JP2022546831A - フィルム - Google Patents

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Abstract

本発明は、フィルムに関する。本発明は、透明性またはヘイズなどの光学物性と、硬度などの機械的物性、および柔軟性に優れ、表面の形態が多様な用途に適するように制御されており、前記制御された表面形態の耐久性に優れたフィルムを提供できる。

Description

本発明は、フィルムに関する。
透明樹脂フィルムは、光学特性に優れ、ガラスに比べてこわれにくい特性があるので、ガラス代替材として考慮できる。
透明樹脂フィルムを製造する方法としては、いわゆるセルキャスト法とも呼ばれる方法であって、セル内に硬化性組成物を注入した後に硬化させる方法や、スチールベルト（ｓｔｅｅｌ ｂｅｌｔ）上に硬化性組成物をキャスティング（ｆｌｏｗ ｃａｓｔｉｎｇ）し、硬化させる方法などが知られている。
セルキャスト法は、特許文献１などに知られているが、この方法は、連続してフィルムを製造することができず、効率も良くない。
スチールベルト（ｓｔｅｅｌ ｂｅｌｔ）上に硬化性組成物をキャスティング（ｆｌｏｗ ｃａｓｔｉｎｇ）し、硬化させる方法は、特許文献２などに知られているが、この方法では、均一な物性を有するフィルムの製造が難しい。
特開平０８－１３２４５５号公報 特開平０４－０８０００７号公報
本発明は、フィルムを提供することを目的とする。本発明は、透明性またはヘイズなどの光学物性と、硬度などの機械的物性、および柔軟性に優れ、表面の形態が多様な用途に適するように制御されており、前記制御された表面形態の耐久性に優れたフィルムを提供することを一つの目的とする。
本明細書において言及する物性のうち測定温度および／または測定圧力が結果に影響を及ぼす物性は、特に別途言及しない限り、常温および／または常圧で測定した結果である。
用語「常温」は、加温および減温されない自然そのままの温度であり、例えば、１０℃～３０℃の範囲内のいずれか一つの温度、約２３℃または約２５℃程度の温度を意味する。また、本明細書において温度の単位は、特に別途規定しない限り、摂氏（℃）である。
用語「常圧」は、加圧または減圧されない自然そのままの圧力であり、通常、大気圧レベルの約１気圧程度を意味する。
本明細書において測定湿度が結果に影響を及ぼす物性の場合、当該物性は、前記常温および／または常圧状態で特に調節されない自然そのままの湿度で測定した物性である。
本発明において用語「アルキル基、アルキレン基またはアルコキシ基」は、特に別途規定しない限り、炭素数１～２０、炭素数１～１６、炭素数１～１２、炭素数１～８または炭素数１～４の直鎖または分岐鎖アルキル基、アルキレン基またはアルコキシ基を意味したり、炭素数３～２０、炭素数３～１６、炭素数３～１２、炭素数３～８または炭素数３～６の環状アルキル基、アルキレン基あるいはアルコキシ基を意味する。
本発明において用語「アルケニル基」は、特に別途規定しない限り、炭素数２～２０、炭素数２～１６、炭素数２～１２、炭素数２～８または炭素数２～４の直鎖または分岐鎖状アルケニル基を意味したり、炭素数３～２０、炭素数３～１６、炭素数３～１２、炭素数３～８または炭素数３～６の環状アルケニル基を意味する。
本発明において用語「アリール基またはアリーレン基」は、特に別途規定しない限り、炭素数６～２４、炭素数６～１８または炭素数６～１２のアリール基またはアリーレン基を意味したり、フェニル基またはフェニレン基を意味する。
本発明において用語「エポキシ基」は、特に別途規定しない限り、３個の環構成原子を有する環状エーテル（ｃｙｃｌｉｃ ｅｔｈｅｒ）または前記環状エーテルを含む化合物から誘導された１価残基を意味する。エポキシ基としては、グリシジル基、エポキシアルキル基、グリシドキシアルキル基または脂環式エポキシ基などが例示できる。前記で脂環式エポキシ基は、脂肪族炭化水素環構造を含み、前記脂肪族炭化水素環を形成している２個の炭素原子が、また、エポキシ基を形成している構造を含む化合物に由来する１価残基を意味する。脂環式エポキシ基としては、６個～１２個の炭素を有する脂環式エポキシ基が例示でき、例えば、３，４－エポキシシクロヘキシルエチル基などが例示できる。
前記アルキル基、アルキレン基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アリーレン基またはエポキシ基は、任意に一つ以上の置換基で置換されていてもよい。
本発明は、フィルムに関する。一例示において、前記フィルムは、硬化物層を含んでもよい。前記硬化物層は、エネルギー線硬化性組成物の硬化物層であってもよい。前記フィルムは、前記硬化物層のみからなる単層構造であるか、あるいはさらなる他の層を含む多層構造であってもよい。例えば、前記フィルムは、基材フィルムをさらに含んでもよく、このような場合には、前記基材フィルムの一面または両面に前記硬化物層が形成されていてもよい。
前記硬化物層の少なくとも一面は、凹凸表面であってもよい。例えば、前記硬化物層が前記基材フィルムの一面に形成される場合には、前記硬化物層の前記基材フィルムに向かう面と反対側の表面は、凹凸表面であってもよい。このような凹凸表面の形状は、目的に応じて多様に制御できる。
例えば、前記凹凸表面は、算術平均粗さ（Ａｒｉｔｈｍｅｔｉｃ ｍｅａｎ ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ、Ｒａ）が約０．０１μｍ～２μｍの範囲内であってもよい。前記算術平均粗さは、後述するスチールウールテストを行う前または後の凹凸表面に対する算術平均粗さであってもよい。前記凹凸表面は、硬化物層と一体化した表面であってもよい。これは、前記凹凸表面が前記硬化物層とは異なる別途の層により形成されたものではなく、前記硬化物層自体に当該凹凸表面が形成されていることを意味する。
前記算術平均粗さは、ＫＳ Ｂ ０６０１規格またはＩＳＯ ４２８７／１規格によって確認できる。このような算術平均粗さは、他の例示において、０．０５μｍ以上、０．１μｍ以上、０．１５μｍ以上、０．２μｍ以上、０．２５μｍ以上または０．３μｍ以上であるか、１．８μｍ以下、１．６μｍ以下、１．４μｍ以下、１．２μｍ以下、１μｍ以下、０．９μｍ以下、０．８μｍ以下、０．７μｍ以下、０．６μｍ以下、０．５μｍ以下または０．４μｍ以下程度であってもよい。
一例示において、前記凹凸表面は、いわゆる防眩表面（Ａｎｔｉ－ｇｌａｒｅ ｓｕｒｆａｃｅ）を形成する凹凸表面であってもよい。
前記凹凸表面は、３％～５０％の範囲内のヘイズ（Ｈａｚｅ）を示すことができる。前記ヘイズは、後述するスチールウールテストを行う前または後の凹凸表面に対するヘイズであってもよい。前記ヘイズは、後述する実施例に開示された方式で測定できる。前記ヘイズは、他の例示において、３．５％以上、４％以上、４．５％以上、５％以上、５．５％以上、６％以上、６．５％以上、７％以上、７．５％以上、８％以上、８．５％以上、９％以上、９．５％以上、１０％以上、１０．５％以上、１１％以上、１１．５％以上、１２％以上、１２．５％以上、１３％以上、１３．５％以上、１４％以上、１４．５％以上、１５％以上、１５．５％以上、１６％以上、１６．５％以上、１７％以上、１７．５％以上、１８％以上、１８．５％以上、１９％以上、１９．５％以上、２０％以上、２０．５％以上または２１％以上であるか、４５％以下、４０％以下、３５％以下、３０％以下、２５％以下、２０％以下、１５％以下、１０％以下または７％以下程度であってもよい。
前記凹凸表面は、６０度グロス（ｇｌｏｓｓ）が１０％～９０％の範囲内の表面であってもよい。前記６０度グロスは、後述するスチールウールテストを行う前または後の凹凸表面に対する６０度グロスであってもよい。前記６０度グロスは、後述する実施例に開示された方式で測定できる。前記６０度グロスは、他の例示において、１５％以上、２０％以上、２５％以上、３０％以上、３５％以上、４０％以上、４５％以上、５０％以上、５５％以上、６０％以上または６５％以上であるか、８５％以下、８０％以下、７５％以下、７０％以下、６５％以下、６０％以下、５５％以下または５０％以下程度であってもよい。
前記凹凸表面は、優れた表面特性を示すことができる。
例えば、前記凹凸表面は、５Ｈ以上の鉛筆硬度を示すことができる。前記鉛筆硬度は、ＪＩＳ ５６００規格によって、鉛筆硬度測定装備を使って、約２５℃の温度および５０％の相対湿度で５００ｇの荷重および４５度の角度で鉛筆芯をフィルムの凹凸表面にひく方式で測定できる。フィルムの凹凸表面で圧痕、傷または破裂などの欠陥の発生が確認されるまで鉛筆芯の硬度を段階的に増加させることで鉛筆硬度を測定できる。前記凹凸表面の鉛筆硬度は、他の例示において、略６Ｈ以上、７Ｈ以上、８Ｈ以上または９Ｈ以上であってもよい。公知の鉛筆硬度の測定方法によって確認される鉛筆硬度の最大値は９Ｈである。したがって、前記凹凸表面の鉛筆硬度の上限は９Ｈであってもよい。
前記凹凸表面は、１，５００回以上の５００ｇスチールウール耐性（Ｓｔｅｅｌ ｗｏｏｌ Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）を示すことができる。前記で５００ｇスチールウール耐性（Ｓｔｅｅｌ ｗｏｏｌ Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）は、スチールウールテストで確認される表面特性である。前記フィルムの凹凸表面の５００ｇスチールウール耐性（Ｓｔｅｅｌ ｗｏｏｌ Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）は、他の例示において、略２，０００回以上、２，５００回以上、３，０００回以上、３，５００回以上、４，０００回以上、４，５００回以上、５，０００回以上、５，５００回以上、６，０００回以上、６，５００回以上、７，０００回以上、７，５００回以上、８，０００回以上、８，５００回以上、９，０００回以上または９，５００回以上であってもよい。前記スチールウール耐性は、その数値が高いほど、フィルムの凹凸表面が優れた耐スクラッチ性を示すことを意味するので、その上限は特に制限されない。一例示において、前記５００ｇスチールウール耐性は、２０，０００回以下程度、１５，０００回以下程度、１４，０００回以下程度、１３，０００回以下程度、１２，０００回以下程度または１１，０００回以下程度であってもよい。
本発明のフィルムにおいて前記のように形成された凹凸表面は、その形状を安定して維持できる耐久性を示すことができる。
例えば、前記凹凸表面は、下記数式１～３のいずれか一つ、または前記数式のうち二つあるいは前記数式を全部満たすことができる。
［数式１］
０．３≧△Ｈ＝１００×｜（ＨＡ－ＨＩ）／Ｎ｜
［数式２］
０．３≧△Ｇ＝１００×｜（ＧＡ－ＧＩ）／Ｎ｜
［数式３］
０．３≧△Ｒ＝１００×｜（ＲＡ－ＲＩ）／Ｎ｜
数式１～３で、△Ｈ、△Ｇおよび△Ｒは、それぞれ、前記凹凸表面のヘイズ変化率、６０度グロス（ｇｌｏｓｓ）変化率および算術平均粗さ（Ｒａ）の変化率である。
数式１で、ＨＩは、前記凹凸表面の初期ヘイズ（後述するスチールウールテストを行う前のヘイズ）であり、ＨＡは、後述するスチールウールテストを行った後の前記凹凸表面のヘイズであり、Ｎは、前記スチールウールテストを行った回数であり、｜（ＨＡ－ＨＩ）／Ｎ｜は、前記ＨＡ、ＨＩおよびＮを（ＨＡ－ＨＩ）／Ｎに代入して求められた数値の絶対値である。
数式２で、ＧＩは、前記凹凸表面の初期６０度グロス（後述するスチールウールテストを行う前の６０度グロス）であり、ＧＡは、後述するスチールウールテストを行った後の前記凹凸表面の６０度グロスであり、Ｎは、前記スチールウールテストを行った回数であり、｜（ＧＡ－ＧＩ）／Ｎ｜は、前記ＧＡ、ＧＩおよびＮを（ＧＡ－ＧＩ）／Ｎに代入して求められた数値の絶対値である。
数式３で、ＲＩは、前記凹凸表面の初期算術平均粗さ（Ｒａ）（後述するスチールウールテストを行う前の算術平均粗さ）であり、ＲＡは、後述するスチールウールテストを行った後の前記凹凸表面の算術平均粗さ（Ｒａ）であり、Ｎは、前記スチールウールテストを行った回数であり、｜（ＲＡ－ＲＩ）／Ｎ｜は、前記ＲＡ、ＲＩおよびＮを（ＲＡ－ＲＩ）／Ｎに代入して求められた数値の絶対値である。
前記数式１～３の確認のために行われるスチールウールテストは、後述する実施例に記載された方式によって、前記凹凸表面を等級＃００００のスチールウールにて５００ｇの荷重でスクラッチする方式で行われる。前記スクラッチは、前記数式１～３で変数Ｎ回行われ得る。この場合、Ｎは、例えば、１，０００以上、１，１００以上、１，２００以上、１，３００以上、１，４００以上または１，５００以上であるか、３，０００以下、２，９００以下、２，８００以下、２，７００以下、２，６００以下、２，５００以下、２，４００以下、２，３００以下、２，２００以下、２，１００以下、２，０００以下、１，９００以下、１，８００以下、１，７００以下、１，６００以下または１，５００以下程度であってもよい。
数式１で、△Ｈは、他の例示において、約０．２５以下、約０．２以下、約０．１５以下、約０．１以下、約０．０９以下、約０．０８以下、約０．０７以下、約０．０６以下、約０．０５以下、約０．０４以下、約０．０３以下、約０．０２以下または約０．０１以下程度であってもよい。前記△Ｈは、その数値が低いほど、凹凸表面の維持力に優れていることを意味するので、その下限は特に制限されない。一例示において、前記△Ｈは、０以上または０超過程度であってもよい。
数式２で、△Ｇは、他の例示において、約０．２５以下、約０．２以下、約０．１５以下、約０．１以下、約０．０９以下、約０．０８以下、約０．０７以下、約０．０６以下、約０．０５以下、約０．０４以下、約０．０３以下または約０．０２以下程度であってもよい。前記△Ｇは、その数値が低いほど、凹凸表面の維持力に優れていることを意味するので、その下限は特に制限されない。一例示において、前記△Ｇは、０以上または０超過程度であってもよい。
数式３で、△Ｒは、他の例示において、約０．２５以下、約０．２以下、約０．１５以下、約０．１以下、約０．０９以下、約０．０８以下、約０．０７以下、約０．０６５以下、約０．０６以下、約０．０５５以下、約０．０５以下、約０．０４５以下、約０．０４以下、約０．０３５以下、約０．０３以下、約０．０２５以下、約０．０２以下、約０．０１５以下、約０．０１以下、約０．００９以下、約０．００８以下、約０．００７以下、約０．００６以下、約０．００５以下または約０．００４以下程度であってもよい。前記△Ｒは、その数値が低いほど、凹凸表面の維持力に優れていることを意味するので、その下限は特に制限されない。一例示において、前記△Ｒは、０以上または０超過程度であってもよい。
