JP2022142118A - センサチップ、力覚センサ装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】耐荷重と感度を両立したセンサチップを提供する。【解決手段】本センサチップは、歪検出素子の出力の変化に基づいて、所定の軸方向の力又はモーメントを多軸検知するセンサチップであって、複数の第1支持部を有し、各軸の前記歪検出素子の出力を増幅する複数の増幅器が、前記第1支持部に配置されて前記第1支持部と一体的に形成されている。【選択図】図22

Description

本発明は、センサチップ、力覚センサ装置に関する。
従来、所定の軸方向の変位を検知する力覚センサ装置が知られている。一例として、センサチップと、センサチップの周囲に配置され、外力が加わる外力印加板、センサチップを支持する台座部、外力印加板を台座部に固定する外力緩衝機構、外力伝達機構である連結ロッドから成る構造体を備え、外力印加板と作用部が連結ロッドで連結されている力覚センサ装置が挙げられる。
センサチップは、例えば、外力が印加される作用部と、外部に固定する支持部と、作用部及び支持部を連結する連結部とで形成されており、作用部又は連結部の表面に、印加される外力に相当する歪み量をピエゾ効果により検出する抵抗素子が配置されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2003-207405号公報
力覚センサ装置に用いるセンサチップでは、一般に、耐荷重を向上させると感度(出力)が低下するというトレードオフの関係がある。したがって、耐荷重と感度を両立したセンサチップを実現することは困難である。
本発明は、上記の点に鑑みてなされたもので、耐荷重と感度を両立したセンサチップの提供を目的とする。
本センサチップ(100)は、歪検出素子(FxR1等)の出力の変化に基づいて、所定の軸方向の力又はモーメントを多軸検知するセンサチップ(100)であって、複数の第1支持部(101~104)を有し、各軸の前記歪検出素子(FxR1等)の出力を増幅する複数の増幅器(Fx_AMP等)が、前記第1支持部(101~104)に配置されて前記第1支持部(101~104)と一体的に形成されている。
なお、上記括弧内の参照符号は、理解を容易にするために付したものであり、一例にすぎず、図示の態様に限定されるものではない。
開示の技術によれば、耐荷重と感度を両立したセンサチップを提供できる。
第1実施形態に係る力覚センサ装置を例示する斜視図である。 第1実施形態に係る力覚センサ装置を例示する断面斜視図である。 入力伝達部にセンサチップが取り付けられた状態を示す上面側斜視図である。 入力伝達部にセンサチップが取り付けられた状態を示す下面側斜視図である。 センサチップ100をZ軸方向上側から視た斜視図である。 センサチップ100をZ軸方向上側から視た平面図である。 センサチップ100をZ軸方向下側から視た斜視図である。 センサチップ100をZ軸方向下側から視た底面図である。 各軸にかかる力及びモーメントを示す符号を説明する図である。 センサチップ100のピエゾ抵抗素子の配置を例示する図である。 図10に示すセンサチップの1組の検知ブロックの部分拡大図である。 各ピエゾ抵抗素子を用いた検出回路の一例を示す図(その1)である。 各ピエゾ抵抗素子を用いた検出回路の一例を示す図(その2)である。 Fx入力について説明する図である。 Fy入力について説明する図である。 起歪体200を構成する受力板を例示する斜視図である。 起歪体200を構成する起歪部を例示する斜視図である。 起歪体200を構成する入力伝達部を例示する上面側の斜視図である。 起歪体200を構成する入力伝達部を例示する下面側の斜視図である。 起歪体200を構成する入力伝達部を例示する側面図である。 起歪体200を構成する蓋板を例示する斜視図である。 センサチップ100におけるAMPの配置について説明する平面図である。 ピエゾ抵抗素子及びAMPに接続される配線を模式的に示した平面図である。 各AMPの接続を示す図である。 各AMPを構成するトランジスタを例示する断面図である。 センサチップ100AにおけるAMP及びADCの配置について説明する平面図である。
以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
〈第1実施形態〉
(力覚センサ装置1の概略構成)
図1は、第1実施形態に係る力覚センサ装置を例示する斜視図である。図2は、第1実施形態に係る力覚センサ装置を例示する断面斜視図である。図1及び図2を参照すると、力覚センサ装置1は、センサチップ100と、起歪体200とを有している。力覚センサ装置1は、例えば、工作機械等に使用されるロボットの腕や指等に搭載される多軸の力覚センサ装置である。
センサチップ100は、所定の軸方向の変位を最大で6軸検知する機能を有している。起歪体200は、印加された力及び/又はモーメントをセンサチップ100に伝達する機能を有している。以降の実施形態では、一例として、センサチップ100が6軸を検知する場合について説明するが、これには限定されず、例えば、センサチップ100は3軸を検知する場合等にも用いることができる。
起歪体200は、受力板210と、起歪部220と、入力伝達部230と、蓋板240とを有している。受力板210上に起歪部220が積層され、起歪部220上に入力伝達部230が積層され、入力伝達部230上に蓋板240が積層され、全体として略円筒状の起歪体200を形成している。なお、起歪体200としての機能は主に起歪部220及び入力伝達部230が担っているため、受力板210及び蓋板240は必要に応じて設けられる。
なお、本実施形態では、便宜上、力覚センサ装置1において、蓋板240側を上側又は一方の側、受力板210側を下側又は他方の側とする。また、各部位の蓋板240側の面を一方の面又は上面、受力板210側の面を他方の面又は下面とする。但し、力覚センサ装置1は天地逆の状態で用いることができ、又は任意の角度で配置することができる。また、平面視とは対象物を蓋板240の上面の法線方向(Z軸方向)から視ることを指し、平面形状とは対象物を蓋板240の上面の法線方向(Z軸方向)から視た形状を指すものとする。
図3は、入力伝達部にセンサチップが取り付けられた状態を示す上面側斜視図である。図4は、入力伝達部にセンサチップが取り付けられた状態を示す下面側斜視図である。図3及び図4に示すように、入力伝達部230には、入力伝達部230の下面から起歪部220側に突出する収容部235が設けられている。そして、収容部235の蓋板240側に、センサチップ100が固定されている。
具体的には、後述のように、収容部235の起歪部220側には、4つのセンサ接続部235c(後述の図18~図20等参照)が配置されている。そして、各々のセンサ接続部235cは、センサチップ100の力点151~154(後述の図5~図8等参照)の下面と接続されている。
また、収容部235は起歪部220側に入り込んでいる。そして、後述のように、起歪部220には、入力伝達部230側に突起する5本の柱状の第1接続部224a及び第2接続部224b(後述の図17等参照)が配置されている。そして、第1接続部224aは、センサチップ100の支持部101~104と接続されており、第2接続部224bは、センサチップ100の支持部105と接続されている。
以下、センサチップ100及び起歪体200について詳説する。なお、以下の説明において、『平行』とは、2つの直線や辺等が0°±10°の範囲にある場合を含むものとする。また、『垂直』又は『直交』とは、2つの直線や辺等が90°±10°の範囲にある場合を含むものとする。ただし、個別に特別な説明がある場合は、この限りではない。また、『中心』や『中央』は、対象物のおおよその中心や中央を示すものであり、厳密な中心や中央を示すものではない。すなわち、製造誤差程度のばらつきは、許容されるものとする。点対称や線対称等についても同様である。
(センサチップ100)
