JP2023123480A - 組成物、膜、硬化膜及びその製造方法、近赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、並びに、赤外線センサ - Google Patents
組成物、膜、硬化膜及びその製造方法、近赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、並びに、赤外線センサ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023123480A JP2023123480A JP2023091766A JP2023091766A JP2023123480A JP 2023123480 A JP2023123480 A JP 2023123480A JP 2023091766 A JP2023091766 A JP 2023091766A JP 2023091766 A JP2023091766 A JP 2023091766A JP 2023123480 A JP2023123480 A JP 2023123480A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- composition
- film
- resin
- fluorine atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 333
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 50
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 title claims abstract description 39
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 284
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 284
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims abstract description 129
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims abstract description 79
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 281
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 180
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 145
- -1 hydroxy, carboxy, sulfo Chemical group 0.000 claims description 134
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 119
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 106
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 96
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 88
- 239000002253 acid Chemical group 0.000 claims description 81
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 66
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 64
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 60
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 49
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 37
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 33
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 30
- 239000000038 blue colorant Substances 0.000 claims description 24
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 21
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 19
- 239000001060 yellow colorant Substances 0.000 claims description 19
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 17
- 239000001062 red colorant Substances 0.000 claims description 16
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 11
- 239000000040 green colorant Substances 0.000 claims description 9
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 9
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 7
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims description 7
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 claims description 5
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 363
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 134
- 238000000034 method Methods 0.000 description 77
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 34
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 33
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 29
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 28
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 description 26
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 25
- 230000008569 process Effects 0.000 description 24
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 23
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000011161 development Methods 0.000 description 20
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 20
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 20
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 19
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 19
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 18
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 17
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 17
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 17
- 230000008859 change Effects 0.000 description 16
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 16
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 16
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 16
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 15
- FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole-5,6-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)C(=O)N=C21 FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 15
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 14
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 14
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 14
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 14
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 13
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 13
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 13
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 13
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 13
- 229910052757 nitrogen Chemical group 0.000 description 12
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 12
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 11
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 11
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 11
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 10
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 description 10
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 10
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Natural products OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 10
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 10
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 9
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 9
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 9
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 9
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 9
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 9
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 9
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 8
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 7
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 7
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 7
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 7
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 7
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 7
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 6
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000728 polyester Chemical group 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MZZSDCJQCLYLLL-UHFFFAOYSA-N Secalonsaeure A Natural products COC(=O)C12OC3C(CC1=C(O)CC(C)C2O)C(=CC=C3c4ccc(O)c5C(=O)C6=C(O)CC(C)C(O)C6(Oc45)C(=O)OC)O MZZSDCJQCLYLLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 5
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 4
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 4
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N isoindoline Chemical compound C1=CC=C2CNCC2=C1 GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 4
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 4
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 4
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 4
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 4
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N benzimidazol-2-one Chemical group C1=CC=CC2=NC(=O)N=C21 MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 3
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 description 3
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 3
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- NYGZLYXAPMMJTE-UHFFFAOYSA-M metanil yellow Chemical group [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC(N=NC=2C=CC(NC=3C=CC=CC=3)=CC=2)=C1 NYGZLYXAPMMJTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 3
- RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical compound C1=NC2=CC=NC2=C1 RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical class [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical group C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical class CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- HUVXQFBFIFIDDU-UHFFFAOYSA-N aluminum phthalocyanine Chemical class [Al+3].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 HUVXQFBFIFIDDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 2
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 2
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 2
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 2
- NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxybenzene Chemical group C=COC1=CC=CC=C1 NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical group C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 2
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000001061 orange colorant Substances 0.000 description 2
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 2
- OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N trans-dipyrrin Chemical class C=1C=CNC=1/C=C1\C=CC=N1 OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 2
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical group O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N (+-)-Isoprenaline Chemical compound CC(C)NCC(O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(C)=O MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKCKRZWCOYHBEC-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) benzoate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOC(=O)C1=CC=CC=C1 SKCKRZWCOYHBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFFCVOSCPLKMLG-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) propanoate Chemical compound CCC(=O)ON=C(C)C(C)=O JFFCVOSCPLKMLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N (3-oxopentan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CCC(=O)C(C)=NOC(C)=O HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminoethoxy)ethanol Chemical compound NCCOCCO GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWMQCDFSKINZKW-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-1-[2-(2-chlorophenyl)-4-(3,4,5-trimethoxyphenyl)imidazol-2-yl]-4,5,5-tris(3,4,5-trimethoxyphenyl)-2H-imidazole Chemical compound ClC1=C(C=CC=C1)C1N(C(C(=N1)C1=CC(=C(C(=C1)OC)OC)OC)(C1=CC(=C(C(=C1)OC)OC)OC)C1=CC(=C(C(=C1)OC)OC)OC)C1(N=CC(=N1)C1=CC(=C(C(=C1)OC)OC)OC)C1=C(C=CC=C1)Cl GWMQCDFSKINZKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEMZLMBONIJEPU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-3-[2-(2-chlorophenyl)-4-phenylimidazol-2-yl]-4,5,5-triphenyl-4h-imidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)N1C1(C=2C(=CC=CC=2)Cl)N=C(C=2C=CC=CC=2)C=N1 KEMZLMBONIJEPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical compound NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C=C XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTQHSUHILQWIOM-UHFFFAOYSA-J 2-hydroxypropanoate titanium(4+) dihydroxide Chemical compound O[Ti++]O.CC(O)C([O-])=O.CC(O)C([O-])=O DTQHSUHILQWIOM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- BHMLTIAYKIBGRK-UHFFFAOYSA-N 2-imino-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(=N)C(=O)C1=CC=CC=C1 BHMLTIAYKIBGRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORNUPNRNNSVZTC-UHFFFAOYSA-N 2-vinylthiophene Chemical compound C=CC1=CC=CS1 ORNUPNRNNSVZTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYAKNSNAABYQBU-UHFFFAOYSA-N 2h-dibenzofuran-1-one Chemical class O1C2=CC=CC=C2C2=C1C=CCC2=O JYAKNSNAABYQBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBNVWXKPFORCRI-UHFFFAOYSA-N 2h-naphtho[2,3-f]quinolin-1-one Chemical class C1=CC=CC2=CC3=C4C(=O)CC=NC4=CC=C3C=C21 XBNVWXKPFORCRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVYXPOCADCXMLP-UHFFFAOYSA-N 3-butoxy-n,n-dimethylpropanamide Chemical compound CCCCOCCC(=O)N(C)C LVYXPOCADCXMLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpent-2-enamide Chemical compound CCC(CC)=CC(N)=O UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBVMWHCOFMFPEG-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-n,n-dimethylpropanamide Chemical compound COCCC(=O)N(C)C LBVMWHCOFMFPEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLLCBHHFPWVBQP-UHFFFAOYSA-N 3-methylidene-1-phenylpyrrolidine-2,5-dione Chemical compound O=C1C(=C)CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 JLLCBHHFPWVBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKAWETHEYBZGSR-UHFFFAOYSA-N 3-methylidenepyrrolidine-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)NC1=O FKAWETHEYBZGSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enylhepta-1,6-diene Chemical compound C=CCC(CC=C)CC=C XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100029921 Dipeptidyl peptidase 1 Human genes 0.000 description 1
