CN1972951A - 有机硅化合物的制造方法 - Google Patents
有机硅化合物的制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1972951A CN1972951A CNA2004800433746A CN200480043374A CN1972951A CN 1972951 A CN1972951 A CN 1972951A CN A2004800433746 A CNA2004800433746 A CN A2004800433746A CN 200480043374 A CN200480043374 A CN 200480043374A CN 1972951 A CN1972951 A CN 1972951A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- compound
- group
- reaction
- formula
- alcohol radical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims abstract description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 11
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 18
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 abstract description 5
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 abstract description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 abstract 1
- -1 hexafluoro alcohol radical Chemical class 0.000 description 20
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 3
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 230000008676 import Effects 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- GSNUFIFRDBKVIE-UHFFFAOYSA-N DMF Natural products CC1=CC=C(C)O1 GSNUFIFRDBKVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSVGQVZAZSZEEX-UHFFFAOYSA-N [C].[Pt] Chemical compound [C].[Pt] DSVGQVZAZSZEEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C FSIJKGMIQTVTNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940110957 platinic chloride hexahydrate Drugs 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
Abstract
本发明提供可以不经过复杂的制造工序、在工业规模上容易制造具有六氟醇基的有机硅化合物的方法。通过使下述化合物(1)和三烷氧基硅烷进行氢化硅烷化反应,得到上述化合物(2),(式中,R是碳数1-3的烷氧基)。根据本发明得到的化合物由于是三官能性烷氧基硅烷,所以通过利用交联反应,可以构筑硅氧烷树脂、倍半硅氧烷。六氟醇基起到作为优异的碱水溶性基的作 用。
Description
技术领域
本发明涉及具有六氟醇基(hexaf luorocarbinol group)的三烷氧基硅烷的制造方法。
背景技术
作为具有酚基或者邻苯二酚基的烷氧基硅烷,已知有各种化合物。从这些烷氧基硅烷调制的有机硅树脂表现有优异的碱可溶解性,作为树脂添加剂、电子材料、各种反应基材使用[专利文献1、专利文献2]。但是,这些树脂由于具有苯基,在吸收UV光、透明性、耐候性、微细加工等方面存在问题。
最近,开发了不具有苯基的各种碱可溶性树脂,报告了导入羧基的有机硅树脂[专利文献3]。
但是,在这些具有羧基的有机硅树脂中,难于表现出与酚基相匹敌的优异的碱可溶性,希望提高碱可溶性。因此,作为具有与苯酚相同程度的pKa(9.82)、表现优异的碱可溶性的官能基,逐渐引起了对六氟醇基的关注。
在此之前,已知有用有机基保护六氟醇基的三氯硅烷[专利文献4]。得到该化合物的反应是使具有用有机基保护的六氟醇基和碳碳不饱和基的化合物与三氯硅烷作为反应原料的氢化硅烷化反应。该反应中,使用通过有机基保护六氟醇基的原料是为了防止作为另一反应原料的氯硅烷的氯甲硅烷基和六氟醇基反应。
以三氯硅烷为反应原料的上述制造方法中,在氢化硅烷化反应后,通过实施六氟醇基的脱保护工序,首次得到了具有六氟醇基的化合物,存在制造工序复杂的问题。
专利文献1:特开2002-179795号公报
专利文献2:特开2002-338583号公报
专利文献3:特开2001-005185号公报
专利文献4:特开2002-55456号公报
发明内容
本发明的课题在于,提供可以不经过复杂的制造工序、在工业规模上容易制造具有六氟醇基的有机硅化合物的方法。
