TWI775249B - 包括能量束可固化組成物的薄膜及光學層壓物 - Google Patents

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Abstract

本申請案是關於一種包括能量束可固化組成物的經固化 材料層的薄膜以及光學層壓物。本申請案可提供一種薄膜，所述薄膜具有極佳光學特性，諸如透明度或混濁度；機械性質，諸如硬度；以及可撓性，其中表面的形狀受控以適用於各種用途，且受控表面形狀具有極佳耐久性。所述薄膜具有不均勻表面，所述不均勻表面根據ISO 25178標準具有負偏度且形成於經固化材料層的至少一側上。所述不均勻表面滿足等式1至等式3中的一者或大於一者。所述等式1至等式3與說明書所定義的相同。

Description

包括能量束可固化組成物的薄膜及光學層壓物
本申請案是關於一種包括能量束可固化組成物的薄膜及光學層壓物。
與玻璃相比，透明樹脂薄膜具有極佳光學特性且具有難以破裂的性質，使得其可被視為玻璃替代物。
作為產生透明樹脂薄膜的方法，已知亦稱作所謂的單元鑄造法的方法，諸如將可固化組成物注射至單元中且接著使其固化的方法或在鋼帶上流動鑄造可固化組成物且使其固化的方法。
單元鑄造法為專利文獻1或其類似物中已知的，但此方法無法連續地產生薄膜且效率不高。
在鋼帶上流動鑄造可固化組成物且使其固化的方法為專利文獻2或其類似物中已知的，但在此方法中，難以產生具有均一物理性質的薄膜。
(專利文獻1)專利文獻1：日本專利早期公開第1996-132455號
(專利文獻2)專利文獻2：日本專利早期公開第1992-080007號
本申請案旨在提供一種包括能量束可固化組成物的薄膜及光學層壓物。本申請案的一個目標為提供一種具有極佳光學特性，諸如透明度或混濁度；機械性質，諸如硬度；以及可撓性的薄膜，其中表面的形狀受控以適用於各種用途，且受控表面形狀具有極佳耐久性。
技術解決方案
除非另外指定，否則在本說明書中提及的物理性質當中，量測溫度及/或量測壓力影響結果的物理性質為在室溫及/或正常壓力下量測的結果。
術語室溫為在不加熱或冷卻的情況下的自然溫度，其意謂例如在10℃至30℃範圍內的任一個溫度，或23℃或約25℃左右的溫度。此外，在本說明書中，除非另外說明，否則溫度的單位為攝氏度(℃)。
術語正常壓力為在不加壓或減壓的情況下的自然壓力，其通常意謂約1個標準大氣壓左右的大氣壓。
在本說明書中，在量測濕度影響結果的物理性質的情況下，相關物理性質為在自然濕度下量測的物理性質，所述自然濕度 並非在室溫及正常壓力狀態下特別地受控制。
在本申請案中，除非另外說明，否則術語烷基、伸烷基或烷氧基可意謂具有1至20個碳原子、1至16個碳原子、1至12個碳原子、1至8個碳原子或1至4個碳原子的直鏈或分支鏈烷基、伸烷基或烷氧基，或可意謂具有3至20個碳原子、3至16個碳原子、3至12個碳原子、3至8個碳原子或3至6個碳原子的環狀烷基、伸烷基或烷氧基。
在本申請案中，除非另外說明，否則術語烯基可意謂具有2至20個碳原子、2至16個碳原子、2至12個碳原子、2至8個碳原子或2至4個碳原子的直鏈或分支鏈烯基，或可意謂具有3至20個碳原子、3至16個碳原子、3至12個碳原子、3至8個碳原子或1至6個碳原子的環狀烯基。
在本申請案中，除非另外說明，否則術語芳基或伸芳基可意謂具有6至24個碳原子、6至18個碳原子或6至12個碳原子的芳基或伸芳基，或可意謂苯基或伸苯基。
在本申請案中，除非另外說明，否則術語環氧基可意謂衍生自具有三個環組成原子的環醚或包括所述環醚的化合物的單價殘基。環氧基可藉由以下例示：縮水甘油基、環氧烷基、縮水甘油氧基烷基或脂環環氧基以及類似基團。此處，脂環環氧基可意謂衍生自含有脂族烴環結構且包含其中形成脂族烴環的兩個碳原子亦形成環氧基的結構的化合物的單價殘基。作為脂環環氧基，可例示具有6至12個碳的脂環環氧基，且例如，可例示3,4-環氧基環己基乙基以及類似基團。
烷基、伸烷基、烷氧基、烯基、芳基、伸芳基或環氧基亦 可視情況經一個或大於一個取代基取代。
本申請案是關於一種薄膜。在一個實例中，薄膜可包括經固化材料層。經固化材料層可為能量束可固化組成物的經固化材料層。薄膜可具有僅包含經固化材料層的單層結構或可具有包含額外其他層的多層結構。舉例而言，薄膜可更包括基底薄膜，且在此情況下，經固化材料層可形成於基底薄膜的一側或兩側上。
經固化材料層的至少一側可為不均勻表面。舉例而言，當經固化材料層形成於基底薄膜的一側上時，經固化材料層的與面向基底薄膜的表面相對的表面可為不均勻表面。可根據目的來不同地控制此不均勻表面的形狀。
舉例而言，不均勻表面可具有在約0.01微米至2微米範圍內的算術平均粗糙度(Ra)。算術平均粗糙度可為在執行下文將描述的鋼絲絨測試之前或之後的不均勻表面的算術平均粗糙度。不均勻表面可為與經固化材料層整合的表面。此意謂不均勻表面並非由與經固化材料層不同的單獨層形成，且相關不均勻表面形成於經固化材料層本身上。
算術平均粗糙度可根據KS B 0601標準或ISO 4287/1標準鑑別。在另一實例中，此算術平均粗糙度可為0.05微米或大於0.05微米、0.1微米或大於0.1微米、0.15微米或大於0.15微米、0.2微米或大於0.2微米、0.25微米或大於0.25微米或0.3微米或大於0.3微米，或亦可為1.8微米或小於1.8微米、1.6微米或小於1.6微米、1.4微米或小於1.4微米、1.2微米或小於1.2微米、1微米或小於1微米、0.9微米或小於0.9微米、0.8微米或小於0.8微米、0.7微米或小於0.7微米、0.6微米或小於0.6微米、0.5 微米或小於0.5微米或0.4微米或小於0.4微米左右。
在一個實例中，不均勻表面可為形成所謂防眩表面的不均勻表面。
不均勻表面可展現在3%至50%範圍內的混濁度。混濁度可為在執行下文將描述的鋼絲絨測試之前或之後的不均勻表面上的混濁度。混濁度可藉由下文將描述的實例中所揭示的方式來量測。在另一實例中，混濁度可為3.5%或大於3.5%、4%或大於4%、4.5%或大於4.5%、5%或大於5%、5.5%或大於5.5%、6%或大於6%、6.5%或大於6.5%、7%或大於7%、7.5%或大於7.5%、8%或大於8%、8.5%或大於8.5%、9%或大於9%、9.5%或大於9.5%、10%或大於10%、10.5%或大於10.5%、11%或大於11%、11.5%或大於11.5%、12%或大於12%、12.5%或大於12.5%、13%或大於13%、13.5%或大於13.5%、14%或大於14%、14.5%或大於14.5%、15%或大於15%、15.5%或大於15.5%、16%或大於16%、16.5%或大於16.5%、17%或大於17%、17.5%或大於17.5%、18%或大於18%、18.5%或大於18.5%、19%或大於19%、19.5%或大於19.5%、20%或大於20%、20.5%或大於20.5%或21%或大於21%，或亦可為45%或小於45%、40%或小於40%、35%或小於35%、30%或小於30%、25%或小於25%、20%或小於20%、15%或小於15%、10%或小於10%或7%或小於7%左右。
不均勻表面可為具有在10%至90%範圍內的60度光澤度的表面。60度光澤度可為在執行下文將描述的鋼絲絨測試之前或之後的不均勻表面上的60度光澤度。60度光澤度可以下文將描述的實例中所揭示的方式來量測。在另一實例中，60度光澤度可為 15%或大於15%、20%或大於20%、25%或大於25%、30%或大於30%、35%或大於35%、40%或大於40%、45%或大於45%、50%或大於50%、55%或大於55%、60%或大於60%或65%或大於65%，或亦可為85%或小於85%、80%或小於80%、75%或小於75%、70%或小於70%、65%或小於65%、60%或小於60%、55%或小於55%或50%或小於50%左右。
不均勻表面可展現極佳表面特性。
舉例而言，不均勻表面可展現5H或大於5H的鉛筆硬度。鉛筆硬度可藉由根據JIS 5600標準，使用鉛筆硬度量測儀器，在約25℃的溫度及50%相對濕度下以500公克的載荷及45度的角度在薄膜的不均勻表面上繪製鉛筆芯的方法來量測。鉛筆硬度可藉由逐步增加鉛筆芯的硬度直至證實薄膜的不均勻表面上出現諸如凹痕、刮擦或破裂的缺陷來量測。在另一實例中，不均勻表面的鉛筆硬度可為大致6H或大於6H、7H或大於7H、8H或大於8H或9H或大於9H。根據量測鉛筆硬度的已知方法證實的鉛筆硬度的最大值為9H。因此，不均勻表面的鉛筆硬度的上限可為9H。
不均勻表面可能展現1,500次或大於1,500次的500公克鋼絲絨抗性。此處，500公克鋼絲絨抗性為鋼絲絨測試中鑑別出的表面特性。在另一實例中，薄膜的不均勻表面的500公克鋼絲絨抗性可為大致2,000次或大於2,000次、2,500次或大於2,500次、3,000次或大於3,000次、3,500次或大於3,500次、4,000次或大於4,000次、4,500次或大於4,500次、5,000次或大於5,000次、5,500次或大於5,500次、6,000次或大於6,000次、6,500次或大於6,500次、7,000次或大於7,000次、7,500次或大於7,500次、 8,000次或大於8,000次、8,500次或大於8,500次、9,000次或大於9,000次或9,500次或大於9,500次。由於其意謂鋼絲絨抗性的數值越高，薄膜的不均勻表面會展現更優異的耐刮擦性，所以上限不受特定限制。在一個實例中，500公克鋼絲絨抗性可為20,000次或小於20,000次左右、15,000次或小於15,000次左右、14,000次或小於14,000次左右、13,000次或小於13,000次左右、12,000次或小於12,000次左右或11,000次或小於11,000次左右。
在本申請案的薄膜中，由此形成的不均勻表面可展現能夠穩定地維持其形狀的耐久性。
舉例而言，不均勻表面可滿足以下等式1至等式3中的任一者、所述等式中的兩者或所述等式中的所有等式。
Figure 109145242-A0305-02-0009-1
Figure 109145242-A0305-02-0009-2
Figure 109145242-A0305-02-0009-3
在等式1至等式3中，△H、△G以及△R分別為不均勻表面的混濁度的變化率、60度光澤度的變化率以及算術平均粗糙度(Ra)的變化率。
在等式1中，HI為不均勻表面的初始混濁度(執行如下所述的鋼絲絨測試之前的混濁度)，HA為不均勻表面執行如下所述的鋼絲絨測試之後的混濁度，N為已執行鋼絲絨測試的次數，且|(HA-HI)/N|為藉由將HA、HI以及N代入(HA-HI)/N中獲得的數值 的絕對值。
在等式2中，GI為不均勻表面的初始60度光澤度(執行如下所述的鋼絲絨測試之前的60度光澤度)，GA為執行如下所述的鋼絲絨測試之後的60度光澤度，N為已執行鋼絲絨測試的次數，且|(GA-GI)/N|為將GA、GI以及N代入(GA-GI)/N中獲得的數值的絕對值。
在等式3中，RI為不均勻表面的初始算術平均粗糙度(Ra)(執行如下所述的鋼絲絨測試之前的算術平均粗糙度)，RA為執行如下所述的鋼絲絨測試之後的算術平均粗糙度(Ra)，N為已執行鋼絲絨測試的次數，且|(RA-RI)/N|為將RA、RI以及N代入(RA-RI)/N中獲得的數值的絕對值。
為鑑別上述等式1至等式3所執行的鋼絲絨測試是根據下文將描述的實例中所描述的方法藉由在500公克載荷下用等級#0000的鋼絲絨刮擦不均勻表面的方法來執行。可執行N次刮擦，所述N為上述等式1至等式3中的變量。在此情況下，N可為例如1,000或大於1,000、1,100或大於1,100、1,200或大於1,200、1,300或大於1,300、1,400或大於1,400或1,500或大於1,500，或可為3,000或小於3,000、2,900或小於2,900、2,800或小於2,800、2,700或小於2,700、2,600或小於2,600、2,500或小於2,500、2,400或小於2,400、2,300或小於2,300、2,200或小於2,200、2,100或小於2,100、2,000或小於2,000、1,900或小於1,900、1,800或小於1,800、1,700或小於1,700、1,600或小於1,600或1,500或小於1,500左右。
在另一實例中，等式1中的△H亦可為約0.25或小於 0.25、約0.2或小於0.2、約0.15或小於0.15、約0.1或小於0.1、約0.09或小於0.09、約0.08或小於0.08、約0.07或小於0.07、約0.06或小於0.06、約0.05或小於0.05、約0.04或小於0.04、約0.03或小於0.03、約0.02或小於0.02或約0.01或小於0.01左右。由於其意謂△H的值愈低，則不均勻表面的附著力愈佳，因此其下限不受特定限制。在一個實例中，△H可為0或大於0，或大於0左右。
在另一實例中，等式2中的△G亦可為約0.25或小於0.25、約0.2或小於0.2、約0.15或小於0.15、約0.1或小於0.1、約0.09或小於0.09、約0.08或小於0.08、約0.07或小於0.07、約0.06或小於0.06、約0.05或小於0.05、約0.04或小於0.04、約0.03或小於0.03或約0.02或小於0.02左右。由於其意謂△G的值愈低，則不均勻表面的附著力愈佳，因此其下限不受特定限制。在一個實例中，△G可為0或大於0，或大於0左右。
