JP2022187235A - 処理液供給装置、処理液供給方法及び記憶媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】基板に対する処理液の吐出部に供給する処理液であってフィルタで濾過した処理液の清浄度を保つ。【解決手段】基板に処理液を吐出する吐出部に前記処理液を供給する処理液供給装置であって、前記吐出部に接続された供給管路と、前記供給管路に介設され、前記吐出部に前記処理液を圧送するポンプと、前記供給管路における前記ポンプの下流側に介設された第１開閉弁と、前記供給管路における前記ポンプと前記第１開閉弁との間に介設され、前記処理液を濾過するフィルタと、前記供給管路における前記フィルタと前記第１開閉弁との間から分岐され、前記供給管路から前記処理液を排出する排出管路と、前記排出管路に接続され、前記供給管路から排出された前記処理液を貯留する貯留部と、前記排出管路に介設された第２開閉弁と、制御部と、を備え、前記制御部は、前記供給管路における前記第１開閉弁より上流側の部分に、前記フィルタにより濾過された前記処理液が、所定時間以上留まることがないよう、前記第１開閉弁及び前記第２開閉弁を制御する。【選択図】図１

Description

本開示は、処理液供給装置、処理液供給方法及び記憶媒体に関する。

特許文献１には、基板の表面に液供給ノズルから処理液を供給して処理を施すための液処理装置に設けられ、液供給ノズルと処理液の液供給部との間に構成される処理液供給配管回路が開示されている。この処理液供給配管回路は、液供給部から供給配管を通じて供給される処理液を一旦貯留する中間タンクと、中間タンクの上方に接続され内部の処理液を減圧して脱気させるための排気配管と、中間タンクの出口側から処理液を吸液して吐出動作を連続させる送液ポンプと、を備える。さらに、処理液供給配管回路は、送液ポンプの吐出側となる送液ポンプ二次側配管と液供給ノズルとの間の配管に設けられ、液供給ノズル側に向かう処理液の流れの開閉を行なう開閉バルブと、開閉バルブの一次側の配管から分岐されて中間タンクに連通して処理液を循環する循環配管と、循環配管の処理液の流れを開閉する循環バルブと、を備えている。

実用新案登録３１８９８２１号公報

本開示にかかる技術は、基板に対する処理液の吐出部に供給する処理液であってフィルタで濾過した処理液の清浄度を保つ。

本開示の一態様は、基板に処理液を吐出する吐出部に前記処理液を供給する処理液供給装置であって、前記吐出部に接続された供給管路と、前記供給管路に介設され、前記吐出部に前記処理液を圧送するポンプと、前記供給管路における前記ポンプの下流側に介設された第１開閉弁と、前記供給管路における前記ポンプと前記第１開閉弁との間に介設され、前記処理液を濾過するフィルタと、前記供給管路における前記フィルタと前記第１開閉弁との間から分岐され、前記供給管路から前記処理液を排出する排出管路と、前記排出管路に接続され、前記供給管路から排出された前記処理液を貯留する貯留部と、前記排出管路に介設された第２開閉弁と、制御部と、を備え、前記制御部は、前記供給管路における前記第１開閉弁より上流側の部分に、前記フィルタにより濾過された前記処理液が、所定時間以上留まることがないよう、前記第１開閉弁及び前記第２開閉弁を制御する。

本開示によれば、基板に対する処理液の吐出部に供給する処理液であってフィルタで濾過した処理液の清浄度を保つことができる。

第１実施形態にかかる処理液供給装置の構成の概略を示す説明図である。 通常吐出動作時の処理液供給装置の状態を示す図である。 循環動作時の処理液供給装置の状態を示す図である。 排出動作時の処理液供給装置の状態を示す図である。 排出動作を行う理由を説明するための図である。 ノズル洗浄動作時の処理液供給装置の状態を示す図である。 第２実施形態にかかる処理液供給装置の構成の概略を示す説明図である。

半導体デバイス等の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では、半導体ウェハ（以下、「ウェハ」という。）等の基板上に所定のレジストパターンを形成するために一連の処理が行われる。上記一連の処理には、例えば、基板上にレジスト液を供給しレジスト膜を形成するレジスト塗布処理、レジスト膜を露光する露光処理、露光されたレジスト膜に現像液を供給して現像する現像処理等が含まれる。

