KR20210079501A

KR20210079501A - 필름

Info

Publication number: KR20210079501A
Application number: KR1020190171332A
Authority: KR
Inventors: 박광승; 오현택; 신창훈
Original assignee: 주식회사 엘지화학
Priority date: 2019-12-20
Filing date: 2019-12-20
Publication date: 2021-06-30

Abstract

본 출원은, 필름에 대한 것이다. 본 출원은, 투명성 또는 헤이즈와 같은 광학 물성과 경도 등과 같은 기계적 물성과 유연성이 우수하고, 표면의 형태가 다양한 용도에 적합하도록 제어되어 있으며, 상기 제어된 표면 형태의 내구성이 우수한 필름을 제공할 수 있다.

Description

필름{film}

본 출원은, 필름에 대한 것이다.

투명 수지 필름은 광학 특성이 우수하고, 유리 대비 깨지기 어려운 특성이 있어서, 유리 대체재로 고려될 수 있다.

투명 수지 필름을 제조하는 방법으로는, 소위 셀 캐스트법으로도 불리우는 방법으로서, 셀 내에 경화성 조성물을 주입한 후에 경화시키는 방법이나, 스틸 벨트(steel belt)상에 경화성 조성물을 캐스팅(flow casting)하고, 경화시키는 방법 등이 알려져 있다.

셀 캐스트법은, 특허문헌 1 등에 알려져 있는데, 이 방법은, 연속적으로 필름을 제조할 수 없고, 효율도 좋지 않다.

스틸 벨트(steel belt)상에 경화성 조성물을 캐스팅(flow casting)하고, 경화시키는 방법은, 특허문헌 2 등에 알려져 있는데, 이 방법에서는 균일한 물성을 가지는 필름의 제조가 어렵다.

특허문헌 1: 일본 특허공개공보 제1996-132455호 특허문헌 2: 일본 특허공개공보 제1992-080007호

본 출원은, 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 출원은, 투명성 또는 헤이즈와 같은 광학 물성과 경도 등과 같은 기계적 물성과 유연성이 우수하고, 표면의 형태가 다양한 용도에 적합하도록 제어되어 있으며, 상기 제어된 표면 형태의 내구성이 우수한 필름을 제공하는 것을 하나의 목적으로 한다.

본 명세서에서 언급하는 물성 중에서 측정 온도 및/또는 측정 압력이 결과에 영향을 미치는 물성은, 특별히 달리 언급하지 않는 한, 상온 및/또는 상압에서 측정한 결과이다.

용어 상온은 가온 및 감온되지 않은 자연 그대로의 온도이고, 예를 들면, 10℃ 내지 30℃의 범위 내의 어느 한 온도, 약 23℃ 또는 약 25℃ 정도의 온도를 의미한다. 또한, 본 명세서에서 온도의 단위는 특별히 달리 규정하지 않는 한 섭씨(℃)이다.

용어 상압은 가압 또는 감압되지 않은 자연 그대로의 압력이고, 통상 대기압 수준의 약 1기압 정도를 의미한다.

본 명세서에서 측정 습도가 결과에 영향을 미치는 물성의 경우, 해당 물성은 상기 상온 및/또는 상압 상태에서 특별히 조절되지 않은 자연 그대로의 습도에서 측정한 물성이다.

본 출원에서 용어 알킬기, 알킬렌기 또는 알콕시기는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 탄소수 1 내지 20, 탄소수 1 내지 16, 탄소수 1 내지 12, 탄소수 1 내지 8 또는 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기, 알킬렌기 또는 알콕시기를 의미하거나, 탄소수 3 내지 20, 탄소수 3 내지 16, 탄소수 3 내지 12, 탄소수 3 내지 8 또는 탄소수 3 내지 6의 고리형 알킬기, 알킬렌기 혹은 알콕시기를 의미할 수 있다.

본 출원에서 용어 알케닐기는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 탄소수 2 내지 20, 탄소수 2 내지 16, 탄소수 2 내지 12, 탄소수 2 내지 8 또는 탄소수 2 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄의 알케닐기를 의미하거나, 탄소수 3 내지 20, 탄소수 3 내지 16, 탄소수 3 내지 12, 탄소수 3 내지 8 또는 탄소수 1 내지 6의 고리형 알케닐기를 의미할 수 있다.

본 출원에서 용어 아릴기 또는 아릴렌기는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 탄소수 6 내지 24, 탄소수 6 내지 18 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기 또는 아릴렌기를 의미하거나, 페닐기 또는 페닐렌기를 의미할 수 있다.

본 출원에서 용어 에폭시기는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 3개의 고리 구성 원자를 가지는 고리형 에테르(cyclic ether) 또는 상기 고리형 에테르를 포함하는 화합물로부터 유도된 1가 잔기를 의미할 수 있다. 에폭시기로는 글리시딜기, 에폭시알킬기, 글리시독시알킬기 또는 지환식 에폭시기 등이 예시될 수 있다. 상기에서 지환식 에폭시기는, 지방족 탄화수소 고리 구조를 포함하고, 상기 지방족 탄화수소 고리를 형성하고 있는 2개의 탄소 원자가 또한 에폭시기를 형성하고 있는 구조를 포함하는 화합물로부터 유래되는 1가 잔기를 의미할 수 있다. 지환식 에폭시기로는, 6개 내지 12개의 탄소를 가지는 지환식 에폭시기가 예시될 수 있고, 예를 들면, 3,4-에폭시시클로헥실에틸기 등이 예시될 수 있다.

상기 알킬기, 알킬렌기, 알콕시기, 알케닐기, 아릴기, 아릴렌기 또는 에폭시기는, 임의로 하나 이상의 치환기로 치환되어 있을 수도 있다.

본 출원은, 필름에 대한 것이다. 일 예시에서 상기 필름은, 경화물층을 포함할 수 있다. 상기 경화물층은, 에너지선 경화성 조성물의 경화물층일 수 있다. 상기 필름은 상기 경화물층만으로 되는 단층 구조이거나, 혹은 추가적인 다른 층을 포함하는 다층 구조일 수 있다. 예를 들면, 상기 필름은 기재 필름을 추가로 포함할 수 있으며, 이러한 경우에는 상기 기재 필름의 일면 또는 양면에 상기 경화물층이 형성되어 있을 수 있다.

상기 경화물층의 적어도 일면은 요철 표면일 수 있다. 예를 들면, 상기 경화물층이 상기 기재 필름의 일면에 형성되는 경우에는, 상기 경화물층의 상기 기재 필름을 향하는 면과는 반대측 표면은 요철 표면일 수 있다. 이러한 요철 표면의 형상은 목적에 따라 다양하게 제어될 수 있다.

예를 들면, 상기 요철 표면은, 산술평균조도(Arithmetic mean roughness, Ra)가 약 0.01μm 내지 2 μm의 범위 범위 내일 수 있다. 상기 요철 표면이 경화물층과 일체화된 표면일 수 있다. 이는 상기 요철 표면이 상기 경화물층과는 다른 별도의 층에 의해 형성된 것이 아니고, 상기 경화물층 자체에 해당 요철 표면이 형성되어 있다는 것을 의미한다.

상기 산술평균조도는, KS B 0601 규격 또는 ISO 4287/1 규격에 따라 확인할 수 있다. 이러한 산술평균조도는 다른 예시에서 0.05 μm 이상, 0.1 μm 이상, 0.15 μm 이상, 0.2 μm 이상, 0.25 μm 이상 또는 0.3 μm 이상이거나, 1.8 μm 이하, 1.6 μm 이하, 1.4 μm 이하, 1.2 μm 이하, 1 μm 이하, 0.9 μm 이하, 0.8 μm 이하, 0.7 μm 이하, 0.6 μm 이하, 0.5 μm 이하, 0.4 μm 이하, 0.35 μm 이하 또는 0.3 μm 이하 정도일 수도 있다.

하나의 예시에서 상기 요철 표면은 소위 눈부심 방지 표면(Anti-glare surface)을 형성하는 요철 표면일 수 있다.

상기 요철 표면은, 3% 내지 50%의 범위 내의 헤이즈(Haze)를 나타낼 수 있다. 상기 헤이즈는, 후술하는 실시예에 개시된 방식으로 측정할 수 있다. 상기 헤이즈는 다른 예시에서 3.5% 이상, 4% 이상, 4.5% 이상, 5% 이상, 5.5% 이상, 6% 이상, 6.5% 이상, 7% 이상, 7.5% 이상, 8% 이상, 8.5% 이상, 9% 이상, 9.5% 이상, 10% 이상, 10.5% 이상, 11% 이상, 11.5% 이상, 12% 이상, 12.5% 이상, 13% 이상, 13.5% 이상, 14% 이상, 14.5% 이상, 15% 이상, 15.5% 이상, 16% 이상, 16.5% 이상, 17% 이상, 17.5% 이상, 18% 이상, 18.5% 이상, 19% 이상, 19.5% 이상, 20% 이상, 20.5% 이상 또는 21% 이상이거나, 45% 이하, 40% 이하, 35% 이하, 30% 이하, 25% 이하, 20% 이하, 15% 이하, 10% 이하 또는 7% 이하 정도일 수도 있다.

상기 요철 표면은, 60도 그로스(gloss)가 10% 내지 90%의 범위 내인 표면일 수 있다. 상기 60도 그로스는, 후술하는 실시예에 개시된 방식으로 측정할 수 있다. 상기 60도 그로스는 다른 예시에서 15% 이상, 20% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상, 45% 이상, 50% 이상, 55% 이상 또는 60% 이상이거나, 85% 이하, 80% 이하, 75% 이하, 70% 이하, 65% 이하, 60% 이하, 55% 이하 또는 50% 이하 정도일 수도 있다.

상기 요철 표면은 우수한 표면 특성을 나타낼 수 있다.

예를 들면, 상기 요철 표면은, 5H 이상의 연필 경도를 나타낼 수 있다. 상기 연필 경도는, JIS 5600 규격에 따라서, 연필 경도 측정 장비를 사용하여, 약 25℃의 온도 및 50%의 상대 습도에서 500 g의 하중 및 45도의 각도로 연필심을 필름의 요철 표면에 긋는 방식으로 측정할 수 있다. 필름의 요철 표면에서 압흔, 긁힘 또는 파열 등과 같은 결함의 발생이 확인될 때까지 연필심의 경도를 단계적으로 증가시키며 연필 경도를 측정할 수 있다. 상기 요철 표면의 연필 경도는 다른 예시에서 대략 6H 이상, 7H 이상, 8H 이상 또는 9H 이상일 수 있다. 공지된 연필 경도의 측정 방법에 따라서 확인되는 연필 경도의 최대치는 9H이다. 따라서, 상기 요철 표면의 연필 경도의 상한은 9H일 수 있다.

상기 요철 표면은 1,500회 이상의 500 g 스틸울 저항도(Steel wool resistance)를 나타낼 수 있다. 상기에서 500 g 스틸울 저항도(Steel wool resistance)는 스틸울 테스트에서 확인되는 표면 특성이다. 상기 필름의 요철 표면의 500 g 스틸울 저항도(Steel wool resistance)는, 다른 예시에서 대략 2,000회 이상, 2,500회 이상, 3,000회 이상, 3,500회 이상, 4,000회 이상, 4,500회 이상, 5,000회 이상, 5,500회 이상, 6,000회 이상, 6,500회 이상, 7,000회 이상, 7,500회 이상, 8,000회 이상, 8,500회 이상, 9,000회 이상 또는 9,500회 이상일 수 있다. 상기 스틸울 저항도는 그 수치가 높을수록 필름의 요철 표면이 우수한 내스크래치성을 나타내는 것을 의미하기 때문에, 그 상한은 특별히 제한되지 않는다. 일 예시에서 상기 500 g 스틸울 저항도는 20,000회 이하 정도, 15,000회 이하 정도, 10,000회 이하 정도, 9,000회 이하 정도 또는 8,500회 이하 정도일 수도 있다.

본 출원의 필름에서 상기와 같이 형성된 요철 표면은, 그 형상을 안정적으로 유지할 수 있는 내구성을 나타낼 수 있다.

예를 들면, 상기 요철 표면은, 하기 수식 1 내지 3 중 어느 하나, 또는 상기 수식 중 2개 혹은 상기 수식을 모두 만족할 수 있다.

[수식 1]

0.3 ≥ △H = 100×|(H_A-H_I)/N|

[수식 2]

0.3 ≥ △G = 100×|(G_A-G_I)/N|

[수식 3]

0.3 ≥ △R = 100×|(R_A-R_I)/N|

수식 1 내지 3에서 △H, △G 및 △R은 각각 상기 요철 표면의 헤이즈 변화율, 60도 그로스(gloss) 변화율 및 산술평균조도(Ra)의 변화율이다.

수식 1에서 H_I는, 상기 요철 표면의 초기 헤이즈(후술하는 스틸울 테스트를 수행하기 전의 헤이즈)이고, H_A는, 후술하는 스틸울 테스트를 수행한 후의 상기 요철 표면의 헤이즈이며, N은 상기 스틸울 테스트를 수행한 횟수이고, |(H_A-H_I)/N|는, 상기 H_A, H_I 및 N을 (H_A-H_I)/N에 대입하여 구해진 수치의 절대값이다.

수식 2에서 G_I는, 상기 요철 표면의 초기 60도 그로스(후술하는 스틸울 테스트를 수행하기 전의 헤이즈)이고, G_A는, 후술하는 스틸울 테스트를 수행한 후의 상기 요철 표면의 60도 그로스이며, N은 상기 스틸울 테스트를 수행한 횟수이고, |(G_A-G_I)/N|는, 상기 G_A, G_I 및 N을 (G_A-G_I)/N에 대입하여 구해진 수치의 절대값이다.

수식 3에서 R_I는, 상기 요철 표면의 초기 산술평균조도(Ra)(후술하는 스틸울 테스트를 수행하기 전의 헤이즈)이고, R_A는, 후술하는 스틸울 테스트를 수행한 후의 상기 요철 표면의 산술평균조도(Ra)이며, N은 상기 스틸울 테스트를 수행한 횟수이고, |(R_A-R_I)/N|는, 상기 R_A, R_I 및 N을 (R_A-R_I)/N에 대입하여 구해진 수치의 절대값이다.