前記算術平均粗さ（Ｒａ）、ヘイズ（Ｈａｚｅ）、６０度グロス（ｇｌｏｓｓ）、鉛筆硬度および５００ｇスチールウール耐性（Ｓｔｅｅｌ ｗｏｏｌ Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）からなる群から選択された一つ以上の物性を示し、前記数式１～３のうち一つ以上を満たす形状保持力を示す凹凸表面を形成するために、前記凹凸表面のいわゆる歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）が調節できる。歪度は、任意の分布が対称から逸脱して片側に偏った程度を表示する値であり、凹凸表面に対しては、平均平面に対する表面高さの対称程度を表示する値である。前記歪度が正数なら、凹凸表面を構成するピーク（ｐｅａｋ）が優勢であることを意味し、負数なら、凹凸表面を構成するバレー（ｖａｌｌｅｙ）が優勢であることを意味する。このような歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）は、ＩＳＯ ２５１７８規格によって公知の光学プロファイラー（ｏｐｔｉｃａｌ ｐｒｏｆｉｌｅｒ）またはＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）装置などを使って確認できる。
本発明者らは、前記凹凸表面のＩＳＯ ２５１７８規格によって確認した歪度が負の値を有するようにして、目的とする凹凸表面の特性を具現できるという点を確認した。前記歪度は、例えば、約－２以上かつ０未満であってもよい。前記歪度は、他の例示において、約－１．９以上、約－１．８以上、約－１．７以上、約－１．６以上、約－１．５以上、約－１．４以上、約－１．３以上、約－１．２以上、約－１．１以上、約－１．０以上または約－０．９以上であるか、－０．１以下、約－０．２以下、約－０．３以下、約－０．４以下または約－０．５以下であってもよい。このような範囲で歪度を示すように調節することによって、目的に応じて具現された形状が安定して維持される凹凸表面を形成できる。
このような歪度を確保するためには、いわゆる防眩フィルムをテンプレート（ｔｅｍｐｌａｔｅ）として使って当該フィルムの凹凸形状を前記硬化物層に転写する過程を必要とする。すなわち、いわゆる防眩フィルムと知られた凹凸表面を形成する公知の方式によって形成された凹凸表面は、正の歪度を示すので、このような正の歪度の表面が逆相に転写された表面は、負の歪度を示すことができる。また、逆相に転写される過程で歪度の絶対値は類似した範囲内で維持され、その符号が変わるので、前記テンプレートとして使用される凹凸表面の歪度を制御することによって、目的とする歪度の絶対値を負の領域で示す凹凸表面を形成できる。
したがって、前記硬化物層は、エネルギー線硬化性組成物層を防眩フィルムと接触させた状態で前記エネルギー線硬化性組成物層にエネルギー線を照射する段階を経て形成できる。このような方式によって前記言及された特性を満たす硬化物層が形成できる。前記でエネルギー線硬化性組成物層は、エネルギー線硬化性組成物を使って形成した層であって、例えば、前記エネルギー線硬化性組成物を前記基材フィルム上にコーティング乃至キャスティングして形成された層を意味する。
用語「エネルギー線硬化性組成物」は、エネルギー線の照射によって硬化する組成物を意味する。用語「エネルギー線」の範疇には、マイクロ波（ｍｉｃｒｏｗａｖｅｓ）、赤外線（ＩＲ）、紫外線（ＵＶ）、Ｘ線およびガンマ線はもちろん、アルファ－粒子ビーム（ａｌｐｈａ－ｐａｒｔｉｃｌｅ ｂｅａｍ）、プロトンビーム（ｐｒｏｔｏｎ ｂｅａｍ）、中性子ビーム（ｎｅｕｔｒｏｎ ｂｅａｍ）または電子ビーム（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｂｅａｍ）などの粒子ビームなどが含まれ得る。通常、エネルギー線としては、紫外線または電子ビームなどが使用される。
用語「防眩フィルム」は、可視光の少なくとも一部の領域あるいは全体可視光領域に対して低い反射率を示すように形成された表面を含むフィルムを意味する。前記低い反射率を示すように形成された表面は、防眩表面と呼ばれることがある。
このような防眩フィルムの防眩表面は、多様な形状を有しうるが、通常、一定水準の粗さ（ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）を有する凹凸表面を有し、公知の方式で形成された前記防眩表面の凹凸表面は正の歪度を有する。このような防眩フィルムの凹凸表面をエネルギー線硬化性組成物層と接触させた状態で前記層にエネルギー線を照射して前記エネルギー線硬化性組成物を硬化させることによって、目的とする物性を満たす凹凸表面を有するフィルムを形成できる。
前記過程を通じて前記防眩フィルムの凹凸表面が硬化物層の表面に転写されることができ、このように転写された凹凸表面は、硬化物層の活用度を高める。例えば、前記凹凸表面が転写された硬化物層は、それ自体で可視光領域の一部または全領域に対して低い反射率を示したり、あるいは必要な層と組み合わせられて前記低い反射率を示すことができる。したがって、このような硬化物層は、前述した優れた物性と共に低い反射率が要求される多様な用途において効果的に適用できる。
前記工程でエネルギー線硬化性組成物層と接触する防眩表面は、前述したように凹凸表面であってもよく、このような凹凸表面は、正の歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）を示す凹凸表面であってもよい。前記凹凸表面も、ＩＳＯ ２５１７８規格により確認できる。前記防眩フィルムの凹凸表面は、０超過かつ約２以下であってもよい。前記歪度は、他の例示において、約１．９以下、約１．８以下、約１．７以下、約１．６以下、約１．５以下、約１．４以下、約１．３以下、約１．２以下、約１．１以下、約１．０以下または約０．９以下であるか、０．１以上、約０．２以上、約０．３以上、約０．４以上または約０．５以上であってもよい。このような範囲の歪度の凹凸表面を適用して、目的とする歪度の凹凸表面を形成できる。
前記エネルギー線硬化性組成物層と接触する防眩表面の凹凸表面は、算術平均粗さ（Ａｒｉｔｈｍｅｔｉｃ ｍｅａｎ ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ、Ｒａ）が約０．０１μｍ～２μｍの範囲内であってもよい。このような範囲で算術平均粗さを有する凹凸表面である防眩表面を適用することによって、目的とする物性の硬化物層の製造が可能になり得る。前記算術平均粗さは、後述する実施例に開示された方式で測定できる。このような算術平均粗さは、他の例示において、０．０５μｍ以上、０．１μｍ以上、０．１５μｍ以上、０．２μｍ以上または０．２５μｍ以上であるか、１．８μｍ以下、１．６μｍ以下、１．４μｍ以下、１．２μｍ以下、１μｍ以下、０．９μｍ以下、０．８μｍ以下、０．７μｍ以下、０．６μｍ以下、０．５μｍ以下または０．４μｍ以下程度であってもよい。
エネルギー線硬化性組成物層と接触する防眩表面は、６０度グロス（ｇｌｏｓｓ）が１０％～９０％の範囲内の表面であってもよい。このような範囲で６０度グロスを有する表面である防眩表面を適用することによって、目的とする物性の硬化物層の製造が可能になり得る。前記６０度グロスは、後述する実施例に開示された方式で測定できる。このような６０度グロスは、他の例示において、１５％以上、２０％以上、２５％以上、３０％以上、３５％以上、４０％以上または４５％以上であるか、８５％以下、８０％以下、７５％以下または７０％以下程度であってもよい。
エネルギー線硬化性組成物層と接触する防眩表面は、３％～５０％のヘイズを示す表面であってもよい。このような範囲でヘイズを有する表面である防眩表面を適用することによって、目的とする物性の硬化物層の製造が可能になり得る。前記ヘイズは、後述する実施例に開示された方式で測定できる。このようなヘイズは、他の例示において、３．５％以上、４％以上または４．５％以上であるか、４５％以下、４０％以下、３５％以下、３０％以下または２５％以下程度であってもよい。
本発明において適用が可能な防眩フィルムの種類は、特に制限されず、例えば、前記言及したヘイズ、６０度グロスおよび／または算術平均粗さＲａを有する凹凸表面を有する防眩フィルムが適用可能である。
好適な例示において、前記防眩フィルムとしては、バインダー樹脂および粒子を含む防眩層を有するフィルムを使用できる。
この際、バインダー樹脂としては、熱またはエネルギー線硬化性バインダー樹脂を適用でき、その具体的な例は、特に制限されるものではないが、エネルギー線硬化性バインダー樹脂を適用することが、工程の観点などから有利になり得る。使用可能なエネルギー線硬化性バインダー樹脂の種類は、特に制限されないが、好適な効果の確保のために、非ウレタン系多官能性アクリレート化合物が適用できる。例えば、前記化合物として、硬化性官能基（ｅｘ．（メタ）アクリロイルオキシ基など）が２個以上の化合物が適用できる。前記化合物の官能基の数は、１０個以下、９個以下、８個以下、７個以下、６個以下、５個以下、４個以下または３個以下程度であってもよい。このような化合物としては、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペート（ｎｅｏｐｅｎｔｙｌｇｌｙｃｏｌ ａｄｉｐａｔｅ）ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバル酸（ｈｙｄｒｏｘｙｌ ｐｉｖａｌｉｃ ａｃｉｄ）ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（ｄｉｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｎｙｌ）ジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ジ（メタ）アクリロキシエチルイソシアヌレート、アリル（ａｌｌｙｌ）化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ヘキサヒドロフタル酸ジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチルプロパンジ（メタ）アクリレート、アダマンタン（ａｄａｍａｎｔａｎｅ）ジ（メタ）アクリレートまたは９，９－ビス［４－（２－アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ｆｌｕｏｒｉｎｅ）などの二官能性アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートまたはプロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートなどの三官能性アクリレート；ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレートまたはペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートなどの四官能性アクリレート；プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートなどの五官能性アクリレート；およびジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートまたはカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの六官能性アクリレートなどの多官能性アクリレート化合物などを使用でき、これらの中で、目的とする粘度と物性などを考慮して一種または二種以上を選択して使用できる。
前記硬化性バインダー樹脂を粒子と混合した状態でコーティングし、その樹脂の種類に応じた硬化方式で硬化させた防眩層が適用できる。適用可能な粒子の種類は、特別な制限がなく、例えば、ＰＭＭＡ（ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ））粒子やＰＳ（ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ）粒子などの有機ポリマー粒子またはシリカ粒子またはジルコニア粒子、アルミナ粒子またはチタニア粒子などの無機粒子などが適用できる。前記粒子の形状、平均粒径および／または割合には、特別な制限はなく、目的とする６０度グロスやヘイズ、算術平均粗さＲａなどを考慮して適切な形状および／または平均粒径を有する粒子を適切な割合で適用できる。
前記防眩層には、前記成分に、さらに必要な任意の成分、例えば、シリコーン系またはフッ素系スリップ剤や開始剤などが追加されることもできる。
防眩フィルムは、基材フィルムと、前記基材フィルムの一面に形成された前記防眩層とを含んでもよい。この際、基材フィルムとしては、適切な透過率、例えば、約３７０ｎｍの波長の光に対する透過率が８０％以上の基材フィルムを適用できる。すなわち、通常の防眩フィルムは、光学フィルムの最外郭に存在するので、紫外線遮断機能が付与されて、３７０ｎｍの波長に対して低い透過度（５０％以下）を示す場合が大部分であり、本発明においては、防眩フィルムがモールドに適用されるのであり、紫外線硬化工程のために紫外線に対して透過度の高いフィルムが適用されることが必要である。したがって、前記のような透過率が適用できる。基材フィルムの種類は、前記透過率を有するものであれば、特別な制限はなく、例えば、公知の高分子フィルムのうちで前記透過率を示すものが選択できる。
前記防眩フィルムの防眩表面を前記エネルギー線硬化性組成物層に接触させた状態で前記エネルギー線を照射する段階が行われ得る。
防眩フィルムと接触するエネルギー線硬化性組成物層は、エネルギー線硬化性組成物をキャスティング乃至コーティングして形成することができる。この場合、キャスティングまたはコーティングの方式は、特に制限されず、公知の方式、例えば、グラビアコーティング、ロールコーティング、リバースコーティング、ナイフコーティング、ダイコーティング、リップコーティング、ドクター（ｄｏｃｔｏｒ）コーティング、エクストルージョン（ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ）コーティング、スライドコーティング、ワイヤーバーコーティング、カーテンコーティング、押出コーティングまたはスピンコーティングなどの方法が適用できる。キャスティング過程でゲル形状の付着物や異物が発生しないように、前記キャスティングは、エネルギー線が照射されない条件で行い、また、必要に応じて、キャスティングの温度も、適切に制御できる。
