JP2022065315A

JP2022065315A - 重合性化合物及びそれを含有する液晶組成物

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Publication number: JP2022065315A
Application number: JP2020173812A
Authority: JP
Inventors: 典幸杉山; Noriyuki Sugiyama; 正直林; Masanao Hayashi; 豊門本; Yutaka Kadomoto
Original assignee: DIC Corp; Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Current assignee: DIC Corp
Priority date: 2020-10-15
Filing date: 2020-10-15
Publication date: 2022-04-27

Abstract

【課題】本発明が解決しようとする課題は、未反応の重合物残存量の低減が可能であり、また、焼き付き（ＩＳ）が十分に抑制された、又は発生しない液晶表示素子を提供することであり、速い重合速度、適切なチルト形成、高いチルト安定性、高い電圧保持率（ＶＨＲ）を同時に達成できる重合性化合物含有液晶組成物およびこれを用いたＰＳＡ型またはＰＳＶＡ型の液晶表示素子、ならびに上記重合性化合物含有液晶組成物の調製に好適な化合物を提供することにある。【解決手段】本願発明は特定の構造を有する重合性化合物、例えば一般式（Ｉ）【化１】TIFF2022065315000220.tif23116で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する液晶組成物及び当該液晶組成物を用いて製造されるＰＳＡ型またはＰＳＶＡ型の液晶表示素子を提供する。【選択図】なし

Description

本発明は、重合性化合物、及び当該化合物を含有する液晶組成物、更に当該液晶組成物の硬化物である光学異方体又は該液晶分子の配向を制御する硬化物を含有する液晶表示素子に関する。

液晶表示素子はテレビ用を初めとして広く使用されるに至っているが、有機ＥＬ、プラズマなどとの比較では応答速度に課題を有している。一方、液晶表示素子は視覚特性の改善のため画素をマルチドメインとすることが通常行われており、そのため画素中に突起構造物を設けて画素分割が行われる。
しかし突起物を設けた場合に突起の近傍と離れた部位のプレチルトに差があることから、離れた部位の応答速度が低下する問題がある。この問題を解消するために、構造物を使用せず、配向方法を改良して表示素子を構成することが一般化している。この方式としてＰＳＡ（ＰｏｌｙｍｅｒＳｕｓｔａｉｎｅｄＡｌｉｇｎｍｅｎｔ）型液晶表示装置、ＰＳＶＡ（ＰｏｌｙｍｅｒＳｔａｂｉｌｉｓｅｄＶｅｒｔｉｃａｌＡｌｉｇｎｍｅｎｔ）型液晶表示装置が開発されている。ＰＳＡやＰＳＶＡ型液晶表示素子は、非重合性液晶性組成物及び重合性化合物からなる重合性液晶組成物を基板間に配した状態で、場合により基板間に電圧を印加して液晶分子を配向させ、配向した状態で紫外線等を照射することにより、重合性化合物を重合させて液晶の配向状態を硬化物に記憶させている。
このような液晶表示素子の課題として、同一の表示を長時間継続した場合に発生する「焼き付き」などの信頼性の問題や保存安定性、及び製造プロセスに起因する生産性等の課題も残されている。信頼性の問題は、単純なものではなく、幾つかの複合的な要因によって引き起こされるものであるが、特に（１）残存した重合性化合物に起因するもの、（２）液晶分子の傾斜の変化（プレチルト角の変化）に起因するもの、及び（３）紫外線照射による液晶分子等の劣化に起因するものが挙げられる。

信頼性に関しては、重合開始剤を使用する場合は、重合性開始剤及びその分解物が、液晶表示素子の電圧保持率が低下や、焼き付けの原因となってしまう。従って、光重合開始剤を用いることなく、低紫外線量で重合が完結するような重合性化合物含有液晶組成物が求められる。また、焼き付きの発生には、重合性化合物を含有する液晶組成物における、液晶分子のプレチルト角の変化に起因するものも知られている。すなわち、残存した重合性化合物が、環境中の紫外線またはバックライトによって、重合することにより、表示素子を構成するポリマーの構造が変化し、その結果としてプレチルト角が変化してしまう。プレチルト角の変化は、応答速度に大きく影響を与えるため焼き付きの原因となる。さらに、環境中の紫外線またはバックライトは、液晶分子等の好ましくない分解反応を引き起こし、イオン性またはラジカル性の不純物を生成する可能性がある。これらは、特に、基板近傍に蓄積する可能性があり、比抵抗及びＶＨＲの低下を招く。以上のことから（１）～（３）を解決するためには、未反応の重合性化合物量を低減可能であり、液晶媒体中の不純物を捕集可能な重合性化合物含有液晶組成物の開発が求められている。
ＰＳＡやＰＳＶＡ型液晶表示素子に用いられる重合性液晶化合物として、例えばビフェニル骨格のアクリレートが知られている（特許文献１参照）。また、重合速度を高めるために、フルオレン骨格を有する重合性液晶化合物が知られている（特許文献２参照）。しかしながら、これらの従来の重合性液晶化合物は焼き付きなどの問題があり、改善が求められていた。

特開２００３－３０７７２０号公報特表２０１２－５２７４９５号公報

本発明が解決しようとする課題は、未反応の重合物残存量の低減が可能であり、また、焼き付き（ＩＳ）が十分に抑制された、又は発生しない液晶表示素子を提供することであり、速い重合速度、適切なチルト形成、高いチルト安定性、高い電圧保持率（ＶＨＲ）を同時に達成できる重合性化合物含有液晶組成物およびこれを用いたＰＳＡ型またはＰＳＶＡ型の液晶表示素子、ならびに上記重合性化合物含有液晶組成物の調製に好適な化合物を提供することにある。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の構造を有する重合性化合物が前述の課題を解決できることを見出して本願発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、一般式（Ｉ）

（式中、Ｗは－Ｓ－又は－Ｓ（＝Ｏ）２－を表し、
Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｐ^２－Ｓｐ^２－で表される基又は炭素原子数１～１２の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、
Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立して１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキシレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン－１，４－ジイル基、ピリジン－２，５－ジイル基、ピリミジン－２，５－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^１によって置換されても良く、Ｌ^１はＰ^３－Ｓｐ^３－で表される基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルファニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－が各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ｌ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
Ｐ^１、Ｐ^２及びＰ^３は各々独立して重合性基を表し、
Ｓｐ^１、Ｓｐ^２及びＳｐ^３は各々独立して単結合又は炭素原子数１～１２のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＯＣＯＯ－又は－Ｓ－に置き換えられても良く、
Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれ独立して単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＳＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｓ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｓ－、－ＳＣＦ_２－、－ＯＣＯ－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＯ－Ｏ－、－（Ｃ（Ｒ^ａ）_２）_ｎa－、－ＣＨ＝ＣＲ^ａ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＲ^ａ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＲ^ａ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＲ^ａ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－ＣＯＯ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－ＣＯＯ－、－ＣＨ_２－ＯＣＯ－、－ＣＲ^ａ＝ＣＲ^ａ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し（式中、Ｒ^ａは水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表し、ｎaは１から６の整数を表すが、Ｒ^ａが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子または塩素原子を表し、
ｎ^１及びｎ^２はそれぞれ独立して０～２の整数を表すが、ただしｎ^１＋ｎ^２は０～２の整数を表す。）
で表される重合性化合物である。

本発明の液晶組成物は、未反応の重合物残存量の低減が可能であり、また、焼き付き（ＩＳ）を十分に抑制できる前記特定の化学構造を有する化合物を１種または２種以上含有することで、速い重合速度、適切なチルト形成、高いチルト安定性、高ＶＨＲを同時に達成できる。また、本発明の液晶組成物を用いることで、焼き付き（ＩＳ）が十分に抑制されるか又は発生せず、優れた表示品位を示し、高精細の画素が形成された、ＰＳＡ型又はＰＳＶＡ型の液晶表示素子を提供することができる。

更に、本発明の重合性組成物及び重合性液晶組成物は保存時の結晶の析出や分離等によって評価される保存安定性も良好である。

まず、本発明の液晶組成物について説明する。なお以下の説明において、「総量」とは「総質量」を意味し、各化合物の含有量の単位「％」とは「質量％」を意味する。
（極性化合物）
本発明の液晶組成物は、液晶組成物中に存在する、イオン性化合物、ラジカル性化合物等の極性不純物を吸着し捕集する機能を備えた極性化合物を含有する。また前記極性化合物は構造中に極性基を有しているため、極性基は液晶組成物（液晶層）を挟持する基板表面に吸着し基板表面付近に偏在している。とりわけ、前記極性化合物が構造中に同時に重合性基を有する重合性極性化合物であることで、前記重合性極性化合物の重合によって得られた重合体の効果により、液晶組成物及び液晶層の比抵抗やＶＨＲを向上させることができる。

焼き付き（ＩＳ）の要因は、長時間経過後のプレチルト角変化によるものと考えられている。このプレチルト角変化は、液晶層内に残存した重合性化合物の重合により、表示素子を構成するポリマー構造を変化させるためと推察される。本発明においては、前記重合性極性化合物は液晶表示素子の基板表面とも相互作用し、液晶組成物中から基板表面へと移動、局在化しやすい。したがって、UV照射時には基板表面上にモノマーが集積した状態で効率的に重合が進行し、液晶層中に残存する重合性化合物を効果的に低減できることから、液晶組成物及び液晶層の焼き付き（ＩＳ）を低減する効果を示すものと考えられる。
また、比抵抗及びＶＨＲの低下の要因は、液晶層内に不純物が分散（拡散）していることによるものと考えられている。本発明においては、前記重合性極性化合物の重合によって得られる重合体が有する極性基が、不純物と結合あるいはこれに相当する極性引力を形成することで、上記不純物が上記重合性極性化合物の重合によって得られる重合体に固定されると推測される。このように、不純物が重合性極性化合物から得られる重合体に吸着されて捕集されることで、液晶層内全体に不純物が拡散されず、かつ基板表面付近に固定化できるため、不純物による比抵抗やＶＨＲの低下を抑制することができる。上記極性基は、例えば水素結合を介在するプロトンのドナーあるいはアクセプターといった役割を果たすことのできる構造が考えられ、ドナー及びアクセプターのどちらかの役割を果たすか、または両方の役割を果たしてもよい。

本発明によれば、式（Ｉ）で表される構造を有する極性化合物は液晶組成物への溶解性に優れるため析出が少なく、該極性化合物を重合性化合物含有液晶組成物に添加した場合、重合速度が十分に速く且つ十分に重合反応が進むため、重合後の未反応の重合性化合物の残留量が少ない重合性化合物含有液晶組成物とすることができる。

＜一般式（Ｉ）で表される化合物＞
一般式（Ｉ）において、Ｒ^１は、Ｐ^２－Ｓｐ^２－で表される基、又は基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－がそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよい炭素原子数１～１２の直鎖又は分岐のアルキル基を表することが好ましく、Ｐ^２－Ｓｐ^２－で表される基、又は基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－がそれぞれ独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよい炭素原子数１～８の直鎖又は分岐のアルキル基を表することがより好ましく、Ｐ^２－Ｓｐ^２－表される基又はアルコキシル基がさらに好ましく、Ｐ^２－Ｓｐ^２－で表される基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基又はｎ－ペントキシ基であることが特に好ましい。とりわけ、Ｒ^１がＰ^２－Ｓｐ^２－で表される基である場合、一般式（Ｉ）中には少なくとも２個の重合基を有することから、得られる重合体が架橋構造となるためプレチルト角変化を低減することが出来、ひいてはISを改善できることから好ましい。

Ｐ^１、Ｐ^２及びＰ^３は各々独立して重合性基を表す。ここで、Ｐ^１、Ｐ^２及びＰ^３はそれぞれ独立して式（Ｐ－１）から式（Ｐ－１８）から選ばれる基を表すことが好ましい。

これらの重合性基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合、及びアニオン重合により硬化する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｒ－１）、式（Ｒ－２）、式（Ｒ－４）、式（Ｒ－５）、式（Ｒ－７）、式（Ｒ－１１）、式（Ｒ－１４）又は式（Ｒ－１５）が好ましく、式（Ｒ－１）、式（Ｒ－２）、式（Ｒ－７）、式（Ｒ－１１）又は式（Ｒ－１４）がより好ましく、式（Ｒ－１）、式（Ｒ－２）が特に好ましい。

Ｓｐ^１、Ｓｐ^２及びＳｐ^３は各々独立して単結合又は炭素原子数１～１２のアルキレン基であることが好ましく、該アルキレン基中の１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＯＣＯＯ－又は－Ｓ－に置き換えられても良く、単結合又は炭素原子数１～６のアルキレン基がより好ましく、単結合が特に好ましい。このような重合性化合物から形成されたポリマーは、構造が変化しない剛直な構造を持つポリマーを形成するためプレチルトの変化が抑制されＰＳＡ，ＰＳＶＡ液晶表示素子に最適である。

Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立して１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキシレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン－１，４－ジイル基、ピリジン－２，５－ジイル基、ピリミジン－２，５－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を表すことが好ましく、１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキシレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン－１，４－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基又はデカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基を表すことがさらに好ましく、１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキシレン基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基又はデカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基を表すことが特に好ましい。これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^１によって置換されても良く、Ｌ^１はＰ^３－Ｓｐ^３－で表される基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルファニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－が各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ｌ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。

