JP2022179135A - 半導体装置 - Google Patents
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- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
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- H01L2224/05099—Material
- H01L2224/051—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05163—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05166—Titanium [Ti] as principal constituent
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- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0556—Disposition
- H01L2224/0557—Disposition the external layer being disposed on a via connection of the semiconductor or solid-state body
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- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05638—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05644—Gold [Au] as principal constituent
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- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05638—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/05647—Copper [Cu] as principal constituent
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- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
- H01L2224/056—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/05663—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
- H01L2224/05684—Tungsten [W] as principal constituent
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- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/061—Disposition
- H01L2224/0618—Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
- H01L2224/06181—On opposite sides of the body
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- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/07—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process
- H01L2224/08—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0801—Structure
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- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/07—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process
- H01L2224/08—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0805—Shape
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- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/07—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process
- H01L2224/08—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0805—Shape
- H01L2224/08052—Shape in top view
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- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/07—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process
- H01L2224/08—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0805—Shape
- H01L2224/0807—Shape of bonding interfaces, e.g. interlocking features
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- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/07—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process
- H01L2224/08—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/081—Disposition
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/07—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process
- H01L2224/08—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/081—Disposition
- H01L2224/0812—Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding
- H01L2224/08121—Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding the connected bonding areas being not aligned with respect to each other
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- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/07—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process
- H01L2224/08—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/081—Disposition
- H01L2224/0812—Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding
- H01L2224/08135—Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding the bonding area connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/08145—Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding the bonding area connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
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- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/07—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process
