JP2023052765A - ポリマー部材-無機基材複合体、その製造方法、及びそのためのポリマー部材 - Google Patents
ポリマー部材-無機基材複合体、その製造方法、及びそのためのポリマー部材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023052765A JP2023052765A JP2023012003A JP2023012003A JP2023052765A JP 2023052765 A JP2023052765 A JP 2023052765A JP 2023012003 A JP2023012003 A JP 2023012003A JP 2023012003 A JP2023012003 A JP 2023012003A JP 2023052765 A JP2023052765 A JP 2023052765A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- heat
- polymer layer
- composite
- inorganic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 568
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 title abstract 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 45
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 185
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 129
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 claims description 55
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 43
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims description 32
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 24
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 22
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 17
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 claims description 14
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 claims description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000003292 glue Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 346
- 239000010408 film Substances 0.000 description 71
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 65
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 63
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 56
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 47
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 43
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 28
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 28
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 25
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 23
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 23
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 22
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 21
- FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 19
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 17
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 16
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 16
- 238000003505 heat denaturation Methods 0.000 description 13
- 102000015347 COP1 Human genes 0.000 description 12
- 108060001826 COP1 Proteins 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 11
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 101100282455 Arabidopsis thaliana AMP1 gene Proteins 0.000 description 8
- 101100218464 Haloarcula sp. (strain arg-2 / Andes heights) cop2 gene Proteins 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 8
- 150000001925 cycloalkenes Chemical group 0.000 description 7
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001725 laser pyrolysis Methods 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- SHVOOORFDZIMDB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-phenylpropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCC1=CC=CC=C1 SHVOOORFDZIMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910005543 GaSe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910007709 ZnTe Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Inorganic materials O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(iii) oxide Chemical compound O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 1,3-Octadiene Chemical compound CCCC\C=C\C=C QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C=O FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropylurea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(N)=O LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 1
