JP2022137043A - 積層体の製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 202
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 202
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 49
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 claims abstract description 32
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 135
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000012621 metal-organic framework Substances 0.000 claims description 12
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(O)=O)=C1 QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- SATWKVZGMWCXOJ-UHFFFAOYSA-N 4-[3,5-bis(4-carboxyphenyl)phenyl]benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC(C=2C=CC(=CC=2)C(O)=O)=CC(C=2C=CC(=CC=2)C(O)=O)=C1 SATWKVZGMWCXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- MWVTWFVJZLCBMC-UHFFFAOYSA-N 4,4'-bipyridine Chemical compound C1=NC=CC(C=2C=CN=CC=2)=C1 MWVTWFVJZLCBMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KFSUCTRGHQKXSV-UHFFFAOYSA-N 5-(1h-pyrazol-5-yl)-1h-pyrazole Chemical compound N1N=CC=C1C1=CC=NN1 KFSUCTRGHQKXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- MPFLRYZEEAQMLQ-UHFFFAOYSA-N dinicotinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CN=CC(C(O)=O)=C1 MPFLRYZEEAQMLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 3
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 55
- -1 poly(ethylene glycol) Polymers 0.000 description 23
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 19
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 15
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GJAWHXHKYYXBSV-UHFFFAOYSA-N quinolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1C(O)=O GJAWHXHKYYXBSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-] WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IIQLVLWFQUUZII-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-(4-amino-3-carboxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(C(O)=O)=C1 IIQLVLWFQUUZII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonooxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(O)(O)=O SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002266 Pluriol® Polymers 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N dipicolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=N1 WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- ZEVWQFWTGHFIDH-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazole-4,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C=1N=CNC=1C(O)=O ZEVWQFWTGHFIDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNVNLUSHGRBCLO-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxybenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC(C(O)=O)=C1 QNVNLUSHGRBCLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 2
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CHTHALBTIRVDBM-UHFFFAOYSA-N furan-2,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)O1 CHTHALBTIRVDBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- HRRDCWDFRIJIQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,8-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 HRRDCWDFRIJIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- ZUCRGHABDDWQPY-UHFFFAOYSA-N pyrazine-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=NC=CN=C1C(O)=O ZUCRGHABDDWQPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MMXZSJMASHPLLR-UHFFFAOYSA-N pyrroloquinoline quinone Chemical compound C12=C(C(O)=O)C=C(C(O)=O)N=C2C(=O)C(=O)C2=C1NC(C(=O)O)=C2 MMXZSJMASHPLLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- KQTIIICEAUMSDG-UHFFFAOYSA-N tricarballylic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CC(O)=O KQTIIICEAUMSDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXXHDPDFNKHHGW-UHFFFAOYSA-N (2E,4E)-2,4-hexadienedioic acid Natural products OC(=O)C=CC=CC(O)=O TXXHDPDFNKHHGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N (2s,3r)-butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C[C@H](C(O)=O)[C@H](C(O)=O)CC(O)=O GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- OYUWHGGWLCJJNP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dihydrophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1C=CC=CC1C(O)=O OYUWHGGWLCJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSMUFXXTSUEZJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibenzyl-2-oxoimidazolidine-4,5-dicarboxylic acid Chemical compound O=C1N(CC=2C=CC=CC=2)C(C(=O)O)C(C(O)=O)N1CC1=CC=CC=C1 QSMUFXXTSUEZJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXAWZHYWALRESW-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(carboxymethyl)piperazine-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CN1CCN(CC(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O HXAWZHYWALRESW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical group CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVGKVEDUHFAIMD-UHFFFAOYSA-N 1-amino-4-methyl-9,10-dioxoanthracene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(N)=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C2C DVGKVEDUHFAIMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIDODOMERXIGRG-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrole-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CN1CC1=CC=CC=C1 JIDODOMERXIGRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDOBMJUQFBURS-UHFFFAOYSA-N 1-methylnonane-1,3,5,7-tetracarboxylic acid Chemical compound CCC(C(O)=O)CC(C(O)=O)CC(C(O)=O)CC(C)C(O)=O XJDOBMJUQFBURS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHWLNSGYGAWNLU-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrole-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound CN1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 RHWLNSGYGAWNLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNKBWDYDQQBDSN-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-ylnaphthalene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C=3C4=CC=CC=C4C=C(C=3C(O)=O)C(=O)O)=CC=CC2=C1 PNKBWDYDQQBDSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUUNZDIGHGJBAR-UHFFFAOYSA-N 1h-imidazole-2,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CNC(C(O)=O)=N1 ZUUNZDIGHGJBAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDMVPJZBYSWOOP-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrazole-3,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C=1C=C(C(O)=O)NN=1 YDMVPJZBYSWOOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKTPUTARUKSCDG-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrazole-4,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C=1C=NNC=1C(O)=O IKTPUTARUKSCDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethylpropanedioic acid Chemical compound CCC(CC)(C(O)=O)C(O)=O LTMRRSWNXVJMBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJQZWNLKRBUEKX-UHFFFAOYSA-N 2,5-dianilinoterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C=1C=C(NC=2C=CC=CC=2)C(C(=O)O)=CC=1NC1=CC=CC=C1 ZJQZWNLKRBUEKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMASHKIDYKFD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxymethyl)propanedioic acid Chemical compound CCOCCOCC(C(O)=O)C(O)=O KFZMASHKIDYKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHGGHNZZJCJQSL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxymethyl]propanedioic acid Chemical compound CCOCCOCCOCC(C(O)=O)C(O)=O ZHGGHNZZJCJQSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CABMTIJINOIHOD-UHFFFAOYSA-N 2-[4-methyl-5-oxo-4-(propan-2-yl)-4,5-dihydro-1H-imidazol-2-yl]quinoline-3-carboxylic acid Chemical compound N1C(=O)C(C(C)C)(C)N=C1C1=NC2=CC=CC=C2C=C1C(O)=O CABMTIJINOIHOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZDLIFCPWVQEZ-UHFFFAOYSA-N 2-benzoylbenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 RTZDLIFCPWVQEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVDKKZZVTWHVMC-UHFFFAOYSA-N 2-hexadecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O MVDKKZZVTWHVMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSBSUGYTMJWPAX-UHFFFAOYSA-N 2-hexenedioic acid Chemical compound OC(=O)CCC=CC(O)=O HSBSUGYTMJWPAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLHGFJMGWQXPBW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3-(1h-imidazol-5-ylmethyl)benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC(CC=2NC=NC=2)=C1O RLHGFJMGWQXPBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCYCQZSHGUXYGP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole-4,5-dicarboxylic acid Chemical compound CC1=NC(C(O)=O)=C(C(O)=O)N1 DCYCQZSHGUXYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 2-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BQGFRFCKVQNHEC-UHFFFAOYSA-N 2-methylquinoline-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C(C)=NC2=C1 BQGFRFCKVQNHEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDHJMKYIJWJQLY-UHFFFAOYSA-N 2-nonyldecanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(C(O)=O)CCCCCCCC(O)=O WDHJMKYIJWJQLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGMCTDOFLKWLPJ-UHFFFAOYSA-N 2-octylundecanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C(O)=O)CCCCCCCCC(O)=O IGMCTDOFLKWLPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDZNOLAORJOIEA-UHFFFAOYSA-N 2-pent-4-enylhexanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCC(C(O)=O)CCCC=C WDZNOLAORJOIEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBKVUCPCJPPVAW-UHFFFAOYSA-N 2-pentatriacontylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WBKVUCPCJPPVAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFEGRFIENDJTCK-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-2,3-dihydroindene-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2=CC=CC=C2C(C(=O)O)(C(O)=O)C1C1=CC=CC=C1 XFEGRFIENDJTCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZHQPBJEOCHCKM-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonobutane-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CCC(P(O)(O)=O)(C(O)=O)CC(O)=O SZHQPBJEOCHCKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCSKGHLYJDXIQO-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yl-1h-imidazole-4,5-dicarboxylic acid Chemical compound CC(C)C1=NC(C(O)=O)=C(C(O)=O)N1 YCSKGHLYJDXIQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJYWLLARWWUWLP-UHFFFAOYSA-N 3-amino-5-benzoyl-6-methylbenzene-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound CC1=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C(N)C(C(O)=O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DJYWLLARWWUWLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRHCSNBNLAGXFU-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-2-(pyrrolidin-1-ylmethyl)piperidine Chemical compound C1CCCN1CC1NCCCC1C1=CC=CC=C1 GRHCSNBNLAGXFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEMRLSIYMCFQA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-carboxyphenyl)-2,3-diphenylphenyl]benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C(C(=C1C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 VXEMRLSIYMCFQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEHPKLRUCVRKFF-UHFFFAOYSA-N 5,6-dimethylpyrazine-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound CC1=NC(C(O)=O)=C(C(O)=O)N=C1C CEHPKLRUCVRKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWQFKVGACKJIAV-UHFFFAOYSA-N 5-[(3-carboxy-4-hydroxyphenyl)methyl]-2-hydroxybenzoic acid Chemical compound C1=C(O)C(C(=O)O)=CC(CC=2C=C(C(O)=CC=2)C(O)=O)=C1 JWQFKVGACKJIAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGTYZLILUXWMRP-UHFFFAOYSA-N 5-acetyl-3-amino-6-methylbenzene-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound CC(=O)C1=C(C)C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C(N)=C1C(O)=O UGTYZLILUXWMRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTAVBTGOXNGCJR-UHFFFAOYSA-N 5-ethylpyridine-2,3-dicarboxylic acid Chemical class CCC1=CN=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 MTAVBTGOXNGCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNWNWQKFBPREQ-UHFFFAOYSA-N 5-methoxynaphthalene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C(OC)=CC=CC2=C1 LSNWNWQKFBPREQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQKTWAFPCULS-UHFFFAOYSA-N 5-nitronaphthalene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC([N+]([O-])=O)=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 QXJQKTWAFPCULS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBLUSQLVRKGZCD-UHFFFAOYSA-N 5-sulfonaphthalene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(S(O)(=O)=O)=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DBLUSQLVRKGZCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROKAHPRWXCFCEM-UHFFFAOYSA-N 6-chloroquinoxaline-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(Cl)C=C2N=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=NC2=C1 ROKAHPRWXCFCEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWBFSTPKXBJTJO-UHFFFAOYSA-N 7-chloro-3-methylquinoline-6,8-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C(C(O)=O)=CC2=CC(C)=CN=C21 IWBFSTPKXBJTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAIDDFBNWSBWQR-UHFFFAOYSA-N 7-chloro-4-oxo-1h-quinoline-2,8-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(Cl)=C(C(O)=O)C2=NC(C(=O)O)=CC(O)=C21 FAIDDFBNWSBWQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXOVOXUMRLKDKF-UHFFFAOYSA-N 7-chloro-8-methylquinoline-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)N=C2C(C)=C(Cl)C=CC2=C1 YXOVOXUMRLKDKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQMIGZNZWWXSHF-UHFFFAOYSA-N 7-chloroquinoline-2,3,8-tricarboxylic acid Chemical compound C1=C(Cl)C(C(O)=O)=C2N=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 BQMIGZNZWWXSHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYIDIAPHYHJMCU-UHFFFAOYSA-N 7-chloroquinoline-3,8-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C=CC2=CC(C(=O)O)=CN=C21 ZYIDIAPHYHJMCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPJWMYCZWPHPIC-UHFFFAOYSA-N 9,10-dioxoanthracene-1,5-dicarboxylic acid Chemical compound O=C1C2=C(C(O)=O)C=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(=O)O NPJWMYCZWPHPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N Chelidonic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(=O)C=C(C(O)=O)O1 PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical class Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M Lactate Chemical compound CC(O)C([O-])=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L Malonate Chemical compound [O-]C(=O)CC([O-])=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- PAVQGHWQOQZQEH-UHFFFAOYSA-N adamantane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(C(=O)O)CC2(C(O)=O)C3 PAVQGHWQOQZQEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960000250 adipic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQKVCZAPFYNZHX-UHFFFAOYSA-N anthracene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C=C(C=C(C(C(=O)O)=C3)C(O)=O)C3=CC2=C1 GQKVCZAPFYNZHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- AFYNADDZULBEJA-UHFFFAOYSA-N bicinchoninic acid Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C=3C=C(C4=CC=CC=C4N=3)C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 AFYNADDZULBEJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- LOGBRYZYTBQBTB-UHFFFAOYSA-N butane-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CCC(C(O)=O)CC(O)=O LOGBRYZYTBQBTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- YTIVTFGABIZHHX-UHFFFAOYSA-N butynedioic acid Chemical compound OC(=O)C#CC(O)=O YTIVTFGABIZHHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- DJKGDNKYTKCJKD-UHFFFAOYSA-N chlorendic acid Chemical compound ClC1=C(Cl)C2(Cl)C(C(=O)O)C(C(O)=O)C1(Cl)C2(Cl)Cl DJKGDNKYTKCJKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- MUYSADWCWFFZKR-UHFFFAOYSA-N cinchomeronic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=NC=C1C(O)=O MUYSADWCWFFZKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCQPAEQGAVNNIA-UHFFFAOYSA-N cyclobutane-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCC1 CCQPAEQGAVNNIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDKOFCUUXIAICD-UHFFFAOYSA-N cyclohex-2-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC=C1C(O)=O QDKOFCUUXIAICD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILUAAIDVFMVTAU-UHFFFAOYSA-N cyclohex-4-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC=CCC1C(O)=O ILUAAIDVFMVTAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STZIXLPVKZUAMV-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,1,2,2-tetracarboxylic acid Chemical class OC(=O)C1(C(O)=O)CCCC1(C(O)=O)C(O)=O STZIXLPVKZUAMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUEPYSLOLQVVCZ-UHFFFAOYSA-N decane-1,2,9,10-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CCCCCCC(C(O)=O)CC(O)=O LUEPYSLOLQVVCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQZAZPULUDJUDP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,2,11,12-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CCCCCCCCC(C(O)=O)CC(O)=O HQZAZPULUDJUDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005677 ethinylene group Chemical group [*:2]C#C[*:1] 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-M hexadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FYHFEMFNYGEMRB-UHFFFAOYSA-N hexane-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CCC(C(O)=O)CC(O)=O FYHFEMFNYGEMRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- LVPMIMZXDYBCDF-UHFFFAOYSA-N