- H01L2224/08—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/081—Disposition
- H01L2224/0812—Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding
- H01L2224/08135—Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding the bonding area connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/08145—Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding the bonding area connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
- H01L2224/08146—Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding the bonding area connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked the bonding area connecting to a via connection in the body
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/07—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process
- H01L2224/08—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/085—Material
- H01L2224/08501—Material at the bonding interface
-
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/80001—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected by connecting a bonding area directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding
- H01L2224/8034—Bonding interfaces of the bonding area
- H01L2224/80357—Bonding interfaces of the bonding area being flush with the surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/80001—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected by connecting a bonding area directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding
- H01L2224/808—Bonding techniques
- H01L2224/80894—Direct bonding, i.e. joining surfaces by means of intermolecular attracting interactions at their interfaces, e.g. covalent bonds, van der Waals forces
- H01L2224/80895—Direct bonding, i.e. joining surfaces by means of intermolecular attracting interactions at their interfaces, e.g. covalent bonds, van der Waals forces between electrically conductive surfaces, e.g. copper-copper direct bonding, surface activated bonding
-
- H—ELECTRICITY
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/80001—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected by connecting a bonding area directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding
- H01L2224/808—Bonding techniques
- H01L2224/80894—Direct bonding, i.e. joining surfaces by means of intermolecular attracting interactions at their interfaces, e.g. covalent bonds, van der Waals forces
- H01L2224/80896—Direct bonding, i.e. joining surfaces by means of intermolecular attracting interactions at their interfaces, e.g. covalent bonds, van der Waals forces between electrically insulating surfaces, e.g. oxide or nitride layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06517—Bump or bump-like direct electrical connections from device to substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06541—Conductive via connections through the device, e.g. vertical interconnects, through silicon via [TSV]
-
- H—ELECTRICITY
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- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06541—Conductive via connections through the device, e.g. vertical interconnects, through silicon via [TSV]
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Abstract
Description
本実施形態は、半導体装置に関する。
近年、複数の半導体チップ同士を貼合させてパッドを電気的に接合する技術が開発されている。一方、CMP(Chemical Mechanical Polishing)法等の研磨方法では、研磨される材質の相違によって、ディッシング(窪み)が発生することがある。接合面のパッドがディッシングによって窪むと、複数の半導体チップ同士を貼合したときに、パッド間の接触抵抗が上昇したり、パッド間のオープン不良が生じる場合がある。
貼合される半導体チップ間の接触抵抗の上昇を抑制し、あるいは、オープン不良を抑制することができる半導体装置を提供する。
本実施形態による半導体装置は、第1絶縁層を備える。第1パッドは、第1絶縁層の表面に露出される。第2絶縁層は、第1絶縁層に接合される。第2パッドは、第2絶縁層の表面に露出され、第1パッドに接合される。第1絶縁層の表面に対して略垂直方向からの第1平面視において、第1パッドの内側には、第1導電性材料と、第1導電性材料よりもエッチングレートが低い第1絶縁性材料とがある。第1絶縁性材料は第1導電性材料の内側にアイランド状に設けられている。
以下、図面を参照して本発明に係る実施形態を説明する。本実施形態は、本発明を限定するものではない。以下の実施形態において、半導体チップの上下方向は、重力加速度に従った上下方向と異なる場合がある。図面は模式的または概念的なものであり、各部分の比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。明細書と図面において、既出の図面に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態による半導体パッケージ1の構成例を示す断面図である。本実施形態の半導体パッケージ1は、半導体メモリのパッケージの例である。しかし、本実施形態は、他の半導体装置に適用することもできる。
