JP2022502388A - Shp2の活性を阻害するための化合物及び組成物の製造 - Google Patents

Shp2の活性を阻害するための化合物及び組成物の製造 Download PDF

Info

Publication number
JP2022502388A
JP2022502388A JP2021516762A JP2021516762A JP2022502388A JP 2022502388 A JP2022502388 A JP 2022502388A JP 2021516762 A JP2021516762 A JP 2021516762A JP 2021516762 A JP2021516762 A JP 2021516762A JP 2022502388 A JP2022502388 A JP 2022502388A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
protecting group
group
secondary amino
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2021516762A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7386855B2 (ja
Inventor
フェイ,ヂォンボ
ヂァン,ハオ
ジア,ファンチィン
ワン,フィ
ワン,ジェンファ
リ,ウェイ
リン,シャオフィ
ミン,ヂォンチェン
Original Assignee
ノバルティス アーゲー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ノバルティス アーゲー filed Critical ノバルティス アーゲー
Publication of JP2022502388A publication Critical patent/JP2022502388A/ja
Priority to JP2023152498A priority Critical patent/JP2024009810A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7386855B2 publication Critical patent/JP7386855B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D491/00Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00
    • C07D491/02Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D491/10Spiro-condensed systems
    • C07D491/107Spiro-condensed systems with only one oxygen atom as ring hetero atom in the oxygen-containing ring
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K31/00Medicinal preparations containing organic active ingredients
    • A61K31/33Heterocyclic compounds
    • A61K31/395Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins
    • A61K31/435Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins having six-membered rings with one nitrogen as the only ring hetero atom
    • A61K31/438The ring being spiro-condensed with carbocyclic or heterocyclic ring systems
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K31/00Medicinal preparations containing organic active ingredients
    • A61K31/33Heterocyclic compounds
    • A61K31/395Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins
    • A61K31/495Heterocyclic compounds having nitrogen as a ring hetero atom, e.g. guanethidine or rifamycins having six-membered rings with two or more nitrogen atoms as the only ring heteroatoms, e.g. piperazine or tetrazines
    • A61K31/496Non-condensed piperazines containing further heterocyclic rings, e.g. rifampin, thiothixene or sparfloxacin
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P35/00Antineoplastic agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D211/00Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
    • C07D211/04Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D211/06Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D211/08Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms
    • C07D211/18Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • C07D211/20Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms with hydrocarbon radicals, substituted by singly bound oxygen or sulphur atoms
    • C07D211/22Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms with hydrocarbon radicals, substituted by singly bound oxygen or sulphur atoms by oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D211/00Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
    • C07D211/04Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D211/06Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D211/08Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms
    • C07D211/18Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • C07D211/26Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms with hydrocarbon radicals, substituted by nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D211/00Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
    • C07D211/04Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D211/06Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D211/36Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D211/60Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C07D211/62Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals attached in position 4
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D401/00Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
    • C07D401/02Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
    • C07D401/12Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

本発明は、式Iの化合物又はその薬学的に許容される塩、酸共結晶、水和物若しくは他の溶媒和物の製造方法であって、以下の反応スキーム:【化1】(式中、LG、A、n、m及びpが、本発明の概要において定義されるとおりである)にしたがって、式IIの化合物を、式IIIの化合物と反応させることを含む方法に関する。

Description

本発明は、SHP2の活性を阻害することが可能な化合物の製造方法及びその中で有用な中間体に関する。
Src相同−2ホスファターゼ(SHP2)は、増殖、分化、細胞周期維持及び遊走を含む複数の細胞機能に寄与するPTPN11遺伝子によってコードされる非受容体タンパク質チロシンホスファターゼである。SHP2は、Rasマイトジェン活性化タンパク質キナーゼ、JAK−STAT又はホスホイノシトール3−キナーゼ−AKT経路を介したシグナル伝達に関与する。
式I:
Figure 2022502388

で表される(3S,4S)−8−(6−アミノ−5−((2−アミノ−3−クロロピリジン−4−イル)チオ)ピラジン−2−イル)−3−メチル−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン−4−アミンという名称の化合物;並びにその薬学的に許容される塩が、SHP2の阻害剤として国際公開第2015/107495 A1号パンフレットに記載されている。様々な治療方法及び処置方法も記載されている。
Src相同−2ホスファターゼ(SHP2)は、増殖、分化、細胞周期維持及び遊走を含む複数の細胞機能に寄与するPTPN11遺伝子によってコードされる非受容体タンパク質チロシンホスファターゼである。SHP2は、Rasマイトジェン活性化タンパク質キナーゼ、JAK−STAT又はホスホイノシトール3−キナーゼ−AKT経路を介したシグナル伝達に関与する。
SHP2は、2つのN末端Src相同2ドメイン(N−SH2及びC−SH2)、触媒ドメイン(PTP)、及びC末端尾部を有する。2つのSH2ドメインは、SHP2の細胞内局在化及び機能調節を制御する。分子は、N−SH2及びPTPドメインの両方からの残基に関与する結合ネットワークによって安定される不活性の自己阻害立体構造で存在する。例えば、サイトカイン又は成長因子による刺激が、触媒部位の露出につながり、SHP2の酵素的活性化をもたらす。
PTPN11遺伝子及び続いてSHP2における突然変異は、いくつかのヒト疾患、例えばヌーナン症候群、レオパード症候群、若年性骨髄単球性白血病、神経芽細胞腫、黒色腫、急性骨髄性白血病並びに乳房、肺及び結腸の癌において同定されている。したがって、SHP2は、様々な疾患の治療のための新規な治療法の開発のための非常に魅力的な標的である。本発明にしたがって製造され得る化合物は、SHP2の活性を阻害する小分子の必要性を満たす。
国際公開第2015/107495 A1号パンフレットには、以下の反応スキーム:
Figure 2022502388

によって特徴付けられ得る式Iの化合物の製造方法が記載されている。
次に、上記の工程gから得られる最後の化合物は、以下のように反応された。
Figure 2022502388
このように、式Iの化合物が得られる(上記のスキーム中の最後の化合物)。この合成は、示される少なくとも9つの工程を必要とし、実験規模の合成に適している。
この製造は、困難であり、例えば、上記の反応スキームの工程gにおけるジアステレオマーの分離を必要とする。さらに、中間体の多くが結晶化しないため、それらは結晶化によるより高い純度を利用せずに使用される必要がある。
さらに、クロマトグラフィー工程が、このプロセスにおいて使用される。
さらに、上記のスキーム1中の反応のためのアルデヒド出発材料は、文献から公知の化合物であるが、大量に利用できず(例えば、Aldlab Chemicalsから、通常、最大でグラム規模)、これは、いくらかの固有の不安定性を示すため、それは調製され、直ぐに使用されるのが有利である。大規模な合成は、例えば、キログラム又はより多い量を必要とする。
さらに、環化(スキーム1の工程d)は、所望の生成物の遊離体、トシレートを伴い、中程度の収率を有するに過ぎず、さらなる不純物も存在するため、分離が必要とされる。
スキーム1)の工程eのケトン基質生成物は、エナンチオ純粋なアルデヒド出発材料が使用される場合でも、部分的にラセミ化され、工程f(実際に2つの工程、還元及び縮合を含む)において4つのジアステレオマーの形成をもたらし、95:5の比率の2つの主要なジアステレオマーをもたらし、これは、さらなる分離を必要とするであろう。
さらに、この合成は、以下のスキーム:
Figure 2022502388

に示されるように、多くの油性中間体を含み、したがって精製のために理想的でない。
したがって、このプロセスは、特に実験規模で実現可能であるが、より大規模な製造には理想的でない。
スキーム2中の反応bにおいて加えられる化合物は、国際公開第2015/1107495 A1号パンフレットにしたがって、以下のように「中間体10」として得られる:
Figure 2022502388
この合成も実現可能であるが、アミノ化工程「a」が中程度の収率(例えば約30〜40%)をもたらすに過ぎないため、いくらかの修正が望ましいであろう。
一態様において、本発明は、上述される式Iの化合物、又はその薬学的に許容される塩、酸共結晶、水和物若しくは他の溶媒和物の製造方法を提供する。
さらなる態様において、本発明は、上述される式Iの化合物、又はその薬学的に許容される塩、酸共結晶、水和物若しくは他の溶媒和物の製造方法であって、以下の反応スキーム:
Figure 2022502388

(式中、LGが脱離基であり、Aが、プロトン酸のアニオンであり、式IIの塩が電気的に中性であるように、n、m及びpが、整数、好ましくは、1、2又は3であり、好ましくは、mが1であり、nが1であり、pが2である)にしたがって、式IIの化合物を、式IIIの化合物と反応させることを含む方法を提供し;ここで、式IIの化合物は、好ましくは、式IVの化合物:
Figure 2022502388

を(i)脱保護すること又は(ii)還元させることのいずれか(ここで、(i)の場合、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基であり、Rが水素であり、又は(ii)の場合、Rが第二級アミノ保護基であり、Rがアミノであり、Rがヒドロキシルである)、及び必要である場合(すなわち、酸が、例えば脱保護のため、既に存在しない場合)式IIIの得られた化合物:
Figure 2022502388

を式HAの酸と反応させて、式IIの化合物を得ることによって得られる。
直前に記載され、及び本発明の好ましい第2の態様として記載される(i)及び(ii)の両方の場合、式IIの化合物の製造は、第1の工程、好ましくは、それに続く、以下に定義される本発明に係るさらなる実施形態によって定義されるさらなる工程において、式Vの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rがカルボキシル(−COOH)保護基である)を、強塩基の存在下で、下式のLラクチド:
Figure 2022502388

と反応させて、式VIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが、式IVの化合物について定義されるとおりであり、Rが、非置換若しくは置換アルキル、非置換若しくは置換シクロアルキル又は非置換若しくは置換アリールである)を得ること、或いは式VIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが、式IVの化合物について定義されるとおりである)を得ることを含む。
これらの2つの反応変形例自体のそれぞれも、本発明の一実施形態である。
本発明のさらなる実施形態として、又は好ましくはさらなる工程において、直前に記載される式VIの化合物は、ヒドロキシルアミン、又はその塩で環化されるか、或いは式VIの化合物は、ヒドロキシルアミン、又はその塩で環化されて、それぞれ式VIIのヒドロキシルアミン化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが、式IVの化合物について定義されるとおりである)が得られる。
本発明のさらなる実施形態として、又は好ましくはさらなる工程において、式VIIの化合物は、(a−i)水素化されて、式VIIIのアミノ化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが、式IVの化合物について定義されるとおりである)が得られるか、又は(a−ii)還元条件下でアシル化されて、式VIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが、式IVの化合物について定義されるとおりであり、が、アシル化アミノ(=アシル保護されたアミノ)である)が得られる。
本発明の別の好ましい実施形態において、又は好ましくは、直前に記載される反応(a−i)後のさらなる工程において、式VIIIの化合物は、(b−i)還元されて、式IXの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが、式IVの化合物について定義されるとおりである)が得られ、この化合物は、式IVの化合物(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rがアミノであり、Rがヒドロキシルである)であり;ここで、式IXの化合物の定義に含まれる上記の対応する式IVの化合物について記載される還元工程(ii)が、好ましくは、それ自体の本発明に係る実施形態として、又はより好ましくは、さらなる工程において、トリアルキルシランを用いて行われて、上に定義される式HAの酸のその後の添加の後、上述される式IIの化合物が得られるか;
或いは(c−i)、それ自体の本発明に係る実施形態として、又は好ましくはさらなる工程において、アミノ保護基を挿入する化合物と反応されて、式Xの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが、式IVの化合物について定義されるとおりであり、Rが、保護されたアミノ基である)が得られ、式Xの化合物は、それ自体の本発明に係る実施形態として、又は好ましくはさらなる工程において、式XIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが、式IVの化合物について定義されるとおりであり、Rが、保護されたアミノ基である)へと還元され;式XIの化合物は、それ自体の本発明に係る実施形態として、又は好ましくはさらなる工程において、ヒドロキシメチル基のヒドロキシ(環に直接結合された)において、式LG−Xの脱離基形成剤(式中、LGが、それが結合されるヒドロキシとともに、脱離基LG2を形成することが可能な求電子基であり、Xがハロゲンである)と反応されて、式XIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが、式IVの化合物について定義されるとおりであり、Rが、保護されたアミノ基であり、LG2が脱離基である)が得られ;
次に、式XIIの化合物は、それ自体の本発明に係る実施形態として、又は好ましくはさらなる工程において、塩基性条件下で環化されて、式XIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rは第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である)が得られ、これは、式IVの化合物(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基であり、Rが水素である)であり、ここで、式XIIIの化合物の、上記の対応する式IVの化合物について記載される脱保護工程(i)は、好ましくは、それ自体の本発明に係る実施形態として、又はより好ましくは、さらなる工程において、式IIの化合物について定義されるような酸HAを用いて行われて、上述される式IIの化合物が得られる。
本発明の別の好ましい実施形態において、又は好ましくは、上述される反応(a−ii)の後のさらなる工程において、式VIIIの化合物は、(b−ii)、それ自体の本発明に係る実施形態として、又は好ましくはさらなる工程において、キラル水素化触媒の存在下で水素化されて、式Xの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが、式IVの化合物について定義されるとおりであり、がアシル化アミノ基である)が得られ、式Xの化合物は、それ自体の本発明に係る実施形態として、又は好ましくはさらなる工程において、式XIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが、式IVの化合物について定義されるとおりであり、がアシル化アミノ基である)へと還元され;
式XIの化合物は、それ自体の本発明に係る実施形態として、又は好ましくはさらなる工程において、ヒドロキシメチル基のヒドロキシ(式XI中の環に直接結合されたもの)において、式LG−Xの脱離基形成剤(式中、LGが、それが結合されるヒドロキシとともに、脱離基LG2を形成することが可能な求電子基であり、Xがハロゲンである)と反応されて、式XIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが、式IVの化合物について定義されるとおりであり、Rが、保護されたアミノ基であり、LG2が脱離基である)を得て;
次に、式XIIの化合物は、それ自体の本発明に係る実施形態として、又は好ましくはさらなる工程において、塩基性条件下で環化されて、式XIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノ基である)が得られ、これは、式IVの化合物(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、アシル化(=アシル保護された)アミノ基であり、Rが水素である)に相当し;ここで、式XIIIの化合物の、上記の対応する式IVの化合物について記載される脱保護工程(i)(本明細書において脱保護は、脱アシル化を意味する)は、好ましくは、それ自体の本発明に係る実施形態として、又はより好ましくは、さらなる工程において、式IIの化合物について定義されるような酸HAを用いて行われて、上述される式IIの化合物が得られる。
以下の新規な中間体のそれぞれも、本発明の実施形態である。
式IIの(塩)化合物:
Figure 2022502388