キャスティング方式などにより形成される前記エネルギー線硬化性組成物層の厚みは、前記組成物の種類、前記組成物に含まれる樹脂が有する官能基の種類、目的とする用途、キャスティング均一性、後述する平坦層の形成の有無などを考慮して適切な厚みで調節できる。前記形成される層の厚みは、略１μｍ～１０００μｍの範囲内であってもよい。前記厚みは、他の例示において、５μｍ以上、１０μｍ以上、１５μｍ以上、２０μｍ以上、２５μｍ以上、３０μｍ以上または３５μｍ以上であるか、９００μｍ以下、８００μｍ以下、７００μｍ以下、６００μｍ以下、５００μｍ以下、４００μｍ以下、３００μｍ以下、２００μｍ以下、１００μｍ以下、９０μｍ以下、８５μｍ以下、８０μｍ以下、７５μｍ以下、７０μｍ以下、６５μｍ以下、６０μｍ以下、５５μｍ以下、５０μｍ以下、４５μｍ以下、４０μｍ以下、３５μｍ以下、３０μｍ以下または２５μｍ以下程度であってもよいが、これらに制限されるものではない。例えば、後述する平坦層が一面に形成されていない基材層上に前記エネルギー線硬化性組成物層が形成される場合、エネルギー線硬化性組成物層の収縮力などを考慮して前記形成された層の厚みが追加で制御できる。平坦層が形成されていない基材層の一面に前記エネルギー線硬化性組成物層を形成する場合、前記硬化性組成物層の厚みは、例えば、３５μｍ以下であってもよい。前記硬化性組成物層の厚みは、他の例示において、３３μｍ以下、３１μｍ以下、２９μｍ以下、２７μｍ以下、２５μｍ以下、２３μｍ以下または２１μｍ以下であるか、５μｍ以上、１０μｍ以上または１５μｍ以上であってもよい。前記硬化性組成物層の厚みは、前述したように、基材層上に平坦層が形成されたか否かだけでなく、後述する硬化性組成物層に含まれる樹脂の種類などを考慮して制御でき、したがって、前記厚みは、これらに制限されるものではない。
前記エネルギー線硬化性組成物へのエネルギー線の照射は、基材フィルム上にエネルギー線硬化性組成物をキャスティングしてエネルギー線硬化性組成物層を形成する段階と、前記エネルギー線硬化性組成物層に前記防眩フィルムを積層して前記防眩フィルムとエネルギー線硬化性組成物層を接触させる段階と、を含む方式で製造された積層体に対して行われ得る。この際、前記記述したように、前記エネルギー線硬化性組成物層と接触する防眩フィルムの表面は、前述した防眩表面であってもよい。
前記方式を適用することによって、前記製造される硬化物層の物性や品質の均一性をより安定して維持できる。
前記基材フィルムの種類は、特に制限されず、適切な表面平滑性を有する基材フィルムが適用できる。例えば、基材フィルムとしては、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンや、ポリエチレンまたはノルボルネン（ｎｏｒｂｏｒｎｅｎｅ）樹脂フィルムなどのポリオレフィンフィルム、アセテートフィルム、アクリルフィルム、フッ化ビニルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアリレートフィルム、セロファンまたはポリエーテルスルホンフィルムなどのフィルムを単独であるいは２種以上を組み合わせて使用できる。このようなフィルムのうちで、要求耐熱性、透明性を考慮して適切なフィルムが選択できる。
前記基材フィルムとしては、透明フィルム、例えば、光透過率が８０％以上または８５％以上のフィルムを使用できる。基材フィルムの厚みは、特別な制限はないが、フィルムの製造過程で適用される張力に対する抵抗性や、積層体の反りやゆがみなどまたはエネルギー線の透過効率などを考慮して、略１０μｍ～４００μｍまたは５０μｍ～３００μｍの範囲内で選択できる。
前記基材フィルムとして、一面に平坦化層が形成されているフィルムが使用できる。例えば、一面に平坦化層が形成された基材フィルムにおける前記平坦化層のない面に前記エネルギー線硬化性組成物層が形成できる。前記平坦化層が一面に形成された基材フィルムを適用することによって、前記エネルギー線硬化性組成物層を後述する樹脂および／または厚みなどで形成しながらも、カール（Ｃｕｒｌ）などが発生することなく、表面特性にさらに優れたフィルムを製造できる。
前記平坦化層を形成する材料に特別な制限はない。一例示において、前記平坦化層は、前記フィルムの形成に適用されるエネルギー線硬化性組成物を同一に基材フィルム上にコーティングし、硬化させて形成することができる。
基材フィルムにエネルギー線硬化性組成物をキャスティングし、当該キャスティングされたエネルギー線硬化性組成物上に前記防眩フィルムの防眩表面を積層して積層体を製造した後に、エネルギー線の照射を行うことができる。
必要に応じて、前記エネルギー線硬化性組成物層と防眩表面の接触を一定の圧力で加圧して行うこともできる。
前記方式で防眩フィルムをエネルギー線硬化性組成物層と接触させた状態でエネルギー線を照射して前記組成物を硬化させることによって、前記硬化物層を製造できる。この際、エネルギー線の照射方向は、制限されず、例えば、前記防眩フィルム側、または前記エネルギー線硬化性組成物層の前記防眩フィルムに当接しない面側または前記両側でエネルギー線が照射できる。前記積層体（防眩フィルム／エネルギー線硬化性組成物層／基材フィルム）に対してエネルギー線の照射を行う場合にも、前記防眩フィルム側、前記基材フィルム側または両側でエネルギー線が照射できる。
一例示において、前記積層体に対してエネルギー線の照射を行う場合に、エネルギー線は、前記基材フィルムを通じて前記エネルギー線硬化性組成物層に照射できる。
例えば、エネルギー線として紫外線を照射する場合には、紫外線ランプを使って発生させた紫外線を照射できる。紫外線ランプとしては、メタルハライド（ｍｅｔａｌ ｈａｌｉｄｅ）ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、パルス型キセノン（ｘｅｎｏｎ）ランプ、キセノン／水銀混合ランプ、低圧殺菌ランプおよび／または無電極ランプなどが適用できる。照射条件は、エネルギー線硬化性組成物の組成などによって決定でき、通常、露光量が略０．０１～１０ｍＪ／ｃｍ２程度のレベルになるように照射できる。前記露光されるエネルギーの量は、他の例示において、約０．０５ｍＪ／ｃｍ２以上、０．１ｍＪ／ｃｍ２以上、０．５ｍＪ／ｃｍ２以上、１ｍＪ／ｃｍ２以上または１．５ｍＪ／ｃｍ２以上であるか、９ｍＪ／ｃｍ２以下、８ｍＪ／ｃｍ２以下、７ｍＪ／ｃｍ２以下、６ｍＪ／ｃｍ２以下または５ｍＪ／ｃｍ２以下程度であってもよい。
このようなエネルギー線の照射が行われる温度は特に制限されない。通常、前記エネルギー線の照射は、常温（１５℃～３５℃の範囲内）で行われるが、必要に応じて、当該温度が調節でき、このような場合には、エネルギー線の照射過程で加熱／冷却装置などが適用されることもできる。
本発明において適用可能なエネルギー線硬化性組成物の種類には特別な制限はないが、前記キャスティング、コーティング効率、目的とする表面特性および／または硬化前後の硬化収縮などを考慮して、エネルギー線硬化性を有し、かつ、キャスティング可能な流動性乃至可塑性を有するものが適用できる。必要に応じて、硬化前後の硬化収縮による反りやゆがみなどの防止のために、硬化収縮率が適正範囲に制御されることもできる。通常、硬化前後の体積収縮率が３％～１０％の範囲内にあるエネルギー線硬化性組成物が使用できる。
例えば、前記エネルギー線硬化性組成物としては、いわゆるアクリル系エネルギー線硬化性組成物、シリコーン系エネルギー線硬化性組成物またはエポキシ系エネルギー線硬化性組成物のうちで適切な種類を選択して使用できる。また、工程効率やフィルム物性を考慮して無溶剤タイプの組成物が適用できる。
前記エネルギー線硬化性組成物としては、例えば少なくともシリコーン樹脂成分および反応性希釈剤を含む組成物を使用できる。
前記適用されるシリコーン樹脂成分の種類は、特に制限されないが、目的とする物性をより効果的に満たすために、下記平均単位式１で表示されるシリコーン樹脂成分が適用できる。
［平均単位式１］
（Ｒ１ ３ＳｉＯ１／２）ａ（Ｒ２ ２ＳｉＯ２／２）ｂ（Ｒ３ＳｉＯ３／２）ｃ（ＳｉＯ４／２）ｄ（ＲＯ１／２）ｅ
平均単位式１で、Ｒ１～Ｒ３は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基またはエネルギー線硬化性基であり、Ｒ１～Ｒ３が複数個存在する場合、それぞれ、互いに同じでも異なっていてもよく、Ｒ１～Ｒ３の少なくとも一つは、エネルギー線硬化性基であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄを１に換算したとき、それぞれ、０≦ａ≦１、０＜ｂ≦１、０＜ｃ≦１および０≦ｄ≦１を満たし、ｅは、ｅ／（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）が０～０．４の範囲内となる数である。前記エネルギー線硬化性基は、例えば、ラジカル硬化性基またはカチオン硬化性基であってもよく、目的とする物性の具現などを考慮して、ラジカル硬化性基であることが好ましい。
前記平均単位は、前記シリコーン樹脂成分に含まれる単量体単位、すなわちいわゆるＭ、Ｄ、ＴおよびＱ単位の平均的な割合を示すものであり、前記シリコーン樹脂成分が前記平均単位式１を示すというのは、前記成分が前記平均単位式１による割合で単量体単位を含む一つの高分子成分（シリコーン樹脂）を含む場合、または前記成分が二つ以上の高分子成分（シリコーン樹脂）を含み、当該二つ以上の成分に含まれるすべての単量体単位の平均が前記平均単位式１で規定される場合を意味する。
前記平均単位式１で、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄを１に換算したとき、前記ａおよびｄは、それぞれ独立して、０．９５以下、０．９以下、０．８５以下、０．８以下、０．７５以下、０．７以下、０．６５以下、０．６以下、０．５５以下、０．５以下、０．４５以下、０．４以下、０．３５以下、０．３以下、０．２５以下、０．２以下、０．１５以下、０．１以下または０．０５以下程度であってもよい。
前記平均単位式１で、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄを１に換算したとき、前記ｂは、他の例示において、０．０１以上、０．０２以上、０．０３以上、０．０４以上、０．０５以上、０．０６以上、０．０７以上、０．０８以上、０．０９以上、０．１以上、０．１５以上、０．２以上または０．２５以上であるか、０．９５以下、０．９以下、０．８５以下、０．８以下、０．７５以下、０．７以下、０．６５以下、０．６以下、０．５５以下、０．５以下、０．４５以下、０．４以下、０．３５以下、０．３以下または０．２５以下程度であってもよい。
前記平均単位式１で、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄを１に換算したとき、前記ｃは、他の例示において、０．１以上、０．１５以上、０．２以上、０．２５以上、０．３以上、０．３５以上、０．４以上、０．４５以上、０．５以上、０．５５以上、０．６以上、０．６５以上、０．７以上または０．７５以上であるか、０．９５以下、０．９以下、０．８５以下、０．８以下または０．７５以下程度であってもよい。
平均単位式１で、ＲＯ１／２は、ケイ素原子に結合されている縮合性官能基を意味する。すなわち、前記シリコーン樹脂成分は、一例示において、縮合性シラン化合物を縮合させ製造できるが、その過程で反応せずに残存する縮合性官能基が前記ＲＯ１／２で表示され得る。
平均単位式１で、ｅは、ｅ／（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）が０～０．４の範囲になるようにする数であってもよい。前記ｅ／（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）は、他の例示において、０．３５以下程度、０．３以下程度、０．２５以下程度、０．２以下程度、０．１５以下程度、０．１以下程度または０．０５以下程度であってもよい。
平均単位式１で、Ｒ１～Ｒ３は、それぞれ、ケイ素原子に直接結合している官能基であって、平均単位式１で表示されるシリコーン樹脂成分内でそれぞれ複数個存在することもでき、複数個存在する場合、これらは同じでも異なっていてもよい。前記Ｒ１～Ｒ３は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基またはエネルギー線硬化性官能基であってもよい。Ｒ１～Ｒ３のうち少なくとも一つは、エネルギー線硬化性官能基であり、例えば、少なくとも前記Ｒ３（Ｒ３が複数個である場合、Ｒ３のうち少なくとも一つ）は、エネルギー線硬化性官能基であってもよい。
前記平均単位式で、Ｒ２は、好適にはアルキル基であってもよい。
前記でエネルギー線硬化性官能基は、例えば、いわゆるラジカル硬化性官能基またはカチオン硬化性官能基であってもよい。ラジカル硬化性官能基としては、代表的に、アルケニル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアルキル基または（メタ）アクリロイルオキシアルキル基などがあり、カチオン硬化性官能基としては、エポキシ基を例示できる。用語「エポキシ基」は、特に別途規定しない限り、３個の環構成原子を有する環状エーテル（ｃｙｃｌｉｃ ｅｔｈｅｒ）または前記環状エーテルを含む化合物から誘導された１価残基を意味する。エポキシ基としては、グリシジル基、エポキシアルキル基、グリシドキシアルキル基または脂環式エポキシ基などが例示できる。前記で脂環式エポキシ基は、脂肪族炭化水素環構造を含み、前記脂肪族炭化水素環を形成している２個の炭素原子が、また、エポキシ基を形成している構造を含む化合物に由来する１価残基を意味する。脂環式エポキシ基としては、６個～１２個の炭素原子を有する脂環式エポキシ基が例示でき、例えば、３，４－エポキシシクロヘキシルエチル基などが例示できる。
前記エネルギー線硬化性官能基は、好ましくは、ラジカル硬化性官能基であってもよい。カチオン硬化性官能基を含む樹脂の場合、開環反応（ｒｉｎｇ－ｏｐｅｎｉｎｇ）を通じて重合されるので、硬化などによる体積縮小が殆どないのに対し、前記ラジカル硬化性官能基を含む樹脂の場合、硬化などによって収縮することで、原子密度が高くなり得、これによって、目的とする物性の具現にさらに適している。
このようなエネルギー線硬化性官能基は、全体Ｒ１～Ｒ３の中で略５０モル％以上、略５５モル％以上、略６０モル％以上、略６５モル％以上、略７０モル％以上、略７５モル％以上、略８０モル％以上、略８５モル％以上、略９０モル％以上または略９５モル％以上の割合で存在できる。前記エネルギー線硬化性官能基の割合の上限には、特別な制限はなく、例えば、前記官能基の割合は、略１００モル％以下、略９５モル％以下、略９０モル％以下、略８５モル％以下、略８０モル％以下、略７５モル％以下または略７０モル％以下程度であってもよい。
前記シリコーン樹脂成分は、重量平均分子量（Ｍｗ，Ｗｅｉｇｈｔ Ａｖｅｒａｇｅ Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｗｅｉｇｈｔ）が１万～５万の範囲内であってもよい。前記重量平均分子量は、いわゆるＧＰＣ（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）により測定された標準ポリスチレンの換算値であってもよい。前記重量平均分子量は、他の例示において、約１１０００ｇ／ｍｏｌ以上、１２０００ｇ／ｍｏｌ以上、１３０００ｇ／ｍｏｌ以上、１４０００ｇ／ｍｏｌ以上、１５０００ｇ／ｍｏｌ以上、１６０００ｇ／ｍｏｌ以上、１７０００ｇ／ｍｏｌ以上、１８０００ｇ／ｍｏｌ以上、１９０００ｇ／ｍｏｌ以上、２００００ｇ／ｍｏｌ以上、２１０００ｇ／ｍｏｌ以上、２２０００ｇ／ｍｏｌ以上、２３０００ｇ／ｍｏｌ以上、２４０００ｇ／ｍｏｌ以上、２５０００ｇ／ｍｏｌ以上、２６０００ｇ／ｍｏｌ以上、２７０００ｇ／ｍｏｌ以上、２８０００ｇ／ｍｏｌ以上、２９０００ｇ／ｍｏｌ以上または３００００ｇ／ｍｏｌ以上であるか、４５０００ｇ／ｍｏｌ以下、４００００ｇ／ｍｏｌ以下、３５０００ｇ／ｍｏｌ以下、３００００ｇ／ｍｏｌ以下、２５０００ｇ／ｍｏｌ以下または２００００ｇ／ｍｏｌ以下程度であってもよい。