- 102100020751 Dipeptidyl peptidase 2 Human genes 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000793922 Homo sapiens Dipeptidyl peptidase 1 Proteins 0.000 description 1
- 101000931864 Homo sapiens Dipeptidyl peptidase 2 Proteins 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical group C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical group CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- 241000872198 Serjania polyphylla Species 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007877 V-601 Substances 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- DPQRMIPRAHPPNE-UHFFFAOYSA-N [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DPQRMIPRAHPPNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNZDJSGUWLGTLA-UHFFFAOYSA-N [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C)=NOC(=O)C1=CC=CC=C1 ZNZDJSGUWLGTLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] propanoate Chemical compound CCC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011481 absorbance measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGFLAAWSLCPCDY-UHFFFAOYSA-N benzene;cyclopenta-1,3-diene;iron Chemical class [Fe].C1C=CC=C1.C1=CC=CC=C1 JGFLAAWSLCPCDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001562 benzopyrans Chemical class 0.000 description 1
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N benzopyrrole Natural products C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical class N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- RKTGAWJWCNLSFX-UHFFFAOYSA-M bis(2-hydroxyethyl)-dimethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].OCC[N+](C)(C)CCO RKTGAWJWCNLSFX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Chemical class 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical group 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical class O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- KVFVBPYVNUCWJX-UHFFFAOYSA-M ethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](C)(C)C KVFVBPYVNUCWJX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000005303 fluorophosphate glass Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005226 heteroaryloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Chemical class N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003387 indolinyl group Chemical group N1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical class [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical class C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 238000000199 molecular distillation Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- OVHHHVAVHBHXAK-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylprop-2-enamide Chemical compound CCN(CC)C(=O)C=C OVHHHVAVHBHXAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N n-ethenylacetamide Chemical compound CC(=O)NC=C RQAKESSLMFZVMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical class O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical group C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 1
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical class C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 239000005365 phosphate glass Substances 0.000 description 1
- 150000008301 phosphite esters Chemical group 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229940110337 pigment blue 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940067265 pigment yellow 138 Drugs 0.000 description 1
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005606 polypropylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- CPNGPNLZQNNVQM-UHFFFAOYSA-N pteridine Chemical compound N1=CN=CC2=NC=CN=C21 CPNGPNLZQNNVQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-c]pyrazole Chemical compound N1=NC2=CC=NC2=C1 GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGVMPKQSTZIOIU-UHFFFAOYSA-N quaterrylene Chemical group C12=C3C4=CC=C2C(C2=C56)=CC=C5C(C=57)=CC=CC7=CC=CC=5C6=CC=C2C1=CC=C3C1=CC=CC2=CC=CC4=C21 GGVMPKQSTZIOIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 125000003375 sulfoxide group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical group S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 238000001392 ultraviolet--visible--near infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 150000003732 xanthenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1462—Coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
- C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
- C08F220/1807—C7-(meth)acrylate, e.g. heptyl (meth)acrylate or benzyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/12—Esters of phenols or saturated alcohols
- C08F222/20—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/24—Homopolymers or copolymers of amides or imides
- C09D133/26—Homopolymers or copolymers of acrylamide or methacrylamide
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Description
特許文献2には、アクリルアミドのα-置換体、アクリルアミドのN-モノ置換体、アクリルアミドのN,N-ジ置換体及びメタクリルアミドのN-モノ置換体からなるアクリルアミド系モノマーのグループの中から選ばれた少なくとも1種のモノマーを用いた重合体を有する水溶性樹脂と、水溶性アジド化合物を有する架橋剤と、着色剤とを含むことを特徴とする水溶性着色感光性樹脂組成物が記載されている。
<1>
着色剤、樹脂、及び、溶剤を含む組成物であって、
上記樹脂が、下記式(1-1)~下記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の繰返し単位を含み、
上記樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、下記式(1-1)~下記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合が10モル%以上であり、
上記着色剤、及び、近赤外線吸収剤の合計含有量が、組成物の全固形分に対して30質量%以上であり、
上記組成物の波長400~640nmの範囲における吸光度の最小値Aminと、上記組成物の波長1,500nmにおける吸光度Bとの比であるAmin/Bが5以上である
組成物。
式(1-1)中、R11、R12及びR13はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、Arは環員数5~30の芳香族基を表す;
式(1-2)中、R21、R22及びR23はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R24及びR25はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し、R24及びR25は結合して環構造を形成してもよい;
式(1-3)中、R31、R32及びR33はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R34及びR35はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し、R34及びR35は結合して環構造を形成してもよい;
式(1-4)中、R41及びR42はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R43は水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し;
式(1-5)中、R51~R54はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R55は水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表す。
<2> 上記樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、上記式(1-1)で表される繰返し単位の合計量の割合が10モル%以上である、<1>に記載の組成物。
<3> 上記樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、上記式(1-1)~上記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合が60モル%を超える、<1>に記載の組成物。
<4> 上記式(1-1)中、Arが置換基としてヘテロ原子を含む置換基を有する、<1>~<3>のいずれか1つに記載の組成物。
<5> 上記組成物から形成された、膜厚1μmの膜における膜の厚み方向の光透過率50%を示す波長が、700~950nmであり、かつ、上記膜の波長950~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上である、<1>~<4>のいずれか1つに記載の組成物。
<6> 上記組成物から形成された、膜厚1μmの膜における膜の厚み方向の光透過率50%を示す波長が、700~800nmであり、かつ、上記膜の波長800~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上である、<1>~<5>のいずれか1つに記載の組成物。
<7> 上記着色剤が有機顔料である、<1>~<6>のいずれか1つに記載の組成物。
<8> 近赤外線吸収剤を含む、<1>~<7>のいずれか1つに記載の組成物。
<9> 上記着色剤が、黒色色材を含む、<1>~<8>のいずれか1つに記載の組成物。
<10> 上記着色剤が、赤色色材、緑色色材、青色色材、黄色色材及び紫色色材よりなる群から選ばれた少なくとも1種の色材を含む、<1>~<9>のいずれか1つに記載の組成物。
<11> 上記樹脂が、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、及び、アミノ基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基を有する、<1>~<10>のいずれか1つに記載の組成物。
<12> 上記樹脂の酸価が0~150mgKOH/gである、<1>~<11>のいずれか1つに記載の組成物。
<13> 上記樹脂がエチレン性不飽和結合を有する、<1>~<12>のいずれか1つに記載の組成物。
<14> 上記樹脂として、下記樹脂1及び下記樹脂2を含む、<1>~<13>のいずれか1つに記載の組成物;
樹脂1:上記樹脂であって、酸基及びエチレン性不飽和結合を有する基を含む樹脂;
樹脂2:上記樹脂であって、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、及び、アミノ基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基、及び、分子量が500~10,000であり、かつ、酸基及び塩基性基を有しない分子鎖を有する樹脂。
<15> 重合性化合物を更に含む、<1>~<14>のいずれか1つに記載の組成物。
<16> 重合開始剤を更に含む、<1>~<15>のいずれか1つに記載の組成物。
<17> 上記重合開始剤が光重合開始剤である、<16>に記載の組成物。
<18> フォトリソグラフィ法でのパターン形成用である、<1>~<17>のいずれか1つに記載の組成物。
<19> 固体撮像素子用である、<1>~<18>のいずれか1つに記載の組成物。
<20> <1>~<19>のいずれか1つに記載の組成物から得られる膜。
<21> <1>~<19>のいずれか1つに記載の組成物を硬化してなる硬化膜。
<22> <20>に記載の膜、又は、<21>に記載の硬化膜を含む近赤外線透過フィルタ。
<23> <20>に記載の膜、又は、<21>に記載の硬化膜を含む固体撮像素子。
<24> <20>に記載の膜、又は、<21>に記載の硬化膜を含む赤外線センサ。
<25> <1>~<19>のいずれか1つに記載の組成物から形成された膜を、露光及び加熱の少なくとも一方により硬化する工程を含む、硬化膜の製造方法。
<26> <1>~<19>のいずれか1つに記載の組成物から形成された膜を、露光により硬化する工程を含む、<24>に記載の硬化膜の製造方法。
<27> <1>~<19>のいずれか1つに記載の組成物から形成された膜の一部を露光する露光工程と、
上記露光後の膜を現像する現像工程とを含む
硬化膜の製造方法。
本明細書において、「~」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さない基(原子団)と共に置換基を有する基(原子団)をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含する。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X線、電子線等の活性光線又は放射線が挙げられる。
本明細書において、(メタ)アリル基は、アリル及びメタリルの双方、又は、いずれかを表し、「(メタ)アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表し、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの双方、又は、いずれかを表す。
本明細書において、重量平均分子量及び数平均分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィ)法により測定したポリスチレン換算値である。
本明細書において、近赤外線とは、波長700~2,500nmの光をいう。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
本明細書において「工程」との語は独立した工程だけを指すのではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において、好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本発明の組成物は、着色剤、樹脂、及び、溶剤を含む組成物であって、上記樹脂が、下記式(1-1)~下記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の繰返し単位を含み、上記樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、下記式(1-1)~下記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合が10モル%以上であり、上記着色剤、及び、近赤外線吸収剤の合計の含有量が、組成物の全固形分に対して30質量%以上であり、上記組成物の波長400~640nmの範囲における吸光度の最小値Aminと、上記組成物の波長1,500nmにおける吸光度Bとの比であるAmin/Bが5以上である。
式(1-1)中、R11、R12及びR13はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、Arは環員数5~30の芳香族基を表す;
式(1-2)中、R21、R22及びR23はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R24及びR25はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し、R24及びR25は結合して環構造を形成してもよい;
式(1-3)中、R31、R32及びR33はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R34及びR35はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し、R34及びR35は結合して環構造を形成してもよい;
式(1-4)中、R41及びR42はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R43は水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し;
式(1-5)中、R51~R54はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R55は水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表す。
本発明者らは、鋭意検討した結果、このような着色剤、並びに、樹脂及び溶剤を含み、上記着色剤及び必要に応じて含有してもよい近赤外線吸収剤の含有量が組成物の全固形分に対して30質量%以上である組成物において、樹脂として、従来から使用されているアクリル樹脂等を用いると、例えば、高温(例えば320℃以上)の加熱処理を要する工程に供された場合に得られる膜の膜収縮率が高くなるなど、膜の耐熱性に更なる改善の余地があることを見出した。
本発明者らは、上記膜収縮は、高温によりアクリル樹脂が分解することによって発生するものであると推測した。
そこで本発明者らは、鋭意検討した結果、樹脂として上記式(1-1)~式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合が10モル%以上である樹脂(以下、「特定樹脂」ともいう。)を用いることにより、耐熱性に優れた膜が得られることを見出した。
