JP2023000270A - ウェーハの加工方法及び拡張装置 - Google Patents

Abstract

【課題】製造工程を増やすことなくダイアタッチフィルムの破片の飛散に起因するボンディング不良の発生を抑制することができること。【解決手段】ウェーハの加工方法は、ウェーハユニットを準備するウェーハユニット準備ステップ３０１と、ウェーハユニットのフレームを固定するフレーム固定ステップ３０２と、ウェーハユニットのエキスパンドシートのフレームの内周とウェーハの外周との間の領域を押圧してエキスパンドシートを拡張し、分割予定ラインに沿ってＤＡＦを破断して裏面にＤＡＦが貼着されたチップを複数形成する拡張ステップ３０３とを備え、拡張ステップ３０３では、ウェーハの外周からはみ出したＤＡＦの各押圧ローラーの回転軸方向の両端縁に対応する位置に上側ローラーを当接させ、上側ローラーと押圧ローラーとでエキスパンドシートとともにＤＡＦを挟み込んだ状態で拡張する。【選択図】図６

Description

本発明は、ウェーハの加工方法及び拡張装置に関する。

裏面にダイアタッチ層が積層されたデバイスチップを製造するために、ウェーハの裏面にダイアタッチフィルムを介して貼着されたテープを拡張する拡張装置を用いた方法が広く採用されている（例えば、特許文献１参照）。

一方、エキスパンド性を有したシート（エキスパンドシート）上にダイアタッチ層が積層された２ｉｎ１（ツーインワン）と呼ばれるテープが広く利用されている。

２ｉｎ１テープでは、ウェーハをエキスパンドシートに貼着する際に僅かに位置ずれが生じてもウェーハの裏面にダイアタッチフィルムが貼着されるように、一般にダイアタッチフィルムの直径はウェーハの直径よりも大きく形成されている。

その為エキスパンドシートを拡張した際にウェーハからはみ出したダイアタッチフィルムが破断し、エキスパンドシートから剥離し飛散するという問題が生じている。飛散したダイアタッチフィルムがデバイスの表面に付着するとボンディング不良を引き起こしかねない。

そこで、ウェーハからはみ出したダイアタッチフィルムを除去した後にシートをエキスパンドする方法も提案されている（例えば、特許文献２参照）。

特開２００６－０４９５９１号公報 特開２００８－１９２９４５号公報

しかし、特許文献２に示された方法は、エキスパンド前にはみ出したダイアタッチフィルムを除去するという工程が増える上、ダイアタッチフィルムが数ミクロン～数十ミクロンと薄く、エキスパンドシートに切り込まずにダイアタッチフィルムだけをウェーハの外周に沿って切断することが非常に難しい。エキスパンドシートに切り込みが形成されると、エキスパンド時に切り込みを起点にエキスパンドシートが破断するおそれがあるため、改善が切望されていた。

本発明の目的は、製造工程を増やすことなくダイアタッチフィルムの破片の飛散に起因するボンディング不良の発生を抑制することができるウェーハの加工方法、及び拡張装置を提供することである。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のウェーハの加工方法は、ウェーハの加工方法であって、分割予定ラインに沿って分割されたウェーハ又は分割予定ラインに沿って分割起点が形成されたウェーハと、ウェーハの裏面に貼着されウェーハの直径よりも大きい直径のダイアタッチフィルムと、該ダイアタッチフィルムを介してウェーハが貼着される被貼着面を含むエキスパンドシートと、該エキスパンドシートの外周が貼着されるフレームと、からなるウェーハユニットを準備するウェーハユニット準備ステップと、該ウェーハユニットの該フレームをフレーム固定ユニットで固定するフレーム固定ステップと、該フレーム固定ユニットで固定されたフレームを含む該ウェーハユニットの該エキスパンドシートの該フレームの内周とウェーハの外周との間の領域を該被貼着面の背面側から押圧ユニットで押圧して該エキスパンドシートを拡張し、該分割予定ラインに沿って該ダイアタッチフィルムを破断して裏面にダイアタッチフィルムが貼着されたチップを複数形成する拡張ステップと、を備え、該押圧ユニットは、該ウェーハを囲繞する環状に配置され、ウェーハの径方向への回転を許容する向きにそれぞれ配設されて該エキスパンドシートを押圧する複数の押圧ローラーを有し、該拡張ステップでは、ウェーハの外周からはみ出したダイアタッチフィルムにおける少なくとも各押圧ローラーの回転軸方向の両端縁に対応する位置に当接部材を当接させ、該当接部材と該押圧ローラーとで該エキスパンドシートとともに該ダイアタッチフィルムを挟み込んだ状態で拡張することで、該押圧ローラーの該回転軸方向の該両端縁で該ダイアタッチフィルムが破断し該エキスパンドシートから剥離することを防止することを特徴とする。

前記ウェーハの加工方法において、該当接部材は、該ウェーハを囲繞して環状に配置され、ウェーハの径方向への回転を許容する向きにそれぞれ配設されて該ダイアタッチフィルムに当接する複数の上側ローラーからなっても良い。

本発明の拡張装置は、分割予定ラインに沿って分割されたウェーハ又は分割予定ラインに沿って分割起点が形成されたウェーハと、ウェーハの裏面に貼着されウェーハの直径よりも大きい直径のダイアタッチフィルムと、該ダイアタッチフィルムを介してウェーハが貼着される被貼着面を含むエキスパンドシートと、該エキスパンドシートの外周が貼着されるフレームと、からなるウェーハユニットの該エキスパンドシートを拡張する拡張装置であって、該ウェーハユニットの該フレームを固定するフレーム固定ユニットと、該ウェーハを囲繞する環状に配置され、ウェーハの径方向への回転を許容する向きにそれぞれ配設されて該エキスパンドシートを押圧する複数の押圧ローラーを有し、該フレーム固定ユニットで固定されたフレームを含む該ウェーハユニットの該エキスパンドシートの該フレームの内周とウェーハの外周との間の領域を該被貼着面の背面側から押圧する押圧ユニットと、該押圧ユニットが該エキスパンドシートを押圧する際に、ウェーハの外周からはみ出したダイアタッチフィルムにおける少なくとも各押圧ローラーの回転軸方向の両端縁に対応する位置に当接する当接部材を有した押さえユニットと、を備え、該当接部材と該押圧ローラーとで該エキスパンドシートとともに該ダイアタッチフィルムを挟み込んだ状態で該エキスパンドシートを拡張することを特徴とする。

前記拡張装置において、該当接部材は、該ウェーハを囲繞して環状に配置され、ウェーハの径方向への回転を許容する向きにそれぞれ配設されて該ダイアタッチフィルムに当接する複数の上側ローラーからなっても良い。