図5は、センサチップ100をZ軸方向上側から視た斜視図である。図6は、センサチップ100をZ軸方向上側から視た平面図である。図7は、センサチップ100をZ軸方向下側から視た斜視図である。図8は、センサチップ100をZ軸方向下側から視た底面図である。なお、図8において、便宜上、同一高さの面を同一の梨地模様で示している。なお、ここでは、センサチップ100の上面の一辺に平行な方向をX軸方向、垂直な方向をY軸方向、センサチップ100の厚さ方向(センサチップ100の上面の法線方向)をZ軸方向としている。X軸方向、Y軸方向、及びZ軸方向は、互いに直交している。
図5~図8に示すセンサチップ100は、1チップで最大6軸を検知できるMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)センサチップであり、SOI(Silicon On Insulator)基板等の半導体基板から形成されている。センサチップ100の平面形状は、例えば、7000μm角程度の矩形(正方形又は長方形)とすることができる。
センサチップ100は、柱状の5つの支持部101~105を備えている。支持部101~105の平面形状は、例えば、2000μm角程度の正方形とすることができる。支持部101~104は、矩形のセンサチップ100の四隅に配置されている。支持部105は、矩形のセンサチップ100の中央に配置されている。なお、支持部101~104は本発明に係る第1支持部の代表的な一例であり、支持部105は本発明に係る第2支持部の代表的な一例である。
支持部101と支持部102との間には、支持部101と支持部102とに両端を固定された(隣接する支持部同士を連結する)枠部112が設けられている。支持部102と支持部103との間には、支持部102と支持部103とに両端を固定された(隣接する支持部同士を連結する)枠部113が設けられている。
支持部103と支持部104との間には、支持部103と支持部104とに両端を固定された(隣接する支持部同士を連結する)枠部114が設けられている。支持部104と支持部101との間には、支持部104と支持部101とに両端を固定された(隣接する支持部同士を連結する)枠部111が設けられている。
言い換えれば、4つの枠部111、112、113、及び114が枠状に形成され、各枠部の交点をなす角部が、支持部101、102、103、及び104となる。
支持部101の内側の角部と、それに対向する支持部105の角部とは、連結部121により連結されている。支持部102の内側の角部と、それに対向する支持部105の角部とは、連結部122により連結されている。
支持部103の内側の角部と、それに対向する支持部105の角部とは、連結部123により連結されている。支持部104の内側の角部と、それに対向する支持部105の角部とは、連結部124により連結されている。
すなわち、センサチップ100は、支持部105と支持部101~104とを連結する連結部121~124を有している。連結部121~124は、X軸方向(Y軸方向)に対して斜めに配置されている。つまり、連結部121~124は、枠部111、112、113、及び114と非平行に配置されている。
支持部101~105、枠部111~114、及び連結部121~124は、例えば、SOI基板の活性層、BOX層、及び支持層から形成することができ、それぞれの厚さは、例えば、400μm~600μm程度とすることができる。
センサチップ100は、4つの検知ブロックB~Bを有している。また、各々の検知ブロックは、歪検出素子であるピエゾ抵抗素子が配置されたT字型梁構造を3組備えている。ここで、T字型梁構造とは、第1検知用梁と、第1検知用梁の中央部から第1検知用梁と直交する方向に伸びて力点と接続する第2検知用梁とを含む構造を指す。
なお、検知用梁とは、ピエゾ抵抗素子を配置可能な梁を指すが、必ずしもピエゾ抵抗素子を配置しなくてもよい。つまり、検知用梁は、ピエゾ抵抗素子を配置することで力やモーメントの検出が可能であるが、センサチップ100は、ピエゾ抵抗素子を配置せず、力やモーメントの検出に用いない検知用梁を有してもよい。
具体的には、検知ブロックBは、T字型梁構造131T、131T、及び131Tを備えている。また、検知ブロックBは、T字型梁構造132T、132T、及び132Tを備えている。また、検知ブロックBは、T字型梁構造133T、133T、及び133Tを備えている。また、検知ブロックBは、T字型梁構造134T、134T、及び134Tを備えている。以下に、より詳しい梁構造の説明を行う。
検知ブロックBには、平面視において、枠部111の支持部101に近い側と、連結部121の支持部105に近い側とを橋渡しするように、所定間隔を空けて支持部101の支持部104側の辺と平行に第1検知用梁131aが設けられている。また、第1検知用梁131aの長手方向の中央部に一端が接続され、支持部104側に向かって第1検知用梁131aの長手方向と垂直方向に伸びる第2検知用梁131bが設けられている。第1検知用梁131aと第2検知用梁131bとは、T字型梁構造131Tを形成している。
平面視において、枠部111の支持部104に近い側と、連結部124の支持部105に近い側とを橋渡しするように、所定間隔を空けて支持部104の支持部101側の辺と平行に第1検知用梁131cが設けられている。また、第1検知用梁131cの長手方向の中央部に一端が接続され、支持部101側に向かって第1検知用梁131cの長手方向と垂直方向に伸びる第2検知用梁131dが設けられている。第1検知用梁131cと第2検知用梁131dとは、T字型梁構造131Tを形成している。
平面視において、連結部121の支持部105に近い側と、連結部124の支持部105に近い側とを橋渡しするように、所定間隔を空けて支持部105の枠部111側の辺と平行に第1検知用梁131eが設けられている。また、第1検知用梁131eの長手方向の中央部に一端が接続され、枠部111側に向かって第1検知用梁131eの長手方向と垂直方向に伸びる第2検知用梁131fが設けられている。第1検知用梁131eと第2検知用梁131fとは、T字型梁構造131Tを形成している。
第2検知用梁131bと第2検知用梁131dと第2検知用梁131fの他端側同士が接続して接続部141を形成し、接続部141の下面側に力点151が設けられている。力点151は、例えば、四角柱状である。T字型梁構造131T、131T、及び131Tと接続部141及び力点151とにより、検知ブロックBを構成している。
検知ブロックBにおいて、第1検知用梁131aと第1検知用梁131cと第2検知用梁131fとは平行であり、第2検知用梁131b及び131dと第1検知用梁131eとは平行である。検知ブロックBの各々の検知用梁の厚さは、例えば、30μm~50μm程度とすることができる。
検知ブロックBには、平面視において、枠部112の支持部102に近い側と、連結部122の支持部105に近い側とを橋渡しするように、所定間隔を空けて支持部102の支持部101側の辺と平行に第1検知用梁132aが設けられている。また、第1検知用梁132aの長手方向の中央部に一端が接続され、支持部101側に向かって第1検知用梁132aの長手方向と垂直方向に伸びる第2検知用梁132bが設けられている。第1検知用梁132aと第2検知用梁132bとは、T字型梁構造132Tを形成している。
平面視において、枠部112の支持部101に近い側と、連結部121の支持部105に近い側とを橋渡しするように、所定間隔を空けて支持部101の支持部102側の辺と平行に第1検知用梁132cが設けられている。また、第1検知用梁132cの長手方向の中央部に一端が接続され、支持部102側に向かって第1検知用梁132cの長手方向と垂直方向に伸びる第2検知用梁132dが設けられている。第1検知用梁132cと第2検知用梁132dとは、T字型梁構造132Tを形成している。
