JP2023099286A - 基板処理装置および方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置は、薬液供給ユニット100と連結され、薬液を循環するための循環ラインMCLと、循環ラインMCLに設けられ、薬液内のパーティクルをフィルタリングするためのフィルタFと、循環ラインMCLの第1ノードN1に連結され、チャンバ200に薬液を供給するための供給ラインSLと、循環ラインMCLで、フィルタFと第1ノードN1の間に位置する第2ノードN2に連結され、薬液をドレインするためのドレインラインDLを含み、薬液供給ユニット100のポンプ21が中断した後に再稼働した時点から第1区間の間、フィルタFを通過する薬液をドレインする。
【選択図】図1
Description
時間t1~t2(すなわち、第1区間)で、第1オンオフ弁V3と第3オンオフ弁V6はオフ状態であり、第2オンオフ弁V4はオン状態であるので、フィルタFを通過した薬液はドレインラインDLを介してドレインされる(図面符号F1を参照)。
Claims (20)
- 薬液供給ユニットと連結され、薬液を循環するための循環ラインと、
前記循環ラインに設けられ、薬液内のパーティクルをフィルタリングするためのフィルタと、
前記循環ラインの第1ノードに連結され、チャンバに薬液を供給するための供給ラインと、
前記循環ラインで、前記フィルタと前記第1ノードの間に位置する第2ノードに連結され、薬液をドレインするためのドレインラインを含む、基板処理装置。 - 前記薬液供給ユニットのポンプが中断した後に再稼働した時点から第1区間の間、前記フィルタを通過する薬液をドレインし、前記第1区間後の第2区間の間、前記フィルタを通過する薬液の一部はドレインしながら、他の一部は前記供給ラインを介してチャンバに供給する、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記第2区間の間前記チャンバに供給された薬液はノズルフラッシングに使用される、請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記第2区間後の第3区間の間、前記フィルタを通過する薬液をドレインせず、前記供給ラインを介してチャンバに供給する、請求項2に記載の基板処理装置。
- 前記薬液供給ユニットの最初のセットアップ後に稼働される時点から第1区間の間、前記フィルタを通過する薬液をドレインすることをさらに含む、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記薬液供給ユニットのポンプが中断した後に再稼働した時点から第4区間の間、前記フィルタのメンブレン上にはパーティクルによるケーキが完成されていない、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記薬液供給ユニットから供給される薬液の第1流量は、前記ドレインラインを介してドレインされる薬液の第2流量と前記供給ラインを介して前記チャンバに供給される薬液の第3流量の合計より大きいか同じである、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記第1ノードと前記第2ノードの間に、前記供給ラインに薬液を供給するかどうかを決定する第1オンオフ弁をさらに含む、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記ドレインラインに設けられ、前記薬液をドレインするかどうかを決定する第2オンオフ弁をさらに含む、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記ドレインラインに設けられ、ドレインされる薬液の流量を調節するための流量調節弁をさらに含む、請求項9に記載の基板処理装置。
- 前記循環ラインで、前記第1ノードの下流には、前端の圧力を一定に維持する背圧弁をさらに含む、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記供給ラインで、後端の圧力を一定に維持して前記チャンバに吐出される薬液の流量を一定に維持するための定圧弁をさらに含む、請求項11に記載の基板処理装置。
- 薬液供給ユニットと連結され、薬液を循環するための循環ラインと、
前記循環ラインに設けられ、前記薬液内のパーティクルをフィルタリングするためのフィルタと、
前記循環ラインの第1ノードに連結され、チャンバに薬液を供給するための供給ラインと、
前記循環ラインで、前記フィルタと前記第1ノードの間に位置する第2ノードに連結され、薬液をドレインするためのドレインラインと、
前記循環ラインで、前記第1ノードと前記第2ノードの間に配置された第1オンオフ弁と、
前記ドレインラインに設けられた第2オンオフ弁を含み、
第1区間の間、前記第1オンオフ弁はターンオフし、前記第2オンオフ弁はターンオンし、
前記第1区間後の第2区間の間、前記第1オンオフ弁はターンオンし、前記第2オンオフ弁はオン状態を維持し、
前記第2区間後の第3区間の間、前記第2オンオフ弁はターンオフし、前記第1オンオフ弁はオン状態を維持することを含む、基板処理装置。 - 前記薬液供給ユニットのポンプが中断した後に再稼働した時点から第4区間の間、前記フィルタのメンブレン上にはパーティクルによるケーキが完成されていない、請求項13に記載の基板処理装置。
- 前記薬液供給ユニットのポンプが中断した後に再稼働される時点から第1区間の間または前記薬液供給ユニットの最初のセットアップ後に稼働される時点から第1区間の間、前記フィルタを通過する薬液をドレインすることをさらに含む、請求項13に記載の基板処理装置。
- 薬液供給ユニットと連結された循環ラインと、前記循環ラインに設けられたフィルタと、前記循環ラインの第1ノードと連結された供給ラインと、前記循環ラインで前記フィルタと前記第1ノードの間の第2ノードに連結されるドレインラインを含む、基板処理装置が提供され、
第1区間の間、前記ドレインラインを介して前記フィルタを通過する薬液をドレインし、
前記第1区間後の第2区間の間、前記ドレインラインを介して前記フィルタを通過する薬液の一部はドレインし、他の一部は前記供給ラインを介してチャンバに供給し、
前記第2区間後の第3区間の間、前記フィルタを通過する薬液をドレインせず、前記供給ラインを介してチャンバに薬液を供給することを含む、基板処理方法。 - 前記フィルタに加えられるフィルタ圧が維持されると、前記フィルタのメンブレン上にパーティクルによるケーキが形成され、
前記フィルタに加えられるフィルタ圧が解除されると、前記ケーキをなしていたパーティクルが解散し、
前記フィルタに加えられるフィルタ圧が再生成される時点から第4区間の間、前記フィルタのメンブレン上にまだケーキが完成されず、微細パーティクルが前記メンブレンを通過し、
前記第4区間以後に、前記フィルタのメンブレン上にケーキが再形成されることを含む、請求項16に記載の基板処理方法。 - 前記フィルタ圧が再生成される時点から前記第4区間の間、前記ドレインラインを介して前記メンブレンを通過した微細パーティクルを含む薬液をドレインすることをさらに含む、請求項17に記載の基板処理方法。
- 前記薬液供給ユニットから供給される薬液の第1流量は、前記ドレインラインを介してドレインされる薬液の第2流量と前記供給ラインを介して前記チャンバに供給される薬液の第3流量の合計より大きいか同じである、請求項16に記載の基板処理方法。
- 前記薬液供給ユニットのポンプが中断した後に再稼働される時点から第1区間の間または前記薬液供給ユニットの最初のセットアップ後に稼働される時点から第1区間の間、前記フィルタを通過する薬液をドレインすることをさらに含む、請求項16に記載の基板処理方法。
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