本発明は、製造工程を増やすことなくダイアタッチフィルムの破片の飛散に起因するボンディング不良の発生を抑制することができるという効果を奏する。

図１は、実施形態１に係る拡張装置の構成例を示す斜視図である。 図２は、実施形態１に係る拡張装置の加工対象のウェーハユニットの一例を示す斜視図である。 図３は、図１に示された拡張装置の分割ユニットの構成例を模式的に示す断面図である。 図４は、図３に示された分割ユニットの押圧ローラーと上側ローラーとを示す平面図である。 図５は、図１に示された拡張装置のヒートシュリンクユニットの構成例を模式的に示す断面図である。 図６は、実施形態１に係るウェーハの加工方法の流れを示すフローチャートである。 図７は、図６に示されたウェーハの加工方法のフレーム固定ステップにおいて分割ユニットのフレーム固定ユニットがウェーハユニットのフレームを固定した状態の断面図である。 図８は、図７に示されたウェーハユニットのエキスパンドシートの領域に上側ローラーを当接させた状態の断面図である。 図９は、図６に示されたウェーハの加工方法の拡張ステップにおいて分割ユニットの拡張ドラムが上昇しエキスパンドシートが拡張した状態の断面図である。 図１０は、図６に示されたウェーハの加工方法のヒートシュリンクステップにおいてヒートシュリンクユニットのフレーム固定ユニットがウェーハユニットのフレームを固定した状態の断面図である。 図１１は、図６に示されたウェーハの加工方法のヒートシュリンクステップにおいてエキスパンドシートを拡張した状態の断面図である。 図１２は、図６に示されたウェーハの加工方法のヒートシュリンクステップのヒートシュリンクユニットの保持テーブルにウェーハユニットを吸引保持し、突き上げ部材及び保持テーブルを下降した状態の断面図である。 図１３は、図６に示されたウェーハの加工方法のヒートシュリンクステップにおいてエキスパンドシートの領域の弛みを加熱している状態の断面図である。 図１４は、図２に示されたウェーハユニットの変形例を示す斜視図である。

本発明を実施するための形態（実施形態）につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。

〔実施形態１〕
本発明の実施形態１に係る拡張装置を図面に基づいて説明する。図１は、実施形態１に係る拡張装置の構成例を示す斜視図である。図２は、実施形態１に係る拡張装置の加工対象のウェーハユニットの一例を示す斜視図である。図３は、図１に示された拡張装置の分割ユニットの構成例を模式的に示す断面図である。図４は、図３に示された分割ユニットの押圧ローラーと上側ローラーとを示す平面図である。図５は、図１に示された拡張装置のヒートシュリンクユニットの構成例を模式的に示す断面図である。

実施形態１に係る図１に示す拡張装置１は、図２に示すウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３を拡張する装置である。ウェーハユニット２００は、図２に示すように、ウェーハ２０１と、ダイアタッチフィルム（以下、ＤＡＦと記す）２０２と、エキスパンドシート２０３と、フレーム２０４とからなる。

実施形態１では、ウェーハ２０１は、シリコン、サファイア、ガリウムヒ素又はＳｉＣ（炭化ケイ素）などを基板とする円板状の半導体ウェーハや光デバイスウェーハ等である。ウェーハ２０１は、図２に示すように、表面２０５の互いに交差する複数の分割予定ライン２０６で区画された各領域にそれぞれデバイス２０７が形成されている。

ウェーハ２０１は、表面２０５の裏側の裏面２０８側から基板に対して透過性を有する波長のレーザ光線が分割予定ライン２０６に沿って照射されて、基板の内部に分割予定ライン２０６に沿って分割起点である改質層２０９（図２中に点線で示す）が形成されている。ウェーハ２０１は、改質層２０９を起点に個々のチップ２１０に分割される。なお、チップ２１０は、分割予定ライン２０６に沿って分割された基板の一部と、基板の表面に形成されたデバイス２０７とを備え、基板の裏面２０８に分割されたＤＡＦ２０２の一部が貼着されている。

なお、改質層２０９とは、密度、屈折率、機械的強度やその他の物理的特性が周囲のそれとは異なる状態になった領域のことを意味し、溶融処理領域、クラック領域、絶縁破壊領域、屈折率変化領域、及びこれらの領域が混在した領域等を例示できる。

ＤＡＦ２０２は、個々に分割されたチップ２１０を他のチップ又は基板等に固定するためのダイボンディング用の接着フィルムである。ＤＡＦ２０２は、ウェーハ２０１の直径よりも大きい直径の円板状に形成されている。ＤＡＦ２０２は、ウェーハ２０１の裏面２０８に貼着されている。

エキスパンドシート２０３は、伸縮性を有する樹脂から構成され、加熱されると収縮する熱収縮性を有する。エキスパンドシート２０３は、ウェーハ２０１及びＤＡＦ２０２の直径よりもおおきい直径の円板状に形成され、かつ、伸縮性及び熱収縮性を有する合成樹脂から構成された基材層と、基材層上に積層されかつウェーハ２０１に貼着するとともに伸縮性及び熱収縮性を有する合成樹脂から構成された粘着層とを備える。

粘着層の表面は、ＤＡＦ２０２が貼着され、ＤＡＦ２０２を介してウェーハ２０１の裏面２０８が貼着される被貼着面２１１である。即ち、エキスパンドシート２０３は、被貼着面２１１を含む。実施形態１では、粘着層は、紫外線が照射されることで、硬化し、粘着力が低下する合成樹脂により構成されている。

実施形態１では、エキスパンドシート２０３は、予め被貼着面２１１にＤＡＦ２０２が貼着されており、ＤＡＦ２０２にウェーハ２０１の裏面２０８に貼着されることで、ウェーハ２０１の裏面２０８にＤＡＦ２０２を介して貼着される、所謂２ｉｎ１と呼ばれるテープである。

フレーム２０４は、ウェーハ２０１及びＤＡＦ２０２の直径よりの内径が大きな円環状に形成されかつエキスパンドシート２０３の外周が貼着されている。

前述した構成のウェーハユニット２００は、エキスパンドシート２０３の被貼着面２１１に貼着されたＤＡＦ２０２にウェーハ２０１の裏面２０８が貼着され、エキスパンドシート２０３の外周にフレーム２０４が貼着されるなどして構成される。

図１に示す実施形態１に係る拡張装置１は、ウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３を拡張して、分割起点として改質層２０９が形成されたウェーハ２０１を分割予定ライン２０６に沿って個々のチップ２１０に分割するとともに、ＤＡＦ２０２をチップ２１０毎に分割する装置である。拡張装置１は、図１に示すように、装置本体２に設けられたカセットエレベータ３と、分割ユニット１０と、ヒートシュリンクユニット３０と、洗浄ユニット４０と、紫外線照射ユニット６０と、搬送ユニット５０と、制御手段である制御ユニット１００とを備える。

カセットエレベータ３は、装置本体２の水平方向と平行なＹ軸方向の一端に配置され、ウェーハユニット２００を複数収容するカセット４が着脱自在に載置される。カセット４は、複数のウェーハユニット２００を鉛直方向と平行なＺ軸方向に間隔をあけて収容する。カセット４は、ウェーハユニット２００を出し入れ自在な開口５を装置本体２のＹ軸方向の中央部に向けてカセットエレベータ３上に載置される。カセットエレベータ３は、カセット４をＺ軸方向に昇降させる。