(式中、Aが、プロトン酸のアニオン、特にClであり、式IIの塩が電気的に中性であるように、n、m及びpが、整数、好ましくは、1、2又は3であり、特にここで、n及びmが1であり、pが2である)。
式VIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基、特にtert−ブチルオキシカルボニルであり、Rが、非置換若しくは置換アルキル、非置換若しくは置換シクロアルキル又は非置換若しくは置換アリール、特にエチルである)。
式VIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基、特にtert−ブトキシカルボニルである)。
式VIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基、特にtert−ブトキシカルボニルである)。
式VIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基、特にtert−ブトキシカルボニルである)。
式IXの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基、特にtert−ブトキシカルボニルである)。
式VIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基、特にtert−ブトキシカルボニルであり、が、アシル化アミノ、特にアセチルアミノである)。
式Xの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基、特にtert−ブトキシカルボニルであり、が、アシル化アミノ、特にアセチルアミノである)。
式XIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基、特にtert−ブトキシカルボニルであり、が、アシル化アミノ、特にアセチルアミノである)。
式XIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基、特にtert−ブトキシカルボニルであり、が、アシル化アミノ、特にアセチルアミノであり、LG2が脱離基、特にトルオールスルホニルオキシである)。
式XIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基、特にtert−ブトキシカルボニルであり、がアシル化アミノ基、特にアセチルアミノである)。
式Xの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基、特にtert−ブトキシカルボニルであり、Rが、保護されたアミノ基、特にtert−ブトキシカルボニルアミノである)。
式XIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基、特にtert−ブトキシカルボニルであり、Rが、保護されたアミノ基、特にtert−ブトキシカルボニルアミノである)。
式XIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基、特にtert−ブトキシカルボニルであり、Rが、保護されたアミノ基、特にtert−ブトキシカルボニルアミノであり、LG2が脱離基、特にトルオールスルホニルオキシである)。
式XIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基、特にtert−ブトキシカルボニルであり、Rが、保護されたアミノ基、特にtert−ブトキシカルボニルアミノである)。
記載される化合物は、いくつかの例を挙げるだけでも、遊離形態で又は塩形成基(イミノ又はアミノなど)が存在する場合はその塩形態、特に酸付加塩、例えば、ハロゲン化水素、例えばHCl、硫酸若しくはリン酸などの無機酸との塩、及び/又はスルホン酸、例えばメチルスルホン酸若しくはエチルスルホン酸若しくはトルエンスルホン酸、ホスホン酸又はカルボン酸、例えばアルカン酸、例えば酢酸若しくはクエン酸などの有機酸との塩として存在し得る。
以下の定義は、より一般的な特徴を、好ましいより具体的な方法で定義するものであり、本発明の変形例=実施形態におけるより一般的な特徴の1つ、2つ以上又は全てを、本発明に係るより具体的な実施形態を定義するより具体的な定義で置き換えることが可能である。
上述される反応のための条件は、特に以下のように選択される。
化合物IIと、式IIIの化合物との反応(式中、LGが、脱離基、好ましくはハロ、特にクロロ又はブロモである)は、好ましくは高温で、例えば30℃から反応混合物の沸点までの範囲、例えば50〜100℃で、非プロトン性溶媒、例えばN,N−アルカン酸のジアルキルアミド、例えばジメチルアセトアミド又はジメチルホルムアミド中で、弱塩基、例えばアルカリ金属炭酸塩又は金属炭酸水素塩の存在下で好ましくは行われる。
式IIの化合物を生じるための式IVの化合物(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基であり、Rが水素である)の脱保護(i)は、10℃から溶媒の沸点までの範囲、例えば20℃から(特にRがアシルである場合)115℃の好ましい温度で、溶媒、例えばアルコール又はアルコールの混合物(特に、Rが、ベンジルオキシカルボニル又は特にアルコキシカルボニル、例えばtert−ブトキシカルボニルである場合)中で、強酸HA、例えばトリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸又は好ましくは無機酸、例えば硫酸、リン酸又は特にハロゲン化水素、最も特に塩化水素の存在下で、又は水(特に、Rが、アシル、特に低級アルカノイル、例えばアセチルである場合)の存在下で好ましくは行われる。
式IVの化合物(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rがアミノであり、Rがヒドロキシルである)の代替的な還元(ii)は、適切な非プロトン性溶媒、例えばエーテル又は特にアセトニトリル中で、強無機酸又は好ましくは(強)有機酸、特にトリフルオロメタンスルホン酸の存在下で、トリアルキルシラン、特にトリエチルシランを用いて好ましくは行われ、酸HAのその後の添加により、(塩又は共結晶)式IIの化合物が得られる。
式VI又はVIの化合物を生じるための、式Vの化合物とL−ラクチドとの反応は、好ましくは、例えば−80〜−5℃の範囲の低温で、溶媒、例えば非環状又は特に環状エーテル、好ましくはテトラヒドロフラン中で、強塩基、特にアルキル−アルカリ金属、例えばn−ブチルリチウム、及び窒素塩基、特にジイソプロピルアミン又はジエチルアミンの存在下で好ましくは行われる。反応がおよそ−80℃で行われる場合、結果は、式VIの化合物であり、反応が、温度をおよそ−5℃まで上昇させながら行われる場合、結果は、式VIの化合物である。
ヒドロキシルアミン、若しくはその塩による式VIの化合物の環化、又は式VIIの化合物への、式VIの化合物と、ヒドロキシルアミン、若しくはその塩との反応はそれぞれ、0〜80℃、例えば10〜50℃の範囲の好ましい温度で、極性有機溶媒、例えばアルコール、例えばアルカノール、例えばメタノール又はエタノール中で、弱塩基、例えばアルカリ金属アルカノエート、例えば酢酸ナトリウムの存在下で、ヒドロキシルアミンの酸付加塩、例えばそのハロゲン化水素塩、例えばその塩酸塩を用いて好ましくは行われる。
式VIIIの対応するアミンへの、式VIIのヒドロキシルアミン化合物の水素化(a−i)は、水素化触媒、例えば白金、パラジウム、ロジウム、若しくはルテニウム、又はより低い温度(例えば0〜40℃)及びより低い圧力(例えば、1バール)のHで作動する他の高活性触媒、又は高温及び、例えば5〜50バール、例えば10〜20バールの範囲のより高いH圧力で、非貴金属触媒、特に、ニッケル(ラネーニッケル及び漆原ニッケルなど)をベースとする触媒の存在下で、不均一水素化として好ましくは行われる。この反応は、極性溶媒、特にアルコール、例えばアルカノール、例えばエタノール又は特にメタノール中で行われる。
式VIIIの化合物への、還元条件下での式VIIのヒドロキシル化合物のアシル化(a−ii)は、好ましくは、25℃から反応混合物の沸点までの範囲、例えば40〜80℃の範囲の高温で、不活性有機溶媒、例えば炭化水素又は芳香族化合物、例えばトルエン又はキシリレン中で、還元剤として、卑金属、例えば亜鉛(例えば亜鉛アマルガムのような)又は特に鉄、及び酸、無機酸、例えば水素ハロゲン化物、例えば塩化水素、硫酸、又は有機酸、例えば無水物に対応するカルボン酸、特にアルカン酸、特に酢酸のいずれかの存在下で、アシル化剤、特にカルボン酸の無水物、例えばアルカン酸無水物、特に無水酢酸の存在下で好ましくは行われる。
アシルは、本発明の文脈において、アシル残基(rest)自体で、カルボキシル(−COOH)基が、(例えばtert−ブトキシカルボニルのように)酸素にではなく、(例えばアセチル=HCCOO−のように)炭素に結合された有機酸の部分を指す。
式IXの化合物への、式VIIIの化合物の還元(b−i)は、好ましくは、−100〜−20℃、例えば−80〜−70℃の範囲の低温で、非プロトン性溶媒、例えばエーテル又は特に環状エーテル、例えばテトラヒドロフラン中で、式VIII中のオキソを、式IX中のヒドロキシへと還元させる複合水素化物、例えば水素化ジイソブチルアルミニウムを用いて好ましくは行われる。
次に、式IVのそれぞれの化合物に対応する化合物としての、式IXの化合物が、式IIの化合物へと還元される場合、還元は、好ましくは、30℃から反応混合物の沸点までの範囲、例えば50〜95℃の高温で、非プロトン性溶媒、例えば炭化水素、エステル又は特にニトリル、例えばアセトニトリル中で、酸、特に強有機スルホン酸、例えばトリフルオロメタンスルホン酸中で、トリアルキルシラン、特にトリエチルシランを用いて好ましくは行われる。酸HAとのその後の反応は、プロトン性、潜在的に水性溶媒、例えばイソプロピルアルコール中で好ましくは行われる。
アミノ基挿入剤、特に二炭酸ジアルカノイル、特に二炭酸ジ−tert−ブチル(=Boc無水物)との、式VIIIの化合物の反応(c−i)は、0〜50℃、例えば20〜30℃の範囲の好ましい温度で、非プロトン性溶媒、特にハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタン中で、第三級アミン、例えばトリアルキル−アミン、特にジイソプロピルエチルアミンの存在下で好ましくは行われて、式Xの化合物が得られる。
式XIの化合物への、式Xの化合物の還元は、好ましくは、0〜50℃、例えば20〜30℃の範囲の温度で、非プロトン性溶媒、例えば直鎖状エーテル又は好ましくは環状エーテル、例えばテトラヒドロフラン中で、2つのヒドロキシ基を用いて、式X中のラクトン基を、式XI中の開環へと還元させることが可能な複合水素化物、例えば水素化ホウ素リチウムの存在下で好ましくは行われる。
式XIIの化合物を生じるための、脱離基形成剤LG−X(式中、Xが、ハロゲン、特にクロロであり、LGが、それが結合されるヒドロキシとともに、脱離基LG2、特にスルホニルハロゲン化物、好ましくはトルオールスルホニルクロリドを形成することが可能な求電子基である)を用いた、式LG2の脱離基の導入をもたらす、式XIの化合物の反応は、0〜50℃、例えば20〜30℃の範囲の好ましい温度で、水性有機溶媒、例えば水性ハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタン中で、塩基、例えばアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウムの存在下で好ましくは行われる。
0〜50℃、例えば20〜30℃の範囲の好ましい温度で、水性有機溶媒、例えば水性ハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタン中で、塩基、特にアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウムの存在下で、相間移動触媒、例えばテトラアルキルアンモニウムハロゲン化物、例えばテトラ−n−ブチルアンモニウムブロミドの存在下で、塩基性条件下における式XIIIの化合物への式XIIの化合物の環化。
式XIIIの化合物の脱保護は、0〜50℃、例えば20〜30℃の範囲の好ましい温度で、アミン塩基、例えばイソプロピルアミンの存在下で、極性溶媒、例えばアルコール、例えばアルカノール、例えばエタノール又は特にメタノール中で、得られる式IIの塩の一部である酸HAを用いて好ましくは行われる。
例えば以下に定義されるようなキラル水素化触媒(通常、例えばルテニウム(I)に基づく前駆触媒、例えばビス(ノルボルナジエン)ロジウム(I)テトラフルオロボレート及びキラルリガンドから形成される)の存在下における、式Xの化合物への、式VIIIの化合物の水素化は、好ましくは、30〜80℃、例えば40〜60℃の範囲の温度で、極性溶媒、特に2,2,2−トリフルオロエタノール中で、例えば3〜50バール、例えば20〜40バールの範囲の高い圧力下で、水素を用いて好ましくは行われる。この水素化は、より一般的に、遷移金属触媒の存在下、好ましくは、有機金属錯体及びキラルリガンドを含む遷移金属触媒の存在下で、水素を用いて行われる。この還元は、不均一又は均一水素化条件下で、好ましくは均一水素化条件下で行われ得る。遷移金属は、周期表の9又は10族から選択される。したがって、遷移金属触媒は、例えば、コバルト(Co)、ロジウム(Rh)、イリジウム(Ir)、ニッケル(Ni)、パラジウム(Pd)及び/又は白金(Pt)を含む。
キラル触媒の中でも、式Xに示される前の二重結合において立体構造を生じるために、式VIIIの化合物における二重結合の水素化を可能にする全てのものが適切である。キラルリガンドがキラルフェロセンを含むことがさらに好ましい。
好ましいキラルフェロセンは、式:
Figure 2022502388