前記シリコーン樹脂成分は、また、分子量分布（ＰＤＩ，Ｍｗ／Ｍｎ）、すなわち数平均分子量（Ｍｎ）に対する重量平均分子量（Ｍｗ）の割合が１．８以上程度であってもよい。前記分子量分布は、他の例示において、１．９以上、２．０以上、２．１以上、２．２以上または２．３以上であるか、３．０以下、２．９以下、２．８以下、２．７以下、２．６以下、２．５以下または２．４以下であってもよい。
前述した平均単位を有し、また、前記分子量特性を有するシリコーン樹脂成分は、目的とする物性の硬化物層を効果的に形成できるようにする。
前記シリコーン樹脂成分の製造のためには、いわゆる縮合性シラン化合物（ｅｘ．アルコキシシラン化合物）を縮合させる重合過程と、前記重合過程に引き続く分子量調節過程が必要である。前記で縮合性シラン化合物を縮合させてシリコーン樹脂成分を製造する方式は、多様に公知されており、通常、このような縮合過程のみを行って、シリコーン樹脂成分を製造している。ところが、単に前記のように縮合工程による重合だけでは、前記言及されたレベルの分子量特性の確保が難しい。したがって、前記縮合過程に引き続いて適切な分子量調節過程が必要である。
前記分子量調節過程は、例えば、重合反応物を所定温度の減圧条件で維持しつつ行うことができる。この過程で、重合反応物に含まれている溶媒、低分子量成分および／または未反応物が除去されて、目的とするレベルで分子量が調節できる。前記で減圧条件は、特に制限されるものではないが、約５０～９０Ｔｏｒｒの真空度で減圧工程を行うことができる。前記真空度は、他の例示において、約５５Ｔｏｒｒ以上、約６０Ｔｏｒｒ以上または約６５Ｔｏｒｒ以上であるか、約８５Ｔｏｒｒ以下、約８０Ｔｏｒｒ以下または約７５Ｔｏｒｒ以下程度であってもよい。
前記減圧工程は、所定の温度プロファイル下で行われ得る。例えば、前記減圧工程は、約３０℃～７０℃の範囲内の温度で真空度を前記レベルに維持する第１段階と、前記第１段階に引き続いて真空度を前記レベルに維持しつつ、温度を６０～１００℃の範囲内に維持する第２段階とを含んでもよい。前記第１段階で、温度を約３０℃～７０℃の範囲内に維持しつつ、前記言及した真空度を維持する場合、減圧により温度が低下し、通常、１０℃～３０℃程度のレベルに温度が低下する。したがって、前記のように温度が低下すると、さらに温度を前記第２段階レベルまで上げて、さらに分子量調節工程を進める。前記第１段階の温度は、他の例示において、約３５℃以上、４０℃以上または４５℃以上であるか、６５℃以下、６０℃以下または５５℃以下であってもよく、第２段階の温度は、他の例示において、約６５℃以上、７０℃以上または７５℃以上であるか、約９５℃以下、約９０℃以下または８５℃以下であってもよい。また、前記第１段階では、前記言及したように、実質的に前記言及された真空度で前記温度が約３０℃～７０℃の範囲内の温度から１０℃～３０℃程度のレベルに低下する過程が行われ得る。前記第１および第２段階が行われる時間は、特に制限されないが、適切なレベルの分子量を確保するために、前記第１段階は、略１時間～５時間行い、前記第２段階は、略１０分～６０分間程度で行うことができる。
前記分子量調節工程に適用される重合反応物を得る方式は特に制限されない。当該業界では、アルコキシシランなどの縮合性化合物を使ってシリコーン樹脂を製造する内容が多様に知られており、このような方法がすべて本発明において適用できる。
後続する分子量調節過程で目的とする好適な分子量の確保を有利にするために、前記重合過程は、アルコキシシランなどの縮合性シランを水性溶媒とアルコール、ケトンおよび／またはアセテートの混合溶媒内で塩基触媒を適用して重合させる方法が適用できる。
前記過程で、アルコキシシランとしては、公知の化合物が適用できる。
前記で適用可能な水性溶媒としては、例えば、水があり、このような水性溶媒は、重合に適用される全体縮合性シラン化合物（ｅｘ．アルコキシシラン）１モル当たり略０．１～１０モルの割合で適用できる。前記水性溶媒の割合は、他の例示において、約０．５モル以上、約１モル以上、約１．５モル以上、約２モル以上または約２．５モル以上であるか、約９モル以下、約８モル以下、約７モル以下、約６モル以下、約５モル以下、約４モル以下または約３モル以下程度であってもよい。
前記で適用可能なアルコールとしては、エチルアルコール、ｎ－プロピルアルコール、ｉ－プロピルアルコール、ｉ－ブチルアルコール、ｎ－ブチルアルコールおよび／またはｔ－ブチルアルコールなどが例示でき、ケトン溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルケトン、メチルイソプロピルケトンおよび／またはアセチルアセトンなどが例示でき、アセテート溶媒としては、メチルアセテート、エチルアセテート、プロピルアセテートおよび／またはブチルアセテートなどが例示できるが、これらに制限されるものではない。このようなアルコール、ケトンまたはアセテート溶媒は、重合に適用される全体縮合性シラン化合物（ｅｘ．アルコキシシラン）１モル当たり略０．１～１０モルの割合で適用できる。前記アルコール、ケトンまたはアセテート溶媒の割合は、他の例示において、約０．５モル以上、約１モル以上、約１．５モル以上、約２モル以上または約２．５モル以上であるか、約９モル以下、約８モル以下、約７モル以下、約６モル以下、約５モル以下、約４モル以下または約３モル以下程度であってもよい。
前記過程で適用される塩基触媒としては、例えば、ｐＫａが１５以下のアミン化合物などが適用できる。前記アミン化合物のｐＫａは、他の例示において、約１４．５以下、約１４以下、約１３．５以下、約１３以下、約１２．５以下、約１２以下、約１１．５以下、約１１以下、約１０．５以下であるか、約１以上、約２以上、約３以上、約４以上、約５以上、約６以上、約７以上、約８以上、約９以上または約１０以上であってもよいが、これらに制限されない。アミン化合物としては、例えば、トリエチルアミンなどのトリアルキルアミンが適用できるが、ｐＫａが前記範囲内であれば、特に制限されない。
前記アミン化合物は、全体縮合性シラン化合物（ｅｘ．アルコキシシラン）１モル当たり略０．０００１モル～０．１モルの割合で適用できる。前記割合は、他の例示において、約０．０００５モル以上、約０．０００７モル以上、約０．０００９モル以上または約０．０１モル以上であるか、約０．０９モル以下、約０．０８モル以下、約０．０７モル以下、約０．０６モル以下、約０．０５モル以下、約０．０４モル以下、約０．０３モル以下または約０．０２モル以下程度であってもよい。
例えば、前記のような成分の混合物を略５０～１１０℃の範囲内の温度で約８～１６時間程度維持して重合反応物を得ることができる。前記重合反応の温度は、他の例示において、約５５℃以上、約６０℃以上、約６５℃以上、約７０℃以上または約７５℃以上であるか、約１０５℃以下、約１００℃以下、約９５℃以下、約９０℃以下または約８５℃以下程度であってもよく、重合時間は、他の例示において、約９時間以上、約１０時間以上または約１１時間以上であるか、約１５時間以下、約１４時間以下または約１３時間以下程度であってもよい。
前記方式で重合された重合物を前記分子量調節工程に導入する場合、目的とする分子量特性をより効果的に確保できる。
前記エネルギー線硬化性組成物は、前記成分と共に反応性希釈剤を含んでもよい。反応性希釈剤は、前記組成物の粘度などを適正範囲で調節して、キャスティング工程が適切に行われるようにすることができる。
反応性希釈剤としては、特別な制限なしで公知の成分を使用できる。エネルギー線硬化性組成物の硬化タイプ（例えば、ラジカル硬化性であるか、カチオン硬化性であるかなど）によって好適な反応性希釈剤が公知となっている。
一例示において、前記シリコーン樹脂成分が、エネルギー線硬化性官能基として、ラジカル硬化性官能基（例えば、アルケニル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアルキル基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基など）を含む場合、前記反応性希釈剤としては、各種アクリレート化合物を適用できる。
このようなアクリレート化合物としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレートまたはテトラデシル（メタ）アクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６－ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレートまたは８－ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペート（ｎｅｏｐｅｎｔｙｌｇｌｙｃｏｌ ａｄｉｐａｔｅ）ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバル酸（ｈｙｄｒｏｘｙｌ ｐｉｖａｌｉｃ ａｃｉｄ）ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（ｄｉｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｎｙｌ）ジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ジ（メタ）アクリロキシエチルイソシアヌレート、アリル（ａｌｌｙｌ）化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ヘキサヒドロフタル酸ジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチルプロパンジ（メタ）アクリレート、アダマンタン（ａｄａｍａｎｔａｎｅ）ジ（メタ）アクリレートまたは９，９－ビス［４－（２－アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ｆｌｕｏｒｉｎｅ）などの二官能性アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、三官能性ウレタン（メタ）アクリレートまたはトリス（メタ）アクリロキシエチルイソシアヌレートなどの三官能性アクリレート；ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレートまたはペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートなどの四官能性アクリレート；プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートなどの五官能性アクリレート；およびジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートまたはウレタン（メタ）アクリレート（ｅｘ．イソシアネート単量体およびトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートの反応物などの六官能性アクリレートなどの多官能性アクリレート化合物などを使用でき、これらの中で、目的とする粘度と物性などを考慮して一種または二種以上を選択して使用できる。
他の例示において、前記シリコーン樹脂成分が、エネルギー線硬化性官能基として、カチオン硬化性官能基（例えば、エポキシ基など）を含む場合、前記反応性希釈剤としては、エポキシ化合物またはオキセタン化合物を適用できる。
カチオン硬化性組成物において反応性希釈剤に適用可能なエポキシまたはオキセタン化合物は、当該業界において多様に公知となっており、このような公知の反応性希釈剤が制限なしで使用できる。
例えば、反応性希釈剤に適用可能なエポキシ化合物またはオキセタン化合物としては、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル－５，５－スピロ－３，４－エポキシ）－シクロヘキサン－１，４－ジオキサン、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンオキシド、４－ビニルエポキシシクロヘキサン、ビニルシクロヘキセンジオキシド、リモネンオキシド、リモネンジオキシド、ビス（３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシル－３’，４’－エポキシ－６’－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、εカプロラクトン－変性３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン－変性３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、βメチル－δバレロラクトン－変性３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサン）、ビシクロヘキシル－３，３’－エポキシド、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－ＣＢｒ２－、－Ｃ（ＣＢｒ３）２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、－Ｃ（ＣＣｌ３）２－または－ＣＨ（Ｃ６Ｈ５）－結合を有するビス（３，４－エポキシシクロヘキシル）、ジシクロペンタジエンジエポキシド、エチレングリコールのジ（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロジオクチルフタレート、エポキシヘキサヒドロ－ジ－２－エチルヘキシルフタレート、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル、フェノール、クレゾール、ブチルフェノール、またはこれらの化合物にアルキレンオキシドを付加して収得したポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシブチルステアリン酸、エポキシオクチルステアリン酸、エポキシ化亜麻仁油、エポキシ化ポリブタジエン、１，４－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（３－ヒドロキシプロピル）オキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