図1は、第1実施形態による半導体パッケージ1の構成例を示す断面図である。本実施形態の半導体パッケージ1は、半導体メモリのパッケージの例である。しかし、本実施形態は、他の半導体装置に適用することもできる。
半導体パッケージ1は、配線基板10と、金属バンプ20、半田ボール70と、コントローラチップ30と、積層された複数のメモリチップを含むメモリチップ積層体40と、各メモリチップを貫通するように設けられた電極50と、封止樹脂60とを備えている。
配線基板10は、絶縁体11と、配線層12と、ソルダレジスト層13とを備えている。絶縁体11には、例えば、ガラスエポキシ樹脂等の絶縁材料が用いられる。配線層12は、絶縁体11の表面および裏面に設けられた導電体である。配線層12には、例えば、銅等の低抵抗金属材料が用いられる。ソルダレジスト層13は、配線層12の上に設けられている。
金属バンプ20は、配線基板10の表面側に設けられており、配線層12の一部に電気的に接続されている。半田ボール70は、配線基板10の裏面側に設けられており、配線層12の一部に電気的に接続されている。
コントローラチップ30は、配線基板10の表面上方に設けられている。コントローラチップ30は、複数のメモリチップを制御するために設けられている。
メモリチップ積層体40は、コントローラチップ30の上に積層されている。複数のメモリチップは、例えば、NAND型メモリセルを搭載する半導体チップである。電極50を介して各メモリチップ及びコントローラチップ30が電気的に接続されている。電極50は、電源電力、接地電圧、制御信号、または、データ等を伝達する。電極50には、例えば、タングステン、ニッケル、銅、金、アルミ、ポリシリコン等の導電性材料が用いられる。
封止樹脂60は、配線基板10の表面上に設けられ、コントローラチップ30およびメモリチップ積層体40を封止している。
図2は、第1実施形態による半導体パッケージ1の一部分の構成例を示す断面図である。 図2では、積層された2つのメモリチップ40_1、40_2の断面を示している。メモリチップ40_1とメモリチップ40_2とは、接合面B_chipにおいて接合されている。
メモリチップ40_1は、メモリセルアレイMCA1を含むアレイチップCH_A1と、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)回路CMOS1を含む回路チップCH_C1とを含む。メモリチップ40_2は、メモリセルアレイMCA2を含むアレイチップCH_A2と、CMOS回路CMOS2を含む回路チップCH_C2とを含む。
(メモリチップ40_1)
アレイチップCH_A1は、層間絶縁膜ILD1_1で被覆されたメモリセルアレイMCA1を含む。メモリセルアレイMCA1は、Z方向に積層され相互に絶縁された複数のワード線WL1と、積層された複数のワード線WL1を積層方向(Z方向)に貫通するように延伸する複数の柱状体CL1とを有する。ワード線WL1と柱状体CL1との交差点に対応してメモリセルMC1が設けられている。複数の柱状体CL1の一端は、ソース線SL1に共通に接続されている。複数の柱状体CL1の他端は、Y方向に延伸するビット線BL1のいずれかに接続されている。
アレイチップCH_A1は、層間絶縁膜ILD1_1で被覆されたメモリセルアレイMCA1を含む。メモリセルアレイMCA1は、Z方向に積層され相互に絶縁された複数のワード線WL1と、積層された複数のワード線WL1を積層方向(Z方向)に貫通するように延伸する複数の柱状体CL1とを有する。ワード線WL1と柱状体CL1との交差点に対応してメモリセルMC1が設けられている。複数の柱状体CL1の一端は、ソース線SL1に共通に接続されている。複数の柱状体CL1の他端は、Y方向に延伸するビット線BL1のいずれかに接続されている。
メモリセルアレイMCA1は、アレイ領域R_Arrに設けられている。ワード線WL1は、テラス領域R_TrrまでX方向に延伸しており、テラス領域R_Trrにおいて、階段状に形成されている。階段状に形成された各ワード線WL1のステップ面に対して、コンタクトプラグCC1が接続されている。コンタクトプラグCC1は、それぞれアレイ領域R_Arrに設けられたパッドP1_1aとワード線WL1との間に配線層W1_1を介して電気的に接続される。パッドP1_1aは、層間絶縁膜ILD1_1の表面から露出され、アレイチップCH_A1の接合面B_mc1に設けられた電極パッドである。配線層W1_1は、コンタクトプラグCC1を介してメモリセルアレイMCA1とパッドP1_1aとの間を電気的に接続する。
アレイ領域R_Arrおよびテラス領域R_Trrの周囲には、周辺領域R_Priが設けられている。周辺領域R_Priはメモリチップの周辺部だけでなく、メモリチップの中央部も含め、様々な位置に設けられてもよい。周辺領域R_Priには、コンタクトプラグCpri1がアレイチップCH_A1の層間絶縁膜ILD1_1をZ方向に貫通するように設けられている。コンタクトプラグCpri1の一端は、周辺領域R_Priの接合面B_mc1に設けられたパッドP1_1aに配線層W1_1を介して電気的に接続されている。コンタクトプラグCpri1の他端は、アレイチップCH_A1の接合面B_mc1とは反対面に設けられたパッドP1_1bに電気的に接続されている。
回路チップCH_C1は、アレイチップCH_A1の下方(-Z方向)に設けられており、層間絶縁膜ILD1_2で被覆されたCMOS回路CMOS1を含む。CMOS回路CMOS1は、半導体層SUB1上に設けられており、P型MOSFET(MOS Field Effect Transistor)およびN型MOSFETを含む回路である。CMOS回路CMOS1は、他の半導体素子(例えば、抵抗素子、容量素子)を含んでいてもよい。CMOS回路CMOS1は、層間絶縁膜ILD1_2に被覆されている。層間絶縁膜ILD1_2には、多層配線層W1_2が設けられている。多層配線層W1は、CMOS回路CMOS1とパッドP1_2aとの間を電気的に接続する。パッドP1_2aは、層間絶縁膜ILD1_2の表面から露出され、回路チップCH_C1の接合面B_mc1に設けられた電極パッドである。パッドP1_2aは、アレイ領域R_Arr、テラス領域R_Trrおよび周辺領域R_Priのいずれに設けられていてもよい。
回路チップCH_C1の周辺領域R_Priには、貫通電極TSV1が設けられている。貫通電極TSV1は電極50の一部である。貫通電極TSV1は、半導体層SUB1をZ方向に貫通し、パッドP1_2aとパッドP1_2bとの間に電気的に接続されている。パッドP1_2bは、接合面B_mc1とは反対側の貫通電極TSV1の端部に設けられた電極パッドである。
アレイチップCH_A1と回路チップCH_C1は、接合面B_mc1において貼り合わされている。接合面B_mc1において、層間絶縁膜ILD1_1、ILD1_2が接合されており、パッドP1_1aとP1_2aとが接合されている。これにより、回路チップCH_C1のCMOS回路CMOS1は、多層配線層W1_2、パッドP1_2a、P1_1aおよびコンタクトプラグCC1を介してメモリセルアレイMCA1に電気的に接続される。その結果、CMOS回路CMOS1は、メモリセルアレイMCA1を制御することができる。また、貫通電極TSV1は、パッドP1_2a、P1_1aおよび配線層W1_1を介してコンタクトプラグCpri1に電気的に接続される。貫通電極TSV1は、例えば、電源電力または接地電位をチップ間に共通に伝達可能にするために設けられている。
(メモリチップ40_2)
アレイチップCH_A2は、層間絶縁膜ILD2_1で被覆されたメモリセルアレイMCA2を含む。メモリセルアレイMCA2は、Z方向に積層され相互に絶縁された複数のワード線WL2と、積層された複数のワード線WL2を積層方向(Z方向)に貫通するように延伸する複数の柱状体CL2とを有する。ワード線WL2と柱状体CL2との交差点に対応してメモリセルMC2が設けられている。複数の柱状体CL2の一端は、ソース線SL2に共通に接続されている。複数の柱状体CL2の他端は、Y方向に延伸するビット線BL2のいずれかに接続されている。
アレイチップCH_A2は、層間絶縁膜ILD2_1で被覆されたメモリセルアレイMCA2を含む。メモリセルアレイMCA2は、Z方向に積層され相互に絶縁された複数のワード線WL2と、積層された複数のワード線WL2を積層方向(Z方向)に貫通するように延伸する複数の柱状体CL2とを有する。ワード線WL2と柱状体CL2との交差点に対応してメモリセルMC2が設けられている。複数の柱状体CL2の一端は、ソース線SL2に共通に接続されている。複数の柱状体CL2の他端は、Y方向に延伸するビット線BL2のいずれかに接続されている。
メモリセルアレイMCA2は、アレイ領域R_Arrに設けられている。ワード線WL2は、テラス領域R_TrrまでX方向に延伸しており、テラス領域R_Trrにおいて、階段状に形成されている。階段状に形成された各ワード線WL2のステップ面に対して、コンタクトプラグCC2が接続されている。コンタクトプラグCC2は、それぞれアレイ領域R_Arrに設けられたパッドP2_1aとワード線WL2との間に配線層W2_1を介して電気的に接続される。パッドP2_1aは、層間絶縁膜ILD2_1の表面に露出されており、アレイチップCH_A2の接合面B_mc2に設けられた電極パッドである。配線層W2_1は、コンタクトプラグCC2を介してメモリセルアレイMCA2とパッドP2_1aとの間を電気的に接続する。