また、拡張装置１は、カセット４に出し入れされるウェーハユニット２００が仮置きされる一対の第１ガイドレール６と、一対の第２ガイドレール７とを備える。一対の第１ガイドレール６は、Ｙ軸方向と平行であるとともに、水平方向と平行でかつＹ軸方向と直交するＸ軸方向に互いに間隔をあけて配置される。一対の第１ガイドレール６は、カセットエレベータ３に載置されるカセット４の開口５のＸ軸方向の両端とＹ軸方向に並ぶように、装置本体２のＹ軸方向の中央に配置されている。一対の第１ガイドレール６は、図示しない駆動機構によりＸ軸方向に移動自在に設けられ、駆動機構により互いに近づいたり離れる。一対の第１ガイドレール６は、カセット４に出し入れされるウェーハユニット２００が載置され、駆動機構により互いに近付くとウェーハユニット２００をＸ軸方向に位置決めする。

一対の第２ガイドレール７は、第１ガイドレール６から搬送ユニット５０により搬送されてきたウェーハユニット２００等が仮置きされるものである。一対の第２ガイドレール７は、Ｙ軸方向と平行であるとともに、水平方向と平行でかつＸ軸方向に互いに間隔をあけて配置される。一対の第２ガイドレール７は、装置本体２のＹ軸方向の中央に配置され、第１ガイドレール６のＸ軸方向の隣りに配置されている。一対の第２ガイドレール７は、図示しない駆動機構によりＸ軸方向に移動自在に設けられ、駆動機構により互いに近づいたり離れる。一対の第２ガイドレール７は、第１ガイドレール６から搬送されてきたウェーハユニット２００等が載置され、駆動機構により互いに近付くとウェーハユニット２００をＸ軸方向に位置決めする。

搬送ユニット５０は、カセット４と第１ガイドレール６上との間、及び第１ガイドレール６上と紫外線照射ユニット６０との間でウェーハユニット２００を搬送する第１搬送ユニット５１と、第１ガイドレール６と第２ガイドレール７との間及び第２ガイドレール７とヒートシュリンクユニット３０と、ヒートシュリンクユニット３０と洗浄ユニット４０との間、洗浄ユニット４０と第１ガイドレール６上との間でウェーハユニット２００を搬送する第２搬送ユニット５２と、第２ガイドレール７と分割ユニット１０との間でウェーハユニット２００を搬送する第３搬送ユニット５３とを備える。

分割ユニット１０は、一対の第２ガイドレール７のＹ軸方向の一方側の隣に配置されている。分割ユニット１０は、図３に示すように、フレーム固定ユニット１１と、押圧ユニット１２と、押さえユニット１３とを備える。フレーム固定ユニット１１と、押圧ユニット１２と、押さえユニット１３とは、装置本体２の一対の第２ガイドレール７のＹ軸方向の一方側の隣に配置された内側が冷却される冷却チャンバー１４（図１に示す）内に収容されている。

フレーム固定ユニット１１は、ウェーハユニット２００のフレーム２０４を固定するものであって、フレーム載置プレート１５と、フレーム押さえプレート１６とを備える。フレーム載置プレート１５は、平面形状が円形の開口部１５１が設けられ、かつ上面１５２が水平方向と平行に平坦に形成された板状に形成されている。フレーム載置プレート１５の開口部１５１の内径は、フレーム２０４の内径よりも若干小さくＤＡＦ２０２の直径よりも大きく形成されている。フレーム載置プレート１５は、開口部１５１上にウェーハ２０１が位置する状態でウェーハユニット２００のフレーム２０４が上面１５２に載置される。

実施形態１では、フレーム載置プレート１５は、上面１５２が第２ガイドレール７でＸ軸方向に位置決めされたウェーハユニット２００のフレーム２０４の下面と同一平面上となる位置からシリンダ１７によりＺ軸方向に上昇する。即ち、フレーム載置プレート１５は、シリンダ１７の伸縮自在なロッド１７１の先端に取り付けられてシリンダ１７のロッド１７１が伸縮することでＺ軸方向に昇降自在に設けられている。

フレーム押さえプレート１６は、フレーム載置プレート１５の上方に固定されている。フレーム押さえプレート１６は、フレーム載置プレート１５とほぼ同寸法の板状に形成され、中央に開口部１５１と同寸法の円形の開口部１６１が設けられている。フレーム押さえプレート１６の開口部１６１は、フレーム載置プレート１５の開口部１５１と同軸に配置されている。

フレーム固定ユニット１１は、ロッド１７１が縮小して下方に位置するフレーム載置プレート１５の上面１５２に第３搬送ユニット５３によりウェーハユニット２００が搬送されてくる。フレーム固定ユニット１１は、フレーム載置プレート１５の上面１５２にウェーハユニット２００のフレーム２０４が載置された後、シリンダ１７のロッド１７１が伸張してフレーム載置プレート１５が上昇する。フレーム固定ユニット１１は、フレーム押さえプレート１６と上昇したフレーム載置プレート１５との間にウェーハユニット２００のフレーム２０４を挟んで固定する。

押圧ユニット１２は、フレーム固定ユニット１１で固定されたフレーム２０４を含むウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３のフレーム２０４の内周とウェーハ２０１の外周との間の領域２１２（図２に示す）を被貼着面２１１の背面側である基材層側から押圧するものである。押圧ユニット１２は、拡張ドラム１２１と、複数の押圧ローラー１２２とを備える。

実施形態１において、拡張ドラム１２１は、下方が閉塞された円筒状に形成され、直径がフレーム載置プレート１５の上面１５２に載置されるフレーム２０４の内径よりも小さく、内径がエキスパンドシート２０３に貼着されるウェーハ２０１の直径よりも大きく形成されている。拡張ドラム１２１は、フレーム固定ユニット１１の開口部１５１，１６１と同軸に配置されている。

押圧ローラー１２２は、円柱状に形成され、拡張ドラム１２１の上端に軸心（以下回転軸と記す）回りに回転自在に支持されている。押圧ローラー１２２は、図４に示すように、周方向に等間隔に配置されている。押圧ローラー１２２は、直径がフレーム載置プレート１５の上面１５２に載置されるフレーム２０４の内径よりも小さく内径がエキスパンドシート２０３に貼着されるウェーハ２０１の直径よりも大きな拡張ドラム１２１の上端に等間隔に配置されることで、平面視において、ウェーハ２０１を囲繞する環状に配置されている。

押圧ローラー１２２は、回転軸が平面視における拡張ドラム１２１の接線と平行に配置されている。押圧ローラー１２２は、拡張ドラム１２１の上端に平面視における拡張ドラム１２１の接線と平行な回転軸回りに回転自在に支持されることにより、ウェーハ２０１の径方向への回転を許容する向きにそれぞれ配設されている。