（４－ヒドロキシブチル）オキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（５－ヒドロキシペンチル）オキシメチルオキセタン、３－エチル－３－フェノキシメチルオキセタン、ビス（（１－エチル（３－オキセタニル）メチル）エーテル、３－エチル－３－（（２－エチルヘキシルオキシ）メチル）オキセタン、３－エチル－（（トリエトキシシリルプロポキシメチル）オキセタン、３－（メタ）アリルオキシメチル－３－エチルオキセタン、３－ヒドロキシメチル－３－エチルオキセタン、（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチルベンゼン、４－フルオロ－［１－（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、４－メトキシ－［１－（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］－ベンゼン、［１－（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）エチル］フェニルエーテル、イソブトキシメチル（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、２－エチルヘキシル（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、エチルジエチレングリコール（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンタジエン（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニル（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、テトラヒドロフルフリル（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、２－ヒドロキシエチル（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテルまたは２－ヒドロキシプロピル（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテルなどや、前記のうちで選択された２種以上の組み合わせなどが例示できるが、これらに制限されるものではない。
前記エネルギー線硬化性組成物において適用される反応性希釈剤の割合は、目的とする粘度などを考慮して調節されるのであり、特別な制限はないが、通常、前記シリコーン樹脂成分１００重量部に対して１～２００重量部の割合で反応性希釈剤が適用できる。前記割合は、他の例示において、３重量部以上、５重量部以上、７重量部以上または９重量部以上であるか、１９０重量部以下、１８０重量部以下、１７０重量部以下、１６０重量部以下、１５０重量部以下、１４０重量部以下、１３０重量部以下、１２０重量部以下、１１０重量部以下、１００重量部以下、９０重量部以下、８０重量部以下、７０重量部以下、６０重量部以下、５０重量部以下、４０重量部以下、３０重量部以下または２０重量部以下程度であってもよい。
エネルギー線硬化性組成物は、前記シリコーン樹脂成分と反応性希釈剤を基本成分として含み、必要なさらなる成分を含むこともできる。このような添加剤成分としては、前記エネルギー線硬化性組成物の硬化を開始させることができる開始剤、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤および／または表面改質剤などが例示できるが、これらに制限されるものではない。
エネルギー線硬化性組成物に含まれ得るさらなる成分としては、ヘイズ調節のための散乱粒子も含まれる。このような粒子は、通常、光の散乱が可能な粒径を有し、さらに、周辺マトリックスと異なる屈折率を有する粒子が適用され、目的とするヘイズを考慮して適正レベルの粒径と屈折率を有する粒子を使用できる。
前記のようなエネルギー線硬化性組成物を前述した方法に適用して硬化物層を製造することによって、目的物性を有する硬化物層を製造できる。
本発明のフィルムは、前記硬化物層が一面に形成された基材フィルムを含んでもよい。この基材フィルムは、前述した製造方法で適用された基材フィルムであってもよい。
前述したように、基材フィルムとしては、特別な制限なしで公知のフィルムを適用できるが、目的物性をより効果的に満足させるために、機械的および／または熱的に非等方性を有する高分子フィルムを適用できる。本明細書において前記機械的および／または熱的観点から、非等方性の高分子フィルムは、非対称高分子フィルムと呼称できる。前記で高分子フィルムが機械的物性の観点から非等方性というのは、後述する伸び率、応力および弾性率の特性を有する場合であり、熱的に非等方性というのは、後述する熱膨張係数などを有する場合である。
本明細書において言及する各高分子フィルムの物性の測定は、本明細書の実施例項目に記述した方式によって測定する。
前記のような高分子フィルムとしては、いわゆる高延伸ＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））フィルムまたはＳＲＦ（ＳｕｐｅｒＲｅｔａｒｄａｔｉｏｎ Ｆｉｌｍ）などと知られたフィルムが代表的に公知となっている。したがって、本発明において前記高分子フィルムは、例えば、ポリエステルフィルムであってもよい。
前記のようなフィルムは、当該業界に公知となっており、このようなフィルムは、製造過程での高延伸工程により機械的および／または熱的物性において非対称性を示す。当該業界に公知となった前記高分子フィルムの代表的な例としては、ＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））フィルムなどのポリエステルフィルムがあり、例えば、Ｔｏｙｏｂｏ社で供給される商品名ＳＲＦ（ＳｕｐｅｒＲｅｔａｒｄａｔｉｏｎ Ｆｉｌｍ）系のフィルムがある。
一例示において、前記高分子フィルムは、面内の任意の第１方向におけるフィルム（硬化物層／基材フィルムを含むまたは硬化物層／基材フィルム／平坦化層を含む）（Ｅ１）と、前記第１方向と垂直を成す第２方向におけるフィルム（硬化物層／基材フィルムを含むまたは硬化物層／基材フィルム／平坦化層を含む）（Ｅ２）との割合（Ｅ１／Ｅ２）が３以上であってもよい。前記割合（Ｅ１／Ｅ２）は、他の例示において、約３．５以上、４以上、４．５以上、５以上、５．５以上、６以上または６．５以上であってもよい。前記割合（Ｅ１／Ｅ２）は、他の例示において、約２０以下、１８以下、１６以下、１４以下、１２以下、１０以下、８以下または７．５以下であってもよい。
本明細書において用語「高分子フィルムの第１方向および第２方向」は、前記フィルム基板の面内の任意の方向である。例えば、高分子フィルムが延伸高分子フィルムである場合、前記面内の方向は、前記高分子フィルムのＭＤ（Ｍａｃｈｉｎｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）およびＴＤ（ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向により形成される面内の方向であってもよい。一例示において、本明細書において記述する第１方向は、高分子フィルムの遅相軸および進相軸方向のうちいずれか一方の方向であり、第２方向は、遅相軸および進相軸方向のうち他方の方向であってもよい。他の例示において、前記第１方向は、高分子フィルムが延伸高分子フィルムである場合、ＭＤ（Ｍａｃｈｉｎｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）およびＴＤ（ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向のうちいずれか一方の方向であり、第２方向は、ＭＤ（Ｍａｃｈｉｎｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）およびＴＤ（ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）方向のうち他方の方向であってもよい。
前記高分子フィルムの前記第１方向（例えば、前述した遅相軸方向またはＴＤ方向）における伸び率が１５％以上、２０％以上、２５％以上、３０％以上、３５％以上または４０％以上であってもよい。前記伸び率は、他の例示において、約６０％以下、５５％以下、５０％以下または４５％以下であってもよい。
前記高分子フィルムは、前記第２方向における熱膨張係数（ＣＴＥ２）と前記第１方向における熱膨張係数（ＣＴＥ１）との割合（ＣＴＥ２／ＣＴＥ１）が１．５以上であってもよい。前記熱膨張係数（ＣＴＥ１、ＣＴＥ２）は、それぞれ、４０℃～８０℃の温度範囲内で確認される値である。前記割合（ＣＴＥ２／ＣＴＥ１）は、他の例示において、約２以上であるか、１０以下、９以下、８以下、７以下、６以下、５以下、４以下または３以下程度であってもよい。
前記第２方向における熱膨張係数（ＣＴＥ２）は、５～１５０ｐｐｍ／Ｋの範囲内であってもよい。前記熱膨張係数は、約１０ｐｐｍ／Ｋ以上、１５ｐｐｍ／Ｋ以上、２０ｐｐｍ／Ｋ以上、２５ｐｐｍ／Ｋ以上、３０ｐｐｍ／Ｋ以上、３５ｐｐｍ／Ｋ以上、４０ｐｐｍ／Ｋ以上、４５ｐｐｍ／Ｋ以上、５０ｐｐｍ／Ｋ以上、約５５ｐｐｍ／Ｋ以上、６０ｐｐｍ／Ｋ以上または６５ｐｐｍ／Ｋ以上であるか、１４０ｐｐｍ／Ｋ以下、１３０ｐｐｍ／Ｋ以下、１２０ｐｐｍ／Ｋ以下、１００ｐｐｍ／Ｋ以下、９５ｐｐｍ／Ｋ以下、９０ｐｐｍ／Ｋ以下、８５ｐｐｍ／Ｋ以下、８０ｐｐｍ／Ｋ以下、７５ｐｐｍ／Ｋ以下または７０ｐｐｍ／Ｋ以下であってもよい。
前記高分子フィルムは、前記第２方向における弾性率（ＹＭ２）と前記第１方向における弾性率（ＹＭ１）との割合（ＹＭ１／ＹＭ２）が１．５以上であってもよい。前記割合（ＹＭ１／ＹＭ２）は、他の例示において、約２以上であるか、１０以下、９以下、８以下、７以下、６以下、５以下、４以下、３以下または２．５以下であってもよい。
前記第１方向における弾性率（ＹＭ１）は、約２～１０ＧＰａの範囲内であってもよい。前記弾性率（ＹＭ１）は、他の例示において、約２．５ＧＰａ以上、３ＧＰａ以上、３．５ＧＰａ以上、４ＧＰａ以上、４．５ＧＰａ以上、５ＧＰａ以上または５．５ＧＰａ以上であるか、約９．５ＧＰａ以下、９ＧＰａ以下、８．５ＧＰａ以下、８ＧＰａ以下、７．５ＧＰａ以下、７ＧＰａ以下、６．５ＧＰａ以下または６ＧＰａ以下であってもよい。
本明細書においていう弾性率は、特に別途言及しない限り、いわゆるヤング率（Ｙｏｕｎｇ’ｓ ｍｏｄｕｌｕｓ）であり、後述する実施例の方式によって測定する。
前記高分子フィルムは、前記第２方向における最大応力（ＭＳ２）と前記第１方向における最大応力（ＭＳ１）との割合（ＭＳ１／ＭＳ２）が１．５以上であってもよい。前記割合（ＭＳ１／ＭＳ２）は、他の例示において、約２以上であるか、１０以下、９以下、８以下、７以下、６以下、５以下、４以下、３以下または２．５以下であってもよい。
前記第１方向（例えば、前述した遅相軸方向またはＴＤ方向）における最大応力（ＭＳ１）は、約８０～３００ＭＰａの範囲内であってもよい。前記最大応力（ＭＳ１）は、他の例示において、約９０ＭＰａ以上、約１００ＭＰａ以上、約１１０ＭＰａ以上、約１２０ＭＰａ以上、約１３０ＭＰａ以上、約１４０ＭＰａ以上、約１５０ＭＰａ以上、約１５５ＭＰａ以上、１６０ＭＰａ以上、１６５ＭＰａ以上、１７０ＭＰａ以上、１７５ＭＰａ以上または１８０ＭＰａ以上、１８５ＭＰａ以上、１９０ＭＰａ以上または１９５ＭＰａ以上であるか、約３００ＭＰａ以下、約２９０ＭＰａ以下、約２８０ＭＰａ以下、約２７０ＭＰａ以下、約２６０ＭＰａ以下、約２５０ＭＰａ以下、約２４５ＭＰａ以下、２４０ＭＰａ以下、２３５ＭＰａ以下、２３０ＭＰａ以下、２２５ＭＰａ以下、２２０ＭＰａ以下、２１５ＭＰａ以下、２１０ＭＰａ以下、２０５ＭＰａ以下または２００ＭＰａ以下であってもよい。
前述したように、前記のような大きい光学的、機械的および／または熱的非対称性を有する高分子フィルムの代表的な例は、いわゆる高延伸ポリエステルフィルムなどと知られた延伸ＰＥＴ（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）フィルムであり、このようなフィルムは、当該業界で容易に入手できる。
前記高分子フィルム（基材フィルム）の一面に前記硬化物層が形成されたフィルム（基材フィルム＋硬化物層を含む）あるいは前記基材フィルムの一面に前記硬化物層が形成され、他の面には、前記平坦化層が形成されたフィルム（平坦化層＋基材フィルム＋硬化物層を含む）は、前記高分子フィルム（基材フィルム）と同等であるか、それから制御された非対称性を示すことができる。
例えば、前記フィルム（硬化物層／基材フィルムを含むまたは硬化物層／基材フィルム／平坦化層を含む）は、面内の任意の第１方向におけるフィルム（硬化物層／基材フィルム含むまたは硬化物層／基材フィルム／平坦化層を含む）（ＥＦ１）と前記第１方向と垂直を成す第２方向におけるフィルム（硬化物層／基材フィルムを含むまたは硬化物層／基材フィルム／平坦化層を含む）（ＥＦ２）との割合（ＥＦ１／ＥＦ２）が１．５以上であってもよい。前記割合（ＥＦ１／ＥＦ２）は、他の例示において、約２以上、２．５以上、３以上または３．５以上であってもよい。前記割合（ＥＦ１／ＥＦ２）は、他の例示において、約２０以下、１８以下、１６以下、１４以下、１２以下、１０以下、８以下、７．５以下、７以下、６．５以下、６以下、５．５以下、５以下、４．５以下、４以下、３．５以下または３以下であってもよい。
本明細書において言及するフィルム（硬化物層／基材フィルムを含むまたは硬化物層／基材フィルム／平坦化層を含む）の機械的および／または熱的特性を記述することで言及する第１および第２方向は、前記高分子フィルム（基材フィルム）の機械的および／または熱的特性を記述することで言及する第１および第２方向とそれぞれ同じ方向であってもよい。
前記でフィルム（硬化物層／基材フィルムを含むまたは硬化物層／基材フィルム／平坦化層を含む）の前記第１方向における伸び率（ＥＦ１）は、１．５％以上、２％以上、２．５％以上、３％以上、３．５％以上、４％以上、４．５％以上、５％以上、５．５％以上または６％以上であってもよい。前記伸び率は、約２０％以下、１５％以下、１０％以下または５％以下であってもよい。
前記高分子フィルムの第１方向における伸び率（Ｅ１）と前記フィルム（硬化物層／基材フィルムを含むまたは硬化物層／基材フィルム／平坦化層を含む）の前記第１方向における伸び率（ＥＦ１）との割合（Ｅ１／ＥＦ１）は、例えば、約２～２０の範囲内であってもよい。前記割合（Ｅ１／ＥＦ１）は、他の例示において、約２．５以上、約３以上、約３．５以上、約４以上、約４．５以上、約５以上、約５．５以上、約６以上、約６．５以上、約７以上、約７．５以上、約８以上、約８．５以上、約９以上、約９．５以上または約１０以上であるか、約１９以下、１８以下、１７以下、１６以下、１５以下、１４以下、１３以下、１２以下、１１以下、１０以下、９以下、８以下または７以下であってもよい。