isocinchomeronic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)N=C1 LVPMIMZXDYBCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODBLHEXUDAPZAU-UHFFFAOYSA-N isocitric acid Chemical compound OC(=O)C(O)C(C(O)=O)CC(O)=O ODBLHEXUDAPZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- OLAPPGSPBNVTRF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1C(O)=O OLAPPGSPBNVTRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABMFBCRYHDZLRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1 ABMFBCRYHDZLRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHARCSTZAGNHOT-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 KHARCSTZAGNHOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QUMITRDILMWWBC-UHFFFAOYSA-N nitroterephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C([N+]([O-])=O)=C1 QUMITRDILMWWBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDAISVDZHKFVQP-UHFFFAOYSA-N octane-1,2,7,8-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CCCCC(C(O)=O)CC(O)=O WDAISVDZHKFVQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- LAHAPBJSVSVFGR-UHFFFAOYSA-N oxane-4,4-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCOCC1 LAHAPBJSVSVFGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFOIOXZLTXNHQH-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,3,4,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1OC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O UFOIOXZLTXNHQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- KIZSMODMWVZSNT-UHFFFAOYSA-N perylene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C2=C(C(C(=O)O)=CC=3C2=C2C=CC=3)C(O)=O)=C3C2=CC=CC3=C1 KIZSMODMWVZSNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid Chemical compound C=12C3=CC=C(C(O)=O)C2=C(C(O)=O)C=CC=1C1=CC=C(C(O)=O)C2=C1C3=CC=C2C(=O)O FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDPOODQJUWAHOW-UHFFFAOYSA-N perylene-3,9-dicarboxylic acid Chemical compound C=12C3=CC=CC2=C(C(O)=O)C=CC=1C1=CC=CC2=C1C3=CC=C2C(=O)O SDPOODQJUWAHOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 239000013260 porous coordination network Substances 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- JPGZDTDZZDLVHW-UHFFFAOYSA-N quinoline-2,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 JPGZDTDZZDLVHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXXBQGWQCRMKHR-UHFFFAOYSA-N quinoline-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CN=C21 SXXBQGWQCRMKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCHKKUMRGPRZOG-UHFFFAOYSA-N quinoline-7,8-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=NC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 WCHKKUMRGPRZOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQZDWYYGOZOTHY-UHFFFAOYSA-N quinoxaline-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2N=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=NC2=C1 CQZDWYYGOZOTHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- ZWWLLYJRPKYTDF-UHFFFAOYSA-N thiophene-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CSC=C1C(O)=O ZWWLLYJRPKYTDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- TXXHDPDFNKHHGW-ZPUQHVIOSA-N trans,trans-muconic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C=C\C(O)=O TXXHDPDFNKHHGW-ZPUQHVIOSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/22—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising organic material
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/30—Processes for preparing, regenerating, or reactivating
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
- F28F—DETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
- F28F13/00—Arrangements for modifying heat-transfer, e.g. increasing, decreasing
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- Thermal Sciences (AREA)
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Abstract
【課題】本開示における課題は、金属有機構造体の剥離が抑制された金属基材とその上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体を提供することにある。【解決手段】本発明は、金属基材とその上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体の製造方法であって、（工程１ａ）金属基材の表面を活性化する工程、または（工程１ｂ）金属基材の表面を修飾し、その上に金属層を形成する工程、および（工程２）上記工程１ａまたは工程１ｂで処理された金属基材を、少なくとも１種の金属イオンを含む溶液および少なくとも１種の有機配位子を含む溶液と接触させ、金属基材上に金属有機構造体を形成する工程を含む製造方法に関する。【選択図】なし
Description
本開示は、積層体の製造方法、および該製造方法により得られる積層体に関する。
金属有機構造体（ＭＯＦ：Metal Organic Framework）は、多孔質の配位ネットワーク構造を有し、吸着材、触媒等として用いられている。かかる金属有機構造体は、支持体の表面に形成され、積層体として用いられ得る。
支持体とその表面に形成された金属有機構造体を含む積層体およびその製造方法は、例えば、特許文献１に記載されている。特許文献１では、（ａ）支持体表面の少なくとも一部の上に、少なくとも一種の金属イオンを含む第一の溶液を吹き付ける工程と、（ｂ）該支持体表面の少なくとも一部の上に、少なくとも二座の有機化合物の少なくとも一種を含む第二の溶液を吹き付ける工程とを含み、工程（ｂ）が、工程（ａ）の前で、後で、あるいは同時に行われて、多孔性金属有機構造体の層を形成する方法により、積層体が製造されている。
特許文献１に記載のような積層体は、支持体である基材の表面に重なった状態で金属有機構造体（以下、「ＭＯＦ」ともいう）が形成されている。本発明者らは、このような積層体においては、ＭＯＦ層は基材への密着性が低く、ＭＯＦ層が基材から剥離する不具合が生じ得ることを見出した。
本開示における課題は、金属有機構造体の剥離が抑制された金属基材とその上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体を提供することにある。
本開示は、以下の態様を含む。
１． 金属基材とその上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体の製造方法であって、
（工程１ａ）金属基材の表面を活性化する工程、または
（工程１ｂ）金属基材の表面を修飾し、その上に金属層を形成する工程、および
（工程２）上記工程１ａまたは工程１ｂで処理された金属基材を、少なくとも１種の金属イオンを含む溶液および少なくとも１種の有機配位子を含む溶液と接触させ、金属基材上に金属有機構造体を形成する工程
を含む製造方法。
２． 金属基材とその上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体の製造方法であって、
（工程１ａ）金属基材の表面を活性化する工程、および
（工程２）上記金属基材の表面を、少なくとも１種の金属イオンを含む溶液および少なくとも１種の有機配位子を含む溶液と接触させ、金属基材上に金属有機構造体を形成する工程
を含む製造方法。
３． 前記金属基材を構成する金属は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、もしくはＺｎ、またはＦｅ／Ｎｉ／Ｃｒ合金である、上記［１］または［２］に記載の製造方法。
４． 前記金属基材の表面を活性化する工程は、金属基材の表面を、フッ化水素、塩化水素、フッ素、または塩素で処理することにより行われる、上記［１］～［３］のいずれか１つに記載の製造方法。
５． 前記工程２において、溶液に含まれる金属イオンは、Ａｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、またはＣｏのイオンである、上記［１］～［４］のいずれか１つに記載の製造方法。
６． 前記金属基材の表面に形成された金属イオンと、前記溶液中の金属イオンが同じである、上記［１］～［５］のいずれか１つに記載の製造方法。
７． 前記有機配位子は、１，４－ベンゼンジカルボン酸、１，２－ベンゼンジカルボン酸、マレイン酸、１，３，５－ベンゼントリカルボン酸、４，４’，４”－（１，３，５－ベンゼントリイル）トリス安息香酸、４，４’－ビピリジン、トリアゾール、イミダゾール、３，３’－ビピラゾール、ベンゾイミダゾール、および３，５－ピリジンジカルボン酸から選択される、上記［１］～［６］のいずれか１つに記載の製造方法。