拡張ドラム１２１は、シリンダ１８に取り付けられ、シリンダ１８によりＺ軸方向に昇降する。即ち、拡張ドラム１２１は、シリンダ１８の伸縮自在なロッド１８１の先端に取り付けられてシリンダ１８のロッド１８１が伸縮することでＺ軸方向に昇降自在に設けられている。

実施形態１では、拡張ドラム１２１は、シリンダ１８により押圧ローラー１２２の上端がフレーム２０４を固定したフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５の上面１５２よりも下側に位置する位置と、押圧ローラー１２２の上端がフレーム２０４を固定したフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５の上面１５２よりも上側に位置する位置とに亘ってＺ軸方向に昇降する。

シリンダ１８により上昇すると押圧ローラー１２２の上端がフレーム２０４を固定したフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５の上面１５２よりも上側に位置するので、押圧ローラー１２２は、フレーム固定ユニット１１により固定されたウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３のフレーム２０４の内周とウェーハ２０１の外周との間の領域２１２を押圧する。実施形態１では、押圧ローラー１２２は、エキスパンドシート２０３の領域２１２に貼着されかつウェーハ２０１の外周からはみ出したＤＡＦ２０２を押圧する。

押さえユニット１３は、フレーム固定ユニット１１により固定されるウェーハユニット２００よりも上方に配置されている。押さえユニット１３は、図に示すように、押さえドラム１３１と、複数の当接部材である上側ローラー１３２とを備える。押さえドラム１３１は、内外径が各拡張ドラム１２１の内外径と同径でかつ上方が閉塞された円筒状に形成されている。押さえドラム１３１は、フレーム固定ユニット１１の開口部１５１，１６１、即ち拡張ドラム１２１と同軸に配置されている。

上側ローラー１３２は、円柱状に形成され、押さえドラム１３１の下端に軸心（以下回転軸と記す）回りに回転自在に支持されている。上側ローラー１３２は、図４に示すように、周方向に等間隔に配置され、平面視において、押圧ローラー１２２間に重なる位置、即ち、押圧ローラー１２２の回転軸方向の両端縁に重なる位置に配置されている。

実施形態１では、上側ローラー１３２は、押圧ローラー１２２と同形状に形成されている。上側ローラー１３２は、内外径が拡張ドラム１２１と同径の押さえドラム１３１の下端に等間隔に配置されることで、平面視において、ウェーハ２０１を囲繞する環状に配置されている。

上側ローラー１３２は、回転軸が平面視における押さえドラム１３１の接線と平行に配置されている。押圧ローラー１２２は、押さえドラム１３１の下端に平面視における押さえドラム１３１の接線と平行な回転軸回りに回転自在に支持されることにより、ウェーハ２０１の径方向への回転を許容する向きにそれぞれ配設されている。

押さえドラム１３１は、シリンダ１９に取り付けられ、シリンダ１９によりＺ軸方向に昇降する。即ち、押さえドラム１３１は、シリンダ１９の伸縮自在なロッド１９１の先端に取り付けられてシリンダ１９のロッド１９１が伸縮することでＺ軸方向に昇降自在に設けられている。

実施形態１では、押さえドラム１３１は、シリンダ１９のロッド１９１の伸縮により上側ローラー１３２の下端がフレーム２０４を固定したフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５の上面１５２と同一平面上に位置する位置と、上側ローラー１３２の下端がフレーム２０４を固定したフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５の上面１５２よりも上側に位置する位置とに亘ってＺ軸方向に昇降する。

シリンダ１９のロッド１９１が伸長することにより下降すると上側ローラー１３２の下端がフレーム２０４を固定したフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５の上面１５２と同一平面上に位置するので、上側ローラー１３２は、押圧ユニット１２がエキスパンドシート２０３を押圧する際に、ウェーハ２０１の外周からはみ出したＤＡＦ２０２における少なくとも各押圧ローラー１２２の回転軸方向の両端縁に対応する位置に当接する。

また、押さえユニット１３は、シリンダ１９のロッド１９１と押さえドラム１３１との間に、これらに固定された付勢手段であるばね２０を備えている。ばね２０は、伸縮することでシリンダ１９のロッド１９１に対して押さえドラム１３１及び上側ローラー１３２をＺ軸方向に昇降自在とする。ばね２０は、伸縮することで、上側ローラー１３２の下端がフレーム２０４を固定したフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５の上面１５２と同一平面上に位置する位置からロッド１９１が伸縮することなく上側ローラー１３２がＺ軸方向に昇降することを許容する。

実施形態１において、分割ユニット１０は、平面視において、押圧ローラー１２２と上側ローラー１３２とを回転軸が同一の円上に位置するように、押圧ローラー１２２と上側ローラー１３２とを回転軸がＺ軸方向に重なる位置に配置している。

分割ユニット１０は、フレーム固定ユニット１１でウェーハユニット２００のフレーム２０４を固定し、押さえドラム１３１を上側ローラー１３２の下端がフレーム２０４を固定したフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５の上面１５２と同一平面上に位置する位置に位置付け、拡張ドラム１２１を押圧ローラー１２２の上端がフレーム２０４を固定したフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５の上面１５２よりも下側に位置する位置から上昇させて、ウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３のフレーム２０４の内周とウェーハ２０１の外周との間の領域２１２を押圧して、エキスパンドシート２０３を面方向に拡張する。また、分割ユニット１０は、エキスパンドシート２０３を一旦拡張した後、拡張ドラム１２１を下降することで、ウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３のフレーム２０４の内周とウェーハ２０１の外周との間の領域２１２に弛みを形成する。

ヒートシュリンクユニット３０は、一対の第２ガイドレール７のＹ軸方向の他方側の隣に配置されている。ヒートシュリンクユニット３０は、図５に示すように、保持テーブル３２と、フレーム固定ユニット３１と、シート拡張ユニット３６と、加熱ユニット３７とを備える。

保持テーブル３２は、エキスパンドシート２０３を介してウェーハユニット２００のウェーハ２０１を吸引保持する保持面３２１を有するものである。保持テーブル３２は、フレーム２０４の内径よりも直径が小径な円板形状であり、ステンレス鋼等の金属からなる円板状の枠体３２２と、ポーラスセラミック等の多孔質材で構成されかつ枠体３２２により囲繞された円板状の吸着部３２３とを備える。

枠体３２２と吸着部３２３の上面は、同一平面上に配置されて、ウェーハ２０１を吸引保持する保持面３２１を構成している。吸着部３２３は、ウェーハ２０１と略同径である。吸着部３２３は、枠体３２２等に形成された吸引路３２４を介してエジェクタ等の吸引源３２５に接続されている。吸引路３２４は、開閉弁３２６が設けられている。

保持テーブル３２は、保持面３２１に第２搬送ユニット５２により搬送されてきたウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３を介してウェーハ２０１の裏面２０８側が載置される。保持テーブル３２は、開閉弁３２６が開くことなどにより、吸引源３２５により保持面３２１の吸着部３２３が吸引されることで、ウェーハ２０１の裏面２０８側を保持面３２１に吸引保持する。