- YGPMJHGIOFHMLX-UHFFFAOYSA-N CO[SiH3].C(=C)[Si](OCC)(OCC)OCC Chemical compound CO[SiH3].C(=C)[Si](OCC)(OCC)OCC YGPMJHGIOFHMLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150059062 apln gene Proteins 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052795 boron group element Inorganic materials 0.000 description 1
- FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N cyclobutene Chemical compound C1CC=C1 CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYPABJGVBDSCIT-UPHRSURJSA-N cyclododecene Chemical compound C1CCCCC\C=C/CCCC1 HYPABJGVBDSCIT-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- MEWFSXFFGFDHGV-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1CCCCC1 MEWFSXFFGFDHGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N cyclooctene Chemical compound C1CCC\C=C/CC1 URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000004913 cyclooctene Substances 0.000 description 1
- HANKSFAYJLDDKP-UHFFFAOYSA-N dihydrodicyclopentadiene Chemical compound C12CC=CC2C2CCC1C2 HANKSFAYJLDDKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRBYCVPFYWTROV-UHFFFAOYSA-M dimethyl-octadecyl-(3-triethoxysilylpropyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC HRBYCVPFYWTROV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WSFMFXQNYPNYGG-UHFFFAOYSA-M dimethyl-octadecyl-(3-trimethoxysilylpropyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCC[Si](OC)(OC)OC WSFMFXQNYPNYGG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCQHUEOREKHIBP-UHFFFAOYSA-N heptacyclo[9.6.1.14,7.113,16.02,10.03,8.012,17]icosa-5,14-diene Chemical compound C1C(C23)C4C(C=C5)CC5C4C1C3CC1C2C2C=CC1C2 UCQHUEOREKHIBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 125000001905 inorganic group Chemical group 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLBPOJLDZXHVRR-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCNCCN YLBPOJLDZXHVRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC1=CC=CC=C1 LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N octadecyltrimethoxysilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052696 pnictogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229920005653 propylene-ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
- B32B7/027—Thermal properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
- B32B27/325—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins comprising polycycloolefins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
- B32B15/085—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising polyolefins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/16—Layered products comprising a layer of synthetic resin specially treated, e.g. irradiated
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
- B32B27/20—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives using fillers, pigments, thixotroping agents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/005—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/005—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile
- B32B9/007—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile comprising carbon, e.g. graphite, composite carbon
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B9/045—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2250/00—Layers arrangement
- B32B2250/03—3 layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2250/00—Layers arrangement
