JP2021508169A - 転写法 - Google Patents
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Abstract
Description
付着防止層は、接着プライマー(例えば酸素プラズマによる活性化)ありで、又は接着プライマー無しで、テンプレートに接着しなければならず、インプリントに接着してはならない。
R1 A R2
に対応する。
式中、ラジカルRLは、15.0342g/molより大きなモル質量を有する。ラジカルRLは、15.0342g/molより大きなモル質量を有する限りにおいて、ハロゲン原子、例えば塩素、臭素又はヨウ素、飽和若しくは不飽和の直鎖状、分枝鎖状、又は環状の炭化水素ベースの基、例えばアルキル若しくはフェニルのラジカル、又はエステル基−COOR、又はアルコキシ基−OR、又はホスホネート基−PO(OR)2であり得る。一価のラジカルRLは、ニトロキシドラジカルの窒素原子に対してβ位にあると言われている。式(1)における炭素原子及び窒素原子の残りの価数は、様々なラジカルに結合していてよく、それは例えば、水素原子であるか、又は1〜10個の炭素原子を有する炭化水素ベースのラジカル、例えばアルキル、アリール、又はアリールアルキルのラジカルである。式(1)における炭素原子及び窒素原子については、二価のラジカルを介して一緒に結合されて環を形成することが排除されない。しかしながら、式(1)の炭素原子及び窒素原子の残りの価数は、一価のラジカルに結合されているのが好ましい。ラジカルRLは、30g/molよりも大きなモル質量を有するのが好ましい。ラジカルRLは例えば、40〜450g/molのモル質量を有し得る。ラジカルRLは例えば、ホスホリル基を有するラジカルであってよく、このラジカルRLについては、式(2)で表すことが可能である:
式中、R1及びR2は、同一であっても異なっていてもよく、アルキル、シクロアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アリール、アラルキルオキシ、ペルフルオロアルキル、及びアラルキルのラジカルから選択することができ、1〜20個の炭素原子を有することができる。R1及び/又はR2は、ハロゲン原子、例えば塩素、臭素、フッ素、又はヨウ素の原子であり得る。ラジカルRLは、例えばフェニルラジカル又はナフチルラジカルのために少なくとも1つの芳香族環を有することもでき、この環については置換されていてよく、例えば1〜4個の炭素原子を含むアルキルラジカルによって置換されていてよい。
・N−(tert−ブチル)−1−フェニル−2−メチルプロピル ニトロキシド、
・N−(tert−ブチル)−1−(2−ナフチル)−2−メチルプロピル ニトロキシド、
・N−(tert−ブチル)−1−ジエチルホスホノ−2,2−ジメチルプロピル ニトロキシド、
・N−(tert−ブチル)−1−ジベンジルホスホノ−2,2−ジメチルプロピル ニトロキシド、
・N−フェニル−1−ジエチルホスホノ−2,2−ジメチルプロピル ニトロキシド、
・N−フェニル−1−ジエチルホスホノ−1−メチルエチル ニトロキシド、
・N−(1−フェニル−2−メチルプロピル)−1−ジエチルホスホノ−1−メチルエチル ニトロキシド、
・4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ ニトロキシド、
・2,4,6−トリ−tert−ブチルフェノキシ ニトロキシド。
T. Pakula & al., Macromol. Theory Simul. 5, 987-1006 (1996);
A. Aksimetiev & al. J. of Chem. Physics 111, no. 5;
M. Janco J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. (2000), 38(15), 2767-2778;
M. Zaremski & al, Macromolecules (2000), 33(12), 4365-4372;
K. Matyjaszewski & al. J. Phys. Org. Chem. (2000), 13(12), 775-786;
Gray Polym. Prepr. (Am. Chem. Soc., Div. Polym. Chem.) (2001), 42(2), 337-338;
K. Matyjaszewski Chem. Rev. (Washington, D. C.) (2001), 101(9), 2921-2990。
・接着プライマー(例えば表面活性プラズマ)によって事前に処理されたか、又は事前に処理されていないテンプレート上に、付着防止層を堆積させる工程、当該付着防止層は、分子が熱により、有機若しくは無機のレドックスにより、光化学的に、せん断により、プラズマにより、又はイオン化照射の影響のもとで活性化されるとフリーラジカルを発生させる少なくとも1つの共有結合を有するホモポリマー又はコポリマーを含有するものであり、当該ホモポリマー又はコポリマーは、5mN/mより大きい表面エネルギーを有し、かつ25℃又は使用温度で1000MPaより大きい弾性率E’を有するものであり、
・熱により、有機若しくは無機のレドックスにより、光化学的に、せん断により、プラズマにより、又はイオン化照射の影響のもとでフリーラジカルを発生させる共有結合を活性化させて、テンプレート上に厚さが50nm未満、好ましくは20nm未満、より好ましくは10nm未満、特に5nm未満の膜を形成する工程、
・事前に堆積されているかどうかにかかわらず、厚さが100nm〜5mmの範囲のポリマー樹脂を、1GPaより大きいヤング率を有する担体上に堆積又は積層させる工程、
・インプリントとして用いる樹脂を重合又は冷却する工程、
・インプリントを取り出す工程。
この実施例では、本発明による付着防止層(以下、「本発明によるASL2」と呼ぶ)を製造する:
以下のものを1lの丸底フラスコに入れ、窒素でパージする:
・BlocBuilder(登録商標)MA(1モル等量) 226.17g
