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- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
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-
- H—ELECTRICITY
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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-
- H—ELECTRICITY
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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- H10K59/351—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels comprising more than three subpixels, e.g. red-green-blue-white [RGBW]
Abstract
Description
する。
しては、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、記憶装置、電子機器、照明装置、
入力装置(例えば、タッチセンサなど)、入出力装置(例えば、タッチパネルなど)、そ
れらの駆動方法、またはそれらの製造方法を一例として挙げることができる。
光素子を有する発光装置、液晶素子を有する液晶表示装置等が開発されている。
用された可撓性を有する発光装置が開示されている。
得られる環境下では反射型液晶表示装置として利用することができ、十分な外光が得られ
ない環境下では透過型液晶表示装置として利用することができる、半透過型の液晶表示装
置が開示されている。
一態様は、周囲の明るさによらず、視認性の高い表示装置を提供することを課題の一とす
る。本発明の一態様は、全天候型の表示装置を提供することを課題の一とする。本発明の
一態様は、利便性の高い表示装置を提供することを課題の一とする。本発明の一態様は、
表示装置の薄型化または軽量化を課題の一とする。本発明の一態様は、新規な表示装置、
入出力装置、または電子機器などを提供することを課題の一とする。
、必ずしも、これらの課題の全てを解決する必要はないものとする。明細書、図面、請求
項の記載から、これら以外の課題を抽出することが可能である。
トランジスタを有する表示装置である。第1の表示素子は、可視光を反射する機能を有す
る。第2の表示素子は、可視光を射出する機能を有する。第1のトランジスタは、第1の
表示素子の駆動を制御する機能を有する。第2のトランジスタは、第2の表示素子の駆動
を制御する機能を有する。第1のトランジスタは、第1の表示素子よりも表示装置の表示
面側に位置する。第1の表示素子は、第2の表示素子及び第2のトランジスタよりも表示
面側に位置する。第1の表示素子は、可視光を反射する機能を有する反射層を有すること
が好ましい。反射層は、開口部を有する。第2の表示素子は、開口部と重なる部分を有す
る。第2の表示素子は、開口部に向けて可視光を射出する機能を有する。
る光のうち一方または双方により、画像を表示する機能を有することが好ましい。
に酸化物半導体を有することが好ましい。
層は、第1の電極と第2の電極との間に位置する。第1の電極は、第2の電極よりも表示
面側に位置する。第1の電極は、第1の電極よりも表示面側に位置する第1のトランジス
タのソースまたはドレインと電気的に接続される。第2の電極は、液晶層よりも表示面側
に位置する導電層と電気的に接続される。このとき、表示装置は、第2の電極と接する絶
縁層を有することが好ましい。第2の電極は、絶縁層よりも表示面側に位置する。第2の
電極は、絶縁層よりも表示面と対向する面側に位置する各導電層とは電気的に絶縁される
。
1のトランジスタまでの最短距離よりも、光学部材から第2のトランジスタまでの最短距
離の方が長い。光学部材から第1の表示素子までの最短距離よりも、光学部材から第2の
表示素子までの最短距離の方が長い。第1のトランジスタは、光学部材と第1の表示素子
の間に位置する。第1の表示素子は、光学部材と第2のトランジスタの間に位置する。第
1の表示素子は、光学部材と第2の表示素子の間に位置する。光学部材は、偏光板、光拡
散層、及び反射防止層のうち少なくとも一つを有することが好ましい。
FPC)等の回路基板と、を有する表示モジュールである。
ーカ、マイク、または操作ボタンの少なくともいずれか一と、を有する、電子機器である
。
する機能を有する第1のトランジスタと、第2の表示素子の駆動を制御する機能を有する
第2のトランジスタと、を有する表示装置の作製方法である。具体的には、第1の基板上
に、第1のトランジスタと、第1のトランジスタのソースまたはドレインと電気的に接続
される第1の電極と、を形成する。また、第1の基板上での工程とは独立して、作製基板
上に剥離層を形成し、剥離層上に第2の電極を形成し、第2の電極上に第2の絶縁層を形
成し、第2の絶縁層上に、第2のトランジスタと、第2の表示素子と、を形成する。そし
て、作製基板と第2の基板とを接着剤を用いて貼り合わせる。次に、作製基板と第2の電
極とを分離する。次に、第1の電極と露出した第2の電極との間に液晶層を配置し、接着
剤を用いて、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせることで、第1の表示素子を形成す
る。可視光を反射する機能を有する第2の電極を形成し、第2の電極に開口を設けること
が好ましく、開口と重なる位置に、第2の表示素子を形成することが好ましい。
好ましい。同一の導電膜を加工して、第1の電極と導電層を形成し、第1の基板と第2の
基板とを貼り合わせることで、第2の電極と導電層とを、導電性粒子により電気的に接続
させることが好ましい。
様により、周囲の明るさによらず、視認性の高い表示装置を提供することができる。本発
明の一態様により、全天候型の表示装置を提供することができる。本発明の一態様により
、利便性の高い表示装置を提供することができる。本発明の一態様により、表示装置の薄
型化または軽量化が可能となる。本発明の一態様により、新規な表示装置、入出力装置、
または電子機器などを提供することができる。
、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。明細書、図面、請求項の記載から
、これら以外の効果を抽出することが可能である。
れず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し
得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の
記載内容に限定して解釈されるものではない。
一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略する。また、同様の
機能を指す場合には、ハッチパターンを同じくし、特に符号を付さない場合がある。
の位置、大きさ、範囲などを表していない場合がある。このため、開示する発明は、必ず
しも、図面に開示された位置、大きさ、範囲などに限定されない。
て、互いに入れ替えることが可能である。例えば、「導電層」という用語を、「導電膜」
という用語に変更することが可能である。または、例えば、「絶縁膜」という用語を、「
絶縁層」という用語に変更することが可能である。
本実施の形態では、本発明の一態様の表示装置について図1~図14を用いて説明する。
び第2のトランジスタを有する。第1の表示素子は、可視光を反射する機能を有する。第
2の表示素子は、可視光を射出する機能を有する。第1のトランジスタは、第1の表示素
子の駆動を制御する機能を有する。第2のトランジスタは、第2の表示素子の駆動を制御
する機能を有する。第1のトランジスタは、第1の表示素子よりも表示装置の表示面側に
位置する。第1の表示素子は、第2の表示素子及び第2のトランジスタよりも表示装置の
表示面側に位置する。
のうち、いずれか一方、または両方により、画像を表示する機能を有する。
1のモード、第2の表示素子のみを用いて画像を表示する第2のモード、並びに、第1の
表示素子及び第2の表示素子を用いて画像を表示する第3のモードを有し、これらのモー
ドを自動または手動で切り替えて使用することができる。
が不要であるため、極めて低消費電力なモードである。例えば、表示装置に外光が十分に
入射されるとき(明るい環境下など)は、第1の表示素子が反射した光を用いて表示を行
うことができる。例えば、外光が十分に強く、かつ外光が白色光またはその近傍の光であ
る場合に有効である。第1のモードは、文字情報を表示することに適したモードである。
また、第1のモードは、外光を反射した光を用いるため、目に優しい表示を行うことがで
き、目が疲れにくいという効果を奏する。
度や外光の色度によらず、極めて鮮やかな(コントラストが高く、且つ色再現性の高い)
表示を行うことができる。例えば、夜間や暗い室内など、照度が極めて低い場合などに有
効である。また周囲が暗い場合、明るい表示を行うと使用者が眩しく感じてしまう場合が
ある。これを防ぐために、第2のモードでは輝度を抑えた表示を行うことが好ましい。こ
れにより、眩しさを抑えることに加え、消費電力も低減することができる。第2のモード
は、鮮やかな画像(静止画及び動画)などを表示することに適したモードである。
利用して表示を行う。第1のモードよりも鮮やかな表示をしつつ、第2のモードよりも消
費電力を抑えることができる。例えば、室内照明下や、朝方や夕方の時間帯など、照度が