- B32B2250/04—4 layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/26—Polymeric coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/28—Multiple coating on one surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
- B32B2264/10—Inorganic particles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
- B32B2264/10—Inorganic particles
- B32B2264/107—Ceramic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
- B32B2264/30—Particles characterised by physical dimension
- B32B2264/301—Average diameter smaller than 100 nm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
- B32B2264/30—Particles characterised by physical dimension
- B32B2264/302—Average diameter in the range from 100 nm to 1000 nm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
- B32B2264/40—Pretreated particles
- B32B2264/402—Pretreated particles with organic substances
- B32B2264/4021—Pretreated particles with organic substances with silicon-containing compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2264/00—Composition or properties of particles which form a particulate layer or are present as additives
- B32B2264/50—Particles characterised by their position or distribution in a layer
- B32B2264/503—Particles characterised by their position or distribution in a layer distributed in a predetermined pattern in a thickness direction
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/42—Polarizing, birefringent, filtering
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2551/00—Optical elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
Description
無機基材上に1又は複数の熱変性ポリマー層が密着している熱変性ポリマー層-無機基材複合体を提供すること、及び
前記1又は複数の熱変性ポリマー層を介して、ポリマー部材を前記無機基材に接合させること、
を含み、
前記ポリマー部材が、無機粒子、及びポリマーを少なくとも含む、
ポリマー部材-無機基材複合体の製造方法。
〈態様2〉
前記ポリマー部材が、カップリング剤をさらに含む、態様1に記載の方法。
〈態様3〉
前記ポリマー部材が、膜状又はフィルム状である、態様1又は2に記載の方法。
〈態様4〉
前記ポリマー部材の接合を熱圧着によって行う、態様1~3のいずれか一項に記載の方法。
〈態様5〉
前記1又は複数の熱変性ポリマー層が、オレフィンポリマーで形成されており、かつ前記ポリマー部材の前記ポリマーが、オレフィンポリマーである、態様1~4のいずれか一項に記載の方法。
〈態様6〉
前記オレフィンポリマーが、シクロオレフィンポリマーである、態様5に記載の方法。
〈態様7〉
前記無機基材が、金属及び半金属、金属及び半金属の酸化物、金属及び半金属の窒化物、金属及び半金属の炭化物、炭素材料、並びにそれらの組み合わせからなる群より選択される、態様1~6のいずれか一項に記載の方法。
〈態様8〉
無機基材、前記無機基材に密着している1又は複数の熱変性ポリマー層、前記1又は複数の熱変性ポリマー層を介して前記無機基材に密着しているポリマー部材を有し、かつ
前記ポリマー部材が、無機粒子、及びポリマーを少なくとも含む、
ポリマー部材-無機基材複合体。
〈態様9〉
前記ポリマー部材が、カップリング剤をさらに含む、態様8に記載の複合体。
〈態様10〉
前記ポリマー部材が、膜状又はフィルム状である、態様8又は9に記載の複合体。
〈態様11〉
前記1又は複数の熱変性ポリマー層が、オレフィンポリマーで形成されており、かつ前記ポリマー部材の前記ポリマーが、オレフィンポリマーである、態様8~10のいずれか一項に記載の複合体。
〈態様12〉
前記オレフィンポリマーが、シクロオレフィンポリマーである、態様11に記載の複合体。
〈態様13〉
無機粒子、ポリマー、及びカップリング剤を少なくとも含む、ポリマー部材。
〈態様14〉
膜状又はフィルム状である、態様13に記載のポリマー部材。
〈態様15〉
前記無機粒子の平均一次粒径が1~500nmである、態様13又は14に記載のポリマー部材。
〈態様16〉
無機粒子、及びポリマーを少なくとも含む、ポリマー部材、並びに
ポリマーを少なくとも含む、追加のポリマー部材
を有する、複合ポリマー部材。
〈態様17〉
膜状又はフィルム状である、請求項16に記載の複合ポリマー部材。
〈態様18〉
前記無機粒子の平均一次粒径が1~500nmである、態様16又は17に記載の複合ポリマー部材。
〈態様19〉
前記ポリマー部材及び前記追加のポリマー部材のうちの少なくともいずれかが、カップリング剤をさらに含む、態様16~18のいずれか一項に記載の複合ポリマー部材。
〈態様20〉
前記ポリマー部材が、フィルム状であり、かつカップリング剤をさらに含み、
前記追加のポリマー部材が、フィルム状であり、無機粒子をさらに含み、かつカップリング剤を含んでおらず、かつ
フィルム状である、
態様19に記載の複合ポリマー部材。
〈態様21〉
光学用である、態様13~15のいずれか一項に記載のポリマー部材、及び態様16~20のいずれか一項に記載の複合ポリマー部材。
ポリマー部材-無機基材複合体を製造する本発明の方法は、
無機基材上に1又は複数の熱変性ポリマー層が密着している熱変性ポリマー層-無機基材複合体を提供すること、及び
この1又は複数の熱変性ポリマー層を介して、ポリマー部材を無機基材に接合させること、
を含む。
本発明の方法において用いられる無機基材は、任意の無機基材であってよく、例えば金属及び半金属、金属及び半金属の酸化物、金属及び半金属の窒化物、金属及び半金属の炭化物、炭素材料、並びにそれらの組み合わせからなる群より選択することができる。具体的には、金属としては、アルミニウム、マグネシウム、チタン、ニッケル、クロム、鉄、銅、金、銀、タングステン、ジルコニウム、イットリウム、インジウム、イリジウム等を挙げることができ、半金属としては、シリコン、ゲルマニウム、GaAs、InGaAs、InAlAs、LiTaOx、NbTaOx、ZnTe、GaSe、GaP、CdTe、ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン等を挙げることができる。したがって、金属酸化物としては、これらの金属の酸化物等を挙げることができ、また半金属酸化物としては、これらの半金属の酸化物等を挙げることができる。シリコンの酸化物としては、石英ガラス、ソーダガラスなどのガラスを挙げることができ、アルミニウムの酸化物としてはサファイア等を挙げることができる。窒化物としては、窒化アルミニウム、窒化ケイ素等を挙げることができる。炭化物としては、炭化ケイ素を挙げることができる。また、炭素材料としては、ダイヤモンド等を挙げることができる。
