JP2023071860A - 官能化ポリチオフェンを生成するプロセス - Google Patents
官能化ポリチオフェンを生成するプロセス Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023071860A JP2023071860A JP2023031653A JP2023031653A JP2023071860A JP 2023071860 A JP2023071860 A JP 2023071860A JP 2023031653 A JP2023031653 A JP 2023031653A JP 2023031653 A JP2023031653 A JP 2023031653A JP 2023071860 A JP2023071860 A JP 2023071860A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- functionalized
- liquid composition
- less
- content
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 182
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 109
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 title claims abstract description 102
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 195
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 123
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 122
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 71
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims abstract description 62
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 claims abstract description 62
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 25
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 14
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 7
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 118
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 70
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 36
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 32
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 claims description 32
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 30
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 19
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 18
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 18
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 15
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 9
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical group [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 5
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000005385 peroxodisulfate group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003161 (C1-C6) alkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000006835 (C6-C20) arylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000004146 energy storage Methods 0.000 claims description 3
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 58
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 43
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 27
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 25
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 21
- -1 poly(p-phenylene-vinylene) Polymers 0.000 description 20
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 19
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 12
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 11
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 10
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 9
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H iron(3+) sulfate Chemical compound [Fe+3].[Fe+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 7
- 229910000360 iron(III) sulfate Inorganic materials 0.000 description 7
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 6
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 6
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 6
- GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxine Chemical compound O1CCOC2=CSC=C21 GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 5
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 5
- OIRKLPHRLOQDLU-UHFFFAOYSA-N 4-(2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxin-3-ylmethoxy)butane-1-sulfonic acid Chemical compound O1C(COCCCCS(=O)(=O)O)COC2=CSC=C21 OIRKLPHRLOQDLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000006056 electrooxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229940068918 polyethylene glycol 400 Drugs 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 3
- 159000000014 iron salts Chemical class 0.000 description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-difluorophenoxy)pyridin-3-amine Chemical compound NC1=CC=CN=C1OC1=CC=C(F)C=C1F LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMNDYUVBFMFKNZ-UHFFFAOYSA-N 2-furoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CO1 SMNDYUVBFMFKNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IHCCAYCGZOLTEU-UHFFFAOYSA-N 3-furoic acid Chemical compound OC(=O)C=1C=COC=1 IHCCAYCGZOLTEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical group O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004882 Na2S2O8 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002565 Polyethylene Glycol 400 Polymers 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000002322 conducting polymer Substances 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N gamma-valerolactone Chemical compound CC1CCC(=O)O1 GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011244 liquid electrolyte Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N oxidanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-N peroxydisulfuric acid Chemical compound OS(=O)(=O)OOS(O)(=O)=O JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 2
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- AGNTUZCMJBTHOG-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(2,3-dihydroxypropoxy)-2-hydroxypropoxy]propane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)COCC(O)COCC(O)CO AGNTUZCMJBTHOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOPUBSBJBFAKAQ-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dihydro-2h-thieno[3,4-b][1,4]dioxepin-3-yl)butane-1-sulfonic acid Chemical compound O1CC(CCCCS(=O)(=O)O)COC2=CSC=C21 FOPUBSBJBFAKAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLDCSPABIQBYKP-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,2-dimethylbenzimidazole Chemical compound ClC1=CC=C2N(C)C(C)=NC2=C1 FLDCSPABIQBYKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-XLOQQCSPSA-N Alpha-Lactose Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)O[C@H](O)[C@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-XLOQQCSPSA-N 0.000 description 1
- 239000001741 Ammonium adipate Substances 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- 206010013786 Dry skin Diseases 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical class [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930091371 Fructose Natural products 0.000 description 1
- 239000005715 Fructose Substances 0.000 description 1
- RFSUNEUAIZKAJO-ARQDHWQXSA-N Fructose Chemical compound OC[C@H]1O[C@](O)(CO)[C@@H](O)[C@@H]1O RFSUNEUAIZKAJO-ARQDHWQXSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-QKKXKWKRSA-N Lactose Natural products OC[C@H]1O[C@@H](O[C@H]2[C@H](O)[C@@H](O)C(O)O[C@@H]2CO)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-QKKXKWKRSA-N 0.000 description 1
- 229930195725 Mannitol Natural products 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPPOGHDFAVQKLN-UHFFFAOYSA-N N-Octyl-2-pyrrolidone Chemical compound CCCCCCCCN1CCCC1=O WPPOGHDFAVQKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N N-methylcaprolactam Chemical compound CN1CCCCCC1=O ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 239000004435 Oxo alcohol Substances 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical class OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 235000019293 ammonium adipate Nutrition 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000011087 fumaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 150000002240 furans Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical group 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000000686 lactone group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008101 lactose Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000594 mannitol Substances 0.000 description 1
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- 230000005055 memory storage Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- JIKUXBYRTXDNIY-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-phenylformamide Chemical compound O=CN(C)C1=CC=CC=C1 JIKUXBYRTXDNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Chemical group 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000447 polyanionic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229960002796 polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000011970 polystyrene sulfonate Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical group O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000006254 rheological additive Substances 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 239000005394 sealing glass Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical class [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- JYKSTGLAIMQDRA-UHFFFAOYSA-N tetraglycerol Chemical compound OCC(O)CO.OCC(O)CO.OCC(O)CO.OCC(O)CO JYKSTGLAIMQDRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N trioxidane Chemical compound OOO JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005199 ultracentrifugation Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G61/122—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
- C08G61/123—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds
- C08G61/126—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds with a five-membered ring containing one sulfur atom in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L65/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B3/00—Electrolytic production of organic compounds
- C25B3/20—Processes
- C25B3/23—Oxidation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/12—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
- H01B1/124—Intrinsically conductive polymers
- H01B1/127—Intrinsically conductive polymers comprising five-membered aromatic rings in the main chain, e.g. polypyrroles, polythiophenes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/84—Processes for the manufacture of hybrid or EDL capacitors, or components thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/0029—Processes of manufacture
- H01G9/0036—Formation of the solid electrolyte layer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/022—Electrolytes; Absorbents
- H01G9/025—Solid electrolytes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/022—Electrolytes; Absorbents
- H01G9/025—Solid electrolytes
- H01G9/028—Organic semiconducting electrolytes, e.g. TCNQ
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/15—Solid electrolytic capacitors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/10—Definition of the polymer structure
- C08G2261/14—Side-groups
- C08G2261/142—Side-chains containing oxygen
- C08G2261/1424—Side-chains containing oxygen containing ether groups, including alkoxy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/10—Definition of the polymer structure
- C08G2261/18—Definition of the polymer structure conjugated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/30—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
- C08G2261/32—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating heteroaromatic structural elements in the main chain
- C08G2261/322—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating heteroaromatic structural elements in the main chain non-condensed
- C08G2261/3223—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating heteroaromatic structural elements in the main chain non-condensed containing one or more sulfur atoms as the only heteroatom, e.g. thiophene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/40—Polymerisation processes
- C08G2261/44—Electrochemical polymerisation, i.e. oxidative or reductive coupling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/50—Physical properties
- C08G2261/51—Charge transport
- C08G2261/512—Hole transport
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/50—Physical properties
- C08G2261/51—Charge transport
- C08G2261/514—Electron transport
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/70—Post-treatment
- C08G2261/79—Post-treatment doping
- C08G2261/794—Post-treatment doping with polymeric dopants
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/90—Applications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/13—Energy storage using capacitors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
Description
I.
