JP2021184257A - ガス流制御のための方法および装置 - Google Patents

ガス流制御のための方法および装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2021184257A
JP2021184257A JP2021109827A JP2021109827A JP2021184257A JP 2021184257 A JP2021184257 A JP 2021184257A JP 2021109827 A JP2021109827 A JP 2021109827A JP 2021109827 A JP2021109827 A JP 2021109827A JP 2021184257 A JP2021184257 A JP 2021184257A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow rate
flow
limiter
gas
control valve
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2021109827A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7291176B2 (ja
Inventor
アール. モンコウスキー,ジョーセフ
R Monkowski Joseph
フランクリン,ジェームス
Franklin James
チェン,ジウイ
Jiuyi Cheng
ディング,タオ
Tao Ding
シュマコフ,アンドレイ
Shmakov Andrey
オーウェンズ,トラヴィス
Owens Travis
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pivotal Systems Corp
Original Assignee
Pivotal Systems Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pivotal Systems Corp filed Critical Pivotal Systems Corp
Publication of JP2021184257A publication Critical patent/JP2021184257A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7291176B2 publication Critical patent/JP7291176B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00Control of flow
    • G05D7/06Control of flow characterised by the use of electric means
    • G05D7/0617Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
    • G05D7/0629Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
    • G05D7/0635Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01FMEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F1/00Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
    • G01F1/05Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
    • G01F1/34Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure

Abstract

【課題】流量測定における潜在的変動の自己監視が可能な新規の流量測定装置を提供する。【解決手段】ガスの流量を制御するための装置であって、該装置は、制御可能なバルブと、制御可能なバルブの上流の流量制限器とを含み、バルブの位置およびバルブの上流のガス圧力が測定され、第1検索表とともに使用されて、バルブによってガスの流量を決定し、流量制限器の温度と流量制限器の上流および下流のガス圧力とが測定され、第2検索表とともに用いられて、流量制限器によってガスの流量を決定する。【選択図】図1