無機基材上に第1のポリマー層を形成し、そして第1のポリマー層を加熱して第1の熱変性ポリマー層にし、それによって無機基材上に第1の熱変性ポリマー層を密着させることができる。
本発明の方法では、ポリマー部材は、任意の形状の部材であってよく、例えば膜状又はフィルム状であってよい。この場合、ポリマー部材の接合を、コーティング又は熱圧着、特に熱圧着によって行うことができる。ここで、このポリマー部材は、無機粒子、及びポリマーを少なくとも含み、特に好ましくは無機粒子、及びシクロオレフィンポリマーを少なくとも含む。
ポリマー部材が膜状又はフィルム状である場合、その好ましい厚さは、1cm以下、5mm以下、2mm以下、1mm以下、500μm以下、200μm以下、100μm以下、又は50μm以下であり、1μm以上、2μm以上、5μm以上、10μm以上、又は15μm以上である。
ポリマー部材が複数の層の積層体である複合フィルムである場合、積層体の層数は2層以上であることが好ましく、500層以下、100層以下、80層以下、60層以下、40層以下、30層以下、20層以下、10層以下、又は5層以下であることが好ましい。
本発明における無機粒子としては、ポリマー部材中に分散させることができる任意の無機粒子を挙げることができ、このような無機粒子としては、例えば金属又は半金属の粒子、金属又は半金属の酸化物又はフッ化物の粒子、金属又は半金属を含む化合物の粒子を挙げることができる。
本発明のポリマー部材-無機基材複合体の製造のために用いることができる熱変性ポリマー層-無機基材複合体では、1又は複数の熱変性ポリマー層が無機基材に密着している。また、本発明のポリマー部材-無機基材複合体では、ポリマー部材が、本発明の熱変性ポリマー層-無機基材複合体の1又は複数の熱変性ポリマー層を介して、無機基材に密着している。
≪複合ポリマー部材≫
実施例1~9では、図1(b)に示すように、シリコン基板10上に、第1及び第2の熱変性ポリマー層21、22、並びにポリマー部材としての第1及び第2の反射防止層31、32をこの順に有する積層体を形成し、そしてこの積層体について、第1及び第2の反射防止層からなる複合反射防止フィルムの、シリコン基板に対する密着性を評価した。
(1)COP溶液Aの調製
7質量%のCOP及び93質量%のトルエンを、室温において混合及び撹拌することによって、COP溶液Aを得た。
(a)COP溶液B1(シリコン粒子非含有)の調製
35質量%のCOP及び65質量%のトルエンを、室温において混合及び撹拌することによって、COP溶液B1を得た。
(b-1)シリコン粒子の作製
シリコン粒子は、モノシランガスを原料として、二酸化炭素レーザーを用いたレーザー熱分解(LP:Laser pyrolysis)法により作製した。また、得られたシリコン粒子の金属不純物含有量を、誘導結合プラズマ質量分析計(ICP-MS)を用いて測定したところ、Feの含有量は15ppb、Cuの含有量は18ppb、Niの含有量は10ppb、Crの含有量は21ppb、Coの含有量は13ppb、Naの含有量は20ppb、及びCaの含有量は10ppbであった。無機粒子の平均一次粒径は100nmであった。
シリコン粒子とオクタデシルトリエトキシシラン(OTS)を、シリコン粒子とOTSの割合重量比が1:1(質量比)となるような分量で、密閉容器の中に入れ混合し、ついで120℃に加熱し、3時間保持することにより、OTS処理シリコン粒子を得た。
10質量%のCOP及び90質量%のトルエンを室温において混合及び撹拌することによって、COP溶液を得た。このCOP溶液に、COPとシリコン粒子との体積比が65:35となるようにして、OTS処理シリコン粒子を加えて混合した。さらにこの混合液をホモジナイザーで15分間分散させることによって、OTS処理シリコン粒子を含有しているCOP溶液B2を調製した。
(c-1)第2の反射防止層の形成
上記のようにして得たCOP溶液B1を、ドクターブレードを用いて、ガラス板上に塗布することにより塗膜を得、110℃において加熱して塗膜中の溶剤を除去することにより、厚み25μmの第2の反射防止層をガラス板上に得た。
上記のようにして得たCOP溶液B2を、ドクターブレードを用いて、第2の反射防止層上に塗布することにより塗膜を得、110℃において加熱して塗膜中の溶剤を除去することにより、厚み20μmの第1の反射防止層を、厚み25μmの第2の反射防止層上に形成した。
上記のようにして得た第1及び第2の反射防止層をガラス板から剥離して、第1及び第2の反射防止層を有する複合反射防止フィルム(複合ポリマー部材)を得た。
無機基材としてのシリコン基板上に、COP溶液Aをスピンコートした。スピンコートは、2000rpmの回転速度を20秒間にわたって保持して行った。
上記のようにして得たシリコン基板の第1の熱変性ポリマー層上に、COP溶液Aをスピンコートした。スピンコートは、2000rpmの回転速度を20秒間にわたって保持して行った。
上記のようにして得たシリコン基材の第2の熱変性ポリマー層上に、第1の反射防止層が第2の熱変性ポリマー層に接触するようにして、上記のようにして得た複合反射防止フィルムを密着させ、115℃の温度及び0.2MPaの圧力で60分間にわたって熱圧着して、第2の熱変性ポリマー層上に、複合反射防止フィルムを密着させた。得られた評価用積層体は、シリコン基板上に、第1の熱変性ポリマー層、第2の熱変性ポリマー層、第1の反射防止層、及び第2の反射防止層にこの順に有していた。
上記のようにして得た評価用積層体について、クロスカット試験を行った。
A:カットの縁が完全に滑らかで,どの格子の目にもはがれが認められなかった。
B:ポリマー部材が部分的なはがれを生じたが、クロスカット部で影響を受けたのは、35%未満であった。
C:ポリマー部材が全面的に大はがれを生じ、クロスカット部で影響を受けたのは、35%以上であった。
D:基材へのポリマー部材の付着性が不良だったため、クロスカット試験を行わなかった。
第2の反射防止層の形成方法をスプレー法としたこと(実施例2)、及びCOP溶液B2の調製のためのCOP溶液中においてCOPとシリコン粒子との体積比を変更したこと(実施例3~8)を除いて、実施例1と同様にして、シリコン基板上に第1及び第2の熱変性ポリマー層、並びに第1及び第2の反射防止層を有する実施例2~8の評価用積層体を得た。この実施例2~8の評価用積層体について、実施例1と同様にして評価した。実施例2~8の評価用積層体についての作成条件及び評価結果を、下記の表1に示している。
COP溶液B2の製造工程においてOTSを用いたシリコン粒子の表面処理を実施せずにCOP溶液B2’(非OTS処理シリコン粒子含有)を得、このCOP溶液B2’をCOP溶液B2の代わりに用いたこと以外は、実施例1と同様にして、シリコン基板上に第1及び第2の熱変性ポリマー層、並びに第1及び第2の反射防止層を有する評価用積層体を得た。この実施例9の評価用積層体について、実施例1と同様にして評価した。実施例9の評価用積層体についての作成条件及び評価結果を、下記の表1に示している。
第1及び第2の熱変性ポリマー層を形成しなかったこと以外は、実施例9と同様にして、シリコン基板上に、第1及び第2の反射防止層を有する評価用積層体を得た。この比較例1の評価用積層体について、実施例1と同様にして評価した。比較例1の評価用積層体についての作成条件及び評価結果を、下記の表1に示している。
下記の点を除いて、実施例1と同様にして、シリコン基板上に第1及び第2の熱変性ポリマー層、並びに第1~第4の反射防止層を有する評価用積層体を得た:
(i)COP溶液B1を、ドクターブレードを用いて、ガラス板上に塗布することにより塗膜を得、110℃において加熱して塗膜中の溶剤を除去することにより、厚み25μmの第4の反射防止層を、ガラス板上に得たこと、