で表されるが、例えば、下式:
Figure 2022502388

のいずれか1つの他のものも可能である。
2つ以上のこのようなリガンド、特に、上記の式によって定義されるものの混合物も可能である。
通常、活性触媒は、0.9〜1.2、好ましくは、1.0〜1.1、より好ましくは、1.0〜1.05モルのキラルリガンドを、遷移金属触媒に含まれる1.0モルの遷移金属原子と混合することによって形成される。例えば、二量体遷移金属触媒が用いられる場合、好ましくは、2モルのキラルリガンドが、「活性触媒」を形成するために、1モルの遷移金属触媒と反応される。
キラルリガンドは、典型的に、反応に使用される同じ溶媒で調製された溶液中で、反応混合物に加えられる。
開環下における式XIの化合物への式Xの化合物の還元は、好ましくは、0〜50℃、例えば20〜30℃の範囲の温度で、非プロトン性溶媒、例えば直鎖状エーテル又は好ましくは環状エーテル、例えばテトラヒドロフラン中で、2つのヒドロキシ基を用いて、式X中のラクトン基を、式XI中の開環へと還元させることが可能な複合水素化物、例えば水素化ホウ素リチウムの存在下で好ましくは行われる。
アミノ保護基は、好ましくは、例えば、HClなどの水素ハロゲン化物、又は式IIの化合物が直接の反応生成物である場合、式IIの化合物について定義されるような式HAの酸(特に、式中、nが1であり、Aが、ハロゲン化物アニオン、特に塩化物アニオンである)の存在下で、厳し過ぎない酸性条件によって切断され得る基である。例えば、9−フルオレニルメトキシカルボニル、アリルオキシカルボニル又は特にtert−ブトキシカルボニルである。
式XIIの化合物を生じるための、脱離基形成剤LG−X(式中、Xが、ハロゲン、特にクロロであり、LGが、それが結合される(結合されることになる)ヒドロキシとともに、脱離基LG2を形成することが可能な求電子基、特にスルホニルハロゲン化物、好ましくはトルオールスルホニルクロリドである)を用いた、式LG2の脱離基の導入をもたらす、式XIの化合物の反応は、0〜50℃、例えば20〜30℃の範囲の好ましい温度で、水性有機溶媒、例えば水性ハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタン中で、塩基、例えばアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウムの存在下で好ましくは行われる。
式XIIIの化合物pへの、式XIIの化合物の環化は、0〜50℃、例えば20〜30℃の範囲の好ましい温度で、水性有機溶媒、例えば水性ハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタン中で、塩基、特にアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウムの存在下で、相間移動触媒、例えばテトラアルキルアンモニウムハロゲン化物、例えばテトラ−n−ブチルアンモニウムブロミドの存在下で、塩基性条件下で好ましくは行われる。
式XIIIの化合物の脱保護は、好ましくは、50〜120℃の範囲の高温で、例えば100〜115℃で、極性溶媒、例えばアルコール、例えばアルカノール、例えばエタノール又は特にメタノール中で、得られる式IIの塩の一部である酸HAを用いて好ましくは行われる。
式IIIの化合物は、さらなる1つの本発明に係る実施形態において、又は本発明に係る式Iの化合物の全合成の一部として、一実施形態によれば、式XVIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、LGが、脱離基、特にハロゲノ、例えばクロロである)を、ハロゲン化剤でハロゲン化して、式XIXの化合物
Figure 2022502388

(式中、LGが、特に直前で定義される脱離基であり、Halがハロゲン、特にクロロである)を得ることによって好ましくは得られる。
この反応は、ハロスクシンイミド、例えば、好ましくはHalがブロモであるようにブロモスクシンイミドを用いて好ましくは行われる。この反応は、好ましくは、20℃〜100℃の温度範囲で、ジクロロメタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルアセトアミドなどの1つ以上の非プロトン性溶媒中で行われる。
式XIXの化合物は、次に又は最初に、式XXのメルカプト化合物:
O−C(=O)−CH−CH−SH (XX)
(式中、Rが、非置換若しくは置換アルキル又は非置換若しくは置換アリール、特にC〜Cアルキル、例えばエチルである)で置換されて、式XXIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、LGが脱離基であり、Rが、特に直前で定義される非置換若しくは置換アルキル又は非置換若しくは置換アリールである)が得られる。
この反応は、好ましくは、例えば30℃から反応混合物の沸点までの高温で、非プロトン性溶媒、例えばエステル、好ましくは環状エステル、例えばジオキサン中で、第三級アミン、例えばジイソプロピルエチルアミンの存在下で、貴金属、特にパラジウム、及びリガンド、例えばキサントホスを含む貴金属錯体の存在下で好ましくは行われる。
さらなる単独の又は組み合わされた実施形態において、次に、式XXIの化合物は、アルカリ金属、特にリチウム、カリウム又は最も特にナトリウムのアルコキシレート、特にメトキシレート又はエトキシレートで処理されて、式XXIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Mtが、アルカリ金属、特にナトリウムである)が得られる。この反応は、好ましくは、0〜50℃の範囲の温度で、溶媒、例えばアルコールの混合物、例えばメタノール又はエタノール(特に、アルコキシ基がアルコール中にある有機物と同一であるようにアルコキシレートと適合するアルコール)、及びエーテル、例えばテトラヒドロフランなどの環状エーテル中で好ましくは行われる。
次に、式XXIIの化合物は、式XXIIIの化合物:
Figure 2022502388

と反応されて、式IIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、LGが、式IIIの化合物について特に上に定義されるような脱離基である)が得られる。
この反応は、好ましくは、例えば30℃から反応混合物の沸点までの範囲の高温で、非プロトン性溶媒、例えばエーテル、例えば環状エーテル、特にジオキサン中で、リガンド、例えばキサントホス、及び第三級窒素塩基、例えばジイソプロピルアミンの存在下で、特にPd(dbba)から形成される貴金属錯体の存在下で好ましくは行われる。
式XXIIIの化合物は、好ましくは、式XXIVの化合物:
Figure 2022502388

を、強塩基の存在下で、ヨウ素と反応させることによって得ることができる。
この反応は、好ましくは、例えば−80〜−5℃の範囲の低温で、溶媒、例えば非環状又は特に環状エーテル、好ましくはテトラヒドロフラン中で、強塩基、特にアルキル−アルカリ金属、例えばn−ブチルリチウム、及び窒素塩基、特にジイソプロピルアミン又はジエチルアミンの存在下で好ましくは行われる。
これにより、式XXVの化合物:
Figure 2022502388

が得られ、次に、それが、アンモニアで処理されて、式XXIIIの化合物が得られる。
次に、この反応は、特に高温で、好ましくは、30℃から反応混合物の沸点までの範囲、例えば85〜95℃で、気体アンモニア及び不活性極性溶媒、例えばDMSOの存在下で好ましくは行われる。
式XVIIIの化合物からの合成の好ましい代替として、式XIXの化合物(式中、Halがクロロであり、LGが上に定義されるとおりである)はまた、好ましくは、式XXVIの化合物:
Figure 2022502388

をアンモニアで処理して、式XIXの化合物(式中、Halがクロロクロロである)(反応条件は、好ましくは、式XXVの化合物の反応について直前に記載されるとおりである)を得て、次に、上記の式XXI、XXII及びXXIIIの化合物を介した、式IIIの化合物(それぞれ上に定義される)へのさらなる反応を用いることによって得ることもできる。
さらなる及び最も好ましい実施形態において、直前に記載される式XXVIの化合物は、アンモニア(好ましくは、水性媒体中で、0〜80℃の範囲の温度で)と反応されて、式XIXの化合物(式中、Halが、ハロ、好ましくはクロロである)が得られ、次に、それが、式MtSの(好ましくは無水)アルカリ金属硫化物(ここで、Mtが、アルカリ金属、特にナトリウムである)と、及び次に式(alk)NZの第四級アンモニウムハロゲン化物(ここで、各alkが、互いに独立して、アルキル、特にn−アルキル、例えばC〜Cアルキルであり、Zが、ハロ、特にクロロ又はより特にブロモである)と反応されて、式XXVIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、alkが、互いに独立して、アルキル、特にn−アルキル、例えばC〜Cアルキルである)が得られ、次に、それが、好ましくは、−20〜80℃、例えば0〜40℃の範囲の温度で、適切な溶媒、例えば水又はアルコール又はその混合物、好ましくは水及び/又はメタノール、エタノール又は特にイソプロパノール中で、好ましくは、ヨウ化銅(I)錯体、例えばCuI/フェナントロリンの存在下で、式XXIIIの化合物(好ましくは、上述されるように調製され得る))と反応されて、式IIIの化合物が得られる。
別の実施形態において、式Iの化合物、又はその薬学的に許容される塩、酸共結晶、水和物若しくは他の溶媒和物の製造方法であって、以下の反応スキーム:
Figure 2022502388

(式中、LGが脱離基であり、Aが、プロトン酸のアニオンであり、式IIの塩が電気的に中性であるように、n、m及びpが、独立して、1、2又は3である)にしたがって、式IIの化合物を、式IIIの化合物と反応させることを含む方法である。
さらなる実施形態において、式IIの化合物が、式IVの化合物
Figure 2022502388

を(i)脱保護すること又は(ii)還元させることのいずれか(ここで、(i)の場合、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基であり、Rが水素であり、又は(ii)の場合、Rが第二級アミノ保護基であり、Rがアミノであり、Rがヒドロキシルである)、及び必要である場合、式IVaの得られた化合物:
Figure 2022502388

を式HAの酸と反応させて、式IIの化合物を得ることによって得られる方法である。
さらなる実施形態において、式IIの化合物の製造方法であって、式Vの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rがカルボキシル(−COOH)保護基である)を、強塩基の存在下で、下式のLラクチド:
Figure 2022502388

と反応させて、式VIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、非置換若しくは置換アルキル、非置換若しくは置換シクロアルキル又は非置換若しくは置換アリールである)を得ること;或いは式VIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基である)を得ることを含む方法である。
さらなる実施形態において、本方法は、式VIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、非置換若しくは置換アルキル、非置換若しくは置換シクロアルキル又は非置換若しくは置換アリールである)を、ヒドロキシルアミン、又はその塩で環化することをさらに含むか;或いは式VIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基である)を環化して、式VIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基である)を得ることを含む。
さらなる実施形態において、本方法は、(a−i)式VIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基である)を水素化して、式VIIIのアミノ化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基である)を得ること;又は(a−ii)式VIIの前記化合物を還元条件下でアシル化して、式VIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノである)を得ることのいずれかをさらに含む。
さらなる実施形態において、本方法は、式VIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり;この化合物は、請求項2に記載の式IVの化合物(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rがアミノであり、Rがヒドロキシルである)である)を還元させて;式IXの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり;この化合物は、式IVの化合物(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rがアミノであり、Rがヒドロキシルである)である)を得ること;次に、トリアルキルシランを用いて、式IXに含まれる対応する式IVの化合物について請求項2に記載される還元工程(ii)を用いて、請求項1に記載の式IIの化合物又は式Vの化合物:
Figure 2022502388

を得て、次に、それを、式HAの酸(式中、Aが酸アニオンであり、nが整数である)で処理することによって式IIの化合物に転化することをさらに含む。
さらなる実施形態において、本方法は、式VIIIのアミノ化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基である)を;アミノ保護基と反応させて、式Xの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である)を得ることを含む。
さらなる実施形態において、本方法は、式Xの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である)を、式XIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である)へと還元させ;式XIの化合物を、ヒドロキシメチル基のヒドロキシにおいて、式LG−Xの脱離基形成剤(式中、LGが、それが結合されるヒドロキシとともに、脱離基LG2を形成することが可能な求電子基であり、Xがハロゲンである)と反応させて、式XIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基であり、LG2が脱離基である)を得て;次に、式XIIの化合物を、塩基性条件下で環化して、式XIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rは第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である)を得ることをさらに含み;ここで、式XIIIの化合物の、式IVの化合物について請求項2に記載される脱保護工程(i)が、酸HAを用いて行われる。
さらなる実施形態において、本方法は、式VIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノである)を;キラル水素化触媒の存在下で水素化して、式Xの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノ基である)を得て;式Xの化合物を、式XIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノ基である)へと還元させ;式XIの化合物を、ヒドロキシメチル基のヒドロキシにおいて、式LG−Xの脱離基形成剤(式中、LGが、それが結合されるヒドロキシとともに、脱離基LG2を形成することが可能な求電子基であり、Xがハロゲンである)と反応させて、式XIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基であり、LG2が脱離基である)を得て;式XIIの化合物を、塩基性条件下で環化して、式XIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノ基である)を得ることをさらに含み;ここで、式XIIIの化合物の、請求項2に記載の対応する式IVの化合物のための脱保護/脱アシル化工程(i)が、酸HAを用いて行われる。
別の実施形態において、式IIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、LGが脱離基である)の製造であって、最初に、式XIXの化合物:
Figure 2022502388

(式中、LGがクロロであり、Halがクロロである)を、式XXVIの化合物:
Figure 2022502388

をアンモニアで処理して、式XIXの化合物を得ることによって取得し;次に、式XIXの化合物を、式MtSのアルカリ金属硫化物(ここで、Mtがアルカリ金属である)と、及び次に式(alk)NZの第四級アンモニウムハロゲン化物(ここで、各alkが、互いに独立して、アルキルであり、Zがハロである)と反応させて、式XXVIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、各alkが、独立して、アルキルである)を得て、次に、それを、式XXIIIの化合物:
Figure 2022502388