前記フィルム（硬化物層／基材フィルムを含むまたは硬化物層／基材フィルム／平坦化層を含む）は、前記第２方向における熱膨張係数（ＣＴＥＦ２）と前記第１方向における熱膨張係数（ＣＴＥＦ１）との割合（ＣＴＥＦ２／ＣＴＥＦ１）が１．５以上であってもよい。前記熱膨張係数（ＣＴＥＦ１、ＣＴＥＦ２）は、それぞれ、４０℃～８０℃の温度範囲内で確認される値である。前記割合（ＣＴＥＦ２／ＣＴＥＦ１）は、他の例示において、約２以上であるか、１０以下、９以下、８以下、７以下、６以下、５以下、４以下または３以下程度であってもよい。
前記第２方向における熱膨張係数（ＣＴＥＦ２）は、５～１５０ｐｐｍ／Ｋの範囲内であってもよい。前記熱膨張係数は、約１０ｐｐｍ／Ｋ以上、１５ｐｐｍ／Ｋ以上、２０ｐｐｍ／Ｋ以上、２５ｐｐｍ／Ｋ以上、３０ｐｐｍ／Ｋ以上、３５ｐｐｍ／Ｋ以上、４０ｐｐｍ／Ｋ以上、４５ｐｐｍ／Ｋ以上、５０ｐｐｍ／Ｋ以上、約５５ｐｐｍ／Ｋ以上、６０ｐｐｍ／Ｋ以上または６５ｐｐｍ／Ｋ以上、７０ｐｐｍ／Ｋ以上、７５ｐｐｍ／Ｋ以上、８０ｐｐｍ／Ｋ以上または８５ｐｐｍ／Ｋ以上であるか、１４０ｐｐｍ／Ｋ以下、１３０ｐｐｍ／Ｋ以下、１２０ｐｐｍ／Ｋ以下、１００ｐｐｍ／Ｋ以下、９５ｐｐｍ／Ｋ以下または９０ｐｐｍ／Ｋ以下であってもよい。
前記高分子フィルムの前記第２方向における熱膨張係数（ＣＴＥ２）と前記フィルム（硬化物層／基材フィルムを含むまたは硬化物層／基材フィルム／平坦化層を含む）の前記第２方向における熱膨張係数（ＣＴＥＦ２）との割合（ＣＴＥ２／ＣＴＥＦ２）は、例えば、約２以下であってもよい。前記割合（ＣＴＥ２／ＣＴＥＦ２）は、他の例示において、約０以上、約０．１以上、約０．２以上、約０．３以上、約０．４以上、約０．５以上、約０．６以上または約０．７以上であるか、約１．５以下、１以下、０．９以下、０．８５以下または０．８以下であってもよい。
前記フィルム（硬化物層／基材フィルムを含むまたは硬化物層／基材フィルム／平坦化層を含む）は、前記第２方向における弾性率（ＹＭＦ２）と前記第１方向における弾性率（ＹＭＦ１）との割合（ＹＭＦ１／ＹＭＦ２）が１以上であってもよい。前記割合（ＹＭＦ１／ＹＭＦ２）は、他の例示において、約１．１以上、１．２以上、１．３以上、１．４以上、１．５以上、１．６以上、１．７以上または１．８以上であるか、１０以下、９以下、８以下、７以下、６以下、５以下、４以下、３以下、２．５以下、２以下、１．９以下、１．８以下または１．８以下であってもよい。
前記第１方向における弾性率（ＹＭＦ１）は、約２～１０ＧＰａの範囲内であってもよい。前記弾性率（ＹＭＦ１）は、他の例示において、約２．５ＧＰａ以上、３ＧＰａ以上、３．５ＧＰａ以上、４ＧＰａ以上または４．５ＧＰａ以上であるか、約９．５ＧＰａ以下、９ＧＰａ以下、８．５ＧＰａ以下、８ＧＰａ以下、７．５ＧＰａ以下、７ＧＰａ以下、６．５ＧＰａ以下または６ＧＰａ以下、５．５ＧＰａ以下または５ＧＰａ以下であってもよい。
前記高分子フィルムの第１方向における弾性率（ＹＭ１）と前記フィルム（硬化物層／基材フィルムを含むまたは硬化物層／基材フィルム／平坦化層を含む）の前記第１方向における弾性率（ＹＭＦ１）との割合（ＹＭ１／ＹＭＦ１）は、例えば、約０．５～１０の範囲内であってもよい。前記割合（ＹＭ１／ＹＭＦ１）は、他の例示において、約１以上または１超過や、９以下、８以下、７以下、６以下、５以下、４以下、３以下、２以下または１．５以下であってもよい。
前記フィルム（硬化物層／基材フィルムを含むまたは硬化物層／基材フィルム／平坦化層を含む）は、前記第２方向における最大応力（ＭＳＦ２）と前記第１方向における最大応力（ＭＳＦ１）との割合（ＭＳＦ１／ＭＳＦ２）が１．５以上であってもよい。前記割合（ＭＳＦ１／ＭＳＦ２）は、他の例示において、約２以上であるか、１０以下、９以下、８以下、７以下、６以下、５以下、４以下または３以下であってもよい。
前記第１方向における最大応力（ＭＳＦ１）は、約５０～２００ＭＰａの範囲内であってもよい。前記最大応力（ＭＳＦ１）は、他の例示において、約５５ＭＰａ以上、約６０ＭＰａ以上、約６５ＭＰａ以上、約７０ＭＰａ以上、約７５ＭＰａ以上、約８０ＭＰａ以上、約８５ＭＰａ以上、約９０ＭＰａ以上または９５ＭＰａ以上であるか、約１９０ＭＰａ以下、約１８０ＭＰａ以下、約１７０ＭＰａ以下、約１６０ＭＰａ以下、約１５０ＭＰａ以下、約１４５ＭＰａ以下、約１４０ＭＰａ以下、約１３５ＭＰａ以下、約１３０ＭＰａ以下、約１２５ＭＰａ以下、約１２０ＭＰａ以下、約１１５ＭＰａ以下、約１１０ＭＰａ以下、約１０５ＭＰａ以下、９０ＭＰａ以下または約８０ＭＰａ以下であってもよい。
前記高分子フィルムの第１方向における最大応力（ＭＳ１）と前記フィルム（硬化物層／基材フィルムを含むまたは硬化物層／基材フィルム／平坦化層を含む）の前記第１方向における最大応力（ＭＳＦ１）との割合（ＭＳ１／ＭＳＦ１）は、例えば、約０．５～１０の範囲内であってもよい。前記割合（ＭＳ１／ＭＳＦ１）は、他の例示において、約１以上、１．５以上、２以上または２．５以上であるか、９以下、８以下、７以下、６以下、５以下、４以下または３以下であってもよい。
前記のように、光学的、機械的および／または熱的に大きい非対称性を有する基材フィルムを適用することによって、前記言及されたフィルムの物性が確保され、これは、前記フィルムが多様な用途に効果的に適用可能な物性を確保できるようにする。
例えば、本発明の前記フィルムは、優れた柔軟性を有することができる。本発明のフィルムは、例えば、前記言及された耐スクラッチ性および／または表面硬度を示すと同時に、優れた柔軟性を示すことができる。例えば、前記フィルムは、単独であるいは他の膜と組み合わせて１～４０ｐｉ程度の最大維持曲率半径を示すことができる。前記で最大維持曲率半径とは、前記フィルムに対してＡＳＴＭ Ｄ５２２規格によるマンドレルテストによって屈曲させたとき、フィルムの表面で欠陥が観察されず、最大に屈曲されたときの曲率半径を意味する。
前記曲率半径は、他の例示において、１．５ｐｉ以上であるか、３８ｐｉ以下程度、３６ｐｉ以下程度、３４ｐｉ以下程度、３２ｐｉ以下程度、３０ｐｉ以下程度、２８ｐｉ以下程度、２６ｐｉ以下程度、２４ｐｉ以下程度、２２ｐｉ以下程度、２０ｐｉ以下程度、１８ｐｉ以下程度、１６ｐｉ以下程度、１４ｐｉ以下程度、１２ｐｉ以下程度、１０ｐｉ以下程度、８ｐｉ以下程度、６ｐｉ以下程度、４ｐｉ以下程度または３ｐｉ以下程度であってもよい。
前記本発明のフィルムにおいて適用可能な基材フィルムの厚みは、特に制限されず、目的とする用途を考慮した一般的な厚みを有することができる。
前記のような本発明のフィルムは、多様な用途に適用できる。例えば、前記フィルムは、多様な光学用途に適用できる。
したがって、本発明は、また、光学積層体に関する。前記光学積層体は、光学機能性層および前記機能性層の少なくとも一面に形成された前記フィルムを形成できる。この場合、フィルムにおいて硬化物層に対して前記基材フィルムが前記機能性層に隣接して位置できる。
前記で適用可能な光学機能性層の種類は、特に制限されず、例えば、公知の偏光層や位相差層などが例示できる。
本発明は、透明性またはヘイズなどの光学物性と、硬度などの機械的物性、および柔軟性に優れ、表面の形態が多様な用途に適するように制御されており、前記制御された表面形態の耐久性に優れたフィルムを提供できる。
以下、実施例に基づいて本発明の範囲をより具体的に説明するが、本発明の範囲が下記実施例によって制限されるものではない。
１．ヘイズの測定方法
ヘイズは、測定機器（製造社：ＭＣＲＬ、製品名：ＨＭ－１５０）を使ってフィルムの凹凸面に光が入射するようにして、透過モード方式で、ＪＩＳ Ｋ ７１３６規格によって測定した。
２．６０度グロス（ｇｌｏｓｓ）の測定方法
６０度グロスは、測定機器（製造社：ＢＹＫ、製品名：ＢＹＫ Ｍｉｃｒｏ Ｇｌｏｓｓｍｅｔｅｒ ６０°４５６１）を使ってフィルムの凹凸面に光が入射するようにして、反射モード方式で、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ２８１３規格によって測定した。
３．算術平均粗さＲａの測定方法
フィルムの凹凸表面などの算術平均粗さＲａは、ナノシステム社のｏｐｔｉｃａｌ ｐｒｏｆｉｌｅｒ（モデル名：ＮＶ２７００）を使って、ＫＳ Ｂ ０６０１またはＩＳＯ ４２８７／１規格によって確認し、二つの規格が一致しない場合には、ＫＳ Ｂ ０６０１規格によって確認した。
４．５００ｇスチールウール耐性の評価
スチールウール耐性は、Ｌｉｂｅｒｏｎ社で販売する等級＃００００のスチールウールを用いて評価した。測定装備（製造社：キベイエンティ社、商品名：ＫＭ－Ｍ４３６０）を使って前記スチールウールを５００ｇの荷重でフィルムの凹凸表面に接触させ、左右移動させながら、スチールウール耐性を評価した。この際、接触面積は、略横および縦がそれぞれ２ｃｍおよび２ｃｍ程度（接触面積：４ｃｍ２）になるようにした。前記移動は、約６０回／ｍｉｎの速度で行い、移動距離は、略１０ｃｍにした。目視観察で反射を観察して、圧痕、傷または破裂などが確認されるまでスチールウールテストを行った。
５．鉛筆硬度の評価
鉛筆硬度は、ＪＩＳ ５６００規格によって、測定装備（製造社：チュンブクテック社、商品名：Ｐｅｎｃｉｌ Ｈａｒｄｎｅｓｓ Ｔｅｓｔｅｒ）を使って、５００ｇの荷重および４５度の角度で円筒形の鉛筆芯を用いてフィルムの凹凸表面をひいて圧痕、傷または破裂などの欠陥の発生が確認されるまで鉛筆芯の硬度を段階的に増加させることで測定した。鉛筆芯の速度は約１ｍｍ／ｓｅｃとし、移動距離は約１０ｍｍとした。このようなテストは、約２５℃の温度および５０％の相対湿度で行った。
６．ＧＰＣ（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈ）
数平均分子量（Ｍｎ）および分子量分布は、ＧＰＣ（Ｇｅｌ ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）を使って測定した。５ｍＬバイアル（ｖｉａｌ）にシリコーン樹脂成分などの分析対象物質を入れ、約１ｍｇ／ｍＬ程度の濃度になるようにＴＨＦ（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）に希釈する。その後、較正用標準試料と分析しようとする試料をシリンジフィルター（細孔径：０．４５μｍ）を通じてろ過させた後に測定した。分析プログラムは、Ａｇｉｌｅｎｔ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社のＣｈｅｍＳｔａｔｉｏｎを使用し、試料の溶出時間を較正曲線と比較して重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を求め、その割合（Ｍｗ／Ｍｎ）で分子量分布（ＰＤＩ）を計算した。ＧＰＣの測定条件は、下記の通りである。
＜ＧＰＣ測定条件＞
機器：Ａｇｉｌｅｎｔ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社の１２００ ｓｅｒｉｅｓ
カラム：Ｐｏｌｙｍｅｒ ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社のＰＬｇｅｌ ｍｉｘｅｄ Ｂ ２個を使用
溶媒：ＴＨＦ
カラム温度：３５℃
サンプル濃度：１ｍｇ／ｍＬ、２００μＬ注入
標準試料：ポリスチレン（Ｍｐ：３９０００００、７２３０００、３１６５００、５２２００、３１４００、７２００、３９４０、４８５）
７．フィルムの引張特性および熱膨張係数の評価
フィルムの弾性率（Ｙｏｕｎｇ’ｓ ｍｏｄｕｌｕｓ）、伸び率（Ｅｌｏｎｇａｔｉｏｎ）および最大応力（Ｍａｘ．ｓｔｒｅｓｓ）は、ＵＴＭ（Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ Ｔｅｓｔｉｎｇ Ｍａｃｈｉｎｅ）装備（Ｉｎｓｔｒｏｎ ３３４２）を用いて、常温（２５℃）で１０ｍｍ／ｍｉｎの引張速度で力を加えて、ＡＳＴＭ Ｅ８３１規格によって引張強度（ｔｅｎｓｉｌｅ ｓｔｒｅｎｇｔｈ）試験を進めて測定した。この場合、各試験片は、幅が約１０ｍｍ、長さが約３０ｍｍになるように裁断して製造し、前記長さ方向の両終端の各１０ｍｍずつをテーピングして装備に固定した後に評価を進めた。熱膨張係数は、ＴＭＡ（Ｔｈｅｒｍｏｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ）装置（Ｍｅｔｔｅｌｅｒ ｔｏｌｅｄｏ社、ＳＤＴＡ８４０）を用いて、４０℃から８０℃に温度を１０℃分の速度で昇温させながら、長さ膨張試験を進めて、ＡＳＴＭ Ｅ８３１規格によって測定した。測定時に試験片の測定方向の長さを１０ｍｍとし、荷重を０．０２Ｎに設定した。
８．凹凸表面の歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）の測定方法
凹凸表面の歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）は、ナノシステム社のｏｐｔｉｃａｌ ｐｒｏｆｉｌｅｒ（モデル名：ＮＶ２７００）を使って、ＩＳＯ ２５１７８規格によって確認した。前記過程でプログラムとしてナノシステム社のｎａｎｏｍａｐプログラムを使用した。
製造例１．フィルム材料Ｐの製造
シリコーン樹脂成分ｐの製造
３－アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ５１０３，Ｓｈｉｎｅｔｓｕ ｓｉｌｉｃｏｎ社）、ジメチルジメトキシシラン（ＤＭＤＭＳ，Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社）、エタノール、水およびＴＥＡ（ｔｒｉｅｔｈｙｌ ａｍｉｎｅ）を０．８：０．２：２．８：２．８：０．０１（ＫＢＭ５１０３：ＤＭＤＭＳ：エタノール：水：ＴＥＡ）のモル比で常温で均一に混合し、フラスコで８０℃で撹拌しつつ、約１２時間程度反応させて、１次反応物を得た。製造された１次反応物の数平均分子量（Ｍｎ）は約８３４１．３８ｇ／ｍｏｌ程度であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．０５程度であった。
前記１次反応物を７０Ｔｏｒｒ程度の真空条件および５０℃の温度で約３時間程度維持した。この過程で温度が減圧により約２０℃程度に低下した。次に、さらに、真空条件を維持したまま、温度を８０℃に上げて３０分間維持することによって、さらなる重合および溶媒（水）の蒸発が進行されるようにして、シリコーン樹脂成分ｐを得た。得られたシリコーン樹脂成分ｐは、下記平均単位式Ａで示される成分であって、数平均分子量（Ｍｎ）が約１３４２６．６３ｇ／ｍｏｌであり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が約２．３４程度であった。
［平均単位式Ａ］