官能化π共役ポリチオフェンを含む液体組成物を生成するプロセスであって、
i)
a)一般式(I)のチオフェンモノマー
X、Yは、同一であるか、または異なり、O、S、もしくはNR1であり、ここでR1は、水素または1~18個の炭素原子を有する脂肪族もしくは芳香族残基であり、
Aは、アニオン性官能基を保持している有機残基である)、
b)酸化剤、および
c)溶媒
を含む液相を準備するステップと、
ii)前記一般式(I)のチオフェンモノマーを酸化重合して、官能化π共役ポリチオフェンを含む液体組成物を得るステップと
を含み、ここで、
(α1)プロセスステップi)において準備された前記液相のpHは7.0未満の値に調整され、前記pHは20℃の温度で決定され、
(α2)プロセスステップi)において準備された前記液相の塩化物含有量は、前記液相の全重量に基づいて、10000ppm未満である、
プロセス。
(α3)プロセスステップi)において準備された前記液相の酸素含有量は、前記液相の全重量に基づいて、1000ppm未満である、実施形態Iに記載のプロセス。
X、Yは、Oであり、
Aは、-(CH2)m-CR2R3-(CH2)n-であり、ここで、
R2は、水素または-(CH2)s-Z-(CH2)p-SO3 -M+であり、
R3は、-(CH2)s-Z-(CH2)p-SO3 -M+であり、
Zは、O、Sまたは-CH2-であり、
M+は、カチオンであり、
mおよびnは、同一であるか、または異なり、0~3の整数であり、
sは、0~10の整数であり、
pは、1~18の整数である、
実施形態IまたはIIに記載のプロセス。
前記一般式(I)において、
X、Yは、Oであり、
Aは、-(CH2)-CR2R3-(CH2)n-であり、ここで、
R2は、水素であり、
R3は、-(CH2)s-O-(CH2)p-SO3 -M+であり、
M+は、Na+またはK+であり、
nは、0または1であり、
sは、0または1であり、
pは、4または5である、
実施形態I~IIIのいずれか一つに記載のプロセス。
X、Yは、Oであり、
Aは、-(CH2-CHR)-であり、ここで、
Rは、-(CH2)t-O-Ar-[(W)u-SO3 -M+]vであり、ここで、
Arは、任意に置換されているC6-C20アリーレン基を表し、
Wは、任意に置換されているC1-C6アルキレン基を表し、
M+は、H+、Li+、Na+、およびK+からなる群から選択されるアルカリカチオン、NH(R1)3またはHNC5H5を表し、ここで各R1基は独立して水素原子または任意に置換されているC1-C6アルキル基を表し、
tは、0~6の整数を表し、
uは、0または1の整数を表し、
vは、1~4の整数を表す、
実施形態IVに記載のプロセス。
前記酸化剤b)は、重金属の塩、ペルオキソ二硫酸の塩またはそれらの混合物である、実施形態I~Vのいずれか一つに記載のプロセス。
前記チオフェンモノマーは電気化学重合によって重合され、前記酸化剤b)は電極である、実施形態I~Vのいずれか一つに記載のプロセス。
前記溶媒c)は水である、実施形態I~VIIのいずれか一つに記載のプロセス。
プロセスステップi)において準備された前記液相のpHは、有機酸または無機酸を使用して7.0未満の値に調整される、実施形態I~VIIIのいずれか一つに記載のプロセス。
プロセスステップii)における前記酸化重合は、窒素、アルゴン、二酸化炭素またはそれらの混合物の不活性ガス雰囲気下で実施される、実施形態I~IXのいずれか一つに記載のプロセス。
プロセスステップii)における前記酸化重合は、プロセスステップii)における重合反応の間、前記液相の蒸気圧以上である圧力下で実施される、実施形態Xに記載のプロセス。
プロセスステップii)における前記酸化重合は、0.8bar以下の減圧下で実施される、実施形態I~XIのいずれか一つに記載のプロセス。
さらなるプロセスステップiii)において、プロセスステップii)において得られた液体組成物が精製される、実施形態I~XIIのいずれか一つに記載のプロセス。
精製が、濾過によっておよび/またはイオン交換体での処理によってなされる、実施形態XIIIに記載のプロセス。
プロセスステップii)またはプロセスステップiii)において得られた液体組成物中の官能化π共役ポリチオフェンの粒径分布が、超音波での液体組成物の処理によって、高圧ホモジナイゼーションでの液体組成物の処理によって、または熱での液体組成物の処理によって調整される、実施形態I~XIVのいずれか一つに記載のプロセス。
実施形態I~XVのいずれか一つに記載のプロセスによって得られる液体組成物。
官能化π共役ポリチオフェンを含む液体組成物であって、前記ポリチオフェンは、一般式(I)の繰り返し単位
を含み、前記官能化π共役ポリチオフェンの質量平均分子量Mw対モル平均分子量Mnの比(Mw/Mn)は、少なくとも6、好ましくは少なくとも8、より好ましくは少なくとも10、より好ましくは少なくとも12、より好ましくは少なくとも14、より好ましくは少なくとも16、より好ましくは少なくとも18、より好ましくは少なくとも20である、液体組成物。
Mw/Mnは、多くとも100、好ましくは多くとも75、より好ましくは多くとも50である、実施形態XVIIに記載の液体組成物。
前記官能化π共役ポリチオフェンの質量平均分子量Mwは、少なくとも50000g/mol、好ましくは少なくとも75000g/mol、より好ましくは少なくとも100000g/mol、最も好ましくは少なくとも125000g/molである、実施形態XVIIまたはXVIIIに記載の液体組成物。
前記官能化π共役ポリチオフェンの質量平均分子量Mwは、125000g/mol~240000g/molの範囲、好ましくは125000g/mol~210000g/molの範囲である、実施形態XVII~XIXのいずれか一つに記載の液体組成物。
前記官能化π共役ポリチオフェンのモル平均分子量Mwは、25000g/mol未満、好ましくは20000g/mol未満、より好ましくは15000g/mol未満である、実施形態XVII~XXのいずれか一つに記載の液体組成物。
前記液体組成物中に、前記官能化π共役ポリチオフェンが粒子の形態で存在し、粒径分布が、
i)1~100nmの範囲、好ましくは1~80nmの範囲、より好ましくは1~60nmの範囲、最も好ましくは5~40nmの範囲のd50値(重量平均粒径)、および
ii)3.5×d50未満、好ましくは3×d50未満、より好ましくは2×d50未満のd90値
によって特徴付けられる、実施形態XVII~XXIのいずれか一つに記載の液体組成物。
前記官能化π共役ポリチオフェンが、一般式(Ia)の繰り返し単位および一般式(Ib)の繰り返し単位を含み、
各場合、前記官能化π共役ポリチオフェンの全重量に基づいて、前記一般式(Ib)の繰り返し単位の含有量は、少なくとも0.2wt%、好ましくは少なくとも1wt%、より好ましくは少なくとも2wt%である、実施形態XXIIIに記載の液体組成物。
官能化π共役ポリチオフェンを含む液体組成物を生成するプロセスであって、前記プロセスは、
i)
a)一般式(I)のチオフェンモノマーであって、
b)酸化剤、および
c)溶媒
を含む液相を準備するステップと、
ii)前記一般式(Ia)および(Ib)のチオフェンモノマーを酸化重合して、官能化π共役ポリチオフェンを含む液体組成物を得るステップと
を含む、プロセス。
各場合、前記液相中のチオフェンモノマーの全重量に基づいて、前記一般式(Ib)のチオフェンモノマーの含有量は、少なくとも0.2wt%、好ましくは少なくとも1wt%、より好ましくは少なくとも2wt%である、実施形態XXVに記載のプロセス。
実施形態XXVまたはXXVIに記載のプロセスによって得られる液体組成物。
官能化π共役ポリチオフェンを含む液体組成物であって、前記ポリチオフェンは、一般式(I)の繰り返し単位を含み、
各場合、前記官能化π共役ポリチオフェンの全重量に基づいて、前記一般式(Ib)の繰り返し単位の含有量は、少なくとも0.2wt%、好ましくは少なくとも1wt%、より好ましくは少なくとも2wt%である、実施形態XXVIIIに記載の液体組成物。
前記液体組成物によって作製される導電層が12S/cm超の導電率を有する、実施形態XVI~XXIVおよびXXVII~XXIXのいずれか一つに記載の液体組成物。
コンデンサを製造するプロセスであって、前記プロセスは、
I)電極材料の電極本体を準備するステップであって、誘電体が、陽極本体の形成下で少なくとも部分的に前記電極材料の1つの表面を覆う、ステップと、
II)実施形態XVI~XXIVおよびXXVII~XXXのいずれか一つに記載の液体組成物を、前記電極本体の少なくとも一部に導入するステップと
を含む、プロセス。
実施形態XXXIに記載のプロセスによって得られるコンデンサ。
電子デバイスにおける導電層を作製するための実施形態XVI~XXIVおよびXXVII~XXXのいずれか一つに記載の液体組成物の使用。
前記デバイスは、光伝導セル、フォトレジスタ、光スイッチ、フォトトランジスタ、光電管、IR検出器、光起電デバイス、太陽電池、記憶保持デバイス用のコーティング材、電界効果抵抗デバイス、帯電防止フィルム、バイオセンサ、エレクトロクロミック素子、固体電解コンデンサ、エネルギー貯蔵デバイス、タッチパネルおよび電磁波シールドから選択される、実施形態XXXIIIに記載の使用。
前記導電層は、固体電解コンデンサにおける固体電解質層である、実施形態XXXIIIに記載の使用。
i)
a)一般式(I)のチオフェンモノマー