アレイ領域R_Arrおよびテラス領域R_Trrの周囲には、周辺領域R_Priが設けられている。周辺領域R_Priには、コンタクトプラグCpri2がアレイチップCH_A2の層間絶縁膜ILD2_1をZ方向に貫通するように設けられている。コンタクトプラグCpri2の一端は、周辺領域R_Priの接合面B_mc2に設けられたパッドP2_1aに配線層W2_1を介して電気的に接続されている。コンタクトプラグCpri2の他端は、アレイチップCH_A2の接合面B_mc2とは反対面に設けられたパッドP2_1bに電気的に接続されている。
回路チップCH_C2は、アレイチップCH_A2の下方(-Z方向)に設けられており、層間絶縁膜ILD2_2で被覆されたCMOS回路CMOS2を含む。CMOS回路CMOS2は、半導体層SUB2上に設けられており、P型MOSFETおよびN型MOSFETを含む回路である。CMOS回路CMOS2は、他の半導体素子(例えば、抵抗素子、容量素子)を含んでいてもよい。CMOS回路CMOS2は、層間絶縁膜ILD2_2に被覆されている。層間絶縁膜ILD2_2には、多層配線層W2_2が設けられている。多層配線層W2_2は、CMOS回路CMOS2とパッドP2_2aとの間を電気的に接続する。パッドP2_2aは、層間絶縁膜ILD2_2の表面に露出されており、回路チップCH_C2の接合面B_mc2に設けられた電極パッドである。パッドP2_2aは、アレイ領域R_Arr、テラス領域R_Trrおよび周辺領域R_Priのいずれに設けられていてもよい。
回路チップCH_C2の周辺領域R_Priには、貫通電極TSV2が設けられている。貫通電極TSV2は、半導体層SUB2をZ方向に貫通し、パッドP2_2aとパッドP2_2bとの間に電気的に接続されている。パッドP2_2bは、接合面B_mc2とは反対側の貫通電極TSV2の端部に設けられた電極パッドである。
アレイチップCH_A2と回路チップCH_C2は、接合面B_mc2において貼り合わされている。接合面B_mc2において、層間絶縁膜ILD2_1、ILD2_2が接合されており、パッドP2_1aとP2_2aとが接合されている。これにより、回路チップCH_C2のCMOS回路CMOS2は、多層配線層W2_2、パッドP2_2a、P2_1aおよびコンタクトプラグCC2を介してメモリセルアレイMCA2に電気的に接続される。その結果、CMOS回路CMOS2は、メモリセルアレイMCA2を制御することができる。また、貫通電極TSV2は、パッドP2_2a、P2_1aおよび配線層W2_1を介してコンタクトプラグCpri2に電気的に接続される。貫通電極TSV2も、例えば、電源電力または接地電位をチップ間に共通に伝達可能にするために設けられている。
(メモリチップ40_1、40_2間の接合)
メモリチップ40_1とメモリチップ40_2は、接合面B_chipにおいて接合されている。接合面B_chipにおいて、パッドP1_1bとパッドP2_1bとが接合されている。メモリチップ40_1と40_2は、互いに接合されたパッドP1_1b、P2_1bを介して電気的に接続されている。これにより、貫通電極TSV1、TSV2およびコンタクトプラグCpri1、Cpri2は、電気的に接続されており、例えば、電源電力または接地電位を、積層された複数のメモリチップ40_1、40_2間において共通に伝達することができる。
メモリチップ40_1とメモリチップ40_2は、接合面B_chipにおいて接合されている。接合面B_chipにおいて、パッドP1_1bとパッドP2_1bとが接合されている。メモリチップ40_1と40_2は、互いに接合されたパッドP1_1b、P2_1bを介して電気的に接続されている。これにより、貫通電極TSV1、TSV2およびコンタクトプラグCpri1、Cpri2は、電気的に接続されており、例えば、電源電力または接地電位を、積層された複数のメモリチップ40_1、40_2間において共通に伝達することができる。
(パッドP1_1a等の構成)
図3Aは、パッドP1_1aの構成例を示す平面図である。図3Aでは、アレイチップCH_A1の層間絶縁膜ILD1_1の表面(接合面B_mc1)に対して略垂直方向からの第1平面視(Z方向から見た平面視)において、パッドP1_1aは、層間絶縁膜ILD1_1の表面から露出されている。上記平面視において、パッドP1_1aは、その周辺を層間絶縁膜ILD1_1によって囲まれており、例えば、略八角形の形状を有する。パッドP1_1aの平面形状は、八角形以外の多角形、略円形、略楕円形であってもよい。
図3Aは、パッドP1_1aの構成例を示す平面図である。図3Aでは、アレイチップCH_A1の層間絶縁膜ILD1_1の表面(接合面B_mc1)に対して略垂直方向からの第1平面視(Z方向から見た平面視)において、パッドP1_1aは、層間絶縁膜ILD1_1の表面から露出されている。上記平面視において、パッドP1_1aは、その周辺を層間絶縁膜ILD1_1によって囲まれており、例えば、略八角形の形状を有する。パッドP1_1aの平面形状は、八角形以外の多角形、略円形、略楕円形であってもよい。
パッドP1_1aの内側には、バリアメタル膜101_1a、導電性材料102_1a、および、絶縁性材料103_1aが設けられている。
バリアメタル膜101_1aは、パッドP1_1aの外縁に設けられ、層間絶縁膜ILD1_1または絶縁性材料103_1aと導電性材料102_1aとの間に設けられている。バリアメタル膜101_1aには、例えば、チタン膜および窒化チタン膜の積層膜等の導電性材料が用いられる。
導電性材料102_1aは、バリアメタル膜101_1aで囲まれたパッドP1_1aの内側に設けられている。導電性材料102_1aには、例えば、銅、タングステン等の導電性材料が用いられる。絶縁性材料103_1aは、導電性材料102_1aの内側にアイランド状に設けられており、その周囲は、導電性材料102_1aで囲まれている。
上記平面視において、複数の絶縁性材料103_1aは、導電性材料102_1aの表面において、それぞれY方向に延伸しており、細長形状を有する。また、上記平面視において、複数の絶縁性材料103_1aは、導電性材料102_1aの表面において、Y方向に対して直交するX方向にストライプ状またはラインアンドスペース状に配列されている。換言すると、複数の絶縁性材料103_1aは、略平行に延伸するスリット状または短冊状に設けられている。複数の絶縁性材料103_1aは、上記平面視において、パッドP1_1aの内側に設けられており、バリアメタル膜101_1aおよび層間絶縁膜ILD1_1には達していない。尚、絶縁性材料103_1aは、パッドP1_1aの下方において、層間絶縁膜ILD1_1とつながっていてもよい。絶縁性材料103_1aには、層間絶縁膜ILD1_1と同じ材料(例えば、シリコン酸化膜)が用いられ得る。
また、上記平面視においてパッドP1_1aの絶縁性材料103_1aの面積は、導電性材料102_1aの面積よりも小さい。導電性材料102_1aの面積を比較的大きくすることによって、回路チップCH_C1のパッドP1_2aの導電性材料102_2aとの接触面積が大きくなり、パッドP1_1aとパッドP1_2aとの間の接触抵抗を低く抑えることができる。
ここで、絶縁性材料103_1aは、導電性材料102_1aの材料(例えば、銅またはタングステン等の金属材料)よりもCMP工程におけるエッチングレートが低い材料(例えば、シリコン酸化膜等の酸化膜、または窒化シリコン膜等の窒化膜、炭化シリコン膜というの炭化膜、またはこれらの複合材料等を用いることができる。)で形成されている。例えば、絶縁性材料103_1aは、導電性材料102_1aの材料よりも研磨され難い物理的に硬い材料で形成されていてもよい。あるいは、絶縁性材料103_1aは、導電性材料102_1aの材料よりも研磨剤(スラリ)によって化学的にエッチングされ難い材料で形成されていてもよい。従って、CMP工程において、絶縁性材料103_1aが導電性材料102_1aの内側において支柱となり、導電性材料102_1aの中央部の膜厚が薄くなり窪みができる(ディッシング)ことを緩和することができる。
パッドP1_1aのX方向またはY方向の幅Wp1_1aは、例えば、約1μmである。絶縁性材料103_1aの幅W103_1aは、例えば、約数10nmである。
破線で示す配線層W1_1は、パッドP1_1aの下に設けられている。配線層W1_1は、ビアコンタクトV1_1を介してパッドP1_1aに電気的に接続されている。本実施形態では、9個のビアコンタクトV1_1がパッドP1_1aと配線層W1_1との間に設けられている。しかし、ビアコンタクトV1_1の個数は、9個に限定されず、任意でよい。また、図3Cは、配線層W1_1の構成の一例を示す平面図である。配線層W1_1は、上記平面視においてパッドP1_1aの下方に略方形の枠内に十字形状に形成されている。配線層W1_1上には、9個のビアコンタクトV1_1が設けられている。
また、配線層W1_1は十字形状ではなく、べた形状であってもよい。
また、配線層W1_1は十字形状ではなく、べた形状であってもよい。