上述の塗布処理時や現像処理時にレジスト液や現像液等の処理液を吐出ノズルに供給する装置には、吐出ノズルに接続された供給管路に、処理液中の微細な異物（パーティクル）を除去するフィルタが介設されている。

しかし、本発明者らが鋭意調査をしたところ、上述のようにフィルタを設けたとしても、供給管路内に処理液が長時間留まると、基板に吐出する処理液には異物が含まれ欠陥として検出される場合があることが判明した。
これは、処理液をフィルタにより複数回濾過するための循環路を用い、上記複数回濾過された処理液を基板に吐出する場合でも同様である。

そこで、本開示にかかる技術は、フィルタで濾過し基板に対する処理液の吐出部に供給する、処理液の清浄度を保つ。

以下、本実施形態にかかる処理液供給装置及び処理液供給方法を、図面を参照して説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。

（第１実施形態）
図１は、第１実施形態にかかる処理液供給装置の構成の概略を示す説明図である。
図１の処理液供給装置１００は、吐出部としての吐出ノズル１に処理液を供給する。吐出ノズル１は、保持部であるスピンチャック２に保持された基板としてのウェハＷに処理液を吐出する。処理液供給装置１００が供給し吐出ノズル１が吐出する処理液は例えばレジスト液である。

処理液供給装置１００は、吐出ノズル１に接続された供給管路１５０を備えている。供給管路１５０は、例えば、一端が吐出ノズル１に接続され、他端がレジスト液ボトル１０１に接続されている。

レジスト液ボトル１０１は、内部にレジスト液を貯留する供給源であり、取り換え可能なものである。レジスト液ボトル１０１には、開閉弁Ｖ１が介設された気体供給管路１５１も接続されている。気体供給管路１５１は、窒素ガス等の不活性ガスの供給源であるガス供給源１１０とレジスト液ボトル１０１とを接続するものであり、開閉弁Ｖ１の上流側に圧力調整用の電空レギュレータ１１１が設けられている。

供給管路１５０には、バッファタンク１０２、ポンプ１０３、フィルタ１０４が、上流側からこの順に介設されている。
供給管路１５０は、レジスト液ボトル１０１とバッファタンク１０２とを接続する第１供給管路１５０ａと、バッファタンク１０２とポンプ１０３とを接続する第２供給管路１５０ｂと、ポンプ１０３と吐出ノズル１とを接続しフィルタ１０４が介設された第３供給管路１５０ｃと、を有する。

第１供給管路１５０ａには開閉弁Ｖ２が介設されている。
第２供給管路１５０ｂには開閉弁Ｖ３が介設されている。

第３供給管路１５０ｃにおけるポンプ１０３とフィルタ１０４との間には開閉弁Ｖ４が介設されている。また、第３供給管路１５０ｃにおけるフィルタ１０４と吐出ノズル１との間に開閉弁Ｖ５と供給制御弁Ｖ６とが上流側からこの順に介設されている。
言い換えると、第３供給管路１５０ｃにおけるポンプ１０３の二次側且つ下流側に、開閉弁Ｖ５が介設され、第３供給管路１５０ｃにおけるポンプ１０３と開閉弁Ｖ５との間に、フィルタ１０４が介設されている。

バッファタンク１０２は、レジスト液ボトル１０１から移送されポンプ１０３へ送出されるレジスト液を貯留する貯留部である。バッファタンク１０２には、貯留残量を検出する液面センサ（図示せず）が設けられており、当該液面センサによる検出結果に応じて開閉弁Ｖ１、Ｖ２が開閉され、レジスト液ボトル１０１からバッファタンク１０２へのレジスト液の供給すなわち補充が開始、停止される。

ポンプ１０３は、レジスト液を吸入、送出するものであり、例えば磁気浮上型遠心ポンプである。ポンプ１０３は、バッファタンク１０２からレジスト液を吸入し、そのレジスト液を吐出ノズル１等に圧送する。
フィルタ１０４は、レジスト液を濾過してパーティクルを除去する。具体的には、フィルタ１０４は、ポンプ１０３から送出されたレジスト液を濾過して当該レジスト液内のパーティクルを除去する。