상기 수식 1 내지 3의 확인을 위해 수행되는 스틸울 테스트는, 후술하는 실시예에 기재된 방식에 따라서, 상기 요철 표면을 등급 #0000의 스틸울로 500 g의 하중으로 스크래치하는 방식으로 수행된다. 상기 스트래치는 상기 수식 1 내지 3에서 변수인 N회 수행될 수 있다. 이 경우 N은, 예를 들면, 1,000 이상, 1,100 이상, 1,200 이상, 1,300 이상, 1,400 이상 또는 1,500 이상이거나, 3,000 이하, 2,900 이하, 2,800 이하, 2,700 이하, 2,600 이하, 2,500 이하, 2,400 이하, 2,300 이하, 2,200 이하, 2,100 이하, 2,000 이하, 1,900 이하, 1,800 이하, 1,700 이하, 1,600 이하 또는 1,500 이하 정도일 수 있다.

수식 1에서 △H는, 다른 예시에서 약 0.25 이하, 약 0.2 이하, 약 0.15 이하, 약 0.1 이하, 약 0.09 이하, 약 0.08 이하, 약 0.07 이하, 약 0.06 이하, 약 0.05 이하, 약 0.04 이하, 약 0.03 이하 또는 약 0.02 이하 정도일 수도 있다. 상기 △H는 그 수치가 낮을수록 요철 표면의 유지력이 우수한 것을 의미하기 때문에 그 하한은 특별히 제한되지 않는다. 하나의 예시에서 상기 △H는 0 이상 또는 0 초과 정도일 수 있다.

수식 2에서 △G는, 다른 예시에서 약 0.25 이하, 약 0.2 이하, 약 0.15 이하, 약 0.1 이하, 약 0.09 이하, 약 0.08 이하, 약 0.07 이하, 약 0.06 이하, 약 0.05 이하, 약 0.04 이하, 약 0.03 이하 또는 약 0.02 이하 정도일 수도 있다. 상기 △G는 그 수치가 낮을수록 요철 표면의 유지력이 우수한 것을 의미하기 때문에 그 하한은 특별히 제한되지 않는다. 하나의 예시에서 상기 △G는 0 이상 또는 0 초과 정도일 수 있다.

수식 3에서 △R은, 다른 예시에서 약 0.25 이하, 약 0.2 이하, 약 0.15 이하, 약 0.1 이하, 약 0.09 이하, 약 0.08 이하, 약 0.07 이하, 약 0.065 이하, 약 0.06 이하, 약 0.055 이하, 약 0.05 이하, 약 0.045 이하, 약 0.04 이하, 약 0.035 이하, 약 0.03 이하, 약 0.025 이하, 약 0.02 이하 정도, 약 0.015 이하 또는 약 0.01 이하 정도일 수도 있다. 상기 △R은 그 수치가 낮을수록 요철 표면의 유지력이 우수한 것을 의미하기 때문에 그 하한은 특별히 제한되지 않는다. 하나의 예시에서 상기 △R은 0 이상 또는 0 초과 정도일 수 있다.

상기 산술평균조도(Ra), 헤이즈(Haze), 60도 그로스(gloss), 연필 경도 및 500 g 스틸울 저항도(Steel wool resistance)로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 물성을 나타내면서, 상기 수식 1 내지 3 중 하나 이상을 만족하는 형상 유지력을 보이는 요철 표면을 형성하기 위해서, 상기 요철 표면의 소위 편포도(skewness)가 조절될 수 있다. 편포도는 어떤 분포가 대칭을 벗어나서 한쪽으로 치우친 정도를 표시하는 값이고, 요철 표면에 대해서는 평균 평면에 대한 표면 높이의 대칭 정도를 표시하는 값이다. 상기 편포도가 양수이며, 요철 표면을 구성하는 피크(peak)가 우세한 것을 의미하고, 음수이면, 요철 표면을 구성하는 벨리(valley)가 우세한 것을 의미한다. 이러한 편포도(skewness)는, ISO 25178 규격에 따라 공지의 광학 프로파일러(optical profiler) 또는 AFM(Atomic Force Microscope) 기기 등을 사용하여 확인할 수 있다.

본 발명자들은, 상기 요철 표면의 ISO 25178 규격에 의해 확인한 편포도가 음의 값을 가지도록 함으로써, 목적하는 요철 표면의 특성을 구현할 수 있다는 점을 확인하였다. 상기 편포도는, 다른 예시에서 약 -2 이상이면서 0 미만일 수 있다. 상기 편포도는 다른 예시에서 약 -1.9 이상, 약 -1.8 이상, 약 -1.7 이상, 약 -1.6 이상, 약 -1.5 이상, 약 -1.4 이상, 약 -1.3 이상, 약 -1.2 이상, 약 -1.1 이상, 약 -1.0 이상 또는 약 -0.9 이상이거나, -0.1 이하, 약 -0.2 이하, 약 -0.3 이하, 약 -0.4 이하 또는 약 -0.5 이하일 수 있다. 이러한 범위에서 편포도를 나타내도록 조절함으로써, 목적에 따라 구현된 형상이 안정적으로 유지되는 요철 표면을 형성할 수 있다.

이와 같은 편포도를 확보하기 위해서는, 소위 눈부심 방지 필름을 틀(template)로 사용하여 그 필름의 요철 형상을 상기 경화물층에 전사하는 과정을 필요하다. 즉, 소위 눈부심 방지 필름으로 알려진 요철 표면을 형성하는 공지의 방식에 따라 형성된 요철 표면은 양의 편포도를 나타내기 때문에, 그러한 양의 편포도의 표면이 역상으로 전사된 표면은 음의 편포도를 나타낼 수 있다. 또한, 역상으로 전사되는 과정에서 편포도의 절대값은 유사한 범위 내에서 유지되고, 그 부호가 바뀌기 때문에, 상기 틀로 사용되는 요철 표면의 편포도를 제어함으로써, 목적하는 편포도의 절대값을 음의 영역에서 나타내는 요철 표면을 형성할 수 있다.

따라서, 상기 경화물층은, 에너지선 경화성 조성물층을 눈부심 방지 필름과 접촉시킨 상태에서 상기 에너지선 경화성 조성물층에 에너지선을 조사하는 단계를 거쳐 형성할 수 있다. 이러한 방식에 의해서 상기 언급된 특성을 만족하는 경화물층이 형성될 수 있다. 상기에서 에너지선 경화성 조성물층은 에너지선 경화성 조성물을 사용하여 형성한 층으로서, 예를 들면, 상기 에너지선 경화성 조성물을 상기 기재 필름상에 코팅 내지 캐스팅하여 형성된 층을 의미할 수 있다.

용어 에너지선 경화성 조성물은, 에너지선의 조사에 의해셔 경화되는 조성물을 의미한다. 용어 에너지선의 범주에는, 마이크로파(microwaves), 적외선(IR), 자외선(UV), X선 및 감마선은 물론, 알파-입자선(alpha-particle beam), 프로톤빔(proton beam), 뉴트론빔(neutron beam) 또는 전자선(electron beam)과 같은 입자빔 등이 포함될 수 있다. 통상적으로 에너지선으로는 자외선 또는 전자선 등이 사용된다.

용어 눈부심 방지 필름은, 가시광의 적어도 일부 영역 혹은 전체 가시광 영역에 대해서 낮은 반사율을 나타내도록 형성된 표면을 포함하는 필름을 의미한다. 상기 낮은 반사율을 나타내도록 형성된 표면은 눈부심 방지 표면이라고 불리울 수 있다.

이러한 눈부심 방지 필름의 눈부심 방지 표면은, 다양한 형상을 가질 수 있지만, 통상적으로 일정 수준의 거칠기(roughness)를 가지는 요철 표면을 가지고, 공지된 방식으로 형성된 상기 눈부심 방지 표면의 요철 표면은 양의 편포도를 가진다. 이러한 눈부심 방지 필름의 요철 표면을 에너지선 경화형 조성물층과 접촉시킨 상태로 상기 층에 에너지선을 조사하여 상기 에너지선 경화형 조성물을 경화시킴으로써, 목적하는 물성을 만족하는 요철 표면을 가지는 필름을 형성할 수 있다.

상기 과정을 통해서 상기 눈부심 방지 필름의 요철 표면이 경화물층의 표면에 전사될 수 있는데, 이와 같이 전사된 요철 표면은, 경화물층의 활용도를 높여준다. 예를 들면, 상기 요철 표면이 전사된 경화물층은 그 자체로서 가시광 영역의 일부 또는 전 영역에 대해서 낮은 반사율을 나타내거나, 혹은 필요한 층과 조합되어 상기 낮은 반사율을 나타낼 수 있다. 따라서, 이러한 경화물층은, 전술한 우수한 물성과 함께 낮은 반사율이 요구되는 다양한 용도에서 효과적으로 적용될 수 있다.

상기 공정에서 에너지선 경화성 조성물층과 접촉하는 눈부심 방지 표면은, 전술한 것처럼 요철 표면일 수 있으며, 이러한 요철 표면은, 양의 편포도(skewness)를 보이는 요철 표면일 수 있다. 상기 요철 표면도 ISO 25178 규격에 의해 확인할 수 있다. 상기 눈부심 방지 필름의 요철 표면은, 0 초과이면서, 약 2 이하일 수 있다. 상기 편포도는 다른 예시에서 약 1.9 이하, 약 1.8 이하, 약 1.7 이하, 약 1.6 이하, 약 1.5 이하, 약 1.4 이하, 약 1.3 이하, 약 1.2 이하, 약 1.1 이하, 약 1.0 이하 또는 약 0.9 이하거나, 0.1 이상, 약 0.2 이상, 약 0.3 이상, 약 0.4 이상 또는 약 0.5 이상일 수 있다. 이러한 범위의 편포도의 요철 표면을 적용하여 목적하는 편포도의 요철 표면을 형성할 수 있다.

상기 에너지선 경화성 조성물층과 접촉하는 눈부심 방지 표면의 요철 표면은, 산술평균조도(Arithmetic mean roughness, Ra)가 약 0.01μm 내지 2 μm의 범위 범위 내일 수 있다. 이와 같은 범위에서 산술평균조도를 가지는 요철 표면인 눈부심 방지 표면의 적용을 통해 목적하는 물성의 경화물층의 제조가 가능할 수 있다. 상기 산술평균조도는, 후술하는 실시예에 개시된 방식으로 측정할 수 있다. 이러한 산술평균조도는 다른 예시에서 0.05 μm 이상, 0.1 μm 이상, 0.15 μm 이상, 0.2 μm 이상 또는 0.25 μm 이상이거나, 1.8 μm 이하, 1.6 μm 이하, 1.4 μm 이하, 1.2 μm 이하, 1 μm 이하, 0.9 μm 이하, 0.8 μm 이하, 0.7 μm 이하, 0.6 μm 이하, 0.5 μm 이하 또는 0.4 μm 이하 정도일 수도 있다.

에너지선 경화성 조성물층과 접촉하는 눈부심 방지 표면은, 60도 그로스(gloss)가 10% 내지 90%의 범위 내인 표면일 수 있다. 이와 같은 범위에서 60도 그로스를 가지는 표면인 눈부심 방지 표면의 적용을 통해 목적하는 물성의 경화물층의 제조가 가능할 수 있다. 상기 60도 그로스는, 후술하는 실시예에 개시된 방식으로 측정할 수 있다. 이러한 60도 그로스는 다른 예시에서 15% 이상, 20% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상, 40% 이상 또는 45% 이상이거나, 85% 이하, 80% 이하, 75% 이하 또는 70% 이하 정도일 수도 있다.

에너지선 경화성 조성물층과 접촉하는 눈부심 방지 표면은, 3% 내지 50%의 헤이즈를 나타내는 표면일 수 있다. 이와 같은 범위에서 헤이즈를 가지는 표면인 눈부심 방지 표면의 적용을 통해 목적하는 물성의 경화물층의 제조가 가능할 수 있다. 상기 헤이즈는, 후술하는 실시예에 개시된 방식으로 측정할 수 있다. 이러한 헤이즈는 다른 예시에서 3.5% 이상, 4% 이상 또는 4.5% 이상이거나, 45% 이하, 40% 이하, 35% 이하, 30% 이하 또는 25% 이하 정도일 수도 있다.

본 출원에서 적용될 수 있는 눈부심 방지 필름의 종류는 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 상기 언급한 헤이즈, 60도 그로스 및/또는 산술평균조도 Ra를 가지는 요철 표면을 가지는 눈부심 방지 필름이 적용 가능하다.

적절한 예시에서는 상기 눈부심 방지 필름으로는, 바인더 수지 및 입자를 포함하는 눈부심 방지층을 가지는 필름을 사용할 수 있다.

이 때 바인더 수지로서는, 열 또는 에너지선 경화성 바인더 수지를 적용할 수 있으며, 그 구체적인 예는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 에너지선 경화성 바인더 수지를 적용하는 것이 공정 측면 등에서 유리할 수 있다. 사용될 수 있는 에너지선 경화성 바인더 수지의 종류는 특별히 제한되지 않지만, 적절한 효과의 확보를 위해서 비우레탄계 다관능성 아크릴레이트 화합물이 적용될 수 있다. 예를 들면, 상기 화합물로서, 경화성 관능기(ex. (메타)아크릴로일옥시기 등)가 2개 이상인 화합물이 적용될 수 있다. 상기 화합물의 관능기의 수는 10개 이하, 9개 이하, 8개 이하, 7개 이하, 6개 이하, 5개 이하, 4개 이하 또는 3개 이하 정도일 수도 있다. 이러한 화합물로는, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜아디페이트(neopentylglycol adipate) 디(메타)아크릴레이트, 히드록시피발산(hydroxyl puivalic acid) 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(dicyclopentanyl) 디(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디시클로펜테닐 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 디(메타)아크릴레이트, 디(메타)아크릴록시 에틸 이소시아누레이트, 알릴(allyl)화 시클로헥실 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올(메타)아크릴레이트, 디메틸롤 디시클로펜탄 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 헥사히드로프탈산 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸 디메탄올(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 변성 트리메틸프로판 디(메타)아크릴레이트, 아다만탄(adamantane) 디(메타)아크릴레이트 또는 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌(fluorine) 등과 같은 2관능성 아크릴레이트; 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트 또는 프로필렌옥시드 변성 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트 등의 3관능형 아크릴레이트; 디글리세린 테트라(메타)아크릴레이트 또는 펜타에리쓰리톨 테트라(메타)아크릴레이트 등의 4관능형 아크릴레이트; 프로피온산 변성 디펜타에리쓰리톨 펜타(메타)아크릴레이트 등의 5관능형 아크릴레이트; 및 디펜타에리쓰리톨 헥사(메타)아크릴레이트 또는 카프로락톤 변성 디펜타에리쓰리톨 헥사(메타)아크릴레이트 등의 6관능형 아크릴레이트 등과 같은 다관능형 아크릴레이트 화합물 등을 사용할 수 있고, 이 중에서 목적하는 점도와 물성 등을 고려하여 일종 또는 이종 이상이 선택되어 사용될 수 있다.