在另一實例中，等式3中的△R亦可為約0.25或小於0.25、約0.2或小於0.2、約0.15或小於0.15、約0.1或小於0.1、約0.09或小於0.09、約0.08或小於0.08、約0.07或小於0.07、約0.065或小於0.065、約0.06或小於0.06、約0.055或小於0.055、約0.05或小於0.05、約0.045或小於0.045、約0.04或小於0.04、約0.035或小於0.035、約0.03或小於0.03、約0.025或小於0.025、約0.02或小於0.02、約0.015或小於0.015、約0.01或小於0.01、約0.009或小於0.009、約0.008或小於0.008、約0.007或小於0.007、約0.006或小於0.006、約0.005或小於0.005或約0.004或小於0.004左右。由於其意謂△R的值愈低，則不均勻表面的保持 力愈佳，因此其下限不受特定限制。在一個實例中，△R可為0或大於0，或大於0左右。
為形成展示滿足上述等式1至等式3中的一者或大於一者的形狀保持力，同時展示一種或大於一種由下述者所組成的族群中選出的物理性質的不均勻表面：算術平均粗糙度(Ra)、混濁度、60度光澤度、鉛筆硬度以及500公克鋼絲絨抗性，可調節不均勻表面的所謂偏度。偏度為指示分佈偏離對稱並偏向一側的程度的值，且關於不均勻表面，其為指示表面高度相對於平均平面的對稱度的值。當偏度為正時，其意謂構成不均勻表面的峰佔主導，且當其為負時，其意謂構成不均勻表面的谷佔主導。此偏度可根據ISO 25178標準使用已知光學測繪器或原子力顯微鏡(atomic force microscope；AFM)儀器以及類似物來鑑別。
本發明人已證實不均勻表面的所需特性可藉由使如藉由ISO 25178標準鑑別的不均勻表面的偏度具有負值來實施。偏度可為例如約-2或大於-2且小於0。在另一實例中，偏度可為約-1.9或大於-1.9、約-1.8或大於-1.8、約-1.7或大於-1.7、約-1.6或大於-1.6、約-1.5或大於-1.5、約-1.4或大於-1.4、約-1.3或大於-1.3、約-1.2或大於-1.2、約-1.1或大於-1.1、約-1.0或大於-1.0或約-0.9或大於-0.9，或可為-0.1或小於-0.1、約-0.2或小於-0.2、約-0.3或小於-0.3、約-0.4或小於-0.4或約-0.5或小於-0.5。由於偏度經調節以展示此範圍，因此可形成其中穩定地維持根據所述目的實施的形狀的不均勻表面。
為確保此偏度，需要使用所謂的防眩薄膜作為模板來將薄膜的不均勻形狀轉印至經固化材料層的製程。亦即，根據藉由所 謂的防眩薄膜形成已知不均勻表面的已知方法形成的不均勻表面展現正偏度，使得具有此正偏度的表面以反相轉印的表面可展現負偏度。此外，在轉印至反相的製程中，偏度的絕對值維持在類似範圍中且正負號改變，使得藉由控制用作模板的不均勻表面的偏度，可形成在負區域中展示所需偏度的絕對值的不均勻表面。
因此，經固化材料層可經由在能量束可固化組成物層與防眩薄膜接觸的狀態下用能量束照射能量束可固化組成物層的步驟來形成。以此方式，可形成滿足上文提及的性質的經固化材料層。此處，能量束可固化組成物層為使用能量束可固化組成物形成的層，其可意謂例如藉由將能量束可固化組成物塗佈或澆築於基底薄膜上形成的層。
術語能量束可固化組成物意謂藉由用能量束照射而固化的組成物。在術語能量束的類別中，可包含粒子束，諸如α粒子束、質子束及中子束，以及微波、紅外光(IR)、紫外光(UV)、X射線及γ射線以及類似物。通常，使用紫外線或電子束作為能量束。
術語防眩薄膜意謂包含形成以對至少一部分可見光區域或整個可見光區域展現低反射率的表面的薄膜。形成以展現低反射率的表面可稱為防眩表面。
防眩薄膜的防眩表面可具有各種形狀，但一般具有帶某一程度的粗糙度的不均勻表面，且以已知方式形成的防眩表面的不均勻表面具有正偏度。在此類防眩薄膜的不均勻表面與能量束可固化組成物層接觸的狀態下，能量束可固化組成物可藉由用能量束照射所述層而固化，從而形成具有滿足所需物理性質的不均 勻表面的薄膜。
經由上述製程，可將防眩薄膜的不均勻表面轉印至經固化材料層的表面，其中因此轉印的不均勻表面增加經固化材料層的可獲得性。舉例而言，轉印不均勻表面的經固化材料層可自身展現對於一部分或全部可見光區域的低反射率，或可與需要層組合來展現低反射率。因此，此經固化材料層可有效地應用於要求低反射率以及如上文所述的優異物理性質的各種應用中。
在上文製程中，與能量束可固化組成物層接觸的防眩表面可為如上文所述的不均勻表面，且此不均勻表面可為展示正偏度的不均勻表面。不均勻表面亦可藉由ISO 25178標準鑑別。防眩薄膜的不均勻表面可為大於0且約2或小於2。在另一實例中，偏度可為約1.9或小於1.9、約1.8或小於1.8、約1.7或小於1.7、約1.6或小於1.6、約1.5或小於1.5、約1.4或小於1.4、約1.3或小於1.3、約1.2或小於1.2、約1.1或小於1.1、約1.0或小於1.0或約0.9或小於0.9，或可為0.1或大於0.1、約0.2或大於0.2、約0.3或大於0.3、約0.4或大於0.4或約0.5或大於0.5。藉由應用具有此範圍中的偏度的不均勻表面，可形成具有所需偏度的不均勻表面。
與能量束可固化組成物層接觸的防眩表面的不均勻表面可具有在約0.01微米至2微米範圍內的算術平均粗糙度(Ra)。經由應用防眩表面，所述防眩表面為具有此範圍中的算術平均粗糙度的不均勻表面，有可能產生具有所需物理性質的經固化材料層。算術平均粗糙度可以下文將描述的實例中所揭示的方式來量測。在另一實例中，此算術平均粗糙度可為0.05微米或大於0.05 微米、0.1微米或大於0.1微米、0.15微米或大於0.15微米、0.2微米或大於0.2微米或0.25微米或大於0.25微米，或亦可為1.8微米或小於1.8微米、1.6微米或小於1.6微米、1.4微米或小於1.4微米、1.2微米或小於1.2微米、1微米或小於1微米、0.9微米或小於0.9微米、0.8微米或小於0.8微米、0.7微米或小於0.7微米、0.6微米或小於0.6微米、0.5微米或小於0.5微米或0.4微米或小於0.4微米左右。
與能量束可固化組成物層接觸的防眩表面可為具有在10%至90%範圍內的60度光澤度的表面。經由應用防眩表面，所述防眩表面為具有在此範圍中的60度光澤度的不均勻表面，可能產生具有所需物理性質的經固化材料層。60度光澤度可以下文將描述的實例中所揭示的方式來量測。在另一實例中，此60度光澤度可為15%或大於15%、20%或大於20%、25%或大於25%、30%或大於30%、35%或大於35%、40%或大於40%或45%或大於45%，或亦可為85%或小於85%、80%或小於80%、75%或小於75%或70%或小於70%左右。
與能量束可固化組成物層接觸的防眩表面可為展現3%至50%混濁度的表面。經由應用防眩表面，所述防眩表面為具有此範圍中的混濁度的不均勻表面，可能產生具有所需物理性質的經固化材料層。混濁度可以下文將描述的實例中所揭示的方式來量測。在另一實例中，此混濁度可為3.5%或大於3.5%、4%或大於4%或4.5%或大於4.5%，或亦可為45%或小於45%、40%或小於40%、35%或小於35%、30%或小於30%或25%或小於25%左右。
本申請案中可應用的防眩薄膜的類型不受特定限制，且 例如可應用具有帶上述混濁度、60度光澤度及/或算術平均粗糙度Ra的不均勻表面的防眩薄膜。
在適合的實例中，可使用具有防眩層的薄膜作為防眩薄膜，所述防眩層包含黏合劑樹脂及粒子。
此時，可應用熱或能量束可固化黏合劑樹脂作為黏合劑樹脂，且其特定實例不受特定限制，但就應用能量束可固化黏合劑樹脂的製程而言可為有利的。可使用的能量束可固化黏合劑樹脂的類型不受特定限制，但可應用非胺基甲酸酯類多官能性丙烯酸酯化合物以確保適當的效果。舉例而言，可應用具有兩種或大於兩種可固化官能基的化合物(例如，(甲基)丙烯醯氧基等)作為化合物。化合物中官能基的數目亦可為10或小於10、9或小於9、8或小於8、7或小於7、6或小於6、5或小於5、4或小於4或3或小於3左右。可使用多官能性丙烯酸酯化合物，諸如雙官能丙烯酸酯，諸如1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸二(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸二環戊酯、經己內酯改質的二(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、經環氧乙烷改質的二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯醯氧基異氰尿酸乙酯、烯丙基化二(甲基)丙烯酸環己酯、三環癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基二環戊烷二(甲基)丙烯酸酯、經環氧乙烷改質的六氫鄰苯二甲酸二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、經新戊二醇改質的三甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、金剛烷二(甲基)丙烯酸酯或9,9-雙[4-(2-丙烯醯氧基乙氧基)苯基]芴；三官能丙烯酸酯，諸如三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯 酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、經丙酸改質的二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯或經環氧丙烷改質的三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；四官能丙烯酸酯，諸如雙甘油四(甲基)丙烯酸酯或季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；五官能丙烯酸酯，諸如經丙酸改質的二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；以及六官能丙烯酸酯，諸如二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯或經己內酯改質的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯作為此化合物，且在前述化合物當中，考慮所需黏度及物理性質而選擇並使用一者或兩者或大於兩者。
可應用其中可固化黏合劑樹脂是以與粒子混合的狀態塗佈且根據樹脂類型藉由固化方法固化的防眩層。不特定限制可應用的粒子類型，且例如可應用有機聚合物粒子，諸如聚(甲基丙烯酸甲酯)(poly(methyl methacraylte)；PMMA)粒子或聚苯乙烯(polystyrene；PS)粒子或矽石粒子；或無機粒子，諸如氧化鋯粒子、氧化鋁粒子或二氧化鈦粒子以及類似物。不特定限制粒子的形狀、平均粒徑及/或比率，且考慮到所需60度光澤度或混濁度、算術平均粗糙度Ra以及類似性質，可以適當比率應用具有適當形狀及/或平均粒徑的粒子。
除上述組分以外，亦可將任一需要組分，例如矽酮類或氟類助滑劑或起始劑以及類似物添加至防眩層。
防眩薄膜可包括基底薄膜及形成於基底薄膜的一側上的防眩層。此時，可應用具有適當透射率，例如對於波長約370奈米的光的透射率為80%或大於80%的基底薄膜作為基底薄膜。亦即，在大多數情況下，典型防眩薄膜具備紫外光屏蔽功能，從而展現對於370奈米波長的低透射率(50%或小於50%)，此是因為其存在 於光學薄膜的最外部部分，但在本申請案中，藉由模具應用防眩薄膜且有必要將對紫外線具有高透射率的薄膜應用於紫外光固化製程。因此，可應用如上所述的透射率。基底薄膜的類型不受特定限制，只要其具有透射率即可，且例如在已知聚合物薄膜當中，可選擇展現透射率的聚合物薄膜。
在防眩薄膜的防眩表面與能量束可固化組成物層接觸的狀態下，可執行用能量束照射所述防眩薄膜的步驟。
與防眩薄膜接觸的能量束可固化組成物層可藉由澆築或塗佈能量束可固化組成物而形成。在此情況下，澆築或塗佈方法不受特定限制，且可應用已知方式，例如諸如凹板印刷式塗佈、滾塗、反相塗佈、刮刀塗佈、模塗佈、唇式塗佈(lip coating)、刮塗器塗佈(doctor coating)、擠壓式塗佈、滑動塗佈、線棒式塗佈(wire bar coating)、簾幕式塗佈或旋轉器塗佈的方法。為防止在澆築製程期間出現凝膠形黏附或外來物質，在不用能量束照射的條件下執行澆築，且視需要亦可適當地控制澆築的溫度。