また、処理液供給装置１００は、排出管路１５２を備えている。排出管路１５２は、第３供給管路１５０ｃにおけるフィルタ１０４と開閉弁Ｖ５との間から分岐され、供給管路１５０からレジスト液を排出する。

排出管路１５２における下流側端には、供給管路１５０から排出されたレジスト液を貯留する貯留部としてのタンク１０５が接続されている。また、排出管路１５２には、開閉弁Ｖ７が介設されている。タンク１０５には、例えば、フィルタ１０４より容量が大きいものが用いられる。

さらに、処理液供給装置１００は、パージ用管路１５３を備えている。パージ用管路１５３は、上流側端がタンク１０５に接続され、且つ、下流側端が第３供給管路１５０ｃにおける開閉弁Ｖ５と吐出ノズル１との間（具体的には開閉弁Ｖ５と供給制御弁Ｖ６との間）に接続されている。パージ用管路１５３には、ポンプ１０６が介設され、ポンプ１０６より下流側に開閉弁Ｖ８が介設されている。

ポンプ１０６は、レジスト液を吸入、送出するものであり、例えば磁気浮上型遠心ポンプである。ポンプ１０３は、タンク１０５からレジスト液を吸入し、そのレジスト液を吐出ノズル１に圧送する。

また、処理液供給装置１００は、戻り管路１５４を備えている。戻り管路１５４は、その一端が、排出管路１５２と同様、第３供給管路１５０ｃにおけるフィルタ１０４と開閉弁Ｖ５との間から分岐されている。本例において、戻り管路１５４は、排出管路１５２と共に第３供給管路１５０ｃから分岐されており、言い換えると、戻り管路１５４と排出管路１５２は、第３供給管路１５０ｃ側の一部を共有している。また、戻り管路１５４は、その他端が、供給管路１５０におけるポンプ１０３の下流側に接続されている。本例では、戻り管路１５４は、上記他端が、バッファタンク１０２に接続されている。さらに、戻り管路１５４には開閉弁Ｖ９が介設されている。

この戻り管路１５４は、供給管路１５０の一部と共にレジスト液の循環路１５５を構成する。
「供給管路１５０の一部」とは、供給管路１５０におけるポンプ１０３及びフィルタ１０４を含む部分であり、より具体的には、供給管路１５０におけるバッファタンク１０２、ポンプ１０３及びフィルタ１０４を含む部分である。

さらに、処理液供給装置１００は、制御部Ｍを備える。制御部Ｍは、例えばＣＰＵやメモリ等を備えたコンピュータであり、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、処理液供給装置１００における処理を制御するプログラムが格納されている。なお、上記プログラムは、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体Ｈに記録されていたものであって、当該記憶媒体Ｈから制御部Ｍにインストールされたものであってもよい。記憶媒体Ｈは、一時的なものであっても非一時的なものであってもよい。また、プログラムの一部または全ては専用ハードウェア（回路基板）で実現してもよい。

処理液供給装置１００に設けられた各弁には、制御部Ｍにより制御可能な電磁弁や空気作動弁が用いられ、各弁と制御部Ｍは電気的に接続されている。また、制御部Ｍは、ポンプ１０３、１０６と電気的に接続されている。この構成により、処理液供給装置１００における一連の処理は制御部Ｍの制御の下、自動で行うことが可能となっている。

＜処理液供給装置１００の動作＞
次に、図２～図６に基づいて、処理液供給装置１００の動作について説明する。図２～図４、図６はそれぞれ、通常吐出動作時、循環動作時、排出動作時及びノズル洗浄動作時の処理液供給装置１００の状態を示す図である。図５は、排出動作を行う理由を説明するための図である。図２～図４及び図６では、開状態の弁を白塗りで、閉状態の弁を黒塗りで、処理液が流通している管を太線で示すことで、その他の弁の開閉状態については説明を省略する。なお、各動作の前において、供給管路１５０、排出管路１５２、パージ用管路１５３及び戻り管路１５４は予めレジスト液が充填されているものとする。また、以下の各動作は、制御部Ｍの制御の下、行われる。