比較的低い場合、外光の色度が白色ではない場合などに有効である。また、反射光と発光
とを混合させた光を用いることで、まるで絵画を見ているかのように感じさせる画像を表
示することが可能となる。
置または全天候型の表示装置を実現できる。
子は光源を持たない(人工光源を使用しない)ため、表示の際の消費電力を極めて小さく
することが可能となる。
の表示素子として、シャッター方式のMEMS(Micro Electro Mech
anical System)素子、光干渉方式のMEMS素子の他、マイクロカプセル
方式、電気泳動方式、エレクトロウェッティング方式、電子粉流体(登録商標)方式等を
適用した素子などを用いることができる。
光は、その輝度や色度が外光に左右されることがないため、色再現性が高く(色域が広く
)、コントラストの高い、鮮やかな表示を行うことができる。
Diode)、LED(Light Emitting Diode)、QLED(Q
uantum-dot Light Emitting Diode)などの自発光性の
発光素子を用いることができる。
31を有し、第2の表示素子として発光素子32を有する。
発光素子32、トランジスタ41、及びトランジスタ42等を有する。
する。液晶素子31は、発光素子32及びトランジスタ42よりも表示装置10の表示面
側(基板12側)に位置する。
光を透過する機能を有する電極223を有する。液晶層222は、電極221と電極22
3との間に位置する。
2を射出する。
スまたはドレインと電気的に接続される。つまり、電極223は、画素電極としての機能
を有する。電極221は、導電性粒子236を介して、導電層235と電気的に接続され
る。電極223と導電層235は、同一の導電膜を加工して得ることができる。電極22
1とトランジスタ42の間、及び電極221と発光素子32の間には、絶縁層234が設
けられている。つまり、電極221とトランジスタ42が有する電極は、絶縁層234に
よって電気的に絶縁されている。同様に、電極221と発光素子32が有する電極は、絶
縁層234によって電気的に絶縁されている。
、電極121と電極123との間に位置する。EL層122は、少なくとも発光性の物質
を含む。電極121は可視光を透過する機能を有する。電極123は可視光を反射する機
能を有することが好ましい。
1と電極123との間に電圧を印加することで、基板12側に光を射出する電界発光素子
である(発光21参照)。
スまたはドレインと電気的に接続される。電極121の端部は、絶縁層137によって覆
われている。
が、電極123に接して設けられている。絶縁層125を設けることで、発光素子32に
不純物が入り込むことを抑制し、発光素子32の信頼性を高めることができる。絶縁層1
25には、接着層51によって、基板11が貼り合わされている。
1を適用した場合や、トランジスタ41と電気的に接続される記憶素子を適用した場合な
どでは、液晶素子31を用いて静止画を表示する際に画素への書き込み動作を停止しても
、階調を維持させることが可能となる。すなわち、フレームレートを極めて小さくしても
表示を保つことができる。本発明の一態様では、フレームレートを極めて小さくでき、消
費電力の低い駆動を行うことができる。
駆動するトランジスタとを、異なる基板上で形成するため、それぞれの表示素子を駆動す
るために適した構造、材料を用いて形成することが容易である。
ト30は、第1の画素31pと、第2の画素32pを有する。
、青色(B)の3色に対応する表示素子を有する場合の例を示している。
。第1の画素31pは、赤色(R)に対応する第1の表示素子31R、緑色(G)に対応
する第1の表示素子31G、青色(B)に対応する第1の表示素子31Bを有する。
、赤色(R)に対応する第2の表示素子32R、緑色(G)に対応する第2の表示素子3
2G、青色(B)に対応する第2の表示素子32Bを有する。
1Bを有する。第1の表示素子31Rは、外光を反射し、赤色の光Rrを表示面側に射出
する。第1の表示素子31G、第1の表示素子31Bも同様に、それぞれ緑色の光Grま
たは青色の光Brを、表示面側に射出する。
2Bを有する。第2の表示素子32Rは赤色の光Rtを、表示面側に射出する。第2の表
示素子32G、第2の表示素子32Bも同様に、それぞれ緑色の光Gtまたは青色の光B
tを、表示面側に射出する。
うモード(第3のモード)に対応する。画素ユニット30は、反射光(光Rr、光Gr、
光Br)と透過光(光Rt、光Gt、光Bt)とを用いて、所定の色の光35trを表示
面側に射出することができる。
うモード(第1のモード)に対応する。画素ユニット30は、例えば外光が十分に強い場
合などでは、第2の画素32pを駆動させずに、第1の画素31pからの光(光Rr、光
Gr、及び光Br)のみを用いて、光35rを表示面側に射出することができる。これに
より、極めて低消費電力な駆動を行うことができる。
表示を行うモード(第2のモード)に対応する。画素ユニット30は、例えば外光が極め
て弱い場合などでは、第1の画素31pを駆動させずに、第2の画素32pからの光(光
Rt、光Gt、及び光Bt)のみを用いて、光35tを表示面側に射出することができる
。これにより鮮やかな表示を行うことができる。また周囲が暗い場合に輝度を低くするこ
とで、使用者が感じる眩しさを抑えると共に消費電力を低減できる。
ない。
。なおここでは、第1の画素31pと第2の画素32pの両方を駆動させることで表示を
行うモード(第3のモード)に対応した模式図を示しているが、上記と同様に、第1の画
素31pまたは第2の画素32pのみを駆動させるモード(第1のモード及び第2のモー
ド)でも表示を行うことができる。
2の表示素子32G、第2の表示素子32Bに加えて、白色(W)を呈する第2の表示素
子32Wを有する。
素子32G、第2の表示素子32Bに加えて、黄色(Y)を呈する第2の表示素子32Y
を有する。
の表示素子32Yを有さない構成に比べて、第2の画素32pを用いた表示モード(第2
のモード及び第3のモード)における消費電力を低減することができる。
第1の表示素子31Bに加えて、白色(W)を呈する第1の表示素子31Wを有する。
示モード(第1のモード及び第3のモード)における消費電力を低減することができる。
を有する。このとき、第1の画素31pのみを用いた表示モード(第1のモード)では、
白黒表示またはグレースケールでの表示を行うことができ、第2の画素32pを用いた表
示モード(第2のモード及び第3のモード)では、カラー表示を行うことができる。
1の画素31pの反射率を向上させ、より明るい表示を行うことができる。
に適している。
図6は、表示装置100の斜視概略図である。表示装置100は、基板351と基板36
1とが貼り合わされた構成を有する。図6では、基板361を破線で明示している。
6では表示装置100にIC(集積回路)373、FPC372、IC375、及びFP
C374が実装されている例を示している。そのため、図6に示す構成は、表示装置10
0、IC、及びFPCを有する表示モジュールということもできる。
該信号及び電力は、FPC372を介して外部から、またはIC373から配線365に
入力される。配線367は、表示部362及び回路364に信号及び電力を供給する機能
を有する。当該信号及び電力は、FPC374を介して外部から、またはIC375から
配線367に入力される。
ICを適用できる。なお表示装置100及び表示モジュールは、ICを設けない構成とし
てもよい。また、ICを、COF(Chip on Film)方式等により、FPCに
実装してもよい。
子が有する電極221bがマトリクス状に配置されている。電極221bは、可視光を反
射する機能を有し、液晶素子31の反射電極として機能する。
電極221bよりも基板351側に、発光素子32を有する。発光素子32からの光は、
電極221bの開口451を介して基板361側に射出される。
を含む領域の一部、回路364を含む領域の一部、及び表示部362を含む領域の一部を
それぞれ切断したときの断面の一例を示す。
トランジスタ201b、液晶素子31、発光素子32、トランジスタ110a、トランジ
スタ110b、トランジスタ110c、絶縁層220、着色層231、着色層232等を
有する。基板361と絶縁層220は接着層141を介して接着されている。基板351
と絶縁層220は接着層51を介して接着されている。
られている。
、表示部362が有するトランジスタは、同じ構造であってもよく、異なる構造であって
もよい。回路364が有する複数のトランジスタは、全て同じ構造であってもよく、2種
類以上の構造が組み合わせて用いられていてもよい。同様に、表示部362が有する複数
のトランジスタは、全て同じ構造であってもよく、2種類以上の構造が組み合わせて用い
られていてもよい。
する絶縁層291、半導体層112、ソース及びドレインとして機能する導電層113a
及び導電層113bを有する。
導電層114を有する。
成が適用されている。このような構成とすることで、トランジスタの閾値電圧を制御する
ことができる。2つのゲートを接続し、これらに同一の信号を供給することによりトラン
ジスタを駆動してもよい。このようなトランジスタは他のトランジスタと比較して電界効
果移動度を高めることが可能であり、オン電流を増大させることができる。その結果、高
速駆動が可能な回路を作製することができる。さらには、回路部の占有面積を縮小するこ
とが可能となる。オン電流の大きなトランジスタを適用することで、表示装置を大型化、
または高精細化したときに配線数が増大したとしても、各配線における信号遅延を低減す
ることが可能であり、表示ムラを抑制することができる。
のための電位を与えることで、トランジスタの閾値電圧を制御することができる。
。絶縁層292に接して導電層114が設けられている。絶縁層292及び導電層114
に接して絶縁層293が設けられている。