考慮到組成物類型、組成物中所含的樹脂的官能基類型、既定用途、澆築均一性以及下文將描述的平坦層的形成，可將藉由澆築方法或類似方法形成的能量束可固化組成物層的厚度調節至適當厚度。所形成層的厚度可在大致1微米至1000微米範圍內。在另一實例中，厚度可為5微米或大於5微米、10微米或大於10微米、15微米或大於15微米、20微米或大於20微米、25微米或大於25微米、30微米或大於30微米、35微米或大於35微米，或亦可為900微米或小於900微米、800微米或小於800微米、700微米或小於700微米、600微米或小於600微米、500微米或 小於500微米、400微米或小於400微米、300微米或小於300微米、200微米或小於200微米、100微米或小於100微米、90微米或小於90微米、85微米或小於85微米、80微米或小於80微米、75微米或小於75微米、70微米或小於70微米、65微米或小於65微米、60微米或小於60微米、55微米或小於55微米、50微米或小於50微米、45微米或小於45微米、40微米或小於40微米、35微米或小於35微米、30微米或小於30微米或25微米或小於25微米左右，但不限於此。舉例而言，當能量束可固化組成物層形成於基底層上，下文將描述的平坦層並不形成於一個表面上時，考慮到能量束可固化組成物層的收縮力或類似因素，可進一步控制所形成層的厚度。當能量束可固化組成物層形成於基底層的並不形成平坦層的一側上時，可固化組成物層的厚度可為例如35微米或小於35微米。在另一實例中，可固化組成物層的厚度可為33微米或小於33微米、31微米或小於31微米、29微米或小於29微米、27微米或小於27微米、25微米或小於25微米、23微米或小於23微米或21微米或小於21微米，或可為5微米或大於5微米、10微米或大於10微米或15微米或大於15微米。不僅考慮到平坦層是否形成於如上文所述的基底層上，且亦考慮到可固化組成物層中所包含的樹脂類型(在下文描述)或其類似因素，可控制可固化組成物層的厚度，且因此厚度不限於此。
可對層壓物執行能量束照射能量束可固化組成物，所述層壓物是藉由包括以下步驟的方法產生：將能量束可固化組成物澆築於基底薄膜上以形成能量束可固化組成物層；且將防眩薄膜層壓於能量束可固化組成物層上以使防眩薄膜與能量束可固化組 成物層接觸。此時，如上文所述，防眩薄膜與能量束可固化組成物層接觸的表面可為上述防眩表面。
藉由應用上述方法，可更穩定地維持所製備的經固化層的物理性質或品質均一性。
基底薄膜的類型不受特定限制，且可應用具有適當表面光滑度的基底薄膜。舉例而言，薄膜，諸如聚酯薄膜；聚烯烴薄膜，諸如聚丙烯或聚乙烯或降冰片烯樹脂薄膜、乙酸酯薄膜、丙烯酸薄膜、氟乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚醯胺薄膜、聚芳酯薄膜、塞璐芬(cellophane)或聚醚碸薄膜可單獨或以兩個或大於兩個的組合形式使用作為基底薄膜。在這些薄膜當中，可考慮到所需耐熱性及透明度來選擇適當的薄膜。
可使用透明薄膜，例如透射率為80%或大於80%或85%或大於85%的薄膜作為基底薄膜。基底薄膜的厚度不受特定限制，但考慮到對薄膜的製造製程中所應用的張力的抗性、層壓物的彎曲或變形、或能量束的透射效率以及類似因素，可在大致10微米至400微米、或50微米至300微米範圍內選擇所述厚度。
可使用具有形成於一側上的平坦層的薄膜作為基底薄膜。舉例而言，在具有形成於一側上的平坦層的基底薄膜中，能量束可固化組成物層可形成於無平坦層的側上。藉由應用其中平坦層形成於一側上的基底薄膜，可能產生具有優異表面特性而不出現捲曲的薄膜，同時能量束可固化組成物層亦由樹脂形成及/或具有厚度以及類似物，其描述於下文。
不特定限制用於形成平坦層的材料。在一個實例中，平坦層可藉由塗佈且固化能量束可固化組成物形成，所述能量束可固 化組成物以相同方式應用於在基底薄膜上形成薄膜。
將能量束可固化組成物澆築於基底薄膜上且將防眩薄膜的防眩表面層壓於經澆築能量束可固化組成物上得到層壓物之後，可執行能量束照射。
視需要，能量束可固化組成物層與防眩表面之間的接觸亦可藉由以恆定壓力按壓其來執行。
經固化材料層可藉由在防眩薄膜與能量束可固化組成物層接觸的狀態下用能量束照射防眩薄膜來以上文方式固化組成物而產生。此時，能量束的照射方向不受限制，且例如能量束可照射於防眩薄膜側上，或能量束可固化組成物層的不與防眩薄膜接觸的側或所述兩個側上。即使在能量束照射於層壓物(防眩薄膜/能量束可固化組成物層/基底薄膜)上時，亦可自防眩薄膜側、基底薄膜側或所述兩個側照射能量束。
在一個實例中，當在層壓物上執行能量束照射時，能量束可經由基底薄膜照射至能量束可固化組成物層。
舉例而言，當紫外線作為能量束照射時，可照射使用紫外燈產生的紫外線。可應用金屬鹵化物燈、高壓汞燈、低壓汞燈、脈衝型氙氣燈、氙氣/汞混合物燈、低壓滅菌燈及/或無電極燈以及類似燈作為紫外燈。照射條件可取決於能量束可固化組成物的組成及類似因素來判定，且通常可執行照射以具有在大致0.01至10毫焦/平方公分(mJ/cm2)左右水準的曝光量。在另一實例中，經曝光的能量的量可為約0.05毫焦/平方公分或大於0.05毫焦/平方公分、0.1毫焦/平方公分或大於0.1毫焦/平方公分、0.5毫焦/平方公分或大於0.5毫焦/平方公分、1毫焦/平方公分或大於1毫焦/平方 公分或1.5毫焦/平方公分或大於1.5毫焦/平方公分，或亦可為9毫焦/平方公分或小於9毫焦/平方公分、8毫焦/平方公分或小於8毫焦/平方公分、7毫焦/平方公分或小於7毫焦/平方公分、6毫焦/平方公分或小於6毫焦/平方公分或5毫焦/平方公分或小於5毫焦/平方公分左右。
執行此類能量束照射的溫度不受特定限制。通常，在室溫(在15℃至35℃範圍內)下執行能量束照射，但視需要可調節相關溫度，且在此情況下，亦可在能量束照射製程期間應用加熱/冷卻裝置或類似物。
儘管不特定限制本申請案中應用的能量束可固化組成物的類型，但考慮到澆築、塗佈效率、所需表面特性及/或固化之前及之後的固化收縮以及類似因素，可應用具有可鑄性流動性或可塑性同時具有能量束可固化性的類型。視需要，為防止因固化之前及之後的固化收縮所致的彎曲或變形以及類似情況，亦可將固化收縮率控制在適當範圍內。通常地，可使用固化之前及之後的體積收縮率在3%至10%範圍內的能量束可固化組成物。
舉例而言，可選擇且使用適當類型的所謂丙烯酸能量束可固化組成物、矽酮類能量束可固化組成物或環氧基類能量束可固化組成物作為能量束可固化組成物。另外，考慮到製程效率或薄膜性質，可應用無溶劑組成物。
舉例而言，可使用包括至少一種矽酮樹脂組分及反應性稀釋劑的組成物作為能量束可固化組成物。
所應用的矽酮樹脂組分的類型不受特定限制，但為更有效地滿足所需物理性質，可應用由以下平均單元式1表示的矽酮 樹脂組分。
[平均單元式1] (R1 3SiO1/2)a(R2 2SiO2/2)b(R3SiO3/2)c(SiO4/2)d(RO1/2)e
在平均單元式1中，R1至R3各自獨立地為氫原子、烷基、芳基或能量束可固化基團，且當R1至R3存在多個時，其各自相同或彼此不同，且R1至R3中的至少一者為能量束可固化基團，且當a+b+c+d已經轉換為1時，a、b、c以及d分別滿足0
Figure 109145242-A0305-02-0023-19
a
Figure 109145242-A0305-02-0023-20
1、0<b
Figure 109145242-A0305-02-0023-22
1、0<c
Figure 109145242-A0305-02-0023-23
1以及0
Figure 109145242-A0305-02-0023-24
d
Figure 109145242-A0305-02-0023-25
1，且e為其中e/(a+b+c+d)屬於0至0.4範圍內的數值。能量束可固化基團可為例如自由基可固化基團或陽離子可固化基團，考慮到所需物理性質或類似性質的實施，其可較佳地為自由基可固化基團。
平均單元表示矽酮樹脂組分中所含的單體單元，亦即，所謂的M單元、D單元、T單元以及Q單元的平均比率，其中矽酮樹脂組分表示上述平均單元式1的情況可意謂所述組分包括一種以根據上述平均單元式1的比率含有單體單元的聚合物組分(矽酮樹脂)的情況或所述組分包括兩種或大於兩種聚合物組分(矽酮樹脂)並且兩種或大於兩種組分中所包含的所有單體單元的平均數係由上述平均單元式1定義的情況。
當a+b+c+d已在上述平均單元式1中轉換為1時，a及d亦可各自獨立地為0.95或小於0.95、0.9或小於0.9、0.85或小於0.85、0.8或小於0.8、0.75或小於0.75、0.7或小於0.7、0.65或小於0.65、0.6或小於0.6、0.55或小於0.55、0.5或小於0.5、0.45或小於0.45、0.4或小於0.4、0.35或小於0.35、0.3或小於0.3、0.25或小於0.25、0.2或小於0.2、0.15或小於0.15、0.1或小於 0.1或0.05或小於0.05左右。
當a+b+c+d已在上述平均單元式1中轉換為1時，另一實例中的b亦可為0.01或大於0.01、0.02或大於0.02、0.03或大於0.03、0.04或大於0.04、0.05或大於0.05、0.06或大於0.06、0.07或大於0.07、0.08或大於0.08、0.09或大於0.09、0.1或大於0.1、0.15或大於0.15、0.2或大於0.2或0.25或大於0.25，或亦可為0.95或小於0.95、0.9或小於0.9、0.85或小於0.85、0.8或小於0.8、0.75或小於0.75、0.7或小於0.7、0.65或小於0.65、0.6或小於0.6、0.55或小於0.55、0.5或小於0.5、0.45或小於0.45、0.4或小於0.4、0.35或小於0.35、0.3或小於0.3或0.25或小於0.25左右。
當a+b+c+d已在上述平均單元式1中轉換為1時，c可為0.1或大於0.1、0.15或大於0.15、0.2或大於0.2、0.25或大於0.25、0.3或大於0.3、0.35或大於0.35、0.4或大於0.4、0.45或大於0.45、0.5或大於0.5、0.55或大於0.55、0.6或大於0.6、0.65或大於0.65、0.7或大於0.7或0.75或大於0.75，或亦可為0.95或小於0.95、0.9或小於0.9、0.85或小於0.85、0.8或小於0.8或0.75或小於0.75左右。
在平均單元式1中，RO1/2可意謂鍵結至矽原子的可縮合官能基。亦即，在一個實例中，矽酮樹脂組分可藉由使可縮合矽烷化合物縮合來製備，其中在製程中無任何反應的剩餘可縮合官能基可由RO1/2表示。
在平均單元式1中，e可為使得e/(a+b+c+d)在0至0.4範圍內的數值。在另一實例中，e/(a+b+c+d)亦可為0.35或小於0.35 左右、0.3或小於0.3左右、0.25或小於0.25左右、0.2或小於0.2左右、0.15或小於0.15左右、0.1或小於0.1左右或0.05或小於0.05左右。
在平均單元式1中，R1至R3各自為直接鍵結至矽原子的官能基，其在由平均單元式1表示的矽酮樹脂組分中可各自存在多個，且當其存在多個時，其可相同或不同。R1至R3可各自獨立地為氫原子、烷基、芳基或能量束可固化官能基。R1至R3中的至少一者為能量束可固化官能基，且例如至少R3(在多個R3的情況下，R3中的至少一者)可為能量束可固化官能基。
在上述平均單元式中，R2可適當地為烷基。
此處，能量束可固化官能基可為例如所謂的自由基可固化官能基或陽離子可固化官能基。通常，自由基可固化官能基包含烯基、(甲基)丙烯醯基、(甲基)丙烯醯氧基、(甲基)丙烯醯烷基或(甲基)丙烯醯氧基烷基以及類似基團，且陽離子可固化官能基可藉由環氧基例示。術語環氧基可意謂衍生自具有三個環組成原子的環醚或含有所述環醚的化合物的單價殘基。環氧基可藉由以下例示：縮水甘油基、環氧烷基、縮水甘油氧基烷基或脂環環氧基以及類似基團。此處，脂環環氧基可意謂衍生自包含脂族烴環結構及其中形成脂族烴環的兩個碳原子亦形成環氧基的結構的化合物的單價殘基。可例示具有6至12個碳原子的脂環環氧基，且例如可例示3,4-環氧基環己基乙基以及類似基團作為脂環環氧基。
能量束可固化官能基可較佳地為自由基可固化官能基。在含有陽離子可固化官能基的樹脂的情況下，所述樹脂經由開環反應進行聚合，使得幾乎不存在由於固化或類似方法所致的體積 減小，然而在含有自由基可固化官能基的樹脂的情況下，所述樹脂在藉由固化或類似方法收縮時可具有高原子密度，從而更適用於實現所需物理性質。
在總體R1至R3中，此類能量束可固化官能基可以大致50莫耳%或大於50莫耳%、大致55莫耳%或大於55莫耳%、大致60莫耳%或大於60莫耳%、大致65莫耳%或大於65莫耳%、大致70莫耳%或大於70莫耳%、大致75莫耳%或大於75莫耳%、大致80莫耳%或大於80莫耳%、大致85莫耳%或大於85莫耳%、大致90莫耳%或大於90莫耳%或大致95莫耳%或大於95莫耳%的比率存在。不特定限制能量束可固化官能基的比率的上限，且例如官能基的比率可為大致100莫耳%或小於100莫耳%、大致95莫耳%或小於95莫耳%、大致90莫耳%或小於90莫耳%、大致85莫耳%或小於85莫耳%、大致80莫耳%或小於80莫耳%、大致75莫耳%或小於75莫耳%、大致70莫耳%或小於70莫耳%左右。