(ii)上記(i)の後で、ドクターブレードを用いて、第4の反射防止層上に、COP溶液B2を塗布することにより塗膜を得、110℃において加熱して塗膜中の溶剤を除去することにより、厚み20μmの第3の反射防止層を、第4の反射防止層に得たこと、
(iii)上記(ii)の後で更に、ドクターブレードを用いて、第3の反射防止層上に、COP溶液B1を塗布することにより塗膜を得、110℃において加熱して塗膜中の溶剤を除去することにより、厚み25μmの第2の反射防止層を、第3の反射防止層に得たこと、
(iv)上記(iii)の後で更に、ドクターブレードを用いて、第2の反射防止層上に、COP溶液B2を塗布することにより塗膜を得、110℃において加熱して塗膜中の溶剤を除去することにより、厚み20μmの第1の反射防止層を、第2の反射防止層上に得たこと。
下記の点を除いて、実施例1と同様にして、シリコン基板上に第1及び第2の熱変性ポリマー層、並びに第1~第3の反射防止層を有する評価用積層体を得た:
(i)COP溶液B1を、ドクターブレードを用いて、ガラス板上に塗布することにより塗膜を得、110℃において加熱して塗膜中の溶剤を除去することにより、厚み25μmの第3の反射防止層を、ガラス板上に得たこと、
(ii)上記(i)の後で、ドクターブレードを用いて、第3の反射防止層上に、実施例9で用いたCOP溶液B2’、すなわちOTSによる表面処理をしていないシリコン粒子を含有しているCOP溶液を塗布することにより塗膜を得、110℃において加熱して塗膜中の溶剤を除去することにより、厚み15μmの第2の反射防止層を、第3の反射防止層上に得たこと。
(iii)上記(ii)の後で更に、ドクターブレードを用いて、第2の反射防止層上に、COP溶液B2を塗布することにより塗膜を得、110℃において加熱して塗膜中の溶剤を除去することにより、厚み5μmの第1の反射防止層を、第2の反射防止層上に得たこと。
以下の参考例及び参考比較例では、熱変性ポリマー層の形成、熱変性ポリマー層に対するポリマー部材の密着性について評価している。
COP1: シクロオレフィンポリマー(アートン(商標)(JSR株式会社))
COP2: シクロオレフィンポリマー(日本ゼオン株式会社、Zeonex(商標)480R、ガラス転移点温度138℃)
以下のとおり、参考例1~14では、熱変性ポリマー層及びポリマー部材の両方の材料として、COP1を用いた。また、参考比較例1~2では、熱変性ポリマー層を用いずに、ポリマー部材の材料として、COP1を用いた。
(熱変性ポリマー層用溶液の調製)
7質量%のCOP1及び93質量%のクロロホルムを、室温において混合及び撹拌することによって、熱変性ポリマー層用溶液を得た。
無機基材としてのシリコン基板上に、熱変性ポリマー層用溶液をスピンコートした。スピンコートは、2000rpmの回転速度を20秒間にわたって保持して行った。
上記のようにして得たシリコン基板の第1の熱変性ポリマー層上に、熱変性ポリマー層用溶液をスピンコートした。スピンコートは、2000rpmの回転速度を20秒間にわたって保持して行った。
7質量%のCOP1及び93質量%のクロロホルムを、室温において混合及び撹拌することによって、ポリマー部材用溶液を得た。
上記のようにして得た第2の熱変性ポリマー層上に、ポリマー部材用溶液をスピンコートした。スピンコートは、2000rpmの回転速度を20秒間にわたって保持して行った。
カッターナイフを用いて、シリコン基板上に形成した第1及び第2の熱変性ポリマー層、並びにポリマー部材の積層体に、1mm間隔でシリコン基板に到達する切れ目を入れた。6本の切れ目を入れた後で、さらにこの切れ目に直交するようにさらに6本の切れ目を入れ、碁盤の目状の切れ目を形成した。
A:カットの縁が完全に滑らかで,どの格子の目にもはがれが認められなかった。
B:ポリマー部材が部分的なはがれを生じたが、クロスカット部で影響を受けたのは、35%未満であった。
C:ポリマー部材が全面的に大はがれを生じ、クロスカット部で影響を受けたのは、35%以上であった。
熱変性ポリマー層を形成するための溶液中のポリマーの濃度(参考例2及び3)、熱変性ポリマー層を形成するための溶液中のスピンコーティング条件(参考例4)、第1の熱変性ポリマーの熱変性の温度(参考例5~8)を表R1及び2のように変更したことを除いて、参考例1と同様にして、参考例2~8のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R1及び2に示している。
(第1及び第2の熱変性ポリマー層の形成)
第1の熱変性ポリマーの熱変性の温度を300℃にしたこと、及び、第2の熱変性ポリマーの熱変性の温度を280℃とし処理時間を1分間としたことを除いて、参考例1と同様にして、シリコン基板上に第1の熱変性ポリマー層及び第2の熱変性ポリマーを形成した。
上記のようにして得た第2の熱変性ポリマー層の上に、熱変性ポリマー層用溶液をスピンコートした。スピンコートは、2000rpmの回転速度を20秒間にわたって保持して行った。
その後、参考例1と同様にしてポリマー部材の接合を行うことにより参考例3Aのポリマー部材-無機基材複合体を作成した。
参考例3Aのポリマー部材-無機基材複合体を、参考例1と同様にして評価した。
無機基材としてのシリコン基材上に第1及び第2の熱変性ポリマー層を形成せずに、シリコン基材上に直接に、COP1をスピンコーティングしたことを除いて、参考例1と同様にして、参考比較例1のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R1及び2に示している。
ポリマー部材の接合の際に、シクロオレフィンポリマーをスピンコーティングする代わりに、COP1のフィルム(厚さ100μm)を、第2の熱変性ポリマー層上に配置し、50MPaの圧力及び140℃の温度で2時間にわたって保持して、このフィルムと第2の熱変性ポリマー層とを熱圧着したことを除いて、参考例1と同様にして、参考例9のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R3に示している。
無機基材としてのシリコン基材上に第1及び第2の熱変性ポリマー層を形成せずに、シリコン基材上に直接に、COP1のフィルム(厚さ100μm)を熱圧着したことを除いて、参考例9と同様にして、参考比較例2のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R3に示している。
無機基材としてのシリコン基材上に第1の熱変性ポリマー層を形成した後、第2の熱変性ポリマー層を形成せずに、第1の熱変性ポリマー層上に直接に、ポリマー部材用溶液をスピンコートしたことを除いて、それぞれ参考例5,6、1、7、及び8と同様にして、参考例10~14のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R4に示している。
以下のとおり、参考例15~20では、熱変性ポリマー層及びポリマー部材の膜の両方の材料として、COP2を用いた。また、参考比較例3では、熱変性ポリマー層を用いずに、ポリマー部材の膜の材料として、COP2を用いた。
熱変性ポリマー層用溶液及びポリマー部材用溶液の両方の調製において、10質量%のCOP2及び90質量%のトルエンを室温において混合及び撹拌することにより熱変性ポリマー層用溶液を得たことを除いて、参考例1と同様にして、参考例15のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R5に示している。
熱変性ポリマー層を形成するための溶液中のポリマーの濃度を10質量%から1質量%のように変更したことを除いて、参考例15と同様にして、参考例16のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R5に示している。
無機基材としてのシリコン基材上に第1及び第2の熱変性ポリマー層を形成せずに、シリコン基材上に直接に、COP2をスピンコーティングしたことを除いて、参考例15と同様にして、参考比較例3のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R5に示している。
