JP2005266019A - ラビング方法及び装置 - Google Patents

ラビング方法及び装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2005266019A
JP2005266019A JP2004075451A JP2004075451A JP2005266019A JP 2005266019 A JP2005266019 A JP 2005266019A JP 2004075451 A JP2004075451 A JP 2004075451A JP 2004075451 A JP2004075451 A JP 2004075451A JP 2005266019 A JP2005266019 A JP 2005266019A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rubbing
continuous substrate
dust collection
collection box
foreign matter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004075451A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Masubuchi
秀雄 増渕
Masayuki Murata
村田  正幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2004075451A priority Critical patent/JP2005266019A/ja
Publication of JP2005266019A publication Critical patent/JP2005266019A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

【課題】 連続基板を回転中のラビングロールに接触させてラビング処理を施す際に発生する異物が連続基板やラビングロールに付着することを防止し且つ周辺への異物の飛散、堆積を防止することの可能なラビング方法及び装置を提供する。
【解決手段】 走行中の連続基板2に接触してラビング処理を施すためのラビングロール6を集塵ボックス11にて覆っておき且つその集塵ボックス11内を排気手段14によって常時排気する構成とし、ラビング処理によって生じた異物を集塵ボックスの外に飛散させることなく系外に排出し、連続基板への付着や周辺装置への堆積を防止する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、配向膜が形成された連続基板を連続的に走行させ、その連続基板にラビングロールなどのラビング手段を接触させてラビング処理する方法及び装置に関する。
光学補償シート又はフィルム(以下単にシートと称する)等に用いられる光学的異方性シート又はフィルム(以下単にシートと称する)の製造工程において、連続基板の表面に配向膜を形成し、その配向膜にラビング処理を施すことによって、その後の工程で配向膜上に塗布した液晶材料の液晶分子の配向方向を規制することが行われている。このラビング処理方法としては、レーヨン等で形成されたラビング布を巻き付けたラビングロールを一定方向に回転させ、このラビングロールを走行中の連続基板の配向膜に軽く接触させてその配向膜を擦る方向が一般的に行われている。
ところが、ラビング工程では、配向膜の表面をラビングロールで擦るため、配向膜の削りかす、ラビング布からの繊維等の異物が発生し、ラビングロール周辺に飛散、堆積し、また、走行中の連続基板に付着したり、ラビングロールに付着したりする。これらの異物の発生量はラビング処理時間が増えるにつれて増大する傾向にある。また、堆積していた異物が再度浮遊して連続基板に付着したり、ラビングロールに付着したりする。配向膜表面に異物が付着すると、後工程で配向膜表面に形成する液晶層の配向状態に欠陥(不均一な配向あるいは配向しない部分の形成)をもらたすことがある。また、浮遊した異物がラビングロールに付着することもあり、連続基板に不均一なラビング強度を与えてすじむらを生じさせたり、適切にラビング処理が行われないことがあり、やはり後工程で形成する液晶層の配向状態に欠陥をもらたす場合がある。
このように液晶層の配向状態に欠陥があると、当然、その液晶層を有する光学的異方性シートを用いて製造した光学装置の品質低下につながり、例えば、液晶表示装置を作製した場合には、表示欠陥が形成されることとなる。液晶表示装置などの光学装置では微細な欠陥も重大な問題となるので、避けなければならない。