フレーム固定ユニット３１は、ウェーハユニット２００のフレーム２０４を固定するものである。フレーム固定ユニット３１は、フレーム載置プレート３３と、フレーム押さえプレート３４とを備える。フレーム載置プレート３３は、平面形状が円形の開口部３３１が設けられ、かつ上面３３２が水平方向と平行に平坦に形成された板状に形成されている。フレーム載置プレート３３の開口部３３１の内径は、フレーム２０４の内径よりも若干小さくＤＡＦ２０２の直径よりも大きく形成されている。フレーム載置プレート３３は、開口部３３１内に保持テーブル３２を配置し、開口部３３１が保持テーブル３２と同軸に配置されている。フレーム載置プレート３３は、図１に示すように、上面３３２の四隅に水平方向に移動自在に設けられ、かつ水平方向に移動することによりフレーム２０４の位置を調整して、ウェーハ２０１を保持テーブル３２の保持面３２１の吸着部３２３と同軸となる位置に位置決めするセンタリングガイド３３３が設けられている。

また、フレーム載置プレート３３は、シリンダ３５によりＺ軸方向に昇降自在に設けられている。即ち、フレーム載置プレート３３は、シリンダ３５の伸縮自在なロッド３５１の先端に取り付けられてシリンダ３５のロッド３５１が伸縮することでＺ軸方向に昇降自在に設けられている。

フレーム押さえプレート３４は、フレーム載置プレート３３とほぼ同寸法の板状に形成され、中央に開口部３３１と同寸法の円形の開口部３４１が設けられている。フレーム押さえプレート３４は、図示しないシリンダのピストンロッドの先端に取り付けられ、ピストンロッドがＹ軸方向に沿って伸縮することにより、フレーム載置プレート３３の上方の位置と、フレーム載置プレート３３の上方から退避した位置とに亘って移動自在である。フレーム押さえプレート３４は、図１に示すように、四隅にセンタリングガイド３３３が侵入可能な長孔３４２が設けられている。

フレーム固定ユニット３１は、フレーム押さえプレート３４がフレーム載置プレート３３の上方から退避した位置に位置付けられ、センタリングガイド３３３同士が互いに離れた状態で、フレーム載置プレート３３の上面３３２に第２搬送ユニット５２により搬送されてきたウェーハユニット２００のフレーム２０４が載置される。フレーム固定ユニット３１は、センタリングガイド３３３同士を近づけて、ウェーハユニット２００のウェーハ２０１を位置決めする。フレーム固定ユニット３１は、フレーム押さえプレート３４をフレーム載置プレート３３の上方に位置付け、フレーム載置プレート３３がシリンダ３５により上昇されて、ウェーハユニット２００のフレーム２０４をフレーム載置プレート３３とフレーム押さえプレート３４との間に挟んで固定する。

シート拡張ユニット３６は、保持テーブル３２とフレーム固定ユニット３１とを鉛直方向に沿う軸心に沿って互いに離れる位置に相対的に移動させ、エキスパンドシート２０３を拡張するものである。シート拡張ユニット３６は、図５に示すように、突き上げ部材３６１と、突き上げ部材昇降ユニット３６２と、保持テーブル昇降ユニット３６３とを備える。

突き上げ部材３６１は、円筒状に形成され、直径がフレーム載置プレート３３の上面３３２に載置されるフレーム２０４の内径よりも小さく、内径がエキスパンドシート２０３に貼着されるウェーハ２０１及び保持テーブル３２の直径よりも大きく形成されている。突き上げ部材３６１は、内側に保持テーブル３２を配置し、保持テーブル３２と同軸に配置されている。突き上げ部材３６１の上端には、押圧ローラー３６４が回転自在に取り付けられている。

突き上げ部材昇降ユニット３６２は、押圧ローラー３６４が下降したフレーム載置プレート３３の上面３３２よりも下方に位置する位置と、上昇したフレーム載置プレート３３の上面３３２よりも上方に位置する位置とに亘って、突き上げ部材３６１をＺ軸方向に昇降させるものである。

保持テーブル昇降ユニット３６３は、保持面３２１が下降したフレーム載置プレート３３の上面３３２よりも下方に位置する位置と、上昇したフレーム載置プレート３３の上面３３２よりも上方に位置する位置とに亘って、保持テーブル３２をＺ軸方向に昇降させるものである。

加熱ユニット３７は、分割ユニット１０によりエキスパンドシート２０３が拡張されて形成されたエキスパンドシート２０３のフレーム２０４とウェーハ２０１との間の領域２１２の弛みを加熱して収縮させるものである。加熱ユニット３７は、Ｚ軸方向に移動自在でかつＺ軸方向と平行な軸心回りに回転する複数の加熱部３７１とを備える。

加熱部３７１は、フレーム固定ユニット３１で固定されたフレーム２０４を含むウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３の領域２１２の上方に周方向に等間隔に配置されて、エキスパンドシート２０３の領域２１２に対応した円上に配置されている。加熱部３７１は、保持テーブル３２及びフレーム固定ユニット３１に保持されたウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３の領域２１２とＺ軸方向に対面する位置に配置されている。実施形態１において、加熱部３７１は、周方向に等間隔に四つ設けられているが、本発明では、四つに限定されない。

加熱部３７１は、赤外線を下方に照射して、エキスパンドシート２０３の領域２１２を加熱する形式のもの、例えば、電圧が印加されると加熱されて、赤外線を放射する赤外線セラミックヒータである。加熱部３７１は、保持テーブル３２の軸心と同軸な軸心回りに回転して、エキスパンドシート２０３の前述した領域２１２上を旋回する。

加熱ユニット３７は、加熱部３７１が下降して、保持テーブル３２及びフレーム固定ユニット３１に保持されたウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３の領域２１２と鉛直方向に対面し、軸心回りに回転して、エキスパンドシート２０３の前述した領域２１２上を旋回することで、エキスパンドシート２０３の領域２１２の弛みを加熱、収縮させる。

洗浄ユニット４０は、分割ユニット１０によりエキスパンドシート２０３が拡張され、ヒートシュリンクユニット３０により弛みが加熱、収縮されたウェーハユニット２００の主にウェーハ２０１を洗浄するものである。洗浄ユニット４０は、一対の第１ガイドレール６の下方に配置されかつウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３を介してウェーハ２０１を吸引保持するスピンナーテーブル４１と、スピンナーテーブル４１に吸引保持されたウェーハ２０１の表面２０５に洗浄水を供給する図示しない洗浄水供給ノズルとを備える。

洗浄ユニット４０は、一対の第１ガイドレール６同士が離れると、第２搬送ユニット５２によりヒートシュリンクユニット３０により弛みが加熱され、収縮されたウェーハユニット２００がスピンナーテーブル４１上に載置される。洗浄ユニット４０は、スピンナーテーブル４１をＺ軸方向と平行な軸心回りに回転しながら洗浄水供給ノズルから洗浄水をウェーハ２０１の表面２０５に供給して、ウェーハ２０１を洗浄する。