上記効果が得られるメカニズムは定かではないが、上記特定樹脂を含む組成物により得られる膜は、高温の加熱処理を要する工程においても上記特定樹脂の分解が抑制されると考えられる。そのため、本発明の組成物により形成される膜は加熱による収縮が抑制され、耐熱性に優れると考えられる。
ここで、本発明者らは、組成物をこのような可視光を遮蔽する設計とした場合、パターン形成時の露光における紫外光の透過が妨げられる場合があり、露光感度に更なる向上の余地があることを見出した。
そこで本発明者らは、鋭意検討した結果、従来のアクリル樹脂に含まれる構造と比較して、極性の高い構造である式(1-1)~式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位を有する特定樹脂を用いることにより、露光感度も向上しやすいことを見出した。これは、例えば、上記特定樹脂を用いることにより、極性の低い構造である特定樹脂又は重合性化合物における重合性基が組成物中で近接する可能性が高くなり、露光時における上記重合性基の架橋が進行しやすくなるためであると推測される。
以下、本発明の組成物の詳細について説明する。
本発明の組成物は、波長400~640nmの範囲における吸光度の最小値Aminと、上記組成物の波長1,500nmにおける吸光度Bとの比であるAmin/Bが5以上である。
本発明の組成物は、近赤外線を透過することから、近赤外線透過性組成物ともいえる。
上記Amin/Bの値は、10以上であることが好ましく、15以上であることがより好ましく、30以上であることが更に好ましい。
本発明の組成物において、上記Amin/Bの値は、例えば、着色剤の種類及び着色剤の含有量を調整することにより設計される。
Aλ=-log(Tλ/100) ・・・(1)
Aλは、波長λにおける吸光度であり、Tλは、波長λにおける透過率(%)である。
本発明において、吸光度の値は、組成物の状態で測定した値であってもよく、組成物を用いて製膜した膜での値であってもよい。膜の状態で吸光度を測定する場合は、ガラス基板上にスピンコート等の方法により、乾燥後の膜の厚さが所定の厚さとなるように組成物を塗布し、ホットプレートを用いて100℃、120秒間乾燥して調製した膜を用いて測定することが好ましい。膜の厚さは、膜を有する基板について、触針式表面形状測定器(ULVAC社製 DEKTAK150)を用いて測定することができる。
本発明の組成物を、ガラス基板上にスピンコート等の方法により、乾燥後の膜の厚さが所定の厚さとなるように塗布し、ホットプレートを用いて100℃、120秒間乾燥する。膜の厚さは、膜を有する乾燥後の基板を、触針式表面形状測定器(ULVAC社製 DEKTAK150)を用いて測定する。この膜を有する乾燥後の基板を、紫外可視近赤外分光光度計(日立ハイテクノロジーズ社製 U-4100)を用いて、波長300~1,500nmの範囲において透過率を測定する。
(1A):波長400~640nmの範囲における吸光度の最小値Amin1と、波長800~1,500nmの範囲における吸光度の最大値Bmax1との比であるAmin1/Bmax1が5以上であり、10以上であることが好ましく、15以上であることがより好ましく、30以上であることが更に好ましい。この態様によれば、例えば、波長400~640nmの範囲の光を遮光して、波長670nmを超える近赤外線を透過可能な膜を形成することができる。
(2A):波長400~750nmの範囲における吸光度の最小値Amin2と、波長900~1,500nmの範囲における吸光度の最大値Bmax2との比であるAmin2/Bmax2が5以上であり、10以上であることが好ましく、15以上であることがより好ましく、30以上であることが更に好ましい。この態様によれば、例えば、波長400~750nmの範囲の光を遮光して、波長850nmを超える近赤外線を透過可能な膜を形成することができる。
(3A):波長400~830nmの範囲における吸光度の最小値Amin3と、波長1,000~1,500nmの範囲における吸光度の最大値Bmax3との比であるAmin3/Bmax3が5以上であり、10以上であることが好ましく、15以上であることがより好ましく、30以上であることが更に好ましい。この態様によれば、例えば、波長400~830nmの範囲の光を遮光して、波長940nmを超える近赤外線を透過可能な膜を形成することができる。
(4A):波長400~950nmの範囲における吸光度の最小値Amin4と、波長1,100~1,500nmの範囲における吸光度の最大値Bmax4との比であるAmin4/Bmax4が5以上であり、10以上であることが好ましく、15以上であることがより好ましく、30以上であることが更に好ましい。この態様によれば、例えば、波長400~950nmの範囲の光を遮光して、波長1,040nmを超える近赤外線を透過可能な膜を形成することができる。
(1B):乾燥後の膜厚が1μm、2μm、3μm、4μm又は5μmの膜を製膜した際に、膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~640nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長800~1,500nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)である態様。
(2B):乾燥後の膜厚が1μm、2μm、3μm、4μm又は5μmの膜を製膜した際に、膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~750nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長900~1,500nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)である態様。
(3B):乾燥後の膜厚が1μm、2μm、3μm、4μm又は5μmの膜を製膜した際に、膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~830nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長1,000~1,500nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)である態様。
(4B):乾燥後の膜厚が1μm、2μm、3μm、4μm又は5μmの膜を製膜した際に、膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~950nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長1,100~1,500nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)である態様。
本発明の組成物を用いて、200℃で30分間加熱して厚さ0.60μmの膜を形成した際に、上記膜を窒素雰囲気下にて320℃で3時間加熱処理した後の膜の厚さは、加熱処理前の膜の厚さの70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることが更に好ましい。
また、上記膜を窒素雰囲気下にて350℃で5時間加熱処理した後の膜の厚さは、加熱処理前の膜の厚さの70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることが更に好ましい。
また、上記膜を窒素雰囲気下にて400℃で5時間加熱処理した後の膜の厚さは、加熱処理前の膜の厚さの70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることが更に好ましい。
上記物性は、用いる特定樹脂、又は、その他の樹脂の種類や含有量を調整する等の方法により達成することができる。
また、本発明の組成物を用いて、200℃で30分間加熱して厚さ0.60μmの膜を形成した際に、上記膜を窒素雰囲気下にて320℃で3時間加熱処理したときに、加熱処理後の膜の下記式(1)で表される吸光度の変化率ΔAは、50%以下であることが好ましく、45%以下であることがより好ましく、40%以下であることが更に好ましく、35%以下であることが特に好ましい。
式(1):ΔA(%)=|100-(A2/A1)×100|
ΔAは、加熱処理後の膜の吸光度の変化率であり、
A1は、加熱処理前の膜の波長400~1,500nmの範囲における吸光度の最大値であり、
A2は、加熱処理後の膜の吸光度であって、加熱処理前の膜の波長400~1,500nmの範囲における吸光度の最大値を示す波長での吸光度である。
上記物性は、用いる特定樹脂、又は、その他の樹脂の種類や含有量を調整する等の方法により達成することができる。
上記物性は、用いる特定樹脂、又は、その他の樹脂の種類や含有量を調整する等の方法により達成することができる。
ΔAλ=|100-(A2λ/A1λ)×100| ・・・(2)
ΔAλは、加熱処理後の膜の波長λにおける吸光度の変化率であり、
A1λは、加熱処理前の膜の波長λにおける吸光度であり、
A2λは、加熱処理後の膜の波長λにおける吸光度である。
上記物性は、用いる特定樹脂、又は、その他の樹脂の種類や含有量を調整する等の方法により達成することができる。
ΔB=|100-(B2/B1)×100| ・・・(2)
ΔBは、加熱処理後の膜の波長1,500nmにおける吸光度の変化率であり、
B1は、加熱処理前の膜の波長1,500nmにおける吸光度であり、
B2は、加熱処理後の膜の波長1,500nmにおける吸光度である。
上記物性は、用いる特定樹脂、又は、その他の樹脂の種類や含有量を調整する等の方法により達成することができる。
また、本発明の組成物から形成された、膜厚1μmの膜における膜の厚み方向の波長950~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上であることが好ましく、波長900~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上であることがより好ましく、波長850~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上であることが更に好ましく、波長800~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上であることが特に好ましい。
これらの中でも、下記(T1)に記載された態様が好ましく、下記(T2)に記載された態様がより好ましい。
(T1)本発明の組成物から形成された、膜厚1μmの膜における膜の厚み方向の光透過率50%を示す波長が、700~950nmであり、かつ、上記膜の波長950~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上である
(T2)本発明の組成物から形成された、膜厚1μmの膜における膜の厚み方向の光透過率50%を示す波長が、700~800nmであり、かつ、上記膜の波長800~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上である
本発明の組成物から形成された、膜厚1μmの膜は、例えば、組成物をガラス基板に塗布し100℃で120秒加熱することにより形成することができる。
本発明の組成物は、近赤外線透過フィルタ用の組成物として好ましく用いることができる。具体的には、近赤外線透過フィルタの画素形成用の組成物として好ましく用いることができる。
また、本発明の組成物は、固体撮像素子用であることが好ましい。例えば、固体撮像素子に用いられる近赤外線透過フィルタの画素形成用の組成物として好ましく用いることができる。
本発明の組成物は、着色剤を含有する。着色剤としては白色色材、黒色色材、有彩色色材が挙げられる。なお、本発明において、白色色材は純白色のみならず、白に近い明るい灰色(例えば灰白色、薄灰色など)の色材を含む。
また、色材は、有彩色色材、及び、黒色色材よりなる群から選ばれる少なくとも1種の色材を含むことが好ましく、有彩色色材を含むことがより好ましく、赤色色材、緑色色材、青色色材、黄色色材及び紫色色材よりなる群から選ばれた少なくとも1種の色材を含むことが更に好ましい。
また、着色剤は、黒色色材を含むことも好ましい。
顔料Aを6質量%と、樹脂B-5を10質量%と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを84質量%含む組成物を用いて、200℃で30分加熱して厚さ0.60μmの膜を形成した際に、上記膜を窒素雰囲気下にて320℃で3時間加熱処理したとき、加熱処理後の膜の下記式(10)で表される吸光度の変化率ΔA10が50%以下である;
ΔA10=|100-(A12/A11)×100| ・・・(10)
ΔA10は、加熱処理後の膜の吸光度の変化率であり、
A11は、加熱処理前の膜の波長400~1,100nmの範囲における吸光度の最大値であり、
A12は、加熱処理後の膜の吸光度であって、加熱処理前の膜の波長400~1,100nmの範囲における吸光度の最大値を示す波長での吸光度である;
樹脂B-5は、下記構造の樹脂であって、主鎖に付記した数値はモル比であり、重量平均分子量は11,000であり、酸価は32mgKOH/gである。
有彩色色材としては、波長400~700nmの範囲に極大吸収波長を有する色材が挙げられる。例えば、黄色色材、赤色色材(オレンジ色色材等を含む)、緑色色材、紫色色材、青色色材などが挙げられる。耐熱性の観点から有彩色色材は、顔料(有彩色顔料)であることが好ましく、赤色顔料(オレンジ色顔料等を含む)、黄色顔料、及び青色顔料がより好ましく、赤色顔料及び青色顔料が更に好ましい。有彩色顔料の具体例としては、例えば、以下に示すものが挙げられる。
C.I.Pigment Orange 2,5,13,16,17:1,31,34,36,38,43,46,48,49,51,52,55,59,60,61,62,64,71,73等(以上、オレンジ色顔料)、
C.I.Pigment Red 1,2,3,4,5,6,7,9,10,14,17,22,23,31,38,41,48:1,48:2,48:3,48:4,49,49:1,49:2,52:1,52:2,53:1,57:1,60:1,63:1,66,67,81:1,81:2,81:3,83,88,90,105,112,119,122,123,144,146,149,150,155,166,168,169,170,171,172,175,176,177,178,179,184,185,187,188,190,200,202,206,207,208,209,210,216,220,224,226,242,246,254,255,264,270,272,279,294(キサンテン系、Organo Ultramarine、Bluish Red),295(モノアゾ系),296(ジアゾ系)、297(アミノケトン系)等(以上、赤色顔料)、
C.I.Pigment Green 7,10,36,37,58,59,62,63,64(フタロシアニン系),65(フタロシアニン系),66(フタロシアニン系)等等(以上、緑色顔料)、
C.I.Pigment Violet 1,19,23,27,32,37,42,60(トリアリールメタン系),61(キサンテン系)等(以上、紫色顔料)、
C.I.Pigment Blue 1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,29,60,64,66,79,80,87(モノアゾ系),88(メチン系)等(以上、青色顔料)。
(1)赤色色材と青色色材とを含有する態様。
(2)赤色色材と緑色色材とを含有する態様。
(3)赤色色材と青色色材と黄色色材とを含有する態様。
(4)赤色色材と青色色材と黄色色材と紫色色材とを含有する態様。
(5)赤色色材と青色色材と黄色色材と紫色色材と緑色色材とを含有する態様。
(6)赤色色材と青色色材と黄色色材と緑色色材とを含有する態様。
(7)赤色色材と青色色材と緑色色材とを含有する態様。
(8)黄色色材と紫色色材とを含有する態様。
白色色材としては、酸化チタン、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、シリカ、タルク、マイカ、水酸化アルミニウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、中空樹脂粒子、硫化亜鉛などの無機顔料(白色顔料)が挙げられる。白色顔料は、チタン原子を有する粒子が好ましく、酸化チタンがより好ましい。また、白色顔料は、波長589nmの光に対する屈折率が2.10以上の粒子であることが好ましい。前述の屈折率は、2.10~3.00であることが好ましく、2.50~2.75であることがより好ましい。
黒色色材としては特に限定されず、公知のものを用いることができる。例えば、カーボンブラック、チタンブラック、グラファイト等の無機顔料(黒色顔料)が挙げられ、カーボンブラック、チタンブラックが好ましく、チタンブラックがより好ましい。チタンブラックとは、チタン原子を含有する黒色粒子であり、低次酸化チタンや酸窒化チタンが好ましい。チタンブラックは、分散性向上、凝集性抑制などの目的で必要に応じ、表面を修飾することが可能である。例えば、酸化珪素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、又は、酸化ジルコニウムでチタンブラックの表面を被覆することが可能である。また、特開2007-302836号公報に表されるような撥水性物質での処理も可能である。黒色顔料として、カラーインデックス(C.I.)Pigment Black 1,7等が挙げられる。チタンブラックは、個々の粒子の一次粒子径及び平均一次粒子径のいずれもが小さいことが好ましい。具体的には、平均一次粒子径が10~45nmであることが好ましい。チタンブラックは、分散物として用いることもできる。例えば、チタンブラック粒子とシリカ粒子とを含み、分散物中のSi原子とTi原子との含有比が0.20~0.50の範囲に調整した分散物などが挙げられる。上記分散物については、特開2012-169556号公報の段落0020~0105の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。チタンブラックの市販品の例としては、チタンブラック10S、12S、13R、13M、13M-C、13R-N、13M-T(商品名:三菱マテリアル(株)製)、ティラック(Tilack)D(商品名:赤穂化成(株)製)などが挙げられる。
有彩色色材としては、有彩色顔料が好ましく、有彩色顔料としては、赤色顔料(オレンジ色顔料を含む)、緑色顔料、青色顔料、黄色顔料、及び、紫色顔料が挙げられる。
また、有彩色顔料としては、無機顔料又は有機-無機顔料に、有機発色団を置換した材料を用いることもできる。無機顔料や有機-無機顔料を有機発色団で置換することで、色相設計をしやすくできる。顔料Aには、赤色顔料、青色顔料及び黄色顔料から選ばれる少なくとも1種を含むものが好ましく用いられ、青色顔料及び黄色顔料から選ばれる少なくとも1種を含むものがより好ましく用いられ、青色顔料を含むものが更に好ましく用いられる。この態様によれば、可視領域の遮光性に優れた膜を形成しやすい。また、青色顔料を用いることで、耐光性に優れた膜を形成できる。また、黄色顔料を用いることで、得られる膜の可視透過率の均一化を図ることができる。
式中、R1及びR2はそれぞれ独立して、-OH又は-NR5R6であり、R3及びR4はそれぞれ独立して、=O又は=NR7であり、R5~R7はそれぞれ独立して、水素原子又はアルキル基である。R5~R7が表すアルキル基の炭素数は1~10が好ましく、1~6がより好ましく、1~4が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐及び環状のいずれであってもよく、直鎖又は分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。置換基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、シアノ基及びアミノ基が好ましい。
(A-1)有機黒色色材と青色色材とを含有する態様。
(A-2)有機黒色色材と青色色材と黄色色材とを含有する態様。
(A-3)有機黒色色材と青色色材と黄色色材と赤色色材とを含有する態様。
(A-4)有機黒色色材と青色色材と黄色色材と紫色色材とを含有する態様。
上記(A-2)の態様において、有機黒色色材と青色色材と黄色色材の質量比は、有機黒色色材:青色色材:黄色色材=100:10~90:10~90であることが好ましく、100:15~85:15~80であることがより好ましく、100:20~80:20~70であることが更に好ましい。
上記(A-3)の態様において、有機黒色色材と青色色材と黄色色材と赤色色材との質量比は、有機黒色色材:青色色材:黄色色材:赤色色材=100:20~150:1~60:10~100であることが好ましく、100:30~130:5~50:20~90であることがより好ましく、100:40~120:10~40:30~80であることが更に好ましい。
上記(A-4)の態様において、有機黒色色材と青色色材と黄色色材と紫色色材との質量比は、有機黒色色材:青色色材:黄色色材:紫色色材=100:20~150:1~60:10~100であることが好ましく、100:30~130:5~50:20~90であることがより好ましく、100:40~120:10~40:30~80であることが更に好ましい。
また、組成物の全固形分中における着色剤である顔料の含有量は20質量%以上であることが好ましく、25質量%以上であることがより好ましく、30質量%以上であることが更に好ましい。また、上記含有量の上限は、90質量%以下であることが好ましく、80質量%以下であることがより好ましく、70質量%以下であることが更に好ましい。
また、着色剤中における染料の含有量は50質量%以下であることが好ましく、40質量%以下であることがより好ましく、30質量%以下であることが更に好ましい。
また、本発明の組成物は、得られる膜を高温に加熱した際の膜厚変化をより効果的に抑制しやすいという理由から染料を実質的に含有しないことも好ましい。本発明の組成物が染料を実質的に含まない場合、本発明の組成物の全固形分中における染料の含有量が0.1質量%以下であることが好ましく、0.05質量%以下であることがより好ましく、含有しないことが特に好ましい。
また、着色剤、及び、後述する近赤外線吸収剤の合計含有量は、組成物の全固形分に対して30質量%以上であり、30~90質量%であることが好ましく、30~80質量%であることがより好ましく、30~70質量%であることが更に好ましい。ただし、上記態様において、近赤外線吸収剤の含有量は0質量%であってもよい。
着色剤である顔料、及び、近赤外線吸収剤である顔料の合計含有量は、組成物の全固形分に対して30質量%以上であることが好ましく、30~90質量%であることがより好ましく、30~80質量%であることが更に好ましく、30~70質量%であることが特に好ましい。ただし、上記態様において、近赤外線吸収剤である顔料の含有量は0質量%であってもよい。
また、本発明の組成物は、着色剤に加え、近赤外線吸収剤を更に含むことが好ましい。
また、本発明の組成物は、有彩色色材及び近赤外線吸収剤を含むことが好ましく、2種以上の有彩色色材と後述する近赤外線吸収剤とを含むことがより好ましく、赤色色材、青色色材及び近赤外線吸収剤を含むことが更に好ましい。
また、着色剤は、黒色色材と後述する近赤外線吸収剤とを含むことも好ましい。
これらの態様によれば、本発明の組成物を、近赤外線透過フィルタ形成用の組成物として好ましく用いることができる。
これらの着色剤の組み合わせについては、特開2013-77009号公報、特開2014-130338号公報、国際公開第2015/166779号等を参照できる。
本発明の組成物は上述の着色剤又は上述の近赤外線吸収剤として、顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体としては、発色団の一部分を、酸基、塩基性基又はフタルイミドメチル基で置換した構造を有する化合物が挙げられる。顔料誘導体を構成する発色団としては、キノリン骨格、ベンゾイミダゾロン骨格、ジケトピロロピロール骨格、アゾ骨格、フタロシアニン骨格、アンスラキノン骨格、キナクリドン骨格、ジオキサジン骨格、ペリノン骨格、ペリレン骨格、チオインジゴ骨格、イソインドリン骨格、イソインドリノン骨格、キノフタロン骨格、スレン骨格、金属錯体系骨格等が挙げられ、キノリン骨格、ベンゾイミダゾロン骨格、ジケトピロロピロール骨格、アゾ骨格、キノフタロン骨格、イソインドリン骨格及びフタロシアニン骨格が好ましく、アゾ骨格及びベンゾイミダゾロン骨格がより好ましい。顔料誘導体が有する酸基としては、スルホ基、カルボキシ基が好ましく、スルホ基がより好ましい。顔料誘導体が有する塩基性基としては、アミノ基が好ましく、三級アミノ基がより好ましい。
本発明の組成物は、式(1-1)~式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の繰返し単位を含む樹脂であって、上記樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、式(1-1)~式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合が10モル%以上である樹脂(特定樹脂)を含む。
熱分解GC-MSにより、特定樹脂を熱分解し、質量分析を行うことにより、分解された繰返し単位の構造を同定する。同定した構造のモル質量から、特定樹脂における繰返し単位の存在モル量を同定することができる。
-R11、R12及びR13-
式(1-1)中、R11、R12及びR13はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
上記アルキル基としては、炭素数1~10のアルキル基が好ましく、炭素数1~4のアルキル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