本发明人经过认真研究,结果发现了在使用三烷氧基硅烷作为原料的场合,由于烷氧基甲硅烷基与六氟醇基不发生反应,通过一步反应可以制造具有六氟醇基的三烷氧基硅烷,进而完成了本发明。
即,本发明涉及有机硅化合物的制造方法,其特征在于,通过使下述化合物(1)和三烷氧基硅烷进行氢化硅烷化反应,得到下述化合物(2)。
(式中,R是碳数1-3的烷氧基)
根据本发明,可以以一步反应得到具有六氟醇基的三烷氧基硅烷。
本发明的制造方法作为具有六氟醇基的三烷氧基硅烷的工业上的制法是有用的。
HFC有机硅化合物由于硅原子上结合的水解性三烷氧基的存在,通过与其他的有机硅化合物(包括聚合物)反应,形成硅氧烷键,能与无机化合物中的硅烷醇基发生偶合反应。此外,由于是3官能性烷氧基硅烷,通过利用交联反应,可以构筑硅氧烷树脂、倍半硅氧烷(silsesquioxane)。另一方面,六氟醇基起到作为优异的碱水溶性基的作用。
HFC有机硅化合物作为有机合成的中间原料、聚合物树脂的合成原料、聚合物的改性剂、无机化合物的表面处理剂、各种材料偶合剂是有用的。
附图的简单说明
图1是实施例1中得到的生成物的1H-NMR谱图。
具体实施方式
以下,对本发明进行详细说明。
根据本发明得到的有机硅化合物(以下,称为HFC有机硅化合物)中,R是碳数1-3的烷氧基。作为R的优选的具体例,有甲氧基、乙氧基以及丙氧基,丙氧基可以是直链状的,也可以是支链状的。其中,从原料容易获得、合成容易的角度,一般R优选乙氧基。
作为HFC有机硅化合物的优选的具体例,有以下结构式所示的化合物(3)。
(Et表示乙基。)
HFC有机硅化合物是通过上述化合物(1)和三烷氧基硅烷进行氢化硅烷化反应得到的。
这些原料化合物的优选的反应加料比,是相对于上述化合物(1),三烷氧基硅烷过剩10-20摩尔%的比例。
制造上述化合物(3)的场合,使化合物(1)与三乙氧基硅烷反应。该反应通常在催化剂的存在下进行。作为优选的催化剂,有钴、镍、钌、铑、钯、铱、铂等的第8族到第10族金属的单质、有机金属络合物、金属盐、金属氧化物等,通常使用铂系的催化剂。
作为优选的铂系催化剂,举出氯铂酸六水合物(H2PtCl6·6H2O)、cis-PtCl2(PhCN)2、铂碳、二乙烯基四甲基二硅氧烷配位的铂络合物(PtDVTMDS)等。另外,Ph表示苯基。催化剂的优选的添加量,相对于化合物(1)的量,为0.1~1,000ppm。
另外,反应温度由于依赖于来自反应体系外部的加热操作和三乙氧基硅烷的供给速度,所以不能一概而论,通常将反应温度保持在室温~110℃的范围,可以顺畅地进行氢化硅烷化反应。反应结束后,在减压下馏去溶剂和挥发成分,通过减压蒸馏进行精馏,由此得到化合物(3)。
HFC有机硅化合物可以使用氯硅烷类容易地导入官能基,作为有机合成中间体也有用。作为优选的氯硅烷类,有三甲基氯硅烷等。作为用于与氯硅烷类反应的优选的碱,有三乙胺、二异丙基乙胺、吡啶、氢氧化钾以及氢氧化钠等。作为优选的溶剂,有二乙基醚、二异丙基醚、THF等醚类,二氯甲烷、氯仿、吡啶、DMF以及DMSO等极性溶剂。
实施例
以下根据参考例和实施例对本发明进行具体的说明。
[实施例1]
将具备搅拌机、温度计以及冷却管的反应器置于干燥氮气氛下,加入化合物(1)50.0g(240mmol)、三乙氧基硅烷47.3g(288mmol),一边搅拌体系,一边在油浴中加热。在内温度到达80℃时,加入作为铂催化剂的PtDVTMDS的二甲苯溶液(124μl,0.012mmol)。滴加催化剂后,在80℃搅拌7小时放置。然后,在减压下馏去挥发成分,用减压蒸馏精制目的化合物(68.3g,76%)。
对于该液体进行270MHz的1H-NMR的测定时,得到图1的图谱。δ值以及其归属如表1所示。可以确认由此得到的液体是具有六氟醇基的三烷氧基硅烷(3)。
[表1]
测定法 | δ(ppm) | 归属 |
NMR | 0.8 | a) |
1.2 | f) | |
1.7 | b) | |
2.0 | c) | |
3.8 | e) | |
4.7 | d) |
参考例
将具备搅拌机、温度计以及冷却管的反应器置于干燥氮气氛下,加入化合物(3)41.3g(111mmol)、三甲基氯硅烷13.2g(122mmol)、二氯甲烷100g,一边搅拌体系,一边缓慢滴加三乙胺12.3g(122mmol)。在室温搅拌24小时,过滤产生的盐,在减压下馏去溶剂,得到无色透明的液体(44.4g,90%)。
对于该液体进行270MHz的1H-NMR的测定时,δ值及其归属如表2所示。由此得到的液体确认是具有用三甲基甲硅烷基保护了的六氟醇基的三烷氧基硅烷(4)。
[表2]
测定法 | δ(ppm) | 归属 |
NMR | 0.2 | d) |
0.8 | a) | |
1.2 | f) | |
1.7 | b) | |
2.1 | c) | |
3.8 | e) |
产业上的利用可能性
根据本发明得到的有机硅化合物由于具有碱可溶性的六氟醇基和3个生成硅氧烷键的基团,所以作为各种聚合物的合成原料、聚合物的改性剂、无机化合物的表面处理剂等是有用的。
Claims (1)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2004/012116 WO2006021989A1 (ja) | 2004-08-24 | 2004-08-24 | 有機ケイ素化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1972951A true CN1972951A (zh) | 2007-05-30 |
CN100522977C CN100522977C (zh) | 2009-08-05 |
Family