紫外線照射ユニット６０は、洗浄ユニット４０により洗浄されたウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３に紫外線を照射して、粘着層を硬化させて、粘着層の粘着力を低下させるものである。紫外線照射ユニット６０は、装置本体２のＹ軸方向の他端に配置され、第１ガイドレール６のＹ軸方向の一方側の隣に配置されている。

紫外線照射ユニット６０は、第１搬送ユニット５１により第１ガイドレール６上の洗浄後のウェーハユニット２００が搬入され、搬入されてきたウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３に所定時間紫外線を照射する。紫外線照射ユニット６０は、第１搬送ユニット５１により紫外線を照射したウェーハユニット２００が第１ガイドレール６上に搬出される。

制御ユニット１００は、拡張装置１の上述した構成要素、即ち、少なくとも加熱手段３８等を制御して、ウェーハ２０１に対する加工動作を拡張装置１に実施させるものである。なお、制御ユニット１００は、ＣＰＵ（central processing unit）のようなマイクロプロセッサを有する演算処理装置と、ＲＯＭ（read only memory）又はＲＡＭ（random access memory）のようなメモリを有する記憶装置と、入出力インターフェース装置とを有するコンピュータである。制御ユニット１００の演算処理装置は、記憶装置に記憶されているコンピュータプログラムに従って演算処理を実施して、拡張装置１を制御するための制御信号を、入出力インターフェース装置を介して拡張装置１の上述した構成要素に出力する。

制御ユニット１００は、加工動作の状態や画像などを表示する液晶表示装置などにより構成される図示しない表示ユニットと、オペレータが加工内容情報などを登録する際に用いる図示しない入力ユニットとに接続されている。入力ユニットは、表示ユニットに設けられたタッチパネルと、キーボード等の外部入力装置とのうち少なくとも一つにより構成される。

次に、実施形態１に係るウェーハの加工方法を説明する。図６は、実施形態１に係るウェーハの加工方法の流れを示すフローチャートである。実施形態１に係るウェーハの加工方法は、ウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３を拡張して、ウェーハ２０１を改質層２０９を起点に破断して、ウェーハ２０１を個々のチップ２１０に分割するとともに、ＤＡＦ２０２を分割予定ライン２０６に沿って個々のチップ２１０毎に分割する方法である。ウェーハの加工方法は、図６に示すように、ウェーハユニット準備ステップ３０１と、フレーム固定ステップ３０２と、拡張ステップ３０３と、ヒートシュリンクステップ３０４と、洗浄ステップ３０５と、紫外線照射ステップ３０６とを備える。

（ウェーハユニット準備ステップ）
ウェーハユニット準備ステップ３０１は、前述した構成のウェーハユニット２００を準備するステップである。ウェーハユニット準備ステップ３０１では、エキスパンドシート２０３に貼着されたＤＡＦ２０２にウェーハ２０１の裏面２０８を貼着し、エキスパンドシート２０３の外周にフレーム２０４を焼灼して、ウェーハユニット２００を構成する。実施形態１において、ウェーハユニット準備ステップ３０１では、オペレータ等がウェーハユニット２００をカセット４に収容し、拡張装置１は、複数のウェーハユニット２００が収容されたカセット４がカセットエレベータ３上に載置される。

また、実施形態１において、ウェーハユニット準備ステップ３０１では、入力ユニットを介して加工内容情報を制御ユニット１００が受け付けて記憶装置に記憶する、実施形態１において、フレーム固定ステップ３０２では、制御ユニット１００がオペレータからの加工開始指示を受け付けると、フレーム固定ステップ３０２に進む。

（フレーム固定ステップ）
図７は、図６に示されたウェーハの加工方法のフレーム固定ステップにおいて分割ユニットのフレーム固定ユニットがウェーハユニットのフレームを固定した状態の断面図である。図８は、図７に示されたウェーハユニットのエキスパンドシートの領域に上側ローラーを当接させた状態の断面図である。

フレーム固定ステップ３０２は、ウェーハユニット２００のフレーム２０４を分割ユニット１０のフレーム固定ユニット１１で固定するステップである。フレーム固定ステップ３０２では、拡張装置１は、分割ユニット１０の拡張ドラム１２１を下降した状態で、カセット４から第１搬送ユニット５１でウェーハユニット２００を１枚取り出し、ウェーハユニット２００を一対の第１ガイドレール６上に仮置きした後、一対の第１ガイドレール６同士を近づけてウェーハユニット２００をＸ軸方向に位置決めする。

フレーム固定ステップ３０２では、拡張装置１は、第２搬送ユニット５２で第１ガイドレール６上のウェーハユニット２００を第２ガイドレール７上に搬送し、一対の第２ガイドレール７を互いに近づけてウェーハユニット２００をＸ軸方向に位置決めする。フレーム固定ステップ３０２では、拡張装置１は、図７に示すように、第３搬送ユニット５３で一対の第２ガイドレール７上のウェーハユニット２００を分割ユニット１０の下降したフレーム載置プレート１５の上面１５２上に搬送する。

フレーム固定ステップ３０２では、拡張装置１は、図８に示すように、分割ユニット１０のフレーム載置プレート１５を上昇して、フレーム２０４をフレーム押さえプレート１６とフレーム載置プレート１５との間で挟んでウェーハユニット２００を固定する。フレーム固定ステップ３０２では、拡張装置１は、図８に示すように、分割ユニット１０の押さえドラム１３１を下降して、上側ローラー１３２の下端をフレーム固定ユニット１１が固定したフレーム２０４を含むウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３の領域２１２に当接させる。

（拡張ステップ）
図９は、図６に示されたウェーハの加工方法の拡張ステップにおいて分割ユニットの拡張ドラムが上昇しエキスパンドシートが拡張した状態の断面図である。拡張ステップ３０３は、フレーム固定ユニット１１で固定されたフレーム２０４を含むウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３の領域２１２を基材層側から押圧ユニット１２で押圧してエキスパンドシート２０３を拡張し、分割予定ライン２０６に沿ってＤＡＦ２０２を破断して、裏面２０８にＤＡＦ２０２が貼着されたチップ２１０を複数形成するステップである。

拡張ステップ３０３では、拡張装置１は、拡張ドラム１２１を上昇させる。すると、エキスパンドシート２０３の領域２１２に拡張ドラム１２１の上端に設けられた押圧ローラー１２２が当接し、押圧ローラー１２２が領域２１２を下方から上方に向けて押圧し、エキスパンドシート２０３が面方向に拡張される。拡張ステップ３０３では、エキスパンドシート２０３の拡張の結果、エキスパンドシート２０３に放射状に引張力が作用する。

このようにウェーハ２０１の裏面２０８に貼着されたエキスパンドシート２０３に放射状に引張力が作用すると、ウェーハ２０１は、分割予定ライン２０６に沿って改質層２０９が形成されているので、改質層２０９を基点として、分割予定ライン２０６に沿って個々のチップ２１０に分割される。また、ウェーハ２０１は、チップ２１０間が広がり、チップ２１０間に間隔が形成される。また、エキスパンドシート２０３に放射状に引張力が作用すると、ＤＡＦ２０２が改質層２０９即ち分割予定ライン２０６に沿って個々のチップ２１０毎に破断する。