本明細書において、特段の記載がない限り、「アルキル基」又は「脂肪族炭化水素基」の記載には、直鎖状、分岐鎖状、又は、環状構造を有するアルキル基又は脂肪族炭化水素基の全てが含まれるものとする。
上記芳香族炭化水素基としては、炭素数6~20の芳香族炭化水素環が好ましく、フェニル基がより好ましい。
上記アルキル基、又は、上記芳香族炭化水素基は、本発明の効果が得られる範囲内において、置換基を有していてもよい。
また、上記芳香族炭化水素基には、本発明の効果が得られる範囲内において、別の芳香族炭化水素環又は別の芳香族複素環が結合していてもよい。上記結合の態様としては、縮合環、架橋環、スピロ環等が挙げられる。
式(1-1)中、Arは環員数5~30の芳香族基を表し、炭素数6~20の芳香族炭化水素基、又は、環員数5~20の芳香族複素環基が好ましく、炭素数6~20の芳香族炭化水素基がより好ましい。
上記芳香族炭化水素基としては、フェニル基、又は、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
上記芳香族複素環基としては、複素原子として窒素原子、硫黄原子、又は、酸素原子を含む芳香族複素環基が好ましい。上記複素原子は芳香族複素環基に1つのみ存在してもよいし、2以上存在してもよい。芳香族複素環基に複素原子が2以上存在する場合、上記複素原子は、同一であっても異なっていてもよい。上記芳香族複素環基としては、チエニル基、ピリジル基、1-イミダゾリル基等が挙げられる。
上記芳香族基は、本発明の効果が得られる範囲内において、置換基を有していてもよい。置換基としては、ヘテロ原子を含む置換基を有することが好ましい。上記ヘテロ原子を含む置換基におけるヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、又は、リン原子が好ましい。上記ヘテロ原子を含む置換基は、これらのヘテロ原子を1種単独で含んでもよいし、2種以上を含んでもよい。また、上記ヘテロ原子を含む置換基におけるヘテロ原子の数は、特に限定されないが、例えば1~10であることが好ましい。
上記ヘテロ原子を含む置換基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ホスホン酸基、活性イミド基(置換スルホンアミド基、-S(=O)2NHC(=O)R、-S(=O)2NHS(=O)2R、-C(=O)NHS(=O)2R、Rは置換基を有していてもよい炭化水素基)、又は、スルホンアミド基(-S(=O)2NRS1 2、又はRS2-S(=O)2-NRS3-、RS1は水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表し、RS1の少なくとも一方が水素原子であることが好ましく、RS1の両方が水素原子であることがより好ましい。上記RS2は1価の置換基を表し、炭化水素基であることが好ましい。上記RS3は水素原子又は炭化水素基を表し、炭化水素基であることが好ましい。)等の酸基、アミノ基、アルキル基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、ハロゲン原子等が挙げられる。
また、これらの置換基は、連結基を介して上記芳香族基に結合していてもよい。連結基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、-O-、-C(=O)-、-S-、-S(=O)2-、-NRN-、又は、これらを2以上結合した基等が挙げられる。RNは水素原子又は炭化水素基を表し、水素原子、アルキル基又は芳香族炭化水素基が好ましく、水素原子又はアルキル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。また、上記連結基に対し、上記置換基が2以上結合してもよい。
本発明の好ましい一態様としては、上記置換基が、上記連結基を介さず上記芳香族基に直接結合する態様が挙げられる。
組成物にアルカリ現像性を付与する観点からは、Arが上記ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ホスホン酸基、活性イミド基、又は、スルホンアミド基等の酸基を有することが好ましい。
また、上記酸基は、他の構造とエステル結合を形成してもよい。上記他の構造としては、アルキル基(例えばメチル基、エチル基など)、ポリマー鎖、エチレン性不飽和結合を有する基を含む構造等が挙げられる。上記ポリマー鎖としては、後述する分子量が500~10,000であり、かつ、酸基及び塩基性基を有しない分子鎖等が挙げられる。
また、上記アミノ基は、他の構造とアミド結合、ウレタン結合又はウレア結合を形成してもよい。上記他の構造は、酸基がエステル結合する対象として説明した他の構造と同様である。
式(1-1)で表される繰返し単位は、下記式(1-1-1)で表される繰返し単位、下記式(1-1-2)で表される繰返し単位又は下記式(1-1-3)で表される繰返し単位であることが好ましい。
また、特定樹脂は、式(1-1)で表される繰返し単位として、式(1-1-2)で表される繰返し単位を含むことが好ましく、式(1-1-2)で表される繰返し単位及び式(1-1-3)で表される繰返し単位を含むことがより好ましい。
式(1-1-1)、式(1-1-2)及び式(1-1-3)中、R11、R12及びR13はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、Ar1は環員数5~30の芳香族基を表し、X11は炭素数1~30のアルキル基、炭素数6~20の芳香族炭化水素基、又は、炭素数1~30の飽和脂肪族炭化水素基、及び、炭素数6~20の芳香族炭化水素基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基と、-C(=O)O-若しくは-C(=O)NRN-との組み合わせにより表される基を表し、n1は0以上Ar1の最大置換数以下の整数を表し、Ar2は環員数5~30の芳香族基を表し、X12はそれぞれ独立に、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ホスホン酸基、活性イミド基、又は、スルホンアミド基を表し、n2は1以上Ar2の最大置換数以下の整数を表し、Ar3は環員数5~30の芳香族基を表し、X13はそれぞれ独立に、下記式(E-1)~式(E-11)のいずれかで表される基を表し、n3は1以上Ar3の最大置換数以下の整数を表す。RNは水素原子又は炭化水素基を表し、水素原子、アルキル基又は芳香族炭化水素基が好ましく、水素原子又はアルキル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。
式(E-1)~式(E-11)中、RE1~RE3、RE13、RE15、RE17、及び、RE19はそれぞれ独立に、1価の置換基を表し、RE4~RE12、RE14、RE16、及び、RE18はそれぞれ独立に、水素原子又は1価の置換基を表し、RE4及びRE5のうち少なくとも一方は1価の置換基であり、RE6及びRE7のうち少なくとも一方は1価の置換基であり、RE8及びRE9のうち少なくとも一方は1価の置換基であり、RE10及びRE11のうち少なくとも一方は1価の置換基であり、RE12及びRE13のうち少なくとも一方は1価の置換基であり、RE14及びRE15のうち少なくとも一方は1価の置換基であり、RE16及びRE17のうち少なくとも一方は1価の置換基であり、RE18及びRE19のうち少なくとも一方は1価の置換基であり、*は式(1-1-3)中のAr3との結合部位を表す。
式(1-1-1)、式(1-1-2)及び式(1-1-3)中、R11、R12及びR13はそれぞれ、式(1-1)中のR11、R12及びR13と同義であり、好ましい態様も同様である。
式(1-1-1)中、Ar1は式(1-1)におけるArと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(1-1-1)中、X11は炭素数1~30のアルキル基若しくは炭素数6~20の芳香族炭化水素基、又は、炭素数1~30のアルキル基、及び、炭素数6~20の芳香族炭化水素基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基と、-C(=O)O-若しくは-C(=O)NRN-との組み合わせにより表される基を表し、耐熱性及び有機溶剤との親和性の観点からは、炭素数1~30の飽和脂肪族炭化水素基、及び、炭素数6~20の芳香族炭化水素基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基と、-C(=O)O-又は-C(=O)NRN-との組み合わせにより表される基が好ましい。
上記炭素数1~30のアルキル基としては、炭素数1~20のアルキル基がより好ましく、炭素数1~10のアルキル基がより好ましく、炭素数1~4のアルキル基が更に好ましい。
上記炭素数6~20の芳香族炭化水素基としては、フェニル基又はナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
上記炭素数1~30の飽和脂肪族炭化水素基としては、炭素数1~20の飽和脂肪族炭化水素基がより好ましく、炭素数1~10の飽和脂肪族炭化水素基がより好ましく、炭素数1~4の飽和脂肪族炭化水素基が更に好ましい。
また、炭素数1~30の飽和脂肪族炭化水素基、及び、炭素数6~20の芳香族炭化水素基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基と、-C(=O)O-若しくは-C(=O)NRN-との組み合わせにより表される基としては、下記式(D-1)又は下記式(D-2)で表される基が好ましく、下記式(Dー1)で表される基がより好ましい。
式(D-1)又は式(D-2)中、*はそれぞれ独立に、式(1-1-1)中のAr1との結合部位を表し、RD1は後述する置換基Dを表し、RD2及びRD3はそれぞれ独立に、水素原子、又は、後述する置換基Dを表す。
置換基Dは、炭素数1~30のアルキル基、炭素数6~20の芳香族炭化水素基、又は、炭素数1~30の脂肪族飽和炭化水素基、及び、炭素数6~20の芳香族炭化水素基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基と、-C(=O)O-若しくは-C(=O)NRN-との組み合わせにより表される基である。
置換基Dにおける炭素数1~30のアルキル基、炭素数6~20の芳香族炭化水素基、又は、炭素数1~30の脂肪族飽和炭化水素基の好ましい態様は、上述のX11におけるこれらの基の好ましい態様と同様である。
RD1における置換基Dは、耐熱性及び有機溶剤との親和性の観点からは、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~20の芳香族炭化水素基であることが好ましく、炭素数1~30のアルキル基がより好ましく、炭素数1~10のアルキル基が更に好ましく、炭素数1~4のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。
RD2及びRD3は、共に水素原子であってもよいが、少なくとも一方が上述の置換基Dであることが好ましく、一方が水素原子、他方が上述の置換基Dであることがより好ましい。
RD2及びRD3における置換基Dは、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~20の芳香族炭化水素基であることが好ましく、炭素数1~30のアルキル基がより好ましく、炭素数1~10のアルキル基が更に好ましく、炭素数1~4のアルキル基が特に好ましい。
式(1-1-1)中、n1は0以上Ar1の最大置換数以下の整数を表し、0又は1が好ましく、0がより好ましい。
Ar1の最大置換数とは、Ar1で表される環員数5~30の芳香族基が有することのできる最大の置換基数をいい、Ar1がベンゼン環構造である場合、最大置換数は5である。以下、上記内容は最大置換数の記載において同様である。
式(1-1-2)中、Ar2は式(1-1)におけるArと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(1-1-2)中、X12はヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、又は、ホスホン酸基を表し、ヒドロキシ基又はカルボキシ基が好ましく、カルボキシ基がより好ましい。
式(1-1-2)中、n2は1以上Ar2の最大置換数以下の整数を表し、1又は2が好ましく、1がより好ましい。
式(1-1-3)中、Ar3は式(1-1)におけるArと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(1-1-3)中、X13は式(E-1)~式(E-11)のいずれかで表される基を表し、式(E-1)又は式(E-2)で表される基であることが好ましく、式(E-2)で表される基であることがより好ましい。
上記芳香族基としては、式(1-1)中のArと同様の基であることが好ましい。
上記エチレン性不飽和結合を有する基としては、アクリロイル基、アクリロイルオキシ基、アクリルアミド基、ビニルフェニル基、アリル基等が挙げられ、反応性の観点からはアクリロイルオキシ基が好ましい。
また、上記ポリマー鎖に含まれる繰返し単位は、特定樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に含まれる。
式(F-1)中、RF1は置換基を有してもよいアルキル基、又は、アリール基を表し、アルキル基、芳香族炭化水素基、アリールアルキル基、又は、アルキル基若しくは芳香族炭化水素基と、-O-との結合により表される基が好ましく、アルキル基、アリールアルキル基、又はアルコキシアルキル基がより好ましく、アルキル基が更に好ましい。
上記アルキル基としては、炭素数1~8のアルキル基が好ましく、1~4のアルキル基がより好ましい。
上記アリール基としては、芳香族炭化水素基が好ましい。
上記芳香族炭化水素基としては、炭素数6~30の芳香族炭化水素基が好ましく、フェニル基又はナフチル基がより好ましく、フェニル基が更に好ましい。
上記アリールアルキル基におけるアリール基としては、炭素数6~30の芳香族炭化水素基が好ましく、フェニル基又はナフチル基がより好ましく、フェニル基が更に好ましい。
上記アリールアルキル基におけるアルキル基としては、炭素数1~8のアルキル基が好ましく、1~4のアルキル基がより好ましい。
上記アルコキシアルキル基におけるアルコキシ基としては、炭素数1~8のアルコキシ基が好ましく、炭素数1~4のアルコキシ基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
また、上記アルコキシアルキル基の総炭素数は、2~10が好ましく、2~6がより好ましい。
式(F-2)中、RF2はそれぞれ独立に、アルキレン基、2価の芳香族炭化水素基、-C(=O)NRN-、-OC(=O)NRN-、-NRNC(=O)NRN-、又はこれらを2以上結合した基を表し、アルキレン基が好ましい。RNは上述の通りである。
本明細書において、単に-C(=O)NRN-、-OC(=O)NRN-、-NRNC(=O)NRN-と記載した場合、構造中におけるこれらの結合の向きは特に限定されないものとする。
上記アルキレン基としては、炭素数2~10のアルキレン基が好ましく、炭素数2~4のアルキレン基がより好ましく、エチレン基又はプロピレン基がより好ましい。
上記2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基が好ましい。
式(F-2)中、nは0以上の整数を表し、0~20の整数であることが好ましく、0~10の整数であることがより好ましく、0、1又は2であることが更に好ましく、0又は1であることが特に好ましい。
式(F-2)中、AF1は重合性基を表し、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基、ビニルフェニルエーテル基、アリルエーテル基、ビニルフェニル基、アリル基、又は、ビニル基が好ましく、反応性の観点からは(メタ)アクリロキシ基がより好ましい。
式(F-3)中、RF4はアルキレン基、2価の芳香族炭化水素基、-C(=O)NRN-、-OC(=O)NRN-、-NRNC(=O)NRN-、又はこれらを2以上結合した基を表し、アルキレン基が好ましい。RNは上述の通りである。
上記アルキレン基としては、炭素数2~10のアルキレン基が好ましく、炭素数2~4のアルキレン基がより好ましい。
上記2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基が好ましい。
式(F-3)中、AF2は重合性基を表し、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基、ビニルフェニルエーテル基、アリルエーテル基、ビニルフェニル基、アリル基、又は、ビニル基が好ましく、反応性の観点からは(メタ)アクリロキシ基がより好ましい。
また、式(F-3)中、RF4はアルキレン基、2価の芳香族炭化水素基、-C(=O)NRN-、-OC(=O)NRN-、-NRNC(=O)NRN-、若しくは、これらを2以上結合した基を表し、かつ、AF2が(メタ)アクリロキシ基である態様、又は、RF4がメチレン基であり、かつ、AF2がビニル基である態様も好ましい。
式(F-4)中、RF6はアルキレン基、アリーレン基、-C(=O)NRN-、-OC(=O)NRN-、-NRNC(=O)NRN-、又はこれらを2以上結合した基を表し、アルキレン基、又は、2以上のアルキレン基が-OC(=O)NRN-により結合された基が好ましい。RNは上述の通りである。
上記アルキレン基としては、炭素数2~20のアルキレン基が好ましく、炭素数2~10のアルキレン基がより好ましい。
式(F-4)中、Polymerは上述のRE1~RE19の説明におけるポリマー鎖を表し、好ましい態様も同様である。
式(F-5)中、RF7は単結合、アルキレン基又は2価の芳香族炭化水素基を表し、単結合が好ましい。
上記アルキレン基としては、炭素数2~20のアルキレン基が好ましく、炭素数2~10のアルキレン基がより好ましい。
上記2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基が好ましい。
式(F-5)中、RF8はアルキレン基、又は2価の芳香族炭化水素基を表し、アルキレン基が好ましい。
上記アルキレン基としては、炭素数2~20のアルキレン基が好ましく、炭素数2~10のアルキレン基がより好ましい。
上記2価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基が好ましい。
式(F-5)中、mは1以上の整数を表し、2~50の整数であることが好ましく、2~30の整数であることがより好ましい。
式(F-5)中、RF9はアルキル基又は1価の芳香族炭化水素基を表し、アルキル基がより好ましい。
上記アルキル基としては、炭素数1~20のアルキル基が好ましく、炭素数1~10のアルキル基がより好ましい。
上記1価の芳香族炭化水素基としては、フェニル基が好ましい。
式(1-1-3)中、n3は1以上Ar3の最大置換数以下の整数を表し、1又は2が好ましく、1がより好ましい。
-R21、R22及びR23-
式(1-2)中、R21、R22及びR23はそれぞれ、式(1-1)中のR11、R12及びR13と同義であり、好ましい態様も同様である。
R24及びR25はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し、R24及びR25は結合して環構造を形成してもよい。
R24及びR25のうち、少なくとも一方が、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表すか、R24及びR25が結合して環構造を形成することが好ましい。
R24及びR25は、それぞれ独立に、炭素数1~30のアルキル基であることが好ましく、炭素数1~20のアルキル基であることがより好ましい。
R24及びR25における炭素数6~30の芳香族炭化水素基としては、フェニル基又はナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
R24及びR25が結合して形成する環構造としては、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環等の脂肪族複素環構造が挙げられる。
R24及びR25における、炭素数1~30のアルキル基、炭素数6~30の芳香族炭化水素基、又は、R24及びR25が結合して形成される環構造は、本発明の効果が得られる範囲内において、置換基を有していてもよい。置換基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ホスホン酸基、活性イミド基、スルホンアミド基等の酸基、アミノ基、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子等が挙げられる。また、R24及びR25における、炭素数6~30の芳香族炭化水素基は、置換基としてヒドロキシ基を有していてもよい。
組成物にアルカリ現像性を付与する観点からは、炭素数1~30のアルキル基、炭素数6~30の芳香族炭化水素基、又は、R24及びR25が結合して形成される環構造が上記カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ホスホン酸基、活性イミド基、スルホンアミド基等の酸基を有することが好ましい。また、R24及びR25の少なくとも一方が、炭素数6~30の芳香族炭化水素基である場合、上記芳香族炭化水素基は、酸基としてヒドロキシ基を有していてもよい。
また、上記酸基は、他の構造とエステル結合を形成してもよい。上記他の構造としては、ポリマー鎖、エチレン性不飽和結合を有する基を含む構造等が挙げられる。上記ポリマー鎖としては、後述する分子量が500~10,000であり、かつ、酸基及び塩基性基を有しない分子鎖等が挙げられる。
また、上記アミノ基は、他の構造とアミド結合、ウレタン結合又はウレア結合を形成してもよい。上記他の構造は、酸基がエステル結合する対象として説明した他の構造と同様である。
式(1-2)で表される繰返し単位は、下記式(1-2-1)で表される繰返し単位、下記式(1-2-2)で表される繰返し単位又は下記式(1-2-3)で表される繰返し単位であることが好ましい。
また、特定樹脂は、式(1-2)で表される繰返し単位として、式(1-2-2)で表される繰返し単位を含むことが好ましく、式(1-2-2)で表される繰返し単位及び式(1-2-3)で表される繰返し単位を含むことがより好ましい。
式(1-2-1)、式(1-2-2)及び式(1-2-3)中、R21、R22及びR23は式(1-1)中のR11、R12及びR13と同義であり、R26及びR27はそれぞれ独立に、炭素数1~30のアルキル基を表し、R28は脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し、X21はそれぞれ独立に、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ホスホン酸基、活性イミド基、又は、スルホンアミド基を表し、n1は1又は2であり、n2は0又は1であり、n1+n2は2であり、n3は1以上の整数であり、R29は脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し、X22はそれぞれ独立に、上述の式(E-1)~式(E-11)のいずれかで表される基を表し、m1は1又は2であり、m2は0又は1であり、m1+m2は2であり、m3は1以上の整数である。
式(1-2-1)中、R26及びR27はそれぞれ独立に、炭素数1~30のアルキル基を表し、炭素数1~10のアルキル基が好ましく、炭素数1~4のアルキル基がより好ましい。
式(1-2-2)中、R28は脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し脂肪族炭化水素基が好ましく、脂肪族飽和炭化水素基がより好ましい。
上記脂肪族炭化水素基としては、炭素数2~30の脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数2~20の脂肪族炭化水素基がより好ましい。
上記芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環から1+n3個の水素原子を除いた基が好ましい。
式(1-2-2)中、R28が脂肪族炭化水素基である場合、X21はそれぞれ独立に、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ホスホン酸基、活性イミド基、又は、スルホンアミド基が好ましく、カルボキシ基がより好ましい。
式(1-2-2)中、R28が芳香族炭化水素基である場合、X21はそれぞれ独立に、ヒドロキシ基、又は、カルボキシ基が好ましく、カルボキシ基がより好ましい。
式(1-2-2)中、n1は1であり、かつ、n2は1であることが好ましい。
式(1-2-2)中、n3は1以上の整数であり、1~10であることが好ましく、1~4であることがより好ましく、1又は2であることが更に好ましく、1であることが特に好ましい。
式(1-2-3)中、R29は脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し脂肪族炭化水素基が好ましく、脂肪族飽和炭化水素基がより好ましい。
上記脂肪族炭化水素基としては、炭素数2~30の脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数2~20の脂肪族炭化水素基がより好ましい。
上記芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環から1+m3個の水素原子を除いた基が好ましい。
式(1-2-3)中、R29が脂肪族炭化水素基である場合、X22はそれぞれ独立に、式(E-2)、式(E-3)、式(E-4)又は式(E-5)のいずれかで表される基が好ましく、式(E-2)で表される基がより好ましい。