第1の熱変性ポリマーの熱変性の温度を表R6のように変更したことを除いて、参考例15と同様にして、参考例17~20のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R6に示している。
以下のとおり、参考例21では、熱変性ポリマー層及びポリマー部材の両方の材料として、ポリエチレン(PE)フィルム(厚さ30μm)を用いた。また、参考比較例4では、熱変性ポリマー層を用いずに、ポリマー部材の材料として、ポリエチレンフィルム(厚さ30μm)を用いた。
(第1の熱変性ポリマー層の形成)
無機基材としてのシリコン基板上にポリエチレンフィルム(厚さ30μm)を配置した状態で、120℃に基材を加熱し1分間保持することにより、ポリエチレンフィルム付きシリコン基板を得、そして、この基板を、280℃に加熱したホットプレート上に1分間にわたって保持することによってポリエチレンフィルムを熱変性させて、第1の熱変性ポリマー層付きシリコン基板を得た。
上記のようにして得たシリコン基板の第1の熱変性ポリマー層上に、ポリエチレンフィルム(厚さ30μm)を配置した状態で、120℃に基材を加熱し1分間保持することにより、第1の熱変性ポリマー層上にポリエチレンフィルムを貼り付けた。そして、この基板を、200℃に加熱したホットプレート上に2分間にわたって保持することによってポリエチレンフィルムを熱変性させて、第1の熱変性ポリマー層上に第2の熱変性ポリマー層を密着させた。このようにして得られた熱変性ポリマー層-無機基材複合体を、参考例21の熱変性ポリマー層-無機基材複合体とした。
上記のようにして得た第2の熱変性ポリマー層上に、ポリエチレンフィルム(厚さ30μm)を配置した状態で、120℃に基材を加熱し1分間保持し、その後さらに140℃に基材を加熱し10分間保持することにより、第1の熱変性ポリマー層上に、ポリマー部材としてのポリエチレンフィルムを接合した。このようにして得られたポリマー部材-無機基材複合体を、参考例21のポリマー部材-無機基材複合体とし、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R7に示している。
無機基材としてのシリコン基材上に第1及び第2の熱変性ポリマー層を形成せずに、シリコン基材上に直接に、ポリマー部材としてのポリエチレンフィルムを接合したことを除いて、参考例21と同様にして、参考比較例4のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R7に示している。
以下のとおり、参考例22~27では、熱変性ポリマー層の材料とポリマー部材の材料とで異なるポリマーを用いた。
(第1及び第2の熱変性ポリマー層の形成)
参考例1でのようにして、COP1を用いて、無機基材としてのシリコン基材上に第1及び第2の熱変性ポリマー層を形成した。
参考例22では、上記のようにして得た第2の熱変性ポリマー層上に、参考例15でのようにして得たCOP2のポリマー部材用溶液をスピンコートし、乾燥して、参考例22のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R8に示している。
(第1及び第2の熱変性ポリマー層の形成)
参考例15でのようにして、COP2を用いて、無機基材としてのシリコン基材上に第1及び第2の熱変性ポリマー層を形成した。
参考例24では、上記のようにして得た第2の熱変性ポリマー層上に、参考例1でのようにして得たCOP1のポリマー部材用溶液をスピンコートし、乾燥して、参考例24のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R8に示している。
(第1及び第2の熱変性ポリマー層の形成)
参考例21でのようにして、ポリエチレンフィルム(厚さ30μm)を用いて、無機基材としてのシリコン基材上に第1及び第2の熱変性ポリマー層を形成した。
参考例26では、上記のようにして得た第2の熱変性ポリマー層上に、参考例1でのようにして得たCOP1のポリマー部材用溶液をスピンコートし、乾燥して、参考例26のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R8に示している。
〈参考例28~30〉
無機基材として、シリコン基材に代えて、それぞれSiN層を表面に形成したシリコン基材(参考例28)、銅板(参考例29)、及びアルミニウム板(参考例30)を用いたことを除いて、参考例15と同様にして、参考例28~30のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R9に示している。
熱変性ポリマー層を用いなかったことを除いてそれぞれ参考例28~30と同様にして、参考比較例5~7のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表に示している。
以下のとおり、参考比較例8~13では、無機基材としてのシリコン基材をシランカップリング剤で処理し、この処理した表面に、ポリマー部材を接合した。
無機基材としてのシリコン基材を、紫外線及びオゾン処理(UV/O3処理)した後で、シランカップリング剤としてのオクタデシルトリエトキシシラン(OTS)の150℃の飽和蒸気圧雰囲気下において3時間保持することにより、OTS処理シリコン基材を得た。
シランカップリング剤として、オクタデシルトリエトキシシラン(OTS)の代わりに、3-フェニルプロピルトリエトキシシラン(PTS)を用いたことを除いて、それぞれ参考比較例8及び9と同様にして、参考比較例10~11のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R10に示している。
シランカップリング剤として、オクタデシルトリエトキシシラン(OTS)の代わりに、3-アミノプロピルトリエトキシシラン(ATS)を用いたことを除いて、それぞれ参考比較例8及び9と同様にして、参考比較例12~13のポリマー部材-無機基材複合体を作成し、参考例1と同様にして評価した。この複合材料の作成条件及び評価結果を下記の表R10に示している。
上記の表R1からは、熱変性ポリマー層を形成するためのポリマー溶液におけるポリマー濃度を1質量%~7質量%にし、また熱変性ポリマー層を形成する際のスピンコート回転数を2000rpm~4000rpmにした場合(参考例1~4)に、熱変性ポリマー層を用いない場合(参考比較例1)と比較して、ポリマー部材の剥離が抑制されていることが理解される。
20質量%のCOP1及び80質量%のクロロホルムを、室温において混合及び撹拌することによって、熱変性ポリマー層用溶液を得たこと、並びに熱変性のためのホットプレートの温度を、400℃(参考例31)、320℃(参考例32)、280℃(参考例33)、240℃(参考例34)、200℃(参考例35)、及び160℃(参考例36)にしたことを除いて、参考例1と同様にして、無機基材としてのシリコン基板上に、熱変性ポリマー層付きシリコン基板を得た。
参考例31~36の熱変性ポリマー層について、XPS装置(K-Alpha(サーモフィッシャーサイエンティフィック社))を用いて、熱変性ポリマー層に含まれる酸素原子と炭素原子の原子数の合計に対する熱変性ポリマー層含まれる酸素の原子数の割合(O原子数/(O原子数+C原子数)(%))を求めた。
参考例31~36の熱変性ポリマー層について、IR吸収分析装置(Nicolet6700(Thermo Fisher SCIENTIFIC社))を用いて、4000~500cm-1の範囲の赤外透過吸収スペクトルを測定することにより、2947cm-1をピークとするC-H伸縮振動の吸収の吸収ピークの強度に対する、1732cm-1をピークとするC=O伸縮振動の吸収ピークの強度の割合(C=O伸縮振動の吸収ピークの強度の割合/C―H伸縮振動の吸収ピークの強度(-))を求めた。吸収ピークの強度は、吸収ピークの吸光度の値の最大値を読み取ることによって求めた。
20、21、22 熱変性ポリマー層
30、31、32 ポリマー部材
110、120 熱変性ポリマー層-無機基材複合体
210、220 本発明のポリマー部材-無機基材複合体
Claims (21)
- 無機基材上に1又は複数の熱変性ポリマー層が密着している熱変性ポリマー層-無機基材複合体を提供すること、及び
