로 보호한 헥사플루오로카르비놀기와 탄소-탄소 불포화기를 갖는 화합물 및 트리클로로실란을 반응 원료로 하는 히드로실릴화 반응이다. 이 반응에 있어서, 헥사플루오로카르비놀기를 유기기로 보호한 원료를 사용하는 것은, 또 하나의 반응 원료인 클로로실란의 클로로실릴기와 헥사플루오로카르비놀기가 반응하는 것을 방지하기 위해서이다.
트리클로로실란을 반응 원료로 하는 상기 제조 방법에서는 히드로실릴화 반응 후, 헥사플루오로카르비놀기의 탈보호 공정을 실시함으로써 비로소 헥사플루오로카르비놀기를 갖는 화합물이 얻어져, 제조 공정이 복잡해진다는 문제가 있었다.
특허 문헌 1: 일본 특허 공개 제2002-179795호 공보
특허 문헌 2: 일본 특허 공개 제2002-338583호 공보
특허 문헌 3: 일본 특허 공개 제2001-005185호 공보
특허 문헌 4: 일본 특허 공개 제2002-55456호 공보
본 발명은 헥사플루오로카르비놀기를 갖는 유기 규소 화합물을 복잡한 제조공정을 거치지 않고, 공업적 규모로 용이하게 제조할 수 있는 방법을 제공하는 것을 과제로 하는 것이다.
본 발명자들은 예의 검토한 결과, 트리알콕시실란을 원료로 사용한 경우, 알콕시실릴기와 헥사플루오로카르비놀기는 반응하지 않기 때문에, 1 단계 반응으로 헥사플루오로카르비놀기를 갖는 트리알콕시실란을 제조할 수 있다는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하였다.
즉, 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 (1)과 트리알콕시실란을 히드로실릴화 반응시킴으로써, 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 (2)를 얻는 것을 특징으로 하는 유기 규소 화합물의 제조 방법이다.
Figure 112006098057559-pct00001
Figure 112006098057559-pct00002
식 중, R은 탄소수 1 내지 3의 알콕시기이다.
<발명의 효과>
본 발명에 의해, 헥사플루오로카르비놀기를 갖는 트리알콕시실란을 1 단계 반응으로 얻을 수 있다.
본 발명의 제조 방법은 헥사플루오로카르비놀기를 갖는 트리알콕시실란의 공업적 제법으로서 유용하다.
HFC 유기 규소 화합물은 규소 원자에 결합한 가수분해성 트리알콕시실란이 존재하기 때문에, 다른 유기 규소 화합물(중합체를 포함함)과의 반응에 의해 실록산 결합을 형성하거나, 무기 화합물 중의 실라놀기와 커플링 반응시킬 수 있다. 또한, 3 관능성 알콕시실란이기 때문에, 가교 반응을 이용함으로써 실리콘 수지, 실세스퀴옥산을 구축할 수 있다. 한편, 헥사플루오로카르비놀기는 우수한 알칼리 수용성기로서 기능한다.
HFC 유기 규소 화합물은 유기 합성의 중간 원료, 중합체 수지의 합성 원료, 중합체의 개질제, 무기 화합물의 표면 처리제, 각종 재료 커플링제로서 유용하다.
도 1은 실시예 1에서 얻어진 생성물의 1H-NMR 스펙트럼이다.
<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>
이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다.
본 발명에 의해 얻어지는 유기 규소 화합물(이하, HFC 유기 규소 화합물)에 있어서, R은 탄소수 1 내지 3의 알콕시기이다. R의 바람직한 구체예로서 메톡시기, 에톡시기 및 프로필옥시기가 있고, 프로필옥시기는 직쇄상일 수도 있고, 분지상일 수도 있다. 그 중에서도 원료를 얻기 쉽고, 합성이 용이하다는 점에서, 일반적으로 R에 대해서는 에톡시기가 바람직하다.
HFC 유기 규소 화합물의 바람직한 구체예는, 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물 (3)이다.
Figure 112006098057559-pct00003
식 중, Et는 에틸기를 나타낸다.
HFC 유기 규소 화합물은, 상기 화합물 (1)과 트리알콕시실란을 히드로실릴화 반응시킴으로써 얻을 수 있다.
이들 원료 화합물의 바람직한 반응 투입비는, 트리알콕시실란이 상기 화합물 (1)에 대하여 10 내지 20 몰% 과잉이 되는 비이다.