図3Bは、パッドP1_1aの構成例を示す断面図である。図3Bは、図3AのB-B線に沿った断面を示す。パッドP1_1aは、層間絶縁膜ILD1_1内に埋め込まれており、層間絶縁膜ILD1_1の表面に露出されている。導電性材料102_1aは、その下に設けられた配線層W1_1にビアコンタクトV1_1を介して電気的に接続されている。絶縁性材料103_1aは、層間絶縁膜ILD1_1の一部でよく、同一材料でよい。尚、導電性材料102_1aの高さは、例えば、約1μmである。
このように、本実施形態によれば、パッドP1_1aは、接合面B_mc1に対して略垂直方向からの平面視において、導電性材料102_1aの内側にアイランド状に設けられた絶縁性材料103_1aを含む。絶縁性材料103_1aは、導電性材料102_1aよりもエッチングレートが低い材料で形成されている。従って、層間絶縁膜ILD1_1および導電性材料102_1aを研磨するCMP工程において、絶縁性材料103_1aが導電性材料102_1a内において支柱となり、導電性材料102_1aのディッシングを緩和することができる。
絶縁性材料103_1aが設けられていない場合、導電性材料102_1aは、比較的広い面積で研磨される。この場合、導電性材料102_1aの内側において、大きくディッシングされ窪む。
これに対し、本実施形態によれば、絶縁性材料103_1aが導電性材料102_1aを比較的小さい面積に分け、導電性材料102_1a内において支柱となる。これにより、導電性材料102_1aの内側において、ディッシングが抑制される。
絶縁性材料103_1aは、導電性材料102_1a内に略均等に配置されていることが好ましい。これにより、導電性材料102_1aのディッシングが局所的に大きく発生することを抑制できる。
図3Aおよび図3Bは、パッドP1_1aについて説明したが、パッドP1_2a、P2_1a、P2_2a、P1_2b、P2_1bについても、同様に構成されてよい。これにより、パッドP1_1a以外の他のパッドP1_2a、P2_1a、P2_2a、P1_2b、P2_1bについても、CMP工程において、ディッシングが抑制される。尚、パッドP1_2a、P2_1a、P2_2a、P1_2b、P2_1bの構成は、図3Aおよび図3Bを参照すれば容易に理解できるので、その詳細な説明を省略する。
図4は、接合面B_mc1の部分の構成例を示す断面図である。アレイチップCH_A1側のパッドP1_1aと回路チップCH_C1側のパッドP1_2aとが接合面B_mc1において接合されている。
パッドP1_1aおよびパッドP1_2aは、ともに図3Aおよび図3Bに示す構成を有する。従って、図3Aに示すパッドP1_1aと同様に、層間絶縁膜ILD1_2の表面に対して略垂直方向からの平面視において、パッドP1_2aの内側には、バリアメタル膜101_2a、導電性材料102_2a、および、絶縁性材料103_2aが設けられている。
尚、以下のパッドP1_2aの説明において、図3Aおよび図3BのパッドP1_1a、層間絶縁膜ILD1_1、バリアメタル膜101_1a、導電性材料102_1a、および、絶縁性材料103_1aは、それぞれパッドP1_2a、層間絶縁膜ILD1_2、バリアメタル膜101_2a、導電性材料102_2a、および、絶縁性材料103_2aと読み替えられるものとする。
バリアメタル膜101_2aは、パッドP1_2aの外縁に設けられ、層間絶縁膜ILD1_2または絶縁性材料103_2aと導電性材料102_2aとの間に設けられている。バリアメタル膜101_2aには、例えば、チタン膜および窒化チタン膜の積層膜等の導電性材料が用いられる。
導電性材料102_2aは、バリアメタル膜101_2aで囲まれたパッドP1_2aの内側に設けられている。導電性材料102_2aには、例えば、銅、タングステン等の導電性材料が用いられる。絶縁性材料103_2aは、導電性材料102_2aの内側にアイランド状に設けられており、その周囲は、導電性材料102_2aで囲まれている。
上記平面視において、複数の絶縁性材料103_2aは、導電性材料102_2aの表面において、それぞれY方向に延伸しており、細長形状を有する。また、上記平面視において、複数の絶縁性材料103_2aは、導電性材料102_2aの表面において、Y方向に対して直交するX方向にストライプ状またはラインアンドスペース状に配列されている。換言すると、複数の絶縁性材料103_2aは、略平行に延伸するスリット状または短冊状に設けられている。複数の絶縁性材料103_2aは、上記平面視において、パッドP1_2aの内側に設けられており、バリアメタル膜101_2aおよび層間絶縁膜ILD1_2には達していない。尚、絶縁性材料103_2aには、層間絶縁膜ILD1_2と同じ材料(例えば、シリコン酸化膜)が用いられ得る。
ここで、絶縁性材料103_2aは、導電性材料102_2aの材料(例えば、銅またはタングステン等の金属材料)よりもエッチングレートが低い材料(例えば、シリコン酸化膜)で形成されている。例えば、絶縁性材料103_2aは、導電性材料102_2aの材料よりも研磨され難い物理的に硬い材料で形成されていてもよい。あるいは、絶縁性材料103_2aは、導電性材料102_2aの材料よりも研磨剤(スラリ)によって化学的にエッチングされ難い材料で形成されていてもよい。従って、CMP工程において、絶縁性材料103_2aが導電性材料102_2aの内側において支柱となり、導電性材料102_2aのディッシングを緩和することができる。
パッドP1_2aのX方向またはY方向の幅Wp1_2aは、例えば、約1μmである。絶縁性材料103_2aの幅W103_2aは、例えば、約数10nmである。
パッドP1_2aは、層間絶縁膜ILD1_2内に埋め込まれており、層間絶縁膜ILD1_2の表面に露出されている。導電性材料102_2aは、その下に設けられた配線層W1_2に電気的に接続されている。絶縁性材料103_2aは、層間絶縁膜ILD1_2の一部でよく、同一材料でよい。尚、導電性材料102_2aの高さは、例えば、約1μmである。
このように、パッドP1_1a、P1_2aはほぼ同一の構成を有する。パッドP1_1aとパッドP1_2aは、パッドP1_1aとパッドP1_2aとの接合面B_mc1において、絶縁性材料103_1aの延伸方向と、絶縁性材料103_2aの延伸方向とがほぼ同じ方向(例えば、Y方向)になるように接合される。これにより、アレイチップCH_A1と回路チップCH_C1とを貼り合わせたとき、図4に示すように、導電性材料102_1aと導電性材料102_2aとが接合面B_mc1においてほぼ対向して一致するように接合される。このとき、パッドP1_1a、P1_2aは、ほとんどディッシングされておらず、導電性材料102_1a、102_2aは、接合面B_mc1においてほとんど窪んでいない。即ち、導電性材料102_1a、102_2aは、接合面B_mc1においてほぼ面一に設けられる。よって、導電性材料102_1aおよび導電性材料102_2aのそれぞれの内側に絶縁性材料103_1a、103_2aが設けられているものの、導電性材料102_1aおよび導電性材料102_2aは、接合面B_mc1において充分に低抵抗で接合され得る。
もし、絶縁性材料103_1a、103_2aが設けられていない場合、接合面B_mc1における導電性材料102_1a、102_2aの面積はその分、広くなるものの、CMP工程におけるディッシングによって、導電性材料102_1a、102_2aは接合不良になりやすくなる。従って、導電性材料102_1aと導電性材料102_2aとの間の接触抵抗が高くなるおそれがある。
これに対し、本実施形態によれば、絶縁性材料103_1a、103_2aが設けられているため、接合面B_mc1における導電性材料102_1a、102_2aの面積はその分、小さくなる。しかし、導電性材料102_1a、102_2aのディッシングは抑制され、導電性材料102_1a、102_2aは、接合面B_mc1においてほとんど窪んでいない。従って、導電性材料102_1aと導電性材料102_2aとの間の接触抵抗は、低くかつ安定させることができる。
次に、第1実施形態によるパッドP1_1a、P1_2aの製造方法について説明する。
図5~図11は、第1実施形態によるパッドP1_1aの製造方法の一例を示す断面図である。尚、パッドP1_2aの製造方法は、パッドP1_1aの製造方法と同様であるので、その詳細な説明は省略する。
まず、アレイチップCH_A1の基板(例えば、シリコン基板)にメモリセルアレイMCA1および層間絶縁膜ILD1_1等を形成する。次に、アレイチップCH_A1の層間絶縁膜ILD1_1に配線層W1_1を形成する。次に、配線層W1_1および層間絶縁膜ILD1_1上にさらに絶縁膜を堆積する。絶縁膜は、層間絶縁膜ILD1_1と同じ材料(例えば、シリコン酸化膜)でよい。よって、配線層W1_1上の絶縁膜も層間絶縁膜ILD1_1と呼ぶ。これにより、図5に示す構造が得られる。
次に、リソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて、配線層W1_1上の層間絶縁膜ILD1_1を加工する。これにより、図6に示すように、配線層W1_1上の層間絶縁膜ILD1_1をビアコンタクトV1_1のパターンに加工する。
次に、図7に示すように、層間絶縁膜ILD1_1および配線層W1_1上にバリアメタル膜201_1aおよび導電性材料202_1aを堆積する。バリアメタル膜201_1aには、例えば、チタン膜と窒化チタン膜の積層膜等が用いられる。導電性材料202_1aには、例えば、銅、タングステン等の導電性材料が用いられる。