平面視において、連結部122の支持部105に近い側と、連結部121の支持部105に近い側とを橋渡しするように、所定間隔を空けて支持部105の枠部112側の辺と平行に第1検知用梁132eが設けられている。また、第1検知用梁132eの長手方向の中央部に一端が接続され、枠部112側に向かって第1検知用梁132eの長手方向と垂直方向に伸びる第2検知用梁132fが設けられている。第1検知用梁132eと第2検知用梁132fとは、T字型梁構造132Tを形成している。
第2検知用梁132bと第2検知用梁132dと第2検知用梁132fの他端側同士が接続して接続部142を形成し、接続部142の下面側に力点152が設けられている。力点152は、例えば、四角柱状である。T字型梁構造132T、132T、及び132Tと接続部142及び力点152とにより、検知ブロックBを構成している。
検知ブロックBにおいて、第1検知用梁132aと第1検知用梁132cと第2検知用梁132fとは平行であり、第2検知用梁132b及び132dと第1検知用梁132eとは平行である。検知ブロックBの各々の検知用梁の厚さは、例えば、30μm~50μm程度とすることができる。
検知ブロックBには、平面視において、枠部113の支持部103に近い側と、連結部123の支持部105に近い側とを橋渡しするように、所定間隔を空けて支持部103の支持部102側の辺と平行に第1検知用梁133aが設けられている。また、第1検知用梁133aの長手方向の中央部に一端が接続され、支持部102側に向かって第1検知用梁133aの長手方向と垂直方向に伸びる第2検知用梁133bが設けられている。第1検知用梁133aと第2検知用梁133bとは、T字型梁構造133Tを形成している。
平面視において、枠部113の支持部102に近い側と、連結部122の支持部105に近い側とを橋渡しするように、所定間隔を空けて支持部102の支持部103側の辺と平行に第1検知用梁133cが設けられている。また、第1検知用梁133cの長手方向の中央部に一端が接続され、支持部103側に向かって第1検知用梁133cの長手方向と垂直方向に伸びる第2検知用梁133dが設けられている。第1検知用梁133cと第2検知用梁133dとは、T字型梁構造133Tを形成している。
平面視において、連結部123の支持部105に近い側と、連結部122の支持部105に近い側とを橋渡しするように、所定間隔を空けて支持部105の枠部113側の辺と平行に第1検知用梁133eが設けられている。また、第1検知用梁133eの長手方向の中央部に一端が接続され、枠部113側に向かって第1検知用梁133eの長手方向と垂直方向に伸びる第2検知用梁133fが設けられている。第1検知用梁133eと第2検知用梁133fとは、T字型梁構造133Tを形成している。
第2検知用梁133bと第2検知用梁133dと第2検知用梁133fの他端側同士が接続して接続部143を形成し、接続部143の下面側に力点153が設けられている。力点153は、例えば、四角柱状である。T字型梁構造133T、133T、及び133Tと接続部143及び力点153とにより、検知ブロックBを構成している。
検知ブロックBにおいて、第1検知用梁133aと第1検知用梁133cと第2検知用梁133fとは平行であり、第2検知用梁133b及び133dと第1検知用梁133eとは平行である。検知ブロックBの各々の検知用梁の厚さは、例えば、30μm~50μm程度とすることができる。
検知ブロックBには、平面視において、枠部114の支持部104に近い側と、連結部124の支持部105に近い側とを橋渡しするように、所定間隔を空けて支持部104の支持部103側の辺と平行に第1検知用梁134aが設けられている。また、第1検知用梁134aの長手方向の中央部に一端が接続され、支持部103側に向かって第1検知用梁134aの長手方向と垂直方向に伸びる第2検知用梁134bが設けられている。第1検知用梁134aと第2検知用梁134bとは、T字型梁構造134Tを形成している。
平面視において、枠部114の支持部103に近い側と、連結部123の支持部105に近い側とを橋渡しするように、所定間隔を空けて支持部103の支持部104側の辺と平行に第1検知用梁134cが設けられている。また、第1検知用梁134cの長手方向の中央部に一端が接続され、支持部104側に向かって第1検知用梁134cの長手方向と垂直方向に伸びる第2検知用梁134dが設けられている。第1検知用梁134cと第2検知用梁134dとは、T字型梁構造134Tを形成している。
平面視において、連結部124の支持部105に近い側と、連結部123の支持部105に近い側とを橋渡しするように、所定間隔を空けて支持部105の枠部114側の辺と平行に第1検知用梁134eが設けられている。また、第1検知用梁134eの長手方向の中央部に一端が接続され、枠部114側に向かって第1検知用梁134eの長手方向と垂直方向に伸びる第2検知用梁134fが設けられている。第1検知用梁134eと第2検知用梁134fとは、T字型梁構造134Tを形成している。
第2検知用梁134bと第2検知用梁134dと第2検知用梁134fの他端側同士が接続して接続部144を形成し、接続部144の下面側に力点154が設けられている。力点154は、例えば、四角柱状である。T字型梁構造134T、134T、及び134Tと接続部144及び力点154とにより、検知ブロックBを構成している。
検知ブロックBにおいて、第1検知用梁134aと第1検知用梁134cと第2検知用梁134fとは平行であり、第2検知用梁134b及び134dと第1検知用梁134eとは平行である。検知ブロックBの各々の検知用梁の厚さは、例えば、30μm~50μm程度とすることができる。
このように、センサチップ100は、4つの検知ブロック(検知ブロックB~B)を有している。そして、各々の検知ブロックは、支持部101~104のうちの隣接する支持部と、隣接する支持部に連結する枠部及び連結部と、支持部105と、に囲まれた領域に配置されている。平面視で、各々の検知ブロックは、例えば、センサチップの中心に対して点対称に配置することができる。
また、各々の検知ブロックは、T字型梁構造を3組備えている。各々の検知ブロックにおいて、3組のT字型梁構造は、平面視で、接続部を挟んで第1検知用梁が平行に配置された2組のT字型梁構造と、2組のT字型梁構造の第2検知用梁と平行に配置された第1検知用梁を備えた1組のT字型梁構造とを含む。そして、1組のT字型梁構造の第1検知用梁は、接続部と支持部105との間に配置されている。
例えば、検知ブロックBでは、3組のT字型梁構造は、平面視で、接続部141を挟んで第1検知用梁131aと第1検知用梁131cとが平行に配置されたT字型梁構造131T及び131Tと、T字型梁構造131T及び131Tの第2検知用梁131b及び131dと平行に配置された第1検知用梁131eを備えたT字型梁構造131Tとを含む。そして、T字型梁構造131Tの第1検知用梁131eは、接続部141と支持部105との間に配置されている。検知ブロックB~Bも同様の構造である。
力点151~154は、外力が印加される箇所であり、例えば、SOI基板のBOX層及び支持層から形成することができる。力点151~154のそれぞれの下面は、支持部101~105の下面と略面一である。
このように、力又は変位を4つの力点151~154から取り入れることで、力の種類毎に異なる梁の変形が得られるため、6軸の分離性が良いセンサを実現することができる。力点の数は組み合わされる起歪体の変位入力箇所と同数である。
なお、センサチップ100において、応力集中を抑制する観点から、内角を形成する部分はR状とすることが好ましい。
センサチップ100の支持部101~105は起歪体200の非可動部に接続され、力点151~154は起歪体200の可動部に接続される。ただし、可動と非可動との関係が逆であっても力覚センサ装置として機能する。すなわち、センサチップ100の支持部101~105は起歪体200の可動部に接続され、力点151~154は起歪体200の非可動部に接続されてもよい。