本発明に係る一般式（Ｉ）で表される化合物における環構造が全て芳香族であると、ＵＶ反応性に優れるという効果を示す。

Ｌ^１はＰ^３－Ｓｐ^３－で表される基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルファニル基、ニトロ基、シアノ基、又は、１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ｐ^３－Ｓｐ^３－で表される基、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、シアノ基、又は、１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－が各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＯＣＯＯ－によって置換されても良い炭素原子数１から５の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ｐ^３－Ｓｐ^３－で表される基、フッ素原子、塩素原子、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基がより好ましく、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。

Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれ独立して単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＳＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｓ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｓ－、－ＳＣＦ_２－、－ＯＣＯ－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＯ－Ｏ－、－（Ｃ（Ｒ^ａ）_２）_ｎa－、－ＣＨ＝ＣＲ^ａ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＲ^ａ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＲ^ａ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＲ^ａ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－ＣＯＯ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－ＣＯＯ－、－ＣＨ_２－ＯＣＯ－、－ＣＲ^ａ＝ＣＲ^ａ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し（式中、Ｒ^ａは水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表し、ｎaは１から６の整数を表すが、Ｒ^ａが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）を表すが、単結合、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ_２Ｈ_４－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＲ^ａ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＲ^ａ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＲ^ａ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＲ^ａ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－ＯＣＯ－が好ましく、単結合、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ_２Ｈ_４－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－又は－Ｃ≡Ｃ－であることがより好ましい。Ｚ^１及びＺ^２が、単結合、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ_２Ｈ_４－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－又は－Ｃ≡Ｃ－である化合物を使用すると、当該化合物を含む重合性液晶組成物（光学異方体に使用する組成物）を用いて製膜した膜が剛直な性質を示すというメリットがある。

Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子または塩素原子を表すが、液晶との相溶性を向上させる観点からＸ^１及びＸ^２の少なくともいずれか１つがフッ素原子を表すことが好ましく、Ｘ^１及びＸ^２が共にフッ素原子を表すことがより好ましい。

ｎ^１及びｎ^２はそれぞれ独立して０～２の整数を表すが、０又は１を表すことが好ましい。ｎ^１＋ｎ^２は０～２の整数を表すが、０又は１を表すことが好ましい。

一般式（I）で表される化合物としては、好ましくは一般式（I-A）又は（I-B）で表される化合物が挙げられる。

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｎ^１及びｎ^２は、一般式（Ｉ）中におけるＰ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｎ^１及びｎ^２と同じ意味を表す。）

また、一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の式（Ｉ－１）～式（Ｉ－１２）で表される化合物を好ましい例として挙げることもできる。

（式中、Ｒ^１、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｎ^１及びｎ^２は、一般式（Ｉ）中におけるＲ^１、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓｐ^１、Ｓｐ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｎ^１及びｎ^２と同じ意味を表す。）

本発明に係る一般式（Ｉ）で表される重合性化合物として、具体的には、式（Ｉ－１－１）から式（Ｉ－１００-２２）で表される化合物が好ましい。

本発明の化合物の製造方法は、特に限定されるものではないが、例えば以下の手順によって製造することができる。
（化合物の製造方法－１）

ジベンゾチオフェン環の合成法は広く知られており、特開２０１５－２０５８７９号公報に記載の方法などを参考にして合成できる。

（式中、Ｒ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２及びｎ^２は一般式（Ｉ）中のＲ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２及びｎ^２とそれぞれ同じ意味を表す。）
化合物（ａ）、イミダゾール等の塩基、ジクロロメタン等の溶媒を混合し、トリエチルシリルクロリドと反応させた後、適宜分液洗浄、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の精製を経て化合物（ｂ）を得ることができる。

（式中、Ｒ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２、ｎ^２、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ａ^１、Ｚ^１、Ｘ^１及びｎ^１は一般式（Ｉ）中のＲ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２、ｎ^２、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ａ^１、Ｚ^１、Ｘ^１及びｎ^１とそれぞれ同じ意味を表し、Ｐｇは水酸基の保護基、Ｘ^ｉ１はハロゲン原子を表す。）
上記化合物（ｂ）を、ジクロロビス［ジ－ｔ－ブチル（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］パラジウム（ＩＩ）等の触媒存在下、炭酸カリウム等の塩基、水、エタノール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の溶媒と混合し、化合物（ｃ）とのカップリング反応を行った後、適宜分液洗浄、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の精製を経て化合物（ｄ）を得ることができる。

（式中、Ｒ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２、ｎ^２、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ａ^１、Ｚ^１、Ｘ^１及びｎ^１は一般式（Ｉ）中のＲ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２、ｎ^２、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ａ^１、Ｚ^１、Ｘ^１及びｎ^１とそれぞれ同じ意味を表し、Ｐｇは水酸基の保護基、Ｘ^ｉ１はハロゲン原子を表す。）
上記化合物（ｄ）を、ピリジン等の塩基、ジクロロメタン等の溶媒と混合し、無水トリフルオロメタンスルホン酸等と反応させた後、適宜分液洗浄、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の精製を経て化合物（e）を得ることができる。

（式中、Ｒ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２、ｎ^２、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ａ^１、Ｚ^１、Ｘ^１及びｎ^１は一般式（Ｉ）中のＲ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２、ｎ^２、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ａ^１、Ｚ^１、Ｘ^１及びｎ^１とそれぞれ同じ意味を表し、、Ｘ^ｉ１はハロゲン原子を表す。）
上記化合物（ｅ）を、ビス[2-(ジフェニルホスフィノ)フェニル]エーテル等の配位子、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)等の触媒、炭酸カリウム等の塩基、トルエン等の溶媒と混合し、３－メルカプトプロピオン酸エチルと反応させた後、適宜分液洗浄、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の精製を経て化合物（ｆ）を得ることができる。

（式中、Ｒ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２、ｎ^２、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ａ^１、Ｚ^１、Ｘ^１及びｎ^１は一般式（Ｉ）中のＲ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２、ｎ^２、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ａ^１、Ｚ^１、Ｘ^１及びｎ^１とそれぞれ同じ意味を表し、Ｐｇは水酸基の保護基、Ｘ^ｉ１はハロゲン原子を表す。）
上記化合物（ｆ）を、ｔ-ブトキシカリウム等の塩基及びＴＨＦ等の溶媒と混合し反応させた後、適宜分液洗浄、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の精製を経て化合物（ｇ）を得ることができる。

（式中、Ｒ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２、ｎ^２、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ａ^１、Ｚ^１、Ｘ^１及びｎ^１は一般式（Ｉ）中のＲ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２、ｎ^２、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ａ^１、Ｚ^１、Ｘ^１及びｎ^１とそれぞれ同じ意味を表し、Ｐｇは水酸基の保護基を表す。）
上記化合物（ｇ）に対し、Pgの脱保護を行ったのち、得られた水酸基含有化合物に適切な重合基を付加することにより、目的である一般式（I-1）で表される化合物を得ることができる。例えば、Ｐｇがベンジル基の場合、５％パラジウムカーボン等の触媒存在下で接触水素還元を行うことで水酸基含有化合物を得ることができる。なお、上述した化合物の製造方法－1と同様の手法により、式（Ｉ－２）～式（Ｉ－６）で表される化合物を得ることができる。
（化合物の製造方法－２）

（式中、Ｒ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２、ｎ^２、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ａ^１、Ｚ^１、Ｘ^１及びｎ^１は一般式（Ｉ）中のＲ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２、ｎ^２、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ａ^１、Ｚ^１、Ｘ^１及びｎ^１とそれぞれ同じ意味を表し、Ｐｇは水酸基の保護基を表す。）
上記化合物（ｇ）を、過酸化水素水等の酸化剤と混合し反応させた後、適宜分液洗浄、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の精製を経て化合物（ｉ）を得ることができる。この時、酢酸等の酸を共存させることが好ましい。

（式中、Ｒ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２、ｎ^２、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ａ^１、Ｚ^１、Ｘ^１及びｎ^１は一般式（Ｉ）中のＲ^１、Ａ^２、Ｚ^２、Ｘ^２、ｎ^２、Ｐ^１、Ｓｐ^１、Ａ^１、Ｚ^１、Ｘ^１及びｎ^１とそれぞれ同じ意味を表し、Ｐｇは水酸基の保護基を表す。）
上記化合物（ｉ）に対し、Pgの脱保護を行ったのち、得られた水酸基含有化合物に適切な重合基を付加することにより、目的である一般式（I-７）で表される化合物を得ることができる。例えば、Ｐｇがベンジル基の場合、５％パラジウムカーボン等の触媒存在下で接触水素還元を行うことで水酸基含有化合物を得ることができる。なお、上述した化合物の製造方法－２と同様の手法により、式（Ｉ－８）～式（Ｉ－１２）で表される化合物を得ることができる。

前記各工程において記載した以外の反応条件として、例えば実験化学講座（日本化学会編、丸善株式会社発行）、ＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｅｓ（ＡＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）、ＢｅｉｌｓｔｅｉｎＨａｎｄｂｏｏｋｏｆＯｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ－ＩｎｓｔｉｔｕｔｆｕｅｒＬｉｔｅｒａｔｕｒｄｅｒＯｒｇａｎｉｓｃｈｅｎＣｈｅｍｉｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ－ＶｅｒｌａｇＢｅｒｌｉｎａｎｄＨｅｉｄｅｌｂｅｒｇＧｍｂＨ＆Ｃｏ．Ｋ）、Ｆｉｅｓｅｒｓ’ ＲｅａｇｅｎｔｓｆｏｒＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ（ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）等の文献に記載のもの又はＳｃｉＦｉｎｄｅｒ（ＣｈｅｍｉｃａｌＡｂｓｔｒａｃｔｓＳｅｒｖｉｃｅ，ＡｍｅｒｉｃａｎＣｈｅｍｉｃａｌＳｏｃｉｅｔｙ）、Ｒｅａｘｙｓ（ＥｌｓｅｖｉｅｒＬｔｄ．）等のデータベースに収載のものが挙げられる。

また、各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒の具体例としてはエタノール、テトラヒドロフラン、トルエン、ジクロロメタン、水等が挙げられる。有機溶媒及び水の二相系で反応を行う場合、相間移動触媒を添加することも可能である。相間移動触媒の具体例としてはベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。

また、各工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理等が挙げられる。精製剤の具体例としてはシリカゲル、ＮＨ_２シリカゲル、アルミナ、活性炭等が挙げられる。

（液晶組成物）
本実施形態の液晶組成物は、上記一般式（Ｉ）で表される部分構造を有する化合物を１種又は２種以上含有する。この液晶組成物は、負の誘電率異方性（Δε）を有することが好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、好ましくは０．０１～５０質量％であるが、その下限値は、液晶分子を更に好適に配向させられる観点から、液晶組成物全量を基準として、好ましくは、０．０１質量％以上、０．１質量％以上、０．５質量％以上、０．７質量％以上、又は１質量％以上である。化合物（ｉ）の含有量の上限値は、応答特性に優れる観点から、液晶組成物全量を基準として、好ましくは、５０質量％以下、３０質量％以下、１０質量％以下であり、７質量％以下、５質量％以下、４質量％以下、又は３質量％以下である。

液晶組成物は、非重合性液晶化合物として一般式（Ｎ－１）、（Ｎ－２）及び（Ｎ－３）：

のいずれかで表される化合物群から選ばれる化合物を更に含有してもよい。

式（Ｎ－１）、（Ｎ－２）及び（Ｎ－３）中、
Ｒ^Ｎ１１、Ｒ^Ｎ１２、Ｒ^Ｎ２１、Ｒ^Ｎ２２、Ｒ^Ｎ３１及びＲ^Ｎ３２は、それぞれ独立して炭素原子数１～８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は、それぞれ独立して、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、
Ａ^Ｎ１１、Ａ^Ｎ１２、Ａ^Ｎ２１、Ａ^Ｎ２２、Ａ^Ｎ３１及びＡ^Ｎ３２は、それぞれ独立して、
（ａ）１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－に置換されてもよい。）、
（ｂ）１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置換されてもよい。）、
（ｃ）ナフタレン－２，６－ジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基又はデカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基（ナフタレン－２，６－ジイル基又は１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置換されてもよい。）、及び
（ｄ）１，４－シクロヘキセニレン基
からなる群より選ばれる基を表し、前記の基（ａ）、基（ｂ）、基（ｃ）及び基（ｄ）は、それぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていてもよく、
Ｚ^Ｎ１１、Ｚ^Ｎ１２、Ｚ^Ｎ２１、Ｚ^Ｎ２２、Ｚ^Ｎ３１及びＺ^Ｎ３２は、それぞれ独立して、単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し、
Ｘ^Ｎ２１は、水素原子又はフッ素原子を表し、
Ｔ^Ｎ３１は、－ＣＨ_２－又は酸素原子を表し、
ｎ^Ｎ１１、ｎ^Ｎ１２、ｎ^Ｎ２１、ｎ^Ｎ２２、ｎ^Ｎ３１及びｎ^Ｎ３２は、それぞれ独立して０～３の整数を表すが、ｎ^Ｎ１１＋ｎ^Ｎ１２、ｎ^Ｎ２１＋ｎ^Ｎ２２及びｎ^Ｎ３１＋ｎ^Ｎ３２は、それぞれ独立して１、２又は３であり、
Ａ^Ｎ１１～Ａ^Ｎ３２、Ｚ^Ｎ１１～Ｚ^Ｎ３２がそれぞれ複数存在する場合は、それぞれは互いに同一であっても異なっていてもよい。