상기 화합물 (3)을 제조하는 경우, 화합물 (1)을 트리에톡시실란과 반응시킨다. 이 반응은, 통상적으로 촉매의 존재하에서 행해진다. 바람직한 촉매로서는 코발트, 니켈, 루테늄, 로듐, 팔라듐, 이리듐, 백금 등의 8족 내지 10족 금속의 단체, 유기 금속 착체, 금속염, 금속 산화물 등이 있고, 통상적으로 백금계 촉매가 사용된다.
바람직한 백금계 촉매로서는 염화백금산 6수화물(H2PtCl6ㆍ6H2O), cis-PtCl2(PhCN)2, 백금 탄소, 디비닐테트라메틸디실록산이 배위된 백금 착체(PtDVTMDS) 등이 예시된다. 또한, Ph는 페닐기를 나타낸다. 촉매의 바람직한 첨가량은, 화합물 (1)의 양에 대하여 0.1 내지 1,000 ppm이다.
또한, 반응 온도는 반응계 외부로부터의 가열 조작 및 트리에톡시실란의 공급 속도에 의존하기 때문에, 일괄적으로 결정되지 않지만, 통상적으로 반응 온도를 실온 내지 110 ℃의 범위로 유지함으로써, 히드로실릴화 반응을 원활하게 진행시킬 수 있다. 반응 종료 후, 용매 및 휘발 성분을 감압하에 증류 제거하고, 감압 증류에 의해 정제 증류함으로써 화합물 (3)을 얻는다.
HFC 유기 규소 화합물은 클로로실란류를 사용하여 용이하게 관능기를 도입할 수 있고, 유기 합성 중간체로서도 유용하다. 바람직한 클로로실란류로서 트리메틸 클로로실란 등이 있다. 클로로실란류와의 반응에 사용하는 바람직한 염기로서 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 피리딘, 수산화칼륨 및 수산화나트륨 등이 있다. 바람직한 용매로서 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, THF 등의 에테르류, 디클로로메탄, 클로로포름, 피리딘, DMF 및 DMSO 등의 극성 용매가 있다.
이하, 본 발명을 참고예 및 실시예에 의해 구체적으로 설명한다.
<실시예 1>
교반기, 온도계 및 냉각관을 구비한 반응기를 건조 질소 분위기하로 하여, 화합물 (1) 50.0 g(240 mmol), 트리에톡시실란 47.3 g(288 mmol)을 넣고, 계 내를 교반시키면서 오일 배스에서 가열하였다. 내온이 80 ℃에 도달한 시점에서 백금 촉매인 PtDVTMDS의 크실렌 용액(124 ㎕, 0.012 mmol)을 첨가하였다. 촉매 적하 후, 7 시간, 80 ℃에서 교반 방치하였다. 그 후, 감압하에 휘발 성분을 증류 제거하고, 감압 증류하여 목적 화합물을 정제하였다(68.3 g, 76 %).
이 액체에 대하여 270 MHz의 1H-NMR 측정을 행한 바, 도 1의 스펙트럼을 얻었다. δ값과 그 귀속은 하기 표 1과 같았다. 이에 따라 얻어진 액체는 헥사플루오로카르비놀기를 갖는 트리알콕시실란 (3)인 것을 확인할 수 있었다.
<화학식 3>
Figure 112006098057559-pct00004
Figure 112006098057559-pct00005
Figure 112006098057559-pct00006
<참고예>
교반기, 온도계 및 냉각관을 구비한 반응기를 건조 질소 분위기하로 하여, 화합물 (3) 41.3 g(111 mmol), 트리메틸클로로실란 13.2 g(122 mmol), 염화메틸렌 100 g을 넣고, 계 내를 교반시키면서 트리에틸아민 12.3 g(122 mmol)을 천천히 적하하였다. 실온에서 24 시간 교반시켜 생성된 염을 여과 분리하고, 용매를 감압하에 증류 제거하여 무색 투명한 액체를 얻었다(44.4 g, 90 %).
이 액체에 대하여 270 MHz의 1H-NMR 측정을 행한 바, δ값과 그 귀속은 하기 표 2와 같았다. 이에 따라 얻어진 액체는 트리메틸실릴기로 보호된 헥사플루오로카르비놀기를 갖는 하기 화학식 4로 표시되는 트리알콕시실란 (4)인 것을 확인할 수 있었다.
Figure 112006098057559-pct00007
Figure 112006098057559-pct00008
Figure 112006098057559-pct00009
본 발명에 의해 얻어지는 유기 규소 화합물은 알칼리 가용성의 헥사플루오로카르비놀기 및 3개의 실록산 결합 생성기를 갖기 때문에, 각종 중합체의 합성 원료, 중합체의 개질제, 무기 화합물의 표면 처리제 등으로서 유용하다.