８． 上記［１］～［７］のいずれか１つに記載の製造方法により得られる積層体。
９． 金属基材と該金属基材上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体であって、上記金属基材の表面の金属原子が、上記金属有機構造体の一部を構成している、積層体。
１０． 金属基材と該金属基材上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体であって、上記金属基材の表面が修飾されており、該修飾された表面上に金属層を有し、該金属層上に金属有機構造体が形成されている、積層体。
１１． 上記［９］または［１０］に記載の積層体から構成されるフィン。
１２． 上記［１１］に記載のフィンを有してなる、除加湿器。
１３． 上記［１１］に記載のフィンを有してなる、熱交換器。
１． 金属基材とその上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体の製造方法であって、
（工程１ａ）金属基材の表面を活性化する工程、または
（工程１ｂ）金属基材の表面を修飾し、その上に金属層を形成する工程、および
（工程２）上記工程１ａまたは工程１ｂで処理された金属基材を、少なくとも１種の金属イオンを含む溶液および少なくとも１種の有機配位子を含む溶液と接触させ、金属基材上に金属有機構造体を形成する工程
を含む製造方法。
２． 金属基材とその上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体の製造方法であって、
（工程１ａ）金属基材の表面を活性化する工程、および
（工程２）上記金属基材の表面を、少なくとも１種の金属イオンを含む溶液および少なくとも１種の有機配位子を含む溶液と接触させ、金属基材上に金属有機構造体を形成する工程
を含む製造方法。
３． 前記金属基材を構成する金属は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、もしくはＺｎ、またはＦｅ／Ｎｉ／Ｃｒ合金である、上記［１］または［２］に記載の製造方法。
４． 前記金属基材の表面を活性化する工程は、金属基材の表面を、フッ化水素、塩化水素、フッ素、または塩素で処理することにより行われる、上記［１］～［３］のいずれか１つに記載の製造方法。
５． 前記工程２において、溶液に含まれる金属イオンは、Ａｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、またはＣｏのイオンである、上記［１］～［４］のいずれか１つに記載の製造方法。
６． 前記金属基材の表面に形成された金属イオンと、前記溶液中の金属イオンが同じである、上記［１］～［５］のいずれか１つに記載の製造方法。
７． 前記有機配位子は、１，４－ベンゼンジカルボン酸、１，２－ベンゼンジカルボン酸、マレイン酸、１，３，５－ベンゼントリカルボン酸、４，４’，４”－（１，３，５－ベンゼントリイル）トリス安息香酸、４，４’－ビピリジン、トリアゾール、イミダゾール、３，３’－ビピラゾール、ベンゾイミダゾール、および３，５－ピリジンジカルボン酸から選択される、上記［１］～［６］のいずれか１つに記載の製造方法。
８． 上記［１］～［７］のいずれか１つに記載の製造方法により得られる積層体。
９． 金属基材と該金属基材上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体であって、上記金属基材の表面の金属原子が、上記金属有機構造体の一部を構成している、積層体。
１０． 金属基材と該金属基材上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体であって、上記金属基材の表面が修飾されており、該修飾された表面上に金属層を有し、該金属層上に金属有機構造体が形成されている、積層体。
１１． 上記［９］または［１０］に記載の積層体から構成されるフィン。
１２． 上記［１１］に記載のフィンを有してなる、除加湿器。
１３． 上記［１１］に記載のフィンを有してなる、熱交換器。
本開示によれば、金属基材とその上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体において、金属有機構造体が基材から剥がれることを抑制することができる。
以下、本開示の製造方法について説明する。
本開示の製造方法は、金属基材とその上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体の製造方法であって、
（工程１ａ）金属基材の表面を活性化する工程、
（工程１ｂ）金属基材の表面を修飾し、その上に金属層を形成する工程、および
（工程２）上記工程１ａまたは工程１ｂで処理された金属基材を、少なくとも１種の金属イオンを含む溶液および少なくとも１種の有機配位子を含む溶液と接触させ、金属基材上に金属有機構造体を形成する工程
を含む。
（工程１ａ）金属基材の表面を活性化する工程、
（工程１ｂ）金属基材の表面を修飾し、その上に金属層を形成する工程、および
（工程２）上記工程１ａまたは工程１ｂで処理された金属基材を、少なくとも１種の金属イオンを含む溶液および少なくとも１種の有機配位子を含む溶液と接触させ、金属基材上に金属有機構造体を形成する工程
を含む。
以下、工程１ａについて説明する。
工程１ａは、金属基材の表面を活性化する工程である。
まず、金属基材を準備する。
上記金属基材を構成する金属は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、もしくはＺｎ、またはこれらを含む合金であり得る。
上記合金としては、特に限定されないが、例えばＦｅ／Ｎｉ／Ｃｒ合金、Ａｌ／Ｃｕ合金等が挙げられる。
好ましい態様において、金属基材を構成する金属は、Ａｌである。
上記金属基材の形状は、特に限定されず、用途に応じて種々の形状であり得る。下記するように、本開示の積層体は、ＭＯＦ層の剥離が生じにくいので、複雑な形状の基材であっても使用することができる。例えば、上記金属基材の形状は、板状、棒状などの単純な形状に加え、表面積を大きくするための、フィン状、凹凸形状、細孔構造等であってもよい。表面積を大きくし、ＭＯＦの機能を最大限に利用できることから、フィン状、凹凸形状、細孔構造等が好ましい。
次に、上記金属基材の表面を処理することにより、金属基材の表面を活性化する。
上記処理は、金属基材の表面を活性化できる処理であれば特に限定されないが、例えばエッチング、Ｏ２イオン処理、大気圧プラズマ処理、ＵＶＯ３（紫外線－オゾン）処理、熱水処理等が挙げられる。好ましくは、エッチング処理が用いられる。
上記活性化とは、下記する工程２の処理により有機配位子が金属基材の表面と結合し、金属有機構造体を形成できる状態をいう。例えば、金属基材の表面の活性化は、金属基材の表面に金属イオンを形成することを含む。
上記エッチングは、上記金属基材の表面を、金属基材の種類に応じて、フッ化水素、塩化水素、フッ素、または塩素等のエッチング剤で処理することにより行うことができる。中でも、溶液として扱えることからフッ化水素によるエッチングが好ましい。
上記金属基材の表面のエッチング剤での処理は、金属基材の表面とエッチング剤とを接触させることにより行うことができる。処理に用いるエッチング剤は、気体であっても、液体であってもよいが、好ましくは液体である。
上記エッチング剤での処理温度は、好ましくは０～５０℃、より好ましくは１０～３０℃、典型的には室温である。
上記エッチング剤での処理時間は、好ましくは３０～６０分、より好ましくは１５～３０分である。
次に、工程１ｂについて説明する。
工程１ｂは、金属基材の表面を修飾し、その上に金属層を形成する工程である。
まず、工程１ａと同様に金属基材を準備する。
次いで、上記金属基材の表面を処理して、表面を修飾する。
ここに、「修飾する」とは、金属基材の表面に、官能基または分子を付与し、表面を改質することを意味する。
上記金属基材の表面を修飾する方法としては、例えば、金属基材の表面に付与したい化合物、例えばポリ（エチレングリコール）メタクリレート等を、金属基材の表面とのカップリング能を有する化合物、例えばメタクリロイルオキシエチルフォスフェート等と共重合させ、得られた共重合体で金属基材の表面を処理することにより行うことができる。
好ましい態様において、上記共重合体としては、ポリ（エチレングリコール）メタクリレート／メタクリロイルオキシエチルフォスフェート共重合体（重合比は、９９／１～８０／２０、好ましくは９９／１～９５／５、具体的には９７／３である）等が挙げられる。
上記処理により、共重合体は、そのカップリング能を有する部分（メタクリロイルオキシエチルフォスフェート由来の部分）により金属基材と結合し、金属基材の表面を修飾する。
次いで、表面が修飾された金属基材を処理して、金属基材の修飾面に金属層を形成する。かかる処理の方法としては、上記で修飾された金属基材を、金属イオンを含む処理剤、例えば金属アルコキシドのアルコール溶液で処理することにより行うことができる。
例えば、修飾された金属基材上にＡｌ層を形成する場合には、アルミニウムブトキシドのエタノール溶液で処理する。
上記工程１ａまたは工程１ｂにおいて処理された金属基材を工程２に付す。以下、工程２について説明する。
工程２は、上記で処理された金属基材の表面を、少なくとも１種の金属イオンを含む溶液および少なくとも１種の有機配位子を含む溶液と接触させ、金属基材上に金属有機構造体を形成する工程である。
上記溶液に含まれる金属イオンは、特に限定されないが、例えば、Ｉａ族、ＩＩａ族、ＩＩＩａ族、ＩＶａ～ＶＩＩＩ族、Ｉｂ～ＶＩｂ族からなる群から選択される金属のイオンである。かかる金属イオンは、好ましくは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒｏ、Ｏｓ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、ＴＩ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｎ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、およびＹｂのイオンであり得る。
具体的には、かかる金属イオンは、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｓｒ２＋、Ｂａ２＋、Ｓｃ３＋、Ｙ３＋、Ｌｎ３＋、Ｔｉ４＋、Ｚｒ４＋、Ｈｆ４＋、Ｖ４＋、Ｖ３＋、Ｖ２＋、Ｎｂ３＋、Ｔａ３＋、Ｃｒ３＋、Ｍｏ３＋、Ｗ３＋、Ｍｎ３＋、Ｍｎ２＋、Ｒｅ３＋、Ｒｅ２＋、Ｆｅ３＋、Ｆｅ２＋、Ｒｕ３＋、Ｒｕ２＋、Ｏｓ３＋、Ｏｓ２＋、Ｃｏ３＋、Ｃｏ２＋、Ｒｈ２＋、Ｒｈ＋、Ｉｒ２＋、Ｉｒ＋、Ｎｉ２＋、Ｎｉ＋、Ｐｄ２＋、Ｐｄ＋、Ｐｔ２＋、Ｐｔ＋、Ｃｕ２＋、Ｃｕ＋、Ａｇ＋、Ａｕ＋、Ｚｎ２＋、Ｃｄ２＋、Ｈｇ２＋、Ａｌ３＋、Ｇａ３＋、ｌｎ３＋、ＴＩ３＋、Ｓｉ４＋、Ｓｉ２＋、Ｇｅ４＋、Ｇｅ２＋、Ｓｎ４＋、Ｓｎ２＋、Ｐｂ４＋、Ｐｂ２＋、Ａｓ５＋、Ａｓ３＋、Ａｓ＋、Ｓｂ５＋、Ｓｂ３＋、Ｓｂ＋、Ｂｉ５＋、Ｂｉ３＋、Ｂｉ＋、Ｌａ３＋、Ｃｅ３＋、Ｐｒ３＋、Ｎｄ３＋、Ｐｍ３＋、Ｓｍ３＋、Ｅｎ３＋、Ｇｄ３＋、Ｔｂ３＋、Ｄｙ３＋、Ｈｏ３＋、Ｅｒ３＋、Ｔｍ３＋、またはＹｂ３＋であり得る。
上記金属イオンは、１種のみであっても２種以上であってもよい。好ましくは、上記金属イオンは１種である。
好ましい態様において、上記金属イオンは、Ａｌ３＋、Ｃｕ２＋、Ｃｕ＋、Ｆｅ３＋、Ｆｅ２＋、Ｍｎ３＋、Ｍｎ２＋、Ｃｏ３＋、またはＣｏ２＋であり、好ましくはＡｌ３＋、Ｆｅ３＋である。
上記溶液に含まれる金属イオンは、上記金属基材の表面に形成される金属イオンと同じであっても、異なっていてもよいが、好ましくは同じである。
上記金属イオンを含む溶液は、上記金属イオンを含む塩の溶液であり得る。かかる塩は、有機酸塩、無機酸塩、有機塩基塩または無機塩基塩のいずれであってもよい。上記塩は、好ましくは無機酸塩である。
上記有機酸塩としては、例えば、モノカルボン酸塩（例えば、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、酪酸塩、パルミチン酸塩、ステアリン酸塩など）、多価カルボン酸塩（例えば、フマル酸塩、マレイン酸塩など）、オキシカルボン酸塩（例えば、乳酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、コハク酸塩、マロン酸塩など）、有機スルホン酸塩（例えば、メタンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩、トシル酸塩など）等が挙げられる。
上記無機酸塩としては、例えば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、臭化水素酸塩、リン酸塩等が挙げられる。