一般式（Ｎ－１）、（Ｎ－２）及び（Ｎ－３）のいずれかで表される化合物は、Δεが負でその絶対値が３よりも大きな化合物であることが好ましい。

一般式（Ｎ－１）、（Ｎ－２）及び（Ｎ－３）中、Ｒ^Ｎ１１、Ｒ^Ｎ１２、Ｒ^Ｎ２１、Ｒ^Ｎ２２、Ｒ^Ｎ３１及びＲ^Ｎ３２はそれぞれ独立して、炭素原子数１～８のアルキル基、炭素原子数１～８のアルコキシ基、炭素原子数２～８のアルケニル基又は炭素原子数２～８のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数１～５のアルコキシ基、炭素原子数２～５のアルケニル基又は炭素原子数２～５のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数２～５のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数２～５のアルキル基又は炭素原子数２～３のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数３のアルケニル基（プロペニル基）が特に好ましい。

また、それが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１～５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１～４のアルコキシ基及び炭素原子数４～５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１～５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１～４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２～５のアルケニル基が好ましい。ネマチック相を安定化させるためには炭素原子及び存在する場合酸素原子の合計が５以下であることが好ましく、直鎖状であることが好ましい。

アルケニル基としては、式（Ｒ１）から式（Ｒ５）のいずれかで表される基から選ばれることが好ましい（各式中の黒点は結合手を表す。）。

Ａ^Ｎ１１、Ａ^Ｎ１２、Ａ^Ｎ２１、Ａ^Ｎ２２、Ａ^Ｎ３１及びＡ^Ｎ３２はそれぞれ独立してΔｎを大きくすることが求められる場合には芳香族であることが好ましく、応答速度を改善するためには脂肪族であることが好ましく、トランス－１，４－シクロへキシレン基、１，４－フェニレン基、２－フルオロ－１，４－フェニレン基、３－フルオロ－１，４－フェニレン基、３，５－ジフルオロ－１，４－フェニレン基、２，３－ジフルオロ－１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキセニレン基、１，４－ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、ピペリジン－１，４－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基又は１，２，３，４－テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基を表すことが好ましく、下記の構造：

を表すことがより好ましく、トランス－１，４－シクロへキシレン基、１，４－シクロヘキセニレン基又は１，４－フェニレン基を表すことがより好ましい。

Ｚ^Ｎ１１、Ｚ^Ｎ１２、Ｚ^Ｎ２１、Ｚ^Ｎ２２、Ｚ^Ｎ３１及びＺ^Ｎ３２はそれぞれ独立して－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－又は単結合を表すことが好ましく、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－又は単結合が更に好ましく、－ＣＨ_２Ｏ－又は単結合が特に好ましい。

Ｘ^Ｎ２１はフッ素原子が好ましい。

Ｔ^Ｎ３１は酸素原子が好ましい。

ｎ^Ｎ１１＋ｎ^Ｎ１２、ｎ^Ｎ２１＋ｎ^Ｎ２２及びｎ^Ｎ３１＋ｎ^Ｎ３２は１又は２が好ましく、ｎ^Ｎ１１が１でありｎ^Ｎ１２が０である組み合わせ、ｎ^Ｎ１１が２でありｎ^Ｎ１２が０である組み合わせ、ｎ^Ｎ１１が１でありｎ^Ｎ１２が１である組み合わせ、ｎ^Ｎ１１が２でありｎ^Ｎ１２が１である組み合わせ、ｎ^Ｎ２１が１でありｎ^Ｎ２２が０である組み合わせ、ｎ^Ｎ２１が２でありｎ^Ｎ２２が０である組み合わせ、ｎ^Ｎ３１が１でありｎ^Ｎ３２が０である組み合わせ、ｎ^Ｎ３１が２でありｎ^Ｎ３２が０である組み合わせ、が好ましい。

本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ－１）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、１０質量％以上であり、２０質量％以上であり、３０質量％以上であり、４０質量％以上であり、５０質量％以上であり、５５質量％以上であり、６０質量％以上であり、６５質量％以上であり、７０質量％以上であり、７５質量％以上であり、８０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、９５質量％以下であり、８５質量％以下であり、７５質量％以下であり、６５質量％以下であり、５５質量％以下であり、４５質量％以下であり、３５質量％以下であり、２５質量％以下であり、２０質量％以下である。

本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ－２）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、１０質量％以上であり、２０質量％以上であり、３０質量％以上であり、４０質量％以上であり、５０質量％以上であり、５５質量％以上であり、６０質量％以上であり、６５質量％以上であり、７０質量％以上であり、７５質量％以上であり、８０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、９５質量％以下であり、８５質量％以下であり、７５質量％以下であり、６５質量％以下であり、５５質量％以下であり、４５質量％以下であり、３５質量％以下であり、２５質量％以下であり、２０質量％以下である。

本実施形態の組成物の総量に対しての式（Ｎ－３）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、１質量％以上であり、１０質量％以上であり、２０質量％以上であり、３０質量％以上であり、４０質量％以上であり、５０質量％以上であり、５５質量％以上であり、６０質量％以上であり、６５質量％以上であり、７０質量％以上であり、７５質量％以上であり、８０質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、９５質量％以下であり、８５質量％以下であり、７５質量％以下であり、６５質量％以下であり、５５質量％以下であり、４５質量％以下であり、３５質量％以下であり、２５質量％以下であり、２０質量％以下である。

本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い組成物が必要な場合は上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高く上限値が高いことが好ましい。

一般式（Ｎ－１）で表される化合物として、下記の一般式（Ｎ－１ａ）～（Ｎ－１ｇ）で表される化合物群を挙げることができる。

（式中、Ｒ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２は一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表し、ｎ^Ｎａ１１は０又は１を表し、ｎ^Ｎｂ１１は０又は１を表し、ｎ^Ｎｃ１１は０又は１を表し、ｎ^Ｎｄ１１は０又は１を表し、ｎ^Ｎｅ１１は１又は２を表し、ｎ^Ｎｆ１１は１又は２を表し、ｎ^Ｎｇ１１は１又は２を表し、Ａ^Ｎｅ１１はトランス－１，４－シクロへキシレン基又は１，４－フェニレン基を表し、Ａ^Ｎｇ１１はトランス－１，４－シクロへキシレン基、１，４－シクロヘキセニレン基又は１，４－フェニレン基を表すが少なくとも１つは１，４－シクロヘキセニレン基を表し、Ｚ^Ｎｅ ^１１は単結合又はエチレンを表すが少なくとも１つはエチレンを表す。）

より具体的には、一般式（Ｎ－１）で表される化合物は、一般式（Ｎ－１－１）～（Ｎ－１－２１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

一般式（Ｎ－１－１）で表される化合物は下記の化合物である。

（式中、Ｒ^Ｎ１１１及びＲ^Ｎ１１２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

Ｒ^Ｎ１１１は炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数２～５のアルケニル基が好ましく、プロピル基、ペンチル基又はビニル基が好ましい。Ｒ^Ｎ１１２は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数４～５のアルケニル基又は炭素原子数１～４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基又はブトキシ基が好ましい。

（式中、Ｒ^Ｎ１２１及びＲ^Ｎ１２２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^Ｎ１３１及びＲ^Ｎ１３２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^Ｎ１４１及びＲ^Ｎ１４２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^Ｎ１５１及びＲ^Ｎ１５２はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）
一般式（Ｎ－１－１０）で表される化合物は下記の化合物である。

（式中、Ｒ^{Ｎ１１０１}及びＲ^{Ｎ１１０２}はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^{Ｎ１１１１}及びＲ^{Ｎ１１１２}はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^{Ｎ１１２１}及びＲ^{Ｎ１１２２}はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^{Ｎ１１３１}及びＲ^{Ｎ１１３２}はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^{Ｎ１１４１}及びＲ^{Ｎ１１４２}はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^{Ｎ１１５１}及びＲ^{Ｎ１１５２}はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^{Ｎ１１６１}及びＲ^{Ｎ１１６２}はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^{Ｎ１１７１}及びＲ^{Ｎ１１７２}はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^{Ｎ１１８１}及びＲ^{Ｎ１１８２}はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^{Ｎ１２０１}及びＲ^{Ｎ１２０２}はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

（式中、Ｒ^{Ｎ１２１１}及びＲ^{Ｎ１２１２}はそれぞれ独立して、一般式（Ｎ－１）におけるＲ^Ｎ１１及びＲ^Ｎ１２と同じ意味を表す。）

一般式（Ｎ－１）～一般式（Ｎ－３）で表される化合物は、それぞれ単独で使用することもできるが、２以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば一つの実施形態としては１種類であり、２種類であり、３種類であり、４種類であり、５種類以上である。

Δεの改善を重視する場合には含有量を高めに設定することが好ましく、低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、Ｔ_ＮＩを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。

本実施形態の組成物の総量に対しての一般式（Ｎ－１）～一般式（Ｎ－３）で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、１０質量％以上であり、１３質量％以上であり、１５質量％以上であり、１７質量％以上であり、２０質量％以上であり、２３質量％以上であり、２５質量％以上であり、２７質量％以上であり、３０質量％以上であり、３３質量％以上であり、３５質量％以上である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、５０質量％以下であり、４０質量％以下であり、３８質量％以下であり、３５質量％以下であり、３３質量％以下であり、３０質量％以下であり、２８質量％以下であり、２５質量％以下であり、２３質量％以下であり、２０質量％以下であり、１８質量％以下であり、１５質量％以下であり、１３質量％以下であり、１０質量％以下であり、８質量％以下であり、７質量％以下であり、６質量％以下であり、５質量％以下であり、３質量％以下である。

さらに、一般式（Ｎ－１－１）で表される化合物は、式（Ｎ－１－１．１）から式（Ｎ－１－１．２３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（Ｎ－１－１．１）～（Ｎ－１－１．４）で表される化合物であることが好ましく、式（Ｎ－１－１．１）及び式（Ｎ－１－１．３）で表される化合物が好ましい。

式（Ｎ－１－１．１）～（Ｎ－１－１．２２）で表される化合物は単独で使用することも、組み合わせて使用することも可能であるが、本実施形態の組成物の総量に対しての単独又はこれら化合物の好ましい含有量の下限値は、５質量％以上であり、上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、５０質量％以下である。

また、液晶組成物は、非重合性液晶化合物として誘電率異方性が０程度である、いわゆる非極性液晶化合物を含有してもよい。非極性液晶化合物としては以下の一般式（ＬＣ６）で示される化合物を挙げることができる。

（式中、Ｒ^ＬＣ６１及びＲ^ＬＣ６２はそれぞれ独立して炭素原子数１～１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の－ＣＨ_２－は、酸素原子が直接隣接しないように、－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－Ｃ≡Ｃ－で置換されてよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の水素原子は任意にハロゲン置換されていてもよく、Ａ^ＬＣ６１～Ａ^ＬＣ６３はそれぞれ独立して下記

（該構造中シクロヘキシレン基中の１つ又は２つ以上の－ＣＨ_２ＣＨ_２－は－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－で置換されていてもよく、１，４－フェニレン基中１つ又は２つ以上のＣＨ基は窒素原子で置換されていてもよい。）のいずれかを表し、Ｚ^ＬＣ６１及びＺ^ＬＣ６２はそれぞれ独立して単結合、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－又は－ＣＦ_２Ｏ－を表し、ｍ^Ｌｃ６は０～３を表す。ただし、一般式（ＬＣ１）～一般式（ＬＣ５）で表される化合物、及び一般式（ｉ）を除く。）
Ｒ^ＬＣ６１及びＲ^ＬＣ６２は、それぞれ独立して、炭素原子数１～７のアルキル基、炭素原子数１～７のアルコキシ基、炭素原子数２～７のアルケニル基が好ましく、アルケニル基としては下記構造を表すことが最も好ましく、

（式中、環構造へは右端で結合するものとする。）
Ａ^ＬＣ６１～Ａ^ＬＣ６３はそれぞれ独立して下記の構造が好ましく、

Ｚ^ＬＣ６１及びＺ^ＬＣ６２はそれぞれ独立して単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－又は－ＣＦ_２Ｏ－が好ましい。

一般式（ＬＣ６）は、一般式（ＬＣ６－ａ）から一般式（ＬＣ６－ｍ）

（式中、Ｒ^ＬＣ６１及びＲ^ＬＣ６２はそれぞれ独立して炭素原子数１～７のアルキル基、炭素原子数１～７のアルコキシ基、炭素原子数２～７のアルケニル基又は炭素原子数２～７のアルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物からなる群より選ばれる１種又は２種以上の化合物であるのがより好ましい。

本発明では、本発明の重合性開始剤化合物のみでも良いが、液晶の配向安定性を向上させるにはさらにメソゲン構造を有する重合性化合物を併用することが好ましい。重合性化合物は、液晶組成物に用いられる公知の重合性化合物であってよい。重合性化合物の例としては、一般式（Ｐ）で表される化合物を１種又は２種以上含有することが好ましい。

（上記一般式（Ｐ）中、Ｒ^ｐ１は、水素原子、フッ素原子、シアノ基、炭素原子数１～１５のアルキル基又は－Ｓｐ^ｐ２－Ｐ^ｐ２を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、該アルキル基中の１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
Ｐ^ｐ１及びＰ^ｐ２はそれぞれ独立して、一般式（Ｐ^ｐ１－１）から式（Ｐ^ｐ１－９）：