次に、CMP法を用いて、層間絶縁膜ILD1_1が露出されるまで、バリアメタル膜201_1aおよび導電性材料202_1aを研磨する。これにより、図8に示すように、バリアメタル膜201_1aおよび導電性材料202_1aからなるビアコンタクトV1_1が形成される。
次に、ビアコンタクトV1_1上にさらに絶縁膜を堆積する。絶縁膜は、層間絶縁膜ILD1_1と同じ材料(例えば、シリコン酸化膜)でよい。よって、ビアコンタクトV1_1上の絶縁膜も層間絶縁膜ILD1_1と呼ぶ。次に、リソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて、図9に示すように、ビアコンタクトV1_1上の層間絶縁膜ILD1_1をパッドP1_1aのパターンに加工する。
次に、図10に示すように、層間絶縁膜ILD1_1およびビアコンタクトV1_1上にバリアメタル膜101_1aおよび導電性材料102_1aを堆積する。バリアメタル膜101_1aには、例えば、チタン膜と窒化チタン膜の積層膜等が用いられる。導電性材料102_1aには、例えば、銅、タングステン等の導電性材料が用いられる。
次に、CMP法を用いて、層間絶縁膜ILD1_1が露出されるまで、バリアメタル膜101_1aおよび導電性材料102_1aを研磨する。これにより、図11に示すように、バリアメタル膜101_1aおよび導電性材料102_1aを含むパッドP1_1aが形成される。尚、CMP工程で露出された層間絶縁膜ILD1_1が上記絶縁性材料103_1aとなっている。
ここで、図3Aに示すように、絶縁性材料103_1aが導電性材料102_1aの内側にアイランド状(例えば、ストライプ状またはラインアンドスペース状)に設けられている。バリアメタル膜101_1aおよび導電性材料102_1aのCMP工程において、絶縁性材料103_1aが導電性材料102_1a内において支柱として機能する。これにより、パッドP1_1aにおいて導電性材料102_1aのディッシング(窪み)が抑制される。
以上、アレイチップCH_A1のパッドP1_1aの製造方法について説明した。回路チップCH_C1のパッドP1_2aは、CMOS回路CMOS1に接続されるものの、パッドP1_1aと同様に形成される。よって、パッドP1_2aにおいても導電性材料102_2aのディッシング(窪み)も抑制される。
アレイチップCH_A1のパッドP1_1aおよび回路チップCH_C1のパッドP1_2aのディッシングが抑制される。従って、アレイチップCH_A1と回路チップCH_C1とを貼り合わせたときに、図4に示すように、パッドP1_1aとパッドP1_2aとはほとんど隙間なく充分に接合される。その結果、アレイチップCH_A1と回路チップCH_C1との間のパッド間の接触抵抗の上昇を抑制し、オープン不良を抑制することができる。
以上、アレイチップCH_A1と回路チップCH_C1との間の接合について説明したが、本実施形態は、メモリチップ40_1、40_2間の接合についても適用することができる。
(メモリチップ40_1、40_2間の接合)
図2に示すように、メモリチップ40_1とメモリチップ40_2とは、接合面B_chipにおいて接合する。メモリチップ40_1、40_2は、互いに同じ構成を有する。
図2に示すように、メモリチップ40_1とメモリチップ40_2とは、接合面B_chipにおいて接合する。メモリチップ40_1、40_2は、互いに同じ構成を有する。
接合面B_chipにおいて、メモリチップ40_1のパッドP1_2bとメモリチップ40_2のパッドP2_1bとが電気的に接続される。パッドP1_2bは、メモリチップ40_1の回路チップCH_C1に設けられた貫通電極TSV1に、再配線層(図示せず)を介して電気的に接続されている。パッドP2_1bは、メモリチップ40_2のアレイチップCH_A2のコンタクトプラグCpri2に電気的に接続されている。
ここで、パッドP1_2b、P2_1bは、それぞれ図3Aおよび図3Bに示すパッドP1_1aと同じ構成を有してよい。これにより、パッドP1_2bとパッドP1_1aとは、図4に示すパッドP1_1aとパッドP1_2aと同様に接合される。従って、メモリチップ40_1、40_2間の接合においても、本実施形態の効果を得ることができる。
図12~図17は、回路チップCH_C1の貫通電極TSV1の領域の形成工程の一例を示す断面図である。
まず、半導体製造プロセスを用いて、基板(例えば、シリコン基板)SUB1上にCMOS回路CMOS1を形成する。図12に示すように、CMOS回路CMOS1は、パッドP1_2bおよび配線W1_2(あるいは貫通電極の受け電極)を介して貫通電極TSV1に電気的に接続されている。尚、図13以降では、CMOS回路CMOS1、パッドP1_2bおよび配線W1_2の図示を省略している。
次に、リソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて貫通電極TSV1の形成領域にホールを形成する。このホールの内壁にスペーサ絶縁膜SP1を成膜する。次に、めっき法等を用いて、スペーサ絶縁膜(例えば、シリコン酸化膜)SP1の内側に貫通電極TSV1の材料(例えば、銅、タングステン)が埋め込まれる。次に、基板SUB1上に層間絶縁膜ILD1_2を堆積する。これにより、図12に示す構造が得られる。
このように、貫通電極TSV1は、CMOS回路の形成後に形成されている。よって、CMOS回路の高温熱処理の後に、貫通電極TSV1が形成されるので、貫通電極TSV1の材料(例えば、銅、タングステン)は、めっき法を用いて成膜することができる。貫通電極TSV1のCMOS回路側の端部はCMOS回路と電気的に接続してもよいし、外部電極と電気的に接続してもよい。
次に、回路チップCH_C1は、アレイチップCH_A1と張り合わされる。このとき、パッドP1_1aとパッドP1_2aとが接合される(図2参照)。
次に、図13に示すように、基板SUB1の上下を反転させる。次に、図14に示すように、基板SUB1の裏面側をエッチングし、貫通電極TSV1およびスペーサ絶縁膜SP1の端部を露出させる。
次に、図15に示すように、絶縁膜91、92を基板SUB1および貫通電極TSV1上に堆積する。絶縁膜91は、例えば、シリコン窒化膜であり、絶縁膜92は、例えば、シリコン酸化膜である。
次に、図16に示すように、CMP法を用いて、貫通電極TSV1の露出されるまで絶縁膜91、92を研磨する。これにより、貫通電極TSV1が基板SUB1内に形成される。貫通電極TSV1は、スペーサ絶縁膜SP1によって基板SUB1から電気的に絶縁された状態で、基板SUB1を貫通している。
次に、図17に示すように、再配線層RW1を形成する。次に、再配線層RW1上にパッドP1_2bが形成される。パッドP1_2bの構成および形成方法は、図3A~図11を参照して説明した通りである。
その後、メモリチップ40_1、40_2を貼り合わせる。これにより、図2に示すように、パッドP1_2bとパッドP2_1bとが張り合わされる。
尚、アレイチップCH_A1に貫通電極が設けられている場合には、アレイチップCH_A1の貫通電極も図12~図17に示す方法と同様に形成され得る。
(変形例1)
図18A~図18Dは、パッドP1_1aの製造方法の他の例を示す断面図である。尚、パッドP1_2aの製造方法は、パッドP1_1aの製造方法と同様であるので、その詳細な説明は省略する。
図18A~図18Dは、パッドP1_1aの製造方法の他の例を示す断面図である。尚、パッドP1_2aの製造方法は、パッドP1_1aの製造方法と同様であるので、その詳細な説明は省略する。
図5に示す構造を形成した後、リソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて、配線層W1_1上の層間絶縁膜ILD1_1を加工する。これにより、図18Aに示すように、配線層W1_1上の層間絶縁膜ILD1_1をビアコンタクトV1_1のパターンに加工する。
次に、再度、リソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて、層間絶縁膜ILD1_1を加工し、図18Bに示すように、層間絶縁膜ILD1_1の上部をパッドP1_1aのパターンに加工する。これにより、パッドP1_1aのパターンが層間絶縁膜ILD1_1の上部に形成され、ビアコンタクトV1_1のパターンがパッドP1_1aのパターンの下に続くように形成される。
次に、図18Cに示すように、層間絶縁膜ILD1_1および配線層W1_1上にバリアメタル膜101_1aおよび導電性材料102_1aを堆積する。
次に、CMP法を用いて、層間絶縁膜ILD1_1が露出されるまで、バリアメタル膜101_1aおよび導電性材料102_1aを研磨する。これにより、図18Dに示すように、バリアメタル膜101_1aおよび導電性材料102_1aからなるビアコンタクトV1_1およびパッドP1_1aが同時に形成される。このCMP工程において、絶縁性材料103_1aが導電性材料102_1aの内側において支柱となり、導電性材料102_1aのディッシングを緩和することができる。