矽酮樹脂組分可具有在10,000至50,000範圍內的重量平均分子量(Mw)。重量平均分子量可為藉由所謂的凝膠滲透層析法(gel permeation chromatography；GPC)量測的標準聚苯乙烯的轉換值。在另一實例中，重量平均分子量可為約11000公克/莫耳或大於11000公克/莫耳、12000公克/莫耳或大於12000公克/莫耳、13000公克/莫耳或大於13000公克/莫耳、14000公克/莫耳或大於14000公克/莫耳、15000公克/莫耳或大於15000公克/莫耳、16000公克/莫耳或大於16000公克/莫耳、17000公克/莫耳或大於17000公克/莫耳、18000公克/莫耳或大於18000公克/莫耳、19000公克/莫耳或大於19000公克/莫耳、20000公克/莫耳或大於20000公克 /莫耳、21000公克/莫耳或大於21000公克/莫耳、22000公克/莫耳或大於22000公克/莫耳、23000公克/莫耳或大於23000公克/莫耳、24000公克/莫耳或大於24000公克/莫耳、25000公克/莫耳或大於25000公克/莫耳、26000公克/莫耳或大於26000公克/莫耳、27000公克/莫耳或大於27000公克/莫耳、28000公克/莫耳或大於28000公克/莫耳、29000公克/莫耳或大於29000公克/莫耳或30000公克/莫耳或大於30000公克/莫耳，或亦可為45000公克/莫耳或小於45000公克/莫耳、40000公克/莫耳或小於40000公克/莫耳、35000公克/莫耳或小於35000公克/莫耳、30000公克/莫耳或小於30000公克/莫耳、25000公克/莫耳或小於25000公克/莫耳或20000公克/莫耳或小於20000公克/莫耳左右。
矽酮樹脂組分亦可具有1.8或大於1.8左右的分子量分佈(molecular weight distribution；PDI，Mw/Mn)，亦即，重量平均分子量(Mw)與數目平均分子量(Mn)的比率。在另一實例中，分子量分佈可為1.9或大於1.9、2.0或大於2.0、2.1或大於2.1、2.2或大於2.2或2.3或大於2.3，或可為3.0或小於3.0、2.9或小於2.9、2.8或小於2.8、2.7或小於2.7、2.6或小於2.7、2.5或小於2.5或2.4或小於2.4。
具有上述平均單元且具有上述分子量特性的矽酮樹脂組分允許有效形成具有所需物理性質的經固化材料層。
對於產生矽酮樹脂組分，需要用於使所謂的可縮合矽烷化合物(例如，烷氧矽烷化合物)縮合的聚合製程及聚合製程之後的分子量控制製程。此處，已知藉由使可縮合矽烷化合物縮合製備矽酮樹脂組分的各種方法，且一般而言，僅執行此縮合製程來製備 矽酮樹脂組分。然而，僅藉由如上所述的縮合製程進行聚合難以確保上文提及水準的分子量特性。因此，縮合製程之後需要適當的分子量控制製程。
舉例而言，可執行分子量控制製程，同時將聚合反應產物維持在預定溫度下的解壓條件下。在此製程中，雖然移除聚合反應產物中所含的溶劑、低分子量組分及/或未反應的物質，但可將分子量調節至所需水準。此處，減壓條件不受特別限制，但減壓製程可在約50至90托(Torr)的真空度下執行。在另一實例中，真空度可為約55托或大於55托、約60托或大於60托或約65托或大於65托，或可為約85托或小於85托、約80托或小於80托或約75托或小於75托左右。
解壓製程可在預定溫度曲線下執行。舉例而言，解壓製程可包括：在約30℃至70℃範圍內的溫度下將真空度維持在所述水準的第一步驟，及在第一步驟之後將溫度維持在60至100℃範圍內，同時將真空度維持在所述水準的第二步驟。在第一步驟中，若維持上文提及的真空度的同時將溫度維持在約30℃至70℃範圍內，則藉由解壓降低溫度，且通常溫度下降至10℃至30℃左右的水準。因此，當溫度如上文下降時，溫度再次升高至第二步驟的水準，且進一步執行分子量控制製程。在另一實例中，第一步驟的溫度可為約35℃或大於35℃、40℃或大於40℃或45℃或大於45℃，或可為65℃或小於65℃、60℃或小於60℃或55℃或小於55℃；且在另一實例中，第二步驟的溫度可為約65℃或大於65℃、70℃或大於70℃或75℃或大於75℃，或可為約95℃或小於95℃、約90℃或小於90℃或85℃或小於85℃。此外，在第一步驟中，如上 文所提及，可實質上執行其中溫度在上文提及的真空度下自在約30℃至70℃範圍內的溫度降低至約10℃至30℃水準的製程。執行第一步驟及第二步驟的時間不受特定限制，但為確保適當水準的分子量，第一步驟可執行大致1小時至5小時，且第二步驟可執行大致10分鐘至60分鐘左右。
獲得應用於分子量控制製程的聚合反應產物的方法不受特定限制。在所述行業中，使用可縮合化合物(諸如烷氧基矽烷)製備矽酮樹脂的各種內容為已知的，且所有這些方法可應用於本申請案中。
為有利地確保後續分子量控制製程中的所需適當分子量，可應用藉由施加鹼催化劑使作為烷氧基矽烷的可縮合矽烷於水性溶劑及醇、酮及/或乙酸的混合溶劑中聚合的方法作為聚合製程。
在上文製程中，可應用已知化合物作為烷氧基矽烷。
此處，可應用的水性溶劑包含例如水，其中可以大致0.1至10莫耳/應用於聚合的可縮合矽烷化合物(例如，烷氧基矽烷)總莫耳的比率應用此水溶劑。在另一實例中，水性溶劑的比率可為約0.5莫耳或大於0.5莫耳、約1莫耳或大於1莫耳、約1.5莫耳或大於1.5莫耳、約2莫耳或大於2莫耳或約2.5莫耳或大於2.5莫耳，或亦可為約9莫耳或小於9莫耳、約8莫耳或小於8莫耳、約7莫耳或小於7莫耳、約6莫耳或小於6莫耳、約5莫耳或小於5莫耳、約4莫耳或小於4莫耳或約3莫耳或小於3莫耳左右。
此處，可應用的醇可藉由乙醇、正丙醇、異丙醇、異丁醇、正丁醇及/或第三丁醇以及類似物例示，酮溶劑可藉由丙酮、甲基 乙基酮、甲基異丁基酮、二甲基酮、甲基異丙基酮及/或乙醯丙酮以及類似物例示，且乙酸酯溶劑可藉由乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯及/或乙酸丁酯以及類似物例示，但不限於此。此類醇、酮或乙酸酯溶劑可以大致0.1至10莫耳/應用於聚合的可縮合矽烷化合物(例如，烷氧基矽烷)總莫耳的比率應用。在另一實例中，醇、酮或乙酸酯溶劑的比率可為約0.5莫耳或大於0.5莫耳、約1莫耳或大於1莫耳、約1.5莫耳或大於1.5莫耳、約2莫耳或大於2莫耳或約2.5莫耳或大於2.5莫耳，或亦可為約9莫耳或小於9莫耳、約8莫耳或小於8莫耳、約7莫耳或小於7莫耳、約6莫耳或小於6莫耳、約5莫耳或小於5莫耳、約4莫耳或小於4莫耳或約3莫耳或小於3莫耳左右。
舉例而言，可應用pKa為15或小於15的胺化合物或類似物作為上文製程中所應用的基底催化劑。在另一實例中，胺化合物的pKa可為約14.5或小於14.5、約14或小於14、約13.5或小於13.5、約13或小於13、約12.5或小於12.5、約12或小於12、約11.5或小於11.5、約11或小於11或約10.5或小於10.5，或可為約1或大於1、約2或大於2、約3或大於3、約4或大於4、約5或大於5、約6或大於6、約7或大於7、約8或大於8、約9或大於9或約10或大於10，但不限於此。舉例而言，可應用諸如三乙胺的三烷基胺作為胺化合物，但並不特定限制，只要pKa在上述範圍內即可。
胺化合物可以約0.0001莫耳至0.1莫耳/可縮合矽烷化合物(例如，烷氧基矽烷)總莫耳的比率應用。在另一實例中，比率可為約0.0005莫耳或大於0.0005莫耳、約0.0007莫耳或大於 0.0007莫耳、約0.0009莫耳或大於0.0009莫耳、或約0.01莫耳或大於約0.01莫耳，或亦可為約0.09莫耳或小於0.09莫耳、約0.08莫耳或小於0.08莫耳、約0.07莫耳或小於0.07莫耳、約0.06莫耳或小於0.06莫耳、約0.05莫耳或小於0.05莫耳、約0.04莫耳或小於0.04莫耳、約0.03莫耳或小於0.03莫耳或約0.02莫耳或小於0.02莫耳左右。
舉例而言，聚合反應產物可藉由將此類組分的混合物維持在大致50至110℃範圍內的溫度下約8至16小時左右而獲得。在另一實例中，聚合反應的溫度可為約55℃或大於55℃、約60℃或大於60℃、約65℃或大於65℃、約70℃或大於70℃或約75℃或大於75℃，或可為約105℃或大於105℃、約100℃或大於100℃、約95℃或大於95℃、約90℃或大於90℃或約85℃或大於85℃左右；且在另一實例中，聚合時間可為約9小時或大於9小時、約10小時或大於10小時或約11小時或大於11小時，或亦可為約15小時或小於15小時、約14小時或小於14小時或約13小時或小於13小時左右。
在將以上文方式聚合的聚合物產物引入至分子量控制製程中的情況下，可更有效地確保所需分子量性質。
能量束可固化組成物可包括反應性稀釋劑以及組分。反應性稀釋劑可藉由將組成物以及類似物的黏度調節至適當範圍而正確地執行澆築製程。
可使用已知組分作為反應性稀釋劑，而無特定限制。取決於能量束可固化組成物的固化類型(例如，自有基固化類型或陽離子固化類型等)，適合的反應性稀釋劑為已知的。
在一個實例中，當矽酮樹脂組分包括自由基可固化官能基(例如，烯基、(甲基)丙烯醯基、(甲基)丙烯醯氧基、(甲基)丙烯醯烷基、(甲基)丙烯醯氧基烷基等)作為能量束可固化官能基時，可應用各種丙烯酸酯化合物作為反應性稀釋劑。
可使用多官能性丙烯酸酯化合物，諸如(甲基)丙烯酸烷酯，諸如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基丁酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸月桂酯或(甲基)丙烯酸十四烷酯，(甲基)丙烯酸羥烷酯，諸如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯或(甲基)丙烯酸8-羥辛酯；雙官能丙烯酸酯，諸如1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸二(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸二環戊酯、經己內酯改質的二(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、經環氧乙烷改質的二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯醯氧基異氰尿酸乙酯、烯丙基化二(甲基)丙烯酸環己酯、三環癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基二環戊烷二(甲基)丙烯酸酯、經環氧乙烷改質的六氫鄰苯二甲酸二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、經新戊二醇改質的三甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、金剛烷二(甲基)丙烯酸酯或9,9-雙[4-(2-丙烯醯氧基乙氧基)苯基]芴；三官能丙烯酸酯，諸如三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二 季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、經丙酸改質的二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、經環氧丙烷改質的三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三官能胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯或異氰尿酸三(甲基)丙烯醯氧基乙酯；四官能丙烯酸酯，諸如雙甘油四(甲基)丙烯酸酯或季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；五官能丙烯酸酯，諸如經丙酸改質的二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；以及六官能丙烯酸酯，諸如二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、經己內酯改質的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯或胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(例如，異氰酸酯單體與三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯的反應物)作為此類丙烯酸酯化合物，且考慮到所需黏度及物理性質以及類似性質，可選擇且使用其中的一或兩者或大於兩者。
在另一實例中，當矽酮樹脂組分包括陽離子可固化官能基(例如，環氧基等)作為能量束可固化官能基時，可應用環氧化合物或氧雜環丁烷化合物作為反應性稀釋劑。
可應用作為陽離子可固化組成物中的反應性稀釋劑的各種環氧化合物或氧雜環丁烷化合物為所屬領域中已知的，且可在不限制的情況下使用此類已知反應性稀釋劑。
舉例而言，可應用作為反應性稀釋劑的環氧化合物或氧雜環丁烷化合物可藉由以下例示：雙酚A二縮水甘油醚、雙酚F二縮水甘油醚、雙酚S二縮水甘油醚、溴化雙酚A二縮水甘油醚、溴化雙酚F二縮水甘油醚、溴化雙酚S二縮水甘油醚、環氧基酚醛清漆樹脂、氫化雙酚A二縮水甘油醚、氫化雙酚F二縮水甘油醚、氫化雙酚S二縮水甘油醚、3,4-環氧基環己基甲基-3',4'-環氧基環己烷甲酸酯、2-(3,4-環氧基環己基-5,5-螺-3,4-環氧基)-環己烷 -1,4-二噁烷、己二酸雙(3,4-環氧基環己基甲酯)、乙烯基環氧環己烷、4-乙烯基環氧基環己烷、乙烯基環己烯二氧化物、檸檬烯環氧化物、檸檬烯二氧化物、己二酸雙(3,4-環氧基-6-甲基環己基甲酯)、3,4-環氧基-6-甲基環己基-3',4'-環氧基-6'-甲基環己烷甲酸酯、經ε己內酯改質的3,4-環氧基環己基甲基-3',4'-環氧基環己烷甲酸酯、經三甲基己內酯改質的3,4-環氧基環己基甲基-3',4'-環氧基環己烷甲酸酯、經β甲基-δ戊內酯改質的3,4-環氧基環己基甲基-3',4'-環氧基環己烷甲酸酯、亞甲基雙(3,4-環氧基環己烷)、雙環己基-3,3'-環氧化物，具有-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-C(CH3)2-、-CBr2-、-C(CBr3)2-、-C(CF3)2-、-C(CCl3)2-或-CH(C6H5)-鍵的雙(3,4-環氧基環己基)，二環戊二烯二環氧化物、乙二醇的二(3,4-環氧基環己基甲基)醚、伸乙基雙(3,4-環氧基環己烷甲酸酯)、鄰苯二甲酸環氧基六氫二辛酯、鄰苯二甲酸環氧基六氫-二-2-乙基己酯、1,4-丁二醇二縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、聚丙二醇二縮水甘油醚、脂族長鏈二元酸的二縮水甘油酯、脂族高級醇的單縮水甘油乙醚，藉由將環氧烷添加至苯酚、甲酚、丁基苯酚或這些化合物獲得的聚醚醇的單縮水甘油基醚，高級脂肪酸的縮水甘油酯、環氧化大豆油、環氧基丁基硬脂酸、環氧基辛基硬脂酸、環氧化亞麻籽油、環氧化聚丁二烯、1,4-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)甲基]苯、3-乙基-3-羥甲基氧雜環丁烷、3-乙基-3-(3-羥丙基)氧基甲基氧雜環丁烷、3-乙基-3-(4-羥丁基)氧基甲基氧雜環丁烷、3-乙基-3-(5-羥戊基)氧基甲基氧雜環丁烷、3-乙基-3-苯氧基甲基氧雜環丁烷、雙((1-乙基(3-氧雜環丁烷基)甲基)醚、3-乙基-3-((2- 乙基己氧基)甲基)氧雜環丁烷、3-乙基-(三乙氧基矽基丙氧基甲基)氧雜環丁烷、3-(甲基)烯丙氧基甲基-3-乙基氧環丁烷、3-羥甲基-3-乙基氧環丁烷、(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)苯、4-氟-[1-(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)甲基]苯、4-甲氧基-[1-(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)甲基]-苯、[1-(3-乙基-3-氧雜環丁基甲氧基)乙基]苯基醚、異丁氧基甲基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、2-乙基己基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、乙基二乙二醇(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、二環戊二烯(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、二環戊烯氧基乙基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、二環戊烯基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、四氫糠基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚、2-羥乙基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚或2-羥丙基(3-乙基-3-氧雜環丁基甲基)醚或類似物，或選自前述化合物中的兩者或大於兩者的組合以及類似基團，但不限於此。
考慮到所需黏度或類似物，對能量束可固化組成物中應用的反應性稀釋劑的比率進行調節，且無特定限制，但反應性稀釋劑可通常以相對於100重量份矽酮樹脂組分的1重量份至200重量份的比率來應用。在另一實例中，比率可為3重量份或大於3重量份、5重量份或大於5重量份、7重量份或大於7重量份或9重量份或大於9重量份，或亦可為190重量份或小於190重量份、180重量份或小於180重量份、170重量份或小於170重量份、160重量份或小於160重量份、150重量份或小於150重量份、140重量份或小於140重量份、130重量份或小於130重量份、120重量份或小於120重量份、110重量份或小於110重量份、100重量份或小於100重量份、90重量份或小於90重量份、80重量份或小 於80重量份、70重量份或小於70重量份、60重量份或小於60重量份、50重量份或小於50重量份、40重量份或小於40重量份、30重量份或小於30重量份或20重量份或小於20重量份左右。
能量束可固化組成物可包括矽酮樹脂組分及反應性稀釋劑作為基礎組分，且亦可包括需要額外組分。此類添加劑組分可藉由以下例示：能夠起始能量束可固化組成物的固化的起始劑、分散劑、界面活性劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑、增稠劑、抗著色劑、著色劑(色素、染料)、消泡劑、調平劑、阻燃劑、紫外吸收劑、黏著力賦予劑、聚合抑制劑、抗氧化劑及/或表面改質劑以及類似物，但不限於此。
亦包含用於混濁度控制的散射粒子作為可包含於能量束可固化組成物中的額外組分。這些粒子通常具有能夠散射光的粒徑，其中考慮到所需混濁度，可另外應用折射率與周圍基質的折射率不同的粒子且可使用具有適當水準的粒徑及折射率的粒子。
藉由將此類能量束可固化組成物應用於上述方法來製備經固化材料層，可能產生具有所需物理性質的經固化材料層。
本申請案的薄膜可包括其中經固化材料層形成於一側上的基底薄膜。此基底薄膜可為上述製造方法中應用的基底薄膜。
如上文所述，可在無特定限制的情況下應用已知薄膜作為基底薄膜，但為更有效地滿足所需物理性質，可應用具有機械及/或熱各向異性的聚合物薄膜。在本說明書中，在機械態樣及/或熱態樣方面為各向異性的聚合物薄膜可稱為不對稱聚合物薄膜。此處，聚合物薄膜就機械性質而言為各向異性的情況為其具有如下 所述的伸長率特性、應力特性以及彈性模數特性的情況，且其為熱各向異性的情況為其具有如下所述的熱膨脹係數或類似者的情況。
本說明書中所提及的每一聚合物薄膜的物理性質的量測是根據本說明書的實例章節中所描述的方法來量測。
已知為所謂的高拉伸聚(對苯二甲酸伸乙酯)(poly(ethylene terephthalate)；PET)薄膜或超延遲薄膜(super retardation film；SRF)的薄膜通常已知為聚合物薄膜。因此，在本申請案中，聚合物薄膜可為例如聚酯薄膜。
此類薄膜為所屬技術領域中已知，其中由於製造製程中的高拉伸製程，這些薄膜展現在機械性質及/或熱性質方面的不對稱性。行業中已知的聚合物薄膜的典型實例為聚酯薄膜，諸如聚(對苯二甲酸伸乙酯)(PET)薄膜，例如存在由東洋紡公司(Toyobo)供應的商品名超延遲薄膜(SRF)系列的薄膜。
在一個實例中，聚合物薄膜的任一共平面第一方向上的薄膜(包含經固化層/基底薄膜或包含經固化材料層/基底薄膜/平坦層)(E1)與垂直於第一方向的第二方向上的薄膜(包含經固化材料層/基底薄膜或包含經固化材料層/基底薄膜/平坦層)(E2)的比率(E1/E2)可為3或大於3。在另一實例中，比率(E1/E2)可為約3.5或大於3.5、4或大於4、4.5或大於4.5、5或大於5、5.5或大於5.5、6或大於6或6.5或大於6.5。在另一實例中，比率(E1/E2)可為約20或小於20、18或小於18、16或小於16、14或小於14、12或小於12、10或小於10、8或小於8或7.5或小於7.5。
在本說明書中，術語聚合物薄膜的第一方向及第二方向為薄膜基板平面中的任意方向。舉例而言，當聚合物薄膜為經拉伸聚合物薄膜時，共平面方向可為由聚合物薄膜的縱向(machine direction；MD)方向及橫向(transverse direction；TD)方向形成的共平面方向。在一個實例中，本說明書中所描述的第一方向可為聚合物薄膜的慢軸方向及快軸方向中的任一個方向，且第二方向可為慢軸方向及快軸方向中的另一方向。在另一實例中，在聚合物薄膜為經拉伸聚合物薄膜時，第一方向可為縱向方向(MD)及橫向方向(TD)中的任一個方向，且第二方向可為縱向方向(MD)及橫向方向(TD)中的另一方向。
聚合物薄膜在第一方向(例如，上述慢軸方向或TD方向)上可具有15%或大於15%、20%或大於20%、25%或大於25%、30%或大於30%、35%或大於35%或40%或大於40%的伸長率。在另一實例中，伸長率可為約60%或小於60%、55%或小於55%、50%或小於55%或45%或小於45%。
聚合物薄膜的第二方向上的熱膨脹係數(CTE2)與第一方向上的熱膨脹係數(CTE1)的比率(CTE2/CTE1)可為1.5或大於1.5。熱膨脹係數(CTE1、CTE2)各自為在40℃至80℃溫度範圍內鑑別出的值。在另一實例中，比率(CTE2/CTE1)可為約2或大於2，或可為10或小於10、9或小於9、8或小於8、7或小於7、6或小於6、5或小於5、4或小於4或3或小於3左右。
第二方向上的熱膨脹係數(CTE2)可在5至150ppm/K範圍內。熱膨脹係數可為約10ppm/K或大於10ppm/K、15ppm/K或大於15ppm/K、20ppm/K或大於20ppm/K、25ppm/K或大於 25ppm/K、30ppm/K或大於30ppm/K、35ppm/K或大於35ppm/K、40ppm/K或大於40ppm/K、45ppm/K或大於45ppm/K、50ppm/K或大於50ppm/K、約55ppm/K或大於55ppm/K、60ppm/K或大於60ppm/K或65ppm/K或大於65ppm/K，或可為140ppm/K或小於140ppm/K、130ppm/K或小於130ppm/K、120ppm/K或小於120ppm/K、100ppm/K或小於100ppm/K、95ppm/K或小於95ppm/K、90ppm/K或小於90ppm/K、85ppm/K或小於85ppm/K、80ppm/K或小於80ppm/K、75ppm/K或小於75ppm/K或70ppm/K或小於70ppm/K。
聚合物薄膜的第一方向上的彈性模數(YM1)與第二方向上的彈性模數(YM2)的比率(YM1/YM2)可為1.5或大於1.5。在另一實例中，比率(YM1/YM2)可為約2或大於2，或可為10或小於10、9或小於9、8或小於8、7或小於7、6或小於6、5或小於5、4或小於4、3或小於3或2.5或小於2.5。
第一方向上的彈性模數(YM1)可在約2至10吉帕範圍內。在另一實例中，彈性模數(YM1)可為約2.5吉帕或大於2.5吉帕、3吉帕或大於3吉帕、3.5吉帕或大於3.5吉帕、4吉帕或大於4吉帕、4.5吉帕或大於4.5吉帕、5吉帕或大於5吉帕或5.5吉帕或大於5.5吉帕，或亦可為約9.5吉帕或小於9.5吉帕、9吉帕或小於9吉帕、8.5吉帕或小於8.5吉帕、8吉帕或小於8吉帕、7.5吉帕或小於7.5吉帕、7吉帕或小於7吉帕、6.5吉帕或小於6.5吉帕或6吉帕或小於6吉帕。
除非另外說明，否則本說明書中提及的彈性模數為所謂的楊氏模數(Young's modulus)，其是根據如下所述的實例的方法 來量測。
聚合物薄膜的第一方向上的最大應力(MS1)與第二方向上的最大應力(MS2)的比率(MS1/MS2)可為1.5或大於1.5。在另一實例中，比率(MS1/MS2)可為約2或大於2，或可為10或小於10、9或小於9、8或小於8、7或小於7、6或小於6、5或小於5、4或小於4、3或小於3或2.5或小於2.5。
第一方向(例如，上述慢軸方向或TD方向)上的最大應力(MS1)可在約80至300兆帕範圍內。在另一實例中，最大應力(MS1)可為約90兆帕或大於90兆帕、約100兆帕或大於100兆帕、約110兆帕或大於110兆帕、約120兆帕或大於120兆帕、約130兆帕或大於130兆帕、約140兆帕或大於140兆帕、約150兆帕或大於150兆帕、約155兆帕或大於155兆帕、160兆帕或大於160兆帕、165兆帕或大於165兆帕、170兆帕或大於170兆帕、175兆帕或大於175兆帕、180兆帕或大於180兆帕、185兆帕或大於185兆帕、190兆帕或大於190兆帕或195兆帕或大於195兆帕，或亦可為約300兆帕或小於300兆帕、約290兆帕或小於290兆帕、約280兆帕或小於280兆帕、約270兆帕或小於270兆帕、約260兆帕或小於260兆帕、約250兆帕或小於250兆帕、約245兆帕或小於245兆帕、240兆帕或小於240兆帕、235兆帕或小於235兆帕、230兆帕或小於230兆帕、225兆帕或小於225兆帕、220兆帕或小於220兆帕、215兆帕或小於215兆帕、210兆帕或小於210兆帕、205兆帕或小於205兆帕或200兆帕或小於200兆帕。
如上文所述，具有較大光學、機械及/或熱不對稱性的此 聚合物薄膜的代表性實例為已知為所謂的高拉伸聚酯薄膜或類似物的拉伸聚對苯二甲酸伸乙酯(PET)薄膜，其中這些薄膜為所述行業中可容易獲得的。
其中經固化材料層形成於聚合物薄膜(基底薄膜)的一側上的薄膜(包含基底薄膜+經固化材料層)或其中經固化材料層形成於基底薄膜的一側上且平坦層形成於另一側上的薄膜(包含平坦層+基底薄膜+經固化材料層)可等效於聚合物薄膜(基底薄膜)或可展現由其控制的不對稱性。
舉例而言，薄膜(包含經固化材料層/基底薄膜或包含經固化材料層/基底薄膜/平坦層)的任一共平面第一方向上的薄膜(包含經固化材料層/基底薄膜或包含經固化材料層/基底薄膜/平坦層)(EF1)與垂直於第一方向的第二方向上的薄膜(包含經固化材料層/基底薄膜或包含經固化材料層/基底薄膜/平坦層)(EF2)的比率(EF1/EF2)可為1.5或大於1.5。在另一實例中，比率(EF1/EF2)可為約2或大於2、2.5或大於2.5、3或大於3或3.5或大於3.5。在另一實例中，比率(EF1/EF2)可為約20或小於20、18或小於18、16或小於16、14或小於14、12或小於12、10或小於10、8或小於8、7.5或小於7.5、7或小於7、6.5或小於6.5、6或小於6、5.5或小於5.5、5或小於5、4.5或小於4.5、4或小於4、3.5或小於3.5或3或小於3。
在描述本說明書中所提及的薄膜(包含經固化材料層/基底薄膜或包含經固化材料層/基底薄膜/平坦層)的機械特性及/或熱特性時所提及的第一方向及第二方向可分別為與在提及聚合物薄膜(基底薄膜)的機械特性及/或熱特性時所描述的第一方向及 第二方向相同的方向。
此處，第一方向上的薄膜(包含經固化材料層/基底薄膜或包含經固化材料層/基底薄膜/平坦層)的伸長率(EF1)可為1.5%或大於1.5%、2%或大於2%、2.5%或大於2.5%、3%或大於3%、3.5%或大於3.5%、4%或大於4%、4.5%或大於4.5%、5%或大於5%、5.5%或大於5.5%或6%或大於6%。伸長率可為約20%或小於20%、15%或小於15%、10%或小於或5%或小於5%。
第一方向上的聚合物薄膜的伸長率(E1)與第一方向上的薄膜(包含經固化材料層/基底薄膜或包含經固化材料層/基底薄膜/平坦層)的伸長率(EF1)的比率(E1/EF1)可例如在約2至20範圍內。在另一實例中，比率(E1/EF1)可為約2.5或大於2.5、約3或大於3、約3.5或大於3.5、約4或大於4、約4.5或大於4.5、約5或大於5、約5.5或大於5.5、約6或大於6、約6.5或大於6.5、約7或大於7、約7.5或大於7.5、約8或大於8、約8.5或大於8.5、約9或大於9、約9.5或大於9.5或約10或大於10，或亦可為約19或小於19、18或小於18、17或小於17、16或小於16、15或小於15、14或小於14、13或小於13、12或小於12、11或小於11、10或小於10、9或小於9、8或小於8或7或小於7。
薄膜(包含經固化材料層/基底薄膜或包含經固化材料層/基底薄膜/平坦層)的第二方向上的熱膨脹係數(CTEF2)與第一方向上的熱膨脹係數(CTEF1)的比率(CTEF2/CTEF1)可為1.5或大於1.5。熱膨脹係數(CTEF1、CTEF2)各自為在40℃至80℃溫度範圍內鑑別的值。在另一實例中，比率(CTEF2/CTEF1)可為 約2或大於2，或可為10或小於10、9或小於9、8或小於8、7或小於7、6或小於6、5或小於5、4或小於4或3或小於3左右。
第二方向上的熱膨脹係數(CTEF2)可在5至150ppm/K範圍內。熱膨脹係數可為約10ppm/K或大於10ppm/K、15ppm/K或大於15ppm/K、20ppm/K或大於20ppm/K、25ppm/K或大於25ppm/K、30ppm/K或大於30ppm/K、35ppm/K或大於35ppm/K、40ppm/K或大於40ppm/K、45ppm/K或大於45ppm/K、50ppm/K或大於50ppm/K、約55ppm/K或大於55ppm/K、60ppm/K或大於60ppm/K或65ppm/K或大於65ppm/K、70ppm/K或大於70ppm/K、75ppm/K或大於75ppm/K、80ppm/K或大於80ppm/K或85ppm/K或大於85ppm/K，或可為140ppm/K或小於140ppm/K、130ppm/K或小於130ppm/K、120ppm/K或小於120ppm/K、100ppm/K或小於100ppm/K、95ppm/K或小於95ppm/K或90ppm/K或小於90ppm/K。
第二方向上的聚合物薄膜的熱膨脹係數(CTE2)與第二方向上的薄膜(包含經固化材料層/基底薄膜或包含經固化材料層/基底薄膜/平坦層)的熱膨脹係數(CTEF2)的比率(CTE2/CTEF2)可為例如約2或小於2。在另一實例中，比率(CTE2/CTEF2)可為約0或大於0、約0.1或大於0.1、約0.2或大於0.2、約0.3或大於0.3、約0.4或大於0.4、約0.5或大於0.5、約0.6或大於0.6或約0.7或大於0.7，或亦可為約1.5或小於1.5、1或小於1、0.9或小於0.9、0.85或小於0.85或0.8或小於0.8。
薄膜(包含經固化材料層/基底薄膜或包含經固化材料層 /基底薄膜/平坦層)的第一方向上的彈性模數(YMF1)與第二方向上的彈性模數(YMF2)的比率(YMF1/YMF2)可為1或大於1。在另一實例中，比率(YMF1/YMF2)可為約1.1或大於1.1、1.2或大於1.2、1.3或大於1.3、1.4或大於1.4、1.5或大於1.5、1.6或大於1.6、1.7或大於1.7或1.8或大於1.8，或可為10或小於10、9或小於9、8或小於8、7或小於7、6或小於6、5或小於5、4或小於4、3或小於3、2.5或小於2.5、2或小於2、1.9或小於1.9、1.8或小於1.8或1.8或小於1.8。
第一方向上的彈性模數(YMF1)可在約2至10吉帕範圍內。在另一實例中，彈性模數(YMF1)可為約2.5吉帕或大於2.5吉帕、3吉帕或大於3吉帕、3.5吉帕或大於3.5吉帕、4吉帕或大於4吉帕或4.5吉帕或大於4.5吉帕，或亦可為約9.5吉帕或小於9.5、9吉帕或小於9吉帕、8.5吉帕或小於8.5吉帕、8吉帕或小於8吉帕、7.5吉帕或小於7.5吉帕、7吉帕或小於7吉帕、6.5吉帕或小於6.5吉帕、6吉帕或小於6吉帕、5.5吉帕或小於5.5吉帕或5吉帕或小於5吉帕。
第一方向上的聚合物薄膜的彈性模數(YM1)與第一方向上的薄膜(包含經固化材料層/基底薄膜或包含經固化材料層/基底薄膜/平坦層)的彈性模數(YMF1)的比率(YM1/YMF1)可在例如約0.5至10範圍內。在另一實例中，比率(YM1/YMF1)可為約1或大於1，或大於1，或亦可為9或小於9、8或小於8、7或小於7、6或小於6、5或小於5、4或小於4、3或小於3、2或小於2或1.5或小於1.5。
薄膜(包含經固化材料層/基底薄膜或包含經固化材料層 /基底薄膜/平坦層)的第一方向上的最大應力(MSF1)與第二方向上的最大應力(MSF2)的比率(MSF1/MSF2)可為1.5或大於1.5。在另一實例中，比率(MSF1/MSF2)可為約2或大於2，或可為10或小於10、9或小於9、8或小於8、7或小於7、6或小於6、5或小於5、4或小於4或3或小於3。
第一方向上的最大應力(MSF1)可在約50至200兆帕範圍內。在另一實例中，最大應力(MSF1)可為約55兆帕或大於55兆帕、約60兆帕或大於60兆帕、約65兆帕或大於65兆帕、約70兆帕或大於70兆帕、約75兆帕或大於75兆帕、約80兆帕或大於80兆帕、約85兆帕或大於85兆帕、約90兆帕或大於90兆帕或95兆帕或大於95兆帕，或亦可為約190兆帕或小於190兆帕、約180兆帕或小於180兆帕、約170兆帕或小於170兆帕、約160兆帕或小於160兆帕、約150兆帕或小於150兆帕、約145兆帕或小於145兆帕、約140兆帕或小於140兆帕、約135兆帕或小於135兆帕、約130兆帕或小於130兆帕、約125兆帕或小於125兆帕、約120兆帕或小於120兆帕、約115兆帕或小於115兆帕、約110兆帕或小於110兆帕、約105兆帕或小於105兆帕、90兆帕或小於90兆帕或約80兆帕或小於80兆帕。
第一方向上的聚合物薄膜的最大應力(MS1)與第一方向上的薄膜(包含經固化層/基底薄膜或包含經固化材料層/基底薄膜/平坦層)的最大應力(MSF1)的比率(MS1/MSF1)可在例如約0.5至10範圍內。在另一實例中，比率(MS1/MSF1)可為約1或大於1、1.5或大於1.5、2或大於2或2.5或大於2.5，或亦可為9或小於9、8或小於8、7或小於7、6或小於6、5或小於5、4或 小於4或3或小於3。
如上文所述，經由應用具有高光學、機械及/或熱不對稱性的基底薄膜確保上文提及的薄膜的物理性質，且此使得薄膜確保可有效地應用於各種應用的物理性質。
舉例而言，本申請案的薄膜可具有優異可撓性。本申請案的薄膜可展現例如上文提及的耐刮擦性及/或表面硬度且同時展現優異可撓性。舉例而言，薄膜可單獨或與另一薄膜組合展現約1至40pi左右的最大保持曲率半徑。此處，最大保持曲率半徑意謂根據ASTM D522標準根據芯軸測試(Mandrel test)當薄膜已經彎曲時在彎曲至最大值而未在薄膜的表面上觀測到缺陷時的曲率半徑。
在另一實例中，曲率半徑可為1.5pi或大於1.5pi，或亦可為38pi或小於38pi左右、36pi或小於36pi左右、34pi或小於34pi左右、32pi或小於32pi左右、30pi或小於30pi左右、28pi或小於28pi左右、26pi或小於26pi左右、24pi或小於24pi左右、22pi或小於22pi左右、20pi或小於20pi左右、18pi或小於18pi左右、16pi或小於16pi左右、14pi或小於14pi左右、12pi或小於12pi左右、10pi或小於10pi左右、8pi或小於8pi左右、6pi或小於6pi左右、4pi或小於4pi左右或3pi或小於3pi左右。
本申請案的薄膜中應用的基底薄膜的厚度不受特定限制，且考慮到預期用途，其可具有一般厚度。
如上所述的本申請案的薄膜可應用於各種用途。舉例而言，薄膜可應用於各種光學應用。
因此，本申請案亦關於一種光學層壓物。光學層壓物可形成光學功能層及形成於功能層的至少一側上的薄膜。在此情況下，與薄膜中的經固化材料層相比，基底薄膜可鄰近於功能層安置。
此處，可應用的光學功能層的類型不受特定限制，且例如可例示已知偏光層或延遲層以及類似層。
有利作用
本申請案可提供一種薄膜，所述薄膜具有極佳光學特性，諸如透明度或混濁度；機械性質，諸如硬度；以及可撓性，其中表面的形狀受控以適用於各種用途，且受控表面形狀具有極佳耐久性。
在下文中，本申請案的範疇將經由實例更詳細描述，但本申請案的範疇不受以下實例限制。
1.混濁度的量測方法
混濁度是根據JIS K 7136標準使用量測儀器(製造商：MCRL，產品名稱：HM-150)以透射模式方法藉由使光進入薄膜的不均勻表面來量測。
2. 60度光澤度的量測方法
60度光澤度是根據DIN EN ISO 2813標準以反射模式方法使用量測儀器(製造商：BYK，產品名稱：BYK微型光澤度計(Micro Glossmeter)60.4561)藉由使光進入薄膜的不均勻表面來量測。
3.算術平均粗糙度Ra的量測方法
薄膜或類似物的不均勻表面的算術平均粗糙度Ra是使用奈米系統的光學測繪器(模型名稱：NV2700)根據KS B 0601 或ISO 4287/1標準來鑑別，且當兩種標準並不匹配時，其是根據KS B 0601標準鑑別。
4. 500公克鋼絲絨抗性評估
鋼絲絨抗性是使用由利伯倫公司(Liberon)出售的等級#0000的鋼絲絨來評估。使用量測儀器(製造商：Gibei NT，商品名：KM M4360)，在500公克載荷下使鋼絲絨與薄膜的不均勻表面接觸且左右移動來評估鋼絲絨抗性。此時，將接觸面積設定成寬度及長度分別為大致2公分與2公分左右(接觸面積：4平方公分)。移動是以約60次/分鐘的速度來執行，且移動距離為大致10公分。藉由目視觀測觀察到反射且鋼絲絨測試經執行直至證實凹痕、刮擦或破裂以及類似物。
5.鉛筆硬度評估
使用量測儀器(製造商：忠北科技(Chungbuk Tech)，商品名：鉛筆硬度測試儀)，鉛筆硬度是根據JIS 5600標準，以500公克載荷及45度的角度用圓柱形鉛筆芯繪製薄膜的不均勻表面且逐步增加鉛筆芯的硬度直至證實出現諸如凹痕、刮擦或破裂的缺陷來量測。鉛筆芯的速度為約1公釐/秒，且移動距離為約10毫米。在約25℃的溫度及50%相對濕度下執行此測試。
6.凝膠滲透層析法(GPC)
數目平均分子量(Mn)及分子量分佈是使用凝膠滲透層析法(GPC)來量測。將諸如矽酮樹脂組分的分析型目標物質置放於5毫升瓶中，且於四氫呋喃(THF)中稀釋至約1毫克/毫升左右的濃度。此後，經由針筒過濾器(孔徑：0.45微米)過濾用於校準的標準樣本及待分析的樣本且接著量測。使用安捷倫科技 (Agilent technologies)的ChemStation作為分析程式，藉由將樣本的溶離時間與校準曲線進行比較來獲得重量平均分子量(Mw)及數目平均分子量(Mn)，且藉由比率(Mw/Mn)計算分子量分佈(PDI)。GPC的量測條件如下。
<GPC量測條件>
儀器：來自安捷倫科技的1200系列
管柱：使用聚合物實驗室(Polymer laboratories)的2 PLgel混合B
溶劑：THF
管柱溫度：35℃
樣本濃度：1毫克/毫升，注射200微升
標準樣本：聚苯乙烯(Mp：3900000、723000、316500、52200、31400、7200、3940、485)
7.評估薄膜的拉伸特性及熱膨脹係數
薄膜的彈性模數(楊氏模數)、伸長率以及最大應力是藉由使用萬能試驗機(Universal Testing Machine；UTM)設備(英斯特朗(Instron)3342)在室溫(25℃)下以10毫米/分鐘的拉伸速度施加力且根據ASTM E831標準執行拉伸強度測試來量測。在此情況下，將每一標本切割成具有約10毫米寬度及約30毫米長度且進行製造，且在縱向方向的兩端各自黏貼10毫米且固定至設備之後執行評估。熱膨脹係數是根據ASTM E831標準使用熱機分析(Thermomechanical Analysis；TMA)設備(Metteler Toledo，SDTA840)藉由以10℃/min的速率自40℃逐漸增加溫度至80℃時執行長度膨脹測試來量測。在量測期間，量測方向上的標本長度為 10毫米，且將載荷設定成0.02牛(N)。
8.不均勻表面的偏度量測方法
不均勻表面的偏度是根據ISO 25178標準使用奈米系統的光學測繪器(模型名稱：NV2700)來鑑別。在上述製程中，使用奈米系統的奈米圖程式(nanomap program)作為程式。
製備實例1.製備薄膜材料P
製備矽酮樹脂組分p
在室溫下將3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(KBM5103，信越矽膠公司(Shinetsu silicon))、二甲基二甲氧基矽烷(DMDMS，西格瑪-奧德里奇公司(Sigma-Aldrich))、乙醇、水以及三乙胺(triethyl amine；TEA)以0.8：0.2：2.8：2.8：0.01(KBM5103：DMDMS：乙醇：水：TEA)的莫耳比均勻地混合且在80℃下在攪拌下於燒瓶中反應約12小時，以獲得主要反應物。所製備的主要反應物的數目平均分子量(Mn)為約8341.38公克/莫耳左右，且分子量分佈(Mw/Mn)為約2.05左右。
將主要反應物維持在約70托的真空條件及50℃溫度下約3小時左右。在此製程中，由於解壓，溫度下降至約20℃左右。隨後，溫度升高至80℃且保持30分鐘，同時再次維持真空條件，從而允許額外聚合且蒸發溶劑(水)，以獲得矽酮樹脂組分p。所獲得矽酮樹脂組分p為由以下平均單元式A表示的組分，其中數目平均分子量(Mn)為約13426.63公克/莫耳且分子量分佈(Mw/Mn)為約2.34左右。
[平均單元式A] (Me2SiO2/2)0.2(AcSiO3/2)0.8
在平均單元式A中，Me為甲基且Ac為3-丙烯醯氧基丙基。
製備無溶劑塗佈液體p
將上述製備的矽酮樹脂組分p與三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)以9：1重量比(矽酮樹脂組分p：TMPTA)混合，且併入相對於100重量份混合物的約2.5重量份自由基起始劑(製造商：杜邦公司(Dupont)，產品名稱：Igarcure819)來製備無溶劑塗佈液體p。
製備實例2.製備薄膜材料Q
製備矽酮樹脂組分q
除將反應時間設定成約1小時左右以外，其是以與製備實例1的矽酮樹脂組分p相同的方式來製備，以獲得主要反應物。所製備的主要反應物的數目平均分子量(Mn)為約1712.88公克/莫耳左右，且分子量分佈(Mw/Mn)為約1.63左右。
將主要反應物維持在約70托的真空條件及50℃溫度下約3小時左右。在此製程中，由於解壓，溫度下降至約20℃左右。隨後，溫度升高至80℃且保持30分鐘，同時再次維持真空條件，從而允許額外聚合且蒸發溶劑(水)，以獲得矽酮樹脂組分q。所獲得矽酮樹脂組分q為由以下平均單元式A表示的組分，其中數目平均分子量(Mn)為約2219.63公克/莫耳且分子量分佈(Mw/Mn)為約1.77左右。
[平均單元式A] (Me2SiO2/2)0.2(AcSiO3/2)0.8
在平均單元式A中，Me為甲基且Ac為3-丙烯醯氧基丙基。
製備無溶劑塗佈液體q
將上述製備的矽酮樹脂組分q與三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(trimethylolpropane triacrylate；TMPTA)以9：1重量比(矽酮樹脂組分p：TMPTA)混合，且併入相對於100重量份混合物的約2.5重量份自由基起始劑(製造商：杜邦公司，產品名稱：Igarcure819)來製備無溶劑塗佈液體q。
製備實例3.製備薄膜材料R
製備矽酮樹脂組分r
在室溫下將環氧環己基乙基三甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷(DMDMS，西格瑪-奧德里奇公司)、乙醇、水以及三乙胺(TEA)以0.8：0.2：2.8：2.8：0.01(環氧基環己基乙基三甲氧基矽烷：DMDMS：乙醇：水：TEA)的莫耳比均勻地混合且在70℃下在攪拌下於燒瓶中反應約24小時，以獲得主要反應物。
將主要反應物維持在約70托的真空條件及50℃溫度下約3小時左右。在此製程中，由於解壓，溫度下降至約20℃左右。隨後，溫度升高至80℃且保持30分鐘，同時再次維持真空條件，從而獲得矽酮樹脂組分r。所獲得矽酮樹脂組分r可由以下平均單元式B表示。
[平均單元式B] (Me2SiO2/2)0.2(EpSiO3/2)0.8
在平均單元式B中，Me為甲基且Ep為3,4-環氧基環己基乙基。
製備無溶劑塗佈液體r
將所製備矽酮樹脂r與環氧基二聚體13((([3-乙基氧雜環丁烷-3-基]甲氧基)甲基)噁烷)(DOX，東亞合成公司(Toagosei))以6：4(環氧樹脂：DOX)的重量比混合，且併入相對於100重量份混合物的約3重量份陽離子起始劑(IK-1，聖安拜瑞株式會社(San-Apro))來製備無溶劑塗佈液體r。
製備實例4.製備用於模具的防眩薄膜(AG1薄膜)
用於模具的防眩薄膜是藉由以下製備：將藉由將以100：12：0.1：2(非胺基甲酸酯類多官能性丙烯酸酯：矽石粒子：助滑劑：自由基起始劑)的重量比包括非胺基甲酸酯類多官能性丙烯酸酯的二季戊四醇六丙烯酸酯、平均粒徑(中值粒徑，D50粒徑)為約1微米的矽石粒子、氟類助滑劑(製造商：3M，產品名稱：FC4430)以及自由基起始劑(製造商：杜邦公司，產品名稱：Igarcure819)的塗佈液體在溶劑中稀釋至50重量%左右的固體含量而製備的塗佈液體作為塗佈液體塗佈於厚度為100微米的聚(對苯二甲酸伸乙酯)(PET)基底薄膜(TA063，東洋紡公司)上，將其在80℃下乾燥2分鐘左右且接著藉由H燈泡(富聲公司(Fusion))以1焦/平方公分左右的能量的紫外線照射。所製備防眩薄膜的防眩表面的算術平均粗糙度Ra在0.2至0.4微米水準中，且60度光澤度為45%。另外，防眩表面的偏度為大致0.55至0.6左右。
製備實例5.製備用於模具的防眩薄膜(AG2薄膜)
除使用藉由將以100：9：0.1：2(非胺基甲酸酯類多官能性丙烯酸酯：矽石粒子：助滑劑：自由基起始劑)的重量比包括非胺基甲酸酯類多官能性丙烯酸酯的二季戊四醇六丙烯酸酯、平均粒徑 (中值粒徑，D50粒徑)為約1微米的矽石粒子、氟類助滑劑(製造商：3M，產品名稱：FC4430)以及自由基起始劑(製造商：杜邦公司，產品名稱：Igarcure819)的塗佈液體在溶劑中稀釋至50重量%左右的固體含量來製備的塗佈液體作為塗佈液體以外，防眩薄膜是以與製備實例2中相同的方式製備。薄膜的防眩表面的算術平均粗糙度Ra在0.2至0.4微米水準中，且60度光澤度為65%。另外，防眩表面的偏度為大致0.75至0.85左右。
實例1.
在其中一側上形成厚度為約40微米的平坦層的聚(對苯二甲酸伸乙酯)(PET)薄膜中，將製備實例1的無溶劑塗佈液體p以約40微米左右的厚度塗佈於無平坦層的側面上。使用東洋紡公司的SRF薄膜作為PET薄膜。SRF薄膜的共平面延遲(Rin)為約8,400奈米，且厚度方向延遲(Rth)為約9,200奈米。另外，SRF薄膜在TD方向上的熱膨脹係數(CTE1)、彈性模數(YM1)、最大應力(MS1)以及伸長率(E1)分別為27ppm/K、5.7吉帕、199兆帕以及44.5%，且MD方向上的熱膨脹係數(CTE2)、彈性模數(YM2)、最大應力(MS2)以及伸長率(E2)分別為67ppm/K、2.3GP.a、81MPa以及6.8%。
隨後，在製備實例5的防眩薄膜(AG2薄膜)的防眩表面與塗層(形成於平坦層的相對側上的塗層)接觸使得氣泡或空氣層不混合的狀態下，使用D燈泡(富聲公司)自穿過待照射的防眩薄膜至塗層的方向以2焦/平方公分的能量的紫外線照射，且進一步照射至PET薄膜側，以製備包括基底薄膜及經固化材料層的薄膜。不均勻結構一體地形成於所製備的經固化材料層已與防眩 表面接觸的表面上。不均勻表面所量測的混濁度為約5.2%左右，60度光澤度為約65.8%左右，且算術平均粗糙度Ra為約0.26微米左右。另外，不均勻表面的鋼絲絨抗性為10,000次或大於10,000次，且鉛筆硬度為約9H。
同時，以上述方式執行鋼絲絨測試1,500次之後量測的經固化材料不均勻表面的混濁度為約5.6%左右，60度光澤度為約65.1%左右，且算術平均粗糙度Ra為約0.29微米左右。
因此，等式1至等式3中的△H、△G以及△R分別為約0.027、0.047以及0.002。
另外，薄膜(平坦層/基底薄膜/經固化材料層)的基底薄膜在TD方向上的熱膨脹係數(CTEF1)、彈性模數(YMF1)、最大應力(MSF1)以及伸長率(EF1)分別為42ppm/K、4.5吉帕、76兆帕以及6.4%，且MD方向上的熱膨脹係數(CTEF2)、彈性模數(YMF2)、最大應力(MSF2)以及伸長率(EF2)分別為87ppm/K、2.8吉帕、33兆帕以及1.6%。
不均勻表面在光學曲線中的偏度為約-0.87左右。
實例2.
在與實例1相同的其中形成平坦層的聚(對苯二甲酸伸乙酯)(PET)薄膜中，將製備實例1的無溶劑塗佈液體p以約20微米的厚度塗佈於無平坦層的側面上。隨後，在製備實例4的防眩薄膜(AG1)的防眩表面與塗佈液體接觸且以與實例1中相同的方式按壓的狀態下，使用D燈泡(富聲公司)以4焦/平方公分能量的紫外線自PET薄膜側照射，以製備包括基底薄膜及經固化材料層的薄膜。不均勻結構一體地形成於所製備的經固化材料層已與 防眩表面接觸的表面上。不均勻表面所量測的混濁度為約21.4%左右，60度光澤度為約46.2%左右，且算術平均粗糙度Ra為約0.31微米左右。另外，不均勻表面的鋼絲絨抗性為10,000次或大於10,000次，且鉛筆硬度為約9H。
同時，以上述方式執行鋼絲絨測試1,500次之後量測的經固化材料不均勻表面的混濁度為約21.3%左右，60度光澤度為約46.4%左右，且算術平均粗糙度Ra為約0.34微米左右。
因此，等式1至等式3中的△H、△G以及△R分別為約0.007、0.013以及0.002。
另外，薄膜(平坦層/基底薄膜/經固化材料層)的基底薄膜在TD方向及MD方向上的熱膨脹係數、彈性模數、最大應力以及伸長率以類似於實例1的熱膨脹係數、彈性模數、最大應力以及伸長率的方式來鑑別。
不均勻表面在光學曲線中的偏度為約-0.55左右。
實例3.
不同於實例1，應用無平坦層的聚(對苯二甲酸伸乙酯)(PET)薄膜。使用與實例1相同的SRF薄膜作為PET薄膜。將製備實例1的無溶劑塗佈液體p以約20微米左右的厚度塗佈於PET薄膜的一側上。隨後，在製備實例5的防眩薄膜(AG2)的防眩表面與塗佈液體接觸且以與實例1中相同的方式按壓的狀態下，使用D燈泡(富聲公司)以2焦/平方公分能量的紫外線自PET薄膜側照射，以製備包括基底薄膜及經固化材料層的薄膜。不均勻結構一體地形成於所製備的經固化材料層已與防眩表面接觸的表面上。不均勻表面所量測的混濁度為約5.1%左右，60度光澤度為約 66.1%左右，且算術平均粗糙度Ra為約0.26微米左右。另外，不均勻表面的鋼絲絨抗性為10,000次或大於10,000次，且鉛筆硬度為約8H。
同時，以上述方式執行鋼絲絨測試1,500次之後量測的經固化材料不均勻表面的混濁度為約5.4%左右，60度光澤度為約66.0%左右，且算術平均粗糙度Ra為約0.31微米左右。
因此，等式1至等式3中的△H、△G以及△R分別為約0.02、0.007以及0.003。
另外，薄膜(平坦層/基底薄膜/經固化材料層)的基底薄膜在TD方向上的彈性模數(YMF1)、最大應力(MSF1)以及伸長率(EF1)分別為4.8吉帕、96兆帕以及4.4%，且MD方向上的彈性模數(YMF2)、最大應力(MSF2)以及伸長率(EF2)分別為2.6吉帕、39兆帕以及1.9%。
不均勻表面在光學曲線中的偏度為約-0.75左右。
實例4.
不同於實例1，應用無平坦層的聚(對苯二甲酸伸乙酯)(PET)薄膜。使用與實例1相同的SRF薄膜作為PET薄膜。將製備實例1的無溶劑塗佈液體p以約20微米左右的厚度塗佈於PET薄膜的一側上。隨後，在製備實例4的防眩薄膜(AG1)的防眩表面與塗佈液體接觸且以與實例1中相同的方式按壓的狀態下，使用D燈泡(富聲公司)以2焦/平方公分能量的紫外線自PET薄膜側照射，以製備包括基底薄膜及經固化材料層的薄膜。不均勻結構一體地形成於所製備的經固化材料層已與防眩表面接觸的表面上。不均勻表面所量測的混濁度為約21.1%左右，60度光澤度為 約47.4%左右，且算術平均粗糙度Ra為約0.32微米左右。另外，不均勻表面的鋼絲絨抗性為10,000次或大於10,000次，且鉛筆硬度為約7H。
同時，以上述方式執行鋼絲絨測試1,500次之後量測的經固化材料不均勻表面的混濁度為約21.2%左右，60度光澤度為約46.9%左右，且算術平均粗糙度Ra為約0.36微米左右。
因此，等式1至等式3中的△H、△G以及△R分別為約0.007、0.033以及0.003。
另外，薄膜(平坦層/基底薄膜/經固化材料層)的基底薄膜在TD方向及MD方向上的彈性模數、最大應力以及伸長率分別類似於實例3的彈性模數、最大應力以及伸長率。
不均勻表面在光學曲線中的偏度為約-0.58左右。
實例5.