図9は、各軸にかかる力及びモーメントを示す符号を説明する図である。図9に示すように、X軸方向の力をFx、Y軸方向の力をFy、Z軸方向の力をFzとする。また、X軸を軸として回転させるモーメントをMx、Y軸を軸として回転させるモーメントをMy、Z軸を軸として回転させるモーメントをMzとする。
図10は、センサチップ100のピエゾ抵抗素子の配置を例示する図である。図11は、図10に示すセンサチップの1組の検知ブロックの部分拡大図である。図10及び図11に示すように、4つ力点151~154に対応する各検知ブロックの所定位置には、ピエゾ抵抗素子が配置されている。なお、図10に示す他の検知ブロックにおけるピエゾ抵抗素子の配置は、図11に示す一の検知ブロックにおけるピエゾ抵抗素子の配置と同様である。
図5~図8、図10、及び図11を参照すると、接続部141及び力点151を有する検知ブロックBにおいて、ピエゾ抵抗素子MzR1'は、第1検知用梁131aにおいて、第2検知用梁131bと第1検知用梁131eとの間に位置する部分の第2検知用梁131bに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子FxR3は、第1検知用梁131aにおいて、第2検知用梁131bと第1検知用梁131eとの間に位置する部分の第1検知用梁131eに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子MxR1は、第2検知用梁131bにおいて、接続部141に近い側に配置されている。
また、ピエゾ抵抗素子MzR2'は、第1検知用梁131cにおいて、第2検知用梁131dと第1検知用梁131eとの間に位置する部分の第2検知用梁131dに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子FxR1は、第1検知用梁131cにおいて、第2検知用梁131dと第1検知用梁131eとの間に位置する部分の第1検知用梁131eに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子MxR2は、第2検知用梁131dにおいて、接続部141に近い側に配置されている。
また、ピエゾ抵抗素子FzR1'は、第2検知用梁131fにおいて、接続部141に近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子FzR2'は、第2検知用梁131fにおいて、第1検知用梁131eに近い側に配置されている。なお、ピエゾ抵抗素子MzR1'、FxR3、MxR1、MzR2'、FxR1、及びMxR2は、各々の検知用梁の長手方向の中心からオフセットした位置に配置されている。
接続部142及び力点152を有する検知ブロックBにおいて、ピエゾ抵抗素子MzR4は、第1検知用梁132aにおいて、第2検知用梁132bと第1検知用梁132eとの間に位置する部分の第2検知用梁132bに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子FyR3は、第1検知用梁132aにおいて、第2検知用梁132bと第1検知用梁132eとの間に位置する部分の第1検知用梁132eに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子MyR4は、第2検知用梁132bにおいて、接続部142に近い側に配置されている。
また、ピエゾ抵抗素子MzR3は、第1検知用梁132cにおいて、第2検知用梁132dと第1検知用梁132eとの間に位置する部分の第2検知用梁132dに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子FyR1は、第1検知用梁132cにおいて、第2検知用梁132dと第1検知用梁132eとの間に位置する部分の第1検知用梁132eに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子MyR3は、第2検知用梁132dにおいて、接続部142に近い側に配置されている。
また、ピエゾ抵抗素子FzR4は、第2検知用梁132fにおいて、接続部142に近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子FzR3は、第2検知用梁132fにおいて、第1検知用梁132eに近い側に配置されている。なお、ピエゾ抵抗素子MzR4、FyR3、MyR4、MzR3、FyR1、及びMyR3は、各々の検知用梁の長手方向の中心からオフセットした位置に配置されている。
接続部143及び力点153を有する検知ブロックBにおいて、ピエゾ抵抗素子MzR4'は、第1検知用梁133aにおいて、第2検知用梁133bと第1検知用梁133eとの間に位置する部分の第2検知用梁133bに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子FxR2は、第1検知用梁133aにおいて、第2検知用梁133bと第1検知用梁133eとの間に位置する部分の第1検知用梁133eに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子MxR4は、第2検知用梁133bにおいて、接続部143に近い側に配置されている。
また、ピエゾ抵抗素子MzR3'は、第1検知用梁133cにおいて、第2検知用梁133dと第1検知用梁133eとの間に位置する部分の第2検知用梁133dに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子FxR4は、第1検知用梁133cにおいて、第2検知用梁133dと第1検知用梁133eとの間に位置する部分の第1検知用梁133eに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子MxR3は、第2検知用梁133dにおいて、接続部143に近い側に配置されている。
また、ピエゾ抵抗素子FzR4'は、第2検知用梁133fにおいて、接続部143に近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子FzR3'は、第2検知用梁133fにおいて、第1検知用梁133eに近い側に配置されている。なお、ピエゾ抵抗素子MzR4'、FxR2、MxR4、MzR3'、FxR4、及びMxR3は、各々の検知用梁の長手方向の中心からオフセットした位置に配置されている。
接続部144及び力点154を有する検知ブロックBにおいて、ピエゾ抵抗素子MzR1は、第1検知用梁134aにおいて、第2検知用梁134bと第1検知用梁134eとの間に位置する部分の第2検知用梁134bに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子FyR2は、第1検知用梁134aにおいて、第2検知用梁134bと第1検知用梁134eとの間に位置する部分の第1検知用梁134eに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子MyR1は、第2検知用梁134bにおいて、接続部144に近い側に配置されている。
また、ピエゾ抵抗素子MzR2は、第1検知用梁134cにおいて、第2検知用梁134dと第1検知用梁134eとの間に位置する部分の第2検知用梁134dに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子FyR4は、第1検知用梁134cにおいて、第2検知用梁134dと第1検知用梁134eとの間に位置する部分の第1検知用梁134eに近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子MyR2は、第2検知用梁134dにおいて、接続部144に近い側に配置されている。
また、ピエゾ抵抗素子FzR1は、第2検知用梁134fにおいて、接続部144に近い側に配置されている。ピエゾ抵抗素子FzR2は、第2検知用梁134fにおいて、第1検知用梁134eに近い側に配置されている。なお、ピエゾ抵抗素子MzR1、FyR2、MyR1、MzR2、FyR4、及びMyR2は、各々の検知用梁の長手方向の中心からオフセットした位置に配置されている。