変形例1は、ビアコンタクトV1_1およびパッドP1_1aが同時に形成される。従って、変形例1は、第1実施形態よりも少ない工程でパッドP1_1aを形成することができる。変形例1の他の製造工程は、第1実施形態と同様でよい。よって、本変形例1は、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
(変形例2)
図19A~図19Gは、パッドP1_1aの製造方法のさらに他の例を示す断面図である。尚、パッドP1_2aの製造方法は、パッドP1_1aの製造方法と同様であるので、その詳細な説明は省略する。
図19A~図19Gは、パッドP1_1aの製造方法のさらに他の例を示す断面図である。尚、パッドP1_2aの製造方法は、パッドP1_1aの製造方法と同様であるので、その詳細な説明は省略する。
図5に示す構造を形成した後、リソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて、配線層W1_1上の層間絶縁膜ILD1_1のうち、パッドP1_1aの形成領域全体の層間絶縁膜ILD1_1を除去する。これにより、図19Aに示す構造が得られる。
次に、図19Bに示すように、層間絶縁膜ILD1_1および配線層W1_1上にバリアメタル膜101_1aおよび導電性材料102_1aを堆積する。
次に、CMP法を用いて、層間絶縁膜ILD1_1が露出されるまで、バリアメタル膜101_1aおよび導電性材料102_1aを研磨する。これにより、図19Cに示すように、バリアメタル膜101_1aおよび導電性材料102_1aがパッドP1_1aの形成領域全体に形成される。
次に、リソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて、導電性材料102_1aの上部を加工し、絶縁性材料103_1aの形成領域にある導電性材料102_1aを除去する。これにより、図19Dに示す構造が得られる。
次に、図19Eに示すように、層間絶縁膜ILD1_1および導電性材料102_1a上にバリアメタル膜101_3を堆積する。
次に、図19Fに示すように、絶縁性材料103_1aをバリアメタル膜101_3上に堆積する。
次に、CMP法を用いて、層間絶縁膜ILD1_1が露出されるまで、絶縁性材料103_1aを研磨する。これにより、図19Gに示すように、パッドP1_1aが形成される。このCMP工程において、導電性材料102_1aが露出されても、絶縁性材料103_1aが導電性材料102_1aの内側において支柱となり、導電性材料102_1aのディッシングを緩和することができる。
変形例2では、ビアコンタクトV1_1は、パッドP1_1aの形成領域全体に設けられている。この場合、パッドP1_1aは、ビアコンタクトV1_1を介して配線層W1_1に接続されている。
変形例2も、ビアコンタクトV1_1およびパッドP1_1aが同時に形成される。従って、変形例2は、第1実施形態よりも少ない工程でパッドP1_1aを形成することができる。変形例2の他の形成工程は、第1実施形態と同様でよい。よって、本変形例2は、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。尚、変形例2によって形成されたパッドP1_1aを用いた実施形態は、図25を参照して後述する。
(変形例3)
図20A~図20Fは、回路チップCH_C1の貫通電極TSV1の領域の形成工程の他の例を示す断面図である。この変形例では、CMOS回路を形成し基板SUB1の反転後に、貫通電極TSV1を形成する。
図20A~図20Fは、回路チップCH_C1の貫通電極TSV1の領域の形成工程の他の例を示す断面図である。この変形例では、CMOS回路を形成し基板SUB1の反転後に、貫通電極TSV1を形成する。
まず、図示しないCMOS回路を基板SUB1上に形成し、その上に層間絶縁膜ILD1_2を堆積する。これにより、図20Aに示す構造が得られる。
次に、図20Bに示すように、リソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて貫通電極TSV1の形成領域にホールを形成する。
次に、図20Cに示すように、このホールの内壁にスペーサ絶縁膜SP1を成膜し、エッチバックすることによって、ホールの底部にあるスペーサ絶縁膜SP1を除去する。
次に、図20Dに示すように、めっき法等を用いて、スペーサ絶縁膜SP1の内側に貫通電極TSV1の材料が埋め込まれる。
このように、貫通電極TSV1は、CMOS回路の形成後に形成されている。よって、CMOS回路の高温熱処理の後に、貫通電極TSV1が形成されるので、貫通電極TSV1の材料(例えば、銅、タングステン)は、めっき法を用いて成膜することができる。
次に、CMP法を用いて、スペーサ絶縁膜SP1の表面が露出されるまで、貫通電極TSV1の材料を研磨する。これにより、図20Eに示すように、貫通電極TSV1が基板SUB1内に形成される。貫通電極TSV1は、スペーサ絶縁膜SP1によって基板SUB1から電気的に絶縁された状態で、基板SUB1を貫通している。
次に、図20Fに示すように、再配線層RW1を形成する。次に、再配線層RW1上にパッドP1_2bが形成される。パッドP1_2bの構成および形成方法は、図3A~図11を参照して説明した通りである。
その後、メモリチップ40_1、40_2を貼り合わせる。これにより、図2に示すように、パッドP1_2bとパッドP2_1bとが張り合わされる。
尚、アレイチップCH_A1に貫通電極が設けられている場合には、アレイチップCH_A1の貫通電極も本変形例と同様に形成され得る。
(第2実施形態)
図21は、第2実施形態によるパッドP1_2aの構成例を示す平面図である。第1実施形態のように、パッドP1_1aとパッドP1_2aが同じ構成である場合、図4のX方向にパッドP1_1aとパッドP1_2aが相対的にずれると、導電性材料102_1aが絶縁性材料103_2aと対向し、導電性材料102_2aが絶縁性材料103_1aと対向するおそれがある。この場合、導電性材料102_1aと導電性材料102_12aとの接触面積が極端に小さくなり、パッドP1_1aとパッドP1_2aとの接触抵抗が高くなり、かつ、不安定になるおそれがある。
図21は、第2実施形態によるパッドP1_2aの構成例を示す平面図である。第1実施形態のように、パッドP1_1aとパッドP1_2aが同じ構成である場合、図4のX方向にパッドP1_1aとパッドP1_2aが相対的にずれると、導電性材料102_1aが絶縁性材料103_2aと対向し、導電性材料102_2aが絶縁性材料103_1aと対向するおそれがある。この場合、導電性材料102_1aと導電性材料102_12aとの接触面積が極端に小さくなり、パッドP1_1aとパッドP1_2aとの接触抵抗が高くなり、かつ、不安定になるおそれがある。
これに対し、第2実施形態では、Z方向から見た平面視において、パッドP1_2aの絶縁性材料103_2aがXおよびY方向に対して傾斜する方向に延伸している。パッドP1_1aの構成は、第1実施形態のそれと同じでよい。
図22は、第2実施形態による接合面B_mc1の領域の構成例を示す断面図である。第2実施形態では、アレイチップCH_A1と回路チップCH_C1とを貼り合わせたときに、パッドP1_1aとパッドP1_2aは、接合面B_mc1において、絶縁性材料103_1aの延伸方向(例えば、Y方向)と絶縁性材料103_2aの延伸方向(XおよびY方向に対して傾斜する方向)とが交差するように接合される。尚、図21のB-B線に沿った断面は、図22のパッドP1_2aとして示されている。
絶縁性材料103_1aの延伸方向と絶縁性材料103_2aの延伸方向とが交差するため、パッドP1_1aとパッドP1_2aとがXまたはY方向に或る程度ずれても、導電性材料102_1aと導電性材料102_2aとの接触面積はさほど低下しない。よって、第2実施形態は、接合面B_mc1におけるパッドP1_1aとパッドP1_2aとのずれに対して接触抵抗を低く安定させることができる。
(第3実施形態)
図23は、第3実施形態によるパッドP1_1aの構成例を示す平面図である。第2実施形態では、Z方向から見た平面視において、パッドP1_1aの導電性材料102_1aは、層間絶縁膜ILD1_1の表面において、X方向に延伸する細長形状とY方向に延伸する細長形状とからなるメッシュ構造を有する。よって、Z方向から見た平面視において、絶縁性材料103_1aは、層間絶縁膜ILD1_1の表面においてアイランド状(ドット状)に形成されており、X方向およびY方向にマトリックス状に二次元配列されている。
図23は、第3実施形態によるパッドP1_1aの構成例を示す平面図である。第2実施形態では、Z方向から見た平面視において、パッドP1_1aの導電性材料102_1aは、層間絶縁膜ILD1_1の表面において、X方向に延伸する細長形状とY方向に延伸する細長形状とからなるメッシュ構造を有する。よって、Z方向から見た平面視において、絶縁性材料103_1aは、層間絶縁膜ILD1_1の表面においてアイランド状(ドット状)に形成されており、X方向およびY方向にマトリックス状に二次元配列されている。