式(1-2-3)中、R29が芳香族炭化水素基である場合、X22はそれぞれ独立に、式(E-1)又は式(E-2)のいずれかで表される基が好ましく、式(E-2)で表される基がより好ましい。
式(1-2-3)中、m1は1であり、かつ、m2は1であることが好ましい。
式(1-2-3)中、m3は1以上の整数であり、1~10であることが好ましく、1~4であることがより好ましく、1又は2であることが更に好ましく、1であることが特に好ましい。
-R31、R32及びR33-
式(1-3)中、R31、R32及びR33はそれぞれ、式(1-1)中のR11、R12及びR13と同義であり、好ましい態様も同様である。
式(1-3)中、R34及びR35はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し、炭素数1~30のアルキル基であることが好ましい。
上記炭素数1~30のアルキル基としては、炭素数1~10のアルキル基が好ましく、炭素数1~4のアルキル基がより好ましい。
上記炭素数6~30の芳香族炭化水素基としては、フェニル基又はナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
上記炭素数1~30のアルキル基、及び、炭素数6~30の芳香族炭化水素基は、本発明の効果が得られる範囲内において、置換基を有していてもよい。
式(1-3)中、R34及びR35の少なくとも一方が、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表すことが好ましい。
また、R34及びR35は結合して環構造を形成することが好ましい。形成される環構造としては、環員数5~20のラクタム環構造等が好ましく、環員数5~10のラクタム環構造がより好ましい。
-R41及びR42-
式(1-4)中、R41及びR42はそれぞれ、式(1-1)中のR11及びR13と同義であり、好ましい態様も同様である。
式(1-4)中、R43は水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基がより好ましく、炭素数6~30の芳香族炭化水素基が好ましい。
上記炭素数1~30のアルキル基は、炭素数1~20のアルキル基であることが好ましく、炭素数1~10のアルキル基であることがより好ましい。
上記炭素数6~30の芳香族炭化水素基は、炭素数6~20の芳香族炭化水素基であることが好ましく、フェニル基又はナフチル基であることがより好ましく、フェニル基であること更に好ましい。
上記炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基は、本発明の効果が得られる範囲内において、置換基を有していてもよい。
-R51及びR52-
式(1-5)中、R51及びR52はそれぞれ、式(1-1)中のR11及びR12と同義であり、好ましい態様も同様である。
式(1-5)中、R53及びR54はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又は、芳香族炭化水素基を表し、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
上記アルキル基としては、炭素数1~10のアルキル基が好ましく、炭素数1~4のアルキル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
上記芳香族炭化水素基としては、炭素数6~20の芳香族炭化水素環が好ましく、フェニル基がより好ましい。
上記アルキル基、又は、上記芳香族炭化水素基は、本発明の効果が得られる範囲内において、置換基を有していてもよい。
また、上記芳香族炭化水素基には、本発明の効果が得られる範囲内において、別の芳香族炭化水素環又は別の芳香族複素環が結合していてもよい。上記結合の態様としては、縮合環、架橋環、スピロ環等が挙げられる。
式(1-5)中、R55は水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基がより好ましく、炭素数6~30の芳香族炭化水素基が好ましい。
上記炭素数1~30のアルキル基は、炭素数1~20のアルキル基であることが好ましく、炭素数1~10のアルキル基であることがより好ましい。
上記炭素数6~30の芳香族炭化水素基は、炭素数6~20の芳香族炭化水素基であることが好ましく、フェニル基又はナフチル基であることがより好ましく、フェニル基であること更に好ましい。
上記炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基は、本発明の効果が得られる範囲内において、置換基を有していてもよい。
上記含有量は、0~40モル%であることが好ましく、0~20モル%であることがより好ましい。
また、本発明において、上記含有量が、0~1モル%(好ましくは0~0.5モル%、より好ましくは0~0.1モル%)である態様も好ましい態様である。
特定樹脂に含まれてもよい(メタ)アクリル酸由来の繰り返し単位は、下記式(1-6)で表される繰返し単位であることが好ましい。
また、特定樹脂に含まれてもよい(メタ)アクリル酸エステル化合物由来の繰返し単位は、下記式(1-7)で表される繰返し単位であることが好ましい。
式(1-6)中、RA1は水素原子又はメチル基を表し、水素原子がより好ましい。
式(1-7)中、RA1は水素原子又はメチル基を表し、水素原子がより好ましい。
式(1-7)中、RA2は上述の式(F-1)~式(F-5)のいずれかで表される基であり、これらの基の好ましい態様は上述の通りである。
特定樹脂は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、及び、アミノ基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基を有することが好ましく、ヒドロキシ基又はカルボキシ基を有することがより好ましい。
例えば、特定樹脂に、上述の式(1-1-2)で表される繰返し単位、又は、上述の式(1-2-2)で表される繰返し単位等を導入することにより、これらの基が特定樹脂に導入される。
アルカリ現像性を向上する観点からは、特定樹脂は、酸基を有することが好ましい。酸基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、活性イミド基、又は、スルホンアミド基等が挙げられる。
特定樹脂における酸価は、製膜性及びアルカリ現像性の向上の観点からは、0~500mgKOH/gであることが好ましい。
上記酸価の下限は、20mgKOH/g以上であることが好ましく、30mgKOH/g以上であることがより好ましく、50mgKOH/g以上であることが更に好ましい。
上記酸価の上限は、300mgKOH/g以下であることが好ましく、200mgKOH/g以下であることがより好ましく、150mgKOH/g以下であることが更に好ましい。
特に好ましい態様として、特定樹脂の酸化が0~150mgKOH/gである態様が挙げられる。
特定樹脂の酸価は、後述する実施例における測定方法と同様の方法により算出される。
特定樹脂は、エチレン性不飽和結合を有することが好ましい。
また特定樹脂は、エチレン性不飽和結合を有する基を含むことが好ましい。
エチレン性不飽和結合を有する基としては、アクリロイル基、アクリロイルオキシ基、アクリルアミド基、ビニルフェニル基、アリル基等が挙げられ、反応性の観点からはアクリロイルオキシ基が好ましい。
例えば、特定樹脂に、上述の式(1-1-2)で表される繰返し単位、又は、上述の式(1-2-2)で表される繰返し単位であって、上述の式(F-2)又は式(F-3)で表される基を有する繰返し単位等を導入することにより、エチレン性不飽和結合を有する基が特定樹脂に導入される。
特定樹脂のC=C価は、保存安定性及び硬化性の観点からは、0~5mmol/gであることが好ましい。
上記C=C価の下限は、0.01mmol/g以上であることが好ましく、0.03mmol/g以上であることがより好ましく、0.05mmol/g以上であることが更に好ましく、0.1mmol/g以上であることが特に好ましい。
上記C=C価の上限は、3mmol/g以下であることが好ましく、2mmol/g以下であることがより好ましく、1.5mmol/g以下であることが更に好ましく、1mmol/g以下であることが特に好ましい。
本発明において、特定樹脂のC=C価とは、1gの特定樹脂に含まれるエチレン性不飽和結合の数をいい、後述の実施例における方法により測定される値である。
特定樹脂は、線状高分子、星型高分子、グラフト高分子化合物のいずれであってもよいし、分岐点を複数有する特開2007-277514号公報等に記載の特定末端基を有する星型高分子であってもよいが、グラフト高分子、又は、星型高分子であることが好ましい。
特定樹脂がグラフト高分子である場合、特定樹脂は、グラフト鎖として、後述の分子量が500~10,000であり、かつ、酸基及び塩基性基を有しない分子鎖を有することが好ましい。
また、特定樹脂がグラフト高分子である場合、特定樹脂は、上述の式(1-1-3)で表される繰返し単位であって、上述の式(F-4)又は式(F-5)で表される基を有する繰返し単位、又は、上述の式(1-2-3)で表される繰返し単位であって、上述の式(F-4)又は式(F-5)で表される基を有する繰返し単位を主鎖に有することが好ましい。この場合、式(F-4)又は式(F-5)で表される基がグラフト高分子におけるグラフト鎖となることが好ましい。
特定樹脂が星型高分子である場合、特定樹脂は、下記式(S-1)で表される樹脂であることが好ましい。
式(S-1)中、R1は(m+n1)価の有機連結基を表し、R2はそれぞれ独立に、単結合又はn2+1価の連結基を表し、A1はそれぞれ独立に、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、及び、アミノ基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基を表し、R3はそれぞれ独立に、単結合又はn2+1価の連結基を表し、P1はそれぞれ独立に、ポリマー鎖を表し、mは1~8の整数を表し、n1は2~9の整数を表し、m+n1は3~10であり、n2は1以上の整数であり、式(S-1)で表される樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、式(1-1)~式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合が10モル%以上である。
式(S-1)中、R1は1~100個の炭素原子、0個~10個の窒素原子、0個~50個の酸素原子、1個~200個の水素原子、及び0個~20個の硫黄原子から成り立つ基であることが好ましく、1~60個の炭素原子、0個~10個の窒素原子、0個~40個の酸素原子、1個~120個の水素原子、及び0個~10個の硫黄原子から成り立つ基が好ましく、1~50個の炭素原子、0個~10個の窒素原子、0個~30個の酸素原子、1個~100個の水素原子、及び0個~7個の硫黄原子から成り立つ基がより好ましく、1~40個の炭素原子、0個~8個の窒素原子、0個~20個の酸素原子、1個~80個の水素原子、及び0個~5個の硫黄原子から成り立つ基が特に好ましい。
式(S-1)中、R2は、単結合、又は、1~50個の炭素原子、0個~8個の窒素原子、0個~25個の酸素原子、1個~100個の水素原子、及び0個~10個の硫黄原子から成り立つ2価の有機連結基が好ましく、単結合、あるいは、1~30個の炭素原子、0個~6個の窒素原子、0個~15個の酸素原子、1個~50個の水素原子、及び、0個~7個の硫黄原子から成り立つ2価の有機連結基がより好ましく、単結合、又は、1~10個の炭素原子、0個~5個の窒素原子、0個~10個の酸素原子、1個~30個の水素原子、及び0個~5個の硫黄原子から成り立つ2価の有機連結基が特に好ましい。
式(S-1)中、R3はそれぞれ独立に、単結合、-S-又は上記R2と同様の基が好ましく、単結合又は-S-がより好ましく、-S-が特に好ましい。
式(S-1)中、P1は式(1-1)~式(1-7)で表される繰返し単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の繰返し単位を含むポリマー鎖が好ましく、式(1-1)~式(1-5)及び式(1-7)で表される繰返し単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の繰返し単位を含むポリマー鎖がより好ましい。
また、P1は式(1-1-1)で表される繰返し単位、式(1-2-1)で表される繰返し単位、式(1-3)で表される繰返し単位、式(1-4)で表される繰返し単位、又は、式(1-5)で表される繰返し単位を含むことが好ましく、式(1-1-1)で表される繰返し単位、又は、式(1-2-1)で表される繰返し単位を含むことがより好ましい。
式(S-1)中、mは1~8の整数を表し、1~5が好ましく、1~4がより好ましく、2~4が特に好ましい。
式(S-1)中、n1は2~9の整数を表し、2~8が好ましく、2~7がより好ましく、2~6が特に好ましい。
式(S-1)中、n2は1以上の整数を表し、1~10であることが好ましく、1~4であることがより好ましく、1又は2であることが更に好ましい。
式(S-1)で表される星型高分子は、式(S-2)で表される星型高分子であることが好ましい。
式(S-2)中、R1、A1、P1、n1、n2、及びmはそれぞれ、式(S-1)中のR1、A1、P1、n1、n2、及びmと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(S-2)中、R4-S-は、R1との結合部位に硫黄原子を含む以外は式(S-1)中のR2と同義であり、好ましい態様も同様である。
特定樹脂は、分子量が500~10,000であり、かつ、酸基及び塩基性基を有しない分子鎖を有することが好ましい。
特定樹脂は、上記分子鎖を分岐鎖として有することが好ましい。
特定樹脂がグラフト高分子である場合、上記分子鎖はグラフト鎖であることが好ましく、上記分子鎖は、上述の式(1-1-3)で表される繰返し単位に含まれる、上述の式(F-4)又は式(F-5)で表される基、又は、上述の式(1-2-3)で表される繰返し単位に含まれる、上述の式(F-4)又は式(F-5)で表される基として含まれることがより好ましい。
特定樹脂が星型高分子である場合、上記分子鎖は、上述の式(S-1)におけるP1として含まれることが好ましい。
上記(メタ)アクリルアミド化合物に由来する繰返し単位としては、上述の式(1-2)で表される繰返し単位が好ましく、上述の式(1-2-1)で表される繰返し単位がより好ましい。
上記芳香族ビニル化合物に由来する繰り返し単位としては、上述の式(1-1)で表される繰返し単位が好ましく、上述の式(1-1-1)で表される繰返し単位がより好ましい。
上記ポリエステル構造としては、上述の式(F-5)で表されるポリエステル構造が好ましい。上記ポリエステル構造は、上述の式(1-1-3)で表される繰返し単位であって、式(F-5)で表される基を有する繰返し単位、又は、上述の式(1-2-3)で表される繰返し単位であって、式(F-5)で表される基を有する繰返し単位として特定樹脂に含まれることが好ましい。
樹脂1を含むことにより、組成物の現像性が向上する。
樹脂2を含むことにより、組成物の保存安定性が向上する。
樹脂1:特定樹脂であって、酸基及びエチレン性不飽和結合を有する基を含む樹脂
樹脂2:特定樹脂であって、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、及び、アミノ基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基、及び、分子量が500~10,000であり、かつ、酸基及び塩基性基を有しない分子鎖を有する樹脂
樹脂1は上記分子鎖を更に有してもよい。
また、樹脂2は上記エチレン性不飽和結合を有する基を更に有してもよい。
特定樹脂の重量平均分子量(Mw)は、5,000~100,000であることが好ましく、10,000~50,000であることがより好ましい。
特定樹脂の波長400~1,100nmにおけるモル吸光係数の最大値は、0~1,000 l/(mol・cm)であることが好ましく、0~100 l/(mol・cm)であることがより好ましい。
特定樹脂は、窒素雰囲気下でのTG/DTA(熱質量測定/示差熱測定)による5%質量減少温度が280℃以上が好ましく、300℃以上が好ましく、320℃以上がさらに好ましい。上記5%質量減少温度の上限は、特に限定されず、例えば1,000℃以下であればよい。上記5%質量減少温度は、窒素雰囲気化で特定の温度で5時間静置した時の質量減少率が5%となる温度として、公知のTG/DTA測定方法により求められる。
また、特定樹脂は、窒素雰囲気下で320℃、3時間静置したときの質量減少率が10%以内であることが好ましく、5%以下であることがより好ましく、2%以下であることがさらに好ましい。上記質量減少率の下限は特に限定されず、0%以上であればよい。
上記質量減少率は、窒素雰囲気下で320℃、3時間静置する前後の特定樹脂における質量の減少の割合として算出される値である。
特定樹脂の合成方法は、特に限定されず、公知の方法により合成され、例えば、後述する実施例に記載の方法により合成することが可能である。
以下に特定樹脂の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
下記表中、「項目1」の欄には、特定樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、上記式(1-1)~上記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合(モル%)を、「項目2」の欄には、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸エステル化合物由来の繰返し単位の含有量(モル%)を、「酸価」の欄には、特定樹脂の酸価(mgKOH/g)を、「C=C価」の欄には、特定樹脂のC=C価(mmol/g)をそれぞれ記載した。
下記化学式中、x、y、z、wは各繰返し単位の含有比率(モル%)を表し、項目1、項目2、酸価、C=C価を満たす範囲内において適宜設定することができる。
また、下記化学式中、例えば(A-22)における「polymer」の記載は、(A-22)中に記載の硫黄原子にジエチルアクリルアミドに由来する繰返し単位、及び、スチレンに由来する繰返し単位が、括弧の添え字の含有比(モル比)でランダムに結合したポリマー鎖が結合していることを示している。上記モル比は、項目1、項目2、酸価、C=C価を満たす範囲内において適宜設定することができる。
また、例えば、(A-34)において、R中の6つの*のうち、いずれかの2か所が左側の角括弧で示された構造と、いずれかの4か所が右側の角括弧で示された構造と結合することを示している。また、右側の角括弧内の記載は、ビニル安息香酸メチルに由来する繰返し単位と、ブチルアクリレートに由来する繰返し単位とが、ランダムに結合したポリマー鎖を示している。
本発明の組成物における特定樹脂の含有量は、組成物の全固形分に対し、10~95質量%であることが好ましい。下限は、20質量%以上がより好ましく、30質量%以上がさらに好ましい。上限は、90質量%以下がより好ましく、85質量%以下が更に好ましい。
本発明の組成物は特定樹脂を1種単独で含有してもよいし、2種以上を併用してもよい。特定樹脂を2種以上併用する場合、合計量が上記範囲内となることが好ましい。
また、本発明の組成物が特定樹脂として上述の樹脂2を含有し、かつ、着色剤として顔料を含む場合、樹脂2の含有量は、組成物に含まれる顔料の全質量に対し、25~85質量%であることが好ましい。下限は、28質量%以上がより好ましく、30質量%以上がさらに好ましい。上限は、80質量%以下がより好ましく、50質量%以下が更に好ましい。
また、組成物の全固形分中における着色剤と上述した特定樹脂の合計の含有量は、25~100質量%が好ましい。下限は、30質量%以上がより好ましく、40質量%以上がさらに好ましい。上限は、90質量%以下がより好ましく、80質量%以下がさらに好ましい。
本発明の組成物は、他の樹脂を含んでもよい。
特定樹脂に該当する化合物は、上記他の樹脂には該当しないものとする。
本発明の組成物が他の樹脂を含む場合、本発明の組成物に含まれる全ての樹脂成分に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、式(1-1)~式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合が10モル%以上であることが好ましい。上記合計量の割合は、60モル%以上であることが好ましく、70モル%以上であることがより好ましく、80モル%以上であることが更に好ましい。上限は特に限定されず、100モル%以下であればよい。
ここで、本発明の組成物が他の樹脂を含む場合、例えば下記(1)又は下記(2)に示した態様とすることも好ましい。
(1)上述の樹脂1、及び、分散剤としての樹脂を含む。
(2)アルカリ現像性を有する樹脂、及び、上述の樹脂2を含む。
また、上記(1)における態様において、上述の樹脂2を更に含んでもよいし、上記(2)における態様において、上述の樹脂1を更に含んでもよい。
アルカリ現像性を有する樹脂の重量平均分子量(Mw)は、3,000~2,000,000が好ましい。上限は、1,000,000以下がより好ましく、500,000以下がさらに好ましい。下限は、4,000以上がより好ましく、5,000以上がさらに好ましい。
式(ED2)中、Rは、水素原子又は炭素数1~30の有機基を表す。式(ED2)の詳細については、特開2010-168539号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
式(X)中、R1は、水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素数2~10のアルキレン基を表し、R3は、水素原子又はベンゼン環を含んでもよい炭素数1~20のアルキル基を表す。nは1~15の整数を表す。
本発明の組成物は、分散剤としての樹脂を含むこともできる。分散剤は、酸性分散剤(酸性樹脂)、塩基性分散剤(塩基性樹脂)が挙げられる。ここで、酸性分散剤(酸性樹脂)とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤(酸性樹脂)は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を100モル%としたときに、酸基の量が70モル%以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性分散剤(酸性樹脂)が有する酸基は、カルボキシ基が好ましい。酸性分散剤(酸性樹脂)の酸価は、40~105mgKOH/gが好ましく、50~105mgKOH/gがより好ましく、60~105mgKOH/gがさらに好ましい。また、塩基性分散剤(塩基性樹脂)とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤(塩基性樹脂)は、酸基の量と塩基性基の量の合計量を100モル%としたときに、塩基性基の量が50モル%を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基であることが好ましい。
また、組成物において、上述した他の樹脂の含有量は、上述した特定樹脂の100質量部に対して230質量部以下であることが好ましく、200質量部以下であることがより好ましく、150質量部以下であることが更に好ましい。下限は0質量部であってもよく、5質量部以上とすることもでき、10質量部以上とすることもできる。また、組成物は上述した他の樹脂を実質的に含まないことも好ましい。この態様によれば、より耐熱性に優れた膜を形成しやすい。他の樹脂を実質的に含まない場合とは、組成物の全固形分中における他の樹脂の含有量が0.1質量%以下であることを意味し、0.05質量%以下であることが好ましく、含有しないことがより好ましい。
本発明の組成物は、溶剤を含有する。溶剤としては、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はないが、有機溶剤が好ましい。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第2015/166779号の段落番号0223を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤を好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、2-ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、3-ブトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、ガンマブチロラクトン、N-メチル-2-ピロリドンなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等)は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある(例えば、有機溶剤全量に対して、50質量ppm(parts per million)以下とすることもでき、10質量ppm以下とすることもでき、1質量ppm以下とすることもできる)。
本発明の組成物は、重合性化合物を含有することが好ましい。重合性化合物は、例えば、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物であることが好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、(メタ)アリル基、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。本発明で用いられる重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