（式中、Ｒ^ｐ１１及びＲ^ｐ１２はそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基を表し、Ｗ^ｐ１１は単結合、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、炭素原子数１～５のアルキレン基を表し、ｔ^ｐ１１は、０、１又は２を表すが、分子内にＲ^ｐ１１、Ｒ^ｐ１２、Ｗ^ｐ１１及び／又はｔ^ｐ１１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。）のいずれかを表し、
Ｓｐ^ｐ１及びＳｐ^ｐ２はそれぞれ独立して、単結合又はスペーサ基を表し、
Ｚ^ｐ１及びＺ^ｐ２はそれぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ_２Ｈ_４－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＯＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＯＯ－、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ^ＺＰ１－、－ＮＲ^ＺＰ１－ＣＯ－、－ＳＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｓ－、－ＣＨ＝ＣＲ^ＺＰ１－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＲ^ＺＰ１－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＲ^ＺＰ１＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＲ^ＺＰ１＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＲ^ＺＰ１＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＯＯ－ＣＲ^ＺＰ１＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＯＣＯ－ＣＲ^ＺＰ１＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＣＲ^ＺＰ１＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－（ＣＨ_２）_ｚ－ＣＯＯ－、－（ＣＨ_２）_ｚ－ＯＣＯ－、－ＯＣＯ－（ＣＨ_２）_ｚ－、－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－ＣＦ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＦ－、－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－又は－Ｃ≡Ｃ－（式中、ｚはそれぞれ独立して１～４の整数を表し、Ｒ^ＺＰ１はそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１～４のアルキル基を表すが、分子内にＲ^ＺＰ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。なお、式中の＊はＳｐ^ｐ１又はＳｐ^ｐ２への結合点を表す。）
を表し、

Ａ^ｐ１及びＡ^ｐ２はそれぞれ独立して、
（ａ^ｐ）１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－に置き換えられてもよい。）
（ｂ^ｐ）１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）及び
（ｃ^ｐ）ナフタレンジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレンジイル基、デカヒドロナフタレンジイル基、フェナントレン－２，７－ジイル基又はアントラセン－２，６－ジイル基（これら基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられても良い。）
からなる群より選ばれる基を表し、
Ａ^ｐ３は上記の基（ａ^ｐ）、基（ｂ^ｐ）及び基（ｃ^ｐ）、ならびに単結合からなる群より選ばれる基を表し、
上記の基（ａ^ｐ）、基（ｂ^ｐ）及び基（ｃ^ｐ）は、それぞれ独立して、この基中に存在する水素原子は、シアノ基、ハロゲン原子、炭素原子数１～８のアルキル基、炭素数１～８のアルコキシ基、炭素原子数１～８のアルケニル基又は－Ｓｐ^ｐ２－Ｐ^ｐ２で置換されていても良く、
ｍ^ｐ１は、０、１、２又は３を表し、分子内にＺ^ｐ１、Ａ^ｐ２、Ｓｐ^ｐ２及び／又はＰ^ｐ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良いが、
ｍ^ｐ１が０であり且つＡ^ｐ１がナフタレンジイル基、フェナントレン－２，７－ジイル基又はアントラセン－２，６－ジイル基以外の基である場合は、Ａ^ｐ３は単結合以外の基を表す。）
一般式（Ｐ）で表される重合性液晶化合物の具体的な例として（Ｐ－２－１）～（Ｐ－２－２５）に表す。ここでａ、ｂは、２～１０の整数を表す。

また本願発明の重合性化合物を含有する液晶組成物は、光重合開始剤が存在しない場合でも重合は進行するが、重合を促進するために光重合開始剤を含有しても良い。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。特にアセトフェノン類、ベンジルケタール類が好ましく、例えば１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン「オムニラッド１８４」、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン「オムニラッド１１７３」、２－メチル－１－［（メチルチオ）フェニル］－２－モリホリノプロパン－１「オムニラッド９０７」、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン「オムニラッド３６９」）、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチルベンジル）－１－（４－モルフォリノ－フェニル）ブタン－１－オン「オムニラッド３７９」、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－ジフェニルフォスフィンオキサイド「オムニラッドＴＰＯ」、２，４，６－トリメチルベンゾイル－フェニル－フォスフィンオキサイド「オムニラッド８１９」（ＩＧＭＲｅｓｉｎｓ株式会社製）、１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］，２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン「イルガキュア６５１」、エタノン「イルガキュアＯＸＥ０１」）、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）「イルガキュアＯＸＥ０２」、「イルガキュアＯＸＥ０４」（ＢＡＳＦ株式会社製）、「アデカアークルズＮＣＩ－８３１」、「アデカアークルズＮＣＩ－９３０」、「アデカアークルズＮ－１９１９」（ＡＤＥＫＡ社製）、２，４－ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）とｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサントン（ワ－ドプレキンソップ社製「カンタキュア－ＩＴＸ」）とｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物、「エサキュアＯＮＥ」、「エサキュアＫＩＰ１５０」、「エサキュアＫＩＰ１６０」、「エサキュア１００１Ｍ」、「エサキュアＡ１９８」、「エサキュアＫＩＰＩＴ」、「エサキュアＫＴＯ４６」、「エサキュアＴＺＴ」（ｌａｍｂｅｒｔｉ株式会社製）、「スピードキュアＢＭＳ」、「スピードキュアＰＢＺ」、「ベンゾフェノン」（ＬＡＭＢＳＯＮ社製）等が挙げられる。さらに、光カチオン開始剤としては、光酸発生剤を用いることができる。光酸発生剤としてはジアゾジスルホン系化合物、トリフェニルスルホニウム系化合物、フェニルスルホン系化合物、スルフォニルピリジン系化合物、トリアジン系化合物及びジフェニルヨードニウム化合物などが挙げられる。

本願発明の重合性化合物を含む液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、さらに他の安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン類、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β－ナフチルアミン類、β－ナフトール類、ニトロソ化合物等や下記（ＡＤ－１）～（ＡＤ－１１）等のヒンダードフェノール類、本発明以外のヒンダードアミン類が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、液晶組成物に対して０．００５～１質量％の範囲が好ましく、０．０２～０．５質量％が更に好ましく、０．０３～０．１質量％が特に好ましい。安定剤の具体的構造を下記の（ＡＤ－１）～（ＡＤ－１１）に示す。

（液晶表示素子）
本実施形態の液晶組成物は、液晶表示素子に適用される。液晶表示素子は、アクティブマトリックス駆動用液晶表示素子であってよい。液晶表示素子は、ＰＳＡモード、ＰＳＶＡモード、ＰＳ－ＩＰＳモード又はＰＳ－ＦＦＳモード用液晶表示素子であってよく、好ましくはＰＳＡモードの液晶表示素子である。

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は特段の指定のない限り『質量％』を意味する。また、実施例中の収率は、常法のＧＣ分析により確認することができる。
以下、下記の略語を使用する。
Ｍｅ：メチル基
Ｅｔ：エチル基
Ｂｕ：ブチル基
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＮＭＰ：Ｎ－メチルピロリドン
ａｍｐｈｏｓ：ジ－ｔ－ブチル（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ホスフィン
ＤＭＡＰ：Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン
ＤＩＣ：Ｎ，Ｎ’－ジイソプロピルカルボジイミド
Ｃｒ：結晶
Ｉｓｏ：等方性液体
実施例１（ＲＭ－１の合成）

２－クロロ－６－フルオロフェノール（４４．１ｇ、３００ｍｍｏｌ）、イミダゾール（２４．６ｇ、３６０ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（３００ｍＬ）を混合し、氷冷下、トリエチルシリルクロリド（５４．３ｇ、３６０ｍｍｏｌ）を滴下した。反応溶液を室温にて１時間撹拌後、水及びジクロロメタンを加えて分液し、水層をジクロロメタンで抽出し、あわせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル７５ｇ、移動相：ヘキサン）により精製することにより、（Ｓ－２）に示す化合物（８１．３ｇ）を得た。

窒素雰囲気下、（Ｓ－２）（４０．０ｇ、１５３ｍｍｏｌ）、（４－エトキシ２，３－ジフルオロフェニル）ボロン酸（３３．９ｇ、１６８ｍｍｏｌ）、ジクロロビス［ジ－ｔ－ブチル（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］パラジウム（ＩＩ）（５．２ｇ、７．６ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（２００ｍＬ）を混合し、６０℃に加熱した。加熱下、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（１２６ｍＬ、３３６ｍｍｏｌ）を滴下し、６０℃にて１．５時間撹拌した。氷冷した反応液を、濃塩酸と氷の混合物に加え、１時間撹拌した。水層を分離後、トルエンで２回抽出し、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０ｇ、移動相：トルエン）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒から再結晶することにより、（Ｓ－４）に示す化合物（３３．７ｇ、収率８２％）を得た。

窒素雰囲気下、（Ｓ－４）（３０．０ｇ、１１２ｍｍｏｌ）、ピリジン（２１．８、２８０ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（１２０ｍＬ）を混合し、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（３４．７ｇ、１２３ｍｍｏｌ）を滴下した。反応液を室温にて２時間攪拌後、水及びジクロロメタンを加えて分液し、水層をジクロロメタンで抽出し、あわせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３０ｇ、移動相：ヘキサン／酢酸エチル）により精製し、（Ｓ－５）に示す化合物（３５．９ｇ）を得た。

窒素雰囲気下、（Ｓ－５）（２０ｇ、５０ｍｍｏｌ）、３－メルカプトプロピオン酸エチル（７．４ｇ、５５ｍｍｏｌ）、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)（２．３ｇ、２．５ｍｍｏｌ）、ビス[2-(ジフェニルホスフィノ)フェニル]エーテル（２．７ｇ、５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１７．３ｇ、１２５ｍｍｏｌ）及びトルエン（ｍＬ）を混合し、１１０℃に加熱した。加熱下、１５時間撹拌後、水層を分離後、トルエンで２回抽出し、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５ｇ、移動相：ヘキサン／酢酸エチル）により精製することにより、（Ｓ－６）に示す化合物（６．３ｇ、収率３３％）を得た。

窒素雰囲気下、（Ｓ－６）（６．３ｇ、１６．５ｍｍｏｌ）、カリウムｔ－ブトキシド（２．８ｇ、２４．９ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（３１．５ｍＬ）を混合し、５０℃に加熱した。加熱下、８時間撹拌後、室温下にて水を注ぎ、トルエンで２回抽出し、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５ｇ、移動相：ヘキサン／酢酸エチル）により精製し、続いてヘキサン／エタノール混合溶媒から再結晶することにより、（Ｓ－７）に示す化合物（３．１ｇ、収率７１％）を得た。

窒素雰囲気下、（Ｓ－７）（５．０ｇ、１９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５０ｍＬ）溶液に、１．６ｍｏｌ／Ｌノルマルブチルリチウムヘキサン溶液（１４ｍＬ、２３ｍｍｏｌ）を－６０℃で滴下し、１時間攪拌した後、ほう酸トリメチル（２．６ｇ、２５ｍｍｏｌ）を－６０℃で滴下し、０．５時間攪拌した。室温まで昇温させ、水及び飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、水層をトルエン／ＴＨＦ混合溶媒で抽出後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去し、得られた固体をトルエンで３回懸濁洗浄することにより、（Ｓ－８）（４．４ｇ、収率７５％）を得た。

大気下、（Ｓ－８）（４．４ｇ、１４．４ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（２０ｍＬ）の混合物に、室温にて過酸化水素水（３０％水溶液、２．１ｇ、１８ｍｍｏｌ）を滴下し、炭酸水素ナトリウム（３６ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）を加え、４０℃にて５時間加熱撹拌した。氷冷下、亜硫酸ナトリウム１０％水溶液、飽和食塩水を加え、水層を酢酸エチルで３回抽出後、あわせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル４ｇ、移動相：トルエン／酢酸エチル＝１／１）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－９）（３．９ｇ、収率９７％）を得た。

大気下、（Ｓ－９）（３．４ｇ、１２ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（１．２ｇ、１４ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（３７ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（４０ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（１．６ｇ、１３ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを３ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（５０ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－１（３．８ｇ、収率９１％）を得た。
^１ＨＮＭＲ：（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝１．３４（ｔ，３Ｈ），２．０１（ｓ，３Ｈ）、４．０７（ｑ，２Ｈ）、６．１８（ｓ，１Ｈ），６．４６（ｓ，１Ｈ），７．１７-７．３０（ｍ，２Ｈ），７．７９－７．８２（ｍ，２Ｈ）
［Ｍ］：３４８
実施例２（ＲＭ－２の合成）

（Ｓ－８）と同様の製造方法により得た（Ｓ－１０）（５．２ｇ、１４ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（２０ｍＬ）の混合物に、室温にて過酸化水素水（３０％水溶液、２．１ｇ、１８ｍｍｏｌ）を滴下し、炭酸水素ナトリウム（３６ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）を加え、４０℃にて５時間加熱撹拌した。氷冷下、亜硫酸ナトリウム１０％水溶液、飽和食塩水を加え、水層を酢酸エチルで３回抽出後、あわせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル４ｇ、移動相：トルエン／酢酸エチル＝１／１）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－１１）（４．５ｇ、収率９４％）を得た。

耐圧反応容器に（Ｓ－１１）（４．５ｇ、１３．１ｍｍｏｌ）、パラジウム炭素１．１ｇ及びＴＨＦ（６８．４ｍＬ）を加え、水素圧０．５ＭＰａで、１０時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－１５）で表される化合物（３．２ｇ、収率９６％）を得た。