상기 경화성 바인더 수지를 입자와 혼합한 상태로 코팅하고, 그 수지의 종류에 따른 경화 방식으로 경화시킨 눈부심 방지층이 적용될 수 있다. 적용될 수 있는 입자의 종류는 특별한 제한은 없고, 예를 들면, PMMA(poly(methyl methacraylte)) 입자나 PS(polystyrene) 입자 등의 유기 폴리머 입자 또는 실리카 입자 또는 지르코니아 입자, 알루미나 입자 또는 티타니아 입자 등의 무기 입자 등이 적용될 수 있다. 상기 입자의 형상, 평균 입경 및/또는 비율에는 특별한 제한은 없고, 목적하는 60도 그로스나 헤이즈, 산술평균조도 Ra 등을 고려하여 적절한 형상 및/또는 평균 입경을 가지는 입자를 적절한 비율로 적용할 수 있다.

상기 눈부심 방지층에는 상기 성분에 추가로 필요한 임의의 성분, 예를 들면, 실리콘계 또는 불소계 슬립제나 개시제 등이 추가될 수도 있다.

눈부심 방지 필름은, 기재 필름과 상기 기재 필름의 일면에 형성된 상기 눈부심 방지층을 포함할 수 있다. 이 때 기재 필름으로는 적절한 투과율, 예를 들면, 약 370 nm 파장의 광에 대한 투과율이 80% 이상인 기재 필름을 적용할 수 있다. 즉, 통상적인 눈부심 방지 필름은, 광학 필름의 최외곽에 존재하기 때문에, 자외선 차단 기능이 부여되어 370 nm 파장에 대해서 낮은 투과도(50% 이하)를 나타내는 경우가 대부분이지만, 본 출원에서는 눈부심 방지 필름이 몰드로 적용되는 것이고, 자외선 경화 공정을 위해서 자외선에 대하여 투과도가 높은 필름이 적용되는 것이 필요하다. 따라서 상기와 같은 투과율이 적용될 수 있다. 기재 필름의 종류는 상기 투과율을 가지는 것이라면 특별한 제한은 없고, 예를 들면, 공지의 고분자 필름 중에서 상기 투과율을 나타내는 것이 선택될 수 있다.

상기 눈부심 방지 필름의 눈부심 방지 표면을 상기 에너지선 경화성 조성물층에 접촉시킨 상태에서 상기 에너지선을 조사하는 단계가 수행될 수 있다.

눈부심 방지 필름과 접촉하는 에너지선 경화성 조성물층은, 에너지선 경화성 조성물을 캐스팅 내지 코팅하여 형성할 수 있다. 이 경우 캐스팅 또는 코팅의 방식은 특별히 제한되지 않고, 공지의 방식, 예를 들면, 그라비어 코팅, 롤 코팅, 리버스 코팅, 나이프 코팅, 다이 코팅, 립 코팅, 닥터(doctor) 코팅, 익스트루젼(extrusion) 코팅, 슬라이드 코팅, 와이어바 코팅, 커튼 코팅, 압출 코팅 또는 스피너 코팅 등의 방법이 적용될 수 있다. 캐스팅 과정에서 겔 형상의 부착물이나, 이물이 발생하지 않도록, 상기 캐스팅은 에너지선이 조사되지 않는 조건에서 수행하며, 또한 필요하다면, 캐스팅의 온도도 적절하게 제어될 수 있다.

캐스팅 방식 등에 의해 형성되는 상기 에너지선 경화성 조성물층의 두께는 특별히 제한되지 않으며, 목적하는 용도, 캐스팅 균일성 등을 고려하여 적절한 두께로 조절될 수 있다. 예를 들면, 상기 형성되는 층의 두께는 대략 1μm 내지 1000μm의 범위 내일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 두께는 다른 예시에서 5μm 이상, 10 μm 이상 또는 15 μm 이상이거나, 900 μm 이하, 800 μm 이하, 700 μm 이하, 600 μm 이하, 500 μm 이하, 400 μm 이하, 300 μm 이하, 200 μm 이하, 100 μm 이하 또는 50 μm 이하 정도일 수도 있다.

상기 에너지선 경화성 조성물로의 에너지선의 조사는, 기재 필름상에 에너지선 경화성 조성물을 캐스팅하여 에너지선 경화성 조성물층을 형성하는 단계; 및 상기 에너지선 경화성 조성물층에 상기 눈부심 방지 필름을 적층하여 상기 눈부심 방지 필름과 에너지선 경화성 조성물층을 접촉시키는 단계를 포함하는 방식으로 제조된 적층체에 대해서 수행될 수 있다. 이 때 상기 기술한 바와 같이 상기 에너지선 경화성 조성물층과 접촉되는 눈부심 방지 필름의 표면은 전술한 눈부심 방지 표면일 수 있다.

상기 방식을 적용하는 것에 의해서 상기 제조되는 경화물층의 물성이나 품질의 균일성을 보다 안정적으로 유지할 수 있다.

상기 기재 필름의 종류는 특별히 제한되지 않고, 적절한 표면 평활성을 가지는 기재 필름이 적용될 수 있다. 예를 들면, 기재 필름으로는, 폴리에스테르 필름, 폴리프로필렌이나, 폴리에틸렌 또는 노르보넨(norbornene) 수지 필름 등의 폴리올레핀 필름, 아세테이트 필름, 아크릴 필름, 불화비닐 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리아미드 필름, 폴리아릴레이트 필름, 셀로판 또는 폴리에테르설폰 필름 등의 필름을 단독으로 혹은 2종 이상을 조합시켜 사용할 수 있다. 이러한 필름들 중에서 요구 내열성, 투명성을 고려하여 적절한 필름이 선택될 수 있다.

상기 기재 필름으로는, 투명 필름, 예를 들면, 광투과율이 80% 이상 또는 85% 이상인 필름을 사용할 수 있다. 기재 필름 두께는 특별한 제한은 없으나, 필름의 제조 과정에서 적용되는 장력에 대한 저항성이나, 적층체의 휨이나 일그러짐 등 또는 에너지선의 투과 효율 등을 고려하여, 대략 10 내지 400㎛ 또는 50 내지 300㎛의 범위 내에서 선택될 수 있다.

상기 기재 필름으로서 일면에 평탄화층이 형성되어 있는 필름이 사용될 수 있다. 예를 들면, 일면에 평탄화층이 형성된 기재 필름의 상기 평탄화층이 없는 면에 상기 에너지선 경화성 조성물층이 형성될 수 있다. 이와 같은 방식을 통해 보다 표면 특성이 우수한 필름을 제조할 수 있다.

상기 평탄화층을 형성하는 재료에 특별한 제한은 없다. 일 예시에서 상기 평탄화층은, 상기 필름의 형성에 적용되는 에너지선 경화성 조성물을 동일하게 기재 필름상에 코팅하고, 경화시켜서 형성할 수 있다.

기재 필름에 에너지선 경화성 조성물을 캐스팅하고, 그 캐스팅된 에너지선 경화성 조성물상에 상기 눈부심 방지 필름의 눈부심 방지 표면을 적층하여 적층체를 제조한 후에 에너지선의 조사를 수행할 수 있다.

필요하다면, 상기 에너지선 경화성 조성물층과 눈부심 방지 표면의 접촉을 일정한 압력으로 가압하여 수행할 수도 있다.

상기 방식으로 눈부심 방지 필름을 에너지선 경화성 조성물층과 접촉시킨 상태로 에너지선을 조사하여 상기 조성물을 경화시킴으로써 상기 경화물층을 제조할 수 있다. 이 때 에너지선의 조사 방향은 제한되지 않으며, 예를 들면, 상기 눈부심 방지 필름측, 또는 상기 에너지선 경화성 조성물층의 상기 눈부심 방지 필름 접하지 않은 면측 또는 상기 양측 모두에서 에너지선은 조사될 수 있다. 상기 적층체(눈부심 방지 필름/에너지선 경화성 조성물층/기재 필름)에 대해서 에너지선의 조사를 수행하는 경우에도, 상기 눈부심 방지 필름측, 상기 기재 필름측 또는 양측에서 에너지선이 조사될 수 있다.

일 예시에서 상기 적층체에 대해서 에너지선의 조사를 수행하는 경우에 에너지선은 상기 기재 필름을 통해서 상기 에너지선 경화성 조성물층에 조사될 수 있다.

예를 들어, 에너지선으로서 자외선을 조사하는 경우에는, 자외선 램프를 사용해서 발생시킨 자외선을 자외선을 조사할 수 있다. 자외선 램프로는 메탈할라이드(metal halide) 램프, 고압수은 램프, 저압수은 램프, 펄스형 크세논(xenon) 램프, 크세논/수은 혼합 램프, 저압살균 램프 및/또는 무전극 램프 등이 적용될 수 있다. 조사 조건은, 에너지선 경화성 조성물의 조성 등에 따라 결정될 수 있으며, 통상 노광량이 대략 0.01 내지 10mJ/cm² 정도의 수준이 되도록 조사할 수 있다. 상기 노광되는 에너지의 양은 다른 예시에서 약 0.05 mJ/cm²이상, 0.1 mJ/cm²이상, 0.5 mJ/cm²이상, 1 mJ/cm²이상 또는 1.5 mJ/cm²이상이거나, 9 mJ/cm²이하, 8 mJ/cm²이하, 7 mJ/cm²이하, 6 mJ/cm²이하 또는 5 mJ/cm²이하 정도일 수도 있다.

이와 같은 에너지선의 조사가 수행되는 온도는 특별히 제한되지 않는다. 통상 상기 에너지선의 조사는 상온(15℃ 내지 35℃의 범위 내)에서 수행되지만, 필요하다면, 해당 온도가 조절될 수 있고, 이러한 경우에는, 에너지선의 조사 과정에서 시에는 가열/냉각 장치 등을 적용될 수도 있다.

본 출원에서 적용되는 에너지선 경화성 조성물의 종류에는 특별한 제한은 없지만, 상기 캐스팅 또는 코팅 효율 등을 고려하여, 에너지선 경화성을 가지면서, 또한 캐스팅 가능한 유동성 내지는 가소성을 가지는 것이 적용될 수 있다. 필요하다면, 경화 전후의 경화 수축에 의한 휨이나 일그러짐 등의 방지를 위해서 경화 수축율이 적정 범위로 제어될 수 있다. 통상적으로 경화 전후의 체적 수축율이 3% 내지 10%의 범위 내에 있는 에너지선 경화성 조성물이 사용될 수 있다.

예를 들면, 상기 에너지선 경화형 조성물로는, 소위 아크릴계 에너지선 경화형 조성물, 실리콘계 에너지선 경화형 조성물 또는 에폭시계 에너지선 경화형 조성물 중 적절한 종류가 선택되어 사용될 수 있다. 또한, 공정 효율이나 필름 물성을 고려하여 무용제형 조성물이 적용될 수 있다.

일 예시에서 상기 에너지선 경화성 조성물로는, 적어도 실리콘 수지 성분 및 반응성 희석제를 포함하는 조성물을 사용할 수 있다.

상기 적용되는 실리콘 수지 성분의 종류는 특별히 제한되지 않지만, 목적하는 물성을 보다 효과적으로 충족시키기 위해서, 하기 평균 단위식 1로 표시되는 실리콘 수지 성분이 적용될 수 있다.

[평균 단위식 1]

(R¹ ₃ SiO_1/2)_a(R² ₂SiO_2/2)_b(R³SiO_3/2)_c(SiO_4/2)_d(RO_1/2)_e

평균 단위식 1에서 R¹ 내지 R³는 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아릴기 또는 에너지선 경화성기이고, R¹ 내지 R³가 복수 존재하는 경우에 각각은 서로 동일하거나 상이하며, R¹ 내지 R³ 중 적어도 하나는 에너지선 경화성기이고, a, b, c 및 d는, a+b+c+d를 1로 환산하였을 때에 각각 0≤a≤1, 0<b≤1, 0<c≤1 및 0≤d≤1을 만족하며, e는 e/(a+b+c+d)가 0 내지 0.4의 범위 내가 되는 수이다.

상기 평균 단위는, 상기 실리콘 수지 성분에 포함되는 단량체 단위, 즉 소위 M, D, T 및 Q 단위의 평균적인 비율을 나타내는 것이고, 상기 실리콘 수지 성분이 상기 평균 단위식 1을 나타낸다는 것은, 상기 성분이 상기 평균 단위식 1에 따른 비율로 단량체 단위를 포함하는 하나의 고분자 성분(실리콘 수지)을 포함하는 경우 또는 상기 성분이 2개 이상의 고분자 성분(실리콘 수지)을 포함하고, 그 2개 이상의 성분에 포함되는 모든 단량체 단위의 평균이 상기 평균 단위식 1로 규정되는 경우를 의미할 수 있다.

상기 평균 단위식 1에서, a+b+c+d를 1로 환산하였을 때에, 상기 a 및 d는 각각 독립적으로 0.95 이하, 0.9 이하, 0.85 이하, 0.8 이하, 0.75 이하, 0.7 이하, 0.65 이하, 0.6 이하, 0.55 이하, 0.5 이하, 0.45 이하, 0.4 이하, 0.35 이하, 0.3 이하, 0.25 이하, 0.2 이하, 0.15 이하, 0.1 이하 또는 0.05 이하 정도일 수도 있다.

상기 평균 단위식 1에서 a+b+c+d를 1로 환산하였을 때에 상기 b는 다른 예시에서 0.01 이상, 0.02 이상, 0.03 이상, 0.04 이상, 0.05 이상, 0.06 이상, 0.07 이상, 0.08 이상, 0.09 이상, 0.1 이상, 0.15 이상, 0.2 이상 또는 0.25 이상이거나, 0.95 이하, 0.9 이하, 0.85 이하, 0.8 이하, 0.75 이하, 0.7 이하, 0.65 이하, 0.6 이하, 0.55 이하, 0.5 이하, 0.45 이하, 0.4 이하, 0.35 이하, 0.3 이하 또는 0.25 이하 정도일 수도 있다.

상기 평균 단위식 1에서 a+b+c+d를 1로 환산하였을 때에 상기 c는 다른 예시에서 0.1 이상, 0.15 이상, 0.2 이상, 0.25 이상, 0.3 이상, 0.35 이상, 0.4 이상, 0.45 이상, 0.5 이상, 0.55 이상, 0.6 이상, 0.65 이상, 0.7 이상 또는 0.75 이상이거나, 0.95 이하, 0.9 이하, 0.85 이하, 0.8 이하 또는 0.75 이하 정도일 수도 있다.