X、Yは、同一であるか、または異なり、O、S、もしくはNR1であり、ここでR1は、水素または1~18個の炭素原子を有する脂肪族もしくは芳香族残基であり、
Aは、アニオン性官能基、好ましくは、-CO2 -、-SO3 -および-OSO3 -からなる群から選択されるアニオン性官能基を保持している有機残基であり、-SO3 -が特に好ましい)
b)酸化剤、および
c)溶媒
を含む液相を準備するステップと、
ii)前記一般式(I)のチオフェンモノマーを酸化重合して、官能化π共役ポリチオフェンを含む液体組成物を得るステップと
を含み、ここで、
(α1)プロセスステップi)において準備された前記液相のpHは7.0未満、好ましくは6.0未満、より好ましくは5.0未満、より好ましくは4.0未満、より好ましくは3.0未満、より好ましくは2.0未満、最も好ましくは1.0未満の値に調整され、前記pHは20℃の温度で決定され、
(α2)プロセスステップi)において準備された前記液相の塩化物含有量は、各場合、前記液相の全重量に基づいて、10000ppm未満、より好ましくは5000ppm未満、より好ましくは1000ppm未満、より好ましくは500ppm未満、最も好ましくは100ppm未満である、
プロセスによってなされる。
Aは、-(CH2)m-CR2R3-(CH2)n-であり、ここで、
R2は、水素または-(CH2)S-O-(CH2)p-SO3 -M+であり、
R3は、-(CH2)S-O-(CH2)p-SO3 -M+であり、
M+は、カチオン、好ましくは、H+、Li+、Na+、K+、Rb+、Cs+またはNH4+、特に好ましくはNa+またはK+であり、
mおよびnは、同一であっても、異なってもよく、0~3の整数、好ましくは0または1であり、
sは、0~10の整数、好ましくは0または1であり、
pは、1~18の整数、好ましくは4または5である。
Aは、-(CH2)-CR2R3-(CH2)n-であり、ここで、
R2は、水素であり、
R3は、-(CH2)S-O-(CH2)p-SO3 -M+であり、
M+は、Na+またはK+であり、
nは、0または1であり、
sは、0または1であり、
pは、4または5である。
X、YはOであり、
Aは、-(CH2-CHR)-であり、ここで、
Rは、-(CH2)t-O-Ar-[(W)u-SO3 -M+]vであり、ここで、
Arは、任意に置換されているC6-C20アリーレン基を表し、
Wは、任意に置換されているC1-C6アルキレン基を表し、
M+は、H+、Li+、Na+、およびK+からなる群から選択されるアルカリカチオン、NH(R1)3またはHNC5H5を表し、ここで各R1基は独立して水素原子または任意に置換されているC1-C6アルキル基を表し、
tは、0~6の整数を表し、
uは、0または1の整数を表し、
vは、1~4の整数を表す
ことが好ましい。
(α1)プロセスステップi)において提供される液相のpHは、7.0未満、好ましくは6.0未満、より好ましくは5.0未満、より好ましくは4.0未満、より好ましくは3.0未満、より好ましくは2.0未満、最も好ましくは1.0未満の値に調整され、pHは20℃の温度で決定され、
(α2)プロセスステップi)において提供される液相の塩化物含有量は、各場合、水相の全重量に基づいて、10000ppm未満、好ましくは5000ppm未満、より好ましくは1000ppm未満、より好ましくは500ppm未満、最も好ましくは100ppm未満である、ことを特徴とする。
(α3)プロセスステップi)において準備された液相の酸素含有量は、各場合、液相の全重量に基づいて、1000ppm未満、好ましくは500ppm未満、より好ましくは100ppm未満、より好ましくは10ppm未満、より好ましくは1ppm未満、より好ましくは0.5ppm未満、最も好ましくは0.25ppm未満であることもまた、有益である。本発明によるプロセスの特に好ましい実施形態によれば、プロセスステップi)において準備された液相の酸素含有量は完全に酸素を含まない(すなわち、酸素含有量は0ppmである)。
ここで、官能化π共役ポリチオフェンの質量平均分子量Mw対モル平均分子量Mnの比(Mw/Mn)は、少なくとも6、特に少なくとも8、より好ましくは少なくとも10、より好ましくは少なくとも12、より好ましくは少なくとも14、より好ましくは少なくとも16、より好ましくは少なくとも18、より好ましくは少なくとも20である。
i)1~100nmの範囲、好ましくは1~80nmの範囲、より好ましくは1~60nmの範囲、最も好ましくは5~40nmの範囲のd50値(重量平均粒径)、および
ii)3.5×d50未満、好ましくは3×d50未満、より好ましくは2×d50未満のd90値
によって特徴付けられることが特に好ましい。
i)
a)一般式(I)のチオフェンモノマーであって、
液相は、一般式(Ia)のチオフェンモノマーと一般式(Ib)のチオフェンモノマーとの混合物を含み、
b)酸化剤と、
c)溶媒と
を含む液相を準備するステップと、
ii)一般式(Ia)および(Ib)のチオフェンモノマーを酸化重合して、官能化π共役ポリチオフェンを含む液体組成物を得るステップと、
を含む、プロセスによってなされる。
ここで、官能化π共役ポリチオフェンは一般式(Ia)の繰り返し単位および一般式(Ib)の繰り返し単位を含み、
I)電極材料の電極本体を準備するステップであって、誘電体は陽極本体の形成下で少なくとも部分的にこの電極材料の1つの表面を覆う、ステップと、
II)本発明による第1または第2のプロセスによって得られる液体組成物、十分に定義されたMw/Mn値を有する官能化π共役ポリチオフェンを含む本発明による第1の液体組成物、または一般式(Ia)および(Ib)の繰り返し単位の十分に定義された相対量を含む官能化π共役ポリチオフェンを含む本発明による第2の液体組成物を、電極本体の少なくとも一部に導入するステップと
を含む、プロセスによってなされる。
導電率
清浄したガラス基板をスピンコーター上に置き、本発明による10mlの液体組成物を基板上に分散させた。次いで残存溶液をプレートの回転によって液切りした。その後、このように被覆された基板を、ホットプレート上で130℃にて15分間乾燥させた。次いで層厚さを、層厚さ測定デバイス(Tencor、Alphastep 500)によって決定した。2.5cm長のAg電極を、シャドーマスクを介して10mmの距離で蒸着させることで導電率を決定した。電位計(Keithly 614)で決定した表面抵抗に層厚さを掛けることによって、比抵抗を得た。導電率は比抵抗の逆数である。
酸素含有量は、Knick Portamess 911 Oxy(Knick Elektronische Messgerate GmbH & Co.KG、Beuckestraβe 22、ベルリン、ドイツ)を用いて測定する。測定前に、装置を周囲空気に対して較正する。反応の開始時における酸素含有量を決定するために、反応溶液中の窒素フロー下にセンサを浸す。
塩化物含有量は、以下の設備および測定条件を使用してイオンクロマトグラフィーによって決定した:
機器:Metrohm 882 Compact IC Plus(Metrohm AG、Ionenstrasse、CH-9100 Herisau、スイス)
ソフトウェア:Metrohm MagIC Net
カラム:Metrosep A Supp 5;粒径:5μm;長さ150~25mm;直径5mm
溶離液の調製:3.2mlの1mol/L炭酸ナトリウム溶液および1mlの炭酸水素ナトリウム溶液を混合し、995.8mlの純水を加える。
流速 0.7mL/分
温度:室温
等価直列抵抗(mΩ)は、LCRメーター(Agilent 4284A)によって100kHzにて20℃で決定した。各コンデンサの実験において、少なくとも5個のコンデンサを作製し、平均ESR値を決定した。
静電容量(μF)は、LCRメーター(Agilent 4284A)によって120Hzにて20℃で決定した。各コンデンサの実験において、少なくとも5個のコンデンサを作製し、平均静電容量値を決定した。
質量平均分子量Mwおよびモル平均分子量Mnは、基準としてポリスチレンスルホン酸を使用してゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によって決定する。HP 1100 1312ポンプおよび3つの後続のカラム(MCX1.000、MCX100.000およびMCX10.000.000)を備えるモジュラーGPCシステムを、HP 1047a Ri検出器と組み合わせて使用した。溶離液は水であった。プロセス温度を40℃に設定し、0.5000ml/分の流量を適用した。較正基準はポリスチレンスルホン酸であった。測定の前に、PEDOT-S試料を、0.45μmの酢酸セルロースシリンジフィルターで濾過した。
本発明による官能化π共役ポリチオフェンを含む液体組成物を作製するために使用されるチオフェンモノマーにおける一般式(Ia)および(Ib)のモノマー単位の相対量はHPLCによって決定する。
直径分布のd90値は、官能化π共役ポリチオフェンの全ての粒子の全重量の90%が、d90値以下の直径を有するそれらの粒子に割り当てられ得ることを示す。したがって、直径分布のd50値は、官能化π共役ポリチオフェンの全ての粒子の全重量の50%が、d50値以下の直径を有するそれらの粒子に割り当てられ得ることを示す(このようにd50値は重量平均粒径を表す)。
他に述べられない限り、平均は算術平均値に対応する。
ガラス製の3Lのジャケット型ビーカーは、機械的撹拌器、温度計および窒素フローを備える。