＜通常吐出＞
製品ウェハＷに対し吐出ノズル１から吐出する通常吐出の際は、図２に示すように、開閉弁Ｖ７、Ｖ９等が閉状態とされたまま、開閉弁Ｖ３、Ｖ４、Ｖ５及び供給制御弁Ｖ６が開状態とされ、ポンプ１０３が駆動される。これにより、第３供給管路１５０ｃに充填されていたレジスト液（及びポンプ１０３から送出されたレジスト液）が、吐出ノズル１へ向けて所定流量供給され、当該吐出ノズル１を介して、製品ウェハＷ上に吐出される。

＜循環＞
上述の通常吐出が行われていない間は、戻り管路１５４等により構成される循環路１５５内をレジスト液が循環し滞留することがないよう、処理液供給装置１００は動作する。具体的には、図３に示すように、開閉弁Ｖ５、Ｖ７等が閉状態とされたまま、開閉弁Ｖ３、Ｖ４、Ｖ９が開状態とされる。そして、ポンプ１０３が駆動される。これにより、戻り管路１５４、バッファタンク１０２等を含む循環路１５５内のレジスト液が、フィルタ１０４に濾過されながら循環する。
なお、この循環は、処理液供給装置１００の立ち上げ時やバッファタンク１０２へのレジスト液の補充直後にも行われる。この際は、レジスト液がフィルタ１０４により複数回濾過されるように、上記循環が行われる。
このようにレジスト液の循環を行うことで、フィルタやバッファタンク１０２に付着していたパーティクルが、滞留によりレジスト液に溶出することを抑制することができる。

＜定期ダミー吐出＞
製品ウェハＷに対する吐出ノズル１からの吐出が、ある一定の時間以上行われていない場合、吐出ノズル１からウェハＷとは異なる場所に向けて定期的に吐出する定期ダミー吐出が行われる。定期ダミー吐出の際は、上述の通常吐出と同様に、開閉弁Ｖ７、Ｖ９等が閉状態とされたまま、開閉弁Ｖ４、Ｖ５及び供給制御弁Ｖ６が開状態とされ、ポンプ１０３が駆動される。これにより、第３供給管路１５０ｃにおける開閉弁Ｖ５より下流側の部分に滞留していたレジスト液が、上記循環路内の処理液により押し出され、少なくともその一部が吐出ノズル１から吐出される。
ダミー吐出は、例えば５分毎に行われ、一回の吐出量は例えば３ｍｌである。

＜排出＞
また、フィルタ１０４を含む、供給管路１５０における開閉弁Ｖ５より上流側の部分（具体的には循環路１５５）に、フィルタ１０４により濾過されたレジスト液が、所定時間以上留まることがないように、処理液供給装置１００は、排出動作を行う。排出動作では、供給管路１５０における開閉弁Ｖ５より上流側の部分（具体的には戻り管路１５４を含む循環路１５５）内の所定量のレジスト液が、例えば、所定間隔毎に、排出管路１５２に排出される。排出動作では、具体的には、図４に示すように、開閉弁Ｖ５、Ｖ９等が閉状態とされたまま、開閉弁Ｖ３、Ｖ４、Ｖ７が開状態とされ、ポンプ１０３が駆動される。これによって排出管路１５２に排出されたレジスト液は、最終的にタンク１０５に貯留される。

ここで、このような排出動作を行う理由について図５を用いて説明する。図５には、処理液供給装置１００と同様な循環路を有する装置において、循環路を循環させたレジスト液をウェハＷ上に吐出したときに観測された、レジスト液内の欠陥（ウェットパーティクル）の数（縦軸）と、循環させた時間（横軸）との関係が示されている。図５の結果は、レジスト液内の１ｎｍの異物を除去可能なフィルタ１０４を用い、ウェハＷ上に吐出されたレジスト液内の１５ｎｍ以上の物を欠陥として検出したときの結果である。

循環させた時間（以下、循環時間）を長くするほど、レジスト液がフィルタ１０４により濾過される回数は増えるため、欠陥の数が少なくすることが期待される。また、そもそも循環の目的は、レジスト液が滞留することを防ぐこと、具体的には、フィルタやバッファタンク１０２に付着していたパーティクルがレジスト液に溶出し、欠陥の原因になることを防ぐことにある。しかし、実際には、図５に示すように循環時間が６０分を超えると、循環時の流量によらず、欠陥数が増加していた。