好ましい態様において、金属イオンを含む塩は、無機酸塩、特に硝酸塩であり得る。
上記金属イオンを含む溶液の溶媒は、例えば、エタノール、ジメチルホルムアミド、トルエン、メタノール、クロロベンゼン、ジエチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水、過酸化水素、メチルアミン、水酸化ナトリウム溶液、Ｎ－メチルピロリドンエーテル、アセトニトリル、塩化ベンジル、トリエチルアミン、もしくはエチレングリコール、またはこれらの混合物であり得る。
上記金属イオンを含む溶液は、好ましくは５～２０質量％、より好ましくは５～１０質量％であり得る。
上記金属イオンを含む溶液は、他の成分として、触媒、酸等を含んでいてもよい。
上記有機配位子は、上記金属基材の表面または金属層の表面の金属イオンおよび上記溶液に含まれる金属イオンと、少なくとも２つの配位結合を形成することができるものであれば特に限定されない。
上記配位結合は、例えば、金属イオンと少なくとも１つの配位結合を形成することができる官能基により形成される。
上記配位結合を形成することができる官能基としては、例えば、－ＣＯＯＨ、－ＣＳ２Ｈ、－ＮＯ２、－Ｂ（ＯＨ）２、－ＳＯ３Ｈ、－Ｓｉ（ＯＨ）３、－Ｇｅ（ＯＨ）３、－Ｓｎ（ＯＨ）３、－Ｓｉ（ＳＨ）４、－Ｇｅ（ＳＨ）４、－Ｓｎ（ＳＨ）３、－ＰＯ３Ｈ、－ＡｓＯ３Ｈ、－ＡｓＯ４Ｈ、－Ｐ（ＳＨ）３、－Ａｓ（ＳＨ）３、－ＣＨ（ＲＳＨ）２、－Ｃ（ＲＳＨ）３、－ＣＨ（ＲＮＨ２）２、－Ｃ（ＲＮＨ２）３、－ＣＨ（ＲＯＨ）２、－Ｃ（ＲＯＨ）３、－ＣＨ（ＲＣＮ）３、および－Ｃ（ＲＣＮ）３が挙げられる。上記式中、Ｒは、単結合、炭素数１～５のアルキレン基（例えば、メチレン、エチレン、ｎ－プロピレン、ｉ－プロピレン、ｎ－ブチレン、ｉ－ブチレン、ｔｅｒｔ－ブチレンまたはｎ－ペンチレン基）、炭素数６～１４の２価の芳香族基（例えば、例えばフェニレン）、または上記アルキレン基と芳香族基の組み合わせ（例えば、－フェニレン－アルキレン－フェニレン－）である。また、上記配位結合を形成することができる官能基としては、複素環中に含まれるヘテロ原子、好ましくは窒素原子であってもよい。
好ましい態様において、上記配位結合を形成することができる官能基は、－ＣＯＯＨ、－ＮＯ２等であり得る。
上記有機配位子は、好ましくは、二座以上となるように上記官能基を有する。かかる有機配位子において、官能基以外の部分は、有機配位子が金属イオンと配位結合を形成できる限り、限定されない。
一の態様において、上記有機配位子は、飽和もしくは不飽和の脂肪族化合物、芳香族化合物または脂肪族芳香族化合物に由来する。
上記脂肪族化合物または脂肪族芳香族化合物の脂肪族部分は、直鎖、分枝鎖、または環状であってもよい。脂肪族部分は、環状である場合、複数の環を有していてもよい。上記脂肪族化合物または脂肪族芳香族化合物の脂肪族部分は、好ましくは１～１５個の炭素原子を有し、より好ましくは１～１０個の炭素原子、例えば１、２、３、４、５、６、７、８、９または１０個の炭素原子を有する。好ましい態様において、上記脂肪族部分は、メタン、アダマンタン、アセチレン、エチレンまたはブタジエンに由来する。
上記芳香族化合物または脂肪族芳香族化合物の芳香族部分は、１個以上の環、例えば２、３、４または５個の環を有していてもよい。これらの環は、縮合していても、縮合していなくてもよい。上記芳香族化合物または脂肪族芳香族化合物の芳香族部分は、好ましくは１、２、または３個、より好ましくは１または２個の環を有する。また、上記化合物の各環は、環中に少なくとも１種のヘテロ原子、例えばＮ、Ｏ、Ｓ、Ｂ、Ｐ、Ｓｉ、Ａｌ、好ましくはＮ、ＯまたはＳを有していてもよい。芳香族化合物または脂肪族芳香族化合物の芳香族部分は、炭素数６の環を１または２個含むことが好ましい。芳香族部分は、２個である場合、かかる２個の環は縮合していても、縮合していなくてもよい。好ましい態様において、かかる芳香族部分は、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニル、ビピリジルまたはピリジルに由来する。
一の態様において、上記有機配位子は、ジカルボン酸、トリカルボン酸またはテトラカルボン酸に由来する。
上記ジカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、コハク酸、酒石酸、マレイン酸、１，４－ブタンジカルボン酸、１，４－ブテンジカルボン酸、４－オキソピラン－２，６－ジカルボン酸、１，６－ヘキサンジカルボン酸、デカンジカルボン酸、１，８－ヘプタデカンジカルボン酸、１，９－ヘプタデカンジカルボン酸、ヘプタデカンジカルボン酸、アセチレンジカルボン酸、１，２－ベンゼンジカルボン酸、１，３－ベンゼンジカルボン酸、２，３－ピリジンジカルボン酸、ピリジン－２，３－ジカルボン酸、１，３－ブタジエン－１，４－ジカルボン酸、１，４－ベンゼンジカルボン酸、ｐ－ベンゼンジカルボン酸、イミダゾール－２，４－ジカルボン酸、２－メチルキノリン－３，４－ジカルボン酸、キノリン－２，４－ジカルボン酸、キノキサリン－２，３－ジカルボン酸、６－クロロキノキサリン－２，３－ジカルボン酸、４，４’－ジアミノフェニルメタン－３，３’－ジカルボン酸、キノリン－３，４－ジカルボン酸、７－クロロ－４－ヒドロキシキノリン－２，８－ジカルボン酸、ジイミドジカルボン酸、ピリジン－２，６－ジカルボン酸、２－メチルイミダゾール－４，５－ジカルボン酸、チオフェン－３，４－ジカルボン酸、２－イソプロピルイミダゾール－４，５－ジカルボン酸、テトラハイドロピラン－４，４－ジカルボン酸、ペリレン－３，９－ジカルボン酸、ペリレンジカルボン酸、プルリオールＥ２００－ジカルボン酸、３，６－ジオキサオクタンジカルボン酸、３，５－シクロヘキサジエン－１，２－ジカルボン酸、オクタンジカルボン酸、ペンタン－３，３－ジカルボン酸、４，４’－ジアミノ－１，１’－ビフェニル－３，３’－ジカルボン酸、４，４’－ジアミノビフェニル－３，３’－ジカルボン酸、ベンジジン－３，３’－ジカルボン酸、１，４－ビス（フェニルアミノ）ベンゼン－２，５－ジカルボン酸、１，１’－ビナフチルジカルボン酸、７－クロロ－８－メチルキノリン－２，３－ジカルボン酸、１－アニリノ－アントラキノン－２，４’－ジカルボン酸、ポリテトラヒドロフラン２５０－ジカルボン酸、１，４－ビス（カルボキシメチル）ピペラジン－２，３－ジカルボン酸、７－クロロキノリン－３，８－ジカルボン酸、１－（４－カルボキシ）フェニル－３－（４－クロロ）フェニルピラゾリン－４，５－ジカルボン酸、１，４，５，６，７，７－ヘキサクロロ－５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸、１，３－ジベンジル－２－オキソイミダゾリジン－４，５－ジカルボン酸、１，４－シクロヘキサンジカルボン酸、ナフタレン－１，８－ジカルボン酸、２－ベンゾイルベンゼン－１，３－ジカルボン酸、１，３－ジベンジル－２－オキソイミダゾリデン－４，５－ｃｉｓ－ジカルボン酸、２，２’－ビキノリン－４，４’－ジカルボン酸、ピリジン－３，４－ジカルボン酸、３，６，９－トリオキサウンデカンジカルボン酸、ヒドロキシベンゾフェノンジカルボン酸、プルリオールＥ３００－ジカルボン酸、プルリオールＥ４００－ジカルボン酸、プルリオールＥ６００－ジカルボン酸、ピラゾール－３，４－ジカルボン酸、２，３－ピラジンジカルボン酸、５，６－ジメチル－２，３－ピラジンジカルボン酸、４，４’－ジアミノ（ジフェニルエーテル）ジイミドジカルボン酸、４，４’－ジアミノジフェニルメタンジイミドジカルボン酸、４，４’－ジアミノ（ジフェニルスルホン）ジイミドジカルボン酸、１，４－ナフタレンジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、１，３－アダマンタンジカルボン酸、１，８－ナフタレンジカルボン酸、２，３－ナフタレンジカルボン酸、８－メトキシ－２，３－ナフタレンジカルボン酸、８－ニトロ－２，３－ナフタレンジカルボン酸、８－スルホ－２，３－ナフタレンジカルボン酸、アントラセン－２，３－ジカルボン酸、２’，３’－ジフェニル－ｐ－ターフェニル－４，４”－ジカルボン酸、（ジフェニルエーテル）－４，４’－ジカルボン酸、イミダゾール－４，５－ジカルボン酸、４（１Ｈ）－オキオチオクロメン－２，８－ジカルボン酸、５－ｔｅｒｔ－ブチル－１，３－ベンゼンジカルボン酸、７，８－キノリンジカルボン酸、４，５－イミダゾールジカルボン酸、４－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸、ヘキサトリアコンタンジカルボン酸、テトラデドカンジカルボン酸、１，７－ヘプタンジカルボン酸、５－ヒドロキシ－１，３－ベンゼンジカルボン酸、２，５－ジヒドロキシ－１，４－ジカルボン酸、ピラジン－２，３－ジカルボン酸、フラン－２，５－ジカルボン酸、１－ノネン－６，９－ジカルボン酸、エイコセンジカルボン酸、４，４’－ジヒドロキシジフェニルメタン－３，３’－ジカルボン酸、１－アミノ－４－メチル－９，１０－ジオキソ－９，１０－ジヒドロアントラセン－２，３－ジカルボン酸、２，５－ピリジンジカルボン酸、シクロヘキセン－２，３－ジカルボン酸、２，９－ジクロロフルオルビン－４，１１－ジカルボン酸、７－クロロ－３－メチルキノリン－６，８－ジカルボン酸、２，４－ジクロロベンゾフェノン－２’，５’－ジカルボン酸、１，３－ベンゼンジカルボン酸、２，６－ピリジンジカルボン酸、１－メチルピロール－３，４－ジカルボン酸、１－ベンジル－１Ｈ－ピロール－３，４－ジカルボン酸、アントラキノン－１，５－ジカルボン酸、３，５－ピラゾールジカルボン酸、２－ニトロベンゼン－１，４－ジカルボン酸、ヘプタン－１，７－ジカルボン酸、シクロブタン－１，１－ジカルボン酸、１，１４－テトラデドカンジカルボン酸、５，６－デヒドロノルボルナン－２，３－ジカルボン酸、５－エチル－２，３－ピリジンジカルボン酸、およびカンファージカルボン酸が挙げられる。
上記トリカルボン酸としては、例えば、２－ヒドロキシ－１，２，３－プロパントリカルボン酸、７－クロロ－２，３，８－キノリントリカルボン酸、１，２，３－、１，２，４－ベンゼントリカルボン酸、１，２，４－ブタントリカルボン酸、２－ホスフォノ－１，２，４－ブタントリカルボン酸、１，３，５－ベンゼントリカルボン酸、４，４’，４”－（１，３，５－ベンゼントリイル）トリス安息香酸、１－ヒドロキシ－１，２，３－プロパントリカルボン酸、４，５－ジヒドロ－４，５－ジオキソ－１Ｈ－ピロロ［２，３－Ｆ］キノリン－２，７，９－トリカルボン酸、５－アセチル－３－アミノ－６－メチルベンゼン－１，２，４－トリカルボン酸、３－アミノ－５－ベンゾイル－６－メチルベンゼン－１，２，４－トリカルボン酸、１，２，３－プロパントリカルボン酸、およびオーリントリカルボン酸が挙げられる。
上記テトラカルボン酸としては、１，１－ジオキシドペリロ［１，１２－ＢＣＤ］チオフェン－３，４，９，１０－テトラカルボン酸、ペリレン－３，４，９，１０－テトラカルボン酸または（ペリレン－１，１２－スルホン）－３，４，９，１０－テトラカルボン酸などのペリレンテトラカルボン酸、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸またはメソ－１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸などのブタンテトラカルボン酸、デカン－２，４，６，８－テトラカルボン酸、１，４，７，１０，１３，１６－ヘキサオキサシクロオクタデカン－２，３，１１，１３－テトラカルボン酸、１，２，４，５－ベンゼンテトラカルボン酸、１，２，１１，１２－ドデカンテトラカルボン酸、１，２，５，６－ヘキサンテトラカルボン酸、１，２，７，８－オクタンテトラカルボン酸、１，４，５，８－ナフタレンテトラカルボン酸、１，２，９，１０－デカンテトラカルボン酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸、テトラヒドロフランテトラカルボン酸、およびシクロペンタン－１，２，３，４－テトラカルボン酸などのシクロペンタンテトラカルボン酸が挙げられる。
一の態様において、上記有機配位子は、環ヘテロ原子により配位結合を形成することができる複素環に由来する。かかる複素環としては以下の複素環が挙げられる。該複素環は、非置換であっても置換されていてもよい。
好ましい態様において、上記有機配位子は、１，４－ベンゼンジカルボン酸、１，２－ベンゼンジカルボン酸、マレイン酸、１，３，５－ベンゼントリカルボン酸、４，４’，４”－（１，３，５－ベンゼントリイル）トリス安息香酸、４，４’－ビピリジン、トリアゾール、イミダゾール、３，３’－ビピラゾール、ベンゾイミダゾール、および３，５－ピリジンジカルボン酸から選択される。
上記の有機配位子は、１種のみであっても、２種以上であってもよい。
尚、本明細書において「由来する」とは、所定の化合物そのものに加え、かかる化合物の一部がプロトン化した形態、完全にプロトン化した形態を含むことを意味する。