このように、センサチップ100では、各検知ブロックに複数のピエゾ抵抗素子を分けて配置している。これにより、力点151~154に印加された入力に応じた所定の梁に配置された複数のピエゾ抵抗素子の出力の変化に基づいて、所定の軸方向の力又はモーメントを最大で6軸検知できる。
なお、センサチップ100において、歪の検出に用いるピエゾ抵抗素子以外に、ダミーのピエゾ抵抗素子が配置されてもよい。ダミーのピエゾ抵抗素子は、検知用梁にかかる応力やブリッジ回路の抵抗のバランスを調整するために用いられ、例えば、歪の検出に用いるピエゾ抵抗素子も含めた全てのピエゾ抵抗素子が、支持部105の中心に対して点対称となるように配置される。
センサチップ100では、T字型梁構造を構成する第1検知用梁に、X軸方向の変位及びY軸方向の変位を検知する複数のピエゾ抵抗素子を配置している。また、T字型梁構造を構成する第2検知用梁に、Z軸方向の変位を検知する複数のピエゾ抵抗素子を配置している。また、T字型梁構造を構成する第1検知用梁に、Z軸方向のモーメントを検知する複数のピエゾ抵抗素子を配置している。また、T字型梁構造を構成する第2検知用梁に、X軸方向のモーメント及びY軸方向のモーメントを検知する複数のピエゾ抵抗素子を配置している。
ここで、ピエゾ抵抗素子FxR1~FxR4は力Fxを検出し、ピエゾ抵抗素子FyR1~FyR4は力Fyを検出し、ピエゾ抵抗素子FzR1~FzR4及びFzR1'~FzR4'は力Fzを検出する。また、ピエゾ抵抗素子MxR1~MxR4はモーメントMxを検出し、ピエゾ抵抗素子MyR1~MyR4はモーメントMyを検出し、ピエゾ抵抗素子MzR1~MzR4及びMzR1'~MzR4'はモーメントMzを検出する。
このように、センサチップ100では、各検知ブロックに複数のピエゾ抵抗素子を分けて配置している。これにより、力点151~154に印加(伝達)された力又は変位の向き(軸方向)に応じた、所定の梁に配置された複数のピエゾ抵抗素子の出力の変化に基づいて、所定の軸方向の変位を最大で6軸検知することができる。また、各検知用梁の厚みと幅を可変することで、検出感度の均一化や、検出感度の向上等の調整を図ることができる。
なお、ピエゾ抵抗素子の数を減らし、5軸以下の所定の軸方向の変位を検知するセンサチップとすることも可能である。
センサチップ100において、力及びモーメントは、例えば、以下に説明する検出回路を用いて検出できる。図12及び図13に各ピエゾ抵抗素子を用いた検出回路の一例を示す。図12及び図13において、四角で囲まれた数字は外部出力端子を示している。例えば、No1はFx軸Fy軸Fz軸の電源端子、No2はFx軸出力マイナス端子、No3はFx軸のGND端子、No4はFx軸出力プラス端子である。No19はFy軸出力マイナス端子、No20はFy軸のGND端子、No21はFy軸出力プラス端子である。No22はFz軸出力マイナス端子、No23はFz軸のGND端子、No24はFz軸出力プラス端子である。
また、No9はMx軸出力マイナス端子、No10はMx軸のGND端子、No11はMx軸出力プラス端子である。No12はMx軸My軸Mz軸の電源端子である。No13はMy軸出力マイナス端子、No14はMy軸のGND端子、No15はMy軸出力プラス端子である。No16はMz軸出力マイナス端子、No17はMz軸のGND端子、No18はMz軸出力プラス端子である。
次に、検知用梁の変形について説明する。図14は、Fx入力について説明する図である。図15は、Fy入力について説明する図である。図14に示すように、センサチップ100が搭載される起歪体200からの入力がFxである場合、4つの力点151~154の全てが同じ方向(図14の例では右方向)に移動しようとする。同様に、図15に示すように、センサチップ100が搭載される起歪体200からの入力がFyである場合、4つの力点151~154の全てが同じ方向(図15の例では上方向)に移動しようとする。すなわち、センサチップ100では、4つの検知ブロックが存在するが、いずれの検知ブロックにおいても、X軸方向の変位及びY軸方向の変位に対して、すべての力点が同じ方向に移動する。
センサチップ100では、T字型梁構造の第1検知用梁の中に、入力の変位方向に対して直交する第1検知用梁を1つ以上有し、入力の変位方向に対して直交する第1検知用梁が大きな変形に対応できる。
Fx入力の検知に使用する梁は、第1検知用梁131a、131c、133a、及び133cであり、いずれも力点から一定距離離れたT字型梁構造の第1検知用梁である。また、Fy入力の検知に使用する梁は、第1検知用梁132a、132c、134a、及び134cであり、いずれも力点から一定距離離れたT字型梁構造の第1検知用梁である。
Fx入力及びFy入力において、ピエゾ抵抗素子が配置されたT字型梁構造の第1検知用梁が大きく変形することで、入力される力を効果的に検知できる。また、入力の検知に使用しない梁もFx入力及びFy入力の変位に追従して大きく変形可能に設計されているため、大きなFx入力及び/又はFy入力があっても検知用梁が破壊されることがない。
なお、従来のセンサチップでは、Fx入力及び/又はFy入力に対して大きく変形できない梁が存在していたため、大きなFx入力及び/又はFy入力があった場合には、変形できない検知用梁が破壊されるおそれがあった。センサチップ100では、このような問題を抑制できる。すなわち、センサチップ100では、様々な方向の変位に対する梁の破壊耐性を向上できる。
このように、センサチップ100は、入力の変位方向に対して直交する第1検知用梁を1つ以上有し、入力の変位方向に対して直交する第1検知用梁が大きく変形できる。そのため、Fx入力及びFy入力を効果的に検知できると共に、大きなFx入力及び/又はFy入力があっても検知用梁が破壊されることがない。その結果、センサチップ100は、大きな定格にも対応でき、測定範囲や耐荷重の向上が可能となる。例えば、センサチップ100では、定格を従来の10倍程度である500Nとすることも可能である。
また、各検知ブロックにおいて力点から3方向へ繋がるT字型梁構造が入力によって異なる変形をするため、多軸の力を分離性良く検出できる。
また、梁がT字型であるため、梁から枠部や連結部へ至る経路が多いため、配線をセンサチップの外周部へ引き回すことが容易となり、レイアウト自由度を向上できる。
センサチップ100では、Z軸方向のモーメントに対しては、各力点を挟んで対向して配置された第1検知用梁131a、131c、132a、132c、133a、133c、134a、及び134cが大きく変形する。従って、これらの第1検知用梁の一部又は全部にピエゾ抵抗素子を配置できる。
また、Z軸方向の変位に対しては、主に、各力点に直接繋がる第2検知用梁131b、131d、131f、132b、132d、132f、133b、133d、133f、134b、134d、及び134fが大きく変形する。従って、これらの第2検知用梁の一部又は全部にピエゾ抵抗素子を配置できる。
(起歪体200)
図1及び図2に示したように、起歪体200は、受力板210と、起歪部220と、入力伝達部230と、蓋板240とを有している。ここでは、起歪体200の各構成部について説明する。
図16は、起歪体200を構成する受力板を例示する斜視図である。図16に示すように、受力板210は、略円盤状の部材であり、被測定物から力やモーメントが入力される部材である。被測定物から力やモーメントが入力された場合にも、受力板210自体はほとんど変形しないため、受力板210に接続される起歪部220へ変形(変位)が損失なく伝わる。受力板210には、貫通孔211が設けられている。貫通孔211は、例えば、受力板210を被測定物にねじで締結する際に使用できる。
図17は、起歪体200を構成する起歪部を例示する斜視図である。図17に示すように、起歪部220は、全体的には略円盤状の部材であり、受力板210から力を受けて変形する部分である。