（Ｍｅ２ＳｉＯ２／２）０．２（ＡｃＳｉＯ３／２）０．８
平均単位式Ａで、Ｍｅは、メチル基であり、Ａｃは、３－アクリロイルオキシプロピル基である。
無溶剤タイプのコーティング液ｐの製造
前記製造されたシリコーン樹脂成分ｐをトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）と９：１の重量比（シリコーン樹脂成分ｐ：ＴＭＰＴＡ）で混合し、前記混合物１００重量部に対して約２．５重量部のラジカル開始剤（製造社：Ｄｕｐｏｎｔ、製品名：Ｉｇａｒｃｕｒｅ８１９）を配合して、無溶剤タイプのコーティング液ｐを製造した。
製造例２．フィルム材料Ｑの製造
シリコーン樹脂成分ｑの製造
反応時間を約１時間程度として１次反応物を得たことを除いて、製造例１のシリコーン樹脂成分ｐと同じ方式で製造した。製造された１次反応物の数平均分子量（Ｍｎ）は約１７１２．８８ｇ／ｍｏｌ程度であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．６３程度であった。
前記１次反応物を７０Ｔｏｒｒ程度の真空条件および５０℃の温度で約３時間程度維持した。この過程で温度が減圧により約２０℃程度に低下した。次に、さらに真空条件を維持したまま、温度を８０℃に上げて３０分間維持することによって、さらなる重合および溶媒（水）の蒸発が進行されるようにして、シリコーン樹脂成分ｑを得た。得られたシリコーン樹脂成分ｑは、下記平均単位式Ａで示される成分であって、数平均分子量（Ｍｎ）が約２２１９．６３ｇ／ｍｏｌであり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が約１．７７程度であった。
［平均単位式Ａ］
（Ｍｅ２ＳｉＯ２／２）０．２（ＡｃＳｉＯ３／２）０．８
平均単位式Ａで、Ｍｅは、メチル基であり、Ａｃは、３－アクリロイルオキシプロピル基である。
無溶剤タイプのコーティング液ｑの製造
前記製造されたシリコーン樹脂成分ｑをトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）と９：１の重量比（シリコーン樹脂成分ｑ：ＴＭＰＴＡ）で混合し、前記混合物１００重量部に対して約２．５重量部のラジカル開始剤（製造社：Ｄｕｐｏｎｔ、製品名：Ｉｇａｒｃｕｒｅ８１９）を配合して、無溶剤タイプのコーティング液ｑを製造した。
製造例３．フィルム材料Ｒの製造
シリコーン樹脂成分ｒの製造
エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン（ＤＭＤＭＳ，Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社）、エタノール、水およびＴＥＡ（Ｔｒｉｅｔｈｙｌ ａｍｉｎｅ）を０．８：０．２：２．８：２．８：０．０１（エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン：ＤＭＤＭＳ：エタノール：水：ＴＥＡ）のモル比で常温で均一に混合し、フラスコで７０℃で撹拌しつつ、約２４時間程度反応させて、１次反応物を得た。
前記１次反応物を７０Ｔｏｒｒ程度の真空条件および５０℃の温度で約３時間程度維持した。この過程で温度が減圧により約２０℃程度に低下した。次に、さらに真空条件を維持したまま、温度を８０℃に上げて３０分間維持することによって、シリコーン樹脂成分ｒを得た。得られたシリコーン樹脂成分ｒは、下記平均単位式Ｂで示すことができる。
［平均単位式Ｂ］
（Ｍｅ２ＳｉＯ２／２）０．２（ＥｐＳｉＯ３／２）０．８
平均単位式Ｂで、Ｍｅは、メチル基であり、Ｅｐは、３，４－エポキシシクロヘキシルエチル基である。
無溶剤タイプのコーティング液ｒの製造
前記製造されたシリコーン樹脂ｒをエポキシダイマーである１３（（（［３－ｅｔｈｙｌｏｘｅｔａｎｅ－３－ｙｌ］ｍｅｔｈｏｘｙ）ｍｅｔｈｙｌ）ｏｘａｎｅ）（ＤＯＸ，ｔｏａｇｏｓｅｉ社）と６：４の重量比（エポキシ樹脂：ＤＯＸ）で混合し、前記混合物１００重量部に対して約３重量部のカチオン開始剤（ＩＫ－１，Ｓａｎ－Ａｐｒｏ社）を配合して、無溶剤タイプのコーティング液ｒを製造した。
製造例４．モールド用防眩フィルム（ＡＧ１フィルム）の製造
モールド用防眩フィルムは、厚み１００μｍのＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））基材フィルム（ＴＡ０６３，Ｔｏｙｏｂｏ社）上にコーティング液として、非ウレタン系多官能性アクリレートであるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ｄｉｐｅｎｔａｅｒｙｔｈｒｉｔｏｌ ｈｅｘａａｃｒｙｌａｔｅ）、平均粒径（メディアン粒径、Ｄ５０粒径）が約１μｍのシリカ粒子、フッ素系スリップ剤（製造社：３Ｍ、製品名：ＦＣ４４３０）およびラジカル開始剤（製造社：Ｄｕｐｏｎｔ、製品名：Ｉｇａｒｃｕｒｅ８１９）を１００：１２：０．１：２の重量比（非ウレタン系多官能性アクリレート：シリカ粒子：スリップ剤：ラジカル開始剤）で含むコーティング液を溶媒に５０重量％程度の固形分で希釈して製造したコーティング液を約２０μｍ程度の厚みでコーティングし、８０℃で約２分間乾燥後、Ｈ ｂｕｌｂ（Ｆｕｓｉｏｎ社）で１Ｊ／ｃｍ２程度のエネルギーで紫外線を照射して製造した。製造された防眩フィルムの防眩表面の算術平均粗さＲａは０．２～０．４μｍのレベルであり、６０度グロスは４５％であった。また、前記防眩表面の歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）は略０．５５～０．６程度であった。
製造例５．モールド用防眩フィルム（ＡＧ２フィルム）の製造
コーティング液として、非ウレタン系多官能性アクリレートであるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ｄｉｐｅｎｔａｅｒｙｔｈｒｉｔｏｌ ｈｅｘａａｃｒｙｌａｔｅ）、平均粒径（メディアン粒径、Ｄ５０粒径）が約１μｍのシリカ粒子、フッ素系スリップ剤（製造社：３Ｍ、製品名：ＦＣ４４３０）およびラジカル開始剤（製造社：Ｄｕｐｏｎｔ、製品名：Ｉｇａｒｃｕｒｅ８１９）を１００：９：０．１：２の重量比（非ウレタン系多官能性アクリレート：シリカ粒子：スリップ剤：ラジカル開始剤）で含むコーティング液を溶媒に５０重量％程度の固形分で希釈して製造したコーティング液を使用したことを除いて、製造例４と同一に防眩フィルムを製造した。当該フィルムの防眩表面の算術平均粗さＲａは０．２～０．４μｍのレベルであり、６０度グロスは６５％であった。また、前記防眩表面の歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）は略０．７５～０．８５程度であった。
実施例１
一面に厚み約４０μｍの平坦化層が形成されたＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））フィルムにおける平坦化層のない面に製造例１の無溶剤タイプのコーティング液ｐを約４０μｍ程度の厚みでコーティングした。前記ＰＥＴフィルムとしては、Ｔｏｙｏｂｏ社のＳＲＦフィルムを使用した。前記ＳＲＦフィルムの面内位相差（Ｒｉｎ）は約８，４００ｎｍであり、厚み方向位相差（Ｒｔｈ）は約９，２００ｎｍであった。また、前記ＳＲＦフィルムのＴＤ方向の熱膨張係数（ＣＴＥ１）、弾性率（ＹＭ１）、最大応力（ＭＳ１）および伸び率（Ｅ１）は、それぞれ２７ｐｐｍ／Ｋ、５．７ＧＰａ、１９９ＭＰａおよび４４．５％であり、ＭＤ方向の熱膨張係数（ＣＴＥ２）、弾性率（ＹＭ２）、最大応力（ＭＳ２）および伸び率（Ｅ２）は、それぞれ、６７ｐｐｍ／Ｋ、２．３ＧＰａ、８１ＭＰａおよび６．８％であった。
次に、前記コーティング層（平坦化層の反対側に形成されたコーティング層）上に製造例５の防眩フィルム（ＡＧ２フィルム）の防眩表面を気泡あるいは空気層が混入しないように接触させた状態で、Ｄバルブ（Ｄ ｂｕｌｂ，Ｆｕｓｉｏｎ社）を使って紫外線を２Ｊ／ｃｍ２のエネルギーで前記防眩フィルムを透過してコーティング層に照射する方向で照射し、また、ＰＥＴフィルム側にさらに照射して、基材フィルムと硬化物層を含むフィルムを製造した。製造された硬化物層の防眩表面に当接する表面には、凹凸構造が一体的に形成された。前記凹凸表面に対して測定したヘイズは約５．２％程度であり、６０度グロスは６５．８％程度であり、算術平均粗さＲａは約０．２６μｍ程度であった。また、前記凹凸表面のスチールウール耐性は１００００回以上であり、鉛筆硬度は約９Ｈであった。
一方、前記言及された方式でスチールウールテストを１，５００回行った後に測定した前記硬化物の凹凸表面のヘイズは約５．６％程度であり、６０度グロスは６５．１％程度であり、算術平均粗さＲａは約０．２９μｍ程度であった。
したがって、前記数式１～３の△Ｈ、△Ｇおよび△Ｒは、それぞれ、約０．０２７，０．０４７および０．００２であった。
また、前記フィルム（平坦化層／基材フィルム／硬化物層）の基材フィルムにおけるＴＤ方向の熱膨張係数（ＣＴＥＦ１）、弾性率（ＹＭＦ１）、最大応力（ＭＳＦ１）および伸び率（ＥＦ１）は、それぞれ、４２ｐｐｍ／Ｋ、４．５ＧＰａ、７６ＭＰａおよび６．４％であり、ＭＤ方向の熱膨張係数（ＣＴＥＦ２）、弾性率（ＹＭＦ２）、最大応力（ＭＳＦ２）および伸び率（ＥＦ２）は、それぞれ、８７ｐｐｍ／Ｋ、２．８ＧＰａ、３３ＭＰａおよび１．６％であった。
前記凹凸表面の前記光学プロファイルにおける歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）は、約－０．８７程度であった。
実施例２
実施例１と同じ平坦化層が形成されたＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））フィルムにおける平坦化層のない面に製造例１の無溶剤タイプのコーティング液ｐを約２０μｍ程度の厚みでコーティングした。次に、前記コーティング液上に製造例４の防眩フィルム（ＡＧ１）の防眩表面を実施例１と同一に接触および加圧した状態で、ＰＥＴフィルム側でＤバルブ（Ｄ ｂｕｌｂ，Ｆｕｓｉｏｎ社）を使って紫外線を４Ｊ／ｃｍ２のエネルギーで照射して、基材フィルムと硬化物層を含むフィルムを製造した。製造された硬化物層の防眩表面に当接する表面には、凹凸構造が一体的に形成された。前記凹凸表面に対して測定したヘイズは約２１．４％程度であり、６０度グロスは４６．２％程度であり、算術平均粗さＲａは約０．３１μｍ程度であった。また、前記凹凸表面のスチールウール耐性は１００００回以上であり、鉛筆硬度は約９Ｈであった。
一方、前記言及された方式でスチールウールテストを１，５００回行った後に測定した前記硬化物の凹凸表面のヘイズは約２１．３％程度であり、６０度グロスは４６．４％程度であり、算術平均粗さＲａは約０．３４μｍ程度であった。
したがって、前記数式１～３の△Ｈ、△Ｇおよび△Ｒは、それぞれ、約０．００７，０．０１３および０．００２であった。
また、前記フィルム（平坦化層／基材フィルム／硬化物層）の基材フィルムにおけるＴＤおよびＭＤ方向の熱膨張係数、弾性率、最大応力および伸び率は、実施例１の場合と同様に確認された。
前記凹凸表面の前記光学プロファイルにおける歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）は、約－０．５５程度であった。
実施例３
実施例１とは異なって、平坦化層のないＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））フィルムを適用した。ＰＥＴフィルムとしては、実施例１と同じＳＲＦフィルムを使用した。前記ＰＥＴフィルムの一面に製造例１の無溶剤タイプのコーティング液ｐを約２０μｍ程度の厚みでコーティングした。次に、前記コーティング液上に製造例５の防眩フィルム（ＡＧ２）の防眩表面を実施例１と同一に接触および加圧した状態で、ＰＥＴフィルム側でＤバルブ（Ｄ ｂｕｌｂ，Ｆｕｓｉｏｎ社）を使って紫外線を２Ｊ／ｃｍ２のエネルギーで照射して、基材フィルムと硬化物層を含むフィルムを製造した。製造された硬化物層の防眩表面に当接する表面には、凹凸構造が一体的に形成された。前記凹凸表面に対して測定したヘイズは約５．１％程度であり、６０度グロスは６６．１％程度であり、算術平均粗さＲａは約０．２６μｍ程度であった。また、前記凹凸表面のスチールウール耐性は１００００回以上であり、鉛筆硬度は約８Ｈであった。
一方、前記言及された方式でスチールウールテストを１，５００回行った後に測定した前記硬化物の凹凸表面のヘイズは約５．４％程度であり、６０度グロスは６６．０％程度であり、算術平均粗さＲａは約０．３１μｍ程度であった。
したがって、前記数式１～３の△Ｈ、△Ｇおよび△Ｒは、それぞれ、約０．０２，０．００７および０．００３であった。
また、前記フィルム（平坦化層／基材フィルム／硬化物層）の基材フィルムにおけるＴＤ方向の弾性率（ＹＭＦ１）、最大応力（ＭＳＦ１）および伸び率（ＥＦ１）は、それぞれ、４．８ＧＰａ、９６ＭＰａおよび４．４％であり、ＭＤ方向の弾性率（ＹＭＦ２）、最大応力（ＭＳＦ２）および伸び率（ＥＦ２）は、それぞれ、２．６ＧＰａ、３９ＭＰａおよび１．９％であった。
前記凹凸表面の前記光学プロファイルにおける歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）は、約－０．７５程度であった。
実施例４
実施例１とは異なって、平坦化層のないＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））フィルムを適用した。ＰＥＴフィルムとしては、実施例１と同じＳＲＦフィルムを使用した。前記ＰＥＴフィルムの一面に製造例１の無溶剤タイプのコーティング液ｐを約２０μｍ程度の厚みでコーティングした。次に、前記コーティング液上に製造例４の防眩フィルム（ＡＧ１）の防眩表面を実施例１と同一に接触および加圧した状態で、ＰＥＴフィルム側でＤバルブ（Ｄ ｂｕｌｂ，Ｆｕｓｉｏｎ社）を使って紫外線を２Ｊ／ｃｍ２のエネルギーで照射して、基材フィルムと硬化物層が形成されたフィルムを製造した。製造された硬化物層の防眩表面に当接する表面には、凹凸構造が一体的に形成された。前記凹凸表面に対して測定したヘイズは約２１．１％程度であり、６０度グロスは４７．４％程度であり、算術平均粗さＲａは約０．３２μｍ程度であった。また、前記凹凸表面のスチールウール耐性は１００００回以上であり、鉛筆硬度は約７Ｈであった。
一方、前記言及された方式でスチールウールテストを１，５００回行った後に測定した前記硬化物の凹凸表面のヘイズは約２１．２％程度であり、６０度グロスは４６．９％程度であり、算術平均粗さＲａは約０．３６μｍ程度であった。
したがって、前記数式１～３の△Ｈ、△Ｇおよび△Ｒは、それぞれ、約０．００７，０．０３３および０．００３であった。
また、前記フィルム（平坦化層／基材フィルム／硬化物層）の基材フィルムにおけるＴＤおよびＭＤ方向の弾性率、最大応力および伸び率は、それぞれ、実施例３と同様であった。