また、拡張ステップ３０３では、拡張装置１は、ウェーハ２０１の外周からはみ出したＤＡＦ２０２における少なくとも各押圧ローラー１２２の回転軸方向の両端縁に対応する位置に上側ローラー１３２を当接させ、ばね２０の付勢力に抗して、上側ローラー１３２と押圧ローラー１２２とを上昇させる。このために、拡張ステップ３０３では、拡張装置１は、ばね２０が上側ローラー１３２を押圧ローラー１２２に向かって押圧する弾性復元力を生じながら押圧ローラー１２２が領域２１２を下方から上方に向けて押圧して、上側ローラー１３２と押圧ローラー１２２とでエキスパンドシート２０３とともにＤＡＦ２０２を挟み込んだ状態で拡張する。

このように、拡張ステップ３０３では、拡張装置１が、上側ローラー１３２と押圧ローラー１２２とでエキスパンドシート２０３とともにＤＡＦ２０２を挟み込んだ状態で拡張するので、押圧ローラー１２２の回転軸方向の両端縁でＤＡＦ２０２が破断してエキスパンドシート２０３から剥離することを防止することができる。拡張ステップ３０３では、拡張装置１は、分割ユニット１０の拡張ドラム１２１が下降させる。すると、ウェーハユニット２００は、エキスパンドシート２０３が一旦拡張しているために、エキスパンドシート２０３の領域２１２に弛みが形成される。

（ヒートシュリンクステップ）
図１０は、図６に示されたウェーハの加工方法のヒートシュリンクステップにおいてヒートシュリンクユニットのフレーム固定ユニットがウェーハユニットのフレームを固定した状態の断面図である。図１１は、図６に示されたウェーハの加工方法のヒートシュリンクステップにおいてエキスパンドシートを拡張した状態の断面図である。図１２は、図６に示されたウェーハの加工方法のヒートシュリンクステップのヒートシュリンクユニットの保持テーブルにウェーハユニットを吸引保持し、突き上げ部材及び保持テーブルを下降した状態の断面図である。図１３は、図６に示されたウェーハの加工方法のヒートシュリンクステップにおいてエキスパンドシートの領域の弛みを加熱している状態の断面図である。

ヒートシュリンクステップ３０４は、ウェーハユニットのエキスパンドシート２０３の領域２１２の弛みを加熱、収縮させるステップである。ヒートシュリンクステップ３０４では、拡張装置１は、分割ユニット１０のフレーム固定ユニット１１のフレーム載置プレート１５を下降し、第３搬送ユニット５３でフレーム載置プレート３３上のウェーハユニット２００を一対の第２ガイドレール７上に搬送する。

ヒートシュリンクステップ３０４では、拡張装置１は、ヒートシュリンクユニット３０の突き上げ部材３６１及び保持テーブル３２が下降し、フレーム固定ユニット３１のフレーム押さえプレート３４を退避位置に位置付けた状態で、第２搬送ユニット５２で第２ガイドレール７上のウェーハユニット２００を、フレーム載置プレート３３の上面３３２上に搬送する。

ヒートシュリンクステップ３０４では、拡張装置１は、フレーム固定ユニット３１のセンタリングガイド３３３同士を近づけて、ウェーハユニット２００のウェーハ２０１を位置決めする。ヒートシュリンクステップ３０４では、拡張装置１は、フレーム載置プレート３３を上昇させて、図１０に示すように、フレーム２０４をフレーム載置プレート３３とフレーム押さえプレート３４との間に挟んでウェーハユニット２００を固定する。

ヒートシュリンクステップ３０４では、拡張装置１は、ヒートシュリンクユニット３０の突き上げ部材３６１及び保持テーブル３２を上昇させて、図１１に示すように、拡張されたエキスパンドシート２０３の領域２１２を張り、チップ２１０間に間隔を形成する。ヒートシュリンクステップ３０４では、拡張装置１は、開閉弁３２６を開き、吸引源３２５により吸着部３２３を吸引して、ウェーハ２０１の裏面２０８側をエキスパンドシート２０３を介して保持面３２１に吸引保持して、チップ２１０間の間隔を維持する。

ヒートシュリンクステップ３０４では、拡張装置１は、図１２に示すように、突き上げ部材３６１をフレーム載置プレート３３の上面３３２よりも下方まで下降させ、保持テーブル３２を保持面３２１がフレーム載置プレート３３の上面３３２と同一平面上に位置するまで下降させる。すると、エキスパンドシート２０３の領域２１２に弛みが生じる。

ヒートシュリンクステップ３０４では、拡張装置１は、ヒートシュリンクユニット３０の加熱ユニット３７を下降させ、加熱部３７１をエキスパンドシート２０３の領域２１２に対面させる。実施形態１において、ヒートシュリンクステップ３０４では、拡張装置１は、ヒートシュリンクユニット３０が加熱ユニット３７の全ての加熱部３７１を駆動し、全ての加熱部３７１から赤外線を放射させながら加熱部３７１を領域２１２の上方で所定回数旋回させる。こうして、ヒートシュリンクステップ３０４では、拡張装置１は、領域２１２の弛みを全周に亘って加熱し、収縮させる。

（洗浄ステップ）
洗浄ステップ３０５は、ヒートシュリンクステップ３０４を実施した後、ウェーハ２０１を洗浄ユニット４０で洗浄するステップである。洗浄ステップ３０５では、拡張装置１は、ヒートシュリンクユニット３０の加熱ユニット３７の加熱部３７１の回転及び加熱を停止し、ヒートシュリンクユニット３０のフレーム固定ユニット３１のフレーム載置プレート３３を下降し、保持テーブル３２の吸引保持等を停止する。洗浄ステップ３０５では、拡張装置１は、第２搬送ユニット５２でウェーハユニット２００を洗浄ユニット４０まで搬送する。洗浄ステップ３０５では、拡張装置１は、ウェーハユニット２００を洗浄ユニット４０で洗浄する。

（紫外線照射ステップ）
紫外線照射ステップ３０６は、洗浄後のウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３に紫外線を照射するステップである。紫外線照射ステップでは、拡張装置１は、第２搬送ユニット５２及び第１搬送ユニット５１でウェーハユニット２００を洗浄ユニット４０から紫外線照射ユニット６０に搬送する。

紫外線照射ステップ３０６では、拡張装置１は、ウェーハユニット２００を紫外線照射ユニット６０で所定時間紫外線を照射した後、第１搬送ユニット５１でカセット４内に収容する。拡張装置１は、カセット４内のウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３を順に拡張してウェーハ２０１を個々のチップ２１０に分割し、カセット４内の全てのウェーハユニット２００のエキスパンドシート２０３を拡張してウェーハ２０１を個々のチップ２１０に分割すると、加工動作を終了する。