평균 단위식 1에서 RO_1/2은, 규소 원자에 결합되어 있는 축합성 관능기를 의미할 수 있다. 즉, 상기 실리콘 수지 성분은, 일 예시에서 축합성 실란 화합물을 축합시켜 제조할 수 있는데, 그 과정에서 반응하지 않고, 잔존하는 축합성 관능기가 상기 RO_1/2로 표시될 수 있다.

평균 단위식 1에서 e는, e/(a+b+c+d)가 0 내지 0.4의 범위가 되도록 하는 수일 수 있다. 상기 e/(a+b+c+d)는 다른 예시에서 0.35 이하 정도, 0.3 이하 정도, 0.25 이하 정도, 0.2 이하 정도, 0.15 이하 정도, 0.1 이하 정도 또는 0.05 이하 정도일 수도 있다.

평균 단위식 1에서 R¹ 내지 R³는 각각 규소 원자에 직접 결합하고 있는 관능기로서, 평균 단위식 1로 표시되는 실리콘 수지 성분 내에서 각각 복수 존재할 수도 있고, 복수 존재하는 경우에 그들은 동일하거나 상이할 수 있다. 상기 R¹ 내지 R³는 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아릴기 또는 에너지선 경화성 관능기일 수 있다. R¹ 내지 R³ 중 적어도 하나는 에너지선 경화성 관능기이며, 예를 들면, 적어도 상기 R³(R³가 복수인 경우에 R³ 중 적어도 하나)는 에너지선 경화성 관능기일 수 있다.

상기 평균 단위식에서 R²는 적절하게는 알킬기일 수 있다.

상기에서 에너지선 경화성 관능기의 종류는 특별한 제한은 없으며, 예를 들면, 소위 라디칼 경화성 관능기 또는 양이온 경화성 관능기일 수 있다. 목적 물성을 만족하는 경화물층을 형성하기 위해서는 라디칼 경화성 관능기를 적용하는 것이 더 적절하다. 라디칼 경화성 관능기로는, 대표적으로 알케닐기, (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기, (메타)아크릴로일알킬기 또는 (메타)아크릴로일옥시알킬기 등이 있고, 양이온 경화성 관능기로는, 에폭시기를 예시할 수 있다. 용어 에폭시기는, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 3개의 고리 구성 원자를 가지는 고리형 에테르(cyclic ether) 또는 상기 고리형 에테르를 포함하는 화합물로부터 유도된 1가 잔기를 의미할 수 있다. 에폭시기로는 글리시딜기, 에폭시알킬기, 글리시독시알킬기 또는 지환식 에폭시기 등이 예시될 수 있다. 상기에서 지환식 에폭시기는, 지방족 탄화수소 고리 구조를 포함하고, 상기 지방족 탄화수소 고리를 형성하고 있는 2개의 탄소 원자가 또한 에폭시기를 형성하고 있는 구조를 포함하는 화합물로부터 유래되는 1가 잔기를 의미할 수 있다. 지환식 에폭시기로는, 6개 내지 12개의 탄소 원자를 가지는 지환식 에폭시기가 예시될 수 있고, 예를 들면, 3,4-에폭시시클로헥실에틸기 등이 예시될 수 있다.

이러한 에너지선 경화성 관능기는, 전체 R¹ 내지 R³ 중에서 대략 50몰% 이상, 55몰% 이상, 60몰% 이상, 65몰% 이상, 70몰% 이상, 75몰% 이상, 80몰% 이상, 85몰% 이상, 90몰% 이상 또는 95몰% 이상의 비율로 존재할 수 있다. 상기 에너지선 경화성 관능기의 비율의 상한에는 특별한 제한은 없고, 예를 들면, 상기 관능기의 비율은 약 100몰% 이하, 약 95 몰% 이하, 약 90 몰% 이하, 약 85 몰% 이하, 약 80 몰% 이하, 약 75 몰% 이하 또는 약 70 몰% 이하 정도일 수 있다.

상기 실리콘 수지 성분은, 중량평균분자량(Mw, Weight Average Molecular Weight)이 1만 내지 5만의 범위 내일 수 있다. 상기 중량평균분자량은, 소위 GPC(Gel Permeation Chromatography)에 의해 측정된 표준 폴리스티렌의 환산값일 수 있다. 상기 중량평균분자량은, 다른 예시에서 약 11000 g/mol 이상, 12000 g/mol 이상, 13000 g/mol 이상, 14000 g/mol 이상, 15000 g/mol 이상, 16000 g/mol 이상, 17000 g/mol 이상, 18000 g/mol 이상, 19000 g/mol 이상, 20000 g/mol 이상, 21000 g/mol 이상, 22000 g/mol 이상, 23000 g/mol 이상, 24000 g/mol 이상, 25000 g/mol 이상, 26000 g/mol 이상, 27000 g/mol 이상, 28000 g/mol 이상, 29000 g/mol 이상 또는 30000 g/mol 이상이거나, 45000 g/mol 이하, 40000 g/mol 이하, 35000 g/mol 이하, 30000 g/mol 이하, 25000 g/mol 이하 또는 20000 g/mol 이하 정도일 수도 있다.

상기 실리콘 수지 성분은 또한, 분자량 분포(PDI, Mw/Mn), 즉 수평균분자량(Mn)에 대한 중량평균분자량(Mw)의 비율이 3 이하 정도일 수 있다. 상기 분자량 분포는 다른 예시에서 1.1 이상, 1.2 이상, 1.3 이상, 1.4 이상, 1.5 이상, 1.6 이상, 1.7 이상, 1.8 이상, 1.9 이상, 2.0 이상, 2.1 이상 또는 2.2 이상이거나, 2.8 이하, 2.6 이하 또는 2.4 이하일 수도 있다.

전술한 평균 단위를 가지고, 또한 상기 분자량 특성을 가지는 실리콘 수지 성분은 목적하는 물성의 경화물층을 효과적으로 형성할 수 있게 한다.

상기 실리콘 수지 성분의 제조를 위해서는, 소위 축합성 실란 화합물(ex. 알콕시실란 화합물)을 축합시키는 중합 과정과 상기 중합 과정에 이어지는 분자량 조절 과정이 필요하다. 상기에서 축합성 실란 화합물을 축합시켜서 실리콘 수지 성분을 제조하는 방식은 다양하게 공지되어 있고, 통상 이러한 축합 과정만 수행하여 실리콘 수지 성분을 제조하고 있다. 그렇지만, 단순하게 상기와 같이 축합 공정에 의한 중합만으로는 상기 언급된 수준의 분자량 특성의 확보가 어렵다. 따라서, 상기 축합 과정에 이어서 적절한 분자량 조절 과정이 필요하다.

상기 분자량 조절 과정은, 예를 들면, 중합 반응물을 소정 온도의 감압 조건에 유지하면서 수행할 수 있다. 이 과정에서 중합 반응물에 포함되어 있는 용매, 저분자량 성분 및/또는 미반응물이 제거되면서 목적하는 수준으로 분자량이 조절될 수 있다. 상기에서 감압 조건은, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 약 50 내지 90 Torr의 진공도로 감압 공정을 수행할 수 있다. 상기 진공도는 다른 예시에서 약 55 Torr 이상, 약 60 Torr 이상 또는 약 65 Torr 이상이거나, 약 85 Torr 이하, 약 80 Torr 이하 또는 약 75 Torr 이하 정도일 수 있다.

상기 감압 공정은, 소정 온도 프로파일 하에서 수행될 수 있다. 예를 들면, 상기 감압 공정은, 약 30℃ 내지 70℃의 범위 내의 온도에서 진공도를 상기 수준으로 유지하는 제 1 단계 및 상기 제 1 단계에 이어서 진공도를 상기 수준으로 유지하면서 온도를 60℃ 내지 100℃의 범위 내로 유지하는 제 2 단계를 포함할 수 있다. 상기 제 1 단계에서 온도를 약 30℃ 내지 70℃의 범위 내로 유지하면서 상기 언급한 진공도를 유지하면, 감압에 의해 온도가 저하되는데, 통상 10℃ 내지 30℃정도의 수준으로 온도가 떨어지게 된다. 따라서, 상기와 같이 온도가 떨어지면, 다시 온도를 상기 제 2 단계 수준까지 올려서 추가로 분자량 조절 공정을 진행한다. 상기 제 1 단계의 온도는 다른 예시에서 약 35℃ 이상, 40℃ 이상 또는 45℃이상이거나, 65℃ 이하, 60℃ 이하 또는 55℃ 이하일 수 있고, 제 2 단계의 온도는 다른 예시에서 약 65℃ 이상, 70℃ 이상 또는 75℃ 이상이거나, 약 95℃ 이하, 약 90℃ 이하 또는 85℃ 이하일 수 있다. 또한, 상기 제 1 단계에서는 상기 언급한 바와 같이, 실질적으로는 상기 언급된 진공도에서 상기 온도가 약 30℃ 내지 70℃의 범위 내의 온도에서 10℃ 내지 30℃ 정도의 수준으로 저하되는 과정이 진행될 수 있다. 상기 제 1 및 제 2 단계가 진행되는 시간은 특별히 제한되지 않지만, 적절한 수준의 분자량을 확보하기 위해서 상기 제 1 단계는 대략 1 시간 내지 5 시간 동안 진행하고, 상기 제 2 단계는 대략 10분 내지 60분 정도로 진행할 수 있다.

상기 분자량 조절 공정에 적용되는 중합 반응물을 얻는 방식은 특별히 제한되지 않는다. 업계에서는 알콕시 실란과 같은 축합성 화합물을 사용하여 실리콘 수지를 제조하는 내용이 다양하게 알려져 있고, 이러한 방법이 모두 본 출원에서 적용될 수 있다.

후속하는 분자량 조절 과정에서 목적하는 적합한 분자량의 확보를 유리하게 하기 위해서 상기 중합 과정은, 알콕시 실란과 같은 축합성 실란을 수성 용매과 알코올, 케톤 및/또는 아세테이트의 혼합 용매 내에서 염기 촉매를 적용하여 중합시키는 방법이 적용될 수 있다.

상기 과정에서 알콕시 실란으로는 공지의 화합물이 적용될 수 있다.

상기에서 적용될 수 있는 수성 용매로는, 예를 들면, 물이 있고, 이러한 수성 용매는 중합에 적용되는 전체 축합성 실린 화합물(ex. 알콕시 실란) 1몰당 대략 0.1 내지 10몰의 비율로 적용될 수 있다. 상기 수성 용매의 비율은 다른 예시에서 약 0.5몰 이상, 약 1 몰 이상, 약 1.5 몰 이상, 약 2 몰 이상 또는 약 2.5 몰 이상이거나, 약 9 몰 이하, 약 8 몰 이하, 약 7 몰 이하, 약 6 몰 이하, 약 5 몰 이하, 약 4 몰 이하 또는 약 3 몰 이하 정도일 수도 있다.

상기에서 적용될 수 있는 알코올로는, 에틸 알코올, n-프로필 알코올, i-프로필 알코올, i-부틸 알코올, n-부틸 알코올 및/또는 t-부틸 알코올 등이 예시될 수 있고, 케톤 용매로는, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸이소부틸 케톤, 디메틸케톤, 메틸이소프로필 케톤 및/또는 아세틸 아세톤 등이 예시될 수 있으며, 아세테이트 용매로는, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트 및/또는 부틸 아세테이트 등이 예시될 수 있지만 이에 제한되는 것은 아니다. 이러한 알코올, 케톤 또는 아세테이트 용매는 중합에 적용되는 전체 축합성 실린 화합물(ex. 알콕시 실란) 1몰당 대략 0.1 내지 10몰의 비율로 적용될 수 있다. 상기 알코올, 케톤 또는 아세테이트 용매의 비율은 다른 예시에서 약 0.5몰 이상, 약 1 몰 이상, 약 1.5 몰 이상, 약 2 몰 이상 또는 약 2.5 몰 이상이거나, 약 9 몰 이하, 약 8 몰 이하, 약 7 몰 이하, 약 6 몰 이하, 약 5 몰 이하, 약 4 몰 이하 또는 약 3 몰 이하 정도일 수도 있다.

상기 과정에서 적용되는 염기 촉매로는, 예를 들면, pKa가 15 이하인 아민 화합물 등이 적용될 수 있다. 상기 아민 화합물의 pKa는 다른 예시에서 약 14.5 이하, 약 14 이하, 약 13.5 이하, 약 13 이하, 약 12.5 이하, 약 12 이하, 약 11.5 이하, 약 11 이하, 약 10.5 이하이거나, 약 1 이상, 약 2 이상, 약 3 이상, 약 4 이상, 약 5 이상, 약 6 이상, 약 7 이상, 약 8 이상, 약 9 이상 또는 약 10 이상일 수 있지만, 이에 제한되지는 않는다. 아민 화합물로는, 예를 들면, 트리에틸아민 등과 같은 트리알킬 아민이 적용될 수 있지만, pKa가 상기 범위 내라면 특별이 제한되지는 않는다.

상기 아민 화합물은, 전체 축합성 실린 화합물(ex. 알콕시 실란) 1몰당 대략 0.0001몰 내지 0.1몰의 비율로 적용될 수 있다. 상기 비율은 다른 예시에서 약 0.0005몰 이상, 약 0.0007몰 이상, 약 0.0009몰 이상 또는 약 0.01몰 이상이거나, 약 0.09몰 이하, 약 0.08몰 이하, 약 0.07몰 이하, 약 0.06몰 이하, 약 0.05몰 이하, 약 0.04몰 이하, 약 0.03몰 이하 또는 약 0.02몰 이하 정도일 수도 있다.

예를 들면, 상기와 같은 성분의 혼합물을 대략 50℃ 내지 110℃의 범위 내의 온도에서 약 8 내지 16 시간 정도 유지하여 중합 반응물을 얻을 수 있다. 상기 중합 반응의 온도는 다른 예시에서 약 55℃ 이상, 약 60℃ 이상, 약 65℃ 이상, 약 70℃ 이상 또는 약 75℃ 이상이거나, 약 105℃ 이상, 약 100℃ 이상, 약 95℃ 이상, 약 90℃ 이상 또는 약 85℃ 이상 정도일 수 있고, 중합 시간은 다른 예시에서 약 9 시간 이상, 약 10 시간 이상 또는 약 11 시간 이상이거나, 약 15 시간 이하, 약 14 시간 이하 또는 약 13 시간 이하 정도일 수도 있다.

상기 방식으로 중합된 중합물을 상기 분자량 조절 공정에 도입하는 경우에 목적하는 분자량 특성을 보다 효과적으로 확보할 수 있다.