・2−ヒドロキシエチルアクリレート(1モル等量) 68.9g
・イソプロパノール 548g。
トルエン260.89g、並びにスチレン600g及びAM−OH開始剤20.89gを、ステンレス鋼製の反応器(機械式撹拌機及びジャケットを備えるもの)に入れる。
・数平均モル質量(Mn):9300g/mol
・重量平均モル質量(Mw):11,100g/mol
・分散性(Mw/Mn):1.19。
この実施例では、完全組込型UVナノインプリントリソグラフィープラットフォーム(HERCULES、EVG製の設備)を用いて、直径200mmまでのシリコンウェハのための転写法について、付着防止層を評価する。この設備は、生産量が高い製造のために設計されている。ナノインプリントモジュールは、SmartNIL(登録商標)技術に基づいている。
Claims (11)
- 以下の工程:
・接着プライマー(表面活性プラズマ)によって事前に処理されたか、又は事前に処理されていないテンプレート上に、付着防止層を堆積させる工程、当該付着防止層は、分子が熱により、有機若しくは無機のレドックスにより、光化学的に、せん断により、プラズマにより、又はイオン化照射の影響のもとで活性化されるとフリーラジカルを発生させる少なくとも1つの共有結合を有するホモポリマー又はコポリマーを含有するものであり、当該ホモポリマー又はコポリマーは、5mN/mより大きい表面エネルギーを有し、25℃又は使用温度で1000MPaより大きい弾性率E’を有し、かつ500g/molより大きい重量平均分子量を有するものであり、
・熱により、有機若しくは無機のレドックスにより、光化学的に、せん断により、プラズマにより、又はイオン化照射の影響のもとでフリーラジカルを発生させる共有結合を活性化させて、テンプレート上に厚さが50nm未満の膜を形成する工程、
・事前に堆積されているかどうかにかかわらず、厚さが100nm〜5mmの範囲のポリマー樹脂を、1GPaより大きいヤング率を有する担体上に堆積又は積層させる工程、
・インプリントとして用いる樹脂を重合又は冷却する工程、
・インプリントを取り出す工程
により特徴付けられる、転写法。 - フリーラジカルを発生させる共有結合が、90〜270kJ/molの結合エネルギーを有する、請求項1に記載の方法。
- ホモポリマー又はコポリマーが、制御されたラジカル重合によって製造される、請求項2に記載の方法。
- ホモポリマー又はコポリマーが、ニトロキシドを介したラジカル重合によって製造される、請求項3に記載の方法。
- ニトロキシドが、以下の式:
[式中、ラジカルRLは、15.0342より大きいモル質量を有する]
に対応する、請求項4に記載の方法。 - ニトロキシドが、N−(tert−ブチル)−1−ジエチルホスホノ−2,2−ジメチルプロピル ニトロキシドである、請求項5に記載の方法。
- メチルメタクリレート、スチレン及び2−メチル−2−[N−tert−ブチル−N−(ジエトキシホスホリル−2,2−ジメチルプロピル)アミノオキシ]プロピオン酸の合成生成物により特徴付けられる、請求項1に記載の方法で使用されるコポリマー。
- スチレン及び2−メチル−2−(N−tert−ブチル−N−(ジエトキシホスホリル−2,2−ジメチルプロピル)アミノオキシ)プロピオン酸の合成生成物により特徴付けられる、請求項1に記載の方法で使用されるホモポリマー。
- 2−メチル−2−(N−tert−ブチル−N−(ジエトキシホスホリル−2,2−ジメチルプロピル)アミノオキシ)プロピオン酸と、ヒドロキシエチルアクリレート及びスチレンとの合成生成物により特徴付けられる、請求項1に記載の方法で使用されるコポリマー。
- 以下の分野:
リソグラフィー用のマクロインプリンティング、マイクロインプリンティング、ナノインプリンティング若しくはスタンピング、マイクロエレクトロニクス、フォトニクス、光電子工学用途(LED、光起電)、MEMS、NEMS、メモリ、マイクロ流体工学、バイオテクノロジー、生物医学、自浄式表面、反射防止性表面、ディスプレイ(スクリーン)、複製担体(インプリント作製)用の転写、オーディオ若しくはビデオ、例えばCD若しくはDVD、若しくはレコード盤、又はより大型の物体、例えばレジャー、スポーツ、車又は航空学の分野における技術的用途のための物体
における、請求項1に記載の方法の使用。 - 請求項10に記載の方法を使用することによって得られる、インプリント。
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CN113075858A (zh) * | 2021-03-26 | 2021-07-06 | 歌尔股份有限公司 | 中间转印模板的处理方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030080471A1 (en) * | 2001-10-29 | 2003-05-01 | Chou Stephen Y. | Lithographic method for molding pattern with nanoscale features |
JP2011148117A (ja) * | 2010-01-19 | 2011-08-04 | Fujifilm Corp | インプリント用モールド離型剤 |
JP2011224945A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-10 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | タイヤ製造用ブラダーの製造方法 |
JP2012048772A (ja) * | 2010-08-24 | 2012-03-08 | Hoya Corp | インプリント用離型層、インプリント用離型層付きモールド及びインプリント用離型層付きモールドの製造方法 |
JP2014517763A (ja) * | 2011-04-15 | 2014-07-24 | アルケマ フランス | 表面を作る方法 |