と反応させて、式IIIの化合物を得ることを含む製造である。
本方法のさらなる実施形態において、Mtアルカリ金属はナトリウムである。
別の実施形態において、
(i)式IIの塩化合物:
Figure 2022502388

(式中、Aが、プロトン酸のアニオンであり、式IIの塩が電気的に中性であるように、n、m及びpが、1、2及び3から選択される);(ii)式VIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、非置換若しくは置換アルキル、非置換若しくは置換シクロアルキル又は非置換若しくは置換アリールである);
(iii)式VIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基である);(iv)式VIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基である);(v)式VIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基である);(vi)式IXの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基である);(vii)式VIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノである);(viii)式Xの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノである);(ix)式XIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノである);(x)式XIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノ基であり、LG2が脱離基である);(xi)式XIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノ基である);(xii)式Xの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である);(xiii)式XIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である);(xiv)式XIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基であり、LG2が脱離基である);及び(xv)式XIIIの化合物:
Figure 2022502388

(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である)からなる群から選択される化合物;又はその塩である。
さらなる実施形態において、AがClである。
さらなる実施形態において、Rがtert−ブトキシカルボニルである。
以下の実施例は、本明細書に定義されない限り、本発明の範囲を限定せずに、本発明を例示する働きを果たす。使用される略語:Ac(アセテート);AcOH(酢酸);AcO(無水酢酸);Boc(tert−ブトキシカルボニル);BocO(二炭酸ジ−tert−ブチル);塩水(室温で飽和された塩化ナトリウム溶液);n−BuNBr(テトラ−(n−ブチル)アンモニウムブロミド);n−BuLi(n−ブチルリチウム);calcd(計算値);DCM(ジクロロメタン);DIBAL−H(水素化ジイソブチルアルミニウム);DIPEA(ジ(イソプロピル)エチルアミン);DMAc(ジメチルアセトアミド);DMSO(ジメチルスルホキシド);DMSO−d(過重水素化ジメチルスルホキシド);eq又はequiv.(当量);Et(エチル);EtOAc(酢酸エチル);HRMS(高分解能質量分析);hrs.(時間);IPA(イソプロピルアミン);IT(内部温度(反応混合物の));LOQ(定量下限);MCC(微結晶性セルロース);Me(メチル);MeOH(メタノール);MTBE(メチルtert−ブチルエーテル);NMR(核磁気共鳴);PrOH(イソプロパノール);PrNH(ジイソプロピルアミン);Rt又はRT(室温(約20〜25℃));TBAB(テトラ−(n−ブチル)アンモニウムブロミド);Tf−OH(トリフル酸);THF(テトラヒドロフラン);TsCl(塩化トシル);トリフル酸(トリフルオロメタンスルホン酸);及びキサントホス(4,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)−9,9−ジメチルキサンテン)。
実験手順:3つの基本手順(実施例1=経路B);実施例2=経路C;及び実施例3=経路Dに対応する)が、以下の反応概説スキームに要約されている。
実施例1
経路B
Figure 2022502388

工程a
Figure 2022502388

窒素雰囲気下で500mLの三つ口丸底フラスコAに、ジイソプロピルアミン(9.44g、93.3mmol、1.2当量)及びTHF(200mL)を充填した。溶液をIT=−20℃に冷却し、ヘキサン中2.4Mのn−BuLi(38.9mL、1.2当量)を、30分の間、滴下して加えた。反応物を、−20℃で30分間撹拌し、次に、−70℃に冷却した。THF(20mL)中の1−(tert−ブチル)4−エチルピペリジン−1,4−ジカルボキシレート(Jinan Welt Chem.Co.,Ltd.,Jinan,China)(20.0g、77.7mmol、1.0当量)の溶液を、IT=−70℃〜−60℃を維持しながら、30分の間、滴下して加えた。反応物を−70℃で30分間撹拌し、淡黄色の溶液を得た。
窒素雰囲気下で500mLの三つ口丸底フラスコBに、L−ラクチド(13.4g、93.3mmol、1.2当量)及びTHF(120mL)を充填した。溶液をIT=−70℃に冷却した。フラスコA中の溶液を、IT=−70℃〜−60℃を維持しながら、30分の間、カニューレを介してフラスコBにゆっくりと移した。反応物を−70℃で30分間撹拌した。反応溶液を、IT=0℃〜5℃を維持しながら、30分の間、カニューレを介して3%のHCl(300mL)を含むフラスコCに移した。混合物をEtOAc(400mL×2)で抽出し、20重量%の塩水(200mL)で洗浄した。有機層を分離し、無水NaSO上で乾燥させ、ろ過した。ろ液を濃縮乾固させて、B3を淡黄色の油(36.0g、71重量%、81%のアッセイ収率)として得て、それを、さらに精製せずに次の工程に使用した。H NMR(400MHz、CDCl)δ=5.42(q,J=6.8Hz、1H)、4.36−4.27(m,1H)、4.27−4.16(m,2H)、3.71−3.49(m,2H)、3.39−3.24(m,2H)、2.81(br d,J=5.0Hz、1H)、2.24−1.81(m,4H)、1.44(s,15H)、1.27(t,J=7.1Hz、3H).
工程b
Figure 2022502388

250mLの丸底フラスコに、上記の黄色の油(15.0g、71重量%、26.5mmol)、ヒドロキシルアミン塩酸塩(9.3g、132.6mmol、5.0当量)、酢酸ナトリウム(10.9g、132.6mmol、5.0当量)及びメタノール(150mL)を加えた。混合物を20〜25℃で24時間撹拌した。得られた懸濁液を、MCCに通してろ過し、ろ過ケーキをMeOH(20mL×2)で洗浄した。ろ液を、約60mLになるまで濃縮し、次に、水(60mL)を、15分の間、滴下して加え、白色の固体が沈殿した。懸濁液を一晩撹拌し、ろ過した。ろ過ケーキを、MeOH(5mL)及び水(25mL)の混合物で洗浄し、減圧下で乾燥させて、B4を白色の固体(4.9g、59%)として得た。H NMR(400MHz、DMSO−d)δ=11.45(s,1H)、5.33(q,J=6.6Hz、1H)、3.73−3.58(m,2H)、3.56−3.43(m,1H)、3.43−3.35(m,1H)、1.87−1.65(m,4H)、1.52(d,J=6.7Hz、3H)、1.41(s,9H).
工程c
Figure 2022502388

窒素雰囲気下でインペラ撹拌機を備えた1Lの反応器に、ラネーNi(5g)及びMeOH(250mL)、続いてtert−ブチル(S)−4−(ヒドロキシイミノ)−3−メチル−1−オキソ−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン−8−カルボキシレートB4(25.0g、83.80mmol)を加えた。反応器を、窒素で3回、及び次に水素で3回パージした。混合物を、IT=80℃で、20バールの水素圧力下で、16時間撹拌した。反応混合物を、微結晶性セルロースに通してろ過し、ろ過ケーキをMeOH(10ml)で洗浄した。ろ液を濃縮乾固させて、白色の固体(23.0g)を得た。EtOAc(220mL)を固体に加え、得られた懸濁液を加熱還流させ(JT=100℃)、n−ヘプタン(550mL)を少しずつ加えた。得られた透明の溶液を、2時間の間に室温に冷却し、一晩、静置しておいたところ、B5が無色の結晶性生成物(16.7g、シス/トランス>99/1、70%)として得られた。H NMR(400MHz、CDCl)δ=4.75−4.64(m,1H)、3.89−3.80(m,1H)、3.68−3.58(m,1H)、3.48−3.33(m,3H)、1.92−1.61(m,4H)、1.46(s,9H)、1.40(d,J=6.5Hz、3H).
工程d
Figure 2022502388

窒素雰囲気下で500mLの三つ口丸底フラスコに、tert−ブチル(3S,4S)−4−アミノ−3−メチル−1−オキソ−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン−8−カルボキシレートB5(6.0g、21.1mmol)及びTHF(200mL)を充填した。溶液をIT=−78℃に冷却し、1.0MのDIBAL(42.2mL、42.2mmol、2.0当量)を、30分間の間、滴下して加えた。反応物を−78℃で30分間撹拌した。飽和酒石酸Na,K水溶液(150mL)を、IT=−78℃〜−60℃を維持しながら注意深く加えて、反応をクエンチした。混合物を、2つの透明の相が得られるまで(約1.5時間)20〜25℃で激しく撹拌し、それをEtOAc(200mL×2)で抽出した。組み合わされた有機抽出物を、20重量%の塩水(200mL)で洗浄し、NaSO上で乾燥させ、ろ過し、濃縮して、B6を粘性の油(6.1g、64重量%、65%のアッセイ収率)として得て、それを、さらに精製せずに次の工程に使用した。H NMR(400MHz、CDCl)δ=5.06(s,1H)、4.39−4.29(m,1H)、3.68−3.57(m,2H)、3.35−3.24(m,2H)、3.18(d,J=4.4Hz、1H)、1.98−1.85(m,1H)、1.75−1.54(m,3H)、1.46(s,9H)、1.35(d,J=6.6Hz、3H).
工程e
Figure 2022502388

100mLの丸底フラスコに、6.0gの上記の粘性の油及びアセトニトリル(150mL)を加えた。フラスコを、氷水浴中で冷却し、トリエチルシラン(7.4g、63.3mmol)、トリフル酸(9.5g、63.3mmol)を続いて加えた。次に、反応物を、90℃の油浴中で1時間撹拌した。次に、反応物を20〜25℃に冷却し、分液漏斗に注ぎ、n−ヘプタン(100mL×2)で洗浄した。アセトニトリル層を分離し、濃縮乾固させて、無色油を得て、それをEtOAc(150mL)中で希釈した。イソプロパノール(30mL)中6NのHClを、撹拌しながら滴下して加え、白色の固体が沈殿した。MTBE(150mL)を加え、白色の懸濁液を2時間撹拌し、ろ過した。ろ過ケーキをEtOAc(50mL×2)で洗浄して、白色の固体を得て、それをMeOH(6.0mL)に溶解させ、EtOAc(18mL)を撹拌しながら滴下して加えた。得られた白色の懸濁液をろ過し、EtOAc(10mL×2)で洗浄して、B7を白色の固体(2.5g、81重量%、2工程で39%)として得た。H NMR(400MHz、DMSO−d)δ=9.37(br s,1H)、9.25(br s,1H)、8.42(br s,3H)、4.26−4.17(m,1H)、3.72(ABq,J=9.1Hz、2H)、3.50−3.41(m,1H)、3.28−3.18(m,1H)、3.18−3.09(m,1H)、2.99−2.74(m,2H)、2.07−1.63(m,4H)、1.22(d,J=6.5Hz、3H).
工程f
Figure 2022502388

10mLのシュレンク管に、3−((2−アミノ−3−クロロピリジン−4−イル)チオ)−6−クロロピラジン−2−アミンY7a(0.1g、0.347mmol)、(3S,4S)−3−メチル−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン−4−アミン二塩酸塩B7(0.1g、0.416mmol、1.2当量)、DMAc(0.6mL)及び36重量%のKCO水溶液(0.66g、1.735mmol、5.0当量)を加えた。混合物を、100℃の油浴中で16時間撹拌し、20〜25℃に冷却した。20重量%の塩水(10mL)を加え、混合物をEtOAc(20mL×2)で抽出した。組み合わされた抽出物を、20重量%の塩水(10mL×4)で洗浄し、無水NaSO上で乾燥させ、ろ過した。ろ液を濃縮乾固させて、B8を黄色の固体(121mg、83%)として得た。H NMR(400MHz、DMSO−d)δ=7.64(d,J=6.2Hz、1H)、7.62(s,1H)、6.26(s,2H)、6.13(s,2H)、5.74(d,J=5.3Hz、1H)、4.12−4.02(m,1H)、3.90−3.78(m,2H)、3.67(d,J=8.4Hz、1H)、3.49(d,J=8.4Hz、1H)、3.33(s,2H)、2.91(d,J=5.1Hz、1H)、1.78−1.68(m,1H)、1.67−1.57(m,1H)、1.56−1.41(m,2H)、1.08(d,J=6.5Hz、3H).
実施例2
経路C
Figure 2022502388