する導電膜を、酸素を含む雰囲気下で成膜することで、絶縁層292に酸素を供給するこ
とができる。成膜ガス中の酸素ガスの割合を90%以上100%以下の範囲とすることが
好ましい。絶縁層292に供給された酸素は、後の熱処理により半導体層112に供給さ
れ、半導体層112中の酸素欠損の低減を図ることができる。
き、絶縁層293に水素を放出する絶縁膜、例えば窒化シリコン膜等を用いることが好ま
しい。絶縁層293の成膜中、またはその後の熱処理によって導電層114中に水素が供
給され、導電層114の電気抵抗を効果的に低減することができる。
覆われている。
介して、トランジスタ110aが有する導電層113aと接続されている。導電層296
aは、絶縁層295に覆われている。電極223aは、絶縁層295に設けられた開口を
介して、導電層296aと接続されている。これにより、液晶素子31の画素電極として
機能する電極223aと、トランジスタ110aのソース又はドレインとして機能する導
電層113aとが、電気的に接続される。
電極223aの表面を概略平坦にできるため、液晶層222の配向状態を均一にできる。
絶縁層294及び導電層296aは不要であれば設けなくてもよい。つまり、電極223
aと、導電層113aとが、直接接続する構成としてもよい。
、配向膜133bに覆われている。絶縁層117は、液晶素子31のセルギャップを保持
するためのスペーサとして機能する。
、電極223aが積層された積層構造を有する。電極221aの基板351側に接して、
可視光を反射する電極221bが設けられている。電極221bは開口451を有する。
電極221a及び電極223aは可視光を透過する。液晶層222と電極221aの間に
配向膜133aが設けられ、液晶層222と電極223aの間に配向膜133bが設けら
れている。基板361の外側の面には、偏光板135が設けられている。
いることが好ましい。これにより、開口451と重なる領域においてもそれ以外の領域と
同様に液晶層222が配向するため、これらの領域の境界部で液晶の配向不良が生じ、意
図しない光が漏れてしまうことを抑制できる。
部の領域には、接続部252が設けられている。接続部252において、電極223aと
同一の導電膜を加工して得られた導電層223bと、電極221aの一部が、導電性粒子
236により電気的に接続されている。したがって、FPC374から電極221aに電
位を供給することができる。なお、電極221a及び電極221bが、液晶素子31の共
通電極として機能するということもできる。
のを用いることができる。金属材料としてニッケルや金を用いると接触抵抗を低減できる
ため好ましい。ニッケルをさらに金で被覆するなど、2種類以上の金属材料を層状に被覆
させた粒子を用いることが好ましい。また導電性粒子236に、弾性変形、または塑性変
形する材料を用いることが好ましい。このとき導電性粒子236は、図7に示すように上
下方向に潰れた形状となる場合がある。こうすることで、導電性粒子236と電極221
aとの接触面積、及び導電性粒子236と導電層223bとの接触面積が増大し、接触抵
抗を低減できるほか、接続不良などの不具合の発生を抑制することができる。
化前の接着層141に、導電性粒子236を分散させておけばよい。
視光を透過する機能を有する。基板361側から入射した光は、偏光板135により偏光
され、電極223a、液晶層222を透過し、電極221bで反射する。そして液晶層2
22及び電極223aを再度透過して、偏光板135に達する(反射光22参照)。この
とき、電極221bと電極223aの間に与える電圧によって液晶の配向を制御し、光の
光学変調を制御することができる。すなわち、偏光板135を介して射出される光の強度
を制御することができる。着色層231によって特定の波長領域以外の光が吸収されるこ
とにより、取り出される光は、例えば赤色を呈する光となる。
光板を用いることもできる。円偏光板としては、例えば直線偏光板と1/4波長位相差板
を積層したものを用いることができる。これにより、外光反射を抑制することができる。
本実施の形態の表示装置100は、表示面側にトランジスタ110a等の複数のトランジ
スタを有する。円偏光板を設けることで、配線及びこれらトランジスタの電極等による外
光反射を抑制することができる。また、偏光板の種類に応じて、液晶素子31に用いる液
晶素子のセルギャップ、配向、駆動電圧等を調整することで、所望のコントラストを実現
することができる。
偏光板、位相差板、光拡散層(拡散フィルムなど)、反射防止層、及び集光フィルム等が
挙げられる。また、基板361の外側には、ゴミの付着を抑制する帯電防止膜、汚れを付
着しにくくする撥水性の膜、使用に伴う傷の発生を抑制するハードコート膜等を配置して
もよい。
トランジスタ110cが設けられている。トランジスタ110b及びトランジスタ201
aは、トランジスタ201bと同様の構成を有する。トランジスタ110cは、トランジ
スタ110aと同様の構成を有する。
2は、トランジスタ110cを覆っている。トランジスタ110b及びトランジスタ20
1aは、絶縁層212と絶縁層213との間に一対のゲートの一方を有する。絶縁層21
4は各トランジスタを覆って設けられている。また絶縁層214を覆って絶縁層215が
設けられている。絶縁層214及び絶縁層215は、平坦化層としての機能を有する。な
お、トランジスタ等を覆う絶縁層の数に限定はない。
材料を用いることが好ましい。これにより、絶縁層をバリア膜として機能させることがで
きる。このような構成とすることで、トランジスタに対して外部から不純物が拡散するこ
とを効果的に抑制することが可能となり、信頼性の高い表示装置を実現できる。
介して、トランジスタ110bのソースまたはドレインと接続されている。電極121a
は、絶縁層215に設けられた開口を介して、導電層224aと接続されている。これに
より、発光素子32の画素電極として機能する電極121aと、トランジスタ110bの
ソース又はドレインとが、電気的に接続される。また、絶縁層214及び導電層224a
は、不要であれば設けなくてもよい。つまり、電極121aと、トランジスタ110bの
ソース又はドレインとが、直接接続する構成としてもよい。
0側から電極121a、EL層122、及び電極123の順に積層された積層構造を有す
る。絶縁層216が電極121aの端部を覆っている。電極123は可視光を反射する材
料を含み、電極121aは可視光を透過する材料を含む。電極123を覆って絶縁層12
5が設けられている。発光素子32が発する光は、着色層232、絶縁層220、開口4
51、電極221a等を介して、基板361側に射出される。
呈することができる。表示装置100は、液晶素子31を用いて、カラー表示を行うこと
ができる。表示装置100は、発光素子32を用いて、カラー表示を行うことができる。
設けられている。
2を介してFPC372と電気的に接続されている。電極121aと導電層121bは、
同一の導電膜を加工して得ることができる。導電層224aと導電層224bは、同一の
導電膜を加工して得ることができる。導電層121bは、接続層242を介して、FPC
372と電気的に接続される。
続層274を介してFPC374と電気的に接続されている。導電層296aと導電層2
96bは、同一の導電膜を加工して得ることができる。電極223a、導電層223b、
及び導電層223cは、同一の導電膜を加工して得ることができる。導電層223cは、
接続層274を介して、FPC374と電気的に接続される。
機樹脂などを用いることができる。基板351及び基板361に可撓性を有する材料を用
いると、表示装置の可撓性を高めることができる。
)モードが適用された液晶素子を用いることができる。垂直配向モードとしては、MVA
(Multi-Domain Vertical Alignment)モード、PVA
(Patterned Vertical Alignment)モード、ASV(Ad
vanced Super View)モードなどを用いることができる。
Aモードのほかに、TN(Twisted Nematic)モード、IPS(In-P
lane-Switching)モード、FFS(Fringe Field Swit
ching)モード、ASM(Axially Symmetric aligned
Micro-cell)モード、OCB(Optically Compensated
Birefringence)モード、FLC(Ferroelectric Liq
uid Crystal)モード、AFLC(AntiFerroelectric L
iquid Crystal)モード等が適用された液晶素子を用いることができる。
。液晶の光学的変調作用は、液晶にかかる電界(横方向の電界、縦方向の電界または斜め
方向の電界を含む)によって制御される。液晶素子に用いる液晶としては、サーモトロピ
ック液晶、低分子液晶、高分子液晶、高分子分散型液晶(PDLC:Polymer D
ispersed Liquid Crystal)、強誘電性液晶、反強誘電性液晶等
を用いることができる。これらの液晶材料は、条件により、コレステリック相、スメクチ
ック相、キュービック相、カイラルネマチック相、等方相等を示す。
るモードや設計に応じて最適な液晶材料を用いればよい。
場合、配向膜を用いないブルー相を示す液晶を用いてもよい。ブルー相は液晶相の一つで
あり、コレステリック液晶を昇温していくと、コレステリック相から等方相へ転移する直
前に発現する相である。ブルー相は狭い温度範囲でしか発現しないため、温度範囲を改善
するために数重量%以上のカイラル剤を混合させた液晶組成物を液晶層に用いる。ブルー
相を示す液晶とカイラル剤とを含む液晶組成物は、応答速度が短く、光学的等方性である
。また、ブルー相を示す液晶とカイラル剤とを含む液晶組成物は、配向処理が不要であり