起歪部220は、平面視で略リング状の外枠部221と、外枠部221と離隔して外枠部221の内側に配置された平面視で略矩形状の中央部222と、外枠部221と中央部222とを橋渡しする複数の梁構造223とを有している。中央部222の矩形の四隅には、受力板210との接続を補強する補強部222aが設けられている。外枠部221の外径は、例えば、50mm程度である。梁構造223の厚さは、例えば、10mm~15mm程度である。
複数の梁構造223は、例えば、起歪部220の中心に対して点対称に配置される。梁構造223は、例えば、4つである。各々の梁構造223は、例えば、第1梁と、第1梁の中央部から第1梁と直交する方向に伸びる第2梁とを含むT字型であり、第1梁の両端が外枠部221と連結し、第2梁の端部が中央部222と連結する。例えば、平面視で、起歪部220は、外枠部221の中心に対して4回対称である。
中央部222は外枠部221よりも薄く形成されており、梁構造223は中央部222よりもさらに薄く形成されている。中央部222の上面及び梁構造223の上面は略面一であり、外枠部221の上面よりも低い位置にある。中央部222の下面は、外枠部221の下面よりも僅かに突出している。梁構造223の下面は、外枠部221の下面及び中央部222の下面よりも高い位置にある。受力板210から力を受けて変形するのは梁構造223及び中央部222のみであり、外枠部221は変形しない。ただし、中央部222は梁構造223の変形に追従して動くだけで、中央部222自体は変形しない。
中央部222の入力伝達部230側の面の中心付近には、入力伝達部230側に開口する(受力板210側に窪む)平面視で略矩形状の溝220xが形成されている。溝220xの内側には、溝220xの底面からさらに受力板210側に窪む溝220yが形成されている。溝220yは、平面視で正方形の溝と、正方形の一辺よりも長い細長状の2本の溝が直交した十字形の溝とが、中心を合わせた状態で重なった形状である。平面視で正方形の溝と、平面視で十字形の溝とは、同じ深さである。
十字形の溝の外側で正方形の溝の四隅の部分には、入力伝達部230側に突起する4本の略円柱状の第1接続部224aが、溝220yの内壁と接しないように配置されている。正方形の溝の中心の部分には、入力伝達部230側に突起する1本の略四角柱状の第2接続部224bが配置されている。
第1接続部224aは、センサチップ100の支持部101~104と接続される部分である。第2接続部224bは、センサチップ100の支持部105と接続される部分である。各々の第1接続部224aと第2接続部224bの上面は略面一であり、中央部222の上面及び梁構造223の上面よりも低い位置にある。
なお、中央部222の上面側には空間が設けられているため、中央部222の上面側に、例えば、外枠部221の上面から突出しないように、コネクタや半導体素子等の電子部品が実装された回路基板等を配置してもよい。
図18は、起歪体200を構成する入力伝達部を例示する上面側の斜視図である。図19は、起歪体200を構成する入力伝達部を例示する下面側の斜視図である。図20は、起歪体200を構成する入力伝達部を例示する側面図である。図18~図20に示すように、入力伝達部230は、全体的には略円盤状の部材であり、起歪部220の変形(入力)をセンサチップ100に伝達する部分である。入力伝達部230は、いずれの部分も受ける力やモーメントで変形しない。
入力伝達部230は、平面視で略リング状の外枠部231と、外枠部231の内周に隣接する平面視で略リング状の内枠部232と、内枠部232の内側に設けられた収容部235とを有している。外枠部231の外径は、例えば、50mm程度である。平面視で、入力伝達部230は、外枠部231の中心に対して4回対称である。
内枠部232は、外枠部231よりも薄く形成されている。内枠部232の上面は、外枠部231の上面よりも低い位置にある。内枠部232の下面は、外枠部231の下面よりも高い位置にある。
収容部235は、4本の水平支持部235aと、4本の垂直支持部235bと、4本のセンサ接続部235cとを有し、センサチップ100を収容可能である。1本の水平支持部235aと、1本の垂直支持部235bと、1本のセンサ接続部235cとは、屈曲する1つの梁構造を構成している。つまり、収容部235は、4つの梁構造を含む。
各々の水平支持部235aは、平面視で内枠部232の内側面に等間隔に配置され、内枠部232の内側面から水平方向に伸びる。各々の水平支持部235aの厚さは、内枠部232の厚さと略同一である。
各々の垂直支持部235bは、各々の水平支持部235aの内周端から起歪部220側に垂直に伸びる。各々の垂直支持部235bの上面及び下面は、いずれも外枠部231の下面よりも低い位置にある。各々の垂直支持部235bは、厚さ及び幅が略一定である。
各々のセンサ接続部235cは、垂直支持部235bの下端から内枠部232の中心側に水平方向に伸びる。平面視において、各々のセンサ接続部235cの長手方向と、各々の水平支持部235aの長手方向は一致する。各々の水平支持部235a及び各々のセンサ接続部235cは、平面視で内枠部232の中心側に行くほど幅が漸減する。
各々のセンサ接続部235cは、平面視で略十字状に配置されるが、互いに交わることなく、各々のセンサ接続部235cの内周端は互いに離隔している。平面視で、各々のセンサ接続部235cを内枠部232の中心側に伸ばす仮想的な延長線を考えると、この延長線は内枠部232の中心で交わる。各々のセンサ接続部235cの上面の内周端側は、センサチップ100の力点151~154と接続される部分である。
なお、図19に示す水平支持部235aの上面からセンサ接続部235cの上面までの垂直方向の距離を、収容部235の深さDと称する。収容部235の深さDは、例えば、2mm~10mm程度である。
図21は、起歪体を構成する蓋板を例示する斜視図である。図21に示すように、蓋板240は、全体的には略円盤状の部材であり、内部部品(センサチップ100等)を保護する部材である。蓋板240は、受力板210、起歪部220、及び入力伝達部230よりも薄く形成されている。
受力板210、起歪部220、入力伝達部230、及び蓋板240の材料としては、例えば、SUS(ステンレス鋼)等の硬質な金属材料を用いることができる。中でも、特に硬質で機械的強度の高いSUS630を用いることが好ましい。起歪体200を構成する部材のうち、特に受力板210と起歪部220と入力伝達部230とは強固に接続されているか、もしくは一体構造であることが望ましい。受力板210と起歪部220と入力伝達部230との接続方法としては、ねじでの締結、溶接等が考えられるが、いずれの方法でも起歪体200に入力される力やモーメントに十分耐えられる必要がある。
本実施形態では、一例として、受力板210と起歪部220と入力伝達部230とを金属粉末射出成型で作製し、それらを合わせて再度焼結を行うことで拡散接合させている。拡散接合された受力板210と起歪部220と入力伝達部230とは必要十分な接合強度を得ることができる。蓋板240は、センサチップ100や他の内部部品を実装後、例えば、ねじで入力伝達部230に締結してもよい。
起歪体200において、受力板210に力やモーメントが印加されると、力やモーメントは受力板210と接続された起歪部220の中央部222へ伝達し、4つの梁構造223で入力に応じた変形が生じる。このとき、起歪部220の外枠部221と入力伝達部230は変形しない。
すなわち、起歪体200において、受力板210と起歪部220の中央部222及び梁構造223とは、所定の軸方向の力又はモーメントを受けて変形する可動部であり、起歪部220の外枠部221は力又はモーメントを受けて変形しない非可動部である。また、非可動部である起歪部220の外枠部221と接合される入力伝達部230は、力又はモーメントを受けて変形しない非可動部であり、入力伝達部230と接合される蓋板240も力又はモーメントを受けて変形しない非可動部である。