工程a:
Figure 2022502388

窒素雰囲気下で1Lの三つ口丸底フラスコAに、ジイソプロピルアミン(10.2g、100.8mmol)及びTHF(200mL)を充填した。溶液をIT=−20℃に冷却し、ヘキサン中2.5Mのn−BuLi(37.3mL、93.3mmol)を、30分の間、滴下して加えた。反応物を、−20℃で30分間撹拌し、次に、−70℃に冷却した。THF(30mL)中の1−(tert−ブチル)4−エチルピペリジン−1,4−ジカルボキシレート(20.0g、77.7mmol)の溶液を、IT=−70℃〜−60℃を維持しながら、30分の間、滴下して加えた。反応物を−70℃で1時間撹拌し、淡黄色の溶液を得た。THF(50mL)中のL−ラクチド(13.4g、93.3mmol、1.2当量)の溶液を、IT=−70℃〜−60℃を維持しながら、30分の間、滴下して加えた。反応物を−70℃で1時間撹拌した。
窒素雰囲気下で500mLの三つ口丸底フラスコBに、ジイソプロピルアミン(9.2g、90.9mmol)及びTHF(180mL)を充填した。溶液をIT=−20℃に冷却し、ヘキサン中2.5Mのn−BuLi(33.6mL、84.0mmol)を、30分の間、滴下して加えた。反応物を、−20℃で30分間撹拌し、次に、−70℃に冷却した。THF(27mL)中の1−(tert−ブチル)4−エチルピペリジン−1,4−ジカルボキシレート(18.0g、70.0mmol)の溶液を、IT=−70℃〜−60℃を維持しながら、30分の間、滴下して加えた。反応物を−70℃で1時間撹拌した。
フラスコB中の溶液を、IT=−70℃〜−60℃を維持しながら、30分の間、カニューレを介してフラスコAにゆっくりと移した。反応物を−70℃で1時間撹拌した。次に、反応物を、1時間にわたって−10℃に徐々に温め、−10℃で30分間撹拌した。反応溶液を、IT=0℃〜5℃を維持しながら、30分の間、カニューレを介して3%のHCl(500mL)を含むフラスコCに移した。混合物をEtOAc(300mL×2)で抽出し、20重量%の塩水(200mL)で洗浄した。有機層を分離し、無水NaSO上で乾燥させ、ろ過した。ろ液を濃縮乾固させて、無色油として得て、それを、一晩、静置すると、徐々に固化した。固体を、n−ヘプタン/EtOAcから再結晶化して、C3を白色の固体(24.0g、57%)として得た。H NMR(400MHz、CDCl)δ=4.83(q,J=7.0Hz、1H)、3.78−3.62(m,4H)、1.90−1.72(m,4H)、1.53(d,J=7.1Hz、3H)、1.47(s,9H).
工程b
Figure 2022502388

500mLの丸底フラスコに、tert−ブチル(S)−3−メチル−1,4−ジオキソ−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン−8−カルボキシレートC3(26.5g、93.5mmol、1.0当量)、ヒドロキシルアミン塩酸塩(7.8g、112.2mmol、1.2当量)、酢酸ナトリウム(9.2g、112.2mmol、1.2当量)及びメタノール(200mL)を加えた。混合物を20〜25℃で一晩撹拌した。反応混合物を濃縮乾固させ、得られた固体を、EtOAc(300mL)中で希釈し、水(200mL)及び20重量%の塩水(200mL)で洗浄した。有機相をNaSO上で乾燥させ、ろ過し、濃縮乾固させて、C4を白色の固体(27.9g、99%、部分的にラセミ化された)として得た。H NMR(400MHz、DMSO−d)δ=11.45(s,1H)、5.33(q,J=6.6Hz、1H)、3.73−3.58(m,2H)、3.56−3.43(m,1H)、3.43−3.35(m,1H)、1.87−1.65(m,4H)、1.52(d,J=6.7Hz、3H)、1.41(s,9H).
工程c
Figure 2022502388

窒素雰囲気下で500mLの丸底フラスコに、tert−ブチル−4−(ヒドロキシイミノ)−3−メチル−1−オキソ−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン−8−カルボキシレートC4(27.9g、93.5mol)、トルエン(150mL)、無水酢酸(29.1g、280.6mmol)、酢酸(16.8g、280.6mmol)及び鉄(10.4g、187.0mmol)を続いて加えた。混合物を、70℃の油浴中で4時間激しく撹拌し、室温に冷却した。懸濁液を、微結晶性セルロースに通してろ過して、固体残渣を除去し、次に、それをEtOAc(150mL×2)で洗浄した。組み合わされたろ液を氷水浴中で冷却し、5重量%のNaHCO(300mL)及び20重量%の塩水(300mL)で洗浄した。有機層を分離し、NaSO上で乾燥させ、ろ過した。ろ液を蒸発乾固させた。残渣を、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、EtOAc/n−ヘプタン=1/1〜3/1、v/v)によって精製し、EtOAc/n−ヘプタンからの再結晶化によってさらに精製して、C5を白色の針状結晶(16.7g、55%)として得た。H NMR(400MHz、CDCl)δ=7.43(s,1H)、4.10−3.78(m,2H)、3.55−3.38(m,2H)、2.10(s,3H)、1.94(s,3H)、1.76−1.58(m,4H)、1.45(s,9H).
工程d
Figure 2022502388

窒素雰囲気下でバイアルに、[Rh(NBD)]BF(2.0mg、0.005mmol)、リガンドL(Johnson Matthey & Brandenberger AG(Zuerich,Schweiz)製)(3.3mg、0.005mmol)及びDCM(1mL)を加えた。得られた溶液を30分間撹拌してから、溶媒を除去して、黄色の固体を得た。窒素雰囲気下でバイアルに、tert−ブチル4−アセトアミド−3−メチル−1−オキソ−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカ−3−エン−8−カルボキシレートC5(86mg、0.27mmol)及び2,2,2−トリフルオロエタノール(TFE)(2.7mL)を加えた。バイアルを水素化反応器に入れた。反応器を、窒素で3回、及び次に水素で3回パージした。混合物を、IT=50℃で30バールの水素圧力下で16時間撹拌した。反応物を20〜25℃に冷却し、短いシリカパッドに通してろ過し、濃縮乾固させて、C6を白色の固体(86mg、100%)として得た。H NMR(400MHz、DMSO−d)δ=8.33(br d,J=10.3Hz、1H)、4.94−4.84(m,1H)、4.71−4.56(m,1H)、3.78−3.65(m,2H)、3.22−3.02(m,1H)、2.87−2.69(m,1H)、1.89(s,3H)、1.64−1.50(m,4H)、1.40(s,9H)、1.19(d,J=6.7Hz、3H).
工程e
Figure 2022502388

窒素雰囲気下で10mLのシュレンクフラスコに、tert−ブチル(3S,4S)−4−アセトアミド−3−メチル−1−オキソ−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン−8−カルボキシレートC6(300mg、0.919mmol)及びTHF(3.0mL)を加えた。フラスコを氷水浴中で冷却した。THF(0.7mL)中2.0MのLiBHを滴下して加え、反応物を20〜25℃で4時間撹拌した。反応物を氷水浴中で冷却し、5重量%のNaHCO(1.0mL)を滴下して加えることによってクエンチした。混合物を分離し、水層をEtOAc(10mL×3)によって抽出した。組み合わされた抽出物を20重量%の塩水(20mL)で洗浄した。有機層を分離し、NaSO上で乾燥させ、ろ過した。ろ液を蒸発乾固させた。残渣を、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、EtOAc/n−ヘプタン=1/1〜1/3、v/v)によって精製して、C7を無色の粘性の油(258mg、85%)として得た。H NMR(400MHz、DMSO−d)δ=7.48(br d,J=10.1Hz、1H)、5.23(br s,1H)、5.15(br s,1H)、4.09−4.04(m,1H)、3.92−3.82(m,1H)、3.75(d,J=10.1Hz、1H)、3.56(d,J=5.1Hz、1H)、3.54−3.44(m,4H)、1.98(s,3H)、1.68−1.57(m,2H)、1.52−1.46(m,2H)、1.44(s,9H)、1.00(d,J=6.2Hz、3H).
Figure 2022502388

窒素雰囲気下で25mLのシュレンク管に、NaOH(94mg、2.35mmol)及び水(5.0mL)を加えた。この管を、氷水浴中で冷却し、DCM(5.0mL)中のtert−ブチル4−((1S,2S)−1−アセトアミド−2−ヒドロキシプロピル)−4−(ヒドロキシメチル)ピペリジン−1−カルボキシレートC7(650mg、1.97mmol)及びTsCl(450mg、2.36mmol)の溶液を滴下して加えた。次に、混合物を20〜25℃で16時間撹拌した。n−BuNBr(65mg、0.202mmol)を加えた後、水(2.0mL)中のNaOH(94mg、2.35mmol)を加えた。次に、混合物を20〜25℃で16時間撹拌した。有機層を分離し、20重量%の塩水(5mL)で洗浄し、NaSO上で乾燥させ、ろ過した。ろ液を蒸発乾固させて、C9を白色の固体(500mg、81%)として得た。H NMR(400MHz、DMSO−d)δ=7.82(br d,J=10.0Hz、1H)、4.18−4.06(m,2H)、3.65−3.56(m,1H)、3.55(ABq,J=8.7Hz、2H)、3.32−3.11(m,3H)、1.89(s,3H)、1.57−1.40(m,4H)、1.38(s,9H)、1.01(d,J=6.1Hz、3H).
工程f
Figure 2022502388

10mLの密閉管に、tert−ブチル(3S,4S)−4−アセトアミド−3−メチル−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン−8−カルボキシレートC9(25mg、0.077mmol)及び6NのHCl水溶液(1.0mL)を加えた。反応物を、110℃の油浴中で16時間撹拌した。次に、反応物を20〜25℃に冷却し、濃縮乾固させて、C10を白色の固体(17.0mg、90%)として得た。H NMR(400MHz、DMSO−d)δ=9.37(br s,1H)、9.25(br s,1H)、8.42(br s,3H)、4.26−4.17(m,1H)、3.72(ABq,J=9.1Hz、2H)、3.50−3.41(m,1H)、3.28−3.18(m,1H)、3.18−3.09(m,1H)、2.99−2.74(m,2H)、2.07−1.63(m,4H)、1.22(d,J=6.5Hz、3H).
工程g
Figure 2022502388

10mLのシュレンク管に、3−((2−アミノ−3−クロロピリジン−4−イル)チオ)−6−クロロピラジン−2−アミンY10a(0.1g、0.347mmol)、(3S,4S)−3−メチル−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン−4−アミン二塩酸塩C10(0.1g、0.416mmol、1.2当量)、DMAc(0.6mL)及び36重量%のKCO水溶液(0.66g、1.735mmol、5.0当量)を加えた。混合物を、100℃の油浴中で16時間撹拌し、20〜25℃に冷却した。20重量%の塩水(10mL)を加え、混合物をEtOAc(20mL×2)で抽出した。組み合わされた抽出物を、20重量%の塩水(10mL×4)で洗浄し、無水NaSO上で乾燥させ、ろ過した。ろ液を濃縮乾固させて、C11を黄色の固体(121mg、83%)として得た。H NMR(400MHz、DMSO−d)δ=7.64(d,J=6.2Hz、1H)、7.62(s,1H)、6.26(s,2H)、6.13(s,2H)、5.74(d,J=5.3Hz、1H)、4.12−4.02(m,1H)、3.90−3.78(m,2H)、3.67(d,J=8.4Hz、1H)、3.49(d,J=8.4Hz、1H)、3.33(s,2H)、2.91(d,J=5.1Hz、1H)、1.78−1.68(m,1H)、1.67−1.57(m,1H)、1.56−1.41(m,2H)、1.08(d,J=6.5Hz、3H).
実施例3
経路D
Figure 2022502388

工程a:
Figure 2022502388

窒素雰囲気下で500mLの三つ口丸底フラスコAに、ジイソプロピルアミン(9.44g、93.3mmol、1.2当量)及びTHF(200mL)を充填した。溶液をIT=−20℃に冷却し、ヘキサン中2.4Mのn−BuLi(38.9mL、1.2当量)を、30分の間、滴下して加えた。反応物を、−20℃で30分間撹拌し、次に、−70℃に冷却した。THF(20mL)中の1−(tert−ブチル)4−エチルピペリジン−1,4−ジカルボキシレート(D1)(20.0g、77.7mmol、1.0当量)の溶液を、IT=−70℃〜−60℃を維持しながら30分の間、滴下して加えた。反応物を−70℃で30分間撹拌し、淡黄色の溶液を得た。
窒素雰囲気下で500mLの三つ口丸底フラスコBに、L−ラクチド(13.4g、93.3mmol、1.2当量)及びTHF(120mL)を充填した。溶液をIT=−70℃に冷却した。フラスコA中の溶液を、IT=−70℃〜−60℃を維持しながら、30分の間、カニューレを介してフラスコBにゆっくりと移した。反応物を−70℃で30分間撹拌した。反応溶液を、IT=0℃〜5℃を維持しながら、30分の間、カニューレを介して3%のHCl(300mL)を含むフラスコCに移した。混合物をEtOAc(400mL×2)で抽出し、20重量%の塩水(200mL)で洗浄した。有機層を分離し、無水NaSO上で乾燥させ、ろ過した。ろ液を濃縮乾固させて、D3を淡黄色の油(36.0g、71重量%、81%のアッセイ収率)として得て、それを、さらに精製せずに次の工程に使用した。H NMR(400MHz、CDCl)δ=5.42(q,J=6.8Hz、1H)、4.36−4.27(m,1H)、4.27−4.16(m,2H)、3.71−3.49(m,2H)、3.39−3.24(m,2H)、2.81(br d,J=5.0Hz、1H)、2.24−1.81(m,4H)、1.44(s,15H)、1.27(t,J=7.1Hz、3H).
工程b
Figure 2022502388