상기 에너지선 경화성 조성물은 상기 성분과 함께 반응성 희석제를 포함할 수 있다. 반응성 희석제는, 상기 조성물의 점도 등을 적정 범위로 조절하여 캐스팅 공정이 적절하게 수행되도록 할 수 있다.

반응성 희석제로는, 특별한 제한 없이 공지의 성분을 사용할 수 있다. 에너지선 경화성 조성물의 경화 타입(예를 들면, 라디칼 경화형인지 양이온 경화형인지 등)에 따라서 적합한 반응성 희석제는 공지되어 있다.

일 예시에서 상기 실리콘 수지 성분이 에너지선 경화성 관능기로서 양이온 경화성 관능기(예를 들면, 에폭시기 등)를 포함하는 경우에 상기 반응성 희석제로는, 에폭시 화합물 또는 옥세탄 화합물을 적용할 수 있다.

양이온 경화성 조성물에서 반응성 희석제로 적용될 수 있는 에폭시 또는 옥세탄 화합물은 업계에서 다양하게 공지되어 있으며, 이러한 공지의 반응성 희석제가 제한 없이 사용될 수 있다.

예를 들어, 반응성 희석제로 적용될 수 있는 에폭시 화합물 또는 옥세탄 화합물로는, 비스페놀 A 다이글리시딜 에테르, 비스페놀 F 다이글리시딜 에테르, 비스페놀 S 다이글리시딜 에테르, 브롬화 비스페놀 A 다이글리시딜 에테르, 브롬화 비스페놀 F 다이글리시딜 에테르, 브롬화 비스페놀 S 다이글리시딜 에테르, 에폭시 노볼락 수지, 수소화 비스페놀 A 다이글리시딜 에테르, 수소화 비스페놀 F 다이글리시딜 에테르, 수소화 비스페놀 S 다이글리시딜 에테르, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3’,4’-에폭시사이클로헥산카복실레이트, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실-5,5-스파이로-3,4-에폭시)-사이클로헥산-1,4-다이옥산, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸) 아디페이트, 비닐 사이클로헥센 옥사이드, 4-비닐 에폭시사이클로헥산, 비닐사이클로헥센 다이옥사이드, 리모넨 옥사이드, 리모넨 다이옥사이드, 비스(3,4-에폭시-6-메틸사이클로헥실메틸) 아디페이트, 3,4-에폭시-6-메틸사이클로헥실-3',4'-에폭시-6'-메틸사이클로헥산카복실레이트, ε-카프로락톤-변성 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3’,4’-에폭시사이클로헥산카복실레이트, 트라이메틸카프로락톤-변성 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3’,4’-에폭시사이클로헥산카복실레이트, β-메틸-δ-발레로락톤-변성 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3’,4’-에폭시사이클로헥산카복실레이트, 메틸렌비스(3,4-에폭시사이클로헥산), 바이사이클로헥실-3,3’-에폭사이드, -O-, -S-, -SO-, -SO₂-, -C(CH₃)₂-, -CBr₂-, -C(CBr₃)₂-, -C(CF₃)₂-, -C(CCl₃)₂- 또는 -CH(C₆H₅)- 결합을 갖는 비스(3,4-에폭시사이클로헥실), 다이사이클로펜타디엔 다이에폭사이드, 에틸렌 글리콜의 다이(3,4-에폭시사이클로헥실메틸)에테르, 에틸렌비스(3,4-에폭시사이클로헥산카복실레이트), 에폭시헥사하이드로다이옥틸 프탈레이트, 에폭시헥사하이드로-다이-2-에틸헥실 프탈레이트, 1,4-부탄다이올 다이글리시딜 에테르, 1,6-헥산다이올 다이글리시딜 에테르, 네오펜틸글리콜 다이글리시딜 에테르, 글리세롤 트라이글리시딜 에테르, 트라이메틸올프로판 트라이글리시딜 에테르, 폴리에틸렌글리콜 다이글리시딜 에테르, 폴리프로필렌글리콜 다이글리시딜 에테르, 지방족 장쇄 이염기산의 다이글리시딜 에스터, 지방족 고급 알코올의 모노글리시딜 에테르, 페놀, 크레졸, 부틸 페놀, 또는 이들 화합물에 알킬렌 옥사이드를 부가하여 수득한 폴리에테르 알콜의 모노글리시딜 에테르, 고급 지방산의 글리시딜 에스터, 에폭시화된 대두유, 에폭시부틸스테아르산, 에폭시옥틸스테아르산, 에폭시화된 아마인유, 에폭시화된 폴리부타디엔, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 3-에틸-3-하이드록시메틸옥세탄, 3-에틸-3-(3-하이드록시프로필)옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-(4-하이드록시부틸)옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-(5-하이드록시펜틸)옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-페녹시메틸옥세탄, 비스((1-에틸(3-옥세타닐)메틸)에테르, 3-에틸-3-((2-에틸헥실옥시)메틸)옥세탄, 3-에틸-((트라이에톡시실릴프로폭시메틸)옥세탄, 3-(메트)알릴옥시메틸-3-에틸옥세탄, 3-하이드록시메틸-3-에틸옥세탄, (3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸벤젠, 4-플루오로-[1-(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 4-메톡시-[1-(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]-벤젠, [1-(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)에틸]페닐에테르, 이소부톡시메틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-에틸헥실(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 에틸다이에틸렌글리콜(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 다이사이클로펜타디엔 (3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 다이사이클로펜테닐옥시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 다이사이클로펜테닐(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 테트라하이드로푸푸릴(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 2-하이드록시에틸(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르 또는 2-하이드록시프로필(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르 등이나 상기 중 선택된 2종 이상의 조합 등이 예시될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.

다른 예시에서 상기 실리콘 수지 성분이 에너지선 경화성 관능기로서 라디칼 경화성 관능기(예를 들면, 알케닐기, (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기, (메타)아크릴로일알킬기, (메타)아크릴로일옥시알킬기 등)를 포함하는 경우에 상기 반응성 희석제로는, 각종 아크릴레이트 화합물을 적용할 수 있다.

이러한 아크릴레이트 화합물로는, 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, n-프로필 (메타)아크릴레이트, 이소프로필 (메타)아크릴레이트, n-부틸 (메타)아크릴레이트, t-부틸 (메타)아크릴레이트, sec-부틸 (메타)아크릴레이트, 펜틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 2-에틸부틸 (메타)아크릴레이트, n-옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소노닐 (메타)아크릴레이트, 라우릴 (메타)아크릴레이트 또는 테트라데실 (메타)아크릴레이트 등과 같은 알킬 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실 (메타)아크릴레이트 또는 8-히드록시옥틸 (메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬 (메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜아디페이트(neopentylglycol adipate) 디(메타)아크릴레이트, 히드록시피발산(hydroxyl puivalic acid) 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(dicyclopentanyl) 디(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디시클로펜테닐 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 디(메타)아크릴레이트, 디(메타)아크릴록시 에틸 이소시아누레이트, 알릴(allyl)화 시클로헥실 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올(메타)아크릴레이트, 디메틸롤 디시클로펜탄 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 헥사히드로프탈산 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸 디메탄올(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 변성 트리메틸프로판 디(메타)아크릴레이트, 아다만탄(adamantane) 디(메타)아크릴레이트 또는 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌(fluorine) 등과 같은 2관능성 아크릴레이트; 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 변성 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 3 관능형 우레탄 (메타)아크릴레이트 또는 트리스(메타)아크릴록시에틸이소시아누레이트 등의 3관능형 아크릴레이트; 디글리세린 테트라(메타)아크릴레이트 또는 펜타에리쓰리톨 테트라(메타)아크릴레이트 등의 4관능형 아크릴레이트; 프로피온산 변성 디펜타에리쓰리톨 펜타(메타)아크릴레이트 등의 5관능형 아크릴레이트; 및 디펜타에리쓰리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리쓰리톨 헥사(메타)아크릴레이트 또는 우레탄 (메타)아크릴레이트(ex. 이소시아네이트 단량체 및 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트의 반응물 등의 6관능형 아크릴레이트 등과 같은 다관능형 아크릴레이트 화합물 등을 사용할 수 있고, 이 중에서 목적하는 점도와 물성 등을 고려하여 일종 또는 이종 이상이 선택되어 사용될 수 있다.

상기 에너지선 경화성 조성물에서 적용되는 반응성 희석제의 비율은 목적하는 점도 등을 고려하여 조절되는 것으로 특별한 제한은 없으나, 통상 상기 실리콘 수지 성분 100 중량부 대비 1 내지 200 중량부의 비율로 반응성 희석제가 적용될 수 있다. 상기 비율은 다른 예시에서 3 중량부 이상, 5 중량부 이상, 7 중량부 이상 또는 9 중량부 이상이거나, 190 중량부 이하, 180 중량부 이하, 170 중량부 이하, 160 중량부 이하, 150 중량부 이하, 140 중량부 이하, 130 중량부 이하, 120 중량부 이하, 110 중량부 이하, 100 중량부 이하, 90 중량부 이하, 80 중량부 이하, 70 중량부 이하, 60 중량부 이하, 50 중량부 이하, 40 중량부 이하, 30 중량부 이하 또는 20 중량부 이하 정도일 수도 있다.

에너지선 경화성 조성물은 상기 실리콘 수지 성분과 반응성 희석제를 기본 성분으로 포함하고, 필요한 추가적인 성분을 포함할 수도 있다. 이러한 첨가제 성분으로는, 상기 에너지선 경화성 조성물의 경화를 개시시킬 수 있는 개시제, 분산제, 계면활성제, 대전방지제, 실란 커플링제, 증점제, 착색 방지제, 착색제(안료, 염료), 소포제, 레벨링제, 난연제, 자외선 흡수제, 접착 부여제, 중합 금지제, 산화 방지제 및/또는 표면 개질제 등이 예시될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.

에너지선 경화성 조성물에 포함될 수 있는 추가적인 성분으로는, 헤이즈 조절을 위한 산란 입자도 포함된다. 이러한 입자는 통상 광의 산란이 가능한 입경을 가지고, 추가로 주변 매트릭스와 다른 굴절률을 가지는 입자가 적용되며, 목적하는 헤이즈를 고려하여 적정 수준의 입경과 굴절률을 가지는 입자를 사용할 수 있다.

상기와 같은 에너지선 경화성 조성물을 전술한 방법에 적용하여 경화물층을 제조함으로써, 목적 물성을 가지는 경화물층을 제조할 수 있다.

이와 같은 방식으로 형성되는 상기 경화물층은, 목적에 따라서 적합한 두께를 가질 수 있다. 통상 상기 경화물층의 두께는 대략 1μm 내지 1000μm의 범위 내일 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 두께는 다른 예시에서 5μm 이상, 10 μm 이상 또는 15 μm 이상이거나, 900 μm 이하, 800 μm 이하, 700 μm 이하, 600 μm 이하, 500 μm 이하, 400 μm 이하, 300 μm 이하, 200 μm 이하, 100 μm 이하 또는 50 μm 이하 정도일 수도 있다.

본 출원의 필름은 상기 경화물층이 일면에 형성된 기재 필름을 포함할 수 있다. 이 기재 필름은 전술한 제조 방법에서 적용된 기재 필름일 수 있다.

전술한 바와 같이 기재 필름으로는, 특별한 제한 없이 공지의 필름을 적용할 수 있지만, 목적 물성을 보다 효과적으로 만족시키기 위해서 기계적 및/또는 열적으로 비등방성을 가지는 고분자 필름을 적용할 수 있다. 본 명세서에서 상기 기계적 및/또는 열적 측면에서 비등방성인 고분자 필름은 비대칭 고분자 필름으로 호칭될 수 있다. 상기에서 고분자 필름이 기계적 물성 측면에서 비등방성이라는 것은 후술하는 연신율, 응력 및 탄성률 특성을 가지는 경우이며, 열적으로 비등방성이라는 것은 후술하는 열팽창 계수 등을 가지는 경우이다.

본 명세서에서 언급하는 각 고분자 필름의 물성의 측정은, 본 명세서의 실시예 항목에 기술한 방식에 따라 측정한다.

상기와 같은 고분자 필름으로는, 소위 고연신 PET(poly(ethylene terephthalate)) 필름 또는 SRF(Super Retardation Film) 등으로 알려진 필름이 대표적으로 공지되어 있다. 따라서, 본 출원에서 상기 고분자 필름은, 예를 들면, 폴리에스테르 필름일 수 있다.

상기와 같은 필름은 업계에 공지이고, 이러한 필름은 제조 과정에서의 고연신 공정에 의해 기계적 및/또는 열적 물성에서 비대칭성을 나타낸다. 업계에 공지된 상태 상기 고분자 필름의 대표적인 예로는, PET(poly(ethylene terephthalate)) 필름 등과 같은 폴리에스테르 필름이 있으며, 예를 들면, Toyobo사에서 공급되는 상품명 SRF(Super Retardation Film) 계열의 필름이 있다.

일 예시에서 상기 고분자 필름은 면내의 임의의 제 1 방향에서의 필름(경화물층/기재 필름 포함 또는 경화물층/기재 필름/평탄화층 포함)(E1)과 상기 제 1 방향과 수직을 이루는 제 2 방향에서의 필름(경화물층/기재 필름 포함 또는 경화물층/기재 필름/평탄화층 포함)(E2)의 비율(E1/E2)이 3 이상일 수 있다. 상기 비율(E1/E2)은 다른 예시에서 약 3.5 이상, 4 이상, 4.5 이상, 5 이상, 5.5 이상, 6 이상 또는 6.5 이상일 수 있다. 상기 비율(E1/E2)은 다른 예시에서 약 20 이하, 18 이하, 16 이하, 14 이하, 12 이하, 10 이하, 8 이하 또는 7.5 이하일 수 있다.

본 명세서에서 용어 고분자 필름의 제 1 방향 및 제 2 방향은 상기 필름 기판의 면내의 임의의 방향이다. 예를 들어, 고분자 필름이 연신 고분자 필름인 경우에 상기 면내의 방향은 상기 고분자 필름의 MD(Machine Direction) 및 TD(transverse direction) 방향에 의해 형성되는 면내의 방향일 수 있다. 하나의 예시에서 본 명세서에서 기술하는 제 1 방향은, 고분자 필름의 지상축 및 진상축 방향 중 어느 한 방향이고, 제 2 방향은 지상축 및 진상축 방향 중 다른 한 방향일 수 있다. 다른 예시에서 상기 제 1 방향은, 고분자 필름이 연신 고분자 필름인 경우에 MD(Machine Direction) 및 TD(transverse direction) 방향 중 어느 한 방향이고, 제 2 방향은 MD(Machine Direction) 및 TD(transverse direction) 방향 중 다른 한 방향일 수 있다.