そこで、処理液供給装置１００は、フィルタ１０４を含む、供給管路１５０における開閉弁Ｖ５より上流側の部分（具体的には戻り管路１５４を含む循環路１５５）に、フィルタ１０４により濾過されたレジスト液が、所定時間以上留まることがないように、上述の排出動作を行っている。上記所定時間は、図５に示した結果を踏まえれば、例えば６０分である。
例えば、循環路１５５の容積が１３０ｍｌ程度であり、定期ダミー吐出で５分毎に３ｍｌのレジスト液が吐出される場合、フィルタ１０４により濾過されたレジスト液が６０分以上留まることがないようにするためには、排出動作では、２分毎に３ｍｌのレジスト液が吐出される。

なお、循環時間が６０分を超えると欠陥の数が増加する理由としては、以下が考えられる。すなわち、フィルタ１０４が有するメンブレンには、当該フィルタ１０４では除去することができない微細なパーティクルが付着していることがあり、この微細なパーティクルはフィルタ１０４のメンブレンから剥離されレジスト液内に混入しうる。つまり、上記微細なパーティクルがレジスト液内に溶出される。そして、循環時間が長くなるほど、レジスト液内に混入する上記微細なパーティクルの数が多くなり、ウェハＷ上に吐出したときに欠陥として検出される部分も多くなる。これが理由として考えられる。

また、上述のように循環中にレジスト液内に混入するパーティクルは、フィルタ１０４のメンブレン等の構成部材に付着していたものであるため、循環時間とレジスト液内に溶出する欠陥の数との関係は、フィルタ１０４の構成部材の清浄度に異存する。したがって、フィルタ１０４の構成部材の清浄度が高ければ、例えば６０分以上の循環を行ったとしてもフィルタ1０４からレジスト液に溶出するパーティクルの数は少なくなり、上記清浄度が低ければ、６０分未満の循環でもフィルタ１０４からレジスト液へのパーティクルの溶出の影響が大きくなる。

＜排出の他の例＞
以上の例の排出動作では、フィルタ１０４を含む、供給管路１５０における開閉弁Ｖ５より上流側の部分（具体的には戻り管路１５４を含む循環路１５５）から、一定間隔毎に所定量のレジスト液が排出されていた。これに代えて、または、これに加えて、処理液供給装置１００のメンテナンス時等、開閉弁Ｖ５が上記所定時間以上に亘って開状態とならない場合（すなわち連続して閉状態のままの場合）に、フィルタ１０４内の全てのレジスト液が当該フィルタ１０４から排出管路１５２に設けて排出され、その分のレジスト液がタンク１０５にされてもよい。この場合も、図４に示すように、開閉弁Ｖ５、Ｖ９等が閉状態とされたまま、開閉弁Ｖ３、Ｖ４、Ｖ７が開状態とされ、ポンプ１０３が駆動される。
本例の排出動作が行われる場合、タンク１０５は、フィルタ１０４より容量が大きいものとされる。これにより、タンク１０５は、少なくとも、フィルタ１０４内の全てのレジスト液と同量のレジスト液を貯留することができる。

＜ノズル洗浄＞
タンク１０５に貯留されたレジスト液は例えば以下のようにして用いられる。
所定の条件（例えば、一定の時間経過毎という条件やロット毎という条件、製品ウェハＷに対する吐出の開始直前または再開始直前という条件）が満たされると、タンク１０５に貯留されたレジスト液は、パージ用管路１５３を介して吐出ノズル１に向けて大量（例えば３０ｍｌ）に供給され、その結果、当該吐出ノズル１内等のレジスト液が押し出され、製品ウェハＷとは異なる場所に吐出される。これにより、吐出ノズル１からウェハＷに吐出されるレジスト液の清浄度を高く維持することができる。
タンク１０５に貯留されたレジスト液を、パージ用管路１５３を介して吐出ノズル１に向けて供給するには、図６に示すように、開閉弁Ｖ５、Ｖ７、Ｖ９等を閉状態としたまま、開閉弁Ｖ８及び供給制御弁Ｖ６を開状態とし、ポンプ１０３を駆動させればよい。