本発明の組成物は重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤としては、光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
本発明の組成物は、環状エーテル基を有する化合物を含有することができる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。環状エーテル基を有する化合物は、エポキシ基を有する化合物であることが好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、1分子内にエポキシ基を1つ以上有する化合物が挙げられ、エポキシ基を2つ以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は、1分子内に1~100個有することが好ましい。エポキシ基の数の上限は、例えば、10個以下とすることもでき、5個以下とすることもできる。エポキシ基の数の下限は、2個以上が好ましい。環状エーテル基を有する化合物としては、特開2013-011869号公報の段落番号0034~0036、特開2014-043556号公報の段落番号0147~0156、特開2014-089408号公報の段落番号0085~0092に記載された化合物、特開2017-179172号公報に記載された化合物、特開2019-133052号公報に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。
本発明の組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本発明において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、(メタ)アリル基、(メタ)アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、アミノ基、(メタ)アクリロイル基及びエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、特開2009-288703号公報の段落番号0018~0036に記載の化合物、特開2009-242604号公報の段落番号0056~0066に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
本発明の組成物は、樹脂や重合性化合物の反応を促進させたり、硬化温度を下げる目的で、硬化促進剤をさらに含有することができる。硬化促進剤は、メチロール系化合物(例えば特開2015-034963号公報の段落番号0246において、架橋剤として例示されている化合物)、アミン類、ホスホニウム塩、アミジン塩、アミド化合物(以上、例えば特開2013-041165号公報の段落番号0186に記載の硬化剤)、塩基発生剤(例えば、特開2014-055114号公報に記載のイオン性化合物)、シアネート化合物(例えば、特開2012-150180号公報の段落番号0071に記載の化合物)、アルコキシシラン化合物(例えば、特開2011-253054号公報に記載のエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物)、オニウム塩化合物(例えば、特開2015-034963号公報の段落番号0216に酸発生剤として例示されている化合物、特開2009-180949号公報に記載の化合物)などを用いることもできる。
本発明の組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、ジ-tert-ブチル-p-クレゾール、ピロガロール、tert-ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’-チオビス(3-メチル-6-tert-ブチルフェノール)、2,2’-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、N-ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩(アンモニウム塩、第一セリウム塩等)が挙げられる。中でも、p-メトキシフェノールが好ましい。組成物の全固形分中における重合禁止剤の含有量は、0.0001~5質量%が好ましい。
本発明の組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、シリコン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤については、国際公開第2015/166779号の段落番号0238~0245に記載された界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
上記構造式中、主鎖に記載された繰返し単位を示す括弧の添え字は各繰返し単位の含有比(モル比)を表し、側鎖に記載されたアルキレンオキシ基の添え字は各アルキレンオキシ基の繰り返し数を表す。
上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは3,000~50,000であり、例えば、14,000である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す%はモル%である。
本発明の組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤は、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物などを用いることができる。これらの詳細については、特開2012-208374号公報の段落番号0052~0072、特開2013-068814号公報の段落番号0317~0334、特開2016-162946号公報の段落番号0061~0080の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、UV-503(大東化学(株)製)などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のMYUAシリーズ(化学工業日報、2016年2月1日)が挙げられる。また、紫外線吸収剤は、特許第6268967号公報の段落番号0049~0059に記載された化合物を用いることもできる。組成物の全固形分中における紫外線吸収剤の含有量は、0.01~10質量%が好ましく、0.01~5質量%がより好ましい。紫外線吸収剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
本発明の組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位(オルト位)に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数1~22の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。組成物の全固形分中における酸化防止剤の含有量は、0.01~20質量%であることが好ましく、0.3~15質量%であることがより好ましい。酸化防止剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
本発明の組成物は、必要に応じて、増感剤、フィラー、アゾ系化合物や過酸化物系化合物などの熱重合開始剤、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類(例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など)を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開2012-003225号公報の段落番号0183以降(対応する米国特許出願公開第2013/0034812号明細書の段落番号0237)の記載、特開2008-250074号公報の段落番号0101~0104、0107~0109等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、100~250℃で加熱するか、又は酸/塩基触媒存在下で80~200℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開第2014/021023号、国際公開第2017/030005号、特開2017-008219号公報に記載された化合物が挙げられる。市販品としては、アデカアークルズGPA-5001((株)ADEKA製)等が挙げられる。また、特開2018-155881号公報に記載されているように、C.I.ピグメントイエロー129を耐候性改良の目的で添加しても良い。
また、現像後に後加熱で膜の硬化度を上げるために熱硬化剤を添加することができる。熱硬化剤としては、アゾ化合物、過酸化物等の熱重合開始剤、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、エポキシ化合物、スチレン化合物等があげられる。
本発明の組成物の粘度(23℃)は、例えば、塗布により膜を形成する場合、1~100mPa・sであることが好ましい。下限は、2mPa・s以上がより好ましく、3mPa・s以上が更に好ましい。上限は、50mPa・s以下がより好ましく、30mPa・s以下が更に好ましく、15mPa・s以下が特に好ましい。
本発明の組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を6種6層の樹脂で構成する多層ボトルや6種の樹脂を7層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開2015-123351号公報に記載の容器が挙げられる。また、容器内壁は、容器内壁からの金属溶出を防ぎ、組成物の保存安定性を高めたり、成分変質を抑制するなど目的で、ガラス製やステンレス製などにすることも好ましい。
本発明の組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、全成分を同時に有機溶剤に溶解及び/又は分散して組成物を調製してもよいし、必要に応じて、各成分を適宜2つ以上の溶液又は分散液としておいて、使用時(塗布時)にこれらを混合して組成物を調製してもよい。
本発明の膜は、本発明の組成物から得られる膜である。
本発明の硬化膜は、本発明の組成物を硬化してなる硬化膜である。
本発明の膜又は本発明の硬化膜は、近赤外線透過フィルタとして好ましく用いることができる。本発明の膜又は本発明の硬化膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜(平坦膜)であってもよい。また、本発明の膜又は本発明の硬化膜は、支持体上に積層して用いてもよく、本発明の膜又は本発明の硬化膜を支持体から剥離して用いてもよい。支持体としては、シリコン基板などの半導体基材や、透明基材が挙げられる。
(1C):波長400~640nmの範囲における吸光度の最小値Amin1と、波長800~1,500nmの範囲における吸光度の最大値Bmax1との比であるAmin1/Bmax1が5以上であり、7.5以上であることが好ましく、15以上であることがより好ましく、30以上であることが更に好ましい。この態様によれば、例えば、波長400~640nmの範囲の光を遮光して、波長670nmを超える近赤外線を透過可能な膜又は硬化膜とすることができる。
(2C):波長400~750nmの範囲における吸光度の最小値Amin2と、波長900~1,500nmの範囲における吸光度の最大値Bmax2との比であるAmin2/Bmax2が5以上であり、7.5以上であることが好ましく、15以上であることがより好ましく、30以上であることが更に好ましい。この態様によれば、例えば、波長400~750nmの範囲の光を遮光して、波長850nmを超える近赤外線を透過可能な膜又は硬化膜とすることができる。
(3C):波長400~830nmの範囲における吸光度の最小値Amin3と、波長1,000~1,500nmの範囲における吸光度の最大値Bmax3との比であるAmin3/Bmax3が5以上であり、7.5以上であることが好ましく、15以上であることがより好ましく、30以上であることが更に好ましい。この態様によれば、例えば、波長400~830nmの範囲の光を遮光して、波長940nmを超える近赤外線を透過可能な膜又は硬化膜とすることができる。
(4C):波長400~950nmの範囲における吸光度の最小値Amin4と、波長1,100~1,500nmの範囲における吸光度の最大値Bmax4との比であるAmin4/Bmax4が5以上であり、7.5以上であることが好ましく、15以上であることがより好ましく、30以上であることが更に好ましい。この態様によれば、例えば、波長400~950nmの範囲の光を遮光して、波長1,040nmを超える近赤外線を透過可能な膜又は硬化膜とすることができる。
(1D):膜又は硬化膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~640nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)であり、膜又は硬化膜の厚み方向における光の透過率の、波長800~1,500nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)である態様。
(2D):膜又は硬化膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~750nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)であり、膜又は硬化膜の厚み方向における光の透過率の、波長900~1,500nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)である態様。
(3D):膜又は硬化膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~830nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)であり、膜又は硬化膜の厚み方向における光の透過率の、波長1,000~1,500nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)である態様。
(4D):膜又は硬化膜の厚み方向における光の透過率の、波長400~950nmの範囲における最大値が20%以下(好ましくは15%以下、より好ましくは10%以下)であり、膜又は硬化膜の厚み方向における光の透過率の、波長1,100~1,500nmの範囲における最小値が70%以上(好ましくは75%以上、より好ましくは80%以上)である態様。
また、本発明の膜又は本発明の硬化膜は、膜又は硬化膜の厚み方向の波長950~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上であることが好ましく、波長900~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上であることがより好ましく、波長850~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上であることが更に好ましく、波長800~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上であることが特に好ましい。
これらの中でも、下記(S1)に記載された態様が好ましく、下記(S2)に記載された態様がより好ましい。
(S1)膜又は硬化膜の厚み方向の光透過率50%を示す波長が700~950nmであり、かつ、波長950~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上である
(S2)膜又は硬化膜の厚み方向の光透過率50%を示す波長が700~800nmであり、かつ、波長800~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上である
本発明の膜の製造方法は、本発明の組成物を支持体上に付与し、組成物から形成された膜を得る工程(付与工程)を含むことが好ましい。
付与工程は、本発明の組成物を支持体上に付与し、組成物から形成された膜を得る工程である。
支持体としては、上述したものが挙げられる。
組成物の付与方法としては、塗布が挙げられる。塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法(ドロップキャスト);スリットコート法;スプレー法;ロールコート法;回転塗布法(スピンコーティング);流延塗布法;スリットアンドスピン法;プリウェット法(たとえば、特開2009-145395号公報に記載されている方法);インクジェット(例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式)、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法;金型等を用いた転写法;ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット-特許に見る無限の可能性-、2005年2月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法(特に115ページ~133ページ)や、特開2003-262716号公報、特開2003-185831号公報、特開2003-261827号公報、特開2012-126830号公報、特開2006-169325号公報などに記載の方法が挙げられる。
また、あらかじめ仮支持体上に上記付与方法によって本発明の組成物を付与して形成した塗膜を、支持体上に転写する方法を適用することもできる。
例えば、特開2006-023696号公報の段落0036~0051、又は、特開2006-047592号公報の段落0096~0108に記載の作製方法等を本発明においても好適に用いることができる。
<第一の態様>
本発明の硬化膜の製造方法の第一の態様に係る製造方法は、本発明の組成物から形成された膜を、露光及び加熱の少なくとも一方により硬化する工程(硬化工程)を含む。
また、本発明の硬化膜の製造方法の第一の態様に係る製造方法は、本発明の組成物を支持体上に付与し、組成物から形成された膜を得る工程(付与工程)を、硬化工程の前に含むことが好ましい。
本発明の硬化膜の製造方法が付与工程を含む場合、付与工程により得られた組成物から形成された膜が、硬化工程により硬化され、硬化膜が得られる。
本発明の硬化膜の製造方法の第一の態様は、パターンを有さない硬化膜(平坦膜)の製造方法であることが好ましい。
硬化工程は、本発明の組成物から形成された膜を、露光及び加熱の少なくとも一方により硬化する工程であり、本発明の組成物から形成された膜を、露光により硬化する工程であることが好ましい。
また、硬化工程は、本発明の組成物から形成された膜の全体を硬化する工程であることが好ましい。
本発明の硬化膜の製造方法の第一の態様において露光を行う場合、露光は本発明の組成物から形成された膜の全面に対して行われることが好ましい。
硬化工程における露光に際して用いることができる放射線(光)としては、g線、i線等が挙げられる。また、波長300nm以下の光(好ましくは波長180~300nmの光)を用いることもできる。波長300nm以下の光としては、KrF線(波長248nm)、ArF線(波長193nm)などが挙げられ、KrF線(波長248nm)が好ましい。
露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が19体積%以下の低酸素雰囲気下(例えば、15体積%、5体積%、又は、実質的に無酸素)で露光してもよく、酸素濃度が21体積%を超える高酸素雰囲気下(例えば、22体積%、30体積%、又は、50体積%)で露光してもよい。
また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常1,000W/m2~100,000W/m2(例えば、5,000W/m2、15,000W/m2、又は、35,000W/m2)の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度10体積%で照度10,000W/m2、酸素濃度35体積%で照度20,000W/m2などとすることができる。
本発明の硬化膜の製造方法の第一の態様において加熱を行う場合、本発明の組成物から形成された膜に対し、露光を行わずに加熱を行ってもよいし、露光中に加熱を行ってもよいし、露光前に加熱を行ってもよいし、露光後に加熱を行ってもよいが、露光を行わずに加熱を行うか、又は、露光後に加熱を行うことが好ましく、硬化を更に進行する観点からは、露光後に加熱を行うことがより好ましい。
加熱手段としては、特に限定されず、ホットプレートやコンベクションオーブン(熱風循環式乾燥機)、高周波加熱機等の公知の加熱手段を用いることができる。
加熱温度としては、例えば100~240℃が好ましく、200~240℃がより好ましい。
加熱時間としては、例えば、3分間~180分間が好ましく、5分間~120分間がより好ましい。
本発明の硬化膜の製造方法の第一の態様に係る付与工程は、上述の本発明の膜の製造方法における付与工程と同義であり、好ましい態様も同様である。
本発明の硬化膜の製造方法の第二の態様に係る製造方法は、組成物から形成された膜の一部を露光する露光工程と、上記露光後の膜を現像する現像工程とを含む。
本発明の硬化膜の製造方法の第二の態様に係る製造方法は、パターンを有する硬化膜の製造方法であることが好ましい。
このような、露光工程及び現像工程を含むパターニング方法を、フォトリソグラフィ法ともいう。
本発明の硬化膜の製造方法の第二の態様における露光工程及び現像工程は、公知のフォトリソグラフィ法に従い行うことが可能である。フォトリソグラフィ法の一態様を以下に説明する。
露光工程においては、組成物から形成された膜の一部が露光される。
上記膜の一部を露光する方法としては、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光する方法が挙げられる。
上記露光により、露光部を硬化することができる。
また、露光工程における露光は、上述のパルス露光とすることもできる。
現像工程においては、露光後の組成物から形成された膜の未露光部が現像除去され、パターン(画素)が形成される。
組成物から形成された膜の未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物から形成された膜が現像液に溶出し、露光された部分が残る。現像液の温度は、例えば、20~30℃が好ましい。現像時間は、20~180秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を60秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
本発明の硬化膜の製造方法の第二の態様に係る製造方法は、本発明の組成物を支持体上に付与し、組成物から形成された膜を得る工程(付与工程)を、露光工程の前に含むことが好ましい。
上記付与工程を含む場合、付与工程により得られた組成物から形成された膜が、露光工程により露光され、現像工程により現像されて、硬化膜が得られる。
本発明の硬化膜の製造方法の第三の態様に係る製造方法は、本発明の組成物から形成された膜を、露光及び加熱の少なくとも一方により硬化して硬化物層を得る工程(硬化工程)と、上記硬化物層上にフォトレジスト層を形成する工程(フォトレジスト層形成工程)と、上記フォトレジスト層からレジストパターンを形成する工程(レジストパターン形成工程)と、上記レジストパターンをマスクとして上記硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングする工程(ドライエッチング工程)と、を含むことが好ましい。
本発明の硬化膜の製造方法の第三の態様に係る製造方法は、パターンを有する硬化膜の製造方法であることが好ましい。
フォトレジスト層形成工程及びレジストパターン形成工程、及び、ドライエッチング工程の詳細については、特開2013-064993号公報の段落番号0010~0067の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
また、本発明の硬化膜の製造方法の第三の態様に係る製造方法は、本発明の組成物を支持体上に付与し、組成物から形成された膜を得る工程(付与工程)を、硬化工程の前に含むことが好ましい。付与工程は、上述の第一の態様における付与工程と同様の方法により行うことができ、好ましい態様も同様である。
上記付与工程を含む場合、付与工程により得られた組成物から形成された膜が、硬化工程により硬化され、フォトレジスト層形成工程及びレジストパターン形成工程を経て、ドライエッチング工程によりパターン化されて、硬化膜が得られる。
フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジスト層の形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理(ポストベーク処理)を実施する形態が望ましい。
本発明の近赤外線透過フィルタは、上述した本発明の膜又は本発明の硬化膜を含む。本発明の硬化膜は1層含んでいてもよく、2層以上含んでいてもよい。本発明の硬化膜を2層以上含む場合は、それらが隣接していても、間に他の層を含んでいてもよい。
本発明の近赤外線透過フィルタは、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。有彩色着色剤としては、本発明の組成物で説明した有彩色着色剤が挙げられる。着色組成物は、樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、界面活性剤、溶剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤などを更に含有することができる。これらの詳細については、本発明の組成物で説明した材料が挙げられ、それらを用いることができる。