大気下、（Ｓ－１２）（２．７ｇ、１０．７ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（２．６ｇ、３０ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（９０ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（４０ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（３．７ｇ、２９ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを３ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（５０ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－２（３．９ｇ、収率９４％）を得た。
^１ＨＮＭＲ：（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝２．０１（ｓ，６Ｈ），６．１８（ｓ，２Ｈ），６．４６（ｓ，２Ｈ），７．３０（ｄｄ，２Ｈ），７．７９（ｄ，２Ｈ）
［Ｍ］：３８８
実施例３（ＲＭ－３）

窒素雰囲気下、（Ｓ－１０）（１５．０ｇ、４１ｍｍｏｌ）、２－（４－ブロモフェノキシ）テトラヒドロー２Ｈ―ピラン（１１．５ｇ、４５ｍｍｏｌ）、ジクロロビス［ジ－ｔ－ブチル（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］パラジウム（ＩＩ）（１．４ｇ、２．０ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（９０ｍＬ）を混合し、６０℃に加熱した。加熱下、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（５０．５ｍＬ、１０１ｍｍｏｌ）を滴下し、６０℃にて１．５時間撹拌した。氷冷した反応液を、濃塩酸と氷の混合物に加え、１時間撹拌した。水層を分離後、トルエンで２回抽出し、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２０ｇ、移動相：トルエン）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒から再結晶することにより、（Ｓ－１４）に示す化合物（１７．３ｇ、収率８５％）を得た。

耐圧反応容器に（Ｓ－１４）（１１．５ｇ、２３ｍｍｏｌ）、パラジウム炭素１．１ｇ及びＴＨＦ（６８．４ｍＬ）を加え、水素圧０．５ＭＰａで、１０時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－１５）で表される化合物（８．２ｇ、収率８７％）を得た。

窒素雰囲気下、（Ｓ－１５）（６．０ｇ、１４．６ｍｍｏｌ）テトラヒドロフラン３０ｍｌに溶解させ、室温で２Ｎの塩酸１２ｍｌを加え６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル６０ｍｌ加え、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－１６）で表される化合物（４．６ｇ、収率９６％）を得た。

大気下、（Ｓ－１６）（３．３ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（２．３ｇ、２６ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（４９ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１５ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（３．０ｇ、２４ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを３ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（１８ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－３（４．２ｇ、収率９０％）を得た。
［Ｍ］：４６４
実施例４（ＲＭ－４の合成）

窒素雰囲気下、（Ｓ－８）（２０．０ｇ、６５ｍｍｏｌ）、４－ブロモ－２－（３－ヒドロキシプロピル）フェノール（１６．５ｇ、７１．４ｍｍｏｌ）、ジクロロビス［ジ－ｔ－ブチル（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］パラジウム（ＩＩ）（２．３ｇ、３．３ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（１２０ｍＬ）を混合し、６０℃に加熱した。加熱下、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（８１ｍＬ、１６２ｍｍｏｌ）を滴下し、６０℃にて１．５時間撹拌した。氷冷した反応液を、濃塩酸と氷の混合物に加え、１時間撹拌した。水層を分離後、トルエンで２回抽出し、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２５ｇ、移動相：トルエン）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒から再結晶することにより、（Ｓ－１７）に示す化合物（２３．７ｇ、収率８８％）を得た。

大気下、（Ｓ－１７）（４．９ｇ、１１．８ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（２．９ｇ、３４ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（７２ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（２０ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（３．６ｇ、２８．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを４ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（２０ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－４（５．７ｇ、収率８８％）を得た。
［Ｍ］：５５０
実施例５（ＲＭ－５の合成）

窒素雰囲気下、（Ｓ－１０）（１６．０ｇ、４３ｍｍｏｌ）、２－（（４’－ブロモ［１、１’－ビフェニル］－４－イル）オキシ）テトラヒドロー２Ｈ―ピラン（１５．８ｇ、４７．５ｍｍｏｌ）、ジクロロビス［ジ－ｔ－ブチル（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］パラジウム（ＩＩ）（１．５ｇ、２．２ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（９６ｍＬ）を混合し、６０℃に加熱した。加熱下、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（５４ｍＬ、１０８ｍｍｏｌ）を滴下し、６０℃にて１．５時間撹拌した。氷冷した反応液を、濃塩酸と氷の混合物に加え、１時間撹拌した。水層を分離後、トルエンで２回抽出し、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２０ｇ、移動相：トルエン）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒から再結晶することにより、（Ｓ－１９）に示す化合物（２０．５ｇ、収率８２％）を得た。

耐圧反応容器に（Ｓ－１９）（１２ｇ、２１ｍｍｏｌ）、パラジウム炭素１．２ｇ及びＴＨＦ（７２ｍＬ）を加え、水素圧０．５ＭＰａで、１０時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－２０）で表される化合物（９．２ｇ、収率９１％）を得た。

窒素雰囲気下、（Ｓ－２０）（７．０ｇ、１４．３ｍｍｏｌ）テトラヒドロフラン３５ｍｌに溶解させ、室温で２Ｎの塩酸１４ｍｌを加え６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル７０ｍｌ加え、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－２１）で表される化合物（５．４ｇ、収率９３％）を得た。

大気下、（Ｓ－２１）（５．０ｇ、１０．２ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（３．０ｇ、３４．６ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（７６ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（２５ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（３．４ｇ、２６．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを４ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（２０ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－５（６．２ｇ、収率９３％）を得た。
［Ｍ］：５４０
実施例６（ＲＭ－６の合成）

窒素雰囲気下、（Ｓ－１２）（１０．１ｇ、４０ｍｍｏｌ）、ピリジン（７．８、１００ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（４０．４ｍＬ）を混合し、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（１２．４ｇ、４４．１ｍｍｏｌ）を滴下した。反応液を室温にて２時間攪拌後、水及びジクロロメタンを加えて分液し、水層をジクロロメタンで抽出し、あわせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１０ｇ、移動相：ヘキサン／酢酸エチル）により精製し、（Ｓ－２２）に示す化合物（１８．４ｇ）を得た。

窒素雰囲気下、（Ｓ－２２）（１６．０ｇ、３１ｍｍｏｌ）、（４－ヒドロキシフェニル）ホウ酸（９．０ｇ、６５ｍｍｏｌ）、ジクロロビス［ジ－ｔ－ブチル（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］パラジウム（ＩＩ）（１．１ｇ、１．６ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（９６ｍＬ）を混合し、６０℃に加熱した。加熱下、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（３９ｍＬ、７８ｍｍｏｌ）を滴下し、６０℃にて１．５時間撹拌した。氷冷した反応液を、濃塩酸と氷の混合物に加え、１時間撹拌した。水層を分離後、トルエンで２回抽出し、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２４ｇ、移動相：トルエン）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒から再結晶することにより、（Ｓ－２４）に示す化合物（１０．９ｇ、収率８７％）を得た。

大気下、（Ｓ－２４）（３．７ｇ、９．２ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（２．２ｇ、２５．６ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（５６ｍｇ、０．４６ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１９ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（３．０ｇ、２３．８ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを３ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル４ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（１７ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－６（４．２ｇ、収率８４％）を得た。
［Ｍ］：５４０
実施例７（ＲＭ－７の合成）

窒素雰囲気下、（Ｓ－１５）（８．０ｇ、１９．４ｍｍｏｌ）、ピリジン（３．８、４８．５ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（３２ｍＬ）を混合し、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（６．０ｇ、２１．３ｍｍｏｌ）を滴下した。反応液を室温にて２時間攪拌後、水及びジクロロメタンを加えて分液し、水層をジクロロメタンで抽出し、あわせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル８ｇ、移動相：ヘキサン／酢酸エチル）により精製し、（Ｓ－２５）に示す化合物（９．４ｇ、収率８９％）を得た。

窒素雰囲気下、（Ｓ－２５）（７．２ｇ、１３．２ｍｍｏｌ）、（４－ヒドロキシフェニル－３－（３－ヒドロキシプロピル）フェニル）ホウ酸（２．９ｇ、１４．６ｍｍｏｌ）、ジクロロビス［ジ－ｔ－ブチル（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］パラジウム（ＩＩ）（０．５ｇ、０．７ｍｍｏｌ）、及びＴＨＦ（４４ｍＬ）を混合し、６０℃に加熱した。加熱下、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（１６．５ｍＬ、３３ｍｍｏｌ）を滴下し、６０℃にて１．５時間撹拌した。氷冷した反応液を、濃塩酸と氷の混合物に加え、１時間撹拌した。水層を分離後、トルエンで２回抽出し、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２５ｇ、移動相：トルエン）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒から再結晶することにより、（Ｓ－２６）に示す化合物（６．４ｇ、収率８８％）を得た。

窒素雰囲気下、（Ｓ－２６）（５．０ｇ、９．２ｍｍｏｌ）テトラヒドロフラン２５ｍｌに溶解させ、室温で２Ｎの塩酸１０ｍｌを加え６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル５０ｍｌ加え、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－２７）で表される化合物（３．９ｇ、収率９２％）を得た。

大気下、（Ｓ－２７）（２．５ｇ、５．４ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（１．８ｇ、２０．５ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（５３ｍｇ、０．４３ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１０ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（２．３ｇ、１８．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを１ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（１７ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－７（３．３ｇ、収率９２％）を得た。
［Ｍ］：６６６
実施例８（ＲＭ－８の合成）

窒素雰囲気下、（Ｓ－１１）（１４．０ｇ、４０．９ｍｍｏｌ）、３，４－ジヒドロ－２Ｈ－ピラン（４．１ｇ、４９ｍｍｏｌ）、ｐ-トルエンスルホン酸ピリジニウム（０．５ｇ、２．０ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（５６ｍＬ）を混合し、室温で４時間攪拌した。反応終了後、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－２８）で表される化合物（１５．０ｇ、収率８６％）を得た。

耐圧反応容器に（Ｓ－２８）（１０ｇ、２３．５ｍｍｏｌ）、パラジウム炭素１．０ｇ及びＴＨＦ（６０ｍＬ）を加え、水素圧０．５ＭＰａで、１０時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－２９）で表される化合物（７．３ｇ、収率９３％）を得た。

大気下、（Ｓ－２９）（４．１ｇ、１２．２ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（１．４ｇ、１５．９ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（７４ｍｇ、０．６１ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（２１ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（４．０ｇ、３１．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを３ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル４ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（１５ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、（Ｓ－３０）で表される化合物（４．４ｇ、収率８９％）を得た。

大気下、（Ｓ－３０）（４．０ｇ、１０．１ｍｍｏｌ）テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解させ、室温で２Ｎの塩酸（８ｍＬ）を加え６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（４０ｍＬ）加え、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－３１）で表される化合物（２．７ｇ、収率８４％）を得た。

大気下、（Ｓ－３１）（１．８ｇ、５．６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．６３ｇ、６．２ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（９ｍＬ）を混合し、氷冷下、アクリル酸クロリド（０．６１ｇ、６．７ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で４時間攪拌した。反応終了後、１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを２ｇ加えた。これをシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル３ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（８ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－８（１．７ｇ、収率８１％）を得た。
［Ｍ］：３７４
実施例９（ＲＭ－９の合成）

大気下、（Ｓ－１５）（７．０ｇ、１７．０ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（１．９ｇ、２２．１ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（４１ｍｇ、０．３４ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（２８ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（２．６ｇ、２０．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを５ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（２０ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、（Ｓ－３２）で表される化合物（６．４ｇ、収率７８％）を得た。

大気下、（Ｓ－３２）（４．３ｇ、９．０ｍｍｏｌ）テトラヒドロフラン（２６ｍＬ）に溶解させ、室温で２Ｎの塩酸（８．６ｍＬ）を加え６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（３５ｍＬ）加え、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－３３）で表される化合物（３．４ｇ、収率９６％）を得た。

大気下、（Ｓ－３３）（２．１ｇ、５．３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．５９ｇ、５．８ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１０．５ｍＬ）を混合し、氷冷下、アクリル酸クロリド（０．５８ｇ、６．４ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で４時間攪拌した。反応終了後、１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを２ｇ加えた。これをシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル３ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（８ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－９（２．２ｇ、収率９２％）を得た。
［Ｍ］：４５０
実施例１０（ＲＭ－１０の合成）

窒素雰囲気下、（Ｓ－２５）（１６．０ｇ、２９ｍｍｏｌ）、（４－ヒドロキシフェニル）ホウ酸（４．５ｇ、３２ｍｍｏｌ）、ジクロロビス［ジ－ｔ－ブチル（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］パラジウム（ＩＩ）（１．０ｇ、１．５ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（９６ｍＬ）を混合し、６０℃に加熱した。加熱下、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（３７ｍＬ、７４ｍｍｏｌ）を滴下し、６０℃にて１．５時間撹拌した。氷冷した反応液を、濃塩酸と氷の混合物に加え、１時間撹拌した。水層を分離後、トルエンで２回抽出し、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２４ｇ、移動相：トルエン）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒から再結晶することにより、（Ｓ－３４）に示す化合物（１３．２ｇ、収率９２％）を得た。

大気下、（Ｓ－３４）（１０．０ｇ、２０．５ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（２．３ｇ、２６．６ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（５０ｍｇ、０．４１ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（４０ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（３．１ｇ、２４．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを７ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル８ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（３０ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、（Ｓ－３５）で表される化合物（９．４ｇ、収率８１％）を得た。