このビーカーにおいて、243.6g(0.9mol)の塩化鉄(III)を800gの純水に溶解し、酸素含有量が0.25mg/l未満になるまで撹拌しながら、30分間、溶液に窒素を吹き込んだ。
別のガラスビーカーにおいて、100gのEDOT-Sナトリウム塩(0.29mol)を1200gの純水に溶解した。酸素含有量が0.25mg/l未満になるまで可撓性管を介してこの溶液に窒素を吹き込んだ。
ステンレス鋼製の3Lのジャケット型タンクは、機械的撹拌器、上側蓋における換気バルブ、閉じることができる材料入口および温度計を備える。
このタンク内に、2000gの純水、16.0gの10wt%硫酸鉄(III)水溶液および100gのEDOT-Sナトリウム塩(0.29mol)を導入した。撹拌器を50rpmで操作し、温度を20℃に調節し、内圧を100hPaに低下させた。続いてタンク内の圧力を気圧に上昇させ、その後さらに酸素を排気するために25hPaに圧力を低下させた。
別のガラスビーカーにおいて、78.5gのペルオキソ二硫酸ナトリウムを200mlの水に溶解し、酸素含有量が0.25mg/l未満になるまで撹拌しながら、30分間、溶液に窒素を吹き込んだ。
ステンレス鋼製の3Lのジャケット型タンクは、機械的撹拌器、上側蓋における換気バルブ、閉じることができる材料入口および温度計を備える。
成分A
このタンク内に、2000gの純水、16.0gの10wt%硫酸鉄(III)水溶液、5.7gの硫酸(95wt%)および100gのEDOT-Sナトリウム塩(0.29mol)を導入した。撹拌器を50rpmで操作し、温度を20℃に調節し、内圧を100hPaに低下させた。続いてタンク内の圧力を気圧に上昇させ、その後さらに酸素を排気するために25hPaに圧力を低下させた。
別のガラスビーカーにおいて、78.5gのペルオキソ二硫酸ナトリウムを200mlの水に溶解し、酸素含有量が0.25mg/l未満になるまで撹拌しながら、30分間、溶液に窒素を吹き込んだ。
868gの純水ならびに70000g/molの平均分子量および3.8wt%の固体含有量を有する330gのポリスチレンスルホン酸水溶液を、撹拌器および温度計を備えた2lの3つ口フラスコ内に最初に導入した。反応温度を20~25℃に維持した。5.1gの3,4-エチレンジオキシチオフェンを撹拌しながら加えた。溶液を30分間撹拌した。次いで0.03gの硫酸鉄(III)および9.5gの過硫酸ナトリウムを加え、溶液をさらに24時間撹拌した。反応が終了した後、無機塩を除去するために、100mlの強酸性のカチオン交換体および250mlの弱塩基性のアニオン交換体を加え、溶液をさらに2時間撹拌した。イオン交換体を濾過した。ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)/ポリスチレンスルホネート分散物を、700barの圧力下で高圧ホモジナイザーで10回均質化した。続いて分散物を2.5%の固体含有量に濃縮し、次いで1500barの圧力下でさらに5回さらに均質化した。
0.496gのEDOT-S(1.5mmol)をアルゴン下で18mlの純水に溶解した。次いで0.97g(6.0mmol)のFeCl3を一度に加えた。その後、溶液を室温にて8時間撹拌し、100℃にて3時間加熱し、冷却し、ワークアップした。ワークアップに関して、溶液を純水で約3wt%に希釈し、9gのLewatit(登録商標)S100および9gのLewatit(登録商標)MP62を加え、混合物を室温にて4時間撹拌した。イオン交換体を濾過した後、2.71%の固体含有量を有するダークブルーのポリマー溶液を得た。
合成実施例4からの45gのPEDOT/PSS分散物、合成実施例5からの45gのPEDOT-S組成物および10gのポリエチレングリコール400(PEG-400)を混合し、アンモニアを使用してpHを3.0に調整した(分散物A)。
合成実施例4からの45gのPEDOT/PSS分散物、合成実施例3からの45gのPEDOT-S組成物および10gのポリエチレングリコール400(PEG-400)を混合し、アンモニアを使用してpHを3.0に調整した(分散物B)。
1736gの純水ならびに70000g/molの平均分子量および3.8wt%の固体含有量を有する660gのポリスチレンスルホン酸水溶液を、撹拌器および温度計を備えた5lのガラス反応器内に最初に導入した。反応温度を20~25℃に維持した。10.2gの3,4-エチレンジオキシチオフェンを撹拌しながら加えた。溶液を30分間撹拌した。次いで0.06gの硫酸鉄(III)および19gの過硫酸ナトリウムを加え、溶液をさらに24時間撹拌した。反応が終了した後、無機塩を除去するために、200mlの強酸性のカチオン交換体および500mlの弱塩基性のアニオン交換体を加え、溶液をさらに2時間撹拌した。イオン交換体を濾過した。得られた分散物は、後の濃縮によって1.5%の固体含有量に達した。
4.0gのp-トルエンスルホン酸一水和物、1.7gの1,10-ジアミノデカンおよび95.5gの水を、撹拌器を備えたガラスビーカー内で激しく混合した。
18000CV/gの比静電容量を有するタンタル粉末を、タンタルワイヤを封入してペレットに押圧し、1.5mm×2.9mm×4.0mmの寸法を有する多孔質陽極本体を形成させるために焼結した。これらの多孔質陽極本体のうちの5つを、コンデンサ本体を得るために、100Vにてリン酸電解質中で陽極酸化して誘電体を形成する。
合成実施例5からの組成物を、純水の添加によって2.0%の濃度に希釈した。
合成実施例3からの組成物を、純水の添加によって2.0%の濃度に希釈した。
合成実施例8からのコンデンサ本体を、合成実施例9からの組成物中に1分間、含浸した。その後、乾燥を120℃にて10分間実施した。含浸および乾燥をさらに9回実施した。
コンデンサ本体の処理を比較例2に記載されるように実施したが、合成実施例10からの組成物を、合成実施例9からの組成物の代わりに使用した。
0.496gのEDOT-S(1.5mmol)をアルゴン下で18mlの純水中に溶解した。次いで0.97g(6.0mmol)のFeCl3を一度に加えた。その後、溶液を室温にて8時間撹拌し、100℃にて3時間加熱し、冷却し、ワークアップした。ワークアップに関して、溶液を純水で1wt%に希釈し、9gのLewatit(登録商標)S100および9gのLewatit(登録商標)MP62を加え、混合物を室温にて4時間撹拌した。イオン交換体を濾過した後、1wt%の固体含有量を有するダークブルーポリマー溶液を得た。このように得られた組成物中で、固体含有量を蒸発によって2.15wt%に調整した。
ステンレス鋼製の3Lのジャケット型タンクは、機械的撹拌器、上側蓋における換気バルブ、閉じることができる材料入口および温度計を備える。
このタンク内に、2000gの純水、8.0gの10wt%硫酸鉄(III)水溶液、2.9gの硫酸(95wt%)および50gのEDOT-Sナトリウム塩(0.15mol)を導入した。撹拌器を50rpmで操作し、温度を20℃に調節し、内圧を100hPaに低下させた。続いてタンク内の圧力を気圧に上昇させ、その後さらに酸素を排気するために25hPaに圧力を低下させた。
別のガラスビーカーにおいて、39.3gのペルオキソ二硫酸ナトリウムを200mlの水に溶解し、酸素含有量が0.25mg/l未満になるまで撹拌しながら、30分間、溶液に窒素を吹き込んだ。
ステンレス鋼製の3Lのジャケット型タンクは、機械的撹拌器、上側蓋における換気バルブ、閉じることができる材料入口および温度計を備える。
このタンク内に、2000gの純水、16.0gの10wt%硫酸鉄(III)水溶液、5.7gの硫酸(95wt%)および100gのEDOT-Sナトリウム塩(0.29mol)を導入した。撹拌器を50rpmで操作し、温度を20℃に調節し、内圧を100hPaに低下させた。続いてタンク内の圧力を気圧に上昇させ、その後さらに酸素を排気するために25hPaに圧力を低下させた。
別のガラスビーカーにおいて、78.5gのペルオキソ二硫酸ナトリウムを200mlの水に溶解し、酸素含有量が0.25mg/l未満になるまで撹拌しながら、30分間、溶液に窒素を吹き込んだ。
アルミニウムコンデンサは、合成実施例5からの組成物の代わりに合成実施例11からの組成物を使用したことをただ一つの相違として比較例1のように作製した。
アルミニウムコンデンサは、合成実施例3からの組成物の代わりに合成実施例12からの組成物を使用したことをただ一つの相違として実施例1のように作製した。
アルミニウムコンデンサは、合成実施例3からの組成物の代わりに合成実施例13からの組成物を使用したことをただ一つの相違として実施例1のように作製した。
30000CV/gの比静電容量を有するタンタル粉末を、タンタルワイヤを封入するペレットに押圧し、1.4mm×2.8mm×3.9mmの寸法を有する多孔質陽極本体を形成するように焼結した。これらの多孔質陽極本体のうちの5つを、60Vにてリン酸電解質中で陽極酸化して、コンデンサ本体を得るために誘電体を形成した。
タンタル電解コンデンサは、合成実施例8からのコンデンサ本体の代わりに合成実施例14からのコンデンサ本体を使用し、合成実施例9からの組成物の代わりに合成実施例11からの組成物を使用したことを相違として比較例2のように作製した。
タンタル電解コンデンサは、合成実施例8からのコンデンサ本体の代わりに合成実施例14からのコンデンサ本体を使用し、合成実施例10からの組成物の代わりに合成実施例12からの組成物を使用したことを相違として実施例2のように調製した。