250mLの丸底フラスコに、上記の黄色の油(15.0g、71重量%、26.5mmol)、ヒドロキシルアミン塩酸塩(9.3g、132.6mmol、5.0当量)、酢酸ナトリウム(10.9g、132.6mmol、5.0当量)及びメタノール(150mL)を加えた。混合物を20〜25℃で24時間撹拌した。得られた懸濁液を、MCCに通してろ過し、ろ過ケーキをMeOH(20mL×2)で洗浄した。ろ液を、約60mLになるまで濃縮し、次に、水(60mL)を、15分の間、滴下して加え、白色の固体が沈殿した。懸濁液を一晩撹拌し、ろ過した。ろ過ケーキを、MeOH(5mL)及び水(25mL)の混合物で洗浄し、減圧下で乾燥させて、D4を白色の固体(4.9g、59%)として得た。H NMR(400MHz、DMSO−d)δ=11.45(s,1H)、5.33(q,J=6.6Hz、1H)、3.73−3.58(m,2H)、3.56−3.43(m,1H)、3.43−3.35(m,1H)、1.87−1.65(m,4H)、1.52(d,J=6.7Hz、3H)、1.41(s,9H).
工程c
Figure 2022502388

窒素雰囲気下でインペラ撹拌機を備えた1Lの反応器に、ラネーNi(5g)及びMeOH(250mL)、続いてtert−ブチル(S)−4−(ヒドロキシイミノ)−3−メチル−1−オキソ−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン−8−カルボキシレートD4(25.0g、83.80mmol)を加えた。反応器を、窒素で3回、及び次に水素で3回パージした。混合物を、IT=80℃で、20バールの水素圧力下で、16時間撹拌した。反応混合物を、微結晶性セルロースに通してろ過し、ろ過ケーキをMeOH(10ml)で洗浄した。ろ液を濃縮乾固させて、白色の固体(23.0g)を得た。EtOAc(220mL)を固体に加え、得られた懸濁液を加熱還流させ(IT=100℃)、n−ヘプタン(550mL)を少しずつ加えた。得られた透明の溶液を、2時間の間に室温に冷却し、一晩、静置しておいたところ、D5が無色の結晶(16.7g、シス/トランス>99/1、70%)として得られた。H NMR(400MHz、CDCl)δ=4.75−4.64(m,1H)、3.89−3.80(m,1H)、3.68−3.58(m,1H)、3.48−3.33(m,3H)、1.92−1.61(m,4H)、1.46(s,9H)、1.40(d,J=6.5Hz、3H).
工程d
Figure 2022502388

10mLのシュレンク管に、tert−ブチル(3S,4S)−4−アミノ−3−メチル−1−オキソ−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン−8−カルボキシレートD5(100mg、0.352mmol)及びDCM(5.0mL)を加えた。この管を氷水浴中で冷却した。ジイソプロピルアミン(182mg、1.41mmol)を滴下して加えた後、BocO(230mg、1.05mmol)を加えた。次に、反応物を20〜25℃で44時間撹拌した。有機層を分離し、20重量%の塩水(5mL)で洗浄し、NaSO上で乾燥させ、ろ過した。ろ液を蒸発乾固させて、D6を無色油(95mg、70%)として得て、それを静置すると、徐々に固化した。HRMS m/z C1933[M+H]についての計算値385.2333、実測値385.2334。
工程e
Figure 2022502388

窒素雰囲気下で10mLのシュレンクフラスコに、tert−ブチル(3S,4S)−4−((tert−ブトキシカルボニル)アミノ)−3−メチル−1−オキソ−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン−8−カルボキシレートD6(126mg、0.335mmol)及びTHF(3.0mL)を加えた。フラスコを氷水浴中で冷却した。THF中2.0MのLiBH(0.25mL)を滴下して加え、反応物を20〜25℃で16時間撹拌した。反応物を氷水浴中で冷却し、5重量%のNaHCO(1.0mL)を滴下して加えることによってクエンチした。混合物を分離し、水層を、EtOAc(10mL×3)によって抽出した。組み合わされた抽出物を20重量%の塩水(20mL)で洗浄した。有機層を分離し、NaSO上で乾燥させ、ろ過した。ろ液を蒸発乾固させて、D7を無色の粘性の油(91mg、70%)として得た。HRMS m/z C1937[M+H]についての計算値389.2646、実測値389.2628。
工程f
Figure 2022502388

窒素雰囲気下で25mLのシュレンク管に、NaOH(14mg、0.34mmol)及び水(2.0mL)を加えた。この管を、氷水浴中で冷却し、DCM(2.0mL)中のtert−ブチル4−((1S,2S)−1−((tert−ブトキシカルボニル)アミノ)−2−ヒドロキシプロピル)−4−(ヒドロキシメチル)ピペリジン−1−カルボキシレートD7(110mg、0.283mmol)及びTsCl(65mg、0.34mmol)の溶液を滴下して加えた。次に、混合物を20〜25℃で16時間撹拌した。n−BuNBr(9.1mg、0.028mmol)を加えた後、水(1.0mL)中のNaOH(14mg、0.34mmol)を加えた。次に、混合物を20〜25℃で16時間撹拌した。有機層を分離し、20重量%の塩水(2mL)で洗浄し、NaSO上で乾燥させ、ろ過した。ろ液を蒸発乾固させて、D9を無色油(45mg、43%)として得た。HRMS m/z C1935[M+H]についての計算値371.2540、実測値371.2533。
工程g
Figure 2022502388

10mLのシュレンク管に、tert−ブチル(3S,4S)−4−((tert−ブトキシカルボニル)アミノ)−3−メチル−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン−8−カルボキシレートD9(100mg、0.27mmol)、イソプロパノール中6NのHCl(1.0mL)及びメタノール(3.0mL)を加えた。反応物を20〜25℃で16時間撹拌し、濃縮乾固させて、D10を白色の固体(59mg、90%)として得た。H NMR(400MHz、DMSO−d)δ=9.37(br s,1H)、9.25(br s,1H)、8.42(br s,3H)、4.26−4.17(m,1H)、3.72(ABq,J=9.1Hz、2H)、3.50−3.41(m,1H)、3.28−3.18(m,1H)、3.18−3.09(m,1H)、2.99−2.74(m,2H)、2.07−1.63(m,4H)、1.22(d,J=6.5Hz、3H).
工程h
Figure 2022502388

10mLのシュレンク管に、3−((2−アミノ−3−クロロピリジン−4−イル)チオ)−6−クロロピラジン−2−アミンY10a(0.1g、0.347mmol)、(3S,4S)−3−メチル−2−オキサ−8−アザスピロ[4.5]デカン−4−アミン二塩酸塩D10(0.1g、0.416mmol、1.2当量)、DMAc(0.6mL)及び36重量%のKCO水溶液(0.66g、1.735mmol、5.0当量)を加えた。混合物を、100℃の油浴中で16時間撹拌し、20〜25℃に冷却した。20重量%の塩水(10mL)を加え、混合物をEtOAc(20mL×2)で抽出した。組み合わされた抽出物を、20重量%の塩水(10mL×4)で洗浄し、無水NaSO上で乾燥させ、ろ過した。ろ液を濃縮乾固させて、D11を黄色の固体(121mg、83%)として得た。H NMR(400MHz、DMSO−d)δ=7.64(d,J=6.2Hz、1H)、7.62(s,1H)、6.26(s,2H)、6.13(s,2H)、5.74(d,J=5.3Hz、1H)、4.12−4.02(m,1H)、3.90−3.78(m,2H)、3.67(d,J=8.4Hz、1H)、3.49(d,J=8.4Hz、1H)、3.33(s,2H)、2.91(d,J=5.1Hz、1H)、1.78−1.68(m,1H)、1.67−1.57(m,1H)、1.56−1.41(m,2H)、1.08(d,J=6.5Hz、3H).
実施例4
(3−((2−アミノ−3−クロロピリジン−4−イル)チオ)−6−クロロピラジン−2−アミン)
上に挙げられる化合物Y7a=Y10a(3−((2−アミノ−3−クロロピリジン−4−イル)チオ)−6−クロロピラジン−2−アミン)は、以下のように得られた:
Figure 2022502388

工程a
Figure 2022502388

2,3,5−トリクロロピラジン(70.50g、384.36mmol、1当量)及びアンモニア溶液(25重量%、364.00g、400mL、2.68mol、6.14当量)を、1Lの密閉した反応器に加えた。混合物を80℃に加熱し、24時間撹拌し、反応を完了させた。反応混合物を30℃に冷却し、ろ過したところ、褐色のろ過ケーキが得られた。褐色のろ過ケーキをアセトン(50mL)に溶解させ、ろ過した。ろ液に、石油エーテル(300mL)を加えた。懸濁液を4時間撹拌し、ろ過して、粗生成物を得た。粗生成物を、石油エーテル及びアセトンの組み合わされた溶媒(10/1、200mL)中でスラリー化し、ろ過して、生成物Y7d(51.00g、307.91mmol、80%の収率)を淡黄色の固体として得た。1H NMR(400MHz、DMSO−d6)δ=7.63(s,1H)。この(また一般化された)方法の利点は、カラムクロマトグラフィーが、Y7dを得るために必要とされないことである。
工程b
Figure 2022502388

200mLの丸底フラスコに、NaS(10.816g、結晶水を含む44重量%、60.978mmol)及びトルエン(100mL)を加えた。混合物を加熱還流させ、水を、ディーン・スタークトラップで除去した(約5〜6mLの水を蒸留により除去した)。冷却した後、混合物を濃縮乾固させた。
上記の丸底フラスコに、Y7d(5.000g、30.489mmol)及び2−メチルブタン−2−オール(50mL)を加え、反応物を加熱還流させ、36時間撹拌した。25℃に冷却した後、混合物をろ過した。ろ液の溶媒を、n−ヘプタン(5V3回、Y7dをベースとする)と交換し、最終的に1Vの残渣になるまで濃縮した。THF(25mL)を25℃で残渣に充填し、撹拌した。懸濁液をろ過し、THF/n−ヘプタン(5mL/5mL)で洗浄して、褐色の固体(6.200g)を得た。
別の200mLの丸底フラスコに、上記の褐色の固体(6.200g)、10%の塩水(25mL)、Me−THF(30mL)及びn−BuNBr(9.829g、30.489mmol)を加えた。混合物を室温で0.5時間撹拌し、相を分離した。有機相を、20%の塩水(25mL)で洗浄し、溶媒をイソ−プロパノール(5V3回、Y7dをベースとする)と交換して、Y7c(27.000g、HPLC面積によって99.2%の純度、58.08%のアッセイ収率)のイソ−プロパノール溶液を得た。1H NMR(400MHz、DMSO−d6)δ=6.88(s,1H)、2.97−2.92(m,14H)、1.38−1.31(m,14H)、1.13−1.04(m,14H)、0.73−0.69(t,21H)。n−BuNBr(又は他の対応するtert−アルキルアミノハロゲン化物)の使用の利点は、より容易な後処理及び精製である。
工程c
Figure 2022502388

25mLの丸底フラスコに、Y7c(4.7g、23.27重量%、IPA溶液、2.723mmol、1.0当量)、Y7b(1.052g、4.085mmol、1.5当量)、1,10−フェナントロリン(0.05g、0.272mmol)及び水(8mL)を加えた。混合物を、窒素ガスで3回パージし、CuI(0.026g、0.136mmol)を窒素雰囲気下で加えた。混合物を65℃まで加熱し、3時間撹拌し、反応を完了させた。反応物を室温に冷却し、ろ過し、ろ過ケーキを水(4mL3)で洗浄した。ろ過ケーキを、MTBE(6mL)中で30分間スラリー化し、ろ過した。ろ過ケーキをMTBE(6mL)で洗浄し、乾燥させて、実施例2の工程g)及び実施例3の工程h)に記載される式Y10aの化合物であるY7a=Z17aを得た(565mg、72%の収率)。反応は、Y7bとY7cとのカップリングのためのパラジウム触媒反応の代わりに銅を用いて開始され得る。
実施例5
(3−((2−アミノ−3−クロロピリジン−4−イル)チオ)−6−クロロピラジン−2−アミン)
或いは、式Z17a=Y10aの化合物は、以下の反応スキームにしたがって作製される:
Figure 2022502388

Figure 2022502388

三つ口丸底フラスコに、Y7d(200mg、1.22mmol、1当量)、ジオキサン(4mL)を加えた。溶液を空にし、窒素ガスで3回パージした。キサントホス(14mg、0.024mmol、0.02当量)、PdCl(dppf)(8.9mg、0.012mmol、0.1当量)、及びDIPEA(0.32g、2.44mmol、2.0当量)を窒素雰囲気下で加えた。溶液を、一晩、85℃に加熱した。反応物を冷却し、蒸発させた。残渣を、カラムクロマトグラフィー(溶離剤/酢酸エチル/ヘプタン=1/1)によって精製して、Z17d(259mg、0.99mmol、81%)を得た。H NMR(400MHz、CDCl)δ=7.83(s,1H)、4.88(bs,2H)、3.73(s,3H)、3.47(t,J=9.2Hz、2H)、2.79(t,J=9.2Hz、2H).
Figure 2022502388

THF(70L)中のZ17d(8.0kg、アッセイ95%、30.68mol)の溶液に、室温でEtONa(776gのNa及び13.6LのEtOHから調製される)を加え、混合物を周囲温度で1時間撹拌した。次に、混合物を、湿潤した黄色の固体になるまで回転蒸発によって濃縮し、残渣をDCM(40L)中で懸濁させた。混合物を、16時間にわたってN下で撹拌した。固体を真空ろ過によって収集し、ろ液が無色になるまで(PSC−2)、ケーキをDCM(約15L)で洗浄した。次に、固体を減圧下で乾燥させて、Z17c(6.93kg、qNMR 72%、収率88%)を得た。H NMR(400MHz、D2O)δ=7.37(s,1H).
Figure 2022502388