US20150079351A1 (en) * | 2012-05-25 | 2015-03-19 | Micro Resist Technology Gesellschaft Für Chemische Materialien Spezieller Photoresistsysteme Mbh | Composition suitable for use as a release-optimized material for nanoimprint processes and uses thereof |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3008920A (en) * | 1959-04-27 | 1961-11-14 | Dow Chemical Co | Method of inhibiting homopolymerization in graft copolymers with copper salts |
US20030071016A1 (en) * | 2001-10-11 | 2003-04-17 | Wu-Sheng Shih | Patterned structure reproduction using nonsticking mold |
FR2866026B1 (fr) * | 2004-02-06 | 2008-05-23 | Arkema | Procede de polymerisation radicalaire en emulsion mettant en oeuvre des alcoxyamines hydrosolubles |
TWI248859B (en) * | 2004-11-24 | 2006-02-11 | Ind Tech Res Inst | Manufacture of mold core used in nanoimprint |
US8011916B2 (en) * | 2005-09-06 | 2011-09-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Mold, imprint apparatus, and process for producing structure |
KR20130071426A (ko) * | 2010-03-30 | 2013-06-28 | 호야 가부시키가이샤 | 임프린트용 이형층 부착 몰드 및 임프린트용 이형층 부착 몰드의 제조 방법, 카피 몰드의 제조 방법 |
FR2983773B1 (fr) * | 2011-12-09 | 2014-10-24 | Arkema France | Procede de preparation de surfaces |
US9522998B2 (en) * | 2012-04-10 | 2016-12-20 | Daikin Industries, Ltd. | Resin mold material composition for imprinting |
JP6283355B2 (ja) * | 2013-04-11 | 2018-02-21 | 綜研化学株式会社 | 積層体 |
FR3008986B1 (fr) * | 2013-07-25 | 2016-12-30 | Arkema France | Procede de controle de la periode caracterisant la morphologie obtenue a partir d'un melange de copolymere a blocs et de (co) polymeres de l'un des blocs |
FR3010414B1 (fr) * | 2013-09-09 | 2015-09-25 | Arkema France | Procede d'obtention de films epais nano-structures obtenus a partir d'une composition de copolymeres a blocs |
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US20030080471A1 (en) * | 2001-10-29 | 2003-05-01 | Chou Stephen Y. | Lithographic method for molding pattern with nanoscale features |
JP2011148117A (ja) * | 2010-01-19 | 2011-08-04 | Fujifilm Corp | インプリント用モールド離型剤 |
JP2011224945A (ja) * | 2010-04-23 | 2011-11-10 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | タイヤ製造用ブラダーの製造方法 |
JP2012048772A (ja) * | 2010-08-24 | 2012-03-08 | Hoya Corp | インプリント用離型層、インプリント用離型層付きモールド及びインプリント用離型層付きモールドの製造方法 |
JP2014517763A (ja) * | 2011-04-15 | 2014-07-24 | アルケマ フランス | 表面を作る方法 |
US20150079351A1 (en) * | 2012-05-25 | 2015-03-19 | Micro Resist Technology Gesellschaft Für Chemische Materialien Spezieller Photoresistsysteme Mbh | Composition suitable for use as a release-optimized material for nanoimprint processes and uses thereof |
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