＜主な効果＞
以上のように、本実施形態では、フィルタ１０４を含む、供給管路１５０における開閉弁Ｖ５より上流側の部分（具体的には循環路１５５）に、フィルタ１０４により濾過されたレジスト液が、所定時間以上留まることがないよう、開閉弁Ｖ５、Ｖ７等を制御している。したがって、吐出ノズル１に供給するレジスト液内の、フィルタ１０４から溶出した微細なパーティクルの数を抑制することができ、レジスト液の清浄度を保つことができる。

また、本実施形態では、供給管路１５０から排出動作により吐出ノズル１を経ずに排出された、濾過済みのレジスト液を、タンク１０５に貯留している。このようにタンク１０５に濾過済みのレジスト液を貯留することで、当該レジスト液を再利用することができる。例えば、タンク１０５に貯留された濾過済みのレジスト液は、上述のノズル洗浄等に用いることができる。
本実施形態において、タンク１０５に貯留されているのは、複数回濾過済みのレジスト液である。複数回濾過済みのレジスト液をノズル洗浄時に大量に供給することで、少量の定期ダミー吐出を行うよりも、供給管路１５０における循環路１５５より吐出ノズル１側のレジスト液の清浄度を高くすることができる。このようにして供給管路１５０における循環路１５５より吐出ノズル１側のレジスト液の清浄度を高くし、且つ、循環路１５５から上述のように排出動作を行えば、処理液供給装置１００の配管系統全体の清浄度を高くすることができる。

＜タンクに貯留された濾過済みのレジスト液の利用方法の他の例＞
タンク１０５に貯留された濾過済みのレジスト液は、他の処理液供給装置の立ち上げ時等に用いることもできる。さらに、タンク１０５に貯留された濾過済みのレジスト液は、以下の系を有する処理液供給装置の処理液の供給源や一時貯留部に補充するようにしてもよい。すなわち、本実施形態に係る処理液供給装置１００のようには循環路１５５を有さずフィルタ１０４により１回濾過したレジスト液を供給する形態の処理液供給装置に対して用いてもよい。また、タンク１０５に貯留された濾過済みのレジスト液を製品ウェハＷに吐出され利用されるようにしてもよい。

（第１実施形態の変形例）
以上の例では、バッファタンク１０２が設けられていたが、バッファタンク１０２は省略してもよい。バッファタンク１０２を省略する場合、吐出ノズル１へのレジスト液の供給の際に、循環路１５５内がレジスト液で未充填の状態となり循環路１５５内に気泡が生じないように、上記供給と同時に、循環路１５５内へのレジスト液の補充が行われる。また、バッファタンク１０２を省略する場合、循環路１５５からのレジスト液の排出の際も同様に、排出と同時に、循環路１５５内へのレジスト液の補充が行われる。

（第２実施形態）
図７は、第２実施形態にかかる処理液供給装置の構成の概略を示す説明図である。
図７の処理液供給装置１００ａは、図１の処理液供給装置１００から、戻り管路１５４を省略したものである。
この処理液供給装置１００ａの場合も、フィルタ１０４を含む、供給管路１５０における開閉弁Ｖ５より上流側の部分に、フィルタ１０４により濾過されたレジスト液が、所定時間以上留まることがないよう、開閉弁Ｖ５、Ｖ７等を制御する。これにより、吐出ノズル１に供給するレジスト液内の、フィルタ１０４から溶出した微細なパーティクルの数を抑制することができ、レジスト液の清浄度を保つことができる。

（その他の変形例）
以上の例では、処理液供給装置１００、１００ａ毎に、排出管路１５２やタンク１０５、パージ用管路１５３、ポンプ１０６等が設けられていた。これに代えて、複数の処理液供給装置１００、１００ａ間で、排出管路１５２やタンク１０５、パージ用管路１５３、ポンプ１０６等を共有するようにしてもよい。