起歪体200が力覚センサ装置1に用いられる場合、可動部である中央部222に設けられた第1接続部224aにセンサチップ100の支持部101~104が接続され、第2接続部224bにセンサチップ100の支持部105が接続される。また、非可動部である収容部235に設けられたセンサ接続部235cの上面の内周端側に、センサチップ100の力点151~154が接続される。そのため、センサチップ100は、力点151~154が動かずに、支持部101~105を通じて各検知用梁が変形する動作となる。
ただし、可動部である中央部222に設けられた第1接続部224aにセンサチップ100の力点151~154が接続され、非可動部である収容部235に設けられたセンサ接続部235cの上面の内周端側に、支持部101~105が接続された構成としてもよい。
すなわち、収容部235に収容可能なセンサチップ100は、力又はモーメントを受けて互いの相対位置が変化する支持部101~105及び力点151~154を有している。そして、起歪体200において、可動部である中央部222は、入力伝達部230側に延伸して支持部101~105及び力点151~154の一方と接続される第1接続部224a及び第2接続部224bを備えている。また、収容部235は、支持部101~105及び力点151~154の他方と接続されるセンサ接続部235cを備えている。
このように、起歪体200は、入力された力やモーメントを変位に変換し、搭載されるセンサチップ100に伝達する。従来、同様の機能を目的とした起歪体では、力やモーメントを受ける構造と変位を伝える構造が一体もしくは密接な構成であった。そのため、変位と耐荷重とのトレードオフの関係が強く、特に耐荷重を大きくとることが困難であった。
起歪体200では、力やモーメントを受ける起歪部220と、変位をセンサチップ100に伝達する入力伝達部230とを別々の構造体としているため、高い耐荷重と変位を両立することが可能となる。
(増幅器)
センサチップ100は、耐荷重の高い(例えば、500N程度)設計になっているため、ある程度の大きさを有している。前述のように、センサチップ100の平面形状は、例えば、7000μm角程度の正方形である。このように、センサチップ100の大きさがある程度大きくなると、余剰領域も大きくなる。
ここで、余剰領域とは、ピエゾ抵抗素子が配置される領域とは異なる位置に配置された領域、すなわち検知ブロック以外の領域である。センサチップ100では、上面の面積の約50%が余剰領域である。そのため、余剰領域を有効に利用することが好ましい。そこで、センサチップ100では、各軸のピエゾ抵抗素子の出力を増幅する複数の増幅器(AMPと称する場合もある)を余剰領域に配置している。つまり、センサチップ100では、力やモーメントを検出するための検知ブロックが配置される領域と、AMPが配置される領域は完全に分離されている。
センサチップ100では、支持部101から105が余剰領域である。支持部101から105の5箇所の余剰領域の上面の面積は略同一である。前述のように、支持部101~105の平面形状は、例えば、2000μm角程度の正方形である。また、前述のように、支持部101~105、は、例えば、SOI基板の活性層、BOX層、及び支持層から形成することができ、それぞれの厚さは、例えば、400μm~600μm程度である。
このように、支持部101から105は上面の面積が比較的大きく剛性も高い。そして、支持部101~105は起歪体200の非可動部に接続されるため、力覚センサ装置1に力やモーメントが入力されても発生する応力が極めて低い。増幅器の特性への影響を考慮すると、増幅器は発生する応力が低い領域に配置することが好ましいため、支持部101~105は増幅器を配置する領域として適している。
センサチップ100では、余剰領域に6軸のピエゾ抵抗素子の出力を増幅する6つの増幅器を配置している。例えば、6つの増幅器のうちの3つは、支持部101~104のうちの1つに配置され、6つの増幅器のうちの他の3つは、他の3つの支持部のうちの1つに配置されている。
ただし、センサチップ100としては、所定の軸方向の力又はモーメントを多軸検知する(2軸以上検知する)ものを使用してもよい。つまり、センサチップ100は、2軸検知用のセンサチップや3軸検知用のセンサチップであってもよい。この場合、センサチップ100は、多軸のピエゾ抵抗素子の出力を増幅する多軸分の増幅器を配置可能である。多軸分の複数の増幅器のうちの少なくとも1つは、支持部101~104のうちの1つに配置され、多軸分の複数の増幅器のうちの他の少なくとも1つは、他の3つの支持部のうちの1つに配置される。以降は、センサチップ100に、6軸のピエゾ抵抗素子の出力を増幅する6つの増幅器を配置する場合について説明する。
図22に示すように、センサチップ100では、支持部104に、Fx信号用の増幅器であるFx_AMP、Fy信号用の増幅器であるFy_AMP、及びFz信号用の増幅器であるFz_AMPを配置している。また、支持部102に、Mx信号用の増幅器であるMx_AMP、My信号用の増幅器であるMy_AMP、及びMz信号用の増幅器であるMz_AMPを配置している。Fx_AMP、Fy_AMP、Fz_AMP、Mx_AMP、My_AMP、及びMz_AMPは、既成のICを各支持部上に実装したものではなく、半導体プロセスにより各支持部と一体的に形成したものである。
図23は、ピエゾ抵抗素子及びAMPに接続される配線を模式的に示した平面図である。図23に示すように、ピエゾ抵抗素子及びAMPに接続される配線は、各支持部、枠部、連結部、及び検知用梁に配置されている、各AMPを配置する余剰領域は、配線の引き回し、ワイヤボンディングの容易性等を考慮して自由に決定できる。図22では、支持部102及び104に各AMPを配置したが、例えば、支持部102及び103に各AMPを配置してもよい。
図24は、各AMPの接続を示す図である。図24に示すように、図12及び図13に示した各ブリッジ回路のプラス端子及びマイナス端子が各々のAMPに入力され、各々のAMPで増幅されて出力される。例えば、図12に示すブリッジ回路のFx軸出力プラス端子(4)はFx_AMP(+)に入力され、Fx_AMP(+)で増幅されてFXOP(O)として出力される。図12に示すブリッジ回路のFx軸出力マイナス端子(2)はFx_AMP(-)に入力され、Fx_AMP(-)で増幅されてFXOM(O)として出力される。FXOP(O)及びFXOM(O)は、AMPで増幅されたFx軸の差動出力となる。Fy軸、Fz軸、Mx軸、My軸、及びMz軸についても、同様に図12及び図13に示した各ブリッジ回路のプラス端子及びマイナス端子が各々のAMPに入力され、各々のAMPで増幅されて差動出力される。
各AMPは、例えば、複数のバイポーラトランジスタが隣接して配置された半導体素子である。図25は、各AMPを構成するトランジスタを例示する断面図であり、NPN型バイポーラトランジスタの例を示している。図25において、NPN型バイポーラトランジスタは、N+層186、P層185及びN+層187により構成されている。181はN+の埋め込み層、182及び183はアイソレーション、184はN型エピタキシャル層である。また、E、B、Cは、それぞれ、エミッタ端子、ベース端子、コレクタ端子である。
このように、センサチップ100の余剰領域にピエゾ抵抗素子の出力を増幅する増幅器を半導体プロセスにより形成することで、センサチップ100の出力を大きくできるため、感度の向上が可能となる。すなわち、半導体プロセスのみで形成した1チップで、耐荷重と感度を両立したセンサチップ100を実現できる。
また、センサチップ100の余剰領域に増幅器を形成するため、センサチップ100のサイズを大きくすることなく、増幅器を搭載しない場合と同じチップサイズで増幅器を搭載可能である。
また、多軸検出のセンサチップ100では、軸数分(例えば、6軸分)の増幅器が必要であるが、1チップに集積化することで、部品点数及び組み立て費の増加を抑制できるため、低価格化が可能である。すなわち、増幅器を外付けで用意することも可能ではあるが、部品点数や組み立て費の増加により価格が上昇しやすい。センサチップ100のように、増幅器を集積化することで、価格上昇を抑制できる。