絶縁性材料103_1aは、導電性材料102_1aの材料(例えば、銅またはタングステン等の金属材料)よりもエッチングレートが低い材料(例えば、シリコン酸化膜)で形成されている。例えば、絶縁性材料103_1aは、導電性材料102_1aの材料よりも研磨され難い物理的に硬い材料で形成されていてもよい。あるいは、絶縁性材料103_1aは、導電性材料102_1aの材料よりも研磨剤(スラリ)によって化学的にエッチングされ難い材料で形成されていてもよい。従って、CMP工程において、絶縁性材料103_1aが導電性材料102_1aの内側において支柱となり、導電性材料102_1aのディッシングを緩和することができる。
また、パッドP1_2aも、図23のパッドP1_1aと同様の構成を有する。従って、図示しないが、パッドP1_2aも、Z方向から見た平面視において、導電性材料102_2aは、層間絶縁膜ILD1_2の表面において、X方向に延伸する細長形状とY方向に延伸する細長形状とからなるメッシュ構造を有する。即ち、Z方向から見た平面視において、絶縁性材料103_2aは、層間絶縁膜ILD1_2の表面においてアイランド状(ドット状)に形成されており、X方向およびY方向にマトリックス状に二次元配列されている。従って、CMP工程において、絶縁性材料103_2aが導電性材料102_2aの内側において支柱となり、導電性材料102_2aのディッシングを緩和することができる。
これにより、導電性材料102_1aと導電性材料102_2aとの間の接触抵抗は、低くかつ安定させることができる。
尚、第3実施形態は、第1実施形態、第2実施形態、変形例1、変形例2のいずれかと組み合わせてもよい。即ち、第3実施形態によるパッドP1_1aと第1実施形態、第2実施形態、変形例1、変形例2のいずれかによるパッドP1_2aとを接合させてもよい。
また、第3実施形態は、メモリチップ40_1、40_2間の接合に用いてもよい。即ち、第3実施形態は、メモリチップ40_1のパッドP1_2bとメモリチップ40_2のパッドP2_1bに適用してもよい。これにより、パッドP1_2bおよびパッドP2_1bのディッシングが抑制され、メモリチップ40_1、40_2間の接合も低抵抗で安定化させることができる。
(第4実施形態)
図24は、第4実施形態によるパッドP1_2aの構成例を示す平面図である。第4実施形態では、Z方向から見た平面視において、パッドP1_2aの導電性材料102_2aがXおよびY方向に対して傾斜する方向に延伸している。パッドP1_1aの構成は、第1~第3実施形態、変形例1、2のいずれかと同じでよい。
図24は、第4実施形態によるパッドP1_2aの構成例を示す平面図である。第4実施形態では、Z方向から見た平面視において、パッドP1_2aの導電性材料102_2aがXおよびY方向に対して傾斜する方向に延伸している。パッドP1_1aの構成は、第1~第3実施形態、変形例1、2のいずれかと同じでよい。
第4実施形態では、アレイチップCH_A1と回路チップCH_C1とを貼り合わせたときに、パッドP1_1aとパッドP1_2aは、接合面B_mc1において、導電性材料102_1aの延伸方向と導電性材料102_2aの延伸方向とが交差するように接合される。絶縁性材料103_1aの延伸方向と絶縁性材料103_2aの延伸方向とが交差するため、パッドP1_1aとパッドP1_2aとがXまたはY方向に或る程度ずれても、導電性材料102_1aと導電性材料102_2aとの接触面積はさほど変化しない。よって、第4実施形態は、接合面B_mc1におけるパッドP1_1aとパッドP1_2aとのずれに対して接触抵抗を安定化させることができる。
第4実施形態のその他の構成は、第1~第3実施形態の対応する構成と同様でよい。従って、第4実施形態は、第1~第3実施形態のいずれかの効果も得ることができる。
(第5実施形態)
図25は、第5実施形態による接合面B_mc1の領域の構成例を示す断面図である。第5実施形態では、上記変形例2によって形成されたパッドP1_1a、P1_2aを用いている。
図25は、第5実施形態による接合面B_mc1の領域の構成例を示す断面図である。第5実施形態では、上記変形例2によって形成されたパッドP1_1a、P1_2aを用いている。
第5実施形態において、ビアコンタクトV1_1が、パッドP1_1aの下方に設けられ、導電性材料102_1aに電気的に共通に接続されている。ビアコンタクトV1_1は、導電性材料102_1aを配線層W1_1に電気的に接続する。このように、ビアコンタクトV1_1が導電性材料102_1aと一体としてパッドP1_1aの形成領域全体に設けられている。これにより、ビアコンタクトV1_1および導電性材料102_1aの体積膨張(熱膨張)により、パッドP1_1aの導電性材料102_1aが接合面B_mc1から幾分盛り上がる。
また、パッドP1_2aについても同様に、ビアコンタクトV1_2が、パッドP1_2aの下方に設けられ、導電性材料102_2aに電気的に共通に接続されている。ビアコンタクトV1_2は、導電性材料102_2aを配線層W1_2に電気的に接続する。このように、ビアコンタクトV1_2も導電性材料102_2aと一体としてパッドP1_2aの形成領域全体に設けられている。これにより、ビアコンタクトV1_2および導電性材料102_2aの体積膨張(熱膨張)により、パッドP1_2aの導電性材料102_2aが接合面B_mc1から幾分盛り上がる。
パッドP1_1a、P1_2aが接合面B_mc1から互いに盛り上がっていることによって、接合面B_mc1におけるパッドP1_1a、P1_2aが互いに確実に接合される。これにより、パッドP1_1a、P1_2aは、互いに低抵抗で安定して接続することができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
1 半導体パッケージ、40_1,40_2 メモリチップ、CH_A1,CH_A2 アレイチップ、CH_C1,CH_C2 回路チップ、MCA1,MCA2 メモリセルアレイ、CMOS1,CMOS2 CMOS回路、P1_1a~P2_2b,パッド、101_1a,101_2a バリアメタル膜、102_1a,102_2a 導電性材料、103_1a,103_2a 絶縁性材料、ILD1_1,ILD1_2 層間絶縁膜
Claims (9)
- 第1絶縁層と、
前記第1絶縁層の表面に露出された第1パッドと、
前記第1絶縁層に接合された第2絶縁層と、
前記第2絶縁層の表面に露出され、前記第1パッドに接合された第2パッドとを備え、
前記第1絶縁層の表面に対して略垂直方向からの第1平面視において、前記第1パッドの内側には、第1導電性材料と、前記第1導電性材料よりもエッチングレートが低い第1絶縁性材料とがあり、前記第1絶縁性材料は前記第1導電性材料の内側にアイランド状に設けられている、半導体装置。 - 前記第1平面視において、前記第1絶縁性材料は、前記第1絶縁層の表面において第1方向に延伸する細長形状を有する、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第1平面視において、前記第1パッドの前記第1絶縁性材料の面積は、前記第1導電性材料の面積よりも小さい、請求項1または請求項2に記載の半導体装置。
- 前記第2絶縁層の表面に対して略垂直方向からの第2平面視において、前記第2パッドの内側には、第2導電性材料と、前記第2導電性材料よりもエッチングレートが低い第2絶縁性材料とがあり、前記第2絶縁性材料は前記第2導電性材料の内側にアイランド状に設けられている、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の半導体装置。
- 前記第2平面視において、前記第2絶縁性材料は、前記第2絶縁層の表面において第3方向に延伸する細長形状を有する、請求項4に記載の半導体装置。
- 前記第1平面視において、前記第1導電性材料は、前記第1絶縁層の表面において第1方向に延伸する第1細長形状と該第1方向に対して交差する第2方向に延伸する第2細長形状とからなるメッシュ構造を有する、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第2平面視において、前記第2導電性材料は、前記第2絶縁層の表面において第3方向に延伸する第3細長形状と該第3方向に対して交差する第4方向に延伸する第4細長形状とからなるメッシュ構造を有する、請求項4または請求項5に記載の半導体装置。
- 前記第1絶縁層で被覆されたメモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイと前記第1パッドとの間に電気的に接続された第1配線層と、
前記第2絶縁層に被覆されたCMOS回路と、
前記CMOS回路と前記第2パッドとの間に電気的に接続された第2配線層とを備える、請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の半導体装置。 - 前記第1絶縁層で被覆された第1メモリセルアレイと、前記第1メモリセルアレイの下方に設けられた第1CMOS回路とを備える第1チップ、並びに、
第2メモリセルアレイと、前記第2メモリセルアレイの下方に設けられ前記第2絶縁層に被覆された第2CMOS回路とを備える第2チップを備え、
前記第1および第2チップは、前記第1および第2パッドによって電気的に接続されている、請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の半導体装置。
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