、視野角依存性が小さい。また配向膜を設けなくてもよいのでラビング処理も不要となる
ため、ラビング処理によって引き起こされる静電破壊を防止することができ、作製工程中
の液晶表示装置の不良や破損を軽減することができる。
に、表示面側に光拡散板を配置すると、視認性を向上させられるため好ましい。
エッジライト型のフロントライトを用いることが好ましい。LEDを備えるフロントライ
トを用いると、消費電力を低減できるため好ましい。
、嫌気型接着剤などの各種硬化型接着剤を用いることができる。これら接着剤としてはエ
ポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、イミド
樹脂、PVC(ポリビニルクロライド)樹脂、PVB(ポリビニルブチラル)樹脂、EV
A(エチレンビニルアセテート)樹脂等が挙げられる。特に、エポキシ樹脂等の透湿性が
低い材料が好ましい。また、二液混合型の樹脂を用いてもよい。また、接着シート等を用
いてもよい。
isotropic Conductive Film)、異方性導電ペースト(ACP
:Anisotropic Conductive Paste)などを用いることがで
きる。
型などがある。光を取り出す側の電極には、可視光を透過する導電膜を用いる。また、光
を取り出さない側の電極には、可視光を反射する導電膜を用いることが好ましい。
孔注入性の高い物質、正孔輸送性の高い物質、正孔ブロック材料、電子輸送性の高い物質
、電子注入性の高い物質、またはバイポーラ性の物質(電子輸送性及び正孔輸送性が高い
物質)等を含む層をさらに有していてもよい。
化合物を含んでいてもよい。EL層122を構成する層は、それぞれ、蒸着法(真空蒸着
法を含む)、転写法、印刷法、インクジェット法、塗布法等の方法で形成することができ
る。
を発光層に用いることで、発光材料として機能させることもできる。
せを適用することで、表示装置から色純度の高い光を取り出すことができる。光学調整層
の膜厚は、各画素の色に応じて変化させる。
極などの導電層に用いることのできる材料としては、アルミニウム、チタン、クロム、ニ
ッケル、銅、イットリウム、ジルコニウム、モリブデン、銀、タンタル、またはタングス
テンなどの金属、またはこれを主成分とする合金などが挙げられる。これらの材料を含む
膜を単層で、または積層構造として用いることができる。
ウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、ガリウムを含む酸化亜鉛などの導電性酸化物またはグラフェ
ンを用いることができる。または、金、銀、白金、マグネシウム、ニッケル、タングステ
ン、クロム、モリブデン、鉄、コバルト、銅、パラジウム、またはチタンなどの金属材料
や、該金属材料を含む合金材料を用いることができる。または、該金属材料の窒化物(例
えば、窒化チタン)などを用いてもよい。なお、金属材料、合金材料(またはそれらの窒
化物)を用いる場合には、透光性を有する程度に薄くすればよい。また、上記材料の積層
膜を導電層として用いることができる。例えば、銀とマグネシウムの合金とインジウムス
ズ酸化物の積層膜などを用いると、導電性を高めることができるため好ましい。これらは
、表示装置を構成する各種配線及び電極などの導電層や、表示素子が有する導電層(画素
電極や共通電極として機能する導電層)にも用いることができる。
脂、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒化シリコン、酸化アルミニ
ウムなどの無機絶縁材料が挙げられる。
れた樹脂材料などが挙げられる。
図8(A)に表示装置100Aの表示部の断面図を示す。
他の構成については、表示装置100と同様のため、詳細な説明を省略する。
、液晶素子31を用いて、白黒またはグレースケールでの表示を行うことができる。
図8(B)に表示装置100Bの表示部の断面図を示す。
100と異なる。その他の構成については、表示装置100と同様のため、詳細な説明を
省略する。
、液晶素子31を用いた表示領域(以下、反射領域と記す)と重ねて設けられ、発光素子
32の発光領域(以下、透過領域と記す)とは重ならない。このことから、着色層231
の厚さは、反射領域と透過領域とで異なる。
、光は一度のみ着色層231中を通る(発光21参照)。そのため、反射領域と透過領域
とで、着色層231の厚さが同一であると、表示の色調に差が生じる場合がある。
とができる。これにより、液晶素子31を用いた表示と、発光素子32を用いた表示と、
の双方で、色調の良好な表示を行うことができる。
以上60%以下であることが好ましい。
れない。例えば、着色層231を2層以上の積層構造としてもよく、透過領域が、反射領
域よりも着色層231を構成する層数が多い構成としてもよい。または、多階調マスクを
用いて互いに厚さの異なる2つの領域を有する着色層を形成してもよい。
21は、着色層231及び着色層232の双方を通る。反射光22は、着色層231のみ
を通る。このような構成であっても、液晶素子31を用いた表示と、発光素子32を用い
た表示と、の双方で、色調の良好な表示を行うことができる。
図9(A)に示す表示装置100Cは、EL層122が塗り分けられており、かつ着色層
232を有さない点で、表示装置100と異なる。その他の構成については、表示装置1
00と同様のため、詳細な説明を省略する。
一層(代表的には発光層)が塗り分けられており、EL層を構成する層の全てが塗り分け
られていてもよい。
図9(B)に示す表示装置100Dは、基板351及び基板361を有さず、可撓性を有
する基板381、可撓性を有する基板382、接着層383、及び絶縁層384を有する
点で、表示装置100Cと異なる。その他の構成については、表示装置100Cと同様の
ため、詳細な説明を省略する。
層384を形成し、絶縁層384上に、トランジスタ110a及び電極223a等を形成
する。その後、作製基板と絶縁層384とを分離し、露出した絶縁層384に、接着層3
83を用いて可撓性を有する基板382を貼り合わせる。これにより、作製基板から可撓
性を有する基板382に、トランジスタ110a及び電極223a等を転置することがで
きる。したがって、表示装置の軽量化及び薄型化を図ることができる。また、表示装置の
可撓性を高めることができる。なお、可撓性を有する基板の耐熱性及び被剥離層の形成温
度によっては、可撓性を有する基板382上に、直接、トランジスタ110a及び電極2
23a等を作製することもできる。これにより、図7に示す表示装置100の軽量化及び
薄型化を図ることができる。また、表示装置の可撓性を高めることができる。
えば、プレーナ型のトランジスタとしてもよいし、スタガ型のトランジスタとしてもよい
し、逆スタガ型のトランジスタとしてもよい。また、トップゲート構造またはボトムゲー
ト構造のいずれのトランジスタ構造としてもよい。または、チャネルの上下にゲート電極
が設けられていてもよい。
示す。
、導電層113a、及び導電層113bを有する。導電層111は、絶縁層131上に設
けられている。導電層111は絶縁層132を介して半導体層112と重なる。導電層1
13a及び導電層113bは、絶縁層133に設けられた開口を介して、半導体層112
と電気的に接続される。トランジスタ110d上には絶縁層134が設けられている。絶
縁層134に設けられた開口を介して、導電層113bと表示素子の画素電極とを電気的
に接続させることができる。
。導電層113a及び導電層113bのうち、一方はソースとして機能し、他方はドレイ
ンとして機能する。
的な距離を離すことが容易なため、これらの間の寄生容量を低減することが可能である。
電層115及び絶縁層138を有する。導電層115は絶縁層131上に設けられ、半導
体層112と重なる領域を有する。絶縁層138は、導電層115及び絶縁層131を覆
って設けられている。
ため、トランジスタのオン電流を高めることや、閾値電圧を制御することなどが可能であ
る。
。トランジスタ110fは、1つのゲートを有する。トランジスタ110gは、2つのゲ
ートを有する。
及びドレインとして機能する導電層113a及び導電層113bを有する。絶縁層132
の一部は、トランジスタ110fのゲート絶縁層として機能する。導電層113bの一部
は、トランジスタ110fのソースまたはドレインとして機能する。
導電層114a、半導体層112a、ソース及びドレインとして機能する導電層113c
及び導電層113dを有する。絶縁層133の一部は、トランジスタ110gのゲート絶
縁層として機能する。導電層113bの一部は、トランジスタ110gのゲートとして機
能する。絶縁層139の一部は、トランジスタ110gのゲート絶縁層として機能する。
ることが好ましい。例えば、トランジスタ110fを、画素の選択、非選択状態を制御す
るトランジスタ(スイッチングトランジスタ、または選択トランジスタともいう)に用い
、トランジスタ110gを発光素子32に流れる電流を制御するトランジスタ(駆動トラ
ンジスタともいう)に用いることが好ましい。
続されている。絶縁層134に設けられた開口を介して、導電層113cと表示素子の画
素電極とを電気的に接続させることができる。
的に説明する。
化学気相堆積(CVD:Chemical Vapor Deposition)法、真
空蒸着法、パルスレーザー堆積(PLD:Pulsed Laser Depositi
on)法、原子層成膜(ALD:Atomic Layer Deposition)法
等を用いて形成することができる。CVD法としては、プラズマ化学気相堆積(PECV
D:Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposit
ion)法や、熱CVD法でもよい。熱CVD法の例として、有機金属化学気相堆積(M
OCVD:Metal Organic CVD)法を使ってもよい。