以上説明したように、実施形態１に係るウェーハの加工方法及び拡張装置１は、拡張ステップ３０３において、押圧ローラー１２２と上側ローラー１３２とでエキスパンドシート２０３及びＤＡＦ２０２を挟み込んだ状態で、エキスパンドシート２０３を拡張する。このために、実施形態１に係るウェーハの加工方法及び拡張装置１は、拡張ステップ３０３において、押圧ローラー１２２の回転軸方向の両端縁でＤＡＦ２０２が破断しても、判断したＤＡＦ２０２を上側ローラー１３２でエキスパンドシート２０３に押圧することとなる。

したがって、実施形態１に係るウェーハの加工方法及び拡張装置１は、エキスパンドシート２０３を拡張する前に、予め、ＤＡＦ２０２のウェーハ２０１の外周にはみ出した部分を除去する工程を行うことなく、ＤＡＦ２０２がエキスパンドシート２０３から剥離して、飛散することを抑制できる。その結果、実施形態１に係るウェーハの加工方法及び拡張装置１は、製造工程を増やすことなくＤＡＦ２０２の破片の飛散に起因するチップ２１０のボンディング不良の発生を抑制することができるという効果を奏する。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。実施形態１では、分割起点として改質層２０９を形成したが、本発明では、これに限定されることなく、分割起点としてレーザ加工溝又は切削溝を形成しても良い。

また、実施形態１では、拡張装置１は、ウェーハユニット２００のウェーハ２０１が図１４に示すように分割予定ライン２０６に形成された分割溝２１４により、分割予定ライン２０６に沿って個々のチップ２１０に分割されていても良い。

なお、図１４は、図２に示されたウェーハユニットの変形例を示す斜視図である。図１４は、実施形態１と同一部分に同一符号を付して説明を省略する。分割溝２１４は、ウェーハ２０１を貫通して、ウェーハ２０１を個々のチップ２１０に分割するものであり、ウェーハ２０１に切削加工又はレーザーアブレーション加工が施されて形成される。

即ち、本発明では、ウェーハの加工方法及び拡張装置１は、ウェーハユニット準備ステップ３０１において分割予定ライン２０６に沿って分割されたウェーハ２０１を含むウェーハユニット２００を準備し、拡張ステップ３０３において、ＤＡＦ２０２を個々のチップ２１０毎に分割するとともに、チップ２１０間の間隔を拡張ステップ３０３前よりも広げても良い。

また、本発明では、押圧ローラー１２２と上側ローラー１２３とでエキスパンドシート２０３とＤＡＦ２０２とを挟み込むことができれば、押圧ローラー１２２と上側ローラー１２３とのウェーハ２０１の径方向の位置を異ならせても良い。

１ 拡張装置
１１ フレーム固定ユニット
１２ 押圧ユニット
１３ 押さえユニット
１２２ 押圧ローラー
１３２ 上側ローラー（当接部材）
２００ ウェーハユニット
２０１ ウェーハ
２０２ ＤＡＦ（ダイアタッチフィルム）
２０３ エキスパンドシート
２０４ フレーム
２０６ 分割予定ライン
２０８ 裏面
２０９ 改質層（分割起点）
２１０ チップ
２１１ 被貼着面
２１２ 領域
３０１ ウェーハユニット準備ステップ
３０２ フレーム固定ステップ
３０３ 拡張ステップ

Claims (4)

1. ウェーハの加工方法であって、
   分割予定ラインに沿って分割されたウェーハ又は分割予定ラインに沿って分割起点が形成されたウェーハと、ウェーハの裏面に貼着されウェーハの直径よりも大きい直径のダイアタッチフィルムと、該ダイアタッチフィルムを介してウェーハが貼着される被貼着面を含むエキスパンドシートと、該エキスパンドシートの外周が貼着されるフレームと、からなるウェーハユニットを準備するウェーハユニット準備ステップと、
   該ウェーハユニットの該フレームをフレーム固定ユニットで固定するフレーム固定ステップと、
   該フレーム固定ユニットで固定されたフレームを含む該ウェーハユニットの該エキスパンドシートの該フレームの内周とウェーハの外周との間の領域を該被貼着面の背面側から押圧ユニットで押圧して該エキスパンドシートを拡張し、該分割予定ラインに沿って該ダイアタッチフィルムを破断して裏面にダイアタッチフィルムが貼着されたチップを複数形成する拡張ステップと、を備え、
   該押圧ユニットは、該ウェーハを囲繞する環状に配置され、ウェーハの径方向への回転を許容する向きにそれぞれ配設されて該エキスパンドシートを押圧する複数の押圧ローラーを有し、
   該拡張ステップでは、ウェーハの外周からはみ出したダイアタッチフィルムにおける少なくとも各押圧ローラーの回転軸方向の両端縁に対応する位置に当接部材を当接させ、該当接部材と該押圧ローラーとで該エキスパンドシートとともに該ダイアタッチフィルムを挟み込んだ状態で拡張することで、該押圧ローラーの該回転軸方向の該両端縁で該ダイアタッチフィルムが破断し該エキスパンドシートから剥離することを防止する、ウェーハの加工方法。
2. 該当接部材は、該ウェーハを囲繞して環状に配置され、ウェーハの径方向への回転を許容する向きにそれぞれ配設されて該ダイアタッチフィルムに当接する複数の上側ローラーからなる、請求項１に記載のウェーハの加工方法。
3. 分割予定ラインに沿って分割されたウェーハ又は分割予定ラインに沿って分割起点が形成されたウェーハと、ウェーハの裏面に貼着されウェーハの直径よりも大きい直径のダイアタッチフィルムと、該ダイアタッチフィルムを介してウェーハが貼着される被貼着面を含むエキスパンドシートと、該エキスパンドシートの外周が貼着されるフレームと、からなるウェーハユニットの該エキスパンドシートを拡張する拡張装置であって、
   該ウェーハユニットの該フレームを固定するフレーム固定ユニットと、
   該ウェーハを囲繞する環状に配置され、ウェーハの径方向への回転を許容する向きにそれぞれ配設されて該エキスパンドシートを押圧する複数の押圧ローラーを有し、該フレーム固定ユニットで固定されたフレームを含む該ウェーハユニットの該エキスパンドシートの該フレームの内周とウェーハの外周との間の領域を該被貼着面の背面側から押圧する押圧ユニットと、
   該押圧ユニットが該エキスパンドシートを押圧する際に、ウェーハの外周からはみ出したダイアタッチフィルムにおける少なくとも各押圧ローラーの回転軸方向の両端縁に対応する位置に当接する当接部材を有した押さえユニットと、を備え、
   該当接部材と該押圧ローラーとで該エキスパンドシートとともに該ダイアタッチフィルムを挟み込んだ状態で該エキスパンドシートを拡張する、拡張装置。
4. 該当接部材は、該ウェーハを囲繞して環状に配置され、ウェーハの径方向への回転を許容する向きにそれぞれ配設されて該ダイアタッチフィルムに当接する複数の上側ローラーからなる、請求項３に記載の拡張装置。

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