タンタル電解コンデンサは、合成実施例8からのコンデンサ本体の代わりに合成実施例14からのコンデンサ本体を使用し、合成実施例10からの組成物の代わりに合成実施例13からの組成物を使用したことを相違として実施例2のように調製した。
ステンレス鋼製の3Lのジャケット型タンクは、機械的撹拌器、上側蓋における換気バルブ、閉じることができる材料入口および温度計を備える。
このタンク内に、2000gの純水、16.0gの10wt%硫酸鉄(III)水溶液、5.7gの硫酸(95wt%)および20wt%のPRODOT-Sナトリウム塩(HPLCによって決定した)を含有する100gのEDOT-Sナトリウム塩(0.29mol)を導入した。撹拌器を50rpmで操作し、温度を20℃に調節し、内圧を100hPaに低下させた。続いてタンク内の圧力を気圧に上昇させ、その後さらに酸素を排気するために25hPaに圧力を低下させた。
別のガラスビーカーにおいて、78.5gのペルオキソ二硫酸ナトリウムを200mlの水に溶解し、酸素含有量が0.25mg/l未満になるまで撹拌しながら、30分間、溶液に窒素を吹き込んだ。
PEDOT-S組成物を、10wt%のPRODOT-Sナトリウム塩を含有するEDOT-Sナトリウム塩を使用したことをただ一の相違として合成実施例15と同じように調製した。
タンタル電解コンデンサを、合成実施例11からの組成物の代わりに合成実施例15からの組成物を使用したことをただ一つの相違として比較例4のように調製した。
タンタル電解コンデンサを、合成実施例10からの組成物の代わりに合成実施例16からの組成物を使用したことをただ一つの相違として実施例5のように調製した。
Claims (29)
- 官能化π共役ポリチオフェンを含む液体組成物を生成するプロセスであって、
i)
a)一般式(I)のチオフェンモノマー
X、Yは、同一であるか、または異なり、O、S、もしくはNR1であり、ここでR1は、水素または1~18個の炭素原子を有する脂肪族もしくは芳香族残基であり、
Aは、アニオン性官能基を保持している有機残基である)、
b)酸化剤、および
c)溶媒
を含む液相を準備するステップと、
ii)前記一般式(I)のチオフェンモノマーを酸化重合して、官能化π共役ポリチオフェンを含む液体組成物を得るステップと
を含み、ここで、
(α1)プロセスステップi)において準備された前記液相のpHは7.0未満の値に調整され、前記pHは20℃の温度で決定され、
(α2)プロセスステップi)において準備された前記液相の塩化物含有量は、前記液相の全重量に基づいて、10000ppm未満である、
プロセス。 - (α3)プロセスステップi)において準備された前記液相の酸素含有量は、前記液相の全重量に基づいて、1000ppm未満である、請求項1に記載のプロセス。
- X、Yは、Oであり、
Aは、-(CH2)m-CR2R3-(CH2)n-であり、ここで、
R2は、水素または-(CH2)s-Z-(CH2)p-SO3 -M+であり、
R3は、-(CH2)s-Z-(CH2)p-SO3 -M+であり、
Zは、O、Sまたは-CH2-であり、
M+は、カチオンであり、
mおよびnは、同一であるか、または異なり、0~3の整数であり、
sは、0~10の整数であり、
pは、1~18の整数である、
請求項1または2に記載のプロセス。 - 前記一般式(I)において、
X、Yは、Oであり、
Aは、-(CH2)-CR2R3-(CH2)n-であり、ここで、
R2は、水素であり、
R3は、-(CH2)s-O-(CH2)p-SO3 -M+であり、
M+は、Na+またはK+であり、
nは、0または1であり、
sは、0または1であり、
pは、4または5である、
請求項1~3のいずれか一項に記載のプロセス。 - X、Yは、Oであり、
Aは、-(CH2-CHR)-であり、ここで、
Rは、-(CH2)t-O-Ar-[(W)u-SO3 -M+]vであり、ここで、
Arは、任意に置換されているC6-C20アリーレン基を表し、
Wは、任意に置換されているC1-C6アルキレン基を表し、
M+は、H+、Li+、Na+、およびK+からなる群から選択されるアルカリカチオン、NH(R1)3またはHNC5H5を表し、ここで各R1基は独立して水素原子または任意に置換されているC1-C6アルキル基を表し、
tは、0~6の整数を表し、
uは、0または1の整数を表し、
vは、1~4の整数を表す、
請求項1に記載のプロセス。 - 前記酸化剤b)は、重金属の塩、ペルオキソ二硫酸の塩またはそれらの混合物である、請求項1~5のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記チオフェンモノマーは電気化学重合によって重合され、前記酸化剤b)は電極である、請求項1~5のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記溶媒c)は水である、請求項1~7のいずれか一項に記載のプロセス。
- プロセスステップi)において準備された前記液相のpHは、有機酸または無機酸を使用して7.0未満の値に調整される、請求項1~8のいずれか一項に記載のプロセス。
- プロセスステップii)における前記酸化重合は、窒素、アルゴン、二酸化炭素またはそれらの混合物の不活性ガス雰囲気下で実施される、請求項1~9のいずれか一項に記載のプロセス。
- プロセスステップii)における前記酸化重合は、プロセスステップii)における重合反応の間、前記液相の蒸気圧以上である圧力下で実施される、請求項10に記載のプロセス。
- プロセスステップii)における前記酸化重合は、0.8bar以下の減圧下で実施される、請求項1~9のいずれか一項に記載のプロセス。
- 請求項1~12のいずれか一項に記載のプロセスによって得られる液体組成物。
- 前記官能化π共役ポリチオフェンの質量平均分子量Mwは、少なくとも50000g/mol、好ましくは少なくとも75000g/mol、より好ましくは少なくとも100000g/mol、最も好ましくは少なくとも125000g/molである、請求項14に記載の液体組成物。
- 前記官能化π共役ポリチオフェンの質量平均分子量Mwは、125000g/mol~240000g/molの範囲、好ましくは125000g/mol~210000g/molの範囲である、請求項15に記載の液体組成物。
- 前記官能化π共役ポリチオフェンのモル平均分子量Mnは、25000g/mol未満、好ましくは20000g/mol未満、より好ましくは15000g/mol未満である、請求項14~16のいずれか一項に記載の液体組成物。
- 前記液体組成物中に、前記官能化π共役ポリチオフェンが粒子の形態で存在し、前記粒子は、
i)1~100nmの範囲、好ましくは1~80nmの範囲、より好ましくは1~60nmの範囲、最も好ましくは5~40nmの範囲のd50値(重量平均粒径)、および
ii)3.5×d50未満、好ましくは3×d50未満、より好ましくは2×d50未満のd90値
によって特徴付けられる、請求項14~17のいずれか一項に記載の液体組成物。 - 官能化π共役ポリチオフェンを含む液体組成物を生成するプロセスであって、前記プロセスは、
i)
a)一般式(I)のチオフェンモノマーであって、
b)酸化剤、および
c)溶媒
を含む液相を準備するステップと、
ii)前記一般式(Ia)および(Ib)のチオフェンモノマーを酸化重合して、官能化π共役ポリチオフェンを含む液体組成物を得るステップと
を含む、プロセス。 - 各場合、前記液相中のチオフェンモノマーの全重量に基づいて、前記一般式(Ib)のチオフェンモノマーの含有量は、少なくとも0.2wt%、好ましくは少なくとも1wt%、より好ましくは少なくとも2wt%である、請求項19に記載のプロセス。
- 請求項19または20に記載のプロセスによって得られる、液体組成物。
- 官能化π共役ポリチオフェンを含む液体組成物であって、前記ポリチオフェンは、一般式(I)の繰り返し単位を含み、
- 各場合、前記官能化π共役ポリチオフェンの全重量に基づいて、前記一般式(Ib)の繰り返し単位の含有量は、少なくとも0.2wt%、好ましくは少なくとも1wt%、より好ましくは少なくとも2wt%である、請求項22に記載の液体組成物。
- 前記液体組成物によって作製される導電層が12S/cm超の導電率を有する、請求項13~18および21~23のいずれか一項に記載の液体組成物。
- コンデンサを製造するプロセスであって、前記プロセスは、
I)電極材料(2)の電極本体(1)を準備するステップであって、誘電体(3)が、陽極本体(5)の形成下で少なくとも部分的に前記電極材料(2)の1つの表面(4)を覆う、ステップと、
II)請求項13~18および21~23のいずれか一項に記載の液体組成物を、前記電極本体(1)の少なくとも一部に導入するステップと
を含む、プロセス。 - 請求項25に記載のプロセスによって得られるコンデンサ。
- 電子デバイスにおける導電層を作製するための請求項13~18および21~23のいずれか一項に記載の液体組成物の使用。
- 前記デバイスは、光伝導セル、フォトレジスタ、光スイッチ、フォトトランジスタ、光電管、IR検出器、光起電デバイス、太陽電池、記憶保持デバイス用のコーティング材、電界効果抵抗デバイス、帯電防止フィルム、バイオセンサ、エレクトロクロミック素子、固体電解コンデンサ、エネルギー貯蔵デバイス、タッチパネルおよび電磁波シールドから選択される、請求項27に記載の使用。
- 前記導電層は、固体電解コンデンサにおける固体電解質層である、請求項28に記載の使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP14200233.6 | 2014-12-23 | ||