上記有機配位子を含む溶液の溶媒は、例えば、エタノール、ジメチルホルムアミド、トルエン、メタノール、クロロベンゼン、ジエチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水、過酸化水素、メチルアミン、水酸化ナトリウム溶液、Ｎ－メチルピロリドンエーテル、アセトニトリル、塩化ベンジル、トリエチルアミン、もしくはエチレングリコール、またはこれらの混合物であり得る。
上記金属イオンを含む溶液の溶媒と上記有機配位子を含む溶液の溶媒は、同じであっても、異なっていてもよいが、好ましくは同じである。
上記有機配位子を含む溶液は、好ましくは５～３０質量％、より好ましくは１０～２０質量％であり得る。
上記有機配位子を含む溶液は、他の成分として、触媒、塩基等を含んでいてもよい。
工程１ａまたは工程１ｂで処理された金属基板の表面を、少なくとも１種の金属イオンを含む溶液および少なくとも１種の有機配位子を含む溶液と接触させる方法は、金属基材上に金属有機構造体が形成される限り特に限定されない。
例えば、上記の処理は、上記金属基材を、金属イオンの溶液および有機配位子の溶液に浸漬することにより行ってもよく、あるいは、スプレー等により、上記金属基材の表面に金属イオンの溶液および有機配位子の溶液を塗布することにより行ってもよい。
上記の処理は、金属基材を、金属イオンの溶液および有機配位子の溶液のそれぞれと別個に接触させることにより行ってもよく、同時に接触させてもよい。
一の態様において、金属基材を、金属イオンの溶液および有機配位子の溶液の混合溶液に接触させてもよい。
別の態様において、金属基材を、有機配位子の溶液に接触させ、次いで、金属イオンの溶液に接触させてもよい。
別の態様において、金属基材を、金属イオンの溶液に接触させ、次いで、有機配位子の溶液に接触させてもよい。
別の態様において、金属基材を、金属イオンの溶液と有機配位子の溶液と、交互に複数回、接触させてもよい。かかる場合、金属イオンの溶液および有機配位子の溶液は、それぞれ、同じ溶液を用いてもよく、別の溶液を用いてもよい。例えば、最初にある金属イオンの溶液（例えば金属基材の金属と同じ金属のイオンを含む溶液）を用い、その後の別の金属イオンの溶液を用いてもよい。
かかる処理において、処理温度は、好ましくは１０～１００℃、より好ましくは２０～４０℃である。
かかる処理において、処理時間は、好ましくは１５～１２０分、より好ましくは６０～１２０分である。
以上のようにして、工程１ａまたは工程１ｂおよび工程２を行うことにより、金属基材の表面に金属有機構造体の層を形成することができる。
得られる金属有機構造体の層の厚みは、特に限定されないが、例えば１μｍ～１０ｍｍ、好ましくは１００μｍ～５ｍｍ、より好ましくは５００μｍ～２ｍｍであり得る。
上記金属有機構造体の形成は、Ｘ線回折、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察などにより確認することができる。
本開示の方法において、上記の工程１ａ、工程１ｂおよび工程２は、適宜、後処理を含んでいてもよい。
例えば、工程２の接触処理の後に、加熱処理を行ってもよい。
本開示の方法によれば、金属基材からの金属有機構造体の剥離が抑制された積層体を得ることができる。本開示はいかなる理論にも拘束されないが、剥離が抑制される理由は以下のように考えられる。工程１ａを行う場合、工程１ａにおいて金属基材の表面に、金属基材由来の金属イオンが形成され、工程２において該金属イオンを起点として金属有機構造体が形成されると考えられる。換言すれば、金属基材の表面の原子が、金属有機構造体の一部を構成し、金属基材と金属有機構造体が一体となった状態にあると言える。また、工程１ｂを行う場合、工程１ｂにおいて金属基材の表面が修飾され、次いで金属層が形成され、この金属層の金属イオンを起点として金属有機構造体が形成されると考えられる。即ち、金属有機構造体は金属層と一体となるように形成されており、金属基材はその修飾表面により有機金属構造体を保持した状態にあると考えられる。換言すれば、金属基材、金属層および有機金属構造体は、一体となった状態にあると言える。即ち、本開示の積層体において、金属基材と有機金属構造体は、直接結合して、または金属層を介して結合して一体となった状態にある。
本開示は、本開示の製造方法により得られる積層体も含む。
一の態様において、本開示は、
金属基材と上記金属基材上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体であって、金属基材上に、金属基材と一体となるように金属有機構造体が形成されている積層体
を含む。
金属基材と上記金属基材上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体であって、金属基材上に、金属基材と一体となるように金属有機構造体が形成されている積層体
を含む。
一の態様において、本開示は、
金属基材と該金属基材上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体であって、上記金属基材の表面の金属原子が、上記金属有機構造体の一部を構成している積層体
を含む。
金属基材と該金属基材上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体であって、上記金属基材の表面の金属原子が、上記金属有機構造体の一部を構成している積層体
を含む。
一の態様において、本開示は、
金属基材と該金属基材上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体であって、上記金属基材の表面が修飾されており、該修飾された表面上に金属層を有し、該金属層上に金属有機構造体が形成されている、積層体
を含む。かかる積層体においては、好ましくは、金属基材は、金属層と修飾部により化学的に結合しており、さらに金属層の金属原子が、上記金属有機構造体の一部を構成している。
金属基材と該金属基材上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体であって、上記金属基材の表面が修飾されており、該修飾された表面上に金属層を有し、該金属層上に金属有機構造体が形成されている、積層体
を含む。かかる積層体においては、好ましくは、金属基材は、金属層と修飾部により化学的に結合しており、さらに金属層の金属原子が、上記金属有機構造体の一部を構成している。
本開示の積層体は、金属基材と金属有機構造体間の密着性が高い。従って、本開示の積層体は、耐久性が求められる用途、例えば調湿用途等においても好適に用いることができる。また、本開示の積層体は、金属有機構造体の層の剥離が生じにくいことから複雑な形状の基材であっても適用することができる。かかる観点からも、フィン形状等、表面積を大きくするために複雑な形状が求められる調湿または熱交換に適していると言える。
従って、本開示は、本開示の積層体から構成されるフィンを含む。
また、本開示は、本開示の積層体から構成されるフィンを有してなる、除加湿器を含む。
また、本開示は、本開示の積層体から構成されるフィンを有してなる、熱交換器を含む。
実施例１
金属基材として、Ａｌのテストピースを準備した。前処理として、上記金属基材を、アセトン中で３０分間超音波洗浄し、次いで、ＨＦＥ７２００に浸漬した後、乾燥させた。
次いで、各金属基材をＨＦ溶液に３０分間浸漬し、その後、Ａｌ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ（５．４３ｇ，２５ｍｍｏｌ）の水溶液（５０ｍＬ）に金属基材を浸漬させた。ＮａＯＨ（６．０ｇ，３ｅｑ，１５０ｍｍｏｌ）およびテレフタル酸（８．３ｇ，５０ｍｍｏｌ）を溶解した水溶液（８０ｍＬ）を加え、１００℃で１２時間加熱した。
後処理として、金属基材の表面をメタノールで洗浄し、７０℃で加熱乾燥し、金属基材上に金属有機構造体の層を形成した。
金属基材として、Ａｌのテストピースを準備した。前処理として、上記金属基材を、アセトン中で３０分間超音波洗浄し、次いで、ＨＦＥ７２００に浸漬した後、乾燥させた。
次いで、各金属基材をＨＦ溶液に３０分間浸漬し、その後、Ａｌ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ（５．４３ｇ，２５ｍｍｏｌ）の水溶液（５０ｍＬ）に金属基材を浸漬させた。ＮａＯＨ（６．０ｇ，３ｅｑ，１５０ｍｍｏｌ）およびテレフタル酸（８．３ｇ，５０ｍｍｏｌ）を溶解した水溶液（８０ｍＬ）を加え、１００℃で１２時間加熱した。
後処理として、金属基材の表面をメタノールで洗浄し、７０℃で加熱乾燥し、金属基材上に金属有機構造体の層を形成した。
実施例２
金属基材としてＦｅのテストピースを用いた以外は、実施例１と同様にして、金属基材の表面に金属有機構造体の層を形成した。
金属基材としてＦｅのテストピースを用いた以外は、実施例１と同様にして、金属基材の表面に金属有機構造体の層を形成した。
実施例３
金属基材をＨＦに浸漬する代わりに、金属基材の表面にＵＶ－Ｏ３（テクノビジョン社製ＵＶ－オゾン照射装置）を１０分間照射した以外は、実施例１と同様にして、金属基材の表面に金属有機構造体の層を形成した。
金属基材をＨＦに浸漬する代わりに、金属基材の表面にＵＶ－Ｏ３（テクノビジョン社製ＵＶ－オゾン照射装置）を１０分間照射した以外は、実施例１と同様にして、金属基材の表面に金属有機構造体の層を形成した。
実施例４
金属基材としてＦｅのテストピースを用いた以外は、実施例３と同様にして、金属基材の表面に金属有機構造体の層を形成した。
金属基材としてＦｅのテストピースを用いた以外は、実施例３と同様にして、金属基材の表面に金属有機構造体の層を形成した。
実施例５
枝付試験管に、ポリ（エチレングリコール）メタクリレート（シグマアルドリッチ製、以下、「ＰＥＧＭＡ」と称する）（１９．４ｇ）、メタクリロイルオキシエチルフォスフェート（東邦化学工業製、以下、「ＰＰＭＥ」と称する）（０．６ｇ）、およびイソプロピルエーテル（以下「ＩＰＡ」と称する）（８０ｇ）を仕込み、１０分間窒素バージし、７０℃に加熱した。次いで、アゾビスイソブチロニトリル（以下、「ＡＩＢＮ」と称する）（０．１１６１ｇ）を加え、６時間反応させて、ＰＥＧ－ＰＰＭＥ重合体（重合比９７／３）の溶液（樹脂固形分濃度０．５重量％）を得た。
枝付試験管に、ポリ（エチレングリコール）メタクリレート（シグマアルドリッチ製、以下、「ＰＥＧＭＡ」と称する）（１９．４ｇ）、メタクリロイルオキシエチルフォスフェート（東邦化学工業製、以下、「ＰＰＭＥ」と称する）（０．６ｇ）、およびイソプロピルエーテル（以下「ＩＰＡ」と称する）（８０ｇ）を仕込み、１０分間窒素バージし、７０℃に加熱した。次いで、アゾビスイソブチロニトリル（以下、「ＡＩＢＮ」と称する）（０．１１６１ｇ）を加え、６時間反応させて、ＰＥＧ－ＰＰＭＥ重合体（重合比９７／３）の溶液（樹脂固形分濃度０．５重量％）を得た。
金属基材として、Ａｌのテストピースを準備した。前処理として、上記金属基材を、アセトン中で３０分間超音波洗浄し、次いで、ＨＦＥ７２００に浸漬した後、乾燥させた。次いで、金属基材を、上記で得られたＰＥＧＭＡ／ＰＰＭＡ重合体の溶液に浸漬した後、大気中（２０℃、湿度３０％）で一昼夜放置して、ＰＥＧコート基材を得た。
次に、アルミニウムブトキシド（７５ｍｇ）をエタノール（１０ｍＬ）に加え、１時間超音波処理して、アルミニウムブトキシド／エタノール溶液を得た。次いで、上記で得られたＰＥＧコート基材をエタノールで３回洗浄し水を除去した後、上記アルミニウムブトキシド／エタノール溶液に浸漬し、超音波で１時間処理した。
次に、Ａｌ（ＮＯ３）３・９Ｈ２Ｏ（５．４３ｇ，２５ｍｍｏｌ）の水溶液（５０ｍＬ）に、金属基材を浸漬させ、ＮａＯＨ（６．０ｇ，３ｅｑ，１５０ｍｍｏｌ）およびテレフタル酸（８．３ｇ，５０ｍｍｏｌ）を溶解した水溶液８０ｍＬを加え、１００℃で１２時間加熱した。その後、メタノールにて表面を洗浄し、７０℃で加熱乾燥して、金属基材上に金属有機構造体の層を形成した。
比較例１
金属基材をＨＦに浸漬する処理を行わないこと以外は、実施例１と同様にして、金属基材の表面に金属有機構造体の層を形成した。
金属基材をＨＦに浸漬する処理を行わないこと以外は、実施例１と同様にして、金属基材の表面に金属有機構造体の層を形成した。
比較例２
Ａｌ（ＮＯ３）３およびテレフタル酸から別途錯体を形成し、得られた錯体とバインダーとしてのウレタン樹脂を混合し、そこに金属基材を浸漬することにより、金属基材の表面に金属有機構造体の層を形成した。
Ａｌ（ＮＯ３）３およびテレフタル酸から別途錯体を形成し、得られた錯体とバインダーとしてのウレタン樹脂を混合し、そこに金属基材を浸漬することにより、金属基材の表面に金属有機構造体の層を形成した。
耐久性試験
実施例１～５および比較例１～２で得られた積層体を、それぞれ、７０℃の温水に１５００時間浸漬させた。その後、表面のＭＯＦの剥がれを目視で観察した。また、浸漬前後での基材の重量変化率を求めた。結果を下記表に示す。