상기 고분자 필름의 상기 제 1 방향(예를 들면, 전술한 지상축 방향 또는 TD 방향)에서의 연신율이 15% 이상, 20% 이상, 25% 이상, 30% 이상, 35% 이상 또는 40% 이상일 수 있다. 상기 연신율은, 약 60% 이하, 55% 이하, 50% 이하 또는 45% 이하일 수 있다.

상기 고분자 필름은, 상기 제 2 방향에서의 열팽창 계수(CTE2)와 상기 제 1 방향에서의 열팽창 계수(CTE1)의 비율(CTE2/CTE1)이 1.5 이상일 수 있다. 상기 열팽창 계수(CTE1, CTE2)는 각각 40℃ 내지 80℃의 온도 범위 내에서 확인되는 값이다. 상기 비율(CTE2/CTE1)은, 다른 예시에서 약 2 이상이거나, 10 이하, 9 이하, 8 이하, 7 이하, 6 이하, 5 이하, 4 이하 또는 3 이하 정도일 수 있다.

상기 제 2 방향에서의 열팽창 계수(CTE2)는 5 내지 150 ppm/K의 범위 내일 수 있다. 상기 열팽창 계수는, 약 10 ppm/K 이상, 15 ppm/K 이상, 20 ppm/K 이상, 25 ppm/K 이상, 30 ppm/K 이상, 35 ppm/K 이상, 40 ppm/K 이상, 45 ppm/K 이상, 50 ppm/K 이상, 약 55ppm/K 이상, 60 ppm/K 이상 또는 65 ppm/K 이상이거나, 140 ppm/K 이하, 130 ppm/K 이하, 120 ppm/K 이하, 100 ppm/K 이하, 95 ppm/K 이하, 90 ppm/K 이하, 85 ppm/K 이하, 80 ppm/K 이하, 75 ppm/K 이하 또는 70 ppm/K 이하일 수 있다.

상기 고분자 필름은, 상기 제 2 방향에서의 탄성률(YM2)과 상기 제 1 방향에서의 탄성률(YM1)의 비율(YM1/YM2)이 1.5 이상일 수 있다. 상기 비율(YM1/YM2)은, 다른 예시에서 약 2 이상이거나, 10 이하, 9 이하, 8 이하, 7 이하, 6 이하, 5 이하, 4 이하, 3 이하 또는 2.5 이하일 수 있다.

상기 제 1 방향에서의 탄성률(YM1)은, 약 2 내지 10 GPa의 범위 내일 수 있다. 상기 탄성률(YM1)은, 다른 예시에서 약 2.5GPa 이상, 3GPa 이상, 3.5GPa 이상, 4GPa 이상, 4.5GPa 이상, 5GPa 이상 또는 5.5 GPa 이상이거나, 약 9.5GPa 이하, 9GPa 이하, 8.5GPa 이하, 8GPa 이하, 7.5GPa 이하, 7GPa 이하, 6.5GPa 이하 또는 6GPa 이하일 수도 있다.

본 명세서에서 말하는 탄성률은, 특별히 달리 언급하지 않는 한, 소위 영률(Young's modulus)이고, 후술하는 실시예의 방식에 따라서 측정한다.

상기 고분자 필름은, 상기 제 2 방향에서의 최대 응력(MS2)과 상기 제 1 방향에서의 최대 응력(MS1)의 비율(MS1/MS2)이 1.5 이상일 수 있다. 상기 비율(MS1/MS2)은, 다른 예시에서 약 2 이상이거나, 10 이하, 9 이하, 8 이하, 7 이하, 6 이하, 5 이하, 4 이하, 3 이하 또는 2.5 이하일 수 있다.

상기 제 1 방향(예를 들면, 전술한 지상축 방향 또는 TD 방향)에서의 최대 응력(MS1)은, 약 80 내지 300 MPa의 범위 내일 수 있다. 상기 최대 응력(MS1)은, 다른 예시에서 약 90 MPa 이상, 약 100 MPa 이상, 약 110 MPa 이상, 약 120 MPa 이상, 약 130 MPa 이상, 약 140 MPa 이상, 약 150 MPa 이상, 약 155MPa 이상, 160MPa 이상, 165MPa 이상, 170MPa 이상, 175MPa 이상 또는 180MPa 이상, 185MPa 이상, 190MPa 이상 또는 195MPa 이상이거나, 약 300 MPa 이하, 약 290 MPa 이하, 약 280 MPa 이하, 약 270 MPa 이하, 약 260 MPa 이하, 약 250 MPa 이하, 약 245MPa 이하, 240MPa 이하, 235MPa 이하, 230MPa 이하, 225MPa 이하, 220MPa 이하, 215MPa 이하, 210MPa 이하, 205 MPa 이하 또는 200 MPa 이하일 수도 있다.

전술한 바와 같이 상기와 같은 큰 광학적, 기계적 및/또는 열적 비대칭성을 가지는 고분자 필름의 대표적인 예는 소위 고연신 폴리에스테르 필름 등으로 알려진 연신 PET(polyethyleneterephtalate) 필름이고, 이러한 필름은 업계에서 쉽게 입수할 수 있다.

상기 고분자 필름(기재 필름)의 일면에 상기 경화물층이 형성된 필름(기재 필름+경화물층 포함) 혹은 상기 기재 필름의 일면에 상기 경화물층이 형성되고, 다른 면에는 상기 평탄화층이 형성된 필름(평탄화층+기재 필름+경화물층 포함)은 상기 고분자 필름(기재 필름)과 동등하거나, 그로부터 제어된 비대칭성을 나타낼 수 있다.

예를 들면, 상기 필름(경화물층/기재 필름 포함 또는 경화물층/기재 필름/평탄화층 포함)은 면내의 임의의 제 1 방향에서의 필름(경화물층/기재 필름 포함 또는 경화물층/기재 필름/평탄화층 포함)(EF1)과 상기 제 1 방향과 수직을 이루는 제 2 방향에서의 필름(경화물층/기재 필름 포함 또는 경화물층/기재 필름/평탄화층 포함)(EF2)의 비율(EF1/EF2)이 1.5 이상일 수 있다. 상기 비율(EF1/EF2)은 다른 예시에서 약 2 이상, 2.5 이상, 3 이상 또는 3.5 이상일 수 있다. 상기 비율(EF1/EF2)은 다른 예시에서 약 20 이하, 18 이하, 16 이하, 14 이하, 12 이하, 10 이하, 8 이하, 7.5 이하, 7 이하, 6.5 이하, 6 이하, 5.5 이하, 5 이하, 4.5 이하, 4 이하, 3.5 이하 또는 3 이하일 수 있다.

본 명세서에서 언급하는 필름(경화물층/기재 필름 포함 또는 경화물층/기재 필름/평탄화층 포함)의 기계적 및/또는 열적 특성을 기술하면서 언급하는 제 1 및 제 2 방향은 상기 고분자 필름(기재 필름)의 기계적 및/또는 열적 특성을 언급하면서 기술한 제 1 및 제 2 방향과 각각 동일한 방향일 수 있다.

상기에서 필름(경화물층/기재 필름 포함 또는 경화물층/기재 필름/평탄화층 포함)의 상기 제 1 방향에서의 연신율(EF1)은, 1.5% 이상, 2% 이상, 2.5% 이상, 3% 이상, 3.5% 이상, 4% 이상, 4.5% 이상, 5% 이상, 5.5% 이상 또는 6% 이상일 수 있다. 상기 연신율은, 약 20% 이하, 15% 이하, 10% 이하 또는 5% 이하일 수 있다.

상기 고분자 필름의 제 1 방향에서의 연신율(E1)과 상기 필름(경화물층/기재 필름 포함 또는 경화물층/기재 필름/평탄화층 포함)의 상기 제 1 방향에서의 연신율(EF1)의 비율(E1/EF1)은, 예를 들면, 약 2 내지 20의 범위 내일 수 있다. 상기 비율(E1/EF1)은, 다른 예시에서 약 2.5 이상, 약 3 이상, 약 3.5 이상, 약 4 이상, 약 4.5 이상, 약 5 이상, 약 5.5 이상, 약 6 이상, 약 6.5 이상, 약 7 이상, 약 7.5 이상, 약 8 이상, 약 8.5 이상, 약 9 이상, 약 9.5 이상 또는 약 10 이상이거나, 약 19 이하, 18 이하, 17 이하, 16 이하, 15 이하, 14 이하, 13 이하, 12 이하, 11 이하, 10 이하, 9 이하, 8 이하 또는 7 이하일 수도 있다.

상기 필름(경화물층/기재 필름 포함 또는 경화물층/기재 필름/평탄화층 포함)은, 상기 제 2 방향에서의 열팽창 계수(CTEF2)와 상기 제 1 방향에서의 열팽창 계수(CTEF1)의 비율(CTEF2/CTEF1)이 1.5 이상일 수 있다. 상기 열팽창 계수(CTEF1, CTEF2)는 각각 40℃ 내지 80℃의 온도 범위 내에서 확인되는 값이다. 상기 비율(CTEF2/CTEF1)은, 다른 예시에서 약 2 이상이거나, 10 이하, 9 이하, 8 이하, 7 이하, 6 이하, 5 이하, 4 이하 또는 3 이하 정도일 수 있다.

상기 제 2 방향에서의 열팽창 계수(CTEF2)는 5 내지 150 ppm/K의 범위 내일 수 있다. 상기 열팽창 계수는, 약 10 ppm/K 이상, 15 ppm/K 이상, 20 ppm/K 이상, 25 ppm/K 이상, 30 ppm/K 이상, 35 ppm/K 이상, 40 ppm/K 이상, 45 ppm/K 이상, 50 ppm/K 이상, 약 55ppm/K 이상, 60 ppm/K 이상 또는 65 ppm/K 이상, 70 ppm/K 이상, 75 ppm/K 이상, 80 ppm/K 이상 또는 85 ppm/K 이상이거나, 140 ppm/K 이하, 130 ppm/K 이하, 120 ppm/K 이하, 100 ppm/K 이하, 95 ppm/K 이하 또는 90 ppm/K 이하일 수 있다.

상기 고분자 필름의 상기 제 2 방향에서의 열팽창 계수(CTE2)과 상기 필름(경화물층/기재 필름 포함 또는 경화물층/기재 필름/평탄화층 포함)의 상기 제 2 방향에서의 열팽창 계수(CTEF2)의 비율(CTE2/CTEF2)은, 예를 들면, 약 2 이하일 수 있다. 상기 비율(CTE2/CTEF2)은, 다른 예시에서 약 0 이상, 약 0.1 이상, 약 0.2 이상, 약 0.3 이상, 약 0.4 이상, 약 0.5 이상, 약 0.6 이상 또는 약 0.7 이상이거나, 약 1.5 이하, 1 이하, 0.9 이하, 0.85 이하 또는 0.8 이하일 수도 있다.

상기 필름(경화물층/기재 필름 포함 또는 경화물층/기재 필름/평탄화층 포함)은, 상기 제 2 방향에서의 탄성률(YMF2)과 상기 제 1 방향에서의 탄성률(YMF1)의 비율(YMF1/YMF2)이 1 이상일 수 있다. 상기 비율(YMF1/YMF2)은, 다른 예시에서 약 1.1 이상, 1.2 이상, 1.3 이상, 1.4 이상, 1.5 이상, 1.6 이상, 1.7 이상 또는 1.8 이상이거나, 10 이하, 9 이하, 8 이하, 7 이하, 6 이하, 5 이하, 4 이하, 3 이하, 2.5 이하, 2 이하, 1.9 이하, 1.8 이하 또는 1.8 이하일 수 있다.

상기 제 1 방향에서의 탄성률(YMF1)은, 약 2 내지 10 GPa의 범위 내일 수 있다. 상기 탄성률(YMF1)은, 다른 예시에서 약 2.5GPa 이상, 3GPa 이상, 3.5GPa 이상, 4GPa 이상 또는 4.5GPa 이상이거나, 약 9.5GPa 이하, 9GPa 이하, 8.5GPa 이하, 8GPa 이하, 7.5GPa 이하, 7GPa 이하, 6.5GPa 이하 또는 6GPa 이하, 5.5GPa 이하 또는 5GPa 이하일 수도 있다.

상기 고분자 필름의 제 1 방향에서의 탄성률(YM1)과 상기 필름(경화물층/기재 필름 포함 또는 경화물층/기재 필름/평탄화층 포함)의 상기 제 1 방향에서의 탄성률(YMF1)의 비율(YM1/YMF1)은, 예를 들면, 약 0.5 내지 10의 범위 내일 수 있다. 상기 비율(YM1/YMF1)은, 다른 예시에서 약 1 이상 또는 1 초과이거나, 9 이하, 8 이하, 7 이하, 6 이하, 5 이하, 4 이하, 3 이하, 2 이하 또는 1.5 이하일 수도 있다.

상기 필름(경화물층/기재 필름 포함 또는 경화물층/기재 필름/평탄화층 포함)은, 상기 제 2 방향에서의 최대 응력(MSF2)과 상기 제 1 방향에서의 최대 응력(MSF1)의 비율(MSF1/MSF2)이 1.5 이상일 수 있다. 상기 비율(MSF1/MSF2)은, 다른 예시에서 약 2 이상이거나, 10 이하, 9 이하, 8 이하, 7 이하, 6 이하, 5 이하, 4 이하 또는 3 이하일 수 있다.

상기 제 1 방향에서의 최대 응력(MSF1)은, 약 50 내지 200 MPa의 범위 내일 수 있다. 상기 최대 응력(MSF1)은, 다른 예시에서 약 55 MPa 이상, 약 60 MPa 이상, 약 65 MPa 이상, 약 70 MPa 이상, 약 75 MPa 이상, 약 80 MPa 이상, 약 85 MPa 이상, 약 90 MPa 이상 또는 95MPa 이상이거나, 약 190 MPa 이하, 약 180 MPa 이하, 약 170 MPa 이하, 약 160 MPa 이하, 약 150 MPa 이하, 약 145MPa 이하, 약 140MPa 이하, 약 135MPa 이하, 약 130MPa 이하, 약 125MPa 이하, 약 120MPa 이하, 약 115MPa 이하, 약 110MPa 이하, 약 105 MPa 이하, 90 MPa 이하 또는 약 80 MPa 이하일 수도 있다.