大気下、（Ｓ－３５）（６．７ｇ、９．０ｍｍｏｌ）テトラヒドロフラン（３３ｍＬ）に溶解させ、室温で２Ｎの塩酸（１３．４ｍＬ）を加え６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（４８ｍＬ）加え、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－３６）で表される化合物（５．２ｇ、収率９３％）を得た。

大気下、（Ｓ－３６）（３．２ｇ、６．８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．７５ｇ、７．５ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１６．０ｍＬ）を混合し、氷冷下、アクリル酸クロリド（０．７４ｇ、８．１ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で４時間攪拌した。反応終了後、１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを２ｇ加えた。これをシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル３ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（８ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－１０（３．０ｇ、収率８４％）を得た。
［Ｍ］：５２６
実施例１１（ＲＭ－１１の合成）

大気下、（Ｓ－２０）（８．３ｇ、１７．０ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（１．９ｇ、２２．１ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（４２ｍｇ、０．３４ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（４０ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（２．６ｇ、２０．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを５ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル７ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（２４ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、（Ｓ－３７）で表される化合物（８．２ｇ、収率８７％）を得た。

大気下、（Ｓ－３７）（４．２ｇ、７．６ｍｍｏｌ）テトラヒドロフラン（２１ｍＬ）に溶解させ、室温で２Ｎの塩酸（８．４ｍＬ）を加え６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（３０ｍＬ）加え、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－３８）で表される化合物（３．２ｇ、収率９１％）を得た。

大気下、（Ｓ－３８）（２．１ｇ、４．４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．４９ｇ、４．９ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１０．５ｍＬ）を混合し、氷冷下、アクリル酸クロリド（０．４８ｇ、５．３ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で４時間攪拌した。反応終了後、１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを２ｇ加えた。これをシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル３ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（７ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－１１（１．８ｇ、収率７８％）を得た。
［Ｍ］：５２６
実施例１２（ＲＭ－１２の合成）

大気下、（Ｓ－２６）（１１．５ｇ、２１．０ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（２．４ｇ、２７．４ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（５１ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（４８ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（３．２ｇ、２５．３ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを７ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル９ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（３６ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、（Ｓ－３９）で表される化合物（１２．６ｇ、収率８８％）を得た。

大気下、（Ｓ－３９）（６．６ｇ、９．７ｍｍｏｌ）テトラヒドロフラン（３３ｍＬ）に溶解させ、室温で２Ｎの塩酸（１３．２ｍＬ）を加え６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（４７ｍＬ）加え、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－４０）で表される化合物（５．３ｇ、収率９２％）を得た。

大気下、（Ｓ－４０）（３．７ｇ、６．２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．６９ｇ、６．８ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１８．５ｍＬ）を混合し、氷冷下、アクリル酸クロリド（０．６７ｇ、７．４ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で４時間攪拌した。反応終了後、１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを２ｇ加えた。これをシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル３ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（８ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－１２（３．５ｇ、収率８６％）を得た。
［Ｍ］：６５２
実施例１３（ＲＭ－１３の合成）

（Ｓ－８）（３．７ｇ、１４．４ｍｍｏｌ）、過酸化水素水（３０％水溶液、１４．４ｍＬ）、ジクロロメタン（７．２ｍＬ）及び酢酸（１４．４ｍＬ）を混合し、６０℃にて１０時間加熱撹拌した。冷却後、水を加え、水層をジクロロメタンで３回抽出後、あわせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別し、溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル４ｇ、移動相：ジクロロメタン／酢酸エチル＝１／１）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－４１）（３．３ｇ、収率８９％）を得た。

大気下、（Ｓ－４１）（２．４ｇ、７．７ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（０．９ｇ、１０．２ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（１９ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１２ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（１．２ｇ、９．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを１．５ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（８ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－１３（２．１ｇ、収率８９％）を得た。
^１ＨＮＭＲ：（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝１．３４（ｔ，３Ｈ），２．０１（ｓ，３Ｈ）、４．０７（ｑ，２Ｈ）、６．１８（ｓ，１Ｈ），６．４６（ｓ，１Ｈ），７．２７-７．３２（ｍ，２Ｈ），７．６９－７．７１（ｍ，２Ｈ）
［Ｍ］：３１２
実施例１４（ＲＭ－１４の合成）

（Ｓ－１０）（８．７ｇ、２３．５ｍｍｏｌ）、過酸化水素水（３０％水溶液、２３．５ｍＬ）、ジクロロメタン（１３．８ｍＬ）及び酢酸（２３．５ｍＬ）を混合し、６０℃にて１０時間加熱撹拌した。冷却後、水を加え、水層をジクロロメタンで３回抽出後、あわせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別し、溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル９ｇ、移動相：ジクロロメタン／酢酸エチル＝１／１）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－４２）（７．８ｇ、収率８９％）を得た。

耐圧反応容器に（Ｓ－４２）（４．４ｇ、１１．８ｍｍｏｌ）、パラジウム炭素０．４ｇ及びＴＨＦ（２６．４ｍＬ）を加え、水素圧０．５ＭＰａで、１０時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－４３）で表される化合物（３．２ｇ、収率９５％）を得た。

大気下、（Ｓ－４１）（１．６ｇ、５．６ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（１．３ｇ、１４．６ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（３４ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（８ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（１．７ｇ、１３．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを１．５ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（１２ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－１４（２．２ｇ、収率９２％）を得た。
^１ＨＮＭＲ：（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝２．０１（ｓ，６Ｈ）、６．１８（ｓ，２Ｈ），６．４６（ｓ，２Ｈ），７．３２（ｄｄ，２Ｈ），７．６８（ｄ，２Ｈ）
［Ｍ］：４２０
実施例１５（ＲＭ－１５の合成）

（Ｓ－１６）（１１．４ｇ、３４．７ｍｍｏｌ）、過酸化水素水（３０％水溶液、３４．７ｍＬ）、ジクロロメタン（１７．６ｍＬ）及び酢酸（３４．７ｍＬ）を混合し、６０℃にて１０時間加熱撹拌した。冷却後、水を加え、水層をジクロロメタンで３回抽出後、あわせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別し、溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル９ｇ、移動相：ジクロロメタン／酢酸エチル＝１／１）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－４４）（９．６ｇ、収率７７％）を得た。

大気下、（Ｓ－４１）（５．７ｇ、１５．８ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（３．５ｇ、４１．１ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（９７ｍｇ、０．７９ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（２８．５ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（４．８ｇ、３８．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを３ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル４ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（１８ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－１５（６．４ｇ、収率８２％）を得た。
［Ｍ］：４９６
実施例１６（ＲＭ－１６の合成）

（Ｓ－１７）（４．９ｇ、１１．８ｍｍｏｌ）、過酸化水素水（３０％水溶液、１１．８ｍＬ）、ジクロロメタン（５．９ｍＬ）及び酢酸（１１．８ｍＬ）を混合し、６０℃にて１０時間加熱撹拌した。冷却後、水を加え、水層をジクロロメタンで３回抽出後、あわせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別し、溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル９ｇ、移動相：ジクロロメタン／酢酸エチル＝１／１）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－４５）（４．３ｇ、収率８２％）を得た。

大気下、（Ｓ－４５）（２．１ｇ、４．７ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（１．１ｇ、１２．３ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（２９ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１１．５ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（１．４ｇ、１１．３ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを２．５ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（１６ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－１６（２．３ｇ、収率８４％）を得た。
［Ｍ］：４４６
実施例１７（ＲＭ－１７の合成）

（Ｓ－２１）（７．４ｇ、１８．３ｍｍｏｌ）、過酸化水素水（３０％水溶液、１８．３ｍＬ）、ジクロロメタン（９．４ｍＬ）及び酢酸（１８．３ｍＬ）を混合し、６０℃にて１０時間加熱撹拌した。冷却後、水を加え、水層をジクロロメタンで３回抽出後、あわせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別し、溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル９ｇ、移動相：ジクロロメタン／酢酸エチル＝１／１）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－４６）（６．１ｇ、収率７６％）を得た。

大気下、（Ｓ－４６）（３．７ｇ、８．５ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（１．９ｇ、２２．０ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（５２ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１８．５ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（２．６ｇ、２０．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを２．５ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（１５ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－１７（４．３ｇ、収率８８％）を得た。
［Ｍ］：５７２
実施例１８（ＲＭ－１８の合成）

（Ｓ－２４）（６．４ｇ、１５．８ｍｍｏｌ）、過酸化水素水（３０％水溶液、１６．３ｍＬ）、ジクロロメタン（８．２ｍＬ）及び酢酸（１７．１ｍＬ）を混合し、６０℃にて１０時間加熱撹拌した。冷却後、水を加え、水層をジクロロメタンで３回抽出後、あわせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別し、溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル７ｇ、移動相：ジクロロメタン／酢酸エチル＝１／１）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－４７）（５．７ｇ、収率８２％）を得た。

大気下、（Ｓ－４７）（２．２ｇ、５．０ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（１．１ｇ、１３．１ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（３１ｍｇ、０．２５ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１１．４ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（１．５ｇ、１２．１ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを１．７ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（１５ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－１８（２．６ｇ、収率９１％）を得た。
［Ｍ］：５７２
実施例１９（ＲＭ－１９の合成）

（Ｓ－２７）（３．８ｇ、８．２ｍｍｏｌ）、過酸化水素水（３０％水溶液、８．３ｍＬ）、ジクロロメタン（４．２ｍＬ）及び酢酸（９．１ｍＬ）を混合し、６０℃にて１０時間加熱撹拌した。冷却後、水を加え、水層をジクロロメタンで３回抽出後、あわせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別し、溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル４ｇ、移動相：ジクロロメタン／酢酸エチル＝１／１）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－４８）（３．１ｇ、収率７６％）を得た。

大気下、（Ｓ－４８）（１．２ｇ、２．４ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（０．７５ｇ、８．７ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（２１ｍｇ、０．１７ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（６．１ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（１．０ｇ、８．３ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを１ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（７ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－１９（１．４ｇ、収率８５％）を得た。
［Ｍ］：６９８
実施例２０（ＲＭ－２０の合成）

（Ｓ－１１）（９．６ｇ、２８．０ｍｍｏｌ）、過酸化水素水（３０％水溶液、２８．３ｍＬ）、ジクロロメタン（１４．２ｍＬ）及び酢酸（２９．１ｍＬ）を混合し、６０℃にて１０時間加熱撹拌した。冷却後、水を加え、水層をジクロロメタンで３回抽出後、あわせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別し、溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１１ｇ、移動相：ジクロロメタン／酢酸エチル＝１／１）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－４９）（８．９ｇ、収率８５％）を得た。

窒素雰囲気下、（Ｓ－４９）（７．０ｇ、１８．７ｍｍｏｌ）、３，４－ジヒドロ－２Ｈ－ピラン（１．９ｇ、２２．４ｍｍｏｌ）、ｐ-トルエンスルホン酸ピリジニウム（０．２３ｇ、０．９ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（３５ｍＬ）を混合し、室温で４時間攪拌した。反応終了後、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－５０）で表される化合物（７．３ｇ、収率８５％）を得た。

耐圧反応容器に（Ｓ－５０）（３．４ｇ、７．４ｍｍｏｌ）、パラジウム炭素０．４ｇ及びＴＨＦ（２０．４ｍＬ）を加え、水素圧０．５ＭＰａで、１０時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－５１）で表される化合物（２．６ｇ、収率９６％）を得た。

大気下、（Ｓ－５１）（１．８ｇ、４．９ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（０．６ｇ、６．４ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（１２ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（９ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（０．７ｇ、５．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを２ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（８ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、（Ｓ－５２）で表される化合物（２．０ｇ、収率９３％）を得た。

大気下、（Ｓ－５２）（２．０ｇ、４．６ｍｍｏｌ）テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解させ、室温で２Ｎの塩酸（４ｍＬ）を加え６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（１４ｍＬ）加え、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－５３）で表される化合物（１．６ｇ、収率９８％）を得た。

大気下、（Ｓ－５３）（１．６ｇ、４．５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．５１ｇ、５ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（８．１ｍＬ）を混合し、氷冷下、アクリル酸クロリド（０．４９ｇ、５．５ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で４時間攪拌した。反応終了後、１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを２ｇ加えた。これをシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル３ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（７ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－２０（１．６ｇ、収率８６％）を得た。
［Ｍ］：４０６
実施例２１（ＲＭ－２１の合成）

窒素雰囲気下、（Ｓ－１０）（９．０ｇ、２４．３ｍｍｏｌ）、４－ブロモフェノール（４．６ｇ、２７ｍｍｏｌ）、ジクロロビス［ジ－ｔ－ブチル（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］パラジウム（ＩＩ）（０．８６ｇ、１．２ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（５４ｍＬ）を混合し、６０℃に加熱した。加熱下、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（３０ｍＬ、６１ｍｍｏｌ）を滴下し、６０℃にて１．５時間撹拌した。氷冷した反応液を、濃塩酸と氷の混合物に加え、１時間撹拌した。水層を分離後、トルエンで２回抽出し、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１８ｇ、移動相：トルエン）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒から再結晶することにより、（Ｓ－５４）に示す化合物（８．７ｇ、収率８６％）を得た。

（Ｓ－５４）（７．６ｇ、１８．２ｍｍｏｌ）、過酸化水素水（３０％水溶液、１８．４ｍＬ）、ジクロロメタン（９．２ｍＬ）及び酢酸（１９．１ｍＬ）を混合し、６０℃にて１０時間加熱撹拌した。冷却後、水を加え、水層をジクロロメタンで３回抽出後、あわせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別し、溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル９ｇ、移動相：ジクロロメタン／酢酸エチル＝１／１）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－５５）（７．７ｇ、収率９４％）を得た。