EP14200233.6A EP3037497A1 (en) | 2014-12-23 | 2014-12-23 | Process for producing functionalized polythiophenes |
JP2020208049A JP7240371B2 (ja) | 2014-12-23 | 2020-12-16 | 官能化ポリチオフェンを生成するプロセス |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020208049A Division JP7240371B2 (ja) | 2014-12-23 | 2020-12-16 | 官能化ポリチオフェンを生成するプロセス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023071860A true JP2023071860A (ja) | 2023-05-23 |
Family
ID=52144588
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017531809A Active JP7236805B2 (ja) | 2014-12-23 | 2015-11-20 | 官能化ポリチオフェンを生成するプロセス |
JP2020208049A Active JP7240371B2 (ja) | 2014-12-23 | 2020-12-16 | 官能化ポリチオフェンを生成するプロセス |
JP2023031653A Pending JP2023071860A (ja) | 2014-12-23 | 2023-03-02 | 官能化ポリチオフェンを生成するプロセス |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017531809A Active JP7236805B2 (ja) | 2014-12-23 | 2015-11-20 | 官能化ポリチオフェンを生成するプロセス |
JP2020208049A Active JP7240371B2 (ja) | 2014-12-23 | 2020-12-16 | 官能化ポリチオフェンを生成するプロセス |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10767003B2 (ja) |
EP (1) | EP3037497A1 (ja) |
JP (3) | JP7236805B2 (ja) |
KR (1) | KR102441435B1 (ja) |
CN (2) | CN107001598B (ja) |
TW (2) | TWI785302B (ja) |
WO (1) | WO2016102129A1 (ja) |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10186382B2 (en) | 2016-01-18 | 2019-01-22 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor with improved leakage current |
JP6911293B2 (ja) * | 2016-03-25 | 2021-07-28 | 東ソー株式会社 | 導電性高分子水溶液、及び導電性高分子膜並びに該被覆物品 |
JP6753191B2 (ja) * | 2016-07-27 | 2020-09-09 | 東ソー株式会社 | チオフェン化合物 |
US10763046B2 (en) | 2016-09-15 | 2020-09-01 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor with improved leakage current |
US10892095B2 (en) | 2016-10-18 | 2021-01-12 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor assembly |
EP3529816A4 (en) | 2016-10-18 | 2020-09-02 | AVX Corporation | SOLID ELECTROLYTE CAPACITOR WITH IMPROVED PERFORMANCE AT HIGH TEMPERATURES AND VOLTAGES |
US10741333B2 (en) | 2016-10-18 | 2020-08-11 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor with improved leakage current |
JP6902876B2 (ja) * | 2017-01-31 | 2021-07-14 | 東ソー株式会社 | ポリチオフェン及びその組成物、並びにその用途 |
US10622160B2 (en) | 2017-03-06 | 2020-04-14 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor assembly |
CN110753982A (zh) * | 2017-06-22 | 2020-02-04 | 松下知识产权经营株式会社 | 电解电容器及其制造方法 |
WO2019010157A1 (en) | 2017-07-03 | 2019-01-10 | Avx Corporation | ASSEMBLY FORMING A SOLID ELECTROLYTE CAPACITOR |
US11257628B2 (en) | 2017-07-03 | 2022-02-22 | KYOCERA AVX Components Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a nanocoating |
KR102001773B1 (ko) * | 2018-03-16 | 2019-07-18 | 연세대학교 산학협력단 | 입경이 제어된 전도성 고분자 용액 및 이의 제조방법 |
JP7218423B2 (ja) * | 2018-07-18 | 2023-02-06 | ケメット エレクトロニクス コーポレーション | ハイブリッドコンデンサ及びコンデンサを製造する方法 |
CN112805798A (zh) | 2018-08-10 | 2021-05-14 | 阿维科斯公司 | 包含聚苯胺的固体电解电容器 |
KR102659642B1 (ko) | 2018-08-10 | 2024-04-22 | 교세라 에이브이엑스 컴포넌츠 코포레이션 | 고유 전도성 중합체를 포함하는 고체 전해 커패시터 |
JP7442500B2 (ja) | 2018-08-10 | 2024-03-04 | キョーセラ・エイブイエックス・コンポーネンツ・コーポレーション | 導電性ポリマー粒子から形成される固体電解キャパシタ |
CN111138639B (zh) * | 2018-11-05 | 2022-04-29 | 天津理工大学 | pH响应型共轭聚合物纳米粒子及其制备方法和应用 |
US11955294B2 (en) | 2018-12-11 | 2024-04-09 | KYOCERA AVX Components Corporation | Solid electrolytic capacitor containing an intrinsically conductive polymer |
CN116072432A (zh) * | 2019-01-25 | 2023-05-05 | 松下知识产权经营株式会社 | 电解电容器及其制造方法 |
JP7571057B2 (ja) | 2019-05-17 | 2024-10-22 | キョーセラ・エイブイエックス・コンポーネンツ・コーポレーション | 固体電解キャパシタ |
CN110189920B (zh) * | 2019-06-11 | 2022-03-04 | 中国振华(集团)新云电子元器件有限责任公司(国营第四三二六厂) | 一种导电聚合物电极材料及其制备方法和铝电解电容器 |
US11670461B2 (en) | 2019-09-18 | 2023-06-06 | KYOCERA AVX Components Corporation | Solid electrolytic capacitor for use at high voltages |
US11823846B2 (en) | 2019-12-10 | 2023-11-21 | KYOCERA AVX Components Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a pre-coat and intrinsically conductive polymer |
DE112020006024T5 (de) | 2019-12-10 | 2022-10-06 | KYOCERA AVX Components Corporation | Tantalkondensator mit erhöhter Stabilität |
US11631548B2 (en) * | 2020-06-08 | 2023-04-18 | KYOCERA AVX Components Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a moisture barrier |