従来、ラビング工程における異物付着防止の対策としては、ラビングロールに巻かれているラビング布を定期的に取り替える方法が行われている。しかしながら、この方法では、取り替えてから速い時期には問題なくても、徐々に異物による上記欠陥が発生しやすい傾向となり、比較的短期間で定期的にラビングロールを交換しなければならず、生産性を低下させてしまうとか、ラビングロール交換作業が煩雑になるといった問題を生じる。
また、ラビング処理時には、連続基板をラビングロールで擦るため、静電気が発生しやすく、これによって異物の再付着が多くなるので、ラビング処理を施した際に、連続基板を静電気除去装置と超音波除去装置に通すことによって配向膜表面に付着した異物の除去を行う提案もされている(特開平7−333613号公報参照)。しかしながら、この方法では、ラビング処理によって生じる異物の飛散を防止することはできない。また、超音波除去装置を用いることにより、装置コストが高くなるという問題もある。
特開平7−333613号公報
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、ラビング処理中に発生する異物(配向膜のかすやラビング布から生じる脱落繊維など)が連続基板やラビング布に付着することを防止することができ且つ周辺装置への異物の飛散、堆積も防止することの可能なラビング方法及び装置を提供することを課題とする。
本発明方法及び装置は、配向膜が形成された連続基板を連続的に走行させ、その連続基板にラビング布を接触させてラビング処理するラビング方法及び装置において、ラビング処理時に発生する異物による問題を回避するため、ラビング布を備えたラビング手段を集塵ボックスにて覆っておき且つその集塵ボックス内を排気する構成としたものである。この構成により、ラビング処理によって生じた異物は集塵ボックスの外に飛散することなく系外に排出され、連続基板への付着や周辺装置への異物の飛散、堆積を防止できる。本発明に用いるラビング手段は、連続基板をラビング布で擦ってラビング処理できる構成のものであればその形態は任意であり、代表例としては、ロール周面にラビング布を巻き付けた構造のラビングロールを挙げることができる。
ここで、前記集塵ボックス内には、ラビング手段のラビング布に接触して該ラビング布に付着している異物を除去するブラシを設けておくことが好ましい。このブラシを設けておくと、ラビング布に異物が付着してもそれをブラシでかき落とし、排気と共に系外に排出できる。
また、前記集塵ボックス内を排気するための排気手段には、集塵ボックス内の空気を吸引し且つ吸引した空気内の異物を除去する集塵手段と、異物を除去した後の空気をラビング装置を設置した室内に戻す戻し管とを備えた構成とすることが好ましい。この構成とすると、排気した空気を清浄にして再利用することができる。
本発明によれば、ラビング処理で発生した異物が集塵ボックスの外に飛散することを防止できると共に集塵ボックス内の排気により直ちに系外に排出されるので、異物が連続基板に付着することを防止でき、また、ラビング布に再付着してラビングむらを生じさせるということを防止でき、この結果、長時間連続して安定したラビング処理ができ、後工程で形成する液晶層の配向状態に欠陥を生じない高品質の製品を得ることができる。また、ラビング処理で発生した異物を周辺装置に飛散させないことにより、ラビング周辺の環境(クリーン度)汚染を防止できる。
以下、図面に示す本発明の好適な実施の形態を説明する。図1は本発明の実施形態に係るラビング装置1の概略構成を示す模式図である。同図において、2は長尺フィルム等の連続基板であり、表面(図面では下面側の表面)に配向膜が形成されている。この連続基板2は、ラビング処理位置をはさんで配置された一対のガイドロール3a、3b及びその他の領域に配置された複数のガイドロール4及び駆動ロールによって所定の経路を連続的に走行するようになっている。一対のガイドロール3a、3bの間に、連続基板2に対してラビング処理を施すラビング手段として、ロール周面にラビング布を巻き付けた構造のラビングロール6が設けられている。このラビングロール6には、ラビングロール6を所望速度で回転させるための回転駆動装置(図示せず)が連結されている。また、2本のガイドロール3a、3bはそれぞれ、本体フレーム8に取り付けられた駆動装置9によって上下方向の位置を調整可能となっており、連続基板2のラビングロール6に対する接触圧力を調整可能としている。
ラビングロール6を取り囲む位置には、そのラビングロール6を覆うように集塵ボックス11が設けられている。この集塵ボックス11は、連続基板2が通過する位置に開口部12を備えており、その開口部12の位置を連続基板2の通過する位置に応じて調整可能な構造としている。集塵ボックス11には、その内部を排気するための排気手段14が接続されている。排気手段14は、集塵ボックス11に連結された吸引管15と、その吸引管15を通じて集塵ボックス11内の空気を吸引し且つ吸引した空気内の異物を除去する集塵装置16と、集塵装置16を出た空気内に残る恐れのある微細な異物を更に除去するための精密フィルター17と、異物を除去した後の空気をラビング装置を設置した室内に戻す戻し管18等を備えている。