窒素雰囲気下、（Ｓ－５５）（６．０ｇ、１３．３ｍｍｏｌ）、３，４－ジヒドロ－２Ｈ－ピラン（１．２ｇ、１４．６ｍｍｏｌ）、ｐ-トルエンスルホン酸ピリジニウム（０．１７ｇ、０．６７ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（３０ｍＬ）を混合し、室温で４時間攪拌した。反応終了後、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－５６）で表される化合物（６．２ｇ、収率８７％）を得た。

耐圧反応容器に（Ｓ－５６）（５．４ｇ、１０．１ｍｍｏｌ）、パラジウム炭素０．５ｇ及びＴＨＦ（３２．４ｍＬ）を加え、水素圧０．５ＭＰａで、１０時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－５７）で表される化合物（４．１ｇ、収率９１％）を得た。

大気下、（Ｓ－５７）（４．１ｇ、１２．２ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（１．４ｇ、１５．８ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（３０ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（２１ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（１．７ｇ、１３．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを２．８ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（１１ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、（Ｓ－５８）で表される化合物（５．５ｇ、収率８９％）を得た。

大気下、（Ｓ－５８）（４．０ｇ、７．８ｍｍｏｌ）テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解させ、室温で２Ｎの塩酸（８ｍＬ）を加え６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（２８ｍＬ）加え、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－５９）で表される化合物（３．２ｇ、収率９６％）を得た。

大気下、（Ｓ－５９）（２．１ｇ、４．９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．５５ｇ、５．４ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１０．５ｍＬ）を混合し、氷冷下、アクリル酸クロリド（０．５３ｇ、５．９ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で４時間攪拌した。反応終了後、１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを１．５ｇ加えた。これをシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル２．５ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（８ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－２１（２．０ｇ、収率８３％）を得た。
［Ｍ］：４８２
実施例２２（ＲＭ－２２の合成）

窒素雰囲気下、（Ｓ－５７）（９．１ｇ、２０．５ｍｍｏｌ）、ピリジン（４．０、５１ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（３６．４ｍＬ）を混合し、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（６．９ｇ、２４．６ｍｍｏｌ）を滴下した。反応液を室温にて２時間攪拌後、水及びジクロロメタンを加えて分液し、水層をジクロロメタンで抽出し、あわせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１０ｇ、移動相：ヘキサン／酢酸エチル）により精製し、（Ｓ－６０）に示す化合物（９．８ｇ）を得た。

窒素雰囲気下、（Ｓ－６０）（８．０ｇ、１３．９ｍｍｏｌ）、（４－ヒドロキシフェニル）ホウ酸（２．１ｇ、１５．３ｍｍｏｌ）、ジクロロビス［ジ－ｔ－ブチル（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］パラジウム（ＩＩ）（０．５ｇ、０．７ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（４８ｍＬ）を混合し、６０℃に加熱した。加熱下、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（１８ｍＬ、３６ｍｍｏｌ）を滴下し、６０℃にて１．５時間撹拌した。氷冷した反応液を、濃塩酸と氷の混合物に加え、１時間撹拌した。水層を分離後、トルエンで２回抽出し、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５ｇ、移動相：トルエン）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒から再結晶することにより、（Ｓ－６１）に示す化合物（６．０ｇ、収率８３％）を得た。

大気下、（Ｓ－６１）（３．７ｇ、７．１ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（０．８ｇ、９．２ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（１７ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１６ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（１．０ｇ、７．８ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを１．８ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（１７ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、（Ｓ－６２）で表される化合物（３．７ｇ、収率８９％）を得た。

大気下、（Ｓ－６２）（３．０ｇ、５．１ｍｍｏｌ）テトラヒドロフラン（１５ｍＬ）に溶解させ、室温で２Ｎの塩酸（６ｍＬ）を加え６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（２１ｍＬ）加え、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－６３）で表される化合物（２．４ｇ、収率９４％）を得た。

大気下、（Ｓ－６３）（１．８ｇ、３．６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．４ｇ、３．９ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（９ｍＬ）を混合し、氷冷下、アクリル酸クロリド（０．３９ｇ、４．３ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で４時間攪拌した。反応終了後、１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを１．５ｇ加えた。これをシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル２．５ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（８ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－２２（１．８ｇ、収率９０％）を得た。
［Ｍ］：５５８
実施例２３（ＲＭ－２３の合成）

窒素雰囲気下、（Ｓ－１０）（１２．０ｇ、３２．４ｍｍｏｌ）、４’－ブロモ－[１，１’－ビフェニル]－４－オール（８．９ｇ、３５．７ｍｍｏｌ）、ジクロロビス［ジ－ｔ－ブチル（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］パラジウム（ＩＩ）（１．２ｇ、１．６ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（７２ｍＬ）を混合し、６０℃に加熱した。加熱下、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（４１ｍＬ、８２ｍｍｏｌ）を滴下し、６０℃にて１．５時間撹拌した。氷冷した反応液を、濃塩酸と氷の混合物に加え、１時間撹拌した。水層を分離後、トルエンで２回抽出し、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１８ｇ、移動相：トルエン）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒から再結晶することにより、（Ｓ－６５）に示す化合物（１４．４ｇ、収率９０％）を得た。

（Ｓ－６５）（１０．５ｇ、２１．２ｍｍｏｌ）、過酸化水素水（３０％水溶液、２１．２ｍＬ）、ジクロロメタン（１０．２ｍＬ）及び酢酸（２２．１ｍＬ）を混合し、６０℃にて１０時間加熱撹拌した。冷却後、水を加え、水層をジクロロメタンで３回抽出後、あわせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別し、溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル９ｇ、移動相：ジクロロメタン／酢酸エチル＝１／１）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－６６）（８．７ｇ、収率７８％）を得た。

窒素雰囲気下、（Ｓ－６６）（７．０ｇ、１３．３ｍｍｏｌ）、３，４－ジヒドロ－２Ｈ－ピラン（１．２ｇ、１４．６ｍｍｏｌ）、ｐ-トルエンスルホン酸ピリジニウム（０．１７ｇ、０．６７ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（３０ｍＬ）を混合し、室温で４時間攪拌した。反応終了後、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－６７）で表される化合物（６．７ｇ、収率８２％）を得た。

耐圧反応容器に（Ｓ－６７）（４．９ｇ、８．０ｍｍｏｌ）、パラジウム炭素０．５ｇ及びＴＨＦ（３２．４ｍＬ）を加え、水素圧０．５ＭＰａで、１０時間反応させた。反応終了後、冷却し、酢酸エチルにより目的物を抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン／ヘキサン混合溶媒より懸濁洗浄することにより、（Ｓ－６８）で表される化合物（３．８ｇ、収率９２％）を得た。

大気下、（Ｓ－６８）（２．８ｇ、５．４ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（０．６ｇ、７．０ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（１３ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１４ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（０．７５ｇ、５．９ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを１．８ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（１３ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、（Ｓ－６９）で表される化合物（２．９ｇ、収率９２％）を得た。

大気下、（Ｓ－６９）（２．１ｇ、３．６ｍｍｏｌ）テトラヒドロフラン（１１ｍＬ）に溶解させ、室温で２Ｎの塩酸（５ｍＬ）を加え６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（１６ｍＬ）加え、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－７０）で表される化合物（１．７ｇ、収率９６％）を得た。

大気下、（Ｓ－７０）（１．３ｇ、２．６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．２９ｇ、２．８ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（６．５ｍＬ）を混合し、氷冷下、アクリル酸クロリド（０．２８ｇ、３．１ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で４時間攪拌した。反応終了後、１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを１．５ｇ加えた。これをシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル２．５ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（８ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－２３（１．２ｇ、収率８３％）を得た。
［Ｍ］：５５８
実施例２４（ＲＭ－２４の合成）

窒素雰囲気下、（Ｓ－６０）（１１．０ｇ、１９ｍｍｏｌ）、４－ブロモ－２－（３－ヒドロキシプロピル）フェノール（５．３ｇ、２２．９ｍｍｏｌ）、ジクロロビス［ジ－ｔ－ブチル（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］パラジウム（ＩＩ）（０．７ｇ、１．０ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（６６ｍＬ）を混合し、６０℃に加熱した。加熱下、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（２４ｍＬ、４８ｍｍｏｌ）を滴下し、６０℃にて１．５時間撹拌した。氷冷した反応液を、濃塩酸と氷の混合物に加え、１時間撹拌した。水層を分離後、トルエンで２回抽出し、有機層をあわせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２５ｇ、移動相：トルエン）により精製し、続いてトルエン／ヘキサン混合溶媒から再結晶することにより、（Ｓ－７１）に示す化合物（９．８ｇ、収率８９％）を得た。

大気下、（Ｓ－７１）（８．１ｇ、１４．０ｍｍｏｌ）、メタクリル酸（３．１ｇ、３６．４ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（８６ｍｇ、０．７ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（４１ｍＬ）の混合物に、氷冷下ＤＩＣ（４．２ｇ、３３．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩攪拌した。析出物をろ別し、得られた液体を１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを５ｇ加えた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（３０ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、（Ｓ－７２）で表される化合物（８．９ｇ、収率８９％）を得た。

大気下、（Ｓ－７２）（６．０ｇ、８．４ｍｍｏｌ）テトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解させ、室温で２Ｎの塩酸（１０ｍＬ）を加え６時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル（４０ｍＬ）加え、水、飽和食塩水で洗浄し、溶媒を留去した。その後、トルエン中で分散洗浄を行った後、シリカゲルカラムで精製を行い、（Ｓ－７３）で表される化合物（５．０ｇ、収率９５％）を得た。

大気下、（Ｓ－７３）（２．８ｇ、４．４ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．４９ｇ、４．９ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン（１４ｍＬ）を混合し、氷冷下、アクリル酸クロリド（０．４８ｇ、５．３ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で４時間攪拌した。反応終了後、１０％塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。無水硫酸ナトリウムをろ別後、得られたジクロロメタン溶液にシリカゲルを１．５ｇ加えた。これをシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル２．５ｇ、移動相：ジクロロメタン）により精製し、ＭＥＨＱを加えて、遮光下で溶媒を減圧留去した。そこにメタノール（８ｍＬ）を加えることで再沈殿させ、目的の化合物ＲＭ－２４（２．６ｇ、収率８６％）を得た。
［Ｍ］：６８４
実施例１～２４と同様の方法で、式（Ｉ－１－１）から式（Ｉ－１００-２２）で表される化合物の合成を行った。
＜液晶組成物の調整・評価＞
以下の実施例において化合物の記載について以下の略号を用いる。

（側鎖）
－ｎ－Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋１炭素数ｎの直鎖状のアルキル基
ｎ－Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋１－炭素数ｎの直鎖状のアルキル基
－Ｏｎ－ＯＣ_ｎＨ_２ｎ＋１炭素数ｎの直鎖状のアルコキシ基
ｎＯ－Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋１Ｏ－炭素数ｎの直鎖状のアルコキシ基
－Ｖ－ＣＨ＝ＣＨ_２
Ｖ－ＣＨ_２＝ＣＨ－
－Ｖ１－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ_３
１Ｖ－ＣＨ_３－ＣＨ＝ＣＨ－
－Ｆ－Ｆ
－ＯＣＦ３－ＯＣＦ_３
（連結基）
－１Ｏ－－ＣＨ_２－Ｏ－
－Ｏ１－－Ｏ－ＣＨ_２－
－２－－ＣＨ_２－ＣＨ_２－
－ＣＯＯ－－ＣＯＯ－
－ＯＣＯ－－ＯＣＯ－
－単結合
（環構造）

実施例中、測定した特性は以下の通りである。

Ｔ_ｎｉ：ネマチック相－等方性液体相転移温度（℃）
Δｎ：２０℃における屈折率異方性
η ：２０℃における粘度（ｍＰａ・ｓ）
γ_１：２０℃における回転粘性（ｍＰａ・ｓ）
Δε ：２０℃における誘電率異方性
Ｋ_３３：２０℃における弾性定数Ｋ_３３（ｐＮ）
（液晶表示素子の製造方法）
まず、垂直配向を誘起するポリイミド配向膜を塗布しラビング処理したＩＴＯ付き基板を含むセルギャップ３．５μｍの液晶セルに、後述する重合性化合物含有液晶組成物を真空注入法で注入した。

その後、重合性化合物含有液晶組成物を注入した液晶セルに、蛍光ＵＶランプを用いて、９０分間紫外線を照射し液晶表示素子を得た。このとき、中心波長３１３ｎｍの条件で測定した照度が３ｍＷ／ｃｍ^２になるように蛍光ＵＶランプを調整した。
（重合性化合物残留量ＲＭの評価方法）
上述の照射条件で、紫外線を６０分照射した後の液晶表示素子中の重合性化合物の残留量［ｐｐｍ］を測定した。この重合性化合物の残留量の測定方法を説明する。まず試験管に分解した液晶表示素子とアセトニトリルを入れ、振とうしてろ過し、液晶組成物、重合物、未反応の重合性化合物を含む溶出成分のアセトニトリル溶液を得た。これを高速液体クロマトグラフで分析し、各成分のピーク面積を算出した。指標とする液晶化合物のピーク面積と未反応の重合性化合物のピーク面積比及び当初添加した重合性化合物の量から重合性化合物の残留量を決定した。その値が５０ｐｐｍ未満のものをＡ、１００ｐｐｍ未満５０ｐｐｍ以上のものをＢ、１５０ｐｐｍ未満～１００ｐｐｍ以上のものをＣ、１５０ｐｐｍ以上のものをＤとした。