ID=35967212
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB2004800433746A Expired - Fee Related CN100522977C (zh) | 2004-08-24 | 2004-08-24 | 有机硅化合物的制造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7432387B2 (zh) |
EP (1) | EP1783131A4 (zh) |
KR (1) | KR101097522B1 (zh) |
CN (1) | CN100522977C (zh) |
WO (1) | WO2006021989A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110343128A (zh) * | 2018-04-04 | 2019-10-18 | 中国科学院化学研究所 | 一种通过硅氢化反应制备硅烷的方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8721783B2 (en) * | 2000-06-06 | 2014-05-13 | Dow Corning Corporation | Compositions for treating materials and methods of treating same |
US7964031B2 (en) * | 2000-06-06 | 2011-06-21 | Dow Corning Corporation | Compositions for treating materials and methods of treating same |
US7192470B2 (en) * | 2003-05-27 | 2007-03-20 | Woodholdings Environmental, Inc. | Preservative compositions for materials and method of preserving same |
MXPA02012150A (es) * | 2000-06-06 | 2004-09-10 | Woodholdings Environmental Inc | Composiciones conservadoras para productos de madera. |
US20080276970A1 (en) * | 2007-05-09 | 2008-11-13 | John Christopher Cameron | Apparatus and method for treating materials with compositions |
MX345899B (es) | 2011-01-18 | 2017-02-22 | Petra Int Holdings Llc | Método para el tratamiento de substratos con halosinalos. |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2500558B2 (ja) | 1991-12-24 | 1996-05-29 | 信越化学工業株式会社 | プライマ―組成物 |
DE19805083A1 (de) * | 1998-02-09 | 1999-08-12 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur Herstellung von 3-Glycidyloxypropyltrialkoxysilanen |
JP4270708B2 (ja) | 1999-04-23 | 2009-06-03 | 富士通株式会社 | ケイ素含有ポリマ、その製造方法、それを用いたレジスト組成物、パターン形成方法および電子デバイスの製造方法 |
JP4019247B2 (ja) | 2000-06-02 | 2007-12-12 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP2002179795A (ja) | 2000-12-14 | 2002-06-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | 感光性樹脂、レジスト組成物およびパターン形成方法 |
JP4543577B2 (ja) | 2001-05-22 | 2010-09-15 | 東亞合成株式会社 | 保護されたカテコール基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
CN1570762B (zh) | 2003-03-03 | 2010-10-13 | 罗姆和哈斯电子材料有限责任公司 | 聚合物和含有该聚合物的光刻胶 |
-
2004
- 2004-08-24 CN CNB2004800433746A patent/CN100522977C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-08-24 US US11/572,503 patent/US7432387B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-08-24 EP EP04772077A patent/EP1783131A4/en not_active Withdrawn