本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜又は本発明の硬化膜を有する。本発明の硬化膜は1層含んでいてもよく、2層以上含んでいてもよい。本発明の硬化膜を2層以上含む場合は、それらが隣接していても、間に他の層を含んでいてもよい。本発明の固体撮像素子の構成としては、本発明の膜又は本発明の硬化膜を備え、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
本発明の膜又は本発明の硬化膜を組み込んだ固体撮像素子は、本発明の膜又は本発明の硬化膜に加え、更に別のカラーフィルタ、近赤外線カットフィルタ、近赤外線透過フィルタ、有機光電変換膜などを更に組み込んでもよい。
本発明の赤外線センサは、上述した本発明の膜又は本発明の硬化膜を含む。本発明の硬化膜は1層含んでいてもよく、2層以上含んでいてもよい。本発明の硬化膜を2層以上含む場合は、それらが隣接していても、間に他の層を含んでいてもよい。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本発明の赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
カラーフィルタ112は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開2014-043556号公報の段落番号0214~0263の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
近赤外線透過フィルタ114は、使用する赤外LEDの発光波長に応じてその特性が選択される。例えば、赤外LEDの発光波長が850nmである場合、近赤外線透過フィルタ114は、膜の厚み方向における光透過率の、波長400~640nmの範囲における最大値が20%以下であることが好ましく、15%以下であることがより好ましく、10%以下であることがさらに好ましい。この透過率は、波長400~640nmの範囲の全域で上記の条件を満たすことが好ましい。
近赤外線透過フィルタ114の分光特性、膜厚等の測定方法を以下に示す。
膜厚は、膜を有する乾燥後の基板を、触針式表面形状測定器(ULVAC社製 DEKTAK150)を用いて測定した。
膜の分光特性は、紫外可視近赤外分光光度計(日立ハイテクノロジーズ社製 U-4100)を用いて、波長300~1,500nmの範囲において透過率を測定した値である。
試料の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により、以下の条件で測定した。
カラムの種類:TOSOH TSKgel Super HZM-Hと、TOSOH TSKgel Super HZ4000と、TOSOH TSKgel Super HZ2000とを連結したカラム
展開溶媒:テトラヒドロフラン
カラム温度:40℃
流量(サンプル注入量):1.0μL(サンプル濃度:0.1質量%)
装置名:東ソー製 HLC-8220GPC
検出器:RI(屈折率)検出器
検量線ベース樹脂:ポリスチレン樹脂
試料の酸価は、固形分1gあたりの酸性成分を中和するのに要する水酸化カリウムの質量を表したものである。試料の酸価は次のようにして測定した。すなわち、測定試料をテトラヒドロフラン/水=9/1(質量比)混合溶媒に溶解し、得られた溶液を、電位差滴定装置(商品名:AT-510、京都電子工業製)を用いて、25℃にて、0.1mol/L水酸化ナトリウム水溶液で中和滴定した。滴定pH曲線の変曲点を滴定終点として、次式により酸価を算出した。
A=56.11×Vs×0.5×f/w
A:酸価(mgKOH/g)
Vs:滴定に要した0.1mol/L水酸化ナトリウム水溶液の使用量(mL)
f:0.1mol/L水酸化ナトリウム水溶液の力価
w:試料の質量(g)(固形分換算)
アルカリ処理により樹脂からエチレン性不飽和結合部位(例えば、樹脂がアクリロキシ基を有する場合は、アクリル酸)の低分子成分(a)を取り出し、その含有量を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)により測定し、その測定値に基づいて下記式からC=C価を算出した。
具体的には、樹脂0.1gをテトラヒドロフラン/メタノール混合液(50mL/15mL)に溶解させ、4mol/L水酸化ナトリウム水溶液10mLを加え、40℃で2時間反応させた。反応液を4mol/Lメタンスルホン酸水溶液10.2mLで中和し、その後、イオン交換水5mLとメタノール2mLを加えた混合液を100mLメスフラスコに移液し、メタノールでメスアップすることでHPLC測定サンプルを調製し、以下の条件で測定した。なお、低分子成分(a)の含有量は別途作成した低分子成分(a)の検量線から算出し、エチレン性不飽和結合価は下記式より算出した。
C=C価(mmol/g)=(低分子成分(a)含有量(ppm)/低分子成分(a)の分子量(g/mol))/(ポリマー液の秤量値(g)×(ポリマー液の固形分濃度(%)/100)×10)
-HPLC測定条件-
測定機器: Agilent-1200(アジレント・テクノロジー(株)製)
カラム: Phenomenex社製 Synergi 4u Polar-RP 80A,250mm×4.60mm(内径)+ガードカラム
カラム温度:40℃
分析時間:15分
流速:1.0mL/min(最大送液圧力:182bar(18.2MPa))
注入量:5μl
検出波長:210nm
溶離液:テトラヒドロフラン(安定剤不含HPLC用)/バッファー溶液(リン酸0.2体積%及びトリエチルアミン0.2体積%を含有するイオン交換水溶液)=55/45(体積%)
なお、本明細書において、体積%は25℃における値である。
ビニル安息香酸 13.5gとN,N-ジエチルアクリルアミド 13.5gと、特開2011-89108号公報の段落0180~段落0181に記載のマクロモノマーM1 127gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート320gに溶解させた。窒素気流下でこれにV-601 2.3gを加えて75℃で8時間加熱撹拌した。得られたポリマー溶液をヘキサンで晶析させて得られた沈殿物を乾燥させてポリマー(A-20)を得た。得られたポリマーのMwは20,000、酸価は46mgKOH/gであった。
本実施例又は比較例で用いた他の特定樹脂については、モノマーの種類及び使用量を適宜変更した以外は、上記A-20と同様の方法により合成した。
本実施例又は比較例で使用した特定樹脂A-1~A-48における、各繰返し単位の含有比(モル比)であるx、y、z、wの詳細は下記表の通りである。
また、A-22、A-25、及びA-26において、n:mは50:50(モル比)とし、A-45において、n:mは10:4(モル比)とした。
下記表に記載の原料を混合した混合液をビーズミル(ジルコニアビーズ0.3mm径)を用いて3時間混合及び分散した後さらに減圧機構付き高圧分散機NANO-3000-10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2,000MPaの圧力下で流量500g/minとして分散処理を行った。この分散処理を10回繰り返して各分散液を得た。
〔着色剤又は近赤外線吸収剤〕
PR264 : C.I.Pigment Red 264(赤色顔料、ジケトピロロピロール顔料)
PR254 : C.I.Pigment Red 254(赤色顔料、ジケトピロロピロール顔料)
PR179 : C.I.Pigment Red 179
PB15:6 : C.I.Pigment Blue 15:6(青色顔料、フタロシアニン顔料)
PB16 : C.I.Pigment Blue 16(青色顔料、フタロシアニン顔料)
PG7 : C.I.Pigment Green 7
PG36 : C.I.Pigment Green 36
PY138 : C.I.Pigment Yellow 138
PY215 : C.I.Pigment Yellow 215
PV23 : C.I.Pigment Violet 23
IR色素:下記構造の化合物(近赤外線吸収剤、構造式中、Meはメチル基を表し、Phはフェニル基を表す)
Irgaphor Bk: Irgaphor Black S 0100 CF(BASF社製、下記構造の化合物、ラクタム系顔料)
PBk32: C.I.Pigment Black 32(下記構造の化合物、ペリレン系顔料)
誘導体1:着色剤、下記構造の化合物
誘導体2:着色剤、下記構造の化合物
誘導体3:近赤外線吸収剤、下記構造の化合物
A-20、A-22、A-26、A-29、A-40及びA-48:上述の合成例にて合成した樹脂
CA-4:下記構造の樹脂((メタ)アクリル樹脂、主鎖に付記した数値は各繰返し単位のモル比であり、側鎖におけるポリエステル単位に付記した数値は各単位の繰返し数である。また、CA-4は式(1-1)~式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位をいずれも含有しない樹脂である。)
CA-5:下記構造の樹脂((メタ)アクリル樹脂、主鎖に付記した数値は各繰返し単位のモル比であり、側鎖におけるポリエステル単位に付記した数値は各単位の繰返し数である。また、CA-5は式(1-1)~式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位をいずれも含有しない樹脂である。)
S-1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
S-2:プロピレングリコールモノメチルエーテル
S-3:シクロヘキサノン
S-4:シクロペンタノン
各実施例及び比較例において、それぞれ、下記表に記載の原料を混合して組成物又は比較用組成物を調製した。下記表に記載の添加量の欄の数値の単位は質量部である。
「合計含有量(%)」の欄の記載は、組成物の全固形分に対する着色剤及び近赤外線吸収剤の合計含有量(質量%)を表す。
「特定繰返し単位の合計量の割合(モル%)」の欄の記載は、組成物に含まれる全ての樹脂成分に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、式(1-1)~式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合(モル%)を表す。
「波長T%=50%(nm)」の欄の記載は、各組成物から形成された、膜厚1μmの膜における膜の厚み方向の光透過率50%を示す波長を表す。
「最小T%(%)」の欄の記載は、波長950~1,300nmの範囲における光透過率の最小値を表す。
「Amin/B」の欄の記載は、組成物の波長400~640nmの範囲における吸光度の最小値Aminと、上記組成物の波長1,500nmにおける吸光度Bとの比であるAmin/Bの値を表す。
R1~R9、B1~B6、G1~G5、Y1~Y3、I1~I6、Bk1~Bk8:上述した顔料分散液
SQ、PPB、cyanine:下記構造の化合物。
A-1~A-48:上述の合成例にて合成した樹脂
CA-1:下記式で表される樹脂。主鎖に付記した数値は各繰返し単位のモル比である。また、CA-1は、上記式(1-1)~式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位を含有しない樹脂である。
CA-2:下記式で表される樹脂。主鎖に付記した数値は各繰返し単位のモル比である。また、CA-2は、上記式(1-1)~式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位を含有しない樹脂である。
CA-3:下記式で表される樹脂。下記式中、主鎖に付記した数値はモル比である。また、CA-3は、樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、上記式(1-1)~式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合が5モル%である樹脂である。
D-1:KAYARAD DPHA(日本化薬(株)製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートおよびジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物)
D-2:NKエステル A-DPH-12E(新中村化学工業(株)製)
D-3:アロニックスM-510(東亞合成(株)製、カルボキシ基含有多塩基酸変性アクリルオリゴマー)
E-1:Omnirad 379EG(アミノアセトフェノン系光ラジカル開始剤(IGM Resins社製))
E-2:IRGACURE OXE01(オキシムエステル系光ラジカル開始剤(BASF社製))
E-3:IRGACURE OXE03(オキシムエステル系光ラジカル開始剤(BASF社製))
F-1:下記式(F-1)で表される化合物、式(F-1)中、Meはメチル基を表す
F-2:下記式(F-2)で表される化合物、式(F-2)中、Meはメチル基を、Etはエチル基を表す。
G-1:EPICLON N-695(DIC社製)
G-2:EHPE3150(ダイセル社製)
H-1:下記構造で表される化合物。尚、構成単位の割合を示す%はモル比である。
I-1:p-メトキシフェノール
S-1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
S-3:シクロヘキサノン
〔露光感度の評価〕
各実施例及び比較例において、それぞれ、組成物又は比較用組成物をシリコンウエハ上にスピンコートで塗布し、ホットプレートを用いて100℃で120秒乾燥(プリベーク)して厚さ0.70μmの組成物層を形成した。
次いで、この組成物層に対して、一辺1.0μmの正方形状の非マスク部が4mm×3mmの領域に配列されたマスクパターンを介して、i線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(Canon(株)製)を使用して波長365nmの光を特定の露光量で照射して露光した。
次いで、露光後の組成物層が形成されているシリコンウエハを、スピン・シャワー現像機(DW-30型、(株)ケミトロニクス製)の水平回転テーブル上に載置し、現像液(CD-2000、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用い、23℃で60秒間パドル現像した。次いで、シリコンウエハを回転数50rpmで回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スプレー乾燥してパターン(画素)を形成した。
上記特定の露光量を変化させながら、得られたパターンを観察し、一辺が1.0μmの正方形状のパターンを解像する最小の露光量を決定し、下記評価基準に従い評価した。評価結果は表20に記載した。上記最小の露光量が小さいほど、組成物は露光感度に優れるといえる。また、表20の「露光感度」の欄に「評価せず」と記載した例においては、露光感度についての評価を行わなかった。
A:上記最小の露光量が100mJ/cm2未満であった。
B:上記最小の露光量が100以上200mJ/cm2未満であった。
C:上記最小の露光量が200以上500mJ/cm2未満であった。
D:上記最小の露光量が500以上1,000mJ/cm2未満であった。
E:上記最小の露光量が1,000mJ/cm2以上であった。
各実施例及び比較例において、それぞれ、組成物又は比較用組成物の粘度(mPa・s)を、東機産業(株)製「RE-85L」にて測定した。上記測定後、組成物を45℃、遮光、3日間の条件にて静置し、再度粘度(mPa・s)を測定した。上記静置前後での粘度差(ΔVis)から下記評価基準に従って保存安定性を評価した。評価結果は表20の「分散保存安定性」の欄に記載した。粘度差(ΔVis)の数値が小さいほど、組成物の保存安定性が良好であるといえる。上記粘度測定は、いずれも、温湿度を22±5℃、60±20%に管理した実験室で、組成物の温度を25℃に調整した状態で測定した。
A:ΔVisが0.5mPa・s以下であった。
B:ΔVisが0.5mPa・sを超え、1.0mPa・s以下であった。
C:ΔVisが1.0mPa・sを超え、2.0mPa・s以下であった。
D:ΔVisが2.0mPa・sを超え、2.5mPa・s以下であった。
E:ΔVisが2.5mPa・sを超えた。
各実施例及び比較例において、それぞれ、組成物又は比較用組成物をガラス基板上にスピンコートで塗布し、ホットプレートを用いて100℃で120秒乾燥(プリベーク)した後に、オーブンを用いて200℃で30分加熱(ポストベーク)して厚さ0.60μmの膜を製造した。Cary 5000 UV-Vis-NIR 分光光度計(アジレントテクノロジー(株)製)を用いて、得られた膜の波長450nmの透過率Tr1を測定した。次いで、得られた膜を窒素雰囲気下にて320℃で3時間加熱処理した。加熱処理後の膜の波長450nmの透過率Tr2を測定した。
Tr1とTr2の差の絶対値ΔTを算出し、下記評価基準に従って分光変化を評価した。評価結果は、表20の「分光変化」の欄に記載した。ΔTが小さいほど、分光変化が起こりにくく好ましいといえる。上記Tr1及びTr2は、いずれも、温湿度を22±5℃、60±20%に管理した実験室で、基板温度を25℃に温度調整を施した状態で測定した。
A:ΔTが0.1%以下であった。
B:ΔTが0.1%を超え0.5%以下であった。
C:ΔTが0.5%を超え1%以下であった。
D:ΔTが1%を超え5%以下であった。
E:ΔTが5%を超えた。
各実施例及び比較例において、それぞれ、組成物又は比較用組成物をガラス基板上にスピンコートで塗布し、ホットプレートを用いて100℃で120秒乾燥(プリベーク)した後に、オーブンを用いて200℃で30分加熱(ポストベーク)して厚さ0.60μmの膜を製造した。膜厚は、膜の一部を削ってガラス基板表面を露出し、ガラス基板表面と塗布膜の段差(塗布膜の膜厚)を触針式段差計(DektakXT、BRUKER社製)を用いて測定した。次いで、得られた膜を窒素雰囲気下にて320℃で3時間加熱処理した。加熱処理後の膜の膜厚を同様にして測定し、下記式より膜収縮率を求め、下記評価基準に従って膜収縮率を評価した。評価結果は、表20の「膜収縮率」の欄に記載した。下記T0及びT1は、いずれも、温湿度を22±5℃、60±20%に管理した実験室で、基板温度を25℃に温度調整を施した状態で測定した。膜収縮率が小さいほど、膜収縮が抑制されており、得られる膜の耐熱性に優れるといえる。
膜収縮率(%)=(1-(T1/T0))×100
T0:製造直後の膜の膜厚(=0.60μm)
T1:窒素雰囲気下にて320℃で3時間加熱処理した後の膜厚
-評価基準-
A:膜収縮率が1%以下であった。
B:膜収縮率が1%を超え5%以下であった。
C:膜収縮率が5%を超え10%以下であった。
D:膜収縮率が10%を超え30%以下であった。
E:膜収縮率が30%を超えた。
各実施例及び比較例において、それぞれ、組成物又は比較用組成物をガラス基板上にスピンコートで塗布し、ホットプレートを用いて100℃で120秒乾燥(プリベーク)した後に、オーブンを用いて200℃で30分加熱(ポストベーク)して厚さ0.60μmの膜を製造した。
次いで、得られた膜の表面に、スパッタ法によりSiO2を200nm積層して無機膜を形成した。この無機膜が表面に形成された膜を、窒素雰囲気下にて320℃で3時間加熱処理した。加熱処理後の無機膜の表面を光学顕微鏡で観察し、クラックの1cm2当たりの個数をカウントして、下記評価基準に従ってクラックの有無を評価した。評価結果は表20の「クラック」の欄に記載した。
-評価基準-
A:クラックの1cm2当たりの個数が0個であった。
B:クラックの1cm2当たりの個数が1~10個であった。
C:クラックの1cm2当たりの個数が11~50個であった。
D:クラックの1cm2当たりの個数が51個~100個であった。
E:クラックの1cm2当たりの個数が101個以上であった。
シリコンウエハ上に、実施例13の組成物をスピンコートで塗布し、ホットプレートを用いて100℃で120秒乾燥(プリベーク)した後に、オーブンを用いて200℃で30分加熱(ポストベーク)して厚さ0.60μmの組成物層を形成した。
次いで、この組成物層に対して、一辺1.1μmの正方形状の非マスク部が4mm×3mmの領域に配列されたマスクパターンを介して、i線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(Canon(株)製)を使用して波長365nmの光を500mJ/cm2の露光量で照射して露光した。
次いで、露光後の組成物層が形成されているシリコンウエハを、スピン・シャワー現像機(DW-30型、(株)ケミトロニクス製)の水平回転テーブル上に載置し、現像液(CD-2000、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用い、23℃で60秒間パドル現像した。次いで、シリコンウエハを回転数50rpmで回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スプレー乾燥してパターン(画素)を形成した。
Claims (31)
- 着色剤、樹脂、及び、溶剤を含む組成物であって、
前記樹脂が、下記式(1-1)~下記式(1-3)、及び、下記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の繰返し単位を含み、
前記樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、下記式(1-1)~下記式(1-3)、及び、下記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合が60モル%を超え、
近赤外線吸収剤を含まないか、又は、近赤外線吸収剤を含み、
前記着色剤、及び、近赤外線吸収剤の合計含有量が、組成物の全固形分に対して30質量%以上であり、
前記組成物の波長400~640nmの範囲における吸光度の最小値Aminと、前記組成物の波長1,500nmにおける吸光度Bとの比であるAmin/Bが5以上である
組成物。
式(1-1)中、R11、R12及びR13はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、Arはヘテロ原子を含む置換基を有する環員数5~30の芳香族基を表し、前記ヘテロ原子を含む置換基がカルボキシ基、又は、スルホンアミド基である酸基であり、前記酸基はアルキル基、ポリマー鎖、又は、エチレン性不飽和結合を有する基を含む構造とエステル結合を形成してもよい;
式(1-2)中、R21、R22及びR23はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R24及びR25はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し、R24及びR25は結合して環構造を形成してもよい;
式(1-3)中、R31、R32及びR33はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R34及びR35はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し、R34及びR35は結合して環構造を形成してもよい;
式(1-5)中、R51~R54はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R55は水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表す。 - 着色剤、樹脂、及び、溶剤を含む組成物であって、
前記樹脂が、下記式(1-1)~下記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の繰返し単位を含み、
前記樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、下記式(1-1)~下記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合が60モル%を超え、
(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸エステル化合物由来の繰返し単位の含有量が、特定樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対して0~1モル%であり、
近赤外線吸収剤を含まないか、又は、近赤外線吸収剤を含み、
前記着色剤、及び、近赤外線吸収剤の合計含有量が、組成物の全固形分に対して30質量%以上であり、
前記組成物の波長400~640nmの範囲における吸光度の最小値Aminと、前記組成物の波長1,500nmにおける吸光度Bとの比であるAmin/Bが5以上である
組成物。
式(1-1)中、R11、R12及びR13はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、Arはヘテロ原子を含む置換基を有する環員数5~30の芳香族基を表し、前記ヘテロ原子を含む置換基がカルボキシ基、又は、スルホンアミド基である酸基であり、前記酸基はアルキル基、ポリマー鎖、又は、エチレン性不飽和結合を有する基を含む構造とエステル結合を形成してもよい;
式(1-2)中、R21、R22及びR23はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R24及びR25はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し、R24及びR25は結合して環構造を形成してもよい;