在與實例1相同的其中形成平坦層的聚(對苯二甲酸伸乙酯)(PET)薄膜中，將製備實例2的無溶劑塗佈液體q以約20微米的厚度塗佈於無平坦層的側面上。隨後，在製備實例4的防眩薄膜(AG1)的防眩表面與塗佈液體接觸且以與實例1中相同的方式按壓的狀態下，使用D燈泡(富聲公司)以4焦/平方公分能量的紫外線自PET薄膜側照射，以製備包括基底薄膜及經固化材料層的薄膜。不均勻結構一體地形成於所製備的經固化材料層已與防眩表面接觸的表面上。不均勻表面所量測的混濁度為約21.7%左右，60度光澤度為約45.5%左右，且算術平均粗糙度Ra為約0.34微米左右。另外，不均勻表面的鋼絲絨抗性為小於3,000次，且鉛筆硬度為約7H。
同時，以上述方式執行鋼絲絨測試1,500次之後量測的經固化材料不均勻表面的混濁度為約22.0%左右，60度光澤度為約44.7%左右，且算術平均粗糙度Ra為約0.37微米左右。
因此，等式1至等式3中的△H、△G以及△R分別為約0.020、0.053以及0.002。
另外，薄膜(平坦層/基底薄膜/經固化材料層)的基底薄膜在TD方向及MD方向上的熱膨脹係數、彈性模數、最大應力以及伸長率以類似於實例1的熱膨脹係數、彈性模數、最大應力以及伸長率的方式來鑑別。
不均勻表面在光學曲線中的偏度為約-0.59左右。
比較例1.
作為用於形成防眩層的已知塗佈液體，將包括60重量%或大於60重量%的平均官能基為雙官能性或更高官能性的非胺基甲酸酯類多官能性丙烯酸酯的塗佈液體以約15微米左右的厚度塗佈至TAC薄膜(50微米，來自富士公司(Fuji)的具有UV切割功能的TAC薄膜)上，維持在80℃的溫度下2分鐘且乾燥，且接著經由富聲公司的H燈泡以1焦/平方公分能量的紫外線照射以形成具有不均勻結構的表面。不均勻表面所量測的混濁度為約22.1%左右，60度光澤度為約21.5%左右，且算術平均粗糙度Ra為約0.32微米左右。另外，不均勻表面的鋼絲絨抗性為500次或小於500次，且鉛筆硬度為約3H。
同時，以上述方式執行鋼絲絨測試1,500次之後量測的不均勻表面的混濁度為約38.4%左右，60度光澤度為約14.2%左右，且算術平均粗糙度Ra為約83微米左右。
因此，等式1至等式3中的△H、△G以及△R分別為約1.087、0.487以及5.512。
不均勻表面在光學曲線中的偏度為約0.33左右。
比較例2.
作為用於形成防眩層的已知塗佈液體，將包括60重量%或大於60重量%的平均官能基為雙官能性或更高官能性的非胺基甲酸酯類多官能性丙烯酸酯的塗佈液體塗佈於TAC薄膜(50微米，來自富士公司的具有UV切割功能的TAC薄膜)上以在完成乾燥之後具有約15微米左右的厚度，維持在80℃的溫度下2分鐘且乾燥，且接著經由富聲公司的H燈泡以1焦/平方公分能量的紫外線照射來形成具有不均勻結構的表面。不均勻表面所量測的混濁度為約28.2%左右，60度光澤度為約19.6%左右，且算術平均粗糙度Ra為約0.23微米左右。另外，不均勻表面的鋼絲絨抗性為500次或小於500次，且鉛筆硬度為約3H。
同時，以上述方式執行鋼絲絨測試1,500次之後量測的不均勻表面的混濁度為約40.1%左右，60度光澤度為約14.6%左右，且算術平均粗糙度Ra為約93微米左右。
因此，等式1至等式3中的△H、△G以及△R分別為約0.793、0.333以及6.185。
不均勻表面在光學曲線中的偏度為約0.51左右。
比較例3.
在與實例1相同的其中形成平坦層的聚(對苯二甲酸伸乙酯)(PET)薄膜中，將製備實例3的無溶劑塗佈液體r以約20微米的厚度塗佈於無平坦層的側面上。隨後，在製備實例4的防眩 薄膜(AG1)的防眩表面與塗佈液體接觸且以與實例1中相同的方式按壓的狀態下，使用D燈泡(富聲公司)以4焦/平方公分能量的紫外線自PET薄膜側照射，以製備包括基底薄膜及經固化材料層的薄膜。不均勻結構一體地形成於所製備的經固化材料層已與防眩表面接觸的表面上。不均勻表面所量測的混濁度為約23.5%左右，60度光澤度為約46.1%左右，且算術平均粗糙度Ra為約0.3微米左右。另外，不均勻表面的鋼絲絨抗性為小於2,000次，且鉛筆硬度為約6H。
同時，以上述方式執行鋼絲絨測試1,500次之後量測的經固化材料不均勻表面的混濁度為約33.3%左右，60度光澤度為約35.9%左右，且算術平均粗糙度Ra為約5.58微米左右。
因此，等式1至等式3中的△H、△G以及△R分別為約0.653、0.68以及0.352。
另外，薄膜(平坦層/基底薄膜/經固化材料層)的基底薄膜在TD方向及MD方向上的熱膨脹係數、彈性模數、最大應力以及伸長率以類似於實例1的熱膨脹係數、彈性模數、最大應力以及伸長率的方式來鑑別。
不均勻表面在光學曲線中的偏度為約-0.79左右。

Claims (21)

  1. 一種包括能量束可固化組成物的經固化材料層的薄膜，其中根據ISO 25178標準具有負偏度的不均勻表面形成於至少一側上，其中所述不均勻表面滿足以下等式1至等式3中的一者或大於一者：
    Figure 109145242-A0305-02-0062-4
    Figure 109145242-A0305-02-0062-5
    Figure 109145242-A0305-02-0062-6
     其中，△H、△G以及△R分別為所述不均勻表面的混濁度的變化率、60度光澤度的變化率以及算術平均粗糙度(Ra)的變化率；在等式1中，HI為所述不均勻表面的初始混濁度，HA為所述不均勻表面執行鋼絲絨測試之後的混濁度，N為已執行所述鋼絲絨測試的次數，且|(HA-HI)/N|為藉由將HA、HI以及N代入(HA-HI)/N中所獲得的數值的絕對值；在等式2中，GI為所述不均勻表面的初始60度光澤度，GA為所述不均勻表面執行所述鋼絲絨測試之後的60度光澤度，N為已執行所述鋼絲絨測試的次數，且|(GA-GI)/N|為藉由將GA、GI以及N代入(GA-GI)/N中所獲得的數值的絕對值；以及在等式3中，RI為所述不均勻表面的初始算術平均粗糙度(Ra)，RA為所述不均勻表面執行所述鋼絲絨測試之後的算術平均粗糙度(Ra)，N為已執行所述鋼絲絨測試的次數，且|(RA- RI)/N|為藉由將RA、RI以及N代入(RA-RI)/N中所獲得的數值的絕對值。
  2. 如請求項1所述的薄膜，其中所述不均勻表面滿足以下等式1至等式3中的兩者或大於兩者：
    Figure 109145242-A0305-02-0063-7
    Figure 109145242-A0305-02-0063-8
    Figure 109145242-A0305-02-0063-9
     其中，△H、△G以及△R分別為所述不均勻表面的混濁度的變化率、60度光澤度的變化率以及算術平均粗糙度(Ra)的變化率；在等式1中，HI為所述不均勻表面的初始混濁度，HA為所述不均勻表面執行所述鋼絲絨測試之後的混濁度，N為已執行所述鋼絲絨測試的次數，且|(HA-HI)/N|為藉由將HA、HI以及N代入(HA-HI)/N中所獲得的數值的絕對值；在等式2中，GI為所述不均勻表面的初始60度光澤度，GA為所述不均勻表面執行所述鋼絲絨測試之後的60度光澤度，N為已執行所述鋼絲絨測試的次數，且|(GA-GI)/N|為藉由將GA、GI以及N代入(GA-GI)/N中所獲得的數值的絕對值；以及在等式3中，RI為所述不均勻表面的初始算術平均粗糙度(Ra)，RA為所述不均勻表面執行所述鋼絲絨測試之後的算術平均粗糙度(Ra)，N為已執行所述鋼絲絨測試的次數，且|(RA-RI)/N|為藉由將RA、RI以及N代入(RA-RI)/N中所獲得的數值的絕對值。
  3. 如請求項1所述的薄膜，其中所述不均勻表面滿足以下等式1至等式3中的所有等式：
    Figure 109145242-A0305-02-0064-10
    Figure 109145242-A0305-02-0064-11
    Figure 109145242-A0305-02-0064-12
     其中，△H、△G以及△R分別為所述不均勻表面的混濁度的變化率、60度光澤度的變化率以及算術平均粗糙度(Ra)的變化率；在等式1中，HI為所述不均勻表面的初始混濁度，HA為所述不均勻表面執行所述鋼絲絨測試之後的混濁度，N為已執行所述鋼絲絨測試的次數，且|(HA-HI)/N|為藉由將HA、HI以及N代入(HA-HI)/N中所獲得的數值的絕對值；在等式2中，GI為所述不均勻表面的初始60度光澤度，GA為所述不均勻表面執行所述鋼絲絨測試之後的60度光澤度，N為已執行所述鋼絲絨測試的次數，且|(GA-GI)/N|為藉由將GA、GI以及N代入(GA-GI)/N中所獲得的數值的絕對值；以及在等式3中，RI為所述不均勻表面的初始算術平均粗糙度(Ra)，RA為所述不均勻表面執行所述鋼絲絨測試之後的算術平均粗糙度(Ra)，N為已執行所述鋼絲絨測試的次數，且|(RA-RI)/N|為藉由將RA、RI以及N代入(RA-RI)/N中所獲得的數值的絕對值。
  4. 如請求項1所述的薄膜，其中根據ISO 25178標準，所述不均勻表面的偏度為-2或大於-2且小於0。
  5. 如請求項1所述的薄膜，其中所述能量束可固化組成物包括矽酮樹脂組分及反應性稀釋劑。
  6. 如請求項5所述的薄膜，其中所述矽酮樹脂組分由以下平均單元式1表示：[平均單元式1](R1 3SiO1/2)a(R2 2SiO2/2)b(R3SiO3/2)c(SiO4/2)d(RO1/2)e其中，R1至R3各自獨立地為氫原子、烷基、芳基或能量束可固化基團，且當R1至R3存在多個時，其各自為相同的或彼此不同，且R1至R3中的至少一者為能量束可固化基團，且當a+b+c+d已經轉換為1時，a、b、c及d分別滿足0
    Figure 109145242-A0305-02-0065-13
    a
    Figure 109145242-A0305-02-0065-14
    1、0<b
    Figure 109145242-A0305-02-0065-15
    1、0<c
    Figure 109145242-A0305-02-0065-16
    1以及0
    Figure 109145242-A0305-02-0065-17
    d
    Figure 109145242-A0305-02-0065-18
    1，且e為其中e/(a+b+c+d)屬於0至0.4範圍內的數值。
  7. 如請求項5所述的薄膜，其中所述矽酮樹脂組分具有在10,000至50,000範圍內的重量平均分子量。
  8. 如請求項5所述的薄膜，其中所述矽酮樹脂組分具有1.8以上且3.0以下的分子量分佈。
  9. 如請求項5所述的薄膜，其中所述反應性稀釋劑為丙烯酸酯化合物。
  10. 如請求項5所述的薄膜，其中相對於100重量份所述矽酮樹脂組分，所述能量束可固化組成物包括1重量份至200重量份的所述反應性稀釋劑。
  11. 如請求項1所述的薄膜，其中所述不均勻表面具有5H以上且上限為9H的鉛筆硬度。
  12. 如請求項1所述的薄膜，其中所述不均勻表面展現1,500次以上且20,000次以下的500公克鋼絲絨抗性。
  13. 如請求項1所述的薄膜，其中所述不均勻表面具有在3%至50%範圍內的混濁度。
  14. 如請求項1所述的薄膜，其中所述不均勻表面具有在0.01微米至2微米範圍內的算術平均粗糙度Ra。
  15. 如請求項1所述的薄膜，其中所述不均勻表面具有在10%至90%範圍內的60度光澤度。
  16. 如請求項1所述的薄膜，更包括基底薄膜，其中所述經固化材料層形成於所述基底薄膜的一側或兩側上。
  17. 如請求項16所述的薄膜，其中第一方向上的熱膨脹係數(CTEF1)與垂直於所述第一方向的第二方向上的熱膨脹係數(CTEF2)的比率(CTEF2/CTEF1)為1.5以上且為10以下。
  18. 如請求項16所述的薄膜，其中第一方向上的彈性模數(YMF1)與垂直於所述第一方向的第二方向上的彈性模數(YMF2)的比率(YMF1/YMF2)為1以上且為10以下。
  19. 如請求項16所述的薄膜，其中第一方向上的最大應力(MSF1)與垂直於所述第一方向的第二方向上的最大應力(MSF2)的比率(MSF1/MSF2)為1.5以上且為10以下。
  20. 如請求項16所述的薄膜，其中第一方向上的伸長率(EF1)與垂直於所述第一方向的第二方向上的伸長率(EF2)的比率(EF1/EF2)為1.5以上且為20以下。
  21. 一種光學層壓物，包括光學功能層及形成於所述光學功能層的一側上的如請求項1所述的薄膜。
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