実施例１～５および比較例１～２で得られた積層体を、それぞれ、７０℃の温水に１５００時間浸漬させた。その後、表面のＭＯＦの剥がれを目視で観察した。また、浸漬前後での基材の重量変化率を求めた。結果を下記表に示す。
上記の結果から、金属有機構造体の形成前に、金属表面を活性化した本開示の積層体は、剥がれが少なく、密着性が高いことが示された。
本開示の金属基材とその上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体は、吸着材、触媒などに好適に用いることができる。
Claims (13)
- 金属基材とその上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体の製造方法であって、
（工程１ａ）金属基材の表面を活性化する工程、または
（工程１ｂ）金属基材の表面を修飾し、その上に金属層を形成する工程、および
（工程２）上記工程１ａまたは工程１ｂで処理された金属基材を、少なくとも１種の金属イオンを含む溶液および少なくとも１種の有機配位子を含む溶液と接触させ、金属基材上に金属有機構造体を形成する工程
を含む製造方法。 - 金属基材とその上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体の製造方法であって、
（工程１ａ）金属基材の表面を活性化する工程、および
（工程２）上記金属基材の表面を、少なくとも１種の金属イオンを含む溶液および少なくとも１種の有機配位子を含む溶液と接触させ、金属基材上に金属有機構造体を形成する工程
を含む製造方法。 - 前記金属基材を構成する金属は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、もしくはＺｎ、またはＦｅ／Ｎｉ／Ｃｒ合金である、請求項１または２に記載の製造方法。
- 前記金属基材の表面を活性化する工程は、金属基材の表面を、フッ化水素、塩化水素、フッ素、または塩素で処理することにより行われる、請求項１～３のいずれか１項に記載の製造方法。
- 前記工程２において、溶液に含まれる金属イオンは、Ａｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、またはＣｏのイオンである、請求項１～４のいずれか１項に記載の製造方法。
- 前記工程１ａの活性化により前記金属基材の表面に形成された金属イオンと、前記溶液中の金属イオンが同じである、請求項１～５のいずれか１項に記載の製造方法。
- 前記有機配位子は、１，４－ベンゼンジカルボン酸、１，２－ベンゼンジカルボン酸、マレイン酸、１，３，５－ベンゼントリカルボン酸、４，４’，４”－（１，３，５－ベンゼントリイル）トリス安息香酸、４，４’－ビピリジン、トリアゾール、イミダゾール、３，３’－ビピラゾール、ベンゾイミダゾール、および３，５－ピリジンジカルボン酸から選択される、請求項１～６のいずれか１項に記載の製造方法。
- 請求項１～７のいずれか１項に記載の製造方法により得られる積層体。
- 金属基材と該金属基材上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体であって、上記金属基材の表面の金属原子が、上記金属有機構造体の一部を構成している、積層体。
- 金属基材と該金属基材上に形成された金属有機構造体とを有してなる積層体であって、上記金属基材の表面が修飾されており、該修飾された表面上に金属層を有し、該金属層上に金属有機構造体が形成されている、積層体。
- 請求項９または１０に記載の積層体から構成されるフィン。
- 請求項１１に記載のフィンを有してなる、除加湿器。
- 請求項１１に記載のフィンを有してなる、熱交換器。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018068916 | 2018-03-30 | ||
| JP2018068916 | 2018-03-30 | ||
| PCT/JP2019/014069 WO2019189788A1 (ja) | 2018-03-30 | 2019-03-29 | 積層体の製造方法 |
| JP2020511109A JP7398362B2 (ja) | 2018-03-30 | 2019-03-29 | 積層体の製造方法 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020511109A Division JP7398362B2 (ja) | 2018-03-30 | 2019-03-29 | 積層体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022137043A true JP2022137043A (ja) | 2022-09-21 |
| JP7323837B2 JP7323837B2 (ja) | 2023-08-09 |
Family
ID=68059331
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020511109A Active JP7398362B2 (ja) | 2018-03-30 | 2019-03-29 | 積層体の製造方法 |
| JP2022095997A Active JP7323837B2 (ja) | 2018-03-30 | 2022-06-14 | 積層体の製造方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020511109A Active JP7398362B2 (ja) | 2018-03-30 | 2019-03-29 | 積層体の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP7398362B2 (ja) |
| CN (1) | CN111936667B (ja) |
| TW (1) | TW201941937A (ja) |
| WO (1) | WO2019189788A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112892565B (zh) * | 2021-01-26 | 2023-06-20 | 华侨大学 | 一种多酸基铜金属有机无机杂化材料及其制备方法和应用 |
| CN113201141B (zh) * | 2021-04-14 | 2022-03-18 | 三峡大学 | 一种镍同构MOFs的制备方法及其在电催化上的应用 |
| JP2023069800A (ja) * | 2021-11-08 | 2023-05-18 | Ｅｎｅｏｓ株式会社 | 複合体、二酸化炭素捕捉剤、及び複合体の製造方法 |
| CN114369370B (zh) * | 2021-12-12 | 2023-03-24 | 郑州大学 | 一种基于MOFs的复合热界面材料及其制备方法 |
| WO2024048409A1 (ja) * | 2022-09-02 | 2024-03-07 | 三井金属鉱業株式会社 | 複合体及びその製造方法 |
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| JP2017057439A (ja) * | 2015-09-14 | 2017-03-23 | 新日鐵住金株式会社 | 金属−多孔性高分子金属錯体複合材料の製造方法および金属−多孔性高分子金属錯体複合材料 |
| JP2018017424A (ja) * | 2016-07-26 | 2018-02-01 | 日立化成株式会社 | 熱交換器の製造方法 |
| WO2018036997A1 (en) * | 2016-08-23 | 2018-03-01 | Basf Se | Composite materials |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10355087A1 (de) * | 2003-11-24 | 2005-06-09 | Basf Ag | Verfahren zur elektrochemischen Herstellung eines kristallinen porösen metallorganischen Gerüstmaterials |
| JP5249240B2 (ja) * | 2006-12-29 | 2013-07-31 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 金属アルコキシド含有フィルムの硬化方法 |
| CN104370820B (zh) * | 2013-08-13 | 2017-05-24 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种多孔金属有机骨架材料的制备方法及应用 |
| CN104138746A (zh) * | 2014-07-22 | 2014-11-12 | 华南理工大学 | 一种铜基-金属有机骨架多孔材料及其制备方法与应用 |
| CN105597833B (zh) * | 2015-11-18 | 2018-04-10 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 纳米簇负载型金属有机框架薄膜及其制备方法和应用 |
| CN105621430B (zh) * | 2015-12-29 | 2017-10-31 | 中国科学院力学研究所 | 一种新型合成金属有机骨架复合膜的方法 |
| CN105478083B (zh) * | 2016-01-22 | 2017-12-01 | 西北大学 | 一种多孔金属与有机框架化合物的复合化方法及其应用 |
| JP2017129537A (ja) * | 2016-01-22 | 2017-07-27 | 国立大学法人 東京医科歯科大学 | 電界効果型トランジスタガスセンサー |
| CN106178982B (zh) * | 2016-07-21 | 2019-11-15 | 北京工业大学 | 一种基于碱式碳酸盐自转化的金属-有机骨架膜的制备方法 |
| CN107774234B (zh) * | 2016-08-29 | 2020-03-17 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种金属有机骨架材料及其制备方法与应用 |
| JP6208316B1 (ja) * | 2016-11-24 | 2017-10-04 | アドバンス理工株式会社 | 金属ナノ粒子担持方法及びその装置 |
| CN107754766B (zh) * | 2017-11-28 | 2020-03-24 | 广西大学 | 一种mof多孔泡沫材料及其制备方法 |
-
2019
- 2019-03-29 JP JP2020511109A patent/JP7398362B2/ja active Active
- 2019-03-29 WO PCT/JP2019/014069 patent/WO2019189788A1/ja active Application Filing
- 2019-03-29 TW TW108111603A patent/TW201941937A/zh unknown
- 2019-03-29 CN CN201980022087.3A patent/CN111936667B/zh active Active
-
2022
- 2022-06-14 JP JP2022095997A patent/JP7323837B2/ja active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2018017424A (ja) * | 2016-07-26 | 2018-02-01 | 日立化成株式会社 | 熱交換器の製造方法 |
| WO2018036997A1 (en) * | 2016-08-23 | 2018-03-01 | Basf Se | Composite materials |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN111936667B (zh) | 2022-12-13 |
| CN111936667A (zh) | 2020-11-13 |
| JP7398362B2 (ja) | 2023-12-14 |
| JP7323837B2 (ja) | 2023-08-09 |
| JPWO2019189788A1 (ja) | 2020-12-03 |
| TW201941937A (zh) | 2019-11-01 |
| WO2019189788A1 (ja) | 2019-10-03 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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|
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