1,4−ジオキサン(72L)中のZ17c(6.95kg、アッセイ72%、27.23mol)の混合物に、キサントホス(233g、411mmol、0.015当量)、Pd(dba)(186g、206mmol、0.0075当量)、Z17b(7.13kg、28.02mol)及びDIPEA(7.02kg、54.46mol)を加えた。系を空にし、窒素ガスで3回パージした。混合物を、N下で16時間にわたって65℃で撹拌した。混合物を室温に冷却し、水(50L)を加え、ろ過した。ケーキをEA(25L)で洗浄した。ろ液をEA(4×20L)で抽出した。有機相を減圧下で濃縮して、粗生成物を得て、それをケーキと組み合わせた。次に、DCM(60L)を粗生成物に加え、25〜30℃で18時間撹拌し、次に、ろ過した。ろ過ケーキを、4時間にわたってCHCl(30L)でスラリー化し、ろ過した。ろ過ケーキを、16時間にわたってCHCl(30L)中でスラリー化し、ろ過した。次に、ろ過ケーキを減圧下で乾燥させて、Z17a(9.1kg、84%)を淡黄色の固体として得た。H NMR(400MHz、DMSO−d6)δ=7.89(s,1H)、7.7(d,J=7.6Hz、1H)、7.18(bs,2H)、6.40(bs,2H)、5.97(d,J=7.6Hz、1H)
実施例6
(3−((2−アミノ−3−クロロピリジン−4−イル)チオ)−6−クロロピラジン−2−アミン)
或いは、式Z17a=Y10aの化合物は、以下の反応スキームにしたがって作製される:
Figure 2022502388

詳細には、化合物Z17aの合成を、以下のように行った:
工程a
Figure 2022502388

窒素雰囲気下で、n−BuLi(2.5M、7.6L)を、−78℃でTHF(15L)中の3−クロロ−2−フルオロピリジン(2kg)の溶液に滴下して加えた。次に、得られた混合物を1時間撹拌した。次に、THF(6L)中のI(4.82kg)の溶液を滴下して加えた。添加の後、反応混合物を30分間撹拌し、次に、飽和NaSO(10L)でクエンチし、20〜25℃に温めた。相を分離した。水性相をEA(2×10L)で抽出した。組み合わされた有機相を、飽和NaSO(2×8L)、塩水(8L)で洗浄し、NaSO上で乾燥させた。有機相を減圧下で濃縮した。残渣をMeOH(4L)中でスラリー化し、ろ過し、乾燥させて、3−クロロ−2−フルオロ−4−ヨードピリジン1c(2.2kg、収率68%)を得た。
工程b
Figure 2022502388

DMSO(48L)中の化合物1c(8kg)の溶液中に、一晩、80℃で、NH(ガス)を通した。TLCは、反応が完了したことを示した。反応混合物を室温に冷却した。反応混合物を水(140L)に加えた。固体を収集し、水(25L)で洗浄し、乾燥させて、Z17b(6.91kg、収率87%)を得た。H NMR(400MHz、CDCl3)δ=7.61(d,J=6.8Hz、1H)、7.14(s,J=6.8Hz、1H)、5.09(bs,2H).
工程c
Figure 2022502388

DCM(15L)中の2−アミノ−6−クロロ−ピラジン1a(1kg、7.69mol)の溶液を加熱還流させ、それに、NBS(417g)を、1時間の間に少しずつ充填した。反応物を室温に冷却した。反応混合物を、水(3L)及び塩水(3L)で洗浄した。有機相を蒸発させ、残渣を、カラムクロマトグラフィーによって精製して、生成物Z17f(3−ブロモ−6−クロロピラジン−2−アミン)(180g、11%の収率)を得た。
工程d
Figure 2022502388

1,4−ジオキサン(40L)中の3−ブロモ−6−クロロピラジン−2−アミンZ17f(6.0kg、28.78mol)の溶液に、窒素下で、室温で、Pd(OAc)(64.56g、287.6mmol)、キサントホス(333g、575.6mmol)、及びDIPEA(7.44kg、57.56mol)を加えた。さらに30分間、窒素でパージした後、3−メルカプトプロパン酸メチル(3.81kg、31.70mol)を加えたところ、オレンジ色の混合物が暗色化した。混合物を90℃に加熱した。HPLCは、出発材料の完全な転化を示した。混合物をおよそ室温に冷まし、次に、EtOAc(40L)で希釈した。撹拌しながら30分間エージングした後、混合物全体をろ過し、固体をEtOAc(3×15L)で洗浄した。組み合わされたオレンジ色のろ液を濃縮乾固させ、固体残渣をDCM(45L)中で懸濁させた。混合物を35〜40℃に加熱し、全ての固体が溶解されるまで1時間撹拌した。次に、n−ヘプタン(45L)を滴下して加えた。完全な添加の後、混合物を、1時間にわたって撹拌しながら15〜20℃に冷却した。固体を真空ろ過によって収集し、固体を、低温の1:1のDCM/ヘプタン(25L)、次に、ヘプタン(25L)(PSC−2)で洗浄した。固体を週末にかけて乾燥させて、Z17d(5.32kg、収率75%)を得た。H NMR(400MHz、CDCl3)δ=7.83(s,1H)、4.88(bs,2H)、3.73(s,3H)、3.47(t,J=9.2Hz、2H)、2.79(t,J=9.2Hz、2H).
工程e
Figure 2022502388

THF(70L)中のZ17d(8.0kg、アッセイ95%、30.68mol)の溶液に、室温でEtONa(776gのNa及び13.6LのEtOHから調製される)を加え、混合物を周囲温度で1時間撹拌した。次に、混合物を、湿潤した黄色の固体になるまで回転蒸発によって濃縮し、残渣をDCM(40L)中で懸濁させた。混合物を、16時間にわたってN下で撹拌した。固体を真空ろ過によって収集し、ろ液が無色になるまで(PSC−2)、ケーキをDCM(約15L)で洗浄した。次に、固体を減圧下で乾燥させて、Z17c(6.93kg、qNMR 72%、収率88%)を得た。H NMR(400MHz、D2O)δ=7.37(s,1H).
工程f
Figure 2022502388

1,4−ジオキサン(72L)中のZ17c(6.95kg、アッセイ72%、27.23mol)の混合物に、キサントホス(233g、411mmol、0.015当量)、Pd(dba)(186g、206mmol、0.0075当量)、Z17b(7.13kg、28.02mol)及びDIPEA(7.02kg、54.46mol)を加えた。系を空にし、窒素ガスで3回パージした。混合物を、N下で16時間にわたって65℃で撹拌した。混合物を室温に冷却し、水(50L)を加え、ろ過した。ケーキをEA(25L)で洗浄した。ろ液をEA(4×20L)で抽出した。有機相を減圧下で濃縮して、粗生成物を得て、それをケーキと組み合わせた。次に、DCM(60L)を粗生成物に加え、25−30℃で18時間撹拌し、次に、ろ過した。ろ過ケーキを、4時間にわたってCHCl(30L)でスラリー化し、ろ過した。ろ過ケーキを、16時間にわたってCHCl(30L)中でスラリー化し、ろ過した。次に、ろ過ケーキを減圧下で乾燥させて、Z17a(3−((2−アミノ−3−クロロピリジン−4−イル)チオ)−6−クロロピラジン−2−アミン;9.1kg、84%)を淡黄色の固体として得た。H NMR(400MHz、DMSO−d6)δ=7.89(s,1H)、7.7(d,J=7.6Hz、1H)、7.18(bs,2H)、6.40(bs,2H)、5.97(d,J=7.6Hz、1H).

Claims (14)

  1. 式Iの化合物、又はその薬学的に許容される塩、酸共結晶、水和物若しくは他の溶媒和物の製造方法であって、以下の反応スキーム:
    Figure 2022502388

    (式中、LGが脱離基であり、Aが、プロトン酸のアニオンであり、式IIの塩が電気的に中性であるように、n、m及びpが、独立して、1、2又は3である)にしたがって、式IIの化合物を、式IIIの化合物と反応させることを含む方法。
  2. 前記式IIの化合物が、式IVの化合物
    Figure 2022502388

    を(i)脱保護すること又は(ii)還元させることのいずれか(ここで、(i)の場合、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基であり、Rが水素であり、又は(ii)の場合、Rが第二級アミノ保護基であり、Rがアミノであり、Rがヒドロキシルである)、及び必要である場合、式IVaの得られた化合物:
    Figure 2022502388

    を式HAの酸と反応させて、前記式IIの化合物を得ることによって得られる、請求項1に記載の方法。
  3. 式Vの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rがカルボキシル(−COOH)保護基である)を、強塩基の存在下で、下式のLラクチド:
    Figure 2022502388

    と反応させて、式VIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、非置換若しくは置換アルキル、非置換若しくは置換シクロアルキル又は非置換若しくは置換アリールである)を得ること;或いは式VIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基である)を得ることを含む、請求項1又は2に記載の式IIの化合物の製造方法。
  4. 式VIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、非置換若しくは置換アルキル、非置換若しくは置換シクロアルキル又は非置換若しくは置換アリールである)を、ヒドロキシルアミン、又はその塩で環化することをさらに含むか;或いは式VIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基である)を環化して、式VIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基である)を得ることを含む、請求項2又は3に記載の方法。
  5. (a−i)前記式VIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基である)を水素化して、式VIIIのアミノ化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基である)を得ること;又は(a−ii)式VIIの前記化合物を還元条件下でアシル化して、式VIIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノである)を得ることのいずれかをさらに含む、請求項2〜4のいずれか一項に記載の方法。
  6. 式VIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり;この化合物は、請求項2に記載の式IVの化合物(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rがアミノであり、Rがヒドロキシルである)である)を還元させて;式IXの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり;この化合物は、式IVの化合物(式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rがアミノであり、Rがヒドロキシルである)である)を得ること;
    次に、トリアルキルシランを用いて、式IXに含まれる対応する式IVの化合物について請求項2に記載される還元工程(ii)を用いて、請求項1に記載の式IIの化合物又は式Vの化合物:
    Figure 2022502388

    を得て、次に、それを、式HAの酸(式中、Aが酸アニオンであり、nが整数である)で処理することによって前記式IIの化合物に転化することをさらに含む、請求項2〜5のいずれか一項に記載の方法。
  7. 式VIIIのアミノ化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基である)をアミノ保護基と反応させて、式Xの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である)を得ることをさらに含む、請求項2〜5のいずれか一項に記載の方法。
  8. 式Xの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である)を、式XIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である)へと還元させ;式XIの化合物を、ヒドロキシメチル基のヒドロキシにおいて、式LG−Xの脱離基形成剤(式中、LGが、それが結合される前記ヒドロキシとともに、脱離基LG2を形成することが可能な求電子基であり、Xがハロゲンである)と反応させて、式XIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基であり、LG2が脱離基である)を得て;次に、式XIIの化合物を、塩基性条件下で環化して、式XIIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rは第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である)を得ることをさらに含み;ここで、式XIIIの化合物の、式IVの化合物について請求項2に記載される脱保護工程(i)が、酸HAを用いて行われる、請求項7に記載の方法。
  9. 式VIIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノである)を;キラル水素化触媒の存在下で水素化して、式Xの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノ基である)を得て;式Xの化合物を、式XIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノ基である)へと還元させ;式XIの化合物を、ヒドロキシメチル基のヒドロキシにおいて、式LG−Xの脱離基形成剤(式中、LGが、それが結合される前記ヒドロキシとともに、脱離基LG2を形成することが可能な求電子基であり、Xがハロゲンである)と反応させて、式XIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基であり、LG2が脱離基である)を得て;式XIIの化合物を、塩基性条件下で環化して、式XIIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノ基である)を得ることをさらに含み;ここで、式XIIIの化合物の、請求項2に記載の対応する式IVの化合物のための脱保護/脱アシル化工程(i)が、酸HAを用いて行われる、請求項2〜5のいずれか一項に記載の方法。
  10. 式IIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、LGが脱離基である)の製造方法であって、最初に、式XIXの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、LGがクロロであり、Halがクロロである)を、式XXVIの化合物:
    Figure 2022502388

    をアンモニアで処理して、前記式XIXの化合物を得ることによって取得し;次に、前記式XIXの化合物を、式MtSのアルカリ金属硫化物(ここで、Mtがアルカリ金属である)と、及び次に式(alk)NZの第四級アンモニウムハロゲン化物(ここで、各alkが、互いに独立して、アルキルであり、Zがハロである)と反応させて、式XXVIIの化合物
    Figure 2022502388

    (式中、各alkが、独立して、アルキルである)を得て、次に、それを、式XXIIIの化合物:
    Figure 2022502388

    と反応させて、前記式IIIの化合物を得ることを含む製造方法。
  11. 前記Mtアルカリ金属がナトリウムである、請求項10に記載の方法。
  12. (i)式IIの塩化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Aが、プロトン酸のアニオンであり、式IIの塩が電気的に中性であるように、n、m及びpが、1、2及び3から選択される);
    (ii)式VIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、非置換若しくは置換アルキル、非置換若しくは置換シクロアルキル又は非置換若しくは置換アリールである);
    (iii)式VIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基である)
    (iv)式VIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基である);
    (v)式VIIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基である);
    (vi)式IXの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基である);
    (vii)式VIIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノである);
    (viii)式Xの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノである);
    (ix)式XIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノである);
    (x)式XIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノ基であり、LG2が脱離基である);
    (xi)式XIIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、がアシル化アミノ基である);
    (xii)式Xの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である);
    (xiii)式XIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である);
    (xiv)式XIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基であり、LG2が脱離基である);及び
    (xv)式XIIIの化合物:
    Figure 2022502388