Claims (1)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 (1)과 트리알콕시실란을 히드로실릴화 반응시킴으로써, 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 (2)를 얻는 것을 특징으로 하는 유기 규소 화합물의 제조 방법.
    <화학식 1>
    Figure 112006098057559-pct00010
    <화학식 2>
    Figure 112006098057559-pct00011
    식 중, R은 탄소수 1 내지 3의 알콕시기이다.
KR1020067027806A 2004-08-24 2004-08-24 유기 규소 화합물의 제조 방법 KR101097522B1 (ko)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2004/012116 WO2006021989A1 (ja) 2004-08-24 2004-08-24 有機ケイ素化合物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070045156A KR20070045156A (ko) 2007-05-02
KR101097522B1 true KR101097522B1 (ko) 2011-12-22

Family

ID=35967212

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020067027806A KR101097522B1 (ko) 2004-08-24 2004-08-24 유기 규소 화합물의 제조 방법

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7432387B2 (ko)
EP (1) EP1783131A4 (ko)
KR (1) KR101097522B1 (ko)
CN (1) CN100522977C (ko)
WO (1) WO2006021989A1 (ko)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7964031B2 (en) * 2000-06-06 2011-06-21 Dow Corning Corporation Compositions for treating materials and methods of treating same
MXPA02012150A (es) * 2000-06-06 2004-09-10 Woodholdings Environmental Inc Composiciones conservadoras para productos de madera.
US8721783B2 (en) * 2000-06-06 2014-05-13 Dow Corning Corporation Compositions for treating materials and methods of treating same
US7192470B2 (en) * 2003-05-27 2007-03-20 Woodholdings Environmental, Inc. Preservative compositions for materials and method of preserving same
US20080276970A1 (en) * 2007-05-09 2008-11-13 John Christopher Cameron Apparatus and method for treating materials with compositions
CN103328717B (zh) 2011-01-18 2016-07-06 派特拉国际控股有限责任公司 用卤代硅烷处理基材的方法
CN110343128B (zh) * 2018-04-04 2021-02-19 中国科学院化学研究所 一种通过硅氢化反应制备硅烷的方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2500558B2 (ja) * 1991-12-24 1996-05-29 信越化学工業株式会社 プライマ―組成物
DE19805083A1 (de) * 1998-02-09 1999-08-12 Huels Chemische Werke Ag Verfahren zur Herstellung von 3-Glycidyloxypropyltrialkoxysilanen
JP4270708B2 (ja) 1999-04-23 2009-06-03 富士通株式会社 ケイ素含有ポリマ、その製造方法、それを用いたレジスト組成物、パターン形成方法および電子デバイスの製造方法
JP4019247B2 (ja) 2000-06-02 2007-12-12 信越化学工業株式会社 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
JP2002179795A (ja) 2000-12-14 2002-06-26 Sumitomo Chem Co Ltd 感光性樹脂、レジスト組成物およびパターン形成方法
JP4543577B2 (ja) 2001-05-22 2010-09-15 東亞合成株式会社 保護されたカテコール基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法
TWI317458B (en) * 2003-03-03 2009-11-21 Rohm & Haas Elect Mat Polymers and photoresists comprising same

Also Published As

Publication number Publication date
CN100522977C (zh) 2009-08-05
US20080051594A1 (en) 2008-02-28
WO2006021989A1 (ja) 2006-03-02
EP1783131A4 (en) 2009-03-11
CN1972951A (zh) 2007-05-30
KR20070045156A (ko) 2007-05-02
EP1783131A1 (en) 2007-05-09
US7432387B2 (en) 2008-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005509042A (ja) 官能化オリゴマーシルセスキオキサンの製法ならびにそれらの使用
KR101097522B1 (ko) 유기 규소 화합물의 제조 방법
KR102360600B1 (ko) 폴리실라잔 화합물 및 그의 제조 방법, 그리고 이를 사용한 발수 처리제 및 이를 사용한 발수 처리 방법
JP4655790B2 (ja) ケイ素化合物
JP4655789B2 (ja) ケイ素化合物
JP4172291B2 (ja) 有機ケイ素化合物の製造方法
JP5333971B2 (ja) β−シアノエステル基を含有する有機ケイ素化合物の製造方法
JP4605018B2 (ja) 有機ケイ素化合物の製造方法並びにジオールを有する有機ケイ素樹脂及びその製造方法
JP2011051926A (ja) 保護された水酸基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法
JP2008239489A (ja) 新規な有機ケイ素化合物
JP4543577B2 (ja) 保護されたカテコール基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法
KR101097570B1 (ko) 환상 유기 규소 화합물의 제조 방법
JP4433168B2 (ja) 保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物
JP6354721B2 (ja) ジフェニルエチル基及びメトキシシリル基を有する有機ケイ素化合物並びにその製造方法
JP4336970B2 (ja) 保護されたカルボキシル基を有するシラン化合物及びその製造方法
JP4013520B2 (ja) 新規なハロゲノシランおよびアルカリ可溶性樹脂
JP4172342B2 (ja) 環状有機ケイ素化合物及びその製造方法
JP4433563B2 (ja) 有機ケイ素化合物
KR20230130714A (ko) 실록산-작용화된 실리카
JP3029691B2 (ja) オルガノシクロシロキサンおよびその製造方法
JP2002193975A (ja) アダマンチルエステル基を有する新規な有機ケイ素化合物
JP2002193978A (ja) 新規な環状有機ケイ素化合物

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140731

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160907

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170808

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181105

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191023

Year of fee payment: 9