- 2004-08-24 WO PCT/JP2004/012116 patent/WO2006021989A1/ja active Application Filing
- 2004-08-24 KR KR1020067027806A patent/KR101097522B1/ko active IP Right Grant
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110343128A (zh) * | 2018-04-04 | 2019-10-18 | 中国科学院化学研究所 | 一种通过硅氢化反应制备硅烷的方法 |
CN110343128B (zh) * | 2018-04-04 | 2021-02-19 | 中国科学院化学研究所 | 一种通过硅氢化反应制备硅烷的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2006021989A1 (ja) | 2006-03-02 |
KR101097522B1 (ko) | 2011-12-22 |
CN100522977C (zh) | 2009-08-05 |
KR20070045156A (ko) | 2007-05-02 |
EP1783131A4 (en) | 2009-03-11 |
EP1783131A1 (en) | 2007-05-09 |
US20080051594A1 (en) | 2008-02-28 |
US7432387B2 (en) | 2008-10-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN100569834C (zh) | 制备具有三有机甲硅烷氧基的有机聚硅氧烷的方法 | |
CN100522977C (zh) | 有机硅化合物的制造方法 | |
EP3730538B1 (en) | Bissilylamino group-containing organic polysilazane compound, method for producing same, and composition containing same and cured product | |
EP3689944A1 (en) | Polysiloxazane compound, method for producing the same, and composition containing the same and cured product thereof | |
CN1854144A (zh) | 具有硅烷醇基有机聚硅氧烷的制造方法 | |
JP4172291B2 (ja) | 有機ケイ素化合物の製造方法 | |
JP4408982B2 (ja) | フェノール基含有有機ケイ素化合物およびその製造方法 | |
JP4605018B2 (ja) | 有機ケイ素化合物の製造方法並びにジオールを有する有機ケイ素樹脂及びその製造方法 | |
TWI820328B (zh) | 含烷氧矽基之有機矽氮烷化合物與其製造方法及包含其之組成物與硬化物 | |
CN1860156B (zh) | 有机硅的官能化(环氧化)和这些有机硅作为防粘涂层的用途 | |
JP2008239489A (ja) | 新規な有機ケイ素化合物 | |
JP3522860B2 (ja) | ハイドロシリレーション法 | |
JP4543577B2 (ja) | 保護されたカテコール基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
KR101097570B1 (ko) | 환상 유기 규소 화합물의 제조 방법 | |
WO2013191955A1 (en) | Monofunctional organopolysiloxanes for compatabilzing polyheterosiloxanes | |
JP4013520B2 (ja) | 新規なハロゲノシランおよびアルカリ可溶性樹脂 | |
US20240132726A1 (en) | Siloxane-functionalized silica | |
Thompson et al. | Hydrolytically stable linkers for silicone carbohydrates derived from hydrodiisopropylsilanes | |
JP4172342B2 (ja) | 環状有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
JP4433563B2 (ja) | 有機ケイ素化合物 | |
JP2002193978A (ja) | 新規な環状有機ケイ素化合物 | |
JP2017066034A (ja) | ジフェニルエチル基及びメトキシシリル基を有する有機ケイ素化合物並びにその製造方法 | |
JP2023546328A (ja) | アルコキシ基含有アミノシロキサンを合成する方法 | |
Trommer et al. | Synthesis of Silicon Synthons for a Selective Oligomer Design | |
PL222441B1 (pl) | Żywice siloksanowo-silseskwioksanowe oraz sposób ich otrzymywania |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20090805 Termination date: 20200824 |