前記凹凸表面の前記光学プロファイルにおける歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）は、約－０．５８程度であった。
実施例５
実施例１と同じ平坦化層が形成されたＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））フィルムにおける平坦化層のない面に製造例２の無溶剤タイプのコーティング液ｑを約２０μｍ程度の厚みでコーティングした。次に、前記コーティング液上に製造例４の防眩フィルム（ＡＧ１）の防眩表面を実施例１と同一に接触および加圧した状態で、ＰＥＴフィルム側でＤバルブ（Ｄ ｂｕｌｂ，Ｆｕｓｉｏｎ社）を使って紫外線を４Ｊ／ｃｍ２のエネルギーで照射して、基材フィルムと硬化物層を含むフィルムを製造した。製造された硬化物層の防眩表面に当接する表面には、凹凸構造が一体的に形成された。前記凹凸表面に対して測定したヘイズは約２１．７％程度であり、６０度グロスは４５．５％程度であり、算術平均粗さＲａは約０．３４μｍ程度であった。また、前記凹凸表面のスチールウール耐性は３０００回未満であり、鉛筆硬度は約７Ｈであった。
一方、前記言及された方式でスチールウールテストを１，５００回行った後に測定した前記硬化物の凹凸表面のヘイズは約２２．０％程度であり、６０度グロスは４４．７％程度であり、算術平均粗さＲａは約０．３７μｍ程度であった。
したがって、前記数式１～３の△Ｈ、△Ｇおよび△Ｒは、それぞれ、約０．０２０，０．０５３および０．００２であった。
また、前記フィルム（平坦化層／基材フィルム／硬化物層）の基材フィルムにおけるＴＤおよびＭＤ方向の熱膨張係数、弾性率、最大応力および伸び率は、実施例１の場合と同様に確認された。
前記凹凸表面の前記光学プロファイルにおける歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）は、約－０．５９程度であった。
比較例１
防眩層の形成のための公知のコーティング液として、平均官能基２官能以上の非ウレタン系多官能アクリレートを６０重量％以上含むコーティング液をＴＡＣフィルム（５０μｍ、Ｆｕｊｉ社のＵＶカット機能を有するＴＡＣフィルム）上に約１５μｍ程度の厚みでコーティングし、８０℃の温度で２分間維持して、乾燥した後に、Ｆｕｓｉｏｎ社のＨ ｂｕｌｂを通じて１Ｊ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して、凹凸構造を有する表面を形成した。前記凹凸表面に対して測定したヘイズは約２２．１％程度であり、６０度グロスは２１．５％程度であり、算術平均粗さＲａは約０．３２μｍ程度であった。また、前記凹凸表面のスチールウール耐性は５００回以下であり、鉛筆硬度は約３Ｈであった。
一方、前記言及された方式でスチールウールテストを１，５００回行った後に測定した前記凹凸表面のヘイズは約３８．４％程度であり、６０度グロスは１４．２％程度であり、算術平均粗さＲａは約８３μｍ程度であった。
したがって、前記数式１～３の△Ｈ、△Ｇおよび△Ｒは、それぞれ、約１．０８７，０．４８７および５．５１２であった。
前記凹凸表面の前記光学プロファイルにおける歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）は、約０．３３程度であった。
比較例２
防眩層の形成のための公知のコーティング液として、平均官能基二官能以上の非ウレタン系多官能アクリレートを６０重量％以上含むコーティング液をＴＡＣフィルム（５０μｍ、Ｆｕｊｉ社のＵＶカット機能を有するＴＡＣフィルム）上に完全乾燥後、約１５μｍ程度の厚みとなるようにコーティングし、８０℃の温度で２分間維持して、乾燥した後に、Ｆｕｓｉｏｎ社のＨ ｂｕｌｂを通じて１Ｊ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して、凹凸構造を有する表面を形成した。前記凹凸表面に対して測定したヘイズは約２８．２％程度であり、６０度グロスは１９．６％程度であり、算術平均粗さＲａは約０．２３μｍ程度であった。また、前記凹凸表面のスチールウール耐性は５００回以下であり、鉛筆硬度は約３Ｈであった。
一方、前記言及された方式でスチールウールテストを１，５００回行った後に測定した前記凹凸表面のヘイズは約４０．１％程度であり、６０度グロスは１４．６％程度であり、算術平均粗さＲａは約９３μｍ程度であった。
したがって、前記数式１～３の△Ｈ、△Ｇおよび△Ｒは、それぞれ、約０．７９３，０．３３３および６．１８５であった。
前記凹凸表面の前記光学プロファイルにおける歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）は、約０．５１程度であった。
比較例３
実施例１と同じ平坦化層が形成されたＰＥＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ））フィルムにおける平坦化層のない面に製造例３の無溶剤タイプのコーティング液ｒを約２０μｍ程度の厚みでコーティングした。次に、前記コーティング液上に製造例４の防眩フィルム（ＡＧ１）の防眩表面を実施例１と同一に接触および加圧した状態で、ＰＥＴフィルム側でＤバルブ（Ｄ ｂｕｌｂ，Ｆｕｓｉｏｎ社）を使って紫外線を４Ｊ／ｃｍ２のエネルギーで照射して、基材フィルムと硬化物層を含むフィルムを製造した。製造された硬化物層の防眩表面に当接する表面には、凹凸構造が一体的に形成された。前記凹凸表面に対して測定したヘイズは約２３．５％程度であり、６０度グロスは４６．１％程度であり、算術平均粗さＲａは約０．３μｍ程度であった。また、前記凹凸表面のスチールウール耐性は２０００回未満であり、鉛筆硬度は約６Ｈであった。
一方、前記言及された方式でスチールウールテストを１，５００回行った後に測定した前記硬化物の凹凸表面のヘイズは約３３．３％程度であり、６０度グロスは３５．９％程度であり、算術平均粗さＲａは約５．５８μｍ程度であった。
したがって、前記数式１～３の△Ｈ、△Ｇおよび△Ｒは、それぞれ、約０．６５３，０．６８および０．３５２であった。
また、前記フィルム（平坦化層／基材フィルム／硬化物層）の基材フィルムにおけるＴＤおよびＭＤ方向の熱膨張係数、弾性率、最大応力および伸び率は、実施例１の場合と同様に確認された。
前記凹凸表面の前記光学プロファイルにおける歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）は、約－０．７９程度であった。

Claims (21)

  1. 少なくとも一面にＩＳＯ ２５１７８規格による歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）が負の値である凹凸表面が形成されたエネルギー線硬化性組成物の硬化物層を含み、
    前記凹凸表面は、下記数式１～３のうち一つ以上を満たす、フィルム：
    ［数式１］
    ０．３≧△Ｈ＝１００×｜（ＨＡ－ＨＩ）／Ｎ｜
    ［数式２］
    ０．３≧△Ｇ＝１００×｜（ＧＡ－ＧＩ）／Ｎ｜
    ［数式３］
    ０．３≧△Ｒ＝１００×｜（ＲＡ－ＲＩ）／Ｎ｜
    数式１～３で、△Ｈ、△Ｇおよび△Ｒは、それぞれ、前記凹凸表面のヘイズ変化率、６０度グロス（ｇｌｏｓｓ）変化率および算術平均粗さ（Ｒａ）の変化率であり、数式１で、ＨＩは、前記凹凸表面の初期ヘイズであり、ＨＡは、スチールウールテストを行った後の前記凹凸表面のヘイズであり、Ｎは、前記スチールウールテストを行った回数であり、｜（ＨＡ－ＨＩ）／Ｎ｜は、前記ＨＡ、ＨＩおよびＮを（ＨＡ－ＨＩ）／Ｎに代入して求められた数値の絶対値であり、数式２で、ＧＩは、前記凹凸表面の初期６０度グロスであり、ＧＡは、スチールウールテストを行った後の前記凹凸表面の６０度グロスであり、Ｎは、前記スチールウールテストを行った回数であり、｜（ＧＡ－ＧＩ）／Ｎ｜は、前記ＧＡ、ＧＩおよびＮを（ＧＡ－ＧＩ）／Ｎに代入して求められた数値の絶対値であり、数式３で、ＲＩは、前記凹凸表面の初期算術平均粗さ（Ｒａ）であり、ＲＡは、スチールウールテストを行った後の前記凹凸表面の算術平均粗さ（Ｒａ）であり、Ｎは、前記スチールウールテストを行った回数であり、｜（ＲＡ－ＲＩ）／Ｎ｜は、前記ＲＡ、ＲＩおよびＮを（ＲＡ－ＲＩ）／Ｎに代入して求められた数値の絶対値である。
  2. 前記凹凸表面は、下記数式１～３のうち二つ以上を満たす、請求項１に記載のフィルム：
    ［数式１］
    ０．３≧△Ｈ＝１００×｜（ＨＡ－ＨＩ）／Ｎ｜
    ［数式２］
    ０．３≧△Ｇ＝１００×｜（ＧＡ－ＧＩ）／Ｎ｜
    ［数式３］
    ０．３≧△Ｒ＝１００×｜（ＲＡ－ＲＩ）／Ｎ｜
    数式１～３で、△Ｈ、△Ｇおよび△Ｒは、それぞれ、前記凹凸表面のヘイズ変化率、６０度グロス（ｇｌｏｓｓ）変化率および算術平均粗さ（Ｒａ）の変化率であり、数式１で、ＨＩは、前記凹凸表面の初期ヘイズであり、ＨＡは、スチールウールテストを行った後の前記凹凸表面のヘイズであり、Ｎは、前記スチールウールテストを行った回数であり、｜（ＨＡ－ＨＩ）／Ｎ｜は、前記ＨＡ、ＨＩおよびＮを（ＨＡ－ＨＩ）／Ｎに代入して求められた数値の絶対値であり、数式２で、ＧＩは、前記凹凸表面の初期６０度グロスであり、ＧＡは、スチールウールテストを行った後の前記凹凸表面の６０度グロスであり、Ｎは、前記スチールウールテストを行った回数であり、｜（ＧＡ－ＧＩ）／Ｎ｜は、前記ＧＡ、ＧＩおよびＮを（ＧＡ－ＧＩ）／Ｎに代入して求められた数値の絶対値であり、数式３で、ＲＩは、前記凹凸表面の初期算術平均粗さ（Ｒａ）であり、ＲＡは、スチールウールテストを行った後の前記凹凸表面の算術平均粗さ（Ｒａ）であり、Ｎは、前記スチールウールテストを行った回数であり、｜（ＲＡ－ＲＩ）／Ｎ｜は、前記ＲＡ、ＲＩおよびＮを（ＲＡ－ＲＩ）／Ｎに代入して求められた数値の絶対値である。
  3. 前記凹凸表面は、下記数式１～３を全部満たす、請求項１に記載のフィルム：
    ［数式１］
    ０．３≧△Ｈ＝１００×｜（ＨＡ－ＨＩ）／Ｎ｜
    ［数式２］
    ０．３≧△Ｇ＝１００×｜（ＧＡ－ＧＩ）／Ｎ｜
    ［数式３］
    ０．３≧△Ｒ＝１００×｜（ＲＡ－ＲＩ）／Ｎ｜
    数式１～３で、△Ｈ、△Ｇおよび△Ｒは、それぞれ、前記凹凸表面のヘイズ変化率、６０度グロス（ｇｌｏｓｓ）変化率および算術平均粗さ（Ｒａ）の変化率であり、数式１で、ＨＩは、前記凹凸表面の初期ヘイズであり、ＨＡは、スチールウールテストを行った後の前記凹凸表面のヘイズであり、Ｎは、前記スチールウールテストを行った回数であり、｜（ＨＡ－ＨＩ）／Ｎ｜は、前記ＨＡ、ＨＩおよびＮを（ＨＡ－ＨＩ）／Ｎに代入して求められた数値の絶対値であり、数式２で、ＧＩは、前記凹凸表面の初期６０度グロスであり、ＧＡは、スチールウールテストを行った後の前記凹凸表面の６０度グロスであり、Ｎは、前記スチールウールテストを行った回数であり、｜（ＧＡ－ＧＩ）／Ｎ｜は、前記ＧＡ、ＧＩおよびＮを（ＧＡ－ＧＩ）／Ｎに代入して求められた数値の絶対値であり、数式３で、ＲＩは、前記凹凸表面の初期算術平均粗さ（Ｒａ）であり、ＲＡは、スチールウールテストを行った後の前記凹凸表面の算術平均粗さ（Ｒａ）であり、Ｎは、前記スチールウールテストを行った回数であり、｜（ＲＡ－ＲＩ）／Ｎ｜は、前記ＲＡ、ＲＩおよびＮを（ＲＡ－ＲＩ）／Ｎに代入して求められた数値の絶対値である。
  4. 前記凹凸表面のＩＳＯ ２５１７８規格による歪度（ｓｋｅｗｎｅｓｓ）が、－２以上、かつ、０未満である、請求項１に記載のフィルム。
  5. 前記エネルギー線硬化性組成物は、シリコーン樹脂成分および反応性希釈剤を含む、請求項１に記載のフィルム。
  6. 前記シリコーン樹脂成分は、下記平均単位式１で示される、請求項５に記載のフィルム：
    ［平均単位式１］
    （Ｒ１ ３ＳｉＯ１／２）ａ（Ｒ２ ２ＳｉＯ２／２）ｂ（Ｒ３ＳｉＯ３／２）ｃ（ＳｉＯ４／２）ｄ（ＲＯ１／２）ｅ
    平均単位式１で、Ｒ１～Ｒ３は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基またはエネルギー線硬化性基であり、Ｒ１～Ｒ３が複数個存在する場合、それぞれ、互いに同じでも異なっていてもよく、Ｒ１～Ｒ３のうち少なくとも一つは、エネルギー線硬化性基であり、ａ，ｂ，ｃおよびｄは、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄを１に換算したとき、それぞれ、０≦ａ≦１、０＜ｂ≦１、０＜ｃ≦１および０≦ｄ≦１を満たし、ｅは、ｅ／（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）が０～０．４の範囲内となる数である。
  7. 前記シリコーン樹脂成分は、重量平均分子量が１万～５万の範囲内である、請求項５に記載のフィルム。
  8. 前記シリコーン樹脂成分は、分子量分布が１．８以上である、請求項５に記載のフィルム。
  9. 前記反応性希釈剤は、アクリレート化合物である、請求項５に記載のフィルム。
  10. 前記エネルギー線硬化性組成物は、シリコーン樹脂成分１００重量部に対して１～２００重量部の反応性希釈剤を含む、請求項５に記載のフィルム。
  11. 前記凹凸表面の鉛筆硬度が５Ｈ以上である、請求項１に記載のフィルム。
  12. 前記凹凸表面は、１，５００回以上の５００ｇスチールウール耐性を示す、請求項１に記載のフィルム。
  13. 前記凹凸表面におけるヘイズが３％～５０％の範囲内である、請求項１に記載のフィルム。
  14. 前記凹凸表面の算術平均粗さＲａが０．０１μｍ～２μｍの範囲内である、請求項１に記載のフィルム。
  15. 前記凹凸表面の６０度グロス（ｇｌｏｓｓ）が１０％～９０％の範囲である、請求項１に記載のフィルム。
  16. 基材フィルムをさらに含み、前記硬化物層が前記基材フィルムの一面または両面に形成されている、請求項１に記載のフィルム。
  17. 第１方向における熱膨張係数（ＣＴＥＦ１）と前記第１方向に垂直な第２方向における熱膨張係数（ＣＴＥＦ２）との割合（ＣＴＥＦ２／ＣＴＥＦ１）が１．５以上である、請求項１６に記載のフィルム。
  18. 第１方向における弾性率（ＹＭＦ１）と前記第１方向に垂直な第２方向における弾性率（ＹＭＦ２）との割合（ＹＭＦ１／ＹＭＦ２）が１以上である、請求項１６に記載のフィルム。
  19. 第１方向における最大応力（ＭＳＦ１）と前記第１方向に垂直な第２方向における最大応力（ＭＳＦ２）との割合（ＭＳＦ１／ＭＳＦ２）が１．５以上である、請求項１６に記載のフィルム。
  20. 第１方向における伸び率（ＥＦ１）と前記第１方向に垂直な第２方向における伸び率（ＥＦ２）との割合（ＥＦ１／ＥＦ２）が１．５以上である、請求項１６に記載のフィルム。
  21. 光学機能層と、前記光学機能層の一面に形成された請求項１に記載のフィルムと、を含む光学積層体。
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