吸引管15の集塵ボックス11に対する連結位置は特に限定するものではないが、図示したように、連続基板2の走行方向に関してラビングロール6よりも下流側とすることが好ましい。ラビングロール6は、通常、連続基板2の走行方向に対して逆方向に回転しているので、連続基板2とラビングロール6の接触位置の下流で且つ連続基板2とラビングロール6で挟まれた領域に異物が集まる傾向があり、この領域の近傍に吸引管15を接続することで異物を効果的に排出できる。
集塵ボックス11内には、ラビングロール6に付着した異物の除去を行うため、ラビングロール6に接触するようにブラシ20が設けられている。このブラシ20は、ラビングロール6表面のラビング布と同一の材質若しくはラビング布の毛先を痛めつけない程度の材質で作られている。ブラシ20としては、図1に示すように単に一定位置に固定されたものに限らず、図2に示すように回転可能なロール状のブラシ20Aを用いることも可能である。ロール状のブラシ20Aを用いる場合は、これを所望の回転速度で回転させる構成としておくことが望ましい。ブラシ20、20Aの材質は前記したように、ラビング布の毛先を痛めつけない程度の材質とするが、更に導電性とすることが、ラビングロール6や連続基板2への静電気蓄積を防止できるので好ましい。
図1において、連続基板2とラビングロール6の接触位置の下流側には、連続基板2と集塵ボックス11の間で且つ集塵ボックス11から連続基板2が出てくる位置の近くに除電装置22が設けられている。なお、この除電装置22は集塵ボックス11の内側に配置してもよい。
上記構成のラビング装置において、連続基板2が連続的に一定速度で走行し、その連続基板2が、連続的に一定速度で回転しているラビングロール6に接触することでラビング処理が行われる。このラビング処理動作中、排気手段14が作動して集塵ボックス11内を排気しており、ラビング処理によって発生した異物は、集塵ボックス11内の空気と共に排気手段14に吸引、除去される。また、発生した異物がラビングロール6に付着することもあるが、ブラシ20又は20Aがラビングロール6に接触して異物をかき落とすため、異物がラビングロール6に堆積することはない。かくして、集塵ボックス11内には異物がほとんど浮遊しておらず、且つラビングロール6の表面に異物が堆積することもないので、ラビング処理された連続基板2の配向膜上に異物が付着するということがほとんどなく、また、ラビングむらを生じることもない。
更に、前記したように集塵ボックス11内は排気手段14によって排気されているので、周辺環境の圧力に比べて低くなっており、集塵ボックス11の開口部からの空気の流入により、ラビング処理にて生じた異物が集塵ボックス11の外側に飛散することはなく、集塵ボックス11の外側で連続基板2に異物が再付着するということがない。また、ラビング処理された後の連続基板2が集塵ボックス11を出た直後に除電装置22によって除電されるため、例え、連続基板2に異物が静電気によって付着していても異物が直ちに連続基板2から離れ、集塵ボックス11の開口部12から集塵ボックス11内に流れ込む気流に乗って除去される。更に、その後の連続基板2にはほとんど静電気が無いので、異物の再付着を更に防止できる。
なお、排気手段14によって集塵ボックス11から吸引した空気は、集塵装置16により異物等の塵埃が除去され、精密フィルター17で更に微細な異物も除去され、戻し管18によってラビング装置を設置した室内に送り込まれて再利用される。かくして、このラビング装置では、ラビングロール6のラビング布の頻繁な交換を行うことなく、長期間に渡って安定したラビング処理を行うことができる。
以上に説明した実施形態に係るラビング装置1は、その前後に連続基板を繰り出す供給装置と、処理済の連続基板を巻き取る巻取装置を配して、ラビング処理のみを行うラビング専用の機械として用いてもよいし、他の処理を行うラインに組み込んで用いても良い。図3は、図1に示すラビング装置1を、液晶の塗布、乾燥を行うラインに組み込んで形成した光学的異方性シート製造装置24を示すものである。
図3において、25は、表面に配向膜を有する連続基板2を繰り出す供給装置であり、その下流に、連続基板2の幅方向の走行位置を安定させるEPC装置26、連続基板2に対してラビング処理を行うラビング装置1が設けられている。更に、ラビング装置1の下流には、連続基板2の幅方向の走行位置を安定させるEPC装置27、ラビング処理後の連続基板2からごみを除去するフィルム除塵装置28、28、連続基板2の配向膜上に液晶材料を塗布する液晶塗布装置29、塗布した液晶を乾燥、硬化させる乾燥装置30及びUV硬化装置31、形成された光学的異方性シートをロール状に巻き取る巻取装置32等が配置されている。光学的異方性シートの製造工程では、ごみ、ほこり等の異物の付着を嫌うため、この光学的異方性シート製造装置24はクリーンルーム内に設置されている。
