JP2021508602A - 真空溶接炉及び溶接方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
Claims (20)
- 溶接室(18)と、炉蓋(4)と、搬送機構(2)とを含み、炉蓋(4)は、溶接室(18)の上側を蓋合わせされ、溶接室(18)と炉蓋(4)との間に溶接チャンバが形成され、溶接室(18)の下部に溶接台(20)が設けられた真空溶接炉であって、前記溶接台(20)の供給端に近接する側は、加熱領域であり、溶接台(20)の排出端に近接する側は、冷却領域であり、負圧吸引モジュール(9)は、加熱領域の冷却領域に近接する一端の上側に設置され、炉蓋(4)に昇降可能に取付けされ、負圧吸引モジュール(9)の底部と加熱領域と囲み密閉した負圧チャンバを形成し、溶接室(18)または炉蓋(4)にシールドガス導入管が設置される、ことを特徴とする真空溶接炉。
- 前記溶接台(20)は、複数の加熱板(30)と複数の冷却板(28)とを含み、加熱領域は、複数の加熱板(30)をつなぎ合わせて形成され、冷却領域は、複数の冷却板(28)をつなぎ合わせて形成される、ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉。
- 前記各々の加熱板(30)の両側のいずれにも電気加熱管(31)が対称に設置され、加熱板(30)の中央部にセンサ取付穴(3003)が設置され、センサ取付穴(3003)が2つの電気加熱管(31)の間に設置された止まり穴であり、センサ取り付け穴(3003)に温度センサ(32)が取り付けられる、ことを特徴とする請求項2に記載の真空溶接炉。
- 各々の前記冷却板(28)の両側に給水通路(2802)が対称に設置され、前記冷却板(28)の少なくとも一端に2つの給水通路(2802)に連通する排水通路(2803)が設置される、ことを特徴とする請求項2に記載の真空溶接炉。
- 前記溶接室(18)の下側に貯液カバー(33)が設置され、貯液カバー(33)の底部の両側は、側部から中央部に徐々に下への傾斜状であり、貯液カバー(33)底部に貯液カバー排出管(3301)が設けられる、ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉。
- 前記シールドガス導入管は、主窒素導入管(5)であり、前記炉蓋(4)の両端のいずれにも主窒素導入管(5)が設置され、前記炉蓋(4)の中央部の両側に副窒素導入管(16)が対称に設置され、副窒素導入管(16)が溶接室(18)に連通される、ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉。
- 前記炉蓋(4)の下部の両側に吸気板(17)が対称に設置され、吸気板(17)の上部に設けられる上側へ開口する吸気口(1701)が炉蓋(4)と囲み吸気チャンバを形成し、吸気板(17)に吸気口(1701)と溶接室(18)とを連通させる複数の噴気孔(1702)が間隔をおいて設置され、副窒素ガス導入管(16)は、吸気口(1701)に連通される、ことを特徴とする請求項6に記載の真空溶接炉。
- 前記搬送機構(2)は、搬送バー(24)と、溶接室(18)の下側に設置された昇降機構、並進機構及び開閉機構とを含み、搬送バー(24)は、対称に2本設置され、且つその中央部が溶接室(18)内に設置され、開閉機構は、同時に2本の搬送バー(24)に連結し、その2本の搬送バー(24)を開閉させるように駆動し、並進機構は、開閉機構に連結され、排出端に近接又は離間する方向に沿ってその開閉機構を移動させるように駆動し、昇降機構は、並進機構に連結され、その並進機構を昇降させるように駆動し、各搬送バー(24)のいずれにも複数の支持部が設けられ、溶接台(20)の両端に、支持部に1対1に対応する退避口が設けられる、ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉。
- 前記溶接室(18)の両端のいずれにもエンドカバー(26)によって封止され、各エンドカバー(26)の両側のいずれにも搬送口(2601)が対称に設置され、搬送バー(24)は、搬送口(2601)を通し開閉機構に連結され、エンドカバー(26)の底部と溶接台(20)とが間隔を置いて設置される、ことを特徴とする請求項8に記載の真空溶接炉。