상기 고분자 필름의 제 1 방향에서의 최대 응력(MS1)과 상기 필름(경화물층/기재 필름 포함 또는 경화물층/기재 필름/평탄화층 포함)의 상기 제 1 방향에서의 최대 응력(MSF1)의 비율(MS1/MSF1)은, 예를 들면, 약 0.5 내지 10의 범위 내일 수 있다. 상기 비율(MS1/MSF1)은, 다른 예시에서 약 1 이상, 1.5 이상, 2 이상 또는 2.5 이상이거나, 9 이하, 8 이하, 7 이하, 6 이하, 5 이하, 4 이하 또는 3 이하일 수도 있다.

상기와 같이 광학적, 기계적 및/또는 열적으로 큰 비대칭성을 가지는 기재 필름의 적용을 통해 상기 언급된 필름의 물성이 확보되고, 이는 상기 필름이 다양한 용도에 효과적으로 적용될 수 있는 물성을 확보할 수 있도록 한다.

예를 들면, 본 출원의 상기 필름은, 우수한 유연성을 가질 수 있다. 본 출원의 필름은, 예를 들면, 상기 언급된 내스크래치성 및/또는 표면 경도를 나타내면서 동시에 우수한 유연성을 나타낼 수 있다. 예를 들면, 상기 필름은 단독으로 혹은 다른 막과 조합되어 1 내지 40 pi 정도의 최대 유지 곡률 반경을 나타낼 수 있다. 상기에서 최대 유지 곡률 반경이란, 상기 필름에 대해서 ASTM D522 규격에 따른 만드렐 테스트에 따라서 굴곡시켰을 때에 필름의 표면에서 결함이 관찰되지 않으면서 최대로 굴곡되었을 때의 곡률 반경을 의미한다.

상기 곡률 반경은 다른 예시에서 1.5pi 이상이거나, 38 pi 이하 정도, 36 pi 이하 정도, 34 pi 이하 정도, 32 pi 이하 정도, 30 pi 이하 정도, 28 pi 이하 정도, 26 pi 이하 정도, 24 pi 이하 정도, 22 pi 이하 정도, 20 pi 이하 정도, 18 pi 이하 정도, 16 pi 이하 정도, 14 pi 이하 정도, 12 pi 이하 정도, 10 pi 이하 정도, 8 pi 이하 정도, 6 pi 이하 정도, 4 pi 이하 정도 또는 3 pi 이하 정도일 수도 있다.

상기 본 출원의 필름에서 적용되는 기재 필름의 두께는 특별히 제한되지 않으며, 목적하는 용도를 고려한 일반적인 두께를 가질 수 있다.

상기와 같은 본 출원의 필름은 다양한 용도에 적용될 수 있다. 예를 들면, 상기 필름은 다양한 광학 용도에 적용될 수 있다.

따라서, 본 출원은 또한 광학 적층체에 대한 것이다. 상기 광학 적층체는 광학 기능성층 및 상기 기능성층의 적어도 일면에 형성된 상기 필름을 형성할 수 있다. 이 경우, 필름에서 경화물층 대비 상기 기재 필름이 상기 기능성층에 인접하여 위치할 수 있다.

상기에서 적용될 수 있는 광학 기능성층의 종류는 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 공지의 편광층이나 위상차층 등이 예시될 수 있다.

본 출원은, 투명성 또는 헤이즈와 같은 광학 물성과 경도 등과 같은 기계적 물성과 유연성이 우수하고, 표면의 형태가 다양한 용도에 적합하도록 제어되어 있으며, 상기 제어된 표면 형태의 내구성이 우수한 필름을 제공할 수 있다.

이하 실시예를 통해서 본 출원의 범위를 보다 구체적으로 설명하지만, 본 출원의 범위가 하기 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.

1. 헤이즈의 측정 방법

헤이즈는, 측정 기기(제조사: MCRL, 제품명: HM-150)를 사용하여 필름의 요철 면에 빛이 입사하도록 하여 투과 모드 방식으로 측정하였다.

2. 60도 그로스(gloss)의 측정 방법

60도 그로스는, 측정 기기(제조사: BYK, 제품명: BYK Micro Glossmeter·60^。4561)를 사용하여 필름의 요철 면에 빛이 입사하도록 하여 반사 모드 방식으로 측정하였다.

3. 산술평균조도 Ra의 측정 방법

필름의 요철 표면 등의 산술평균조도 Ra는, 나노시스템社의 optical profiler(모델명: NV2700)를 사용하여, KS B 0601 또는 ISO 4287/1 규격에 따라 확인하였으며, 두 규격이 일치하지 않을 경우에는 KS B 0601 규격에 따라 확인하였다.

4. 500 g 스틸울 저항도 평가

스틸울 저항도는, Liberon社에서 판매하는 등급 #0000의 스틸울을 이용하여 평가하였다. 측정 장비(제조사: 기베이엔티社, 상품명: KM-M4360)를 사용하여 상기 스틸울을 500 g의 하중으로 필름의 요철 표면에 접촉시키고, 좌우 이동시키면서 스틸울 저항도를 평가하였다. 이 때 접촉 면적은 대략 가로 및 세로가 각각 2cm 및 2 cm 정도(접촉 면적: 2cm²)가 되도록 하였다. 상기 이동은 약 60회/min의 속도로 수행하였고, 이동 거리는 대략 10 cm로 하였다. 육안 관찰로 반사를 관찰하여, 압흔, 긁힘 또는 파열 등이 확인될 때까지는 스틸울 테스트를 수행하였다.

5. 연필 경도 평가

연필 경도는, JIS 5600 규격에 따라서, 측정 장비(제조사: 충북테크社, 상품명: Pencil Hardness Tester)를 사용하여, 500 g의 하중 및 45도의 각도로 원통형의 연필심으로 필름의 요철 표면을 그으면서 압흔, 긁힘 또는 파열 등과 같은 결함의 발생이 확인될 때까지 연필심의 경도를 단계적으로 증가시키면서 측정하였다. 연필심의 속도는 약 1 mm/sec로 하였고, 이동 거리는 약 10 mm로 하였다. 이러한 테스트는 약 25℃의 온도 및 50%의 상대 습도에서 수행하였다.

6. GPC(Gel Permeation Chromatograph)

수평균분자량(Mn) 및 분자량 분포는 GPC(Gel permeation chromatography)를 사용하여 측정하였다. 5 mL 바이얼(vial)에 실리콘 수지 성분 등의 분석 대상 물일을 넣고, 약 1 mg/mL 정도의 농도가 되도록 THF(tetrahydro furan)에 희석한다. 그 후, Calibration용 표준 시료와 분석하고자 하는 시료를 syringe filter(pore size: 0.45 μm)를 통해 여과시킨 후 측정하였다. 분석 프로그램은 Agilent technologies 사의 ChemStation을 사용하였고, 시료의 elution time을 calibration curve와 비교하여 중량평균분자량(Mw) 및 수평균분자량(Mn)을 구하고, 그 비율(Mw/Mn)로 분자량분포(PDI)를 계산하였다. GPC의 측정 조건은 하기와 같다.

기기: Agilent technologies 사의 1200 series

컬럼: Polymer laboratories 사의 PLgel mixed B 2개 사용

용매: THF

컬럼온도: 35℃

샘플 농도: 1mg/mL, 200μL 주입

표준 시료: 폴리스티렌(Mp: 3900000, 723000, 316500, 52200, 31400, 7200, 3940, 485)

7. 필름의 인장 특성 및 열팽창 계수의 평가

필름의 탄성률(Young's modulus), 연신율(Elongation) 및 최대 응력(Max. stress)은 UTM(Universal Testing Machine) 장비(Instron 3342)를 이용하여, 상온(25℃에서 10 mm/min의 인장 속도로 힘을 가하여 규격에 따라 인장 강도(tensile strength) 시험을 진행하여 측정하였다. 이 경우에 각 시편은 폭이 약 10mm이고, 길이가 약 30mm가 되도록 재단하여 제조하였고, 상기 길이 방향의 양 끝단의 각 10mm씩을 테이핑하여 장비에 고정한 후에 평가를 진행하였다. 열팽창 계수는 TMA (Thermomechanical Analysis) 장비(Metteler toledo사, SDTA840)를 이용하여, 40℃에서 80℃로 온도를 10℃/분의 속도로 승온시키면서 길이 팽창 시험을 진행하여 규격에 따라 측정하였다. 측정 시에 시편의 측정 방향 길이는 10 mm로 하였고, 하중을 0.02N으로 설정하였다.

8. 요철 표면의 편포도(skewness) 측정 방법

요철 표면의 편포도(skewness)는, 나노시스템社의 optical profiler(모델명: NV2700)를 사용하여, ISO 25178 규격에 따라 확인하였다. 상기 과정에서 프로그램으로도 나노시스템社의 nanomap 프로그램을 사용하였다.

제조예 1. 필름 재료의 제조

실리콘 수지 성분의 제조

3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시(KBM5103, Shinetsu silicon사) 및 디메틸디메톡시실란(DMDMS, Sigma-Aldrich사)을 사용하여 제조하였다. 상기 모노머와 에탄올, TEA(triethyl amine) 및 물을 0.8:0.2:2.8:2.8:0.01 (KBM5103:DMDMS:에탄올:물:TEA)의 몰 비율로 상온에서 균일하게 혼합하고, 플라스크에서 80℃에서 교반하면서 약 12 시간 정도 반응시켜서 1차 반응물을 얻었다. 제조된 1차 반응물의 수평균분자량(Mn)은 약 8341.38 g/mol 정도이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.05 정도였다.

상기 1차 반응물을 70 Torr 정도의 진공 조건 및 50℃의 온도에서 약 3 시간 정도 유지하였다. 이 과정에서 온도가 감압에 의해 약 20℃ 정도로 떨어졌다. 이어서, 다시 진공 조건을 유지한 채로 온도를 80℃로 올려서 30분 유지함으로써 실리콘 수지 성분을 얻었다. 얻어진 실리콘 수지 성분은 하기 평균 단위식 A로 나타나는 성분으로서, 수평균분자량(Mn)이 약 13426.63g/mol이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 약 2.34 정도였다.

[평균 단위식 A]

(Me₂SiO_2/2)_0.2(AcSiO_3/2)_0.8

평균 단위식 A에서 Me는 메틸기이고, Ac는 3-아크릴로일옥시프로필기이다.

무용제형 코팅액의 제조

상기 제조된 실리콘 수지 성분을 트리메틸롤프로판 트리아크릴레이트(TMPTA)와 9:1의 중량 비율(실리콘 수지 성분:TMPTA)로 혼합하고, 상기 혼합물 100 중량부 대비 약 2.5 중량부의 개시제(Igarcure819)를 배합하여 무용제형 코팅액을 제조하였다.

제조예 2. 몰드용 눈부심 방지 필름(AG1 필름)의 제조

몰드용 눈부심 방지 필름은, 100μm 두께의 PET(poly(ethylene terephthalate)) 기재 필름(TA063, Toyobo社)상에 코팅액으로서, 비우레탄계 다관능성 아크릴레이트인 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트(dipentaerythritol hexaacrylate), 평균 입경(메디안 입경, D50 입경)이 약 1 μm인 실리카 입자, 불소계 슬립제(제조사: 3M, 제품명: FC4430) 및 라디칼 개시제(제조사: Dupont, 제품명: Igarcure819)를 100:12:0.1:2의 중량 비율(비우레탄계 다관능성 아크릴레이트:실리카입자:슬립제:라디칼개시제)로 포함하는 코팅액을 용매에 50중량% 정도의 고형분으로 희석하여 제조한 코팅액을 약 20 μm 정도의 두께로 코팅하고, 80℃에서 2분 정도 건조 후 H bulb(Fusion社)로 1J/cm² 정도의 에너지로 자외선 조사하여 제조하였다. 제조된 눈부심 방지 필름의 눈부심 방지 표면의 산술평균조도 Ra는 0.2 내지 0.4μm 수준이었고, 60도 그로스는 45%였다. 또한, 상기 눈부심 방지 표면의 편포도(skewness)는 대략 0.55 내지 0.6 정도였다.

제조예 3. 몰드용 눈부심 방지 필름(AG2 필름)의 제조

코팅액으로서, 비우레탄계 다관능성 아크릴레이트인 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트(dipentaerythritol hexaacrylate), 평균 입경(메디안 입경, D50 입경)이 약 1 μm인 실리카 입자, 불소계 슬립제(제조사: 3M, 제품명: FC4430) 및 라디칼 개시제(제조사: Dupont, 제품명: Igarcure819)를 100:9:0.1:2의 중량 비율(비우레탄계 다관능성 아크릴레이트:실리카입자:슬립제:라디칼개시제)로 포함하는 코팅액을 용매에 50중량% 정도의 고형분으로 희석하여 제조한 코팅액을 사용한 것을 제외하고는 제조예 2와 동일하게 눈부심 방지 필름을 제조하였다. 그 필름의 눈부심 방지 표면의 산술평균조도 Ra는 0.2 내지 0.4μm 수준이었고, 60도 그로스는 65%였다. 또한, 상기 눈부심 방지 표면의 편포도(skewness)는 대략 0.75 내지 0.85 정도였다.

실시예 1.

일면의 약 40μm의 두께의 평탄화층이 형성된 PET(poly(ethylene terephthalate)) 필름의 평탄화층이 없는 면에 제조예 1의 무용제형 코팅액을 약 40μm 정도의 두께로 코팅하였다. 상기 PET 필름으로는 Toyobo社의 SRF 필름을 사용하였다. 상기 SRF 필름의 면내 위상차(Rin)는 약 8,400nm였고, 두께 방향 위상차(Rth)는 약 9,200 nm였다. 또한, 상기 SRF 필름의 TD 방향의 열팽창 계수(CTE1), 탄성률(YM1), 최대 응력(MS1) 및 연신율(E1)은, 각각 27 ppm/K, 5.7GPa, 199MPa 및 44.5%였고, MD 방향의 열팽창 계수(CTE2), 탄성률(YM2), 최대 응력(MS2) 및 연신율(E2)은, 각각 67ppm/K, 2.3GPa, 81MPa 및 6.8%였다.

이어서, D 벌브(D bulb, Fusion사)를 사용하여 자외선을 2 J/cm²의 에너지로 이어서 상기 코팅층(평탄화층의 반대측에 형성된 코팅층)상에 제조예 3의 눈부심 방지 필름(AG2 필름)의 눈부심 방지 표면을 기포 혹은 공기층이 혼입되지 않도록 접촉시킨 상태로 D 벌브(D bulb, Fusion사)를 사용하여 자외선을 2 J/cm²의 에너지로 상기 눈부심 방지 필름을 투과하여 코팅층에 조사되도록 하는 방향에서 조사하고, 또한 PET 필름 측에 추가 조사하여 기재 필름과 경화물층을 포함하는 필름을 제조하였다. 제조된 경화물층의 눈부심 방지 표면과 접하던 표면에는 요철 구조가 일체적으로 형성되었다. 상기 요철 표면에 대해서 측정한 헤이즈는 약 5.2% 정도였고, 60도 그로스는 65.8% 정도였으며, 산술평균조도 Ra는 약 0.26μm 정도였다. 또한, 상기 요철 표면의 스틸울 저항도는 10000회 이상이었으며, 연필 경도는 약 9H였다.