式(1-3)中、R31、R32及びR33はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R34及びR35はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し、R34及びR35は結合して環構造を形成してもよい;
式(1-4)中、R41及びR42はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R43は水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し;
式(1-5)中、R51~R54はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R55は水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表す。 - 着色剤、樹脂、及び、溶剤を含む組成物であって、
前記樹脂が、下記式(1-1)、下記式(1-3)、及び、下記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の繰返し単位を含み、
前記樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、下記式(1-1)、下記式(1-3)、及び、下記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合が10モル%以上であり、
近赤外線吸収剤を含まないか、又は、近赤外線吸収剤を含み、
前記着色剤、及び、近赤外線吸収剤の合計含有量が、組成物の全固形分に対して30質量%以上であり、
前記組成物の波長400~640nmの範囲における吸光度の最小値Aminと、前記組成物の波長1,500nmにおける吸光度Bとの比であるAmin/Bが5以上である
組成物。
式(1-1)中、R11、R12及びR13はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、Arはヘテロ原子を含む置換基を有する環員数5~30の芳香族基を表し、前記ヘテロ原子を含む置換基がカルボキシ基、又は、スルホンアミド基である酸基であり、前記酸基はアルキル基、ポリマー鎖、又は、エチレン性不飽和結合を有する基を含む構造とエステル結合を形成してもよい;
式(1-3)中、R31、R32及びR33はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R34及びR35はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し、R34及びR35は結合して環構造を形成してもよい;
式(1-5)中、R51~R54はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R55は水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表す。 - 着色剤、樹脂、及び、溶剤を含む組成物であって、
前記樹脂が、下記式(1-1)、及び、下記式(1-3)~下記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位よりなる群から選ばれた少なくとも1種の繰返し単位を含み、
前記樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、下記式(1-1)、及び、下記式(1-3)~下記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合が10モル%以上であり、
(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸エステル化合物由来の繰返し単位の含有量が、特定樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対して0~1モル%であり、
近赤外線吸収剤を含まないか、又は、近赤外線吸収剤を含み、
前記着色剤、及び、近赤外線吸収剤の合計含有量が、組成物の全固形分に対して30質量%以上であり、
前記組成物の波長400~640nmの範囲における吸光度の最小値Aminと、前記組成物の波長1,500nmにおける吸光度Bとの比であるAmin/Bが5以上である
組成物。
式(1-1)中、R11、R12及びR13はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、Arはヘテロ原子を含む置換基を有する環員数5~30の芳香族基を表し、前記ヘテロ原子を含む置換基がカルボキシ基、又は、スルホンアミド基である酸基であり、前記酸基はアルキル基、ポリマー鎖、又は、エチレン性不飽和結合を有する基を含む構造とエステル結合を形成してもよい;
式(1-3)中、R31、R32及びR33はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R34及びR35はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し、R34及びR35は結合して環構造を形成してもよい;
式(1-4)中、R41及びR42はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R43は水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表し;
式(1-5)中、R51~R54はそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、又は、フッ素原子で置換されていてもよい芳香族炭化水素基を表し、R55は水素原子、炭素数1~30のアルキル基、又は、炭素数6~30の芳香族炭化水素基を表す。 - (メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸エステル化合物由来の繰返し単位の含有量が、特定樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対して0~1モル%である、請求項1又は3に記載の組成物。
- 前記樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、前記式(1-1)で表される繰返し単位の合計量の割合が10モル%以上である、請求項1~5のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記樹脂に含まれる全ての繰返し単位の総モル量に対する、前記式(1-1)、前記式(1-3)、及び、前記式(1-5)のいずれかで表される繰返し単位の合計量の割合が60モル%を超える、請求項3又は4に記載の組成物。
- 前記式(1-1)中、Arが置換基としてヘテロ原子を含む置換基を有する、請求項1~7のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記組成物から形成された、膜厚1μmの膜における膜の厚み方向の光透過率50%を示す波長が、700~950nmであり、かつ、前記膜の波長950~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上である、請求項1~8のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記組成物から形成された、膜厚1μmの膜における膜の厚み方向の光透過率50%を示す波長が、700~800nmであり、かつ、前記膜の波長800~1,300nmの範囲における光透過率の最小値が90%以上である、請求項1~9のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記着色剤が有機顔料である、請求項1~10のいずれか1項に記載の組成物。
- 近赤外線吸収剤を含む、請求項1~11のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記着色剤が、黒色色材を含む、請求項1~12のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記着色剤が、赤色色材、緑色色材、青色色材、黄色色材及び紫色色材よりなる群から選ばれた少なくとも1種の色材を含む、請求項1~13のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記樹脂が、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、及び、アミノ基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基を有する、請求項1~14のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記樹脂の酸価が0~150mgKOH/gである、請求項1~15のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記樹脂がエチレン性不飽和結合を有する、請求項1~16のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記樹脂として、下記樹脂1及び下記樹脂2を含む、請求項1~17のいずれか1項に記載の組成物;
樹脂1:前記樹脂であって、酸基及びエチレン性不飽和結合を有する基を含む樹脂;
樹脂2:前記樹脂であって、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、及び、アミノ基よりなる群から選ばれた少なくとも1種の基、及び、分子量が500~10,000であり、かつ、酸基及び塩基性基を有しない分子鎖を有する樹脂。 - 重合性化合物を更に含む、請求項1~18のいずれか1項に記載の組成物。
- 重合開始剤を更に含む、請求項1~19のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記重合開始剤が光重合開始剤である、請求項20に記載の組成物。
- フォトリソグラフィ法でのパターン形成用である、請求項1~21のいずれか1項に記載の組成物。
- 固体撮像素子用である、請求項1~22のいずれか1項に記載の組成物。
- 請求項1~23のいずれか1項に記載の組成物から得られる膜。
- 請求項1~23のいずれか1項に記載の組成物を硬化してなる硬化膜。
- 請求項24に記載の膜、又は、請求項25に記載の硬化膜を含む近赤外線透過フィルタ。
- 請求項24に記載の膜、又は、請求項25に記載の硬化膜を含む固体撮像素子。
- 請求項24に記載の膜、又は、請求項25に記載の硬化膜を含む赤外線センサ。
- 請求項1~23のいずれか1項に記載の組成物から形成された膜を、露光及び加熱の少なくとも一方により硬化する工程を含む、硬化膜の製造方法。
- 請求項1~23のいずれか1項に記載の組成物から形成された膜を、露光により硬化する工程を含む、請求項29に記載の硬化膜の製造方法。
- 請求項1~23のいずれか1項に記載の組成物から形成された膜の一部を露光する露光工程と、
前記露光後の膜を現像する現像工程とを含む
硬化膜の製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019189941 | 2019-10-17 | ||
JP2019189941 | 2019-10-17 | ||
JP2021552374A JPWO2021075393A1 (ja) | 2019-10-17 | 2020-10-12 | |
PCT/JP2020/038426 WO2021075393A1 (ja) | 2019-10-17 | 2020-10-12 | 組成物、膜、硬化膜及びその製造方法、近赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、並びに、赤外線センサ |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021552374A Division JPWO2021075393A1 (ja) | 2019-10-17 | 2020-10-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023123480A true JP2023123480A (ja) | 2023-09-05 |
JP7451807B2 JP7451807B2 (ja) | 2024-03-18 |
Family
ID=75538494
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021552374A Pending JPWO2021075393A1 (ja) | 2019-10-17 | 2020-10-12 | |
JP2023091766A Active JP7451807B2 (ja) | 2019-10-17 | 2023-06-02 | 組成物、膜、硬化膜及びその製造方法、近赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、並びに、赤外線センサ |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021552374A Pending JPWO2021075393A1 (ja) | 2019-10-17 | 2020-10-12 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220244637A1 (ja) |
JP (2) | JPWO2021075393A1 (ja) |
KR (1) | KR20220063238A (ja) |
CN (1) | CN114556215A (ja) |
TW (1) | TW202124469A (ja) |
WO (1) | WO2021075393A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114556215A (zh) * | 2019-10-17 | 2022-05-27 | 富士胶片株式会社 | 组合物、膜、固化膜及其制造方法、近红外线透射滤波器、固体摄像元件以及红外线传感器 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008026397A1 (fr) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Jsr Corporation | Composition de résine isolante sensible aux radiations, article durci et dispositif électronique |
WO2019176975A1 (ja) * | 2018-03-16 | 2019-09-19 | 富士フイルム株式会社 | 構造体、近赤外線カットフィルタ用組成物、ドライフィルム、構造体の製造方法、光センサおよび画像表示装置 |
WO2021075393A1 (ja) * | 2019-10-17 | 2021-04-22 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、硬化膜及びその製造方法、近赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、並びに、赤外線センサ |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3276215B2 (ja) * | 1993-07-30 | 2002-04-22 | 日本写真印刷株式会社 | 前面パネルと前面パネル用転写材 |
JPH07311461A (ja) | 1994-05-17 | 1995-11-28 | Dainippon Printing Co Ltd | 水溶性着色感光性樹脂組成物 |
US6717415B2 (en) * | 2002-02-05 | 2004-04-06 | Logicvision, Inc. | Circuit and method for determining the location of defect in a circuit |
JP2013205654A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-07 | Fujifilm Corp | 着色感光性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び表示装置 |
TW201423272A (zh) * | 2012-11-27 | 2014-06-16 | Jsr Corp | 感光性組成物、著色劑分散液、濾光片及光感應器 |
JP6464850B2 (ja) * | 2015-03-19 | 2019-02-06 | Jsr株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、赤外光透過フィルタ及び固体撮像装置 |
JP6650040B2 (ja) * | 2016-08-10 | 2020-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、カメラモジュールおよび画像表示装置 |
JP2019031627A (ja) | 2017-08-09 | 2019-02-28 | 昭和電工株式会社 | アルカリ可溶性樹脂、それを含むカラーフィルター用感光性樹脂組成物及びカラーフィルター |
JP7016891B2 (ja) * | 2017-12-27 | 2022-02-07 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および化合物の製造方法 |
-
2020
- 2020-10-12 CN CN202080072694.3A patent/CN114556215A/zh active Pending
- 2020-10-12 KR KR1020227012463A patent/KR20220063238A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-10-12 WO PCT/JP2020/038426 patent/WO2021075393A1/ja active Application Filing
- 2020-10-12 JP JP2021552374A patent/JPWO2021075393A1/ja active Pending
- 2020-10-13 TW TW109135254A patent/TW202124469A/zh unknown
-
2022
- 2022-04-14 US US17/720,543 patent/US20220244637A1/en active Pending
-
2023
- 2023-06-02 JP JP2023091766A patent/JP7451807B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008026397A1 (fr) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Jsr Corporation | Composition de résine isolante sensible aux radiations, article durci et dispositif électronique |
WO2019176975A1 (ja) * | 2018-03-16 | 2019-09-19 | 富士フイルム株式会社 | 構造体、近赤外線カットフィルタ用組成物、ドライフィルム、構造体の製造方法、光センサおよび画像表示装置 |
WO2021075393A1 (ja) * | 2019-10-17 | 2021-04-22 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、硬化膜及びその製造方法、近赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、並びに、赤外線センサ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202124469A (zh) | 2021-07-01 |
CN114556215A (zh) | 2022-05-27 |
US20220244637A1 (en) | 2022-08-04 |
WO2021075393A1 (ja) | 2021-04-22 |
JPWO2021075393A1 (ja) | 2021-04-22 |
JP7451807B2 (ja) | 2024-03-18 |
KR20220063238A (ko) | 2022-05-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7323621B2 (ja) | 着色樹脂組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子、及び、画像表示装置 | |
JP7170732B2 (ja) | 着色組成物、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子及び画像表示装置 | |
JP7425093B2 (ja) | 着色樹脂組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子、及び、画像表示装置 | |
JP2023055728A (ja) | 硬化性組成物、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、及び、高分子化合物 | |
JP2024009929A (ja) | 着色感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 | |
JP7451807B2 (ja) | 組成物、膜、硬化膜及びその製造方法、近赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、並びに、赤外線センサ | |
JP7498837B2 (ja) | 着色樹脂組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子、及び、画像表示装置 | |
JP2024040152A (ja) | 着色組成物、膜、カラーフィルタおよび固体撮像素子 | |
JP7233518B2 (ja) | 着色組成物、硬化膜、パターン形成方法、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 | |
JP2024012409A (ja) | 着色感光性組成物、硬化物、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、及び、非対称ジケトピロロピロール化合物 | |
JPWO2020022248A1 (ja) | 硬化性組成物、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置 | |
JP7271662B2 (ja) | 樹脂組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 | |
JP7198819B2 (ja) | 硬化性組成物、硬化性組成物の製造方法、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置 | |
TWI806971B (zh) | 感光性組成物 | |
WO2020241536A1 (ja) | 樹脂組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 | |
WO2020004114A1 (ja) | 感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置 | |
JP7344370B2 (ja) | 樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、及び、画像表示装置 | |
JP7385739B2 (ja) | 樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、及び、画像表示装置 | |
JP7302014B2 (ja) | 着色組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 | |
JP7437422B2 (ja) | 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 | |
WO2023182017A1 (ja) | 着色組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 | |
WO2023157740A1 (ja) | 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230724 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231114 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240112 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240213 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240306 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7451807 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |