JP2022155366A - 基板端面洗浄装置および基板端面洗浄方法 - Google Patents

Abstract

【課題】洗浄液の消費を抑制でき、かつ清掃や部品交換等の作業負荷が軽減できる基板端面洗浄装置および基板端面洗浄方法を提供する。【解決手段】基板５の端部を洗浄する基板端面洗浄装置１は、基板５を支持する基板支持部６００と、洗浄フィルム６０を巻き出す第１洗浄フィルム供給部２１および第２洗浄フィルム供給部２２と、これらを巻き取る第１洗浄フィルム回収部３１および第２洗浄フィルム回収部３２と、を備える。また、第１端部５１および第２端部５２において、基板５の厚さ方向に対向する両方の主面から洗浄フィルム６０を介して基板５を押圧する洗浄状態と、洗浄フィルム６０を第１端部５１および第２端部５２から離隔させる退避状態と、に切り換え可能な一対の洗浄ユニット１０と、を備え、洗浄状態において、第１端部５１および第２端部５２に沿う方向に基板支持部６００が基板５を移動させる。【選択図】図１

Description

本発明は、基板端面洗浄装置および基板端面洗浄方法に関する。

半導体集積回路、液晶デバイスまたはカラーフィルター等の製造工程において、対象となる基板の主面に写真製版を行うためのフォトレジスト層を形成する必要がある。このフォトレジスト層をできる限り薄く均一に形成するため、通常、基板の主面上の中央付近にフォトレジストを滴下してから当該基板をスピンコーターにて回転させる。これにより、遠心力で基板主面上の全体に所望のフォトレジスト層が形成でき、余剰のフォトレジストを基板の外側に排出させることができる。

上記の工程により主面全体および端面にフォトレジストの膜が形成された基板を露光工程等の後工程に引き渡す際に、搬送機が当該基板の端面を把持するか、当該基板の端面付近の主面の端部を吸盤等により吸着する必要がある。この際、把持または吸着する部位のフォトレジストが剥がれて搬送機に付着し、その後、基板の主面上に異物として転移する可能性がある。また、フォトレジスト層の厚さは、スピンコーターによる回転の遠心力の影響で基板の主面の中央付近よりも端部付近が厚く仕上がる傾向がある。このような基板への異物の付着や基板の厚さの不均一によって、基板にフォトマスクを重ねて所定パターンを露光した際に、異物による意図しないパターンが形成されたり、フォトマスクおよび基板の距離が意図した距離より大きくなることによりパターン形状が不安定となることがある。その結果、パターンが露光形成された基板の製品品質や歩留まりが低下するおそれがある。

このような不具合を抑制するために、搬送機が把持または吸着する可能性のある基板の端面または当該端面付近の主面の端部のフォトレジストをあらかじめ洗浄、除去する基板端面洗浄装置が提案されている。例えば特許文献１には、基板の中心部付近を基板吸着チャックにより支持した状態で、基板周辺部を洗浄可能とし、基板吸着チャックの外周部の支持位置を基板端面から３０ｍｍの範囲に配置した基板端面洗浄装置が記載されている。

また、特許文献２には、基板を支持する基板支持部と、洗浄ユニットと、洗浄ユニットに設けられた基板検出センサと、位置合わせ駆動部と、位置合わせ制御部とを備えた基板端面洗浄装置が記載されている。当該文献の形態６の説明として、フォトレジスト塗布後の基板がステージに載置された後、洗浄ユニットを鉛直方向に駆動させて洗浄パッド取付部を基板端部に裏面側から近づけ、弾性体としての洗浄パッドを基板裏面に押し当てる旨の記載がある。また、この状態で洗浄パッドへ洗浄液を供給することにより、洗浄パッドから基板端面に洗浄液を供給することができ、この様な状態を維持しつつ、基板の端面に沿って洗浄ユニットを移動させて基板端面を洗浄できる旨の記載がある。

特開２００３－８６５５６号公報 特開２００４－３９７３０号公報

特許文献１の基板端面洗浄装置は、基板の端面付近に洗浄液を吐出させて基板を洗浄するものであり、洗浄液の消費量が多く、これに伴う廃液処理等の付帯設備を必要とする。また、特許文献２の基板端面洗浄装置は、洗浄パッドを用いることで洗浄液の消費量を抑制できるが、付着したフォトレジストやゴミの頻繁な清掃や洗浄パッドの交換を必要とする。このような観点から、基板端面洗浄装置は、洗浄液の消費を抑制でき、かつ清掃や部品交換等の作業負荷が軽減できることが好ましい。

本開示はこのような状況に鑑みてなされたものであり、洗浄液の消費を抑制でき、かつ清掃や部品交換等の作業負荷が軽減できる基板端面洗浄装置および基板端面洗浄方法を提供することを課題とする。

本実施の形態による基板の端部を洗浄する基板端面洗浄装置は、基板を支持する基板支持部と、長尺の第１洗浄フィルムおよび第２洗浄フィルムをそれぞれ巻き出す第１洗浄フィルム供給部および第２洗浄フィルム供給部と、前記第１洗浄フィルムおよび前記第２洗浄フィルムをそれぞれ巻き取る第１洗浄フィルム回収部および第２洗浄フィルム回収部と、 前記基板の主面に沿って互いに対向する前記端部を第１端部および第２端部とするとき、 前記第１端部において、前記基板の厚さ方向に対向する両方の前記主面から前記第１洗浄フィルムを介して前記基板を押圧し、かつ前記第２端部において、前記両方の前記主面から前記第２洗浄フィルムを介して前記基板を押圧する洗浄状態と、前記第１洗浄フィルムおよび前記第２洗浄フィルムを前記第１端部および前記第２端部から離隔させる退避状態と、に切り換え可能な一対の洗浄ユニットと、を備え、前記洗浄状態において、前記第１端部および前記第２端部に沿う方向に前記基板支持部が前記基板を移動させる。

また、本実施の別の形態による基板の端部を洗浄する基板端面洗浄装置において、前記一対の洗浄ユニットは、前記洗浄状態において、それぞれ前記第１洗浄フィルムおよび前記第２洗浄フィルムに対して洗浄液を供給するものでもよい。

また、本実施の別の形態による基板の端部を洗浄する基板端面洗浄装置において、前記一対の洗浄ユニットは、前記洗浄状態において、前記第１洗浄フィルムおよび前記第２洗浄フィルムと当接して弾性変形しながら前記基板を前記押圧し、かつ前記洗浄液が通過できる貫通孔を有する弾性部材をさらに備えてもよい。

また、本実施の別の形態による基板の端部を洗浄する基板端面洗浄装置において、 前記第１洗浄フィルムおよび前記第２洗浄フィルムは、紙材、布材および不織布のいずれかを少なくとも含むウエスであってもよい。

また、本実施の別の形態による基板の端部を洗浄する基板端面洗浄装置において、前記第１洗浄フィルム供給部から前記第１洗浄フィルムが所定量だけ繰り出され、または前記第２洗浄フィルム供給部から前記第２洗浄フィルムが所定量だけ繰り出されたとき、前記洗浄状態において、前記押圧する位置に対応する前記所定量だけ繰り出された前記第１洗浄フィルムまたは前記第２洗浄フィルムの部位は、以前の前記押圧した位置に対応する前記部位とは異なる新たな部位であってもよい。

本実施の形態による基板の端部を洗浄する基板端面洗浄方法は、基板を支持する基板支持工程と、長尺の第１洗浄フィルムおよび第２洗浄フィルムをそれぞれ巻き出す巻出工程と、前記第１洗浄フィルムおよび前記第２洗浄フィルムをそれぞれ巻き取る回収工程と、 前記基板を前記支持しながら第１位置まで移動させる第１移動工程と、前記基板の主面に沿って互いに対向する前記端部を第１端部および第２端部とするとき、前記第１端部において、前記基板の厚さ方向に対向する両方の前記主面から前記第１洗浄フィルムを介して前記基板を押圧し、かつ前記第２端部において、前記両方の前記主面から前記第２洗浄フィルムを介して前記基板を押圧する洗浄状態とする第１切換工程と、前記洗浄状態において、前記第１端部および前記第２端部に沿う方向に前記基板を移動させる第２移動工程と、前記第１洗浄フィルムおよび前記第２洗浄フィルムを前記第１端部および前記第２端部から離隔させる退避状態とする第２切換工程と、を備える。

本実施の形態によれば、洗浄液の消費を抑制でき、かつ清掃や部品交換等の作業負荷が軽減できる基板端面洗浄装置および基板端面洗浄方法を提供することができる。

本開示の実施形態に係る基板端面洗浄装置の一例を説明する模式的な斜視図である。 基板端面洗浄装置の構成を説明する構成図である。 図１の基板端面洗浄装置を説明する正面図である。 図１の基板端面洗浄装置の基板を含む洗浄ユニット付近の動作を説明する側面図である。 図１の基板端面洗浄装置の基板を含む洗浄ユニット付近の別の動作を説明する側面図である。 洗浄ユニットの構成および動作を説明する図である。 基板端面洗浄装置の動作の一例を説明するフロー図である。 基板端面洗浄装置の動作の別の一例を説明するフロー図である。 基板端面洗浄装置の動作の別の一例を説明するフロー図である。

以下、図面等を参照して、本開示の基板端面洗浄装置および基板端面洗浄方法の一例について説明する。ただし、本開示の基板端面洗浄装置および基板端面洗浄方法は、以下に説明する実施形態に係る装置や方法には限定されない。

なお、以下に示す各図は、模式的に示したものである。そのため、各部の大きさ、形状、断面図における各層の厚さ等は理解を容易にするために適宜誇張している。また、各図において部材の断面を示すハッチングを適宜省略する。本明細書中に記載する各部材の寸法等の数値および材料名は実施形態としての一例であり、これに限定されるものではなく適宜選択して使用することができる。本明細書において、形状や幾何学的条件を特定する用語、例えば平行や直交、垂直等の用語については、厳密に意味するところに加え、実質的に同じ状態も含むものとする。また、説明の便宜上、紙面に対して上方または下方等という語句を用いて説明することがあるが、上下方向が逆転してもよく、左右方向についても同様とする。

１．本開示の実施形態
本開示の基板端面洗浄装置の典型的な実施形態について説明する。ここで、基板端面洗浄装置１を説明する便宜上、ＸＹＺ座標系を設ける。基板端面洗浄装置１において、基板５が洗浄時に移動する方向に沿ってＹ軸を設け、そのときの基板５の厚さ方向に沿ってＺ軸を設ける。また、Ｙ軸およびＺ軸に直交するＸ軸を設ける。基板５が洗浄時に最初に移動する方向を－Ｙ方向側、その逆方向を＋Ｙ方向側とする。また、基板５の移動方向を紙面の手前に向けたときの右側を＋Ｘ方向側、その逆方向を－Ｘ方向側とし、鉛直上方を＋Ｚ方向側、鉛直下方を－Ｚ方向側とする。

基板端面洗浄装置１は、半導体集積回路、液晶デバイスまたはカラーフィルター等の製造工程において、写真製版のために対象となる基板５の主面に形成されたフォトレジスト層のうち、基板５の端部に付着した余剰分を洗浄、除去する装置である。ここで図３（ａ）は図１の基板端面洗浄装置１を－Ｙ方向側から見た正面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）の基板５の周辺についての拡大図である。図１および図３（ｂ）に示すように、基板５は、その厚さ方向に沿って対向する主面として上方側の表面５ａと下方側の裏面５ｂとを有している。なお、基板５のいずれを表面または裏面と定めるかは任意である。

基板５のＺ軸に沿った平面視で略矩形状である表面５ａにおいて、Ｘ軸に沿って対向する２辺、すなわち－Ｘ方向側のＹ軸に沿う辺と＋Ｘ方向側のＹ軸に沿う辺とにそれぞれ沿う端部を主面端部５１ｂおよび５２ｂとする。一方、裏面５ｂにおいてＸ軸に沿って対向する２辺にそれぞれ沿う端部を主面端部５１ｃおよび５２ｃとする。また、Ｙ軸に沿って表面５ａと裏面５ｂとにそれぞれ接する主面と略直交する－Ｘ方向側および＋Ｘ方向側の面を、それぞれ端面５１ａおよび端面５２ａとする。

主面端部５１ｂ、５２ｂ、５１ｃおよび５２ｃのＸ軸方向に沿った幅は、製品仕様や後工程における搬送機の基板の把持、吸着位置にもよるが、例えば０．１ｍｍ以上、５０ｍｍ以下程度とすることができる。端部５１は主面端部５１ｂおよび５１ｃ並びに端面５１ａをすべて合わせた部位またはその一部の部位を示す。端部５２も同様に、主面端部５２ｂおよび５２ｃ並びに端面５２ａをすべて合わせた部位またはその一部の部位を示す。

基板端面洗浄装置１は、基板５を支持する基板支持部６００として、移動が可能な支柱６２０と、その上端に配置された基板５を吸着固定するためのステージ６１０とを備えている。また、基板端面洗浄装置１は、ロールに巻かれた長尺の洗浄フィルム６１および６２をそれぞれ巻き出す第１洗浄フィルム供給部２１および第２洗浄フィルム供給部２２を備える。第１洗浄フィルム供給部２１および第２洗浄フィルム供給部２２をまとめて洗浄フィルム供給部２０とも称する。

また、基板端面洗浄装置１は、洗浄フィルム６１および６２をそれぞれ巻き取る第１洗浄フィルム回収部３１および第２洗浄フィルム回収部３２を備える。第１洗浄フィルム回収部３１および第２洗浄フィルム回収部３２をまとめて洗浄フィルム回収部３０とも称する。さらに、基板端面洗浄装置１は、以下に述べるような一対の洗浄ユニット１０、すなわち第１洗浄ユニット１１と第２洗浄ユニット１２とを備えている。

第１洗浄ユニット１１は、端部５１において、洗浄フィルム６１を介して基板５の表面５ａおよび裏面５ｂの両方から基板５を押圧する洗浄状態と、洗浄フィルム６１を基板５の表面５ａおよび裏面５ｂの両方から離隔させる退避状態とに切り換え可能である。同様に、第２洗浄ユニット１２は、端部５２において、洗浄フィルム６２を介して基板５の表面５ａおよび裏面５ｂの両方から基板５を押圧する洗浄状態と、洗浄フィルム６２を基板５の表面５ａおよび裏面５ｂの両方から離隔させる退避状態とに切り換え可能である。

また、一対の洗浄ユニット１０が洗浄状態であるときに、一対の洗浄ユニット１０の押圧する位置が端部５１および５２に沿うように、すなわちＹ軸方向に沿って支柱６２０およびステージ６１０が基板５を移動させる。これにより、基板端面洗浄装置１は、基板５の対向する一対の端部５１および５２のそれぞれにおいて、端部５１では洗浄フィルム６１を介して、および端部５２では洗浄フィルム６２を介して、基板５を表裏面５ａおよび５ｂから押圧する。さらには、基板５を端部５１および５２に沿うように移動させることができる。

その結果、洗浄フィルム６１および６２が基板５の端部５１および５２と擦れることにより、端部５１および５２に付着した余剰分のフォトレジストを拭き取ることができる。すなわち、基板５の端部５１および５２を容易に洗浄できる。さらに、洗浄フィルム６１および６２に付着した余剰分のフォトレジストやゴミ等は、適宜、洗浄フィルム６１および６２を搬送することで基板５から退避させることができる。この搬送は、第１洗浄フィルム供給部２１および第１洗浄フィルム回収部３１の駆動や第２洗浄フィルム供給部２２および第２洗浄フィルム回収部３２の駆動によって容易にできる。

ここで、洗浄フィルム６１および６２に付着する程度、またはこれらが含浸する程度の洗浄液が存在すれば、当該余剰分のフォトレジストを一層容易に拭き取ることができる。これにより、洗浄液の消費を抑制でき、かつ清掃や部品交換等の作業負荷が軽減できる。以下、本開示の実施形態に係る基板端面洗浄装置１の構成の詳細を説明する。

［ａ］基板端面洗浄装置の構成
［ｉ］洗浄フィルム供給部および洗浄フィルム回収部
図１や図３（ａ）に示すように、基板端面洗浄装置１を－Ｙ方向側から斜視または正面視した場合に、基板端面洗浄装置１は、－Ｘ方向側の上方側と下方側とに、それぞれ第１洗浄フィルム供給部２１および第１洗浄フィルム回収部３１を備えている。第１洗浄フィルム供給部２１には、洗浄フィルム６１がロール状に巻かれた供給リール２１１が着脱可能にセットされ、これが軸の回転に連動して回転することにより、洗浄フィルム６１を第１洗浄ユニット１１に向けて送り出すことができる。また、第１洗浄フィルム回収部３１には、最初に空の回収リール３１１が着脱可能にセットされ、これが軸の回転に連動して回転することにより、第１洗浄ユニット１１にて使用済みの洗浄フィルム６１を巻き取ることができる。

一方、基板端面洗浄装置１は、＋Ｘ方向側の上方側と下方側とに、それぞれ第２洗浄フィルム供給部２２および第２洗浄フィルム回収部３２を備えている。それぞれの構成や作用は上述した第１洗浄フィルム供給部２１および第１洗浄フィルム回収部３１と同じである。すなわち、第２洗浄フィルム供給部２２には、洗浄フィルム６２がロール状に巻かれた供給リール２１２がセットされ、これが回転することにより、洗浄フィルム６２を第２洗浄ユニット１２に向けて送り出すことができる。また、第２洗浄フィルム回収部３２には、最初に空の回収リール３１２がセットされ、これが回転することにより、第２洗浄ユニット１２にて使用済みの洗浄フィルム６２を巻き取ることができる。

第１洗浄フィルム供給部２１および第１洗浄フィルム回収部３１、並びに第２洗浄フィルム供給部２２および第２洗浄フィルム回収部３２は、互いにＹＺ平面に対して略対称に配置される。また、洗浄フィルム６１は、第１洗浄フィルム供給部２１から第１洗浄フィルム回収部３１に至るまで途切れることなくつながっており、洗浄フィルム６２も、第２洗浄フィルム供給部２２から第２洗浄フィルム回収部３２に至るまで途切れることなくつながっている。

第１洗浄フィルム供給部２１、第１洗浄フィルム回収部３１、第２洗浄フィルム供給部２２および第２洗浄フィルム回収部３２は、洗浄フィルム６１および６２を適宜送り出しおよび巻き取る。これにより、第１洗浄ユニット１１および第２洗浄ユニット１２において、洗浄フィルム６１および６２の未使用の汚れていない面を基板５の端部５１および５２に当接させて、良好に端部５１および５２を洗浄することができる。この点は後述する。

洗浄フィルム６１が第１洗浄フィルム供給部２１から第１洗浄フィルム回収部３１まで搬送される間の経路には、方向転換のための任意のガイドローラや駆動ローラが設けられてもよい。本実施形態では、第１洗浄フィルム供給部２１から第１洗浄フィルム回収部３１に向けて、順にガイドローラ４１１、４１２、４１３、４１４、４１５、４１６および４１７が配置される。また、ガイドローラ４１１と４１２との間には、洗浄フィルム６１をニップして搬送するための駆動ローラ４１ａおよびピンチローラ４１ｂが、互いに洗浄フィルム６１を挟んで対向するように設けられている。

また、これと対称的に、洗浄フィルム６２が第２洗浄フィルム供給部２２から第２洗浄フィルム回収部３２まで搬送される間の経路にも、順にガイドローラ４２１、４２２、４２３、４２４、４２５、４２６および４２７が配置される。また、ガイドローラ４２１と４２２との間にも、洗浄フィルム６２をニップして搬送するための駆動ローラ４２ａおよびピンチローラ４２ｂが、互いに洗浄フィルム６２を挟んで対向するように設けられている。

本実施形態では、洗浄フィルム６１の搬送は、駆動ローラ４１ａによって行われ、その結果として生じる第１洗浄フィルム供給部２１付近や第１洗浄フィルム回収部３１付近のたるみやテンションを検知部６５０や６６０で監視する。そして、当該検知部６５０および６６０からの信号に基づいて、必要な分だけ第１洗浄フィルム供給部２１や第１洗浄フィルム回収部３１を回転させるように洗浄フィルム供給駆動部５５０や洗浄フィルム回収駆動部５６０にて電気信号が生成される。当該電気信号に基づき、第１洗浄フィルム供給部２１や第１洗浄フィルム回収部３１の回転動作が行われる。

ただし、洗浄フィルム６１の搬送は駆動ローラ４１ａによってではなく、第１洗浄フィルム回収部３１が駆動ローラとして回転し、洗浄フィルム６１を搬送してもよい。その場合、第１洗浄フィルム供給部２１が洗浄フィルム６１に一定のテンションを付与するためのブレーキローラとして機能してもよい。以上の内容は、洗浄フィルム６２を搬送する駆動ローラ４２ａや第２洗浄フィルム供給部２２、第２洗浄フィルム回収部３２についても同様に当てはまる。

［ｉｉ］基板支持部
基板支持部６００は、ＸＹＺ方向に移動可能なＺ軸方向に延びる略円柱の支柱６２０とその上端に配置されるステージ６１０とから構成される。ステージ６１０はその表面が略平面であり、多数の吸着孔を有する平板状部材である。ステージ６１０の表面上に基板５を載置して、吸着孔から基板５の裏面５ｂを吸い付けて吸着保持することにより、基板５をステージ６１０に固定したまま、任意の方向に基板５を移動させることができる。支柱６２０は、例えばサーボモータやステッピングモータによって駆動され、歯車やベルトを介してボールねじに動力伝達され、ＸＹＺ方向に設けられたリニアガイドに沿って移動するＸＹＺステージの構成の中に取り付けられていてもよい。また、支柱６２０は、多関節ロボットのような構成の中に取り付けられていてもよい。

［ｉｉｉ］洗浄ユニット
図１や図３（ａ）に示すように、基板端面洗浄装置１は、Ｘ軸に沿って互いに向かい合う一対の洗浄ユニット１０を備えている。洗浄ユニット１０は、－Ｘ方向側に配置される第１洗浄ユニット１１と、＋Ｘ方向側に配置される第２洗浄ユニット１２と、に分離配置されたものである。第１洗浄ユニット１１は、洗浄時に基板５がＹ軸に沿って移動する経路の上方に配置されるＺ軸に沿って昇降可能な昇降部１１１と、その下端に配置される先端部１３１とを備える。また、当該経路の下方に配置されるＺ軸に沿って昇降可能な昇降部１１２と、その上端に配置される先端部１３２とを備える。さらに、これらの昇降部１１１および１１２を支持する、－Ｙ方向からの平面視で略Ｃ字型のフレーム１４１を備える。

一方、第２洗浄ユニット１２は、上述の経路の上方に配置されるＺ軸に沿って昇降可能な昇降部１２１と、その下端に配置される先端部１３３とを備える。また、当該経路の下方に配置されるＺ軸に沿って昇降可能な昇降部１２２と、その上端に配置される先端部１３４とを備える。さらに、これらの昇降部１２１および１２２を支持する、－Ｙ方向からの平面視でＣ字を左右反転させた形状に近似するフレーム１４２を備える。

第１洗浄ユニット１１は、基板５が上述の経路上の所定位置にあるとき、その昇降部１１１が下降し、昇降部１１２が上昇することにより、昇降部１１１の下端の先端部１３１と昇降部１１２の上端の先端部１３２とが基板５の端部５１を挟持できる。言い換えると、昇降部１１１の下降と昇降部１１２の上昇とにより、先端部１３１および１３２が基板５の端部５１の一部を表裏面から押圧できる。同様に、第２洗浄ユニット１２も、その昇降部１２１が下降し、昇降部１２２が上昇することにより、先端部１３３および１３４が基板５の端部５２の一部を表裏面から押圧できる。

ここで、図３（ａ）に示すように、－Ｙ方向から正面視した場合、基板５の上方側の主面端部５１ｂと第１洗浄ユニット１１の先端部１３１との間には、ガイドローラ４１３および４１４に巻き付けられながら通過する洗浄フィルム６１が配置される。また、基板５の下方側の主面端部５１ｃと第１洗浄ユニット１１の先端部１３２との間には、ガイドローラ４１４および４１５に巻き付けられながら通過する洗浄フィルム６１が配置される。すなわち、洗浄フィルム６１は、ガイドローラ４１３、４１４および４１５に巻き付けられることにより、基板５の表裏の主面端部５１ｂおよび５１ｃとそれぞれと近接する位置に離隔して配置されるようなパスを通って搬送される。

このため、上述のように、基板５が上述の経路上の所定位置にあるとき、第１洗浄ユニット１１の昇降部１１１の下降と昇降部１１２の上昇とが同時に行われた場合は、基板５の端部５１は洗浄フィルム６１が間に挟まれた状態で先端部１３１および１３２から押圧される。言い換えると、第１洗浄ユニット１１は、端部５１において、洗浄フィルム６１を介して基板５の表裏面５ａおよび５ｂの両方から基板５を押圧する。この状態を洗浄状態とし、基板５の所定位置を第１位置とする。また、第１洗浄ユニット１１の昇降部１１１の上昇と昇降部１１２の下降とが同時に行われ、洗浄フィルム６１が基板５の表裏の主面端部５１ｂおよび５１ｃから離隔した状態を退避状態とする。

一方、基板５の上方側の主面端部５２ｂと第２洗浄ユニット１２の先端部１３３との間には、ガイドローラ４２３および４２４に巻き付けられながら通過する洗浄フィルム６２が配置され、基板５の下方側の主面端部５２ｃと第２洗浄ユニット１２の先端部１３４との間には、ガイドローラ４２４および４２５に巻き付けられながら通過する洗浄フィルム６２が配置される。

そして、基板５が上述の経路上の所定位置にあるとき、第２洗浄ユニット１２の昇降部１２１の下降と昇降部１２２の上昇とが同時に行われた場合は、以下のようになる。すなわち、第２洗浄ユニット１２は、端部５２において、洗浄フィルム６２を介して基板５の表裏面５ａおよび５ｂの両方から基板５を押圧する。この状態も上述のとおり洗浄状態とし、基板５の所定位置を第１位置とする。また、第２洗浄ユニット１２の昇降部１２１の上昇と昇降部１２２の下降とが同時に行われ、洗浄フィルム６２が基板５の表裏の主面端部５２ｂおよび５２ｃから離隔した状態を退避状態とする。

第１洗浄ユニット１１および第２洗浄ユニット１２がともに洗浄状態にあるとき、支柱６２０がＹ軸に沿って平行移動することにより、すなわち基板５がＹ軸に沿って平行移動することにより、基板５の端部５１および５２の余剰分のフォトレジストが拭き取られ、除去される。なぜなら、基板５の端部５１および５２には、その表裏面５ａおよび５ｂの両方から洗浄フィルム６１および６２が上下方向から押し付けられ、その状態のまま、基板５が水平方向に移動するからである。さらに、洗浄フィルム６１および６２に洗浄液が塗布または含浸されていれば、より効果的に余剰分のフォトレジストを溶解、除去できる。

洗浄ユニット１０による直接の洗浄部位は基板５の端部５１および５２のうち、主面端部５１ｂ、５１ｃ、５２ｂおよび５２ｃである。しかし、端部５１および５２は洗浄フィルム６１および６２に挟まれて押圧された状態で端部５１および５２に対して移動する。このため、洗浄フィルム６１および６２に洗浄液が塗布または含浸されていれば、端面５１ａや５２ａに付着した余剰分のフォトレジストにも洗浄液が回り込み、一緒に拭き取られることが期待できる。

このような洗浄液は、あらかじめ手動または自動で洗浄フィルム６１および６２に塗布または含浸させておいてもよい。あるいは後述するように、第１洗浄ユニット１１の先端部１３１もしくは１３２、または第２洗浄ユニット１２の先端部１３３もしくは１３４から所定のタイミングで洗浄液を吐出する等して供給するようにしてもよい。

第１洗浄ユニット１１および第２洗浄ユニット１２の昇降部１１１、１１２、１２１および１２２は、例えばエアシリンダの摺動機構で構成されてもよく、モータ駆動によりボールねじを回転させてリニアガイドに沿った平行移動を行う機構で構成されてもよい。また先端部１３１、１３２、１３３および１３４は任意の部材で構成できるが、洗浄フィルム６１や６２を介して基板５を押圧するため、樹脂等のある程度の弾性変形が可能な部材であることが好ましい。

なお、第１洗浄ユニット１１および第２洗浄ユニット１２のＸ軸方向に沿った間隔は、基板５の幅や端部の配置に合わせて適宜調整できることが好ましい。当該間隔は、作業者が手動で調整してもよいが、基板５の幅をセンサ等で自動的に検知し、この幅に合わせて第１洗浄ユニット１１および第２洗浄ユニット１２の配置を自動調整できることが好ましい。このような構成は、例えば洗浄ユニット１０のフレーム１４１および１４２の上端と下端とにそれぞれ投光部と受光部とを備えた透過式の光電センサや遮光領域の長さを判別できるエリアセンサを取り付けることにより実現できる。

基板端面洗浄装置１は、基板５のＸ軸方向に沿った端面の位置を検出し、この検出値に応じた制御部５００等からの指示に基づき、第１洗浄ユニット１１および第２洗浄ユニット１２のそれぞれの位置を適切に調整する。こうすることにより、作業者が手動で洗浄ユニット１０の位置を調整する必要がなくなり、作業負荷の軽減が図れる。

［ｉｖ］制御部等
次に、上述の各機構部分を動作させたり停止させる制御等を行う制御部等について説明する。図２に示すように、基板端面洗浄装置１は、制御部５００およびこれと連携して各機構部分の動作指示等を行う支柱駆動部５１０、洗浄ユニット駆動部５２０、洗浄液供給駆動部５３０、駆動ローラ駆動部５４０、洗浄フィルム供給駆動部５５０および洗浄フィルム回収駆動部５６０を備える。

制御部５００は、ＣＰＵまたはＭＰＵ、入出力部、メモリ等を備えた情報処理装置である。上述した他の部分は、制御部５００と同様の、またはこれよりも簡易的な入出力、演算、制御等が可能な素子を有するマイコン等と、各機構部分を駆動するための電気信号を生成するドライバを備えている。各部の具体的な判断内容や動作内容については後述する。

［ｂ］洗浄フィルム
次に、本実施形態の基板端面洗浄装置１において使用される洗浄フィルムについて説明する。洗浄フィルム６０は、前述したように、第１洗浄フィルム供給部２１から駆動ローラ４１ａによって繰り出されて搬送され、第１洗浄フィルム回収部３１で巻き取られる洗浄フィルム６１を含む。また、第２洗浄フィルム供給部２２から駆動ローラ４２ａによって繰り出されて搬送され、第２洗浄フィルム回収部３２で巻き取られる洗浄フィルム６２を含む。洗浄フィルム６１および６２は、通常は同種類のフィルムを使用するが、互いに異なるフィルムであってもよい。

洗浄フィルム６０は、搬送時のテンションや折り曲げ等に追従し、基板５の端部に押圧されて余剰分のフォトレジストを除去できる機能を備える限り、任意の材質のフィルムが使用できる。ただし、洗浄液を含侵して効果的にフォトレジストを拭き取れる観点から、洗浄フィルム６０として、メリヤス生地、綿生地のような布材、紙材、不織布等をロール状に成型したウエスを好適に用いることができる。

［ｃ］基板端面洗浄装置の動作
次に、本実施形態の基板端面洗浄装置１が基板５の端部を洗浄する具体的な動作について、主として図７乃至図９のフロー図に基づき、適宜、他の図も参照しつつ説明する。

まず、作業者は基板５を、基板端面洗浄装置１の支柱６２０の上端に取り付けられたステージ６１０の上に載置し、ステージ６１０の表面に設けられた吸着孔からのバキュームを有効にして当該基板５の裏面５ｂを吸着させる（図７のステップＳ７０１）。これにより、基板５はステージ６１０に対して固定される。以上を基板支持工程ともいう。

次に、基板端面洗浄装置１は、制御部５００からの指示信号を受けた支柱駆動部５１０からの電気信号に基づいて、支柱６２０を移動させ、基板５が洗浄の始点にあたる第１位置に来るよう搬送する（ステップＳ７０２）。これを第１移動工程ともいう。ここで、図４（ａ）は、第２洗浄ユニット１２と基板５との位置関係を説明する、これらを＋Ｘ方向側から見た側面図である。第１位置は、洗浄ユニット１０が基板５のもっとも角部に近い端部５１および５２を押圧する位置であり、具体的には、図４（ａ）の位置Ａである。このとき、第２洗浄ユニット１２の基板５の押圧位置は端部５２のもっとも－Ｙ方向寄りの位置となる。

このとき、基板５の端部５２の隙間の空いた上方には、洗浄フィルム６２および第２洗浄ユニット１２の先端部１３３が互いに離隔して配置されている。また、基板５の端部５２の隙間の空いた下方にも、洗浄フィルム６２および第２洗浄ユニット１２の先端部１３４が互いに離隔して配置されている。図示はしないが、基板５の端部５１、洗浄フィルム６１および第１洗浄ユニット１１の配置も同様である。

次に、基板端面洗浄装置１は、一対の洗浄ユニット１０をそれぞれ洗浄状態となるようにセットする（ステップＳ７０３）。具体的には、図４（ｂ）に示すように、第２洗浄ユニット１２の昇降部１２１の下降と昇降部１２２の上昇とを同時に行う。また、これと同じタイミングで、第１洗浄ユニット１１の昇降部１１１の下降と昇降部１２１の上昇とを同時に行う。これは、制御部５００からの指示信号を受けた洗浄ユニット駆動部５２０からの電気信号に基づいて、第１洗浄ユニット１１および第２洗浄ユニット１２が昇降動作を行うものである。

このとき、基板５の端部５２の上方に洗浄フィルム６２が密着し、第２洗浄ユニット１２の先端部１３３が洗浄フィルム６２を介して端部５２を押圧する。また、基板５の端部５２の下方にも洗浄フィルム６２が密着し、第２洗浄ユニット１２の先端部１３４が洗浄フィルム６２を介して端部５２を押圧する。また、基板５の端部５１、洗浄フィルム６１および第１洗浄ユニット１１の状態も同様である。これにより、洗浄ユニット１０は洗浄状態となり、この工程を第１切換工程ともいう。

次に、基板端面洗浄装置１は、一対の洗浄ユニット１０のそれぞれの先端部１３１、１３２、１３３および１３４に洗浄液を供給する（ステップＳ７０４）。この工程を洗浄液供給工程ともいう。この動作を図６に基づいて詳しく述べる。図６（ａ）は図４（ａ）の一部をさらに拡大した図である。図６（ａ）に示すように、第２洗浄ユニット１２の昇降部１２１の上方側には配管６３０が接続され、その内部を洗浄液６４０が通過できるように構成されている。通常は、配管６３０に設けられたバルブが閉じられていて、洗浄液６４０が第２洗浄ユニット１２から供給されることはない。

一方、第２洗浄ユニット１２が洗浄状態の位置にあるとき、所定のタイミングで制御部５００からの指示信号を受けた洗浄液供給駆動部５３０からの電気信号に基づいて、一定量の洗浄液６４０が昇降部１２１および先端部１３３に設けられた貫通孔を通過する。そして、先端部１３３から吐出する等して供給される。ここで、供給された洗浄液６４０は、図６（ｃ）に示すように、先端部１３３の下方に密着した洗浄フィルム６２に付着または浸透する。

ここで、洗浄液の粘度や洗浄フィルム６２の浸透性によっては、先端部１３３から供給した洗浄液６４０が洗浄フィルム６２に浸透等する前に、基板５の主面方向に拡散してしまい、端部以外の基板のフォトレジストを除去してしまう可能性がある。これを抑制するため、先端部１３３の洗浄フィルム６２を向く面に洗浄液６４０を貯留するための貫通孔を有するゴム製や樹脂製の弾性部材１６０を備えることが好ましい。本実施形態では、図６（ｄ）に示すように、弾性部材１６０としてシーリング用のゴム製のＯリングを使用している。ただし、弾性部材１６０の輪郭形状は円形である必要はなく、三角形や多角形、楕円、長円等の輪郭が閉じている任意の形状でもよい。

第２洗浄ユニット１２がこのような弾性部材１６０を備えることで、洗浄状態のとき、弾性部材１６０は洗浄フィルム６２と当接して弾性変形しながら基板５を押圧する。これにより、先端部１３３と基板５の端部５２とは弾性部材１６０によって略密閉され、内部に供給された洗浄液６４０が弾性部材１６０の外側に直接漏れ出ることが抑制できる。なお、弾性部材１６０は、第２洗浄ユニット１２の先端部１３４や第１洗浄ユニット１１の先端部１３１、１３２に配置しても同様の効果が得られることは言うまでもない。

次に、基板端面洗浄装置１は、制御部５００からの指示信号を受けた支柱起動部５１０からの電気信号に基づいて、支柱６２０を再度、移動させ、基板５が洗浄の終点にあたる第２位置に来るまで所定速度で搬送する（ステップＳ７０５）。第２位置は、洗浄ユニット１０が基板５の第１位置とは反対側のもっとも角部に近い端部５１および５２を押圧する位置であり、具体的には、図４（ｃ）の位置Ｂである。このとき、第２洗浄ユニット１２の基板５の押圧位置は端部５２のもっとも＋Ｙ方向寄りの位置となる。この工程を第２移動工程ともいう。

次に、基板端面洗浄装置１は、一対の洗浄ユニット１０をそれぞれ退避状態となる位置に退避させる（ステップＳ７０６）。具体的には、図４（ｄ）に示すように、第２洗浄ユニット１２の昇降部１２１の上昇と昇降部１２２の下降とを同時に行う。また、これと同じタイミングで、第１洗浄ユニット１１の昇降部１１１の上昇と昇降部１２１の下降とを同時に行う。この工程を第２切換工程ともいう。

続けて、基板端面洗浄装置１は、制御部５００からの指示信号を受けた駆動ローラ駆動部５４０からの電気信号に基づいて、駆動ローラ４１ａおよび４２ａを回転させる。これにより、検知部６５０および６６０からの洗浄フィルム６１および６２のたるみ量の検知信号が、洗浄フィルム供給駆動部５５０および洗浄フィルム回収駆動部５６０にそれぞれ入力される。その結果、洗浄フィルム供給駆動部５５０および洗浄フィルム回収駆動部５６０からの電気信号に基づいて、洗浄フィルム供給部２０および洗浄フィルム回収部３０のそれぞれを回転させる。

上記によって、洗浄フィルム６１を第１洗浄フィルム供給部２１から第１洗浄フィルム回収部３１に向けて所定量搬送し、洗浄フィルム６２を第２洗浄フィルム供給部２２から第２洗浄フィルム回収部３２に向けて所定量搬送する（ステップＳ７０７）。その結果、洗浄状態において、洗浄ユニット１０の押圧する位置に対応する洗浄フィルム６１および６２の部位は、以前の押圧に使用されていない新しい部位となる。

このような洗浄フィルム６１および６２を搬送することに伴い、第１洗浄フィルム供給部２１や第２洗浄フィルム供給部２２から洗浄フィルム６１および６２を繰り出す工程を巻出工程ともいう。また、同様に、第１洗浄フィルム回収部２２や第２洗浄フィルム回収部３２により洗浄フィルム６１および６２が巻き取られる工程を回収工程ともいう。なお、本実施形態では、巻出工程や回収工程は第２切換工程の後に行われているが、これに限定する必要はなく、１枚の基板５に対する一連の洗浄に係る工程のいずれかの段階で行われればよい。前回の基板５に対する洗浄ユニット１０の洗浄状態から退避状態への移行後から今回の基板５に対する退避状態から洗浄状態への移行前までに洗浄フィルム６１および６２が搬送されれば十分だからである。

言い換えると、以前の基板５の押圧時に使用された洗浄フィルム６１および６２の部位には拭き取られたフォトレジストやゴミが付着している。そこで、基板端面洗浄装置１は、次の基板５の洗浄状態における押圧位置に対応する洗浄フィルム６１および６２の部位が、以前に使用済みの部位とは重ならない新しい未使用の部位となるよう、必要な分だけ洗浄フィルム６１および６２を搬送して移動する。こうすることにより、基板端面洗浄装置１が複数の基板５の洗浄を順次行うとき、洗浄対象となる基板５に対して必ず未使用の新しい洗浄フィルム６１および６２の部位が押圧される。よって、以前の基板５の洗浄時のフォトレジストやゴミが次に洗浄する基板５に転移する等の不具合が抑制できる。

また、洗浄により使用済みとなり汚れた洗浄フィルム６１および６２の部位は、自動的に第１洗浄フィルム回収部３１および第２洗浄フィルム回収部３２で巻き取られる。よって、作業者が第１洗浄ユニット１１および第２洗浄ユニット１２の近辺を一定時間ごとに清掃する等の作業負荷が軽減される。ただし、１回の基板５の洗浄での洗浄フィルム６１および６２の汚れがそれほど問題とはならない場合は、一定枚数の基板５を洗浄してから洗浄フィルム６１および６２を搬送してもよい。

次に、基板端面洗浄装置１は、制御部５００からの指示信号を受けた支柱起動部５１０からの電気信号に基づいて、支柱６２０を移動させ、洗浄が終わった基板５を所定位置に排出する（ステップＳ７０８）。これにより、基板端面洗浄装置１による基板５の端部５１および５２の洗浄が完了する。

なお、本実施形態の基板端面洗浄装置１は、基板５の対向する一対の端部５１および５２の洗浄を目的としている。しかし、基板５の製品特性や基板５に形成したフォトレジストの膜厚のばらつき、洗浄後の基板５のハンドリング方法等により、基板５の主面の４辺に沿う端部のすべての洗浄が必要な場合には、以下の方法をとってもよい。すなわち、基板５の対向する一対の端部５１および５２の洗浄が完了した後、当該基板５を主面に垂直な軸に対して９０度回転させた上で、再度、基板端面洗浄装置１による洗浄作業を繰り返し行う。

この際、平面視における基板５の縦横寸法が異なる場合は、基板端面洗浄装置１による最初の洗浄時と基板５を回転させた後の２回目の洗浄時とで、洗浄ユニット１１および第２洗浄ユニット１２の配置を変更する必要がある。これについては、前述したとおり、基板端面洗浄装置１が第１洗浄ユニット１１および第２洗浄ユニット１２の間隔を手動または自動で調整できる構成を備えることにより容易に対応できる。