スプレー塗布、インクジェット、ディスペンス、スクリーン印刷、オフセット印刷、ドク
ターナイフ、スリットコート、ロールコート、カーテンコート、ナイフコート等の方法に
より形成することができる。
きる。または、遮蔽マスクを用いた成膜方法により、島状の薄膜を形成してもよい。また
は、ナノインプリント法、サンドブラスト法、リフトオフ法などにより薄膜を加工しても
よい。フォトリソグラフィ法としては、加工したい薄膜上にレジストマスクを形成して、
エッチング等により当該薄膜を加工し、レジストマスクを除去する方法と、感光性を有す
る薄膜を成膜した後に、露光、現像を行って、当該薄膜を所望の形状に加工する方法と、
がある。
m)、g線(波長436nm)、h線(波長405nm)、またはこれらを混合させた光
を用いることができる。そのほか、紫外線やKrFレーザ光、またはArFレーザ光等を
用いることもできる。また、液浸露光技術により露光を行ってもよい。また、露光に用い
る光として、極端紫外光(EUV:Extreme Ultra-violet)やX線
を用いてもよい。また、露光に用いる光に換えて、電子ビームを用いることもできる。極
端紫外光、X線または電子ビームを用いると、極めて微細な加工が可能となるため好まし
い。なお、電子ビームなどのビームを走査することにより露光を行う場合には、フォトマ
スクは不要である。
などを用いることができる。
以下では、図7に示す表示装置100の作製方法の一例について説明する。
導体または酸化物半導体を半導体層に用いることができる。代表的には、シリコンを含む
半導体、ガリウムヒ素を含む半導体、またはインジウムを含む酸化物半導体等を適用でき
る。
タを作製する場合を示す。
ドギャップが広く、且つキャリア密度の小さい半導体材料を用いると、トランジスタのオ
フ状態における電流を低減できる。
を成膜した後、レジストマスクを形成し、当該導電膜をエッチングした後にレジストマス
クを除去することで形成できる。
、窒化酸化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、窒化アルミニウム膜などの無機絶縁膜を用
いることができる。また、酸化ハフニウム膜、酸化イットリウム膜、酸化ジルコニウム膜
、酸化ガリウム膜、酸化タンタル膜、酸化マグネシウム膜、酸化ランタン膜、酸化セリウ
ム膜、及び酸化ネオジム膜等を用いてもよい。また、上述の絶縁膜を2以上積層して用い
てもよい。
ことが好ましい。無機絶縁膜の成膜時の基板温度は、室温(25℃)以上350℃以下が
好ましく、100℃以上300℃以下がさらに好ましい。
半導体層を形成する。酸化物半導体層は、酸化物半導体膜を成膜した後、レジストマスク
を形成し、当該酸化物半導体膜をエッチングした後にレジストマスクを除去することで形
成できる。
がより好ましく、室温以上130℃以下がさらに好ましい。
とができる。なお、酸化物半導体膜の成膜時における酸素の流量比(酸素分圧)に、特に
限定はない。ただし、電界効果移動度が高いトランジスタを得る場合においては、酸化物
半導体膜の成膜時における酸素の流量比(酸素分圧)は、0%以上30%以下が好ましく
、5%以上30%以下がより好ましく、7%以上15%以下がさらに好ましい。
ウム及び亜鉛を含むことが好ましい。
上であることがより好ましく、3eV以上であることがさらに好ましい。このように、エ
ネルギーギャップの広い酸化物半導体を用いることで、トランジスタのオフ電流を低減す
ることができる。
LD法、PECVD法、熱CVD法、ALD法、真空蒸着法などを用いてもよい。
3bは、導電膜を成膜した後、レジストマスクを形成し、当該導電膜をエッチングした後
にレジストマスクを除去することにより形成できる。導電層113a及び導電層113b
は、それぞれ、半導体層112と接続される。
い半導体層112の一部がエッチングにより薄膜化する場合がある。
110aにおいて、導電層111の一部はゲートとして機能し、絶縁層291の一部はゲ
ート絶縁層として機能し、導電層113a及び導電層113bは、それぞれソースまたは
ドレインのいずれか一方として機能する。
3を形成する(図11(A))。絶縁層292及び絶縁層293は、それぞれ、絶縁層2
91と同様の方法により形成することができる。
リコン膜等の酸化物絶縁膜を用いることが好ましい。さらに、当該酸化シリコン膜や酸化
窒化シリコン膜上に、絶縁層293として、窒化シリコン膜などの酸素を拡散、透過しに
くい絶縁膜を積層することが好ましい。酸素を含む雰囲気下で形成した酸化物絶縁膜は、
加熱により多くの酸素を放出しやすい絶縁膜とすることができる。このような酸素を放出
する酸化物絶縁膜と、酸素を拡散、透過しにくい絶縁膜を積層した状態で、加熱処理を行
うことにより、酸化物半導体層に酸素を供給することができる。その結果、酸化物半導体
層中の酸素欠損、及び酸化物半導体層と絶縁層292の界面の欠陥を修復し、欠陥準位を
低減することができる。これにより、極めて信頼性の高い表示装置を実現できる。
て形成することで、フォトリソグラフィ法等により島状に加工することができる。
、エポキシなどの樹脂を好適に用いることができる。絶縁層294には、絶縁層291に
用いることのできる無機絶縁膜を適用してもよい。
る導電層113aに達する開口を形成する。
スクを形成し、当該導電膜をエッチングした後にレジストマスクを除去することにより形
成できる。ここで、トランジスタ110aが有する導電層113aと導電層296aとが
接続する。
、平坦化層として機能することが好ましい。絶縁層295は、絶縁層294に用いること
のできる有機絶縁膜または無機絶縁膜を援用できる。
を形成し、当該導電膜をエッチングした後にレジストマスクを除去することにより形成で
きる。ここで、導電層296aと電極223aとが接続する。これにより、トランジスタ
110aが有する導電層113aと電極223aとを電気的に接続させることができる。
電極223aは、可視光を透過する導電材料を用いて形成する。
いることが好ましい。
。配向膜133bは、樹脂等の薄膜を形成した後に、ラビング処理を行うことで形成でき
る。
までに示す工程を行う。
て耐熱性を有する。作製基板61に用いることができる材料としては、例えば、ガラス、
石英、セラミック、サファイヤ、樹脂、半導体、金属または合金などが挙げられる。ガラ
スとしては、例えば、無アルカリガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ
酸ガラス等が挙げられる。
及び熱硬化性を有する材料を用いることが好ましい。
ことができる。具体的には、材料を成膜した後に溶媒を除去するための熱処理(プリベー
ク処理ともいう)を行い、その後フォトマスクを用いて露光を行う。続いて、現像処理を
施すことで、不要な部分を除去する。その後、熱処理(ポストベーク処理ともいう)を行
う。ポストベーク処理では、剥離層62上に形成する各層の作製温度以上の温度で加熱す
ることが好ましい。加熱温度は、例えば、350℃以上450℃以下が好ましく、350
℃以上400℃以下がより好ましく、350℃以上375℃以下がさらに好ましい。これ
により、トランジスタの作製工程における、剥離層62からの脱ガスを大幅に抑制するこ
とができる。
mide、PSPIともいう)を用いて形成されることが好ましい。
エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、シロキサン樹脂、ベンゾシクロ
ブテン系樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。
ことで、大判基板に薄い膜を均一に形成することができる。
、より好ましくは10cP以上50cP以下の溶液を用いて形成することが好ましい。溶
液の粘度が低いほど、塗布が容易となる。また、溶液の粘度が低いほど、気泡の混入を抑
制でき、良質な膜を形成できる。
が好ましく、0.1μm以上3μm以下であることがより好ましく、0.5μm以上1μ
m以下であることがさらに好ましい。低粘度の溶液を用いることで、剥離層62を薄く形
成することが容易となる。剥離層62の厚さを上記範囲とすることで、作製のコストを低
減することができる。ただし、これに限定されず、剥離層62の厚さは、10μm以上、
例えば、10μm以上200μm以下としてもよい。
ディスペンス、スクリーン印刷、オフセット印刷、ドクターナイフ、スリットコート、ロ
ールコート、カーテンコート、ナイフコート等が挙げられる。
、タンタル、ニオブ、ニッケル、コバルト、ジルコニウム、亜鉛、ルテニウム、ロジウム
、パラジウム、オスミウム、イリジウム、シリコンから選択された元素を含む金属、該元
素を含む合金、または該元素を含む化合物等が挙げられる。シリコンを含む層の結晶構造
は、非晶質、微結晶、多結晶のいずれでもよい。
10nm以上200nm以下、より好ましくは10nm以上100nm以下である。
蒸着法等により形成できる。
界面で剥離が生じる材料を適宜選択することができる。または、作製基板61と剥離層6
2との界面、もしくは、剥離層62中で剥離が生じる構成としてもよい。例えば、剥離層
62として、タングステンなどの高融点金属材料を含む層と当該金属材料の酸化物を含む
層を積層し、さらに、窒化シリコンや酸化窒化シリコン、窒化酸化シリコン等を複数積層
した層を積層してもよい。剥離層62に高融点金属材料を用いると、これよりも後に形成
する層の形成温度を高めることが可能で、不純物の濃度が低減され、信頼性の高い表示装
置を実現できる。なお、作製基板61と剥離層62との界面、もしくは、剥離層62中で
剥離が生じる構成とした場合は、剥離後に、表示装置にとって不要な剥離層62を除去す
る工程を有していてもよい。または、剥離層62を除去せず、表示装置の構成要素として
もよい。
(図11(C))。電極221bは、電極221a上に開口451を有する。電極221