今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。

１ 吐出ノズル
１００ 処理液供給装置
１００ａ 処理液供給装置
１０３ ポンプ
１０４ フィルタ
１０５ タンク
１１０ ガス供給源
１１１ 電空レギュレータ
１５０ 供給管路
１５２ 排出管路
Ｍ 制御部
Ｖ５ 開閉弁
Ｖ７ 開閉弁
Ｗ ウェハ

Claims (10)

1. 基板に処理液を吐出する吐出部に前記処理液を供給する処理液供給装置であって、
   前記吐出部に接続された供給管路と、
   前記供給管路に介設され、前記吐出部に前記処理液を圧送するポンプと、
   前記供給管路における前記ポンプの下流側に介設された第１開閉弁と、
   前記供給管路における前記ポンプと前記第１開閉弁との間に介設され、前記処理液を濾過するフィルタと、
   前記供給管路における前記フィルタと前記第１開閉弁との間から分岐され、前記供給管路から前記処理液を排出する排出管路と、
   前記排出管路に接続され、前記供給管路から排出された前記処理液を貯留する貯留部と、
   前記排出管路に介設された第２開閉弁と、
   制御部と、を備え、
   前記制御部は、前記供給管路における前記第１開閉弁より上流側の部分に、前記フィルタにより濾過された前記処理液が、所定時間以上留まることがないよう、前記第１開閉弁及び前記第２開閉弁を制御する、処理液供給装置。
2. 上流側端が前記貯留部に接続され、且つ、下流側端が前記供給管路における前記第１開閉弁と前記吐出部との間に接続されたパージ用管路と、
   前記パージ用管路に介設された第３開閉弁と、を備える、請求項１に記載の処理液供給装置。
3. 前記制御部は、所定の条件を満たすときに、前記貯留部に貯留されていた前記処理液が前記吐出部に向けて供給されるよう、前記第１～第３開閉弁を制御する、請求項２に記載の処理液供給装置。
4. 前記貯留部は、前記フィルタより容量が大きい、請求項１～３のいずれか１項に記載の処理液供給装置。
5. 前記制御部は、前記第１開閉弁が前記所定時間に亘って開状態とならないとき、前記フィルタ内の全ての処理液が前記排出管路に向けて排出されるよう、前記第１開閉弁及び前記第１開閉弁を制御する、請求項１～４のいずれか１項に記載の処理液供給装置。
6. 一端が前記供給管路における前記フィルタと前記第１開閉弁との間から分岐され、他端が前記供給管路における前記ポンプの下流側に接続された戻り管路を備え、
   前記戻り管路は、前記供給管路における前記ポンプ及び前記フィルタを含む部分と共に前記処理液の循環路を構成する、請求項１～５のいずれか１項に記載の処理液供給装置。
7. 前記供給管路に介設され、前記ポンプへ送出される処理液を貯留する別の貯留部を備え、
   前記戻り管路は、前記他端が前記別の貯留部に接続されている、請求項６に記載の処理液供給装置。
8. 前記戻り管路に介設された第４開閉弁を備える、請求項６または７に記載の処理液供給装置。
9. 基板に処理液を吐出する吐出部に処理液供給装置を用いて前記処理液を供給する処理液供給方法であって、
   前記処理液供給装置は、
   前記吐出部に接続された供給管路と、
   前記供給管路に介設され、前記吐出部に前記処理液を圧送するポンプと、
   前記供給管路における前記ポンプの下流側に介設された第１開閉弁と、
   前記供給管路における前記ポンプと前記第１開閉弁との間に介設され、前記処理液を濾過するフィルタと、
   前記供給管路における前記フィルタと前記第１開閉弁との間から分岐され、前記供給管路から前記処理液を排出する排出管路と、
   前記排出管路に接続され、前記供給管路から排出された前記処理液を貯留する貯留部と、
   前記排出管路に介設された第２開閉弁と、を備え、
   前記供給管路における前記第１開閉弁より上流側の部分に、前記フィルタにより濾過された前記処理液が、所定時間以上留まることがないよう、前記第１開閉弁及び前記第２開閉弁を制御する工程を含む、処理液供給方法。
10. 請求項９に記載の処理液供給方法を前記処理液供給装置によって実行させるように、前記処理液供給装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムを記憶した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。

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