ラビング装置1は、図1に示す構造のものであり、ラビングロール6を覆う集塵ボックス11と、その中にラビングロール6に接触するように設けられたブラシ20と、集塵ボックス11内を排気し、且つ排気した空気から塵埃、異物等を除去した後、クリーンルーム内に戻す構成の排気手段14等を備えている。この構成になる光学的異方性シート製造装置24では、供給装置25から、表面に配向膜を有する連続基板2が引き出され、ラビング装置1によってラビング処理された後、そのラビング処理後の表面に液晶が塗布され、乾燥工程を経て巻取装置32に巻き取られる。これによって、所定方向に配向した液晶層を備えた光学的異方性シートが連続的に製造される。
ここで、ラビング処理工程では異物が発生するが、ラビングロール6を集塵ボックス11で覆い、且つその内部を排気する構成としたことで、連続基板2に対する異物の付着を防止することができるのみならず、異物が周囲に飛散することを防止でき、光学的異方性シート製造装置24を設置したクリーンルーム内に異物を飛散させることがない。このため、ラビング装置1全体をブースで囲って、他の領域への異物の飛散を防止するといった構造を採る必要がなく、ラビング装置1を組み込んだ光学的異方性シート製造装置24の構造を簡略化して、クリーンルーム内に設置できるといった利点が得られる。また、集塵ボックス11から排気手段14で排気した空気は異物を除去してクリーンにした後、再度クリーンルームに戻しているので、クリーンルームの負荷を増大させることもないといった利点も得られる。
本発明の実施形態に係るラビング装置の概略構成を示す模式図 本発明の他の実施形態に係るラビング装置の主要部の概略構成を示す模式図 本発明の実施形態に係るラビング装置を組み込んだ光学的異方性シート製造装置の概略構成を示す模式図
符号の説明
1 ラビング装置
2 連続基板
3a、3b、4 ガイドロール
6 ラビングロール
8 本体フレーム
9 駆動装置
11 集塵ボックス
12 開口部
14 排気手段
15 吸引管
16 集塵装置
17 精密フィルター
18 戻し管
20、20A ブラシ
22 除電装置
24 光学的異方性シート製造装置
25 供給装置
26、27 EPC装置
28 フィルム除塵装置
29 液晶塗布装置
30 乾燥装置
31 UV硬化装置
32 巻取装置

Claims (4)

  1. 配向膜が形成された連続基板を連続的に走行させる工程と、走行中の連続基板に、集塵ボックスにて覆われたラビング手段のラビング布を接触させてラビング処理する工程と、前記集塵ボックス内を排気する工程を有することを特徴とするラビング方法。
  2. 配向膜が形成された連続基板を連続的に走行させる手段と、走行中の連続基板にラビング布を接触させてラビング処理するラビング手段と、該ラビング手段を覆うように配置された集塵ボックスと、該集塵ボックス内を排気する排気手段を有することを特徴とするラビング装置。
  3. 前記集塵ボックス内に、前記ラビング手段のラビング布に接触して該ラビング布に付着している異物を除去するブラシを設けていることを特徴とする請求項2記載のラビング装置。
  4. 前記排気手段が、前記集塵ボックス内の空気を吸引し且つ吸引した空気内の異物を除去する集塵手段と、異物を除去した後の空気をラビング装置を設置した室内に戻す戻し管とを備えたことを特徴とする請求項3記載のラビング装置。
JP2004075451A 2004-03-17 2004-03-17 ラビング方法及び装置 Pending JP2005266019A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004075451A JP2005266019A (ja) 2004-03-17 2004-03-17 ラビング方法及び装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004075451A JP2005266019A (ja) 2004-03-17 2004-03-17 ラビング方法及び装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005266019A true JP2005266019A (ja) 2005-09-29

Family

ID=35090674

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004075451A Pending JP2005266019A (ja) 2004-03-17 2004-03-17 ラビング方法及び装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005266019A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010112968A (ja) * 2008-11-04 2010-05-20 Suzuki Ritsuko ラビング処理装置
US7751023B2 (en) 2007-01-11 2010-07-06 Quanta Display Inc. Apparatus for rubbing alignment layer on a substrate
CN102087442A (zh) * 2009-12-08 2011-06-08 富士胶片株式会社 摩擦处理方法、摩擦处理装置、光学补偿膜的制造方法及其装置
WO2016070444A1 (zh) * 2014-11-07 2016-05-12 深圳市华星光电技术有限公司 摩擦配向装置及液晶配向设备
CN113484501A (zh) * 2021-06-10 2021-10-08 许昌学院 一种智能化布面疵点检测装置
CN114633498A (zh) * 2022-05-18 2022-06-17 溧阳卓越新材料科技有限公司 膜表面处理工艺及装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7751023B2 (en) 2007-01-11 2010-07-06 Quanta Display Inc. Apparatus for rubbing alignment layer on a substrate
JP2010112968A (ja) * 2008-11-04 2010-05-20 Suzuki Ritsuko ラビング処理装置
CN102087442A (zh) * 2009-12-08 2011-06-08 富士胶片株式会社 摩擦处理方法、摩擦处理装置、光学补偿膜的制造方法及其装置
JP2011123120A (ja) * 2009-12-08 2011-06-23 Fujifilm Corp ラビング処理方法、ラビング処理装置、光学補償フィルムの製造方法及びその装置
WO2016070444A1 (zh) * 2014-11-07 2016-05-12 深圳市华星光电技术有限公司 摩擦配向装置及液晶配向设备
CN113484501A (zh) * 2021-06-10 2021-10-08 许昌学院 一种智能化布面疵点检测装置
CN113484501B (zh) * 2021-06-10 2023-04-18 许昌学院 一种智能化布面疵点检测装置
CN114633498A (zh) * 2022-05-18 2022-06-17 溧阳卓越新材料科技有限公司 膜表面处理工艺及装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7806986B2 (en) Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method using the same
US6523208B1 (en) Flexible web cleaning system
JP5322909B2 (ja) ラビング処理方法、光学補償フィルムの製造方法
JP2005266019A (ja) ラビング方法及び装置
KR20170048136A (ko) 클리닝 헤드 및 청소 방법
JPH01299682A (ja) ウェブの除塵方法
JP2007178553A (ja) ラビング装置
JP2014136625A (ja) ベルト洗浄装置及び記録装置
JP5210007B2 (ja) シート状物の洗浄装置
JP7450393B2 (ja) 現像装置及び現像方法
JP4908316B2 (ja) 洗浄装置、フラットパネルディスプレイの製造装置及びフラットパネルディスプレイ
JP2011255343A (ja) ウェブの洗浄装置および方法
JP2005262088A (ja) 支持体表面の防塵方法及び装置
KR100347675B1 (ko) 인쇄회로기판의 필름 필링장치
JP2006080187A (ja) ロールブラシ、基板洗浄装置
JP2016175033A (ja) フィルム洗浄装置
JP2002079200A (ja) ウエブの除塵方法及び装置
JP2010052835A (ja) 用紙の紙粉除去装置
KR20140119484A (ko) 원단의 표면 세척 장치
JPH01281482A (ja) プリンタのクリーニング装置
JP6237118B2 (ja) ベルト洗浄装置及び記録装置
JP2889748B2 (ja) 硬基板塗布装置
JP2007229573A (ja) プロセスロールにおける異物除去装置
KR0164640B1 (ko) 콘덴서 주조기의 이물질 및 정전기 제거장치
JP2022155366A (ja) 基板端面洗浄装置および基板端面洗浄方法