（焼き付きＩＳの評価方法）
重合性化合物含有液晶組成物を注入した液晶セルに、上述の照射条件で紫外線を６０分照射後、プレチルト角の変化による表示不良（焼き付き）評価を行った。まず、液晶表示素子のプレチルト角を測定し、プレチルト角（初期）とした。この液晶表示素子に周波数１００Ｈｚで電圧を３０Ｖ印加しながらバックライトを２４時間照射した。その後、プレチルト角を測定し、プレチルト角（試験後）とした。測定したプレチルト角（初期）からプレチルト角（試験後）を引いた値をプレチルト角変化量（＝プレチルト角変化の絶対値）［°］とした。プレチルト角は、シンテック製ＯＰＴＩＰＲＯを用いて測定した。プレチルト角は、シンテック製ＯＰＴＩＰＲＯを用いて測定した。プレチルト角変化量［°］の値が０．２［°］以下のものをＡ、０．５［°］未満０．２［°］以上のものをＢ、１．０［°］未満～０．５［°］以上のものをＣ、１．０［°］以上のものをＤとした。
（電圧保持率ＶＨＲの評価方法）
重合性化合物含有液晶組成物を注入した液晶セルに、上述の照射条件で紫外線を６０分照射し、１Ｖ、０．６Ｈｚ、６０℃の条件でＶＨＲを測定した。その値が９５％以上のものをＡ、９５％未満９０％以上のものをＢ、９０％未満～８０％以上のものをＣ、８０％未満のものをＤとした。

（液晶組成物の調製と評価結果）
ＬＣ－００１～ＬＣ－００８の液晶組成物を調製し、その物性値を測定した。液晶組成物の構成とその物性値の結果は表１のとおりであった。

（比較例１～１０）
比較例１及び２として、液晶組成物（ＬＣ－００１）及び（ＬＣ－００２）に対し、重合性化合物（ＲＭ－Ｒ１）をそれぞれ３０００ｐｐｍ添加し液晶組成物を作成した。また、比較例３～１０として、液晶組成物（ＬＣ－００１）～（ＬＣ－００８）のそれぞれに対し、重合性化合物（ＲＭ－Ｒ１）２７００ｐｐｍ及び重合性化合物（ＲＭ－Ｒ２）３００ｐｐｍを添加し液晶組成物を作成した。これら液晶組成物を各々液晶セルに注入し、上記の各種評価を行った。比較例１～１０の評価結果を表２に示す。

（実施例２５～８４）
実施例２５～４８として、液晶組成物（ＬＣ－００１）に対し上記重合性化合物（ＲＭ－Ｒ１）２７００ｐｐｍを加え、さらに実施例１～２４で得られた重合性極性化合物（ＲＭ－１）～（ＲＭ－２４）を各々３００ｐｐｍ添加して液晶組成物を作成した。また、実施例４９～７２として、液晶組成物（ＬＣ－００２）に対し上記重合性化合物（ＲＭ－Ｒ１）２７００ｐｐｍを加え、さらに上記重合性極性化合物（ＲＭ－１）～（ＲＭ－２４）を各々３００ｐｐｍ添加して液晶組成物を作成した。また、実施例７３～７８として、液晶組成物（ＬＣ－００３）～（ＬＣ－００８）に対し、上記重合性化合物（ＲＭ－Ｒ１）２７００ｐｐｍ及び上記重合性極性化合物（ＲＭ－１４）を３００ｐｐｍ添加して液晶組成物を作成した。また、実施例７９～８４として、液晶組成物（ＬＣ－００１）及び（ＬＣ－００２）に対し、上記重合性化合物（ＲＭ－Ｒ２）～（ＲＭ－Ｒ４）２７００ｐｐｍ、及び、上記重合性極性化合物（ＲＭ－１４）を３００ｐｐｍ添加し、液晶組成物を作成した。これら液晶組成物を各々液晶セルに注入し、上記の各種評価を行った。実施例２５～８４の評価結果を表２に示す。

実施例２５から実施例８４は、重合性化合物残留量が十分に低く、焼き付きが小さく、電圧保持率も十分に高いことを確認した。これは、本願発明の重合性極性化合物がその極性基で基板表面と相互作用するため表面上に局在化するため、重合反応が効率的に開始進行し、結果として重合性化合物の残留量が少なくなったものと考えられる。また、十分に重合が進行したことから、形成されるポリマーネットワーク構造が安定化したため焼き付きが小さくなると共に、液晶セル中の極性不純物をポリマーが吸着し液晶組成物中を移動しにくくするため、電圧保持率が向上したと考えられる。以上のことから、これらの実施例は本発明の課題を解決していることを確認した。

これに対して、比較例１及び３は同じベース液晶（ＬＣ－００１）を用いた実施例２５～４８に比べて重合性化合物残留量が高く、焼き付きＩＳが大きく、また電圧保持率も低くなっていた。これは、比較例１及び３に含まれる重合性化合物が、本願発明の重合性極性化合物に比べ基板表面上に局在化しにくいため、重合が不十分となり、重合性化合物残留量及び焼き付きが大きくなると共に、液晶セル中の極性不純物の影響を受けて電圧保持率が低くなるためと考えられる。
また、比較例２及び４は同じベース液晶（ＬＣ－００２）を用いた実施例４９～７２に比べて重合性化合物残留量が高く、焼き付きＩＳが大きく、また電圧保持率も低くなっていた。これは、比較例２及び４は極性不純物の生じやすい傾向のあるベース液晶（ＬＣ－００２）であるため、液晶セル中に存在する極性不純物の影響を受けて電圧保持率が低くなったものと考えられる。さらに、比較例２及び４の重合性化合物は本願発明の極性化合物に比べ基板表面上に局在しにくいため、重合が不十分となり、重合性化合物残留量及び焼き付きが大きくなると共に、液晶セル中の極性不純物の影響を受けて電圧保持率が低くなるためと考えられる。
以上のことから、これらの比較例は本発明の課題を解決できないことが確認された。

更に、比較例５から比較例１０の液晶組成物も、重合性化合物残留量が高く、焼き付きＩＳが大きく、電圧保持率も十分ではなく、本発明の課題を解決できないことが確認された。

Claims

一般式（Ｉ）

（式中、Ｗは－Ｓ－又は－Ｓ（＝Ｏ）２－を表し、
Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、Ｐ^２－Ｓｐ^２－で表される基又は炭素原子数１～１２の直鎖又は分岐のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良く、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、
Ａ^１及びＡ^２はそれぞれ独立して１，４－フェニレン基、１，４－シクロヘキシレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン－１，４－ジイル基、ピリジン－２，５－ジイル基、ピリミジン－２，５－ジイル基、ナフタレン－２，６－ジイル基、ナフタレン－１，４－ジイル基、テトラヒドロナフタレン－２，６－ジイル基、デカヒドロナフタレン－２，６－ジイル基又は１，３－ジオキサン－２，５－ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌ^１によって置換されても良く、Ｌ^１はＰ^３－Ｓｐ^３－で表される基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルファニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－が各々独立して－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－によって置換されても良い炭素原子数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Ｌ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
Ｐ^１、Ｐ^２及びＰ^３は各々独立して重合性基を表し、
Ｓｐ^１、Ｓｐ^２及びＳｐ^３は各々独立して単結合又は炭素原子数１～１２のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は各々独立して－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＯＣＯＯ－又は－Ｓ－に置き換えられても良く、
Ｚ^１及びＺ^２はそれぞれ独立して単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－ＮＨ－ＣＯ－、－ＳＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｓ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｓ－、－ＳＣＦ_２－、－ＯＣＯ－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＯ－Ｏ－、－（Ｃ（Ｒ^ａ）_２）_ｎa－、－ＣＨ＝ＣＲ^ａ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＲ^ａ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＲ^ａ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＲ^ａ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－ＣＯＯ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－ＣＯＯ－、－ＣＨ_２－ＯＣＯ－、－ＣＲ^ａ＝ＣＲ^ａ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し（式中、Ｒ^ａは水素原子、炭素原子数１から１２のアルキル基、フッ素原子、塩素原子又はシアノ基を表し、ｎaは１から６の整数を表すが、Ｒ^ａが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよい。）、
Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立して水素原子、フッ素原子または塩素原子を表し、
ｎ^１及びｎ^２はそれぞれ独立して０～２の整数を表すが、ただしｎ^１＋ｎ^２は０～２の整数を表す。）
で表される重合性化合物。
一般式（Ｉ）において、Ｐ^１、Ｐ^２及びＰ^３がそれぞれ独立して式（Ｐ－１）から式（Ｐ－１８）

から選ばれる基を表す、請求項１記載の重合性化合物。
一般式（Ｉ）においてＲ^１がＰ^２－Ｓｐ^２－で表される基を表す、請求項１又は２に記載の重合性化合物。
請求項１から３のいずれか１項に記載の重合性化合物を含有する液晶組成物。
前記重合性化合物に加えて、さらに一般式（Ｐ）：

（上記一般式（Ｐ）中、Ｒ^ｐ１は、水素原子、フッ素原子、シアノ基、炭素原子数１～１５のアルキル基又は－Ｓｐ^ｐ２－Ｐ^ｐ２を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、該アルキル基中の１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立して、シアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
Ｐ^ｐ１及びＰ^ｐ２はそれぞれ独立して、一般式（Ｐ^ｐ１－１）から式（Ｐ^ｐ１－９）：

（式中、Ｒ^ｐ１１及びＲ^ｐ１２はそれぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基を表し、Ｗ^ｐ１１は単結合、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、炭素原子数１～５のアルキレン基を表し、ｔ^ｐ１１は、０、１又は２を表すが、分子内にＲ^ｐ１１、Ｒ^ｐ１２、Ｗ^ｐ１１及び／又はｔ^ｐ１１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。）のいずれかを表し、
Ｓｐ^ｐ１及びＳｐ^ｐ２はそれぞれ独立して、単結合又はスペーサ基を表し、
Ｚ^ｐ１及びＺ^ｐ２はそれぞれ独立して、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｃ_２Ｈ_４－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＯＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＯＣＯＯ－、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ^ＺＰ１－、－ＮＲ^ＺＰ１－ＣＯ－、－ＳＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｓ－、－ＣＨ＝ＣＲ^ＺＰ１－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＲ^ＺＰ１－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＲ^ＺＰ１＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＲ^ＺＰ１＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＲ^ＺＰ１＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＯＯ－ＣＲ^ＺＰ１＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＯＣＯ－ＣＲ^ＺＰ１＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＣＲ^ＺＰ１＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－（ＣＨ_２）_ｚ－ＣＯＯ－、－（ＣＨ_２）_ｚ－ＯＣＯ－、－ＯＣＯ－（ＣＨ_２）_ｚ－、－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－、－ＣＦ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＦ－、－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－又は－Ｃ≡Ｃ－（式中、ｚはそれぞれ独立して１～４の整数を表し、Ｒ^ＺＰ１はそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１～４のアルキル基を表すが、分子内にＲ^ＺＰ１が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良い。なお、式中の＊はＳｐ^ｐ１又はＳｐ^ｐ２への結合点を表す。）
を表し、
Ａ^ｐ１及びＡ^ｐ２はそれぞれ独立して、
（ａ^ｐ）１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－に置き換えられてもよい。）
（ｂ^ｐ）１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）及び
（ｃ^ｐ）ナフタレンジイル基、１，２，３，４－テトラヒドロナフタレンジイル基、デカヒドロナフタレンジイル基、フェナントレン－２，７－ジイル基又はアントラセン－２，６－ジイル基（これら基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられても良い。）
からなる群より選ばれる基を表し、
Ａ^ｐ３は上記の基（ａ^ｐ）、基（ｂ^ｐ）及び基（ｃ^ｐ）、ならびに単結合からなる群より選ばれる基を表し、
上記の基（ａ^ｐ）、基（ｂ^ｐ）及び基（ｃ^ｐ）は、それぞれ独立して、この基中に存在する水素原子は、シアノ基、ハロゲン原子、炭素原子数１～８のアルキル基、炭素数１～８のアルコキシ基、炭素原子数１～８のアルケニル基又は－Ｓｐ^ｐ２－Ｐ^ｐ２で置換されていても良く、
ｍ^ｐ１は、０、１、２又は３を表し、分子内にＺ^ｐ１、Ａ^ｐ２、Ｓｐ^ｐ２及び／又はＰ^ｐ２が複数存在する場合、それらは同一であっても異なっていても良いが、
ｍ^ｐ１が０であり且つＡ^ｐ１がナフタレンジイル基、フェナントレン－２，７－ジイル基又はアントラセン－２，６－ジイル基以外の基である場合は、Ａ^ｐ３は単結合以外の基を表す。）
で表される重合性化合物Ａを１種又は２種以上含有する、請求項４記載の液晶組成物。
請求項４又は５記載の液晶組成物の重合体により構成される光学異方体。
請求項４又は５のいずれか１項に記載の液晶組成物を用いた液晶表示素子。
請求項４又は５のいずれか１項に記載の液晶組成物を用いたアクティブマトリックス駆動用液晶表示素子。
請求項４又は５のいずれか１項に記載の液晶組成物を用いたＰＳＡモード、ＰＳＶＡモード、ＰＳ－ＩＰＳモード又はＰＳ－ＦＦＳモード用液晶表示素子。