すなわち、基板端面洗浄装置１による最初の洗浄後に、一旦、基板５を退避させながら当該基板５を主面に垂直な軸に対して９０度回転させる。その間に、洗浄ユニット１１および第２洗浄ユニット１２の配置を適宜変更し、その後、当該基板５を洗浄できる位置まで再度移動し、基板端面洗浄装置１による２回目の洗浄作業を行う。これにより、基板５の端部５１および５２以外の残りの一対の端部についても端部５１および５２と同様の洗浄を行うことができる。

本実施形態の基板端面洗浄装置１は、基板５を支持する基板支持部６００である支柱６２０およびステージ６１０と、長尺の洗浄フィルム６１および６２をそれぞれ巻き出す第１洗浄フィルム供給部２１および第２洗浄フィルム供給部２２と、を備える。また、基板端面洗浄装置１は、洗浄フィルム６１および６２をそれぞれ巻き取る第１洗浄フィルム回収部３１および第２洗浄フィルム回収部３２と、洗浄状態および退避状態の切り替えが可能な一対の洗浄ユニット１０と、を備える。

一対の洗浄ユニット１０は、第１洗浄ユニット１１および第２洗浄ユニット１２である。基板５の厚さ方向に沿って対向する主面を表面５ａおよび裏面５ｂとし、主面に沿って互いに対向する端部を端部５１および５２とする。端部５１および５２のそれぞれにおいて、端部５１については洗浄フィルム６１を介して、および端部５２については洗浄フィルム６２を介して、基板の表面５ａおよび裏面５ｂの両方から基板５を押圧する状態が洗浄状態である。また、洗浄フィルム６１および６２を基板５の表面５ａおよび裏面５ｂの両方から離隔させた状態が退避状態である。一対の洗浄ユニット１０が洗浄状態であるとき、一対の洗浄ユニット１０の押圧する位置が端部５１および５２に沿うように、基板支持部６００が基板５を移動させることができる。

その結果、洗浄フィルム６１および６２が基板５の端部５１および５２と擦れることにより、端部５１および５２に付着した余剰分のフォトレジストを拭き取ることができる。すなわち、基板５の端部５１および５２を容易に洗浄できる。さらに、洗浄フィルム６１および６２に付着した余剰分のフォトレジストやゴミ等は、適宜、洗浄フィルム６１および６２を搬送することで基板５から退避させることができる。この搬送は、第１洗浄フィルム供給部２１および第１洗浄フィルム回収部３１の駆動や第２洗浄フィルム供給部２２および第２洗浄フィルム回収部３２の駆動によって容易にできる。

ここで、洗浄フィルム６１および６２に付着する程度、またはこれらが含浸する程度の洗浄液が存在すれば、当該余剰分のフォトレジストを一層容易に拭き取ることができる。これにより、大量の洗浄液の消費や廃液処理の負荷が抑制できる。また、清掃や部品交換等の作業負荷が軽減できる。

２．変形例
次に、本実施形態に係る基板端面洗浄装置１の洗浄動作の変形例を説明する。基板５の洗浄をより確実に行うため、１枚の基板５について、洗浄状態、退避状態および洗浄フィルムの搬送を繰り返しながら洗浄することがより効果的である。この場合の基板端面洗浄装置１の動作を、主として図８、図９のフロー図と図５に基づき、適宜、他の図も参照しつつ説明する。

まず、作業者が基板５をステージ６１０の上に載置して吸着固定する工程（図８のステップＳ７２１）から、基板端面洗浄装置１が一対の洗浄ユニット１０のそれぞれの先端部１３１、１３２、１３３および１３４に洗浄液を供給する工程（ステップＳ７２４）までを行う。これらは、前述した図７のステップＳ７０１からステップＳ７０４までの動作と同様である。

次に、基板端面洗浄装置１は、制御部５００からの指示信号を受けた支柱起動部５１０からの電気信号に基づいて、支柱６２０を再度、移動させ、基板５が洗浄の終点にあたる第２位置よりも第１位置に近い第３位置に来るまで第１速度で搬送する（ステップＳ７２５）。具体的には、図５（ａ）の位置Ｃである。図５（ａ）は、図４（ａ）等と同様の側面図である。このとき、第２洗浄ユニット１２の基板５の押圧位置は、端部５２のもっとも－Ｙ方向寄りの位置ともっとも＋Ｙ方向寄りの位置との間となる。

次に、基板端面洗浄装置１は、一対の洗浄ユニット１０をそれぞれ退避状態となる位置に退避させる（ステップＳ７２６）。具体的には、図５（ｂ）に示すように、第２洗浄ユニット１２の昇降部１２１の上昇と昇降部１２２の下降とを同時に行う。また、これと同じタイミングで、第１洗浄ユニット１１の昇降部１１１の上昇と昇降部１２１の下降とを同時に行う。

続いて、基板端面洗浄装置１は、制御部５００からの指示信号を受けた駆動ローラ駆動部５４０からの電気信号に基づいて、駆動ローラ４１ａおよび４２ａを回転させる。これにより、洗浄フィルム６１を第１洗浄フィルム供給部２１から第１洗浄フィルム回収部３１に向けて所定量搬送し、洗浄フィルム６２を第２洗浄フィルム供給部２２から第２洗浄フィルム回収部３２に向けて所定量搬送する（ステップＳ７２７）。その結果、洗浄状態において、押圧する位置に対応する洗浄フィルム６１および６２の部位は、以前の押圧に使用されていない新しい部位となる。

次に、基板端面洗浄装置１は、制御部５００からの指示信号を受けた支柱起動部５１０からの電気信号に基づいて、支柱６２０を再度、移動させ、基板５が第３位置よりも第１位置に近い位置である第４位置に来るまで所定速度で搬送する（ステップＳ７２８）。具体的には、図５（ｃ）の位置Ｄである。位置Ｄが位置Ｃよりも位置Ａに近いことにより、１回目の位置Ａから位置Ｃに至る洗浄区間と、後述する２回目の位置Ｄから位置Ｂに至る洗浄区間とが重なり、端部５１および５２について、洗浄されない領域が生じないようにできる。

基板５が位置Ｄにあるとき、第２洗浄ユニット１２の基板５の押圧位置は、端部５２のもっとも－Ｙ方向寄りの位置ともっとも＋Ｙ方向寄りの位置との間となる。その後は処理Ａとして図９のフロー図に従い、動作を継続する。

次に、基板端面洗浄装置１は、図５（ｄ）に示すように、一対の洗浄ユニット１０をそれぞれ洗浄状態となるようにセットする（図９のステップＳ７４１）。その後、一対の洗浄ユニット１０のそれぞれの先端部１３１、１３２、１３３および１３４に洗浄液を供給する（ステップＳ７４２）。続けて、基板端面洗浄装置１は、支柱６２０を再度、移動させ、基板５が洗浄の終点にあたる第２位置に来るまで第２速度で搬送する（ステップＳ７４３）。

ここで、第２速度は、前述の第１速度と同じでもよく、異なってもよい。例えば、１回目の位置Ａから位置Ｃに至る洗浄区間の長さをＤａｃとし、２回目の位置Ｄから位置Ｂに至る洗浄区間の長さをＤｄｂとするとき、ＤａｃがＤｄｂよりも大きい場合は、第２速度を第１速度よりも大きくしてもよい。洗浄区間が短いほど洗浄フィルムに蓄積するフォトレジストの量が少ないため、基板５を相対的に早く移動させても除去能力がそれほど低下しないと考えられるからである。

また、端部５１および５２について、後工程における搬送機の基板５の把持、吸着位置の観点や、基板の厚さ管理の観点で重要な位置が、上述の洗浄区間の重複区間、すなわち位置Ｄと位置Ｃの間に含まれるように設定することが好ましい。例えば、後工程における搬送機の基板５の把持、吸着位置が仮に端部５１の中に２点あるとすれば、その２点がいずれも洗浄区間の重複区間に入るようにすることができる。こうすることにより、基板５の製品品質の一層の向上が図れる。

その後、基板端面洗浄装置１は、一対の洗浄ユニット１０をそれぞれ退避状態となる位置に退避させ（ステップＳ７４４）、続けて、基板端面洗浄装置１は、駆動ローラ４１ａおよび４２ａを回転させる。そして、洗浄フィルム６１および６２を第１洗浄フィルム供給部２１および第２洗浄フィルム供給部２２から第１洗浄フィルム回収部３１および第２洗浄フィルム回収部３２に向けて所定量搬送する（ステップＳ７４５）。さらに、基板端面洗浄装置１は、支柱６２０を移動させ、洗浄が終わった基板５を所定位置に排出する（ステップＳ７４６）。これにより、変形例に係る基板端面洗浄装置１による基板５の端部５１および５２の洗浄が完了する。

変形例に係る基板端面洗浄装置１による基板５の洗浄では、１枚の基板５に対して、洗浄状態、退避状態および洗浄フィルムの搬送を２回繰り返しながら洗浄する。この繰り返し回数は３回以上であってもよく、洗浄区間の重複区間を複数箇所、設けることもできる。

その結果、洗浄フィルム６１および６２の同一の部位が基板５の端部５１および５２と擦れる距離を相対的に短くでき、基板５の端部５１および５２の余剰分のフォトレジストを除去するための洗浄フィルム６１および６２の使用量を相対的に増やすことができる。よって、基板５のサイズや要求品質に応じた、端部５１および５２の洗浄がより効果的に行える。

１ 基板端面洗浄装置
５ 基板
５ａ 表面
５ｂ 裏面
１０ 洗浄ユニット
１１ 第１洗浄ユニット
１２ 第２洗浄ユニット
２０ 洗浄フィルム供給部
２１ 第１洗浄フィルム供給部
２２ 第２洗浄フィルム供給部
３０ 洗浄フィルム回収部
３１ 第１洗浄フィルム回収部
３２ 第２洗浄フィルム回収部
４１ａ、４２ａ 駆動ローラ
４１ｂ、４２ｂ ピンチローラ
５１、５２ 端部
５１ａ、５２ａ 端面
５１ｂ、５１ｃ、５２ｂ、５２ｃ 主面端部
６０、６１、６２ 洗浄フィルム
１１１、１１２、１２１、１２２ 昇降部
１３１、１３２、１３３、１３４ 先端部
１４１、１４２ フレーム
１５０ 貫通孔
１６０ 弾性部材
２１１、２１２ 供給リール
３１１、３１２ 回収リール
４１１、４１２、４１３、４１４、４１５、４１６、４１７ ガイドローラ
４２１、４２２、４２３、４２４、４２５、４２６、４２７ ガイドローラ
５００ 制御部
５１０ 支柱駆動部
５２０ 洗浄ユニット駆動部
５３０ 洗浄液供給駆動部
５４０ 駆動ローラ駆動部
５５０ 洗浄フィルム供給駆動部
５６０ 洗浄フィルム回収駆動部
６００ 基板支持部
６１０ ステージ
６２０ 支柱
６３０ 配管
６４０ 洗浄液
６５０、６６０ 検知部

Claims (6)

1. 基板の端部を洗浄する基板端面洗浄装置であって、
   基板を支持する基板支持部と、
   長尺の第１洗浄フィルムおよび第２洗浄フィルムをそれぞれ巻き出す第１洗浄フィルム供給部および第２洗浄フィルム供給部と、
   前記第１洗浄フィルムおよび前記第２洗浄フィルムをそれぞれ巻き取る第１洗浄フィルム回収部および第２洗浄フィルム回収部と、
   前記基板の主面に沿って互いに対向する前記端部を第１端部および第２端部とするとき、
   前記第１端部において、前記基板の厚さ方向に対向する両方の前記主面から前記第１洗浄フィルムを介して前記基板を押圧し、かつ前記第２端部において、前記両方の前記主面から前記第２洗浄フィルムを介して前記基板を押圧する洗浄状態と、
   前記第１洗浄フィルムおよび前記第２洗浄フィルムを前記第１端部および前記第２端部から離隔させる退避状態と、
   に切り換え可能な一対の洗浄ユニットと、を備え、
   前記洗浄状態において、前記第１端部および前記第２端部に沿う方向に前記基板支持部が前記基板を移動させる基板端面洗浄装置。
2. 前記一対の洗浄ユニットは、前記洗浄状態において、それぞれ前記第１洗浄フィルムおよび前記第２洗浄フィルムに対して洗浄液を供給する、請求項１に記載の基板端面洗浄装置。
3. 前記一対の洗浄ユニットは、前記洗浄状態において、前記第１洗浄フィルムおよび前記第２洗浄フィルムと当接して弾性変形しながら前記基板を前記押圧し、かつ前記洗浄液が通過できる貫通孔を有する弾性部材をさらに備えた、請求項２に記載の基板端面洗浄装置。
4. 前記第１洗浄フィルムおよび前記第２洗浄フィルムは、紙材、布材および不織布のいずれかを少なくとも含むウエスである、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の基板端面洗浄装置。
5. 前記第１洗浄フィルム供給部から前記第１洗浄フィルムが所定量だけ繰り出され、または前記第２洗浄フィルム供給部から前記第２洗浄フィルムが所定量だけ繰り出されたとき、
   前記洗浄状態において、前記押圧する位置に対応する前記所定量だけ繰り出された前記第１洗浄フィルムまたは前記第２洗浄フィルムの部位は、以前の前記押圧した位置に対応する前記部位とは異なる新たな部位である、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の基板端面洗浄装置。
6. 基板の端部を洗浄する基板端面洗浄方法であって、
   基板を支持する基板支持工程と、
   長尺の第１洗浄フィルムおよび第２洗浄フィルムをそれぞれ巻き出す巻出工程と、
   前記第１洗浄フィルムおよび前記第２洗浄フィルムをそれぞれ巻き取る回収工程と、
   前記基板を前記支持しながら第１位置まで移動させる第１移動工程と、
   前記基板の主面に沿って互いに対向する前記端部を第１端部および第２端部とするとき、
   前記第１端部において、前記基板の厚さ方向に対向する両方の前記主面から前記第１洗浄フィルムを介して前記基板を押圧し、かつ前記第２端部において、前記両方の前記主面から前記第２洗浄フィルムを介して前記基板を押圧する洗浄状態とする第１切換工程と、
   前記洗浄状態において、前記第１端部および前記第２端部に沿う方向に前記基板を移動させる第２移動工程と、
   前記第１洗浄フィルムおよび前記第２洗浄フィルムを前記第１端部および前記第２端部から離隔させる退避状態とする第２切換工程と、を備える方法。

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