CN114496578A (zh) * | 2020-10-26 | 2022-05-13 | 钰邦科技股份有限公司 | 电解质电容器的制备方法 |
US11837415B2 (en) | 2021-01-15 | 2023-12-05 | KYOCERA AVX Components Corpration | Solid electrolytic capacitor |
WO2022258501A1 (en) | 2021-06-08 | 2022-12-15 | Agfa-Gevaert Nv | Novel polythiophene/polyanion compositions |
US20230026186A1 (en) * | 2021-07-14 | 2023-01-26 | Tokin Corporation | Solid electrolytic capacitor and method for manufacturing solid electrolytic capacitor |
EP4151640A1 (en) * | 2021-09-20 | 2023-03-22 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Process for producing functionalized polythiophenes |
EP4160632A1 (en) * | 2021-09-29 | 2023-04-05 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Process for producing polymer capacitors for high reliability applications |
Family Cites Families (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3814730A1 (de) | 1988-04-30 | 1989-11-09 | Bayer Ag | Feststoff-elektrolyte und diese enthaltende elektrolyt-kondensatoren |
DE59010247D1 (de) * | 1990-02-08 | 1996-05-02 | Bayer Ag | Neue Polythiophen-Dispersionen, ihre Herstellung und ihre Verwendung |
US5111327A (en) * | 1991-03-04 | 1992-05-05 | General Electric Company | Substituted 3,4-polymethylenedioxythiophenes, and polymers and electro responsive devices made therefrom |
DE4202337A1 (de) * | 1992-01-29 | 1993-08-05 | Bayer Ag | Verfahren zur durchkontaktierung von zweilagigen leiterplatten und multilayern |
DE4211461A1 (de) * | 1992-04-06 | 1993-10-07 | Agfa Gevaert Ag | Antistatische Kunststoffteile |
DE19507413A1 (de) | 1994-05-06 | 1995-11-09 | Bayer Ag | Leitfähige Beschichtungen |
EP0686662B2 (de) * | 1994-05-06 | 2006-05-24 | Bayer Ag | Leitfähige Beschichtungen |
DE10004725A1 (de) * | 2000-02-03 | 2001-08-09 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von wasserlöslichen pi-konjugierten Polymeren |
EP1323764A1 (en) * | 2001-12-20 | 2003-07-02 | Agfa-Gevaert | Process for preparing an aqueous solution or dispersion of a polythiophene or thiophene copolymer |
DE60219197T2 (de) * | 2001-12-04 | 2008-01-03 | Agfa-Gevaert | Verfahren zur herstellung von lösungen oder dispersionen von polythiophenepolymeren |
US6995223B2 (en) * | 2001-12-20 | 2006-02-07 | Agfa-Gevaert | 3,4-alkylenedioxy-thiophene copolymers |
US7105620B2 (en) * | 2001-12-20 | 2006-09-12 | Agfa Gevaert | 3,4-alkylenedioxy-thiophene copolymers |
EP1323763A1 (en) * | 2001-12-20 | 2003-07-02 | Agfa-Gevaert | 3,4-Alkylenedioxy-thiophene copolymers |
WO2004019346A1 (en) * | 2002-08-23 | 2004-03-04 | Agfa-Gevaert | Layer configuration comprising an electron-blocking element |
US6977390B2 (en) * | 2002-08-23 | 2005-12-20 | Agfa Gevaert | Layer configuration comprising an electron-blocking element |
AU2003262551A1 (en) * | 2002-08-23 | 2004-03-11 | Agfa-Gevaert | Layer configuration with improved stability to sunlight exposure |
DE102004022674A1 (de) | 2004-05-07 | 2005-11-24 | H.C. Starck Gmbh | Elektrolytkondensatoren mit polymerer Außenschicht |
DE102004006583A1 (de) * | 2004-02-10 | 2005-09-01 | H.C. Starck Gmbh | Polythiophenformulierungen zur Verbesserung von organischen Leuchtdioden |
DE102005016727A1 (de) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | H.C. Starck Gmbh | Elektrolytkondensatoren mit polymerer Außenschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung |
DE102005033839A1 (de) * | 2005-07-20 | 2007-01-25 | H.C. Starck Gmbh | Elektrolytkondensatoren mit polymerer Außenschicht und Verfahren zur ihrer Herstellung |
DE102005043828A1 (de) | 2005-09-13 | 2007-03-22 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Elektrolytkondensatoren |
DE102005043829A1 (de) * | 2005-09-13 | 2007-04-05 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Elektrolytkondensatoren mit hoher Nennspannung |
TWI404090B (zh) * | 2006-02-21 | 2013-08-01 | Shinetsu Polymer Co | 電容器及電容器之製造方法 |
JP5305569B2 (ja) | 2006-06-29 | 2013-10-02 | 三洋電機株式会社 | 電解コンデンサの製造方法および電解コンデンサ |
DE102008024805A1 (de) | 2008-05-23 | 2009-12-03 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Elektrolytkondensatoren |
DE102008032578A1 (de) | 2008-07-11 | 2010-01-14 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Elektrolytkondensatoren |