    (式中、Rが第二級アミノ保護基であり、Rが、保護されたアミノ基である)
    からなる群から選択される化合物;
    又はその塩。
  13. AがClである、請求項12に記載の化合物。
  14. がtert−ブトキシカルボニルである、請求項12に記載の化合物。
JP2021516762A 2018-09-29 2019-09-18 Shp2の活性を阻害するための化合物及び組成物の製造 Active JP7386855B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023152498A JP2024009810A (ja) 2018-09-29 2023-09-20 Shp2の活性を阻害するための化合物及び組成物の製造

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNPCT/CN2018/108738 2018-09-29
CN2018108738 2018-09-29
PCT/IB2019/057863 WO2020065452A1 (en) 2018-09-29 2019-09-18 Manufacture of compounds and compositions for inhibiting the activity of shp2

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023152498A Division JP2024009810A (ja) 2018-09-29 2023-09-20 Shp2の活性を阻害するための化合物及び組成物の製造

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022502388A true JP2022502388A (ja) 2022-01-11
JP7386855B2 JP7386855B2 (ja) 2023-11-27

Family

ID=68051872

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021516762A Active JP7386855B2 (ja) 2018-09-29 2019-09-18 Shp2の活性を阻害するための化合物及び組成物の製造
JP2023152498A Pending JP2024009810A (ja) 2018-09-29 2023-09-20 Shp2の活性を阻害するための化合物及び組成物の製造

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023152498A Pending JP2024009810A (ja) 2018-09-29 2023-09-20 Shp2の活性を阻害するための化合物及び組成物の製造

Country Status (14)

Country Link
US (2) US11873307B2 (ja)
EP (1) EP3856744A1 (ja)
JP (2) JP7386855B2 (ja)
KR (1) KR20210068472A (ja)
CN (1) CN112867718A (ja)
AR (1) AR116522A1 (ja)
AU (2) AU2019346118B2 (ja)
BR (1) BR112021005593A2 (ja)
CA (1) CA3112322A1 (ja)
CL (1) CL2021000737A1 (ja)
IL (2) IL281726B2 (ja)
MX (1) MX2021003460A (ja)
TW (1) TWI829771B (ja)
WO (1) WO2020065452A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022502385A (ja) * 2018-09-29 2022-01-11 ノバルティス アーゲー Shp2の活性を阻害するための化合物の製造方法

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11529347B2 (en) 2016-09-22 2022-12-20 Relay Therapeutics, Inc. SHP2 phosphatase inhibitors and methods of use thereof
WO2018081091A1 (en) 2016-10-24 2018-05-03 Relay Therapeutics, Inc. Pyrazolo[3,4-b]pyrazine derivatives as shp2 phosphatase inhibitors
EP3630770A1 (en) 2017-05-26 2020-04-08 Relay Therapeutics, Inc. Pyrazolo[3,4-b]pyrazine derivatives as shp2 phosphatase inhibitors
EP3687997A1 (en) 2017-09-29 2020-08-05 Relay Therapeutics, Inc. Pyrazolo[3,4-b]pyrazine derivatives as shp2 phosphatase inhibitors
CN111902415A (zh) 2018-03-02 2020-11-06 大冢制药株式会社 药学化合物
CA3094690A1 (en) 2018-03-21 2019-09-26 Relay Therapeutics, Inc. Shp2 phosphatase inhibitors and methods of use thereof
MX2021000795A (es) 2018-07-24 2021-04-12 Taiho Pharmaceutical Co Ltd Compuestos heterociclicos para inhibir la actividad de shp2.
EP3853234A1 (en) 2018-09-18 2021-07-28 Nikang Therapeutics, Inc. Fused tricyclic ring derivatives as src homology-2 phosphatase inhibitors
CN112867718A (zh) 2018-09-29 2021-05-28 诺华股份有限公司 用于抑制shp2活性的化合物和组合物的制造
WO2020072656A1 (en) 2018-10-03 2020-04-09 Gilead Sciences, Inc. Imidozopyrimidine derivatives
BR112022005349A2 (pt) 2019-09-24 2022-06-14 Relay Therapeutics Inc Inibidores de shp2 fosfatase e métodos de produção e uso dos mesmos
KR20230042600A (ko) 2020-06-18 2023-03-28 레볼루션 메디슨즈, 인크. Ras 억제제에 대한 획득된 저항성을 지연, 예방, 및 치료하는 방법
WO2022006780A1 (en) * 2020-07-08 2022-01-13 Novartis Ag Manufacture of compounds and compositions for inhibiting activity of shp2
EP4178962A1 (en) 2020-07-08 2023-05-17 Novartis AG Manufacture of compounds and compositions for inhibiting the activity of shp2
KR20230081726A (ko) 2020-09-03 2023-06-07 레볼루션 메디슨즈, 인크. Shp2 돌연변이가 있는 악성 종양을 치료하기 위한 sos1 억제제의 용도
JP2023541916A (ja) 2020-09-15 2023-10-04 レボリューション メディシンズ インコーポレイテッド がんの治療における、ras阻害剤としてのインドール誘導体
EP4334321A1 (en) 2021-05-05 2024-03-13 Revolution Medicines, Inc. Ras inhibitors
CN117500811A (zh) 2021-05-05 2024-02-02 锐新医药公司 共价ras抑制剂及其用途
PE20240089A1 (es) 2021-05-05 2024-01-16 Revolution Medicines Inc Inhibidores de ras para el tratamiento del cancer
AR127308A1 (es) 2021-10-08 2024-01-10 Revolution Medicines Inc Inhibidores ras
TW202342040A (zh) 2022-02-21 2023-11-01 瑞士商諾華公司 藥物配製物
WO2023172940A1 (en) 2022-03-08 2023-09-14 Revolution Medicines, Inc. Methods for treating immune refractory lung cancer
WO2023240263A1 (en) 2022-06-10 2023-12-14 Revolution Medicines, Inc. Macrocyclic ras inhibitors
CN115490697B (zh) * 2022-11-07 2023-09-29 西华大学 一种手性氮杂螺[4,5]-癸胺的不对称合成方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016203404A1 (en) * 2015-06-19 2016-12-22 Novartis Ag Compounds and compositions for inhibiting the activity of shp2
JP2017502993A (ja) * 2014-01-17 2017-01-26 ノバルティス アーゲー Shp2の活性を阻害するためのn−アザスピロシクロアルカン置換n−ヘテロアリール化合物および組成物
WO2018013597A1 (en) * 2016-07-12 2018-01-18 Revolution Medicines, Inc. 2,5-disubstituted 3-methyl pyrazines and 2,5,6-trisubstituted 3-methyl pyrazines as allosteric shp2 inhibitors
JP2018517752A (ja) * 2015-06-19 2018-07-05 ノバルティス アーゲー Shp2の活性を阻害するための化合物および組成物
JP2018517746A (ja) * 2015-06-19 2018-07-05 ノバルティス アーゲー Shp2の活性を阻害するための化合物および組成物
JP2022502385A (ja) * 2018-09-29 2022-01-11 ノバルティス アーゲー Shp2の活性を阻害するための化合物の製造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3094627B1 (en) 2014-01-17 2018-08-22 Novartis AG 1-pyridazin-/triazin-3-yl-piper(-azine)/idine/pyrolidine derivatives and and compositions thereof for inhibiting the activity of shp2
EP3094629B1 (en) * 2014-01-17 2018-08-22 Novartis AG 1-(triazin-3-yl/pyridazin-3-yl)-piper(-azine)idine derivatives and compositions thereof for inhibiting the activity of shp2
CN112250670B (zh) * 2016-06-07 2021-06-08 北京加科思新药研发有限公司 可用作shp2抑制剂的新型杂环衍生物
PL3468972T3 (pl) 2016-06-14 2020-11-16 Novartis Ag Związki i kompozycje do hamowania aktywności shp2
KR102571130B1 (ko) 2017-01-10 2023-08-28 노파르티스 아게 Alk 저해제 및 shp2 저해제를 포함하는 약제학적 조합
JP7240319B2 (ja) 2017-01-23 2023-03-15 レヴォリューション・メディスンズ,インコーポレイテッド アロステリックshp2阻害剤としての二環式化合物
SG11201908820VA (en) 2017-03-23 2019-10-30 Jacobio Pharmaceuticals Co Ltd Novel heterocyclic derivatives useful as shp2 inhibitors
TW201930292A (zh) 2017-10-12 2019-08-01 美商銳新醫藥公司 作為變構shp2抑制劑的吡啶、吡嗪和三嗪化合物
CN112867718A (zh) 2018-09-29 2021-05-28 诺华股份有限公司 用于抑制shp2活性的化合物和组合物的制造
US20220152026A1 (en) 2019-02-12 2022-05-19 Novartis Ag Pharmaceutical combination comprising tno155 and a krasg12c inhibitor
KR20210126652A (ko) 2019-02-12 2021-10-20 노파르티스 아게 Tno155 및 pd-1 억제제를 포함하는 약제학적 조합물
BR112021015632A2 (pt) 2019-02-12 2021-10-05 Novartis Ag Combinação farmacêutica que compreende tno155 e ribociclibe
CN111647000B (zh) 2019-03-04 2021-10-12 勤浩医药(苏州)有限公司 吡嗪类衍生物及其在抑制shp2中的应用
CN110713447B (zh) 2019-11-15 2021-07-23 山东国邦药业有限公司 一种对甲硫基苯甲醛的制备方法
JP2023515817A (ja) 2020-02-28 2023-04-14 ノバルティス アーゲー ダブラフェニブ、erk阻害剤及びshp2阻害剤を含む三重の医薬品の組合せ
MX2022013867A (es) 2020-05-08 2022-11-30 Novartis Ag Combinacion farmaceutica que comprende tno155 y nazartinib.
EP4178962A1 (en) 2020-07-08 2023-05-17 Novartis AG Manufacture of compounds and compositions for inhibiting the activity of shp2

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017502993A (ja) * 2014-01-17 2017-01-26 ノバルティス アーゲー Shp2の活性を阻害するためのn−アザスピロシクロアルカン置換n−ヘテロアリール化合物および組成物
WO2016203404A1 (en) * 2015-06-19 2016-12-22 Novartis Ag Compounds and compositions for inhibiting the activity of shp2
JP2018517752A (ja) * 2015-06-19 2018-07-05 ノバルティス アーゲー Shp2の活性を阻害するための化合物および組成物
JP2018517746A (ja) * 2015-06-19 2018-07-05 ノバルティス アーゲー Shp2の活性を阻害するための化合物および組成物
WO2018013597A1 (en) * 2016-07-12 2018-01-18 Revolution Medicines, Inc. 2,5-disubstituted 3-methyl pyrazines and 2,5,6-trisubstituted 3-methyl pyrazines as allosteric shp2 inhibitors
JP2022502385A (ja) * 2018-09-29 2022-01-11 ノバルティス アーゲー Shp2の活性を阻害するための化合物の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022502385A (ja) * 2018-09-29 2022-01-11 ノバルティス アーゲー Shp2の活性を阻害するための化合物の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
AR116522A1 (es) 2021-05-19
WO2020065452A1 (en) 2020-04-02
BR112021005593A2 (pt) 2021-06-29
TW202035417A (zh) 2020-10-01
IL281726B1 (en) 2023-11-01
US20210355134A1 (en) 2021-11-18
CL2021000737A1 (es) 2021-10-22
AU2019346118B2 (en) 2024-05-16
IL281726B2 (en) 2024-03-01
IL281726A (en) 2021-05-31
AU2019346118A1 (en) 2021-04-01
KR20210068472A (ko) 2021-06-09
US20240246991A1 (en) 2024-07-25
IL304526A (en) 2023-09-01
CN112867718A (zh) 2021-05-28
CA3112322A1 (en) 2020-04-02
TWI829771B (zh) 2024-01-21
US11873307B2 (en) 2024-01-16
AU2024202897A1 (en) 2024-05-23
EP3856744A1 (en) 2021-08-04
MX2021003460A (es) 2021-06-18
JP2024009810A (ja) 2024-01-23
JP7386855B2 (ja) 2023-11-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7386855B2 (ja) Shp2の活性を阻害するための化合物及び組成物の製造
JP7245834B2 (ja) 嚢胞性線維症膜コンダクタンス制御因子のモジュレーターを作成するためのプロセス
WO2003089410A1 (fr) Derive de phenylalanine
PL173659B1 (pl) Sposób wytwarzania nowych pochodnych piperydyny
WO2005016264A2 (en) Diamine derivatives of quinone and uses thereof
CN103193763B (zh) 一种来那度胺的制备方法
AU2021305970B2 (en) Manufacture of compounds and compositions for inhibiting the activity of SHP2
RU2797951C2 (ru) Производство соединений и композиций для подавления активности shp2
WO2022006780A1 (en) Manufacture of compounds and compositions for inhibiting activity of shp2
CA2909735C (en) Tricyclic triazolic compounds as sigma receptors ligands
EP3303329B1 (en) Processes to make indazole derivatives
JP2024091605A (ja) リジン特異的デメチラーゼ1(lsd1)阻害剤の製造方法
JP2016509043A (ja) 5−ht6受容体アンタゴニストとしてのピリジン誘導体
WO2005013903A2 (en) Derivatives of substituted quinone and uses thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220629

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230615

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230620

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230920

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20231107

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231114

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7386855

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150