a及び電極221bは、それぞれ、導電膜を成膜した後、レジストマスクを形成し、当該
導電膜をエッチングした後にレジストマスクを除去することにより形成できる。電極22
1aは、可視光を透過する導電材料を用いて形成する。電極221bは、可視光を反射す
る導電材料を用いて形成する。
に拡散することを防ぐバリア層として用いることができる。剥離層62に有機材料を用い
る場合、絶縁層220は、剥離層62を加熱した際に、剥離層62に含まれる水分等がト
ランジスタや表示素子に拡散することを防ぐことが好ましい。そのため、絶縁層220は
、バリア性が高いことが好ましい。
エポキシなどの樹脂等を用いることができる。
本工程は、トランジスタ110aの作製工程を援用することができる。また、トランジス
タ110cを覆う絶縁層212を形成する。絶縁層212は、トランジスタ110b及び
トランジスタ110cがそれぞれ有する半導体層、ソースとして機能する導電層、及びド
レインとして機能する導電層を覆うように形成される。次に、トランジスタ110bの導
電層114を、絶縁層212上に形成する。次に、トランジスタ110b及びトランジス
タ110cを覆う絶縁層213を形成する。さらに、絶縁層213上に着色層232を形
成し、その後、絶縁層214を形成する。
は、絶縁層292と同様の方法により形成することができる。
形成し、当該導電膜をエッチングした後にレジストマスクを除去することにより形成でき
る。
は、着色層231と同様の方法により形成することができる。絶縁層214は、絶縁層2
94と同様の方法により形成することができる。
るソースまたはドレインに達する開口を形成する。
た後、レジストマスクを形成し、当該導電膜をエッチングした後にレジストマスクを除去
することにより形成できる。ここで、トランジスタ110bが有するソースまたはドレイ
ンと導電層224aとが接続する。
、後に形成する表示素子の被形成面を有する層であるため、平坦化層として機能すること
が好ましい。絶縁層215は、絶縁層294に用いることのできる有機絶縁膜または無機
絶縁膜を援用できる。
、レジストマスクを形成し、当該導電膜をエッチングした後にレジストマスクを除去する
ことにより形成できる。ここで、導電層224aと電極121aとが接続する。これによ
り、トランジスタ110bが有するソースまたはドレインと電極121aとを電気的に接
続させることができる。電極121aは、可視光を透過する導電材料を用いて形成する。
4に用いることのできる有機絶縁膜または無機絶縁膜を援用できる。絶縁層216は、電
極121aと重なる部分に開口を有する。
の共通電極として機能する。電極123は、可視光を反射する導電材料を用いて形成する
。
EL層122を画素毎に作り分ける場合、メタルマスクなどのシャドウマスクを用いた蒸
着法、またはインクジェット法等により形成することができる。EL層122を画素毎に
作り分けない場合には、メタルマスクを用いない蒸着法を用いることができる。
機化合物を含んでいてもよい。
熱温度以下となるように行う。電極123は、蒸着法やスパッタリング法等を用いて形成
することができる。
2は、一部が画素電極として機能する電極121a、EL層122、一部が共通電極とし
て機能する電極123が積層された構成を有する。
が、本発明の一態様はこれに限られない。
いずれであってもよい。光を取り出す側の電極には、可視光を透過する導電膜を用いる。
また、光を取り出さない側の電極には、可視光を反射する導電膜を用いることが好ましい
。
などの不純物が拡散することを抑制する保護層として機能する。発光素子32は、絶縁層
125によって封止される。電極123を形成した後、大気に曝すことなく、絶縁層12
5を形成することが好ましい。
機絶縁膜が含まれる構成とすることが好ましい。また、無機絶縁膜と有機絶縁膜を積層し
て用いてもよい。
ましい。絶縁層125は、ALD法やスパッタリング法等を用いて形成することができる
。ALD法及びスパッタリング法は低温成膜が可能であるため好ましい。ALD法を用い
ると絶縁層125のカバレッジが良好となり好ましい。
A))。
、嫌気型接着剤等の各種硬化型接着剤を用いることができる。また、接着シート等を用い
てもよい。
レート(PEN)等のポリエステル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、アクリル樹脂、ポ
リイミド樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリエ
ーテルスルホン(PES)樹脂、ポリアミド樹脂(ナイロン、アラミド等)、ポリシロキ
サン樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレ
タン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリテ
トラフルオロエチレン(PTFE)樹脂、ABS樹脂、セルロースナノファイバー等を用
いることができる。基板351には、ガラス、石英、樹脂、金属、合金、半導体等の各種
材料を用いてもよい。基板351には、可撓性を有する程度の厚さのガラス、石英、樹脂
、金属、合金、半導体等の各種材料を用いてもよい。
なり得る。
より、電極221aが露出する。
ることで、剥離層62を脆弱化させる、または剥離層62と電極221a(または作製基
板61)との密着性を低下させることができる。
ることができる。具体的には、基板351の上面の一部を吸着し、上方に引っ張ることに
より、作製基板61を引き剥がすことができる。
の起点を形成してもよい。または、基板351側から鋭利な形状の器具で剥離層62を切
り込み、分離の起点を形成してもよい。
1を剥離した後に、電極221a側に残存する剥離層62を除去してもよい。剥離層62
が残存したままでもよい場合は、剥離層62を除去しなくてもよい。
向膜133aは、樹脂等の薄膜を成膜した後に、ラビング処理を行うことにより形成でき
る。
の工程が完了した基板351とを、液晶層222を挟んで貼り合わせる(図14(B))
。図14(B)では示さないが、図7等に示すように、基板351と基板361とは接着
層141で貼り合わされる。接着層141は、接着層51に用いることのできる材料を援
用できる。
を切り替えて使用することができるため、周囲の明るさによらず、視認性が高く、利便性
が高い。
いて、1つの実施の形態の中に、複数の構成例が示される場合は、構成例を適宜組み合わ
せることが可能である。
本実施の形態では、実施の形態1で説明した表示装置の、より具体的な構成例について図
15~図17を用いて説明する。
反射モードの両方の表示を行うことができる。
、回路GD、及び回路SDを有する。表示部362は、マトリクス状に配列した複数の画
素410を有する。
SCOM、複数の配線S1、及び複数の配線S2を有する。複数の配線G1、複数の配線
G2、複数の配線ANO、及び複数の配線CSCOMは、それぞれ、矢印Rで示す方向に
配列した複数の画素410及び回路GDと電気的に接続する。複数の配線S1及び複数の
配線S2は、それぞれ、矢印Cで示す方向に配列した複数の画素410及び回路SDと電
気的に接続する。
素子を駆動する回路GD及び回路SDと、発光素子を駆動する回路GD及び回路SDとを
、別々に設けてもよい。
1は、液晶素子の反射電極として機能する。図15(B1)、(B2)の電極311には
、開口451が設けられている。
線で示している。発光素子360は、電極311が有する開口451と重ねて配置されて
いる。これにより、発光素子360が発する光は、開口451を介して表示面側に射出さ
れる。
である。このとき、図15(B1)に示すように、矢印Rで示す方向に隣接する2つの画
素において、開口451が一列に配列されないように、電極311の異なる位置に設けら
れていることが好ましい。これにより、2つの発光素子360を離すことが可能で、発光
素子360が発する光が隣接する画素410が有する着色層に入射してしまう現象(クロ
ストークともいう)を抑制することができる。また、隣接する2つの発光素子360を離
して配置することができるため、発光素子360のEL層をシャドウマスク等により作り
分ける場合であっても、高い精細度の表示装置を実現できる。
である。図15(B2)においても同様に、矢印Cで示す方向に隣接する2つの画素にお
いて、開口451が一列に配列されないように、電極311の異なる位置に設けられてい
ることが好ましい。
表示を明るくすることができる。また、非開口部の総面積に対する開口451の総面積の
比の値が大きいほど、発光素子360を用いた表示を明るくすることができる。
とができる。また、細長い筋状、スリット状、市松模様状の形状としてもよい。また、開
口451を隣接する画素に寄せて配置してもよい。好ましくは、開口451を同じ色を表
示する他の画素に寄せて配置する。これにより、クロストークを抑制できる。
60の発光領域が位置していてもよい。これにより、発光素子360が発する光は、表示
面側に射出される。
は、トランジスタ及び容量素子等を用いることができる。回路GDが有するトランジスタ
は、画素410に含まれるトランジスタと同じ工程で形成することができる。
ことができる。具体的には、回路SDには、シリコン基板上に形成された集積回路を用い
ることができる。
410と電気的に接続されるパッドに回路SDを実装することができる。具体的には、異
方性導電膜を用いて、パッドに集積回路を実装できる。
示している。
ンジスタM、容量素子C2、及び発光素子360等を有する。また、画素410には、配
線G1、配線G2、配線ANO、配線CSCOM、配線S1、及び配線S2が電気的に接
続されている。また、図16では、液晶素子340と電気的に接続する配線VCOM1、
及び発光素子360と電気的に接続する配線VCOM2を示している。
ている。