前記1又は複数の熱変性ポリマー層を介して、ポリマー部材を前記無機基材に接合させること、
を含み、
前記ポリマー部材が、無機粒子、及びポリマーを少なくとも含む、
ポリマー部材-無機基材複合体の製造方法。 - 前記ポリマー部材が、カップリング剤をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ポリマー部材が、膜状又はフィルム状である、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記ポリマー部材の接合を熱圧着によって行う、請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記1又は複数の熱変性ポリマー層が、オレフィンポリマーで形成されており、かつ前記ポリマー部材の前記ポリマーが、オレフィンポリマーである、請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記オレフィンポリマーが、シクロオレフィンポリマーである、請求項5に記載の方法。
- 前記無機基材が、金属及び半金属、金属及び半金属の酸化物、金属及び半金属の窒化物、金属及び半金属の炭化物、炭素材料、並びにそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。
- 無機基材、前記無機基材に密着している1又は複数の熱変性ポリマー層、前記1又は複数の熱変性ポリマー層を介して前記無機基材に密着しているポリマー部材を有し、かつ
前記ポリマー部材が、無機粒子、及びポリマーを少なくとも含む、
ポリマー部材-無機基材複合体。 - 前記ポリマー部材が、カップリング剤をさらに含む、請求項8に記載の複合体。
- 前記ポリマー部材が、膜状又はフィルム状である、請求項8又は9に記載の複合体。
- 前記1又は複数の熱変性ポリマー層が、オレフィンポリマーで形成されており、かつ前記ポリマー部材の前記ポリマーが、オレフィンポリマーである、請求項8~10のいずれか一項に記載の複合体。
- 前記オレフィンポリマーが、シクロオレフィンポリマーである、請求項11に記載の複合体。
- 無機粒子、ポリマー、及びカップリング剤を少なくとも含む、ポリマー部材。
- 膜状又はフィルム状である、請求項13に記載のポリマー部材。
- 前記無機粒子の平均一次粒径が1~500nmである、請求項13又は14に記載のポリマー部材。
- 無機粒子、及びポリマーを少なくとも含む、ポリマー部材、並びに
ポリマーを少なくとも含む、追加のポリマー部材
を有する、複合ポリマー部材。 - 膜状又はフィルム状である、請求項16に記載の複合ポリマー部材。
- 前記無機粒子の平均一次粒径が1~500nmである、請求項16又は17に記載の複合ポリマー部材。
- 前記ポリマー部材及び前記追加のポリマー部材のうちの少なくともいずれかが、カップリング剤をさらに含む、請求項16~18のいずれか一項に記載の複合ポリマー部材。
- 前記ポリマー部材が、フィルム状であり、かつカップリング剤をさらに含み、
前記追加のポリマー部材が、フィルム状であり、無機粒子をさらに含み、かつカップリング剤を含んでおらず、かつ
フィルム状である、
請求項19に記載の複合ポリマー部材。 - 光学用である、請求項13~15のいずれか一項に記載のポリマー部材、及び請求項16~20のいずれか一項に記載の複合ポリマー部材。
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019043196 | 2019-03-08 | ||
JP2019043196 | 2019-03-08 | ||
JP2019219698 | 2019-12-04 | ||
JP2019219698 | 2019-12-04 | ||
JP2021505047A JP7285916B2 (ja) | 2019-03-08 | 2020-03-06 | ポリマー部材-無機基材複合体、その製造方法、及びそのためのポリマー部材 |
PCT/JP2020/009831 WO2020184475A1 (ja) | 2019-03-08 | 2020-03-06 | ポリマー部材-無機基材複合体、その製造方法、及びそのためのポリマー部材 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021505047A Division JP7285916B2 (ja) | 2019-03-08 | 2020-03-06 | ポリマー部材-無機基材複合体、その製造方法、及びそのためのポリマー部材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023052765A true JP2023052765A (ja) | 2023-04-12 |
Family
ID=72427910
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021505047A Active JP7285916B2 (ja) | 2019-03-08 | 2020-03-06 | ポリマー部材-無機基材複合体、その製造方法、及びそのためのポリマー部材 |
JP2023012003A Pending JP2023052765A (ja) | 2019-03-08 | 2023-01-30 | ポリマー部材-無機基材複合体、その製造方法、及びそのためのポリマー部材 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021505047A Active JP7285916B2 (ja) | 2019-03-08 | 2020-03-06 | ポリマー部材-無機基材複合体、その製造方法、及びそのためのポリマー部材 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20220176684A1 (ja) |
EP (1) | EP3936330A4 (ja) |
JP (2) | JP7285916B2 (ja) |
CN (1) | CN113490591A (ja) |
TW (1) | TW202045360A (ja) |
WO (1) | WO2020184475A1 (ja) |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5950401A (ja) * | 1982-09-16 | 1984-03-23 | Toray Ind Inc | 表示装置 |
GB9319612D0 (en) * | 1993-09-23 | 1993-11-10 | Ici Plc | Composite sheet |
KR100568491B1 (ko) * | 1997-07-04 | 2006-04-07 | 제온 코포레이션 | 반도체부품 접착제 |
JP4224894B2 (ja) * | 1999-06-04 | 2009-02-18 | チッソ株式会社 | 複合強化ポリオレフィン樹脂組成物の製造方法及びその製造装置 |
US6538210B2 (en) * | 1999-12-20 | 2003-03-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Circuit component built-in module, radio device having the same, and method for producing the same |
JP2006138898A (ja) * | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Kuraray Co Ltd | 赤外線透過部材およびこれを用いた赤外線カメラ並びに赤外線透過部材の製造方法 |
JP4505346B2 (ja) * | 2005-02-18 | 2010-07-21 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、偏光板、及びディスプレイ装置 |