- 前記溶接室(18)の下側に、搬送バー(24)と1対1対応する搬送取付アーム(45)が設けられ、搬送取付アーム(45)の両端は、対応側の搬送バー(24)の両端に連結され、開閉機構は、2つの搬送取付アーム(45)に連結される、ことを特徴とする請求項8に記載の真空溶接炉。
- 前記開閉機構は、水平方向に設置された開閉案内板(43)と開閉動力モジュールとを含み、開閉案内板(43)は、2本の搬送バー(24)の間に設置され、開閉案内板(43)の両側のいずれにも排出端に近接する方向に沿って徐々に内側への傾斜状の開閉案内部が設けられ、各搬送バー(24)の下側のいずれにも開閉案内部に貼り合わせられる開閉案内輪(44)が取り付けられ、2本の搬送バー(24)の間に引張状態の開閉バネが設けられ、開閉動力モジュールは、開閉案内板(43)に連結され、排出端に近接又は離間する方向に沿って開閉案内板を移動させるように駆動すること、を特徴とする請求項8に記載の真空溶接炉。
- 前記昇降機構は、昇降案内ブロック(48)と搬送昇降シリンダ(46)とを含み、昇降案内ブロック(48)の上側に排出端に近接する方向に沿って徐々に下への傾斜状の昇降案内部が設置され、並進機構の下側に昇降案内部に貼り合わせられる昇降案内輪が取り付けられ、搬送昇降シリンダ(46)のピストンロッドは、昇降案内ブロック(48)に連結され、排出端に近接又は離間する方向に沿って昇降案内ブロック(48)を移動させるように駆動する、ことを特徴とする請求項8に記載の真空溶接炉。
- 各前記エンドカバー(26)の両側にバッフル板取付溝(2602)が対称に設置され、バッフル板取付溝(2602)の位置する平面が搬送バー(24)の中心線に垂直であり、バッフル板取付溝(2602)内にバッフル板(27)が摺動するように取り付けられ、バッフル板が搬送バー(24)に摺動し且つ密封するように連結され、バッフル板(27)が対応側のエンドカバー(26)に連係され溶接室(18)の端部を密封する、ことを特徴とする請求項9に記載の真空溶接炉。
- 前記溶接室(18)の下側に、搬送バー(24)と1対1対応する搬送取付アーム(45)が設けられ、搬送取付アーム(45)の両端は、対応側の搬送バー(24)の両端に連結され、開閉機構は、2つの搬送取付アーム(45)に連結される、ことを特徴とする請求項9に記載の真空溶接炉。
- 前記負圧吸引モジュール(9)は、密封板(36)と負圧吸引昇降シリンダ(35)とを含み、密封板(36)は、加熱領域の上側に設置され、加熱領域と平行に設置され、密封板(36)の底部と加熱領域とが密閉の負圧チャンバを形成し、負圧チャンバに負圧吸引管が連結される、ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉。
- 前記密封板(36)は、炉蓋(4)の下側に設置され、負圧吸引昇降シリンダ(35)が炉蓋(4)の上側に設置され、負圧吸引昇降シリンダ(35)のピストンロッドが連結管(37)を介して密封板(36)に連結され、連結管(37)が負圧チャンバと負圧吸引管とを連通させる、ことを特徴とする請求項15に記載の真空溶接炉。
- 浄化モジュール(59)をさらに含み、浄化モジュール(59)の吸気端と排気端とのいずれも溶接室(18)と連通する、ことを特徴とする請求項1に記載の真空溶接炉。
- 前記浄化モジュール(59)は、浄化箱(61)と、浄化箱(61)内に設置されたコイル(67)及びストレーナ(64)とを含み、吸気端と排気端とが浄化箱(61)の両側にそれぞれ設置され、ストレーナ(64)は、排気端に近接するように設置され、排気端を封止し、コイル(67)内に循環するクーラントが充填され、浄化箱(61)の排気端と溶接室(18)との間にファン(65)が設置される、ことを特徴とする請求項17に記載の真空溶接炉。
- 前記浄化モジュール(59)は、浄化箱(61)内に設置されたフィン(68)をさらに含むこと、を特徴とする請求項18に記載の真空溶接炉。
- 請求項1から19のいずれか1項に記載の真空溶接炉における溶接プロセスであって、1)炉蓋(4)は、溶接室(18)を封止し、シールドガス導入管は、溶接室(18)内にシールドガスを充填するステップと、2)搬送機構(2)は、シートを1枚ずつ負圧チャンバ内に搬送し、加熱領域は、搬送中のシートを段階に加熱するステップと、3)搬送機構(2)は、負圧チャンバ内で溶接が完了したシートを排出端に搬送し、冷却領域は、シートを徐冷するステップと、を含む、ことを特徴とする真空溶接炉の溶接プロセス。
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