レインのうち一方は、配線S1と接続され、他方は、容量素子C1の一方の電極、及び液
晶素子340の一方の電極と接続されている。容量素子C1の他方の電極は、配線CSC
OMと接続されている。液晶素子340の他方の電極が配線VCOM1と接続されている
。
レインのうち一方は、配線S2と接続され、他方は、容量素子C2の一方の電極、及びト
ランジスタMのゲートと接続されている。容量素子C2の他方の電極は、トランジスタM
のソースまたはドレインの一方、及び配線ANOと接続されている。トランジスタMのソ
ースまたはドレインの他方は、発光素子360の一方の電極と接続されている。発光素子
360の他方の電極は、配線VCOM2と接続されている。
る例を示している。これにより、トランジスタMが流すことのできる電流を増大させるこ
とができる。
ができる。配線VCOM1には、所定の電位を与えることができる。配線S1には、液晶
素子340が有する液晶の配向状態を制御する信号を与えることができる。配線CSCO
Mには、所定の電位を与えることができる。
ができる。配線VCOM2及び配線ANOには、発光素子360が発光する電位差が生じ
る電位をそれぞれ与えることができる。配線S2には、トランジスタMの導通状態を制御
する信号を与えることができる。
S1に与える信号により駆動し、液晶素子340による光学変調を利用して表示すること
ができる。また、透過モードで表示を行う場合には、配線G2及び配線S2に与える信号
により駆動し、発光素子360を発光させて表示することができる。また両方のモードで
駆動する場合には、配線G1、配線G2、配線S1及び配線S2のそれぞれに与える信号
により駆動することができる。
を有する例を示したが、これに限られない。図17(A)は、一つの画素410に一つの
液晶素子340と4つの発光素子360(発光素子360r、360g、360b、36
0w)を有する例を示している。図17(A)に示す画素410は、図16とは異なり、
1つの画素で発光素子を用いたフルカラーの表示が可能である。
いる。
(G)、青色(B)、及び白色(W)を呈する発光素子を用いることができる。また液晶
素子340として、白色を呈する反射型の液晶素子を用いることができる。これにより、
反射モードの表示を行う場合には、反射率の高い白色の表示を行うことができる。また透
過モードで表示を行う場合には、演色性の高い表示を低い電力で行うことができる。
極311が有する開口部と重なる発光素子360wと、電極311の周囲に配置された発
光素子360r、発光素子360g、及び発光素子360bとを有する。発光素子360
r、発光素子360g、及び発光素子360bは、発光面積がほぼ同等であることが好ま
しい。
本実施の形態では、本発明の一態様で開示されるトランジスタに用いることができるCA
C(Cloud-Aligned Composite)-OSの構成について説明する
。
下、好ましくは、1nm以上2nm以下、またはその近傍のサイズで偏在した材料の一構
成である。なお、以下では、酸化物半導体において、一つあるいはそれ以上の金属元素が
偏在し、該金属元素を有する領域が、0.5nm以上10nm以下、好ましくは、1nm
以上2nm以下、またはその近傍のサイズで混合した状態をモザイク状、またはパッチ状
ともいう。
よび亜鉛を含むことが好ましい。また、それらに加えて、アルミニウム、ガリウム、イッ
トリウム、銅、バナジウム、ベリリウム、ホウ素、シリコン、チタン、鉄、ニッケル、ゲ
ルマニウム、ジルコニウム、モリブデン、ランタン、セリウム、ネオジム、ハフニウム、
タンタル、タングステン、またはマグネシウムなどから選ばれた一種、または複数種が含
まれていてもよい。
a-Zn酸化物を、特にCAC-IGZOと呼称してもよい。)とは、インジウム酸化物
(以下、InOX1(X1は0よりも大きい実数)とする。)、またはインジウム亜鉛酸
化物(以下、InX2ZnY2OZ2(X2、Y2、およびZ2は0よりも大きい実数)
とする。)と、ガリウム酸化物(以下、GaOX3(X3は0よりも大きい実数)とする
。)、またはガリウム亜鉛酸化物(以下、GaX4ZnY4OZ4(X4、Y4、および
Z4は0よりも大きい実数)とする。)などと、に材料が分離することでモザイク状とな
り、モザイク状のInOX1、またはInX2ZnY2OZ2が、膜中に均一に分布した
構成(以下、クラウド状ともいう。)である。
またはInOX1が主成分である領域とが、混合している構成を有する複合酸化物半導体
である。なお、本明細書において、例えば、第1の領域の元素Mに対するInの原子数比
が、第2の領域の元素Mに対するInの原子数比よりも大きいことを、第1の領域は、第
2の領域と比較して、Inの濃度が高いとする。
合がある。代表例として、InGaO3(ZnO)m1(m1は自然数)、またはIn(
1+x0)Ga(1-x0)O3(ZnO)m0(-1≦x0≦1、m0は任意数)で表
される結晶性の化合物が挙げられる。
igned-Crystalline)構造を有する。なお、CAAC構造とは、複数の
IGZOのナノ結晶がc軸配向を有し、かつa-b面においては配向せずに連結した結晶
構造である。
a、Zn、およびOを含む材料構成において、一部にGaを主成分とするナノ粒子状に観
察される領域と、一部にInを主成分とするナノ粒子状に観察される領域とが、それぞれ
モザイク状にランダムに分散している構成をいう。従って、CAC-OSにおいて、結晶
構造は副次的な要素である。
例えば、Inを主成分とする膜と、Gaを主成分とする膜との2層からなる構造は、含ま
ない。
主成分である領域とは、明確な境界が観察できない場合がある。
、ホウ素、シリコン、チタン、鉄、ニッケル、ゲルマニウム、ジルコニウム、モリブデン
、ランタン、セリウム、ネオジム、ハフニウム、タンタル、タングステン、またはマグネ
シウムなどから選ばれた一種、または複数種が含まれている場合、CAC-OSは、一部
に該金属元素を主成分とするナノ粒子状に観察される領域と、一部にInを主成分とする
ナノ粒子状に観察される領域とが、それぞれモザイク状にランダムに分散している構成を
いう。
することができる。また、CAC-OSをスパッタリング法で形成する場合、成膜ガスと
して、不活性ガス(代表的にはアルゴン)、酸素ガス、及び窒素ガスの中から選ばれたい
ずれか一つまたは複数を用いればよい。また、成膜時の成膜ガスの総流量に対する酸素ガ
スの流量比は低いほど好ましく、例えば酸素ガスの流量比を0%以上30%未満、好まし
くは0%以上10%以下とすることが好ましい。
とつであるOut-of-plane法によるθ/2θスキャンを用いて測定したときに
、明確なピークが観察されないという特徴を有する。すなわち、X線回折から、測定領域
のa-b面方向、およびc軸方向の配向は見られないことが分かる。
射することで得られる電子線回折パターンにおいて、リング状に輝度の高い領域と、該リ
ング領域に複数の輝点が観測される。従って、電子線回折パターンから、CAC-OSの
結晶構造が、平面方向、および断面方向において、配向性を有さないnc(nano-c
rystal)構造を有することがわかる。
分光法(EDX:Energy Dispersive X-ray spectros
copy)を用いて取得したEDXマッピングにより、GaOX3が主成分である領域と
、InX2ZnY2OZ2、またはInOX1が主成分である領域とが、偏在し、混合し
ている構造を有することが確認できる。
ZO化合物と異なる性質を有する。つまり、CAC-OSは、GaOX3などが主成分で
ある領域と、InX2ZnY2OZ2、またはInOX1が主成分である領域と、に互い
に相分離し、各元素を主成分とする領域がモザイク状である構造を有する。
などが主成分である領域と比較して、導電性が高い領域である。つまり、InX2ZnY
2OZ2、またはInOX1が主成分である領域を、キャリアが流れることにより、酸化
物半導体としての導電性が発現する。従って、InX2ZnY2OZ2、またはInOX
1が主成分である領域が、酸化物半導体中にクラウド状に分布することで、高い電界効果
移動度(μ)が実現できる。
1が主成分である領域と比較して、絶縁性が高い領域である。つまり、GaOX3などが
主成分である領域が、酸化物半導体中に分布することで、リーク電流を抑制し、良好なス
イッチング動作を実現できる。
InX2ZnY2OZ2、またはInOX1に起因する導電性とが、相補的に作用するこ
とにより、高いオン電流(Ion)、および高い電界効果移動度(μ)を実現することが
できる。
ィスプレイをはじめとするさまざまな半導体装置に最適である。
本実施の形態では、本発明の一態様の表示モジュール及び電子機器について説明する。
間に、FPC8003に接続されたタッチパネル8004、FPC8005に接続された
表示パネル8006、フレーム8009、プリント基板8010、及びバッテリ8011
を有する。
により、周囲の明るさによらず、視認性の高い表示モジュールを作製することができる。
また、消費電力の低い表示モジュールを作製することができる。
006のサイズに合わせて、形状や寸法を適宜変更することができる。
ネル8006に重畳して用いることができる。また、タッチパネル8004を設けず、表
示パネル8006に、タッチパネル機能を持たせるようにすることも可能である。
により発生する電磁波を遮断するための電磁シールドとしての機能を有する。またフレー
ム8009は、放熱板としての機能を有していてもよい。
処理回路を有する。電源回路に電力を供給する電源としては、外部の商用電源であっても
良いし、別途設けたバッテリ8011による電源であってもよい。バッテリ8011は、
商用電源を用いる場合には、省略可能である。
して設けてもよい。
。そのため、携帯型の電子機器、装着型の電子機器(ウェアラブル機器)、及び電子書籍
端末などに好適に用いることができる。