JP4932225B2 (ja) * | 2005-04-08 | 2012-05-16 | 旭ファイバーグラス株式会社 | 環状ポリオレフィン樹脂組成物及び成形品 |
JP2007025078A (ja) * | 2005-07-13 | 2007-02-01 | Asahi Kasei Corp | 反射防止積層体 |
JP5789936B2 (ja) * | 2009-10-22 | 2015-10-07 | 住友化学株式会社 | 光学積層体及びその製造方法 |
JP2011122005A (ja) * | 2009-12-08 | 2011-06-23 | Sony Corp | 反射防止フィルム及びその製造方法、並びに紫外線硬化性樹脂材料組成物塗液 |
JP2013103456A (ja) | 2011-11-16 | 2013-05-30 | Kyoto Univ | 複合材料およびその製造方法 |
JP5998154B2 (ja) * | 2012-01-11 | 2016-09-28 | 株式会社クラレ | 熱可塑性重合体組成物および成形品 |
JP5950401B2 (ja) | 2012-09-18 | 2016-07-13 | トヨタ自動車株式会社 | 摺動部材の製造方法 |
CN106252533A (zh) * | 2015-06-10 | 2016-12-21 | 凸版印刷株式会社 | 蓄电装置用外装构件 |
JP7532020B2 (ja) * | 2018-09-28 | 2024-08-13 | 浜松ホトニクス株式会社 | テラヘルツ波用光学素子及びその製造方法 |
-
2020
- 2020-03-06 JP JP2021505047A patent/JP7285916B2/ja active Active
- 2020-03-06 TW TW109107380A patent/TW202045360A/zh unknown
- 2020-03-06 EP EP20769799.6A patent/EP3936330A4/en active Pending
- 2020-03-06 WO PCT/JP2020/009831 patent/WO2020184475A1/ja active Application Filing
- 2020-03-06 US US17/435,893 patent/US20220176684A1/en not_active Abandoned
- 2020-03-06 CN CN202080019311.6A patent/CN113490591A/zh active Pending
-
2023
- 2023-01-30 JP JP2023012003A patent/JP2023052765A/ja active Pending
- 2023-07-11 US US18/220,343 patent/US20230347636A1/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113490591A (zh) | 2021-10-08 |
EP3936330A1 (en) | 2022-01-12 |
US20220176684A1 (en) | 2022-06-09 |
JP7285916B2 (ja) | 2023-06-02 |
EP3936330A4 (en) | 2022-05-04 |
WO2020184475A1 (ja) | 2020-09-17 |
JPWO2020184475A1 (ja) | 2021-10-28 |
TW202045360A (zh) | 2020-12-16 |
US20230347636A1 (en) | 2023-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI554398B (zh) | 轉印膜 | |
JP5966928B2 (ja) | ガスバリア性フィルム | |
JP2017515935A (ja) | 有機エレクトロニクスデバイスをカプセル化するための接着テープ | |
JP7450356B2 (ja) | 熱変性ポリマー層-無機基材複合体、ポリマー部材-無機基材複合体、及びそれらの製造方法 | |
JP6201428B2 (ja) | フッ素系樹脂積層フィルム | |
JP7285916B2 (ja) | ポリマー部材-無機基材複合体、その製造方法、及びそのためのポリマー部材 | |
WO2019187275A1 (ja) | 流体デバイス用複合部材およびその製造方法 | |
JP2020166225A (ja) | テラヘルツ波用光学素子及びその製造方法 | |
Ulrén et al. | An FT-IR study on interfacial interactions in ethylene copolymers/aluminium laminates in relation to adhesion properties | |
JP2013105803A (ja) | 接合方法および接合体 | |
KR101362511B1 (ko) | 실리콘-탄소 복합체가 코팅된 나노입자가 기재상에 배열된 고투과도 초발수 표면의 제조방법 | |
Montmeat et al. | Initiated Chemical Vapor Deposition of polysiloxane as adhesive nanolayer for silicon wafer bonding | |
TWI693142B (zh) | 蛾眼轉印模具、蛾眼轉印模具之製造方法及蛾眼結構之轉印方法 | |
TW201801923A (zh) | 層合構造物及其製作方法 | |
JP5585983B2 (ja) | ダイヤモンドライクカーボン膜付基材の製造方法 | |
Komada et al. | Enhancement of adhesion by applying amine primer to isotactic polypropylene and open time dependence of primer effect | |
JP6720981B2 (ja) | ガスバリア性フィルム、およびその製造方法 | |
JP2021138112A (ja) | 支持基材及びポリマー部材を有しかつ無機粒子を有する複合体、その製造方法、並びにこの方法に好適なポリマー粒子 | |
JP4963009B2 (ja) | 透明性が改良された無機質膜−基板複合材料及びその製造方法 | |
Wang et al. | Morphology and Patterning Processes of Thin Organosilicon and Perfluorinated Bi‐Layer Plasma Polymer Films | |
Elam et al. | Control of the intrinsic microstructure in AP-PECVD synthesised amorphous silica thin films | |
JP3429897B2 (ja) | ペリクルの製造方法 | |
WO2024150748A1 (ja) | ガスバリア性積層体、包装容器及び包装製品 | |
Lai et al. | Effect of oxygen flow rate on the properties of SiOx films deposited by reactive magnetron sputtering | |
JP5915062B2 (ja) | 凹凸膜付きウエハ、凹凸膜付きウエハの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230302 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230302 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240521 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240719 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20241029 |