한편, 상기 언급된 방식으로 스틸울 테스트를 1,500회 수행한 후에 측정한 상기 경화물 요철 표면의 헤이즈는 약 5.6% 정도였고, 60도 그로스는 65.1% 정도였으며, 산술평균조도 Ra는 약 0.29μm 정도였다.

따라서, 상기 수식 1 내지 3의 △H, △G 및 △R는 각각 약 0.01, 0.05 및 0이었다.

또한, 상기 필름(평탄화층/기재 필름/경화물층)의 기재 필름의 TD 방향의 열팽창 계수(CTEF1), 탄성률(YMF1), 최대 응력(MSF1) 및 연신율(EF1)은, 각각 42 ppm/K, 4.5GPa, 76MPa 및 6.4%였고, MD 방향의 열팽창 계수(CTEF2), 탄성률(YMF2), 최대 응력(MSF2) 및 연신율(EF2)은, 각각 87ppm/K, 2.8GPa, 33MPa 및 1.6%였다.

상기 요철 표면의 상기 광학 프로파일에서의 편포도(skewness)는 약 -0.87 정도였다.

실시예 2.

실시예 1과 동일한 평탄화층이 형성된 PET(poly(ethylene terephthalate)) 필름의 평탄화층이 없는 면에 제조예 1의 무용제형 코팅액을 약 20μm 정도의 두께로 코팅하였다. 이어서 상기 코팅액상에 제조예 2의 눈부심 방지 필름의 눈부심 방지 표면을 실시예 1과 동일하게 접촉 및 가압한 상태로 PET 필름측에서 D 벌브(D bulb, Fusion사)를 사용하여 자외선을 4 J/cm²의 에너지로 조사하여 기재 필름과 경화물층을 포함하는 필름을 제조하였다. 제조된 경화물층의 눈부심 방지 표면과 접하던 표면에는 요철 구조가 일체적으로 형성되었다. 상기 요철 표면에 대해서 측정한 헤이즈는 약 21.4% 정도였고, 60도 그로스는 46.2% 정도였으며, 산술평균조도 Ra는 약 0.31μm 정도였다. 또한, 상기 요철 표면의 스틸울 저항도는 10000회 이상이었으며, 연필 경도는 약 9H였다.

한편, 상기 언급된 방식으로 스틸울 테스트를 1,500회 수행한 후에 측정한 상기 경화물 요철 표면의 헤이즈는 약 21.3% 정도였고, 60도 그로스는 46.4% 정도였으며, 산술평균조도 Ra는 약 0.34μm 정도였다.

따라서, 상기 수식 1 내지 3의 △H, △G 및 △R는 각각 약 0.01, 0.01 및 0이었다.

또한, 상기 필름(평탄화층/기재 필름/경화물층)의 기재 필름의 TD 및 MD 방향의 열팽창 계수(CTEF1), 탄성률(YMF1), 최대 응력(MSF1) 및 연신율(EF1)은, 실시예 1의 경우와 유사하게 확인되었다.

상기 요철 표면의 상기 광학 프로파일에서의 편포도(skewness)는 약 -0.55 정도였다.

실시예 3.

실시예 1과 달리 평탄화층이 없는 PET(poly(ethylene terephthalate)) 필름을 적용하였다. PET 필름으로는 실시예 1과 동일한 SRF 필름을 사용하였다. 상기 PET 필름의 일면에 제조예 1의 무용제형 코팅액을 약 20μm 정도의 두께로 코팅하였다. 이어서 상기 코팅액상에 제조예 3의 눈부심 방지 필름의 눈부심 방지 표면을 실시예 1과 동일하게 접촉 및 가압한 상태로 PET 필름측에서 D 벌브(D bulb, Fusion사)를 사용하여 자외선을 2 J/cm²의 에너지로 조사하여 기재 필름과 경화물층을 포함하는 필름을 제조하였다. 제조된 경화물층의 눈부심 방지 표면과 접하던 표면에는 요철 구조가 일체적으로 형성되었다. 상기 요철 표면에 대해서 측정한 헤이즈는 약 5.1% 정도였고, 60도 그로스는 66.1% 정도였으며, 산술평균조도 Ra는 약 0.26μm 정도였다. 또한, 상기 요철 표면의 스틸울 저항도는 10000회 이상이었으며, 연필 경도는 약 8H였다.

한편, 상기 언급된 방식으로 스틸울 테스트를 1,500회 수행한 후에 측정한 상기 경화물 요철 표면의 헤이즈는 약 5.4% 정도였고, 60도 그로스는 66.0% 정도였으며, 산술평균조도 Ra는 약 0.31μm 정도였다.

또한, 상기 필름(평탄화층/기재 필름/경화물층)의 기재 필름의 TD 방향의 탄성률(YMF1), 최대 응력(MSF1) 및 연신율(EF1)은, 각각 4.8GPa, 96MPa 및 4.4%였고, MD 방향의 탄성률(YMF2), 최대 응력(MSF2) 및 연신율(EF2)은, 각각 2.6GPa, 39MPa 및 1.9%였다.

상기 요철 표면의 상기 광학 프로파일에서의 편포도(skewness)는 약 -0.75 정도였다.

실시예 4.

실시예 1과 달리 평탄화층이 없는 PET(poly(ethylene terephthalate)) 필름을 적용하였다. PET 필름으로는 실시예 1과 동일한 SRF 필름을 사용하였다. 상기 PET 필름의 일면에 제조예 1의 무용제형 코팅액을 약 20μm 정도의 두께로 코팅하였다. 이어서 상기 코팅액상에 제조예 2의 눈부심 방지 필름의 눈부심 방지 표면을 실시예 1과 동일하게 접촉 및 가압한 상태로 PET 필름측에서 D 벌브(D bulb, Fusion사)를 사용하여 자외선을 2 J/cm²의 에너지로 조사하여 기재 필름과 경화물층이 형성된 필름을 제조하였다. 제조된 경화물층의 눈부심 방지 표면과 접하던 표면에는 요철 구조가 일체적으로 형성되었다. 상기 요철 표면에 대해서 측정한 헤이즈는 약 21.1% 정도였고, 60도 그로스는 47.4% 정도였으며, 산술평균조도 Ra는 약 0.32μm 정도였다. 또한, 상기 요철 표면의 스틸울 저항도는 10000회 이상이었으며, 연필 경도는 약 7H였다.

한편, 상기 언급된 방식으로 스틸울 테스트를 1,500회 수행한 후에 측정한 상기 경화물 요철 표면의 헤이즈는 약 21.2% 정도였고, 60도 그로스는 46.9% 정도였으며, 산술평균조도 Ra는 약 0.36μm 정도였다.

따라서, 상기 수식 1 내지 3의 △H, △G 및 △R는 각각 약 0.01, 0.03 및 0이었다.

또한, 상기 필름(평탄화층/기재 필름/경화물층)의 기재 필름의 TD 및 MD 방향의 탄성률(YMF1), 최대 응력(MSF1) 및 연신율(EF1)은, 각각 실시예 3과 유사하였다.

상기 요철 표면의 상기 광학 프로파일에서의 편포도(skewness)는 약 -0.58 정도였다.

비교예 1.

눈부심 방지층 형성을 위한 공지의 코팅액으로서, 평균 관능기 2 관능 이상의 비우레탄계 다관능 아크릴레이트를 60 중량% 이상 포함하는 코팅액을 TAC 필름(50 μm, Fuji사의 UV 컷 기능을 가지는 TAC 필름)상에 약 15μm 정도의 두께로 코팅하고, 80℃의 온도에서 2분 유지하여, 건조한 후에 Fusion사의 H bulb를 통해 1 J/cm²의 에너지로 자외선을 조사하여 요철 구조를 가지는 표면을 형성하였다. 상기 요철 표면에 대해서 측정한 헤이즈는 약 22.1% 정도였고, 60도 그로스는 21.5% 정도였으며, 산술평균조도 Ra는 약 0.32μm 정도였다. 또한, 상기 요철 표면의 스틸울 저항도는 500회 이하이었으며, 연필 경도는 약 3H였다.

한편, 상기 언급된 방식으로 스틸울 테스트를 1,500회 수행한 후에 측정한 상기 요철 표면의 헤이즈는 약 38.4% 정도였고, 60도 그로스는 14.2% 정도였으며, 산술평균조도 Ra는 약 83μm 정도였다.

따라서, 상기 수식 1 내지 3의 △H, △G 및 △R는 각각 약 1.15, 0.49 및 5.51이었다.

상기 요철 표면의 상기 광학 프로파일에서의 편포도(skewness)는 약 0.33 정도였다.

비교예 2.

눈부심 방지층 형성을 위한 공지의 코팅액으로서, 평균 관능기 2관능 이상의 비우레탄계 다관능 아크릴레이트 60 중량% 이상 포함하는 코팅액을 TAC 필름(50 μm, Fuji사의 UV 컷 기능을 가지는 TAC 필름)상에 약완전 건조 후 약 15μm 정도의 두께로 코팅하고, 80℃의 온도에서 2분 유지하여, 건조한 후에 Fusion사의 H bulb를 통해 1 J/cm²의 에너지로 자외선을 조사하여 요철 구조를 가지는 표면을 형성하였다. 상기 요철 표면에 대해서 측정한 헤이즈는 약 28.2% 정도였고, 60도 그로스는 19.6% 정도였으며, 산술평균조도 Ra는 약 0.23μm 정도였다. 또한, 상기 요철 표면의 스틸울 저항도는 500회 이하이었으며, 연필 경도는 약 3H였다.

한편, 상기 언급된 방식으로 스틸울 테스트를 1,500회 수행한 후에 측정한 상기 요철 표면의 헤이즈는 약 40.1% 정도였고, 60도 그로스는 14.6% 정도였으며, 산술평균조도 Ra는 약 93μm 정도였다.

따라서, 상기 수식 1 내지 3의 △H, △G 및 △R는 각각 약 0.79, 0.33 및 6.18이었다.

상기 요철 표면의 상기 광학 프로파일에서의 편포도(skewness)는 약 0.51 정도였다.

Claims

적어도 일면에 산술평균조도(Ra)가 0.01 μm 내지 2 μm의 범위 내이고, 헤이즈가 3% 내지 50%의 범위 내이며, 60도 그로스가 10% 내지 90%인 요철 표면이 형성된 에너지선 경화성 조성물의 경화물층을 포함하는 필름.
제 1 항에 있어서, 에너지선 경화성 조성물은, 실리콘계 에너지선 경화성 조성물, 아크릴계 에너지선 경화성 조성물 또는 에폭시계 에너지선 경화성 조성물인 필름.
제 1 항에 있어서, 에너지선 경화성 조성물은, 실리콘 수지 성분 및 반응성 희석제를 포함하는 필름.
제 3 항에 있어서, 실리콘 수지 성분은 하기 평균 단위식 1로 나타나는 필름:
[평균 단위식 1]
(R¹ ₃ SiO_1/2)_a(R² ₂SiO_2/2)_b(R³SiO_3/2)_c(SiO_4/2)_d(RO_1/2)_e
평균 단위식 1에서 R¹ 내지 R³는 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아릴기 또는 에너지선 경화성기이고, R¹ 내지 R³가 복수 존재하는 경우에 각각은 서로 동일하거나 상이하며, R¹ 내지 R³ 중 적어도 하나는 에너지선 경화성기이고, a, b, c 및 d는, a+b+c+d를 1로 환산하였을 때에 각각 0≤a≤1, 0<b≤1, 0<c≤1 및 0≤d≤1을 만족하며, e는 e/(a+b+c+d)가 0 내지 0.4의 범위 내가 되는 수이다.
제 3 항에 있어서, 실리콘 수지 성분의 중량평균분자량이 1만 내지 5만의 범위 내이고, 분자량 분포가 2.3 이하인 필름.
제 3 항에 있어서, 반응성 희석제가, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물 또는 아크릴레이트 화합물인 필름.
제 3 항에 있어서, 에너지선 경화성 조성물은, 실리콘 수지 성분 100 중량부 대비 1 내지 200 중량부의 반응성 희석제를 포함하는 필름.
제 1 항에 있어서, 요철 표면의 연필 경도가 5H 이상인 필름.
제 1 항에 있어서, 요철 표면은 1,500회 이상의 500 g 스틸울 저항도를 나타내는 필름.
제 1 항에 있어서, 기재 필름을 추가로 포함하고, 경화물층이 상기 기재 필름의 일면 또는 양면에 형성되어 있는 필름.
제 10 항에 있어서, 제 1 방향에서의 열팽창 계수(CTEF1)와 상기 제 1 방향과 수직한 제 2 방향에서의 열팽창 계수(CTEF2)의 비율(CTEF2/CTEF1)이 1.5 이상인 필름.
제 11 항에 있어서, 제 2 방향에서의 열팽창 계수(CTEF2)는 5 내지 150 ppm/K의 범위 내인 필름.
제 10 항에 있어서, 제 1 방향에서의 탄성률(YMF1)과 상기 제 1 방향과 수직한 제 2 방향에서의 탄성률(YMF2)의 비율(YMF1/YMF2)이 1 이상인 필름.
제 13 항에 있어서, 제 1 방향에서의 탄성률(YMF1)는 2 내지 10 GPa의 범위 내인 필름.
제 10 항에 있어서, 제 1 방향에서의 최대 응력(MSF1)과 상기 제 1 방향과 수직한 제 2 방향에서의 최대 응력(MSF2)의 비율(MSF1/MSF2)이 1.5 이상인 필름.
제 15 항에 있어서, 제 1 방향에서의 최대 응력(MSF1)는 50 내지 200 MPa의 범위 내인 필름.
제 10 항에 있어서, 제 1 방향에서의 연신율(EF1)과 상기 제 1 방향과 수직한 제 2 방향에서의 연신율(EF2)의 비율(EF1/EF2)이 1.5 이상인 필름.
제 17 항에 있어서, 제 1 방향에서의 연신율(EF1)는 1.5% 이상인 필름.
광학 기능층 및 상기 광학 기능층의 일면에 형성된 제 1 항의 필름을 포함하는 광학 적층체.