03、表示部804、及びヒンジ部805等を有する。
折り畳んだ状態(図19(A))から、図19(B)に示すように展開させることができ
る。
いることができる。これにより、周囲の明るさによらず、視認性の高い携帯情報端末を作
製することができる。また、消費電力の低い携帯情報端末を作製することができる。
少なくとも一つを表示することができる。表示部に文書情報を表示させる場合、携帯情報
端末800を電子書籍端末として用いることができる。
イク等を有していてもよい。
3、外部接続ポート814、スピーカ815、マイク816、カメラ817等を有する。
明るさによらず、視認性の高い携帯情報端末を作製することができる。また、消費電力の
低い携帯情報端末を作製することができる。
字を入力するなどのあらゆる操作は、指やスタイラスなどで表示部812に触れることで
行うことができる。
される画像の種類の切り替えを行うことができる。例えば、メール作成画面から、メイン
メニュー画面に切り替えることができる。
設けることで、携帯情報端末810の向き(縦か横か)を判断して、表示部812の画面
表示の向きを自動的に切り替えることができる。また、画面表示の向きの切り替えは、表
示部812に触れること、操作ボタン813の操作、またはマイク816を用いた音声入
力等により行うこともできる。
たは複数の機能を有する。具体的には、スマートフォンとして用いることができる。携帯
情報端末810は、例えば、移動電話、電子メール、文章閲覧及び作成、音楽再生、動画
再生、インターネット通信、ゲームなどの種々のアプリケーションを実行することができ
る。
ャッターボタン824等を有する。またカメラ820には、着脱可能なレンズ826が取
り付けられている。
ず、視認性の高い表示部を有することで、カメラの利便性を高めることができる。また、
消費電力の低いカメラを作製することができる。
な構成としたが、レンズ826と筐体821とが一体となっていてもよい。
することができる。また、表示部822はタッチパネルとしての機能を有し、表示部82
2をタッチすることにより撮像することも可能である。
できる。または、これらが筐体821に組み込まれていてもよい。
、表示部9001、スピーカ9003、操作キー9005(電源スイッチ、または操作ス
イッチを含む)、接続端子9006、センサ9007(力、変位、位置、速度、加速度、
角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流
、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振動、においまたは赤外線を測定する機能を
含むもの)、マイクロフォン9008等を有する。
、周囲の明るさによらず、視認性の高い表示部を有する電子機器を作製することができる
。また、消費電力の低い電子機器を作製することができる。
々な情報(静止画、動画、テキスト画像など)を表示部に表示する機能、タッチパネル機
能、カレンダー、日付または時刻などを表示する機能、様々なソフトウェア(プログラム
)によって処理を制御する機能、無線通信機能、無線通信機能を用いて様々なコンピュー
タネットワークに接続する機能、無線通信機能を用いて様々なデータの送信または受信を
行う機能、記録媒体に記録されているプログラムまたはデータを読み出して表示部に表示
する機能、等を有することができる。なお、図20(A)~(E)に示す電子機器が有す
る機能はこれらに限定されず、その他の機能を有していてもよい。
端末9201を、それぞれ示す斜視図である。
、音楽再生、インターネット通信、コンピュータゲームなどの種々のアプリケーションを
実行することができる。また、表示部9001はその表示面が湾曲して設けられ、湾曲し
た表示面に沿って表示を行うことができる。また、携帯情報端末9200は、通信規格さ
れた近距離無線通信を実行することが可能である。例えば無線通信可能なヘッドセットと
相互通信することによって、ハンズフリーで通話することもできる。また、携帯情報端末
9200は、接続端子9006を有し、他の情報端末とコネクターを介して直接データの
やりとりを行うことができる。また接続端子9006を介して充電を行うこともできる。
なお、充電動作は接続端子9006を介さずに無線給電により行ってもよい。
と異なり、表示部9001の表示面が湾曲していない。また、携帯情報端末9201の表
示部の外形が非矩形状(図20(B)においては円形状)である。
お、図20(C)が携帯情報端末9202を展開した状態の斜視図であり、図20(D)
が携帯情報端末9202を展開した状態または折り畳んだ状態の一方から他方に変化する
途中の状態の斜視図であり、図20(E)が携帯情報端末9202を折り畳んだ状態の斜
視図である。
のない広い表示領域により表示の一覧性に優れる。携帯情報端末9202が有する表示部
9001は、ヒンジ9055によって連結された3つの筐体9000に支持されている。
ヒンジ9055を介して2つの筐体9000間を屈曲させることにより、携帯情報端末9
202を展開した状態から折りたたんだ状態に可逆的に変形させることができる。例えば
、携帯情報端末9202は、曲率半径1mm以上150mm以下で曲げることができる。
C1 容量素子
C2 容量素子
CSCOM 配線
G1 配線
G2 配線
G3 配線
GD 回路
S1 配線
S2 配線
S3 配線
SD 回路
SW1 スイッチ
SW2 スイッチ
VCOM1 配線
VCOM2 配線
10 表示装置
11 基板
12 基板
14 表示部
21 発光
22 反射光
30 画素ユニット
31 液晶素子
31B 第1の表示素子
31G 第1の表示素子
31p 画素
31R 第1の表示素子
31W 第1の表示素子
32 発光素子
32B 第2の表示素子
32G 第2の表示素子
32p 画素
32R 第2の表示素子
32W 第2の表示素子
32Y 第2の表示素子
35r 光
35t 光
35tr 光
41 トランジスタ
42 トランジスタ
51 接着層
61 作製基板
62 剥離層
100 表示装置
100A 表示装置
100B 表示装置
100C 表示装置
100D 表示装置
110a トランジスタ
110b トランジスタ
110c トランジスタ
110d トランジスタ
110e トランジスタ
110f トランジスタ
110g トランジスタ
111 導電層
112 半導体層
112a 半導体層
113a 導電層
113b 導電層
113c 導電層
113d 導電層
114 導電層
114a 導電層
114b 導電層
115 導電層
117 絶縁層
121 電極
121a 電極
121b 導電層
122 EL層
123 電極
125 絶縁層
131 絶縁層
132 絶縁層
133 絶縁層
133a 配向膜
133b 配向膜
134 絶縁層
135 偏光板
136 絶縁層
137 絶縁層
138 絶縁層
139 絶縁層
141 接着層
201a トランジスタ
201b トランジスタ
204a 接続部
204b 接続部
211 絶縁層
212 絶縁層
213 絶縁層
214 絶縁層
215 絶縁層
216 絶縁層
220 絶縁層
221 電極
221a 電極
221b 電極
222 液晶層
223 電極
223a 電極
223b 導電層
223c 導電層
224a 導電層
224b 導電層
231 着色層
232 着色層
234 絶縁層
235 導電層
236 導電性粒子
239 絶縁層
242 接続層
252 接続部
274 接続層
291 絶縁層
292 絶縁層
293 絶縁層
294 絶縁層
295 絶縁層
296a 導電層
296b 導電層
311 電極
340 液晶素子
351 基板
360 発光素子
360b 発光素子
360g 発光素子
360r 発光素子
360w 発光素子
361 基板
362 表示部
364 回路
365 配線
367 配線
372 FPC
373 IC
374 FPC
375 IC
381 基板
382 基板
383 接着層
384 絶縁層
400 表示装置
410 画素
451 開口
800 携帯情報端末
801 筐体
802 筐体
803 表示部
804 表示部
805 ヒンジ部
810 携帯情報端末
811 筐体
812 表示部
813 操作ボタン
814 外部接続ポート
815 スピーカ
816 マイク
817 カメラ
820 カメラ
821 筐体
822 表示部
823 操作ボタン
824 シャッターボタン
826 レンズ
8000 表示モジュール
8001 上部カバー
8002 下部カバー
8003 FPC
8004 タッチパネル
8005 FPC
8006 表示パネル
8009 フレーム
8010 プリント基板
8011 バッテリ
9000 筐体
9001 表示部
9003 スピーカ
9005 操作キー
9006 接続端子
9007 センサ
9008 マイクロフォン
9055 ヒンジ
9200 携帯情報端末
9201 携帯情報端末
9202 携帯情報端末
Claims (1)
- 液晶素子と、前記液晶素子の駆動を制御する第1のトランジスタと、発光素子と、前記発光素子の駆動を制御する第2のトランジスタと、を有する表示装置であって、
前記発光素子からの光は、前記液晶素子を介して取り出される表示装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016120951 | 2016-06-17 | ||
JP2016120951 | 2016-06-17 | ||
JP2017117554A JP7043189B2 (ja) | 2016-06-17 | 2017-06-15 | 表示装置、表示モジュール、電子機器 |
Related Parent Applications (1)
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