また、増幅器をセンサチップと集積化することで、増幅器の端子にダイオード等のESD(Electro-Static Discharge:静電気放電)用の保護素子を入れられるため、チップ耐圧を上げることができる。
なお、センサチップ100は、高い耐荷重(例えば、500N程度)を実現するためにチップサイズが大きいため、余剰領域も大きくなり、AMPの集積化に適している。また、センサチップ100は、高い耐荷重(例えば、500N程度)を実現するために、耐荷重とトレードオフの関係にある感度が下がる傾向があるため、AMPの集積化による感度向上は極めて有効である。
〈第1実施形態の変形例1〉
第1実施形態の変形例1では、余剰領域に増幅器に加えて増幅器以外も配置する例を示す。なお、第1実施形態の変形例1において、既に説明した実施形態と同一構成部についての説明は省略する場合がある。
前述のように、センサチップ100では、支持部101から105が余剰領域である。第1実施形態のように、支持部104にF系の信号用の3つの増幅器を配置し、支持部102にM系の信号用の3つの増幅器を配置しても、支持部101、103、及び105には他の機能を有する半導体素子を配置可能である。
センサチップ100Aでは、支持部101から104において、増幅器が配置されていない2つの支持部のうちの1つに、3つの増幅器が増幅したアナログ信号をディジタル信号に変換する3つのAD変換器が配置されて支持部と一体的に形成されている。また、増幅器が配置されていない2つの支持部のうちの他の1つに、他の3つの増幅器が増幅したアナログ信号をディジタル信号に変換する他の3つのAD変換器が配置されて支持部と一体的に形成されている。
具体的には、図26に示すように、センサチップ100Aでは、支持部104にF系の信号用の3つの増幅器を配置し、支持部102にM系の信号用の3つの増幅器を配置し、さらに支持部101にF系の信号用の3つのAD変換器を配置し、支持部103にM系の信号用の3つのAD変換器を配置している。なお、AD変換器は、AMPの出力側に接続され、AMPで増幅したアナログ出力をディジタル出力に変換する半導体素子である。
センサチップ100Aでは、支持部101に、Fx信号用のAD変換器であるFx_ADC、Fy信号用のAD変換器であるFy_ADC、及びFz信号用のAD変換器であるFz_ADCを配置している。また、支持部103に、Mx信号用のAD変換器であるMx_ADC、My信号用のAD変換器であるMy_ADC、及びMz信号用のAD変換器であるMz_ADCを配置している。Fx_ADC、Fy_ADC、Fz_ADC、Mx_ADC、My_ADC、及びMz_ADCは、既成のICを各支持部上に実装したものではなく、半導体プロセスにより各支持部と一体的に形成したものである。
このように、センサチップ100Aの5箇所の余剰領域の一部又は全部に、AMPだけではなくADCも集積化することでディジタル出力に対応可能となる。つまり、ブリッジ回路の出力をAMPで増幅し、さらにAMPのアナログ出力をADCでディジタル出力に変換してセンサチップ100Aの外部に出力可能となる。なお、各AMP及び各ADCを配置する余剰領域は、配線の引き回し、ワイヤボンディングの容易性等を考慮して自由に決定できる。
以上、好ましい実施形態について詳説したが、上述した実施形態に制限されることはなく、特許請求の範囲に記載された範囲を逸脱することなく、上述した実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
1 力覚センサ装置、100、100A センサチップ、101~105 支持部、111~114 枠部、121~124 連結部、131a、131c、131e、131g、132a、132c、132e、133a、133c、133e、134a、134c、134e 第1検知用梁、131b、131d、131f、131h、132b、132d、132f、133b、133d、133f、134b、134d、134f 第2検知用梁、131T、131T、131T、131T4、132T、132T、132T、133T、133T、133T、134T、134T、134T T字型梁構造、141~144 接続部、151~154 力点、200 起歪体、210 受力板、211 貫通孔、220 起歪部、220x、220y 溝、221、231 外枠部、222 中央部、223、233 梁構造、224a 第1接続部、224b 第2接続部、230 入力伝達部、232 内枠部、235 収容部、235a 水平支持部、235b 垂直支持部、235c センサ接続部、240 蓋板

Claims (10)

  1. 歪検出素子の出力の変化に基づいて、所定の軸方向の力又はモーメントを多軸検知するセンサチップであって、
    複数の第1支持部を有し、
    各軸の前記歪検出素子の出力を増幅する複数の増幅器が、前記第1支持部に配置されて前記第1支持部と一体的に形成されている、センサチップ。
  2. 平面形状が矩形であり、
    前記第1支持部は、前記矩形の四隅に配置され、
    複数の前記増幅器は、多軸の前記歪検出素子の出力を増幅する多軸分の増幅器を含み、
    複数の前記増幅器のうちの少なくとも1つは、4つの前記第1支持部のうちの1つに配置され、
    複数の前記増幅器のうちの他の少なくとも1つは、他の3つの前記第1支持部のうちの1つに配置されている、請求項1に記載のセンサチップ。
  3. 平面形状が矩形であり、
    前記第1支持部は、前記矩形の四隅に配置され、
    複数の前記増幅器は、6軸の前記歪検出素子の出力を増幅する6つの増幅器を含み、
    6つの前記増幅器のうちの3つは、4つの前記第1支持部のうちの1つに配置され、
    6つの前記増幅器のうちの他の3つは、他の3つの前記第1支持部のうちの1つに配置されている、請求項1に記載のセンサチップ。
  4. 前記増幅器が配置されていない2つの前記第1支持部のうちの1つに、3つの前記増幅器が増幅したアナログ信号をディジタル信号に変換する3つのAD変換器が配置されて前記第1支持部と一体的に形成され、
    前記増幅器が配置されていない2つの前記第1支持部のうちの他の1つに、他の3つの前記増幅器が増幅したアナログ信号をディジタル信号に変換する他の3つのAD変換器が配置されて前記第1支持部と一体的に形成されている、請求項3に記載のセンサチップ。
  5. 前記第1支持部は、前記歪検出素子が配置される領域とは異なる位置に配置された余剰領域である、請求項2乃至4のいずれか一項に記載のセンサチップ。
  6. 前記矩形の中央に配置された第2支持部を有し、前記第2支持部は、前記歪検出素子が配置される領域とは異なる位置に配置された余剰領域である、請求項5に記載のセンサチップ。
  7. 隣接する前記第1支持部同士を連結する枠部と、
    前記第2支持部と各々の前記第1支持部とを連結する連結部と、
    隣接する前記第1支持部と、該第1支持部に連結する前記枠部及び前記連結部と、前記第2支持部と、に囲まれた領域に位置する、前記歪検出素子が配置された梁と、を有し、
    前記歪検出素子及び前記増幅器と接続される配線は、前記第1支持部、前記第2支持部、前記枠部、前記連結部、及び前記梁に配置されている、請求項6に記載のセンサチップ。
  8. 前記歪検出素子が配置された前記梁は、T字型梁構造を有する、請求項7に記載のセンサチップ。
  9. 請求項1乃至8のいずれか一項に記載のセンサチップと、印加された力及び/又はモーメントを前記センサチップに伝達する起歪体と、を有する、力覚センサ装置。
  10. 前記第1支持部は、前記起歪体の非可動部に接続される、請求項9に記載の力覚センサ装置。
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