DE102009007594A1 (de) * | 2009-02-05 | 2010-08-12 | H.C. Starck Clevios Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Elektrolytkondensatoren mit polymerer Außenschicht. |
EP2479201B1 (en) | 2010-08-19 | 2015-09-02 | Tayca Corporation | Oxidant/dopant solution for producing conductive polymer, conductive polymer and solid electrolytic capacitor |
DE102010047087A1 (de) * | 2010-10-01 | 2012-04-05 | Heraeus Clevios Gmbh | Verfahren zur Verbesserung der elektrischen Kenngrößen in Kondensatoren enthaltend PEDOT/PSS als Feststoffelektrolyt durch ein Polyalkylenglykol |
JP2013116939A (ja) | 2011-12-01 | 2013-06-13 | Tosoh Corp | ポリチオフェン誘導体複合物及びその製造方法、並びにその用途 |
JP6040615B2 (ja) | 2012-07-03 | 2016-12-07 | 東ソー株式会社 | チオフェン化合物、水溶性導電性ポリマー及びその水溶液、並びにそれらの製造法 |
JP6146096B2 (ja) | 2012-07-03 | 2017-06-14 | 東ソー株式会社 | チオフェン化合物、水溶性導電性ポリマー及びその水溶液、並びにそれらの製造方法 |
JP6131780B2 (ja) | 2012-09-06 | 2017-05-24 | 東ソー株式会社 | ポリチオフェン及びその水溶液、並びにそのチオフェンモノマー |
DE102012018978A1 (de) * | 2012-09-27 | 2014-03-27 | Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg | Verwendung von PEDOT/PSS-Dispersionen mit hohem PEDOT-Anteil zur Herstellung von Kondensatoren und Solarzellen |
DE102012018976A1 (de) * | 2012-09-27 | 2014-03-27 | Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg | Verwendung von Mischungen aus selbstdotierten und fremddotierten leitfähigen Polymeren in einem Kondensator |
DE102012022976A1 (de) * | 2012-11-26 | 2014-05-28 | Ewe-Forschungszentrum Für Energietechnologie E. V. | Einsatz leitfähiger Polymere in Batterie-Elektroden |
JP6273917B2 (ja) | 2014-03-10 | 2018-02-07 | 東ソー株式会社 | チオフェン共重合体及びその水溶液、並びにチオフェンモノマー組成物及びその製造方法 |
-
2014
- 2014-12-23 EP EP14200233.6A patent/EP3037497A1/en active Pending
-
2015
- 2015-11-20 KR KR1020177020624A patent/KR102441435B1/ko active IP Right Grant
- 2015-11-20 CN CN201580067823.9A patent/CN107001598B/zh active Active
- 2015-11-20 WO PCT/EP2015/077219 patent/WO2016102129A1/en active Application Filing
- 2015-11-20 TW TW109102203A patent/TWI785302B/zh active
- 2015-11-20 US US15/535,920 patent/US10767003B2/en active Active
- 2015-11-20 CN CN202010684127.5A patent/CN111763305B/zh active Active
- 2015-11-20 TW TW104138690A patent/TWI686422B/zh active
- 2015-11-20 JP JP2017531809A patent/JP7236805B2/ja active Active
-
2020
- 2020-12-16 JP JP2020208049A patent/JP7240371B2/ja active Active
-
2023
- 2023-03-02 JP JP2023031653A patent/JP2023071860A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201623365A (zh) | 2016-07-01 |
KR102441435B1 (ko) | 2022-09-07 |
KR20170097772A (ko) | 2017-08-28 |
JP2018507268A (ja) | 2018-03-15 |
WO2016102129A1 (en) | 2016-06-30 |
TWI686422B (zh) | 2020-03-01 |
US20180208713A1 (en) | 2018-07-26 |
TWI785302B (zh) | 2022-12-01 |
JP7240371B2 (ja) | 2023-03-15 |
CN107001598B (zh) | 2020-08-11 |
JP2021059733A (ja) | 2021-04-15 |
EP3037497A1 (en) | 2016-06-29 |
CN107001598A (zh) | 2017-08-01 |
CN111763305A (zh) | 2020-10-13 |
CN111763305B (zh) | 2024-06-04 |
TW202017965A (zh) | 2020-05-16 |
US10767003B2 (en) | 2020-09-08 |
JP7236805B2 (ja) | 2023-03-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7240371B2 (ja) | 官能化ポリチオフェンを生成するプロセス | |
JP7182588B2 (ja) | コンデンサアノードに使用するための鎖に結合した対イオンを有する導電性ポリマーと、鎖に結合していない対イオンを有する導電性ポリマーの混合物を含む分散液 | |
KR102158734B1 (ko) | 캐패시터 및 태양 전지의 생산을 위한 고 pedot 함량의 pedot/pss 분산액의 용도 | |
TWI564921B (zh) | ㄧ種電容器及其製造方法、含該相同電容器的電子電路、該電容器在電子電路中的用途,以及ㄧ種分散液 | |
JP5177669B2 (ja) | 導電性高分子組成物およびそれを用いた固体電解コンデンサ | |
JP5461110B2 (ja) | 固体電解コンデンサおよびその製造方法 | |
CA2620516A1 (en) | Process for the production of electrolyte capacitors | |
JP6223703B2 (ja) | 導電性高分子溶液及びその製造方法、導電性高分子材料、ならびに固体電解コンデンサ | |
EP4151640A1 (en) | Process for producing functionalized polythiophenes | |
WO2024037738A1 (en) | High purity sulfonated thiophene monomers |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230317 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230317 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240305 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20240604 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20240705 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240829 |