Description

[関連出願]
本願は、2015年7月10日に出願の米国仮特許出願第62/191,272号の優先権を主張し、その内容全体が本明細書に組み込まれる。
[技術分野]
本願は、半導体処理においてなど、特に正確な測定が必要とされるときの、ガス流の制御に関する。
ガス流量の計量は多くの工業プロセスにとって重要である。半導体産業の場合、計量は特に正確である必要があり、これはたった数パーセントの流量の揺らぎが処理の不成功を招き得るためである。
工業標準の流量制御装置は、流量を増加させるために部分的に開放される、または流量を減少させるために部分的に閉鎖されることができるバルブを含むマスフローコントローラ(MFC)である。バルブの開放は、外部から提供される設定値(すなわち所望の流量)と内部流量測定装置からの読み取り値との間の差を最小化する閉ループフィードバック回路によって制御される。流量測定装置では、ガスが流れる管の外側周囲に巻きつけられた2つの抵抗温度計素子を備えた熱センサが使用される。素子は、電流を印加することによって加熱される。ガスが管を通って流れるとき、第1の素子から熱を吸収して、それを第2の素子に伝達する。結果として生じる2つの素子間の温度差は、ガスの質量流量の尺度となる。より新しい、圧力不感応のMFCでは、圧力変換器を熱センサと制御バルブとの間に含み、流量における圧力変化の影響に対応する。
MFCで熱センサ流量測定が用いられる結果として、正確な流量制御のために装置には定期的な校正が必要とされる。定期的な校正をしないと、MFCを通過する実際の流量は、流量測定装置の変動のため許容されない値になり得る。この校正は、MFCを介して既知の内部空間内にまたは内部空間からガスを流して、内部空間における圧力上昇または圧力低下を測定することで行われることがある。実際の流量は、圧力上昇または圧力低下の速度を計算し、既定の圧力・温度・体積のガスの関係を用いて、測定されることができる。この種の測定は立ち上がり速度の校正として既知である。
ガス流量を計量する別の方法は、臨界オリフィス上流のガスの圧力を変化させることである。例えば上流圧力が下流圧力の少なくとも2倍であることなど、所定の圧力要件が満たされていれば、一定温度において臨界オリフィスを通るガスの体積流量は、上流圧力または下流圧力とは無関係である。圧力に比例する上流のガスの密度を制御することにより、臨界オリフィスを通る質量流量を制御することができる。
この種の流量制御において、圧力は、制御バルブと臨界オリフィスとの間に配置された圧力変換器を備えた閉ループ制御回路の制御バルブを用いて制御される。制御バルブは、臨界オリフィスの上流で特定の圧力を維持するために開閉される。質量流量は、臨界オリフィス上流の圧力および臨界オリフィスの既定の特性から決定される。ゆえに、正確な流量の計量は、圧力制御系の性能だけでなく、オリフィス寸法の機械的完全性および安定性によっても決まる。オリフィスは、粒子汚染による制限を受けやすく、またはオリフィスを流れるガスによる反応で腐食しやすいので、定期的に圧力・流量関係を校正することが望ましい。これは、MFCに用いられるものと同様の立ち上がり速度の測定を用いて行われる。
これらの2つのフローコントローラにおいて、流量の任意の変動は、フローコントローラに校正を行うまで発見されない。結果として、重要な処理が不正確なガス流によって大きく障害される可能性が常に存在することになる。
これらの2つの流量制御方式の短所、特に校正および欠陥の検出のために外部測定が必要であることは、改善された流量制御方式が望ましい理由を示すものである。
作動時に欠陥を検出可能な流量制御装置の主要な要件は、観察および制御可能な、十分な数のプロセス変数があることである。半導体産業で用いられる流量制御装置の大部分を含む、上述の両方の種の流量制御装置において、これらの処理を行うための十分な数のプロセス変数が存在しない。
以下の本開示の概要は、本発明の一部の態様および特徴の基本的な理解を得るために包含される。この概要は、本発明の広範な概説ではなく、それ自体で本発明の要所もしくは重要な要素を具体的に特定したり、または本発明の範囲を明確化したりすることを意図するものではない。その唯一の目的は、後述されるより詳細な説明の前置きとして、本発明の幾つかの概念を単純な形で提示することにある。
開示の実施形態では、流量測定における潜在的変動の自己監視が可能な新規の流量測定装置が提供される。
本発明の態様において、従来のマスフローコントローラは、自己分析を行うための十分なプロセス変数を有する新規のガスフローコントローラに置き換えれられる。
本発明の実施形態において、(1)バルブの位置と流量制限特性との間において、非常に正確に、且つ、繰り返し可能にマッピングするように設計され、バルブの位置を非常に正確に測定および制御をすることができる制御バルブ、ならびに(2)上流圧力と、下流圧力と、温度と、流量との間の関係が良好に特徴づけられた流量制限器、の2つの流量制限部を適用することで、十分な数のプロセス変数が利用可能になる。
本発明の実施形態では、制御バルブによってガス流量を制御する方法が提供され、該方法は、ガス流制御バルブの上流の圧力、測定されたバルブの位置、および流量を相関させる検索表を作成するステップと、ガス流制御バルブの上流の圧力と検索表から決定位置を得るために必要な駆動信号とに基づいて、制御バルブを通過する流量を確定するステップと、圧力が変化する場合、圧力が変化したときに所望の流量を得るように、ガス流制御バルブを決定された位置に連続的に保持するステップと、ガス流制御バルブの上流の流量センサを用いて流量を測定するステップと、検索表からの所望の流量と流量センサによって測定された流量との差を計算するステップと、差を用いて検索表を更新し、所望の流量を得るように連続的に圧力を測定してガス流制御バルブを調整するステップと、差が所定の値を超える場合にアラームを送信するステップと、を含む。流量センサは第2検索表を備えた流量制限器であり、該第2検索表は、流量制限器の上流および下流の圧力と流量制限器の温度との測定値に基づいて流量を決定するものであるとよい。流量制限器は、管または機械加工した金属ブロックに形成されたチャネルを含むとよく、該方法は、流量制限器の上流の圧力を、流量制限器の下流の圧力の少なくとも2倍に維持することをさらに含むとよい。流量センサは熱センサであるとよく、該方法は、熱センサの質量流量信号から流量を取得することをさらに含むとよい。
さらなる実施形態において、制御バルブによってガス流量を制御する方法が提供され、該方法は、ガス流制御バルブの上流の圧力、測定されたバルブの位置、および流量を相関させる第1検索表を作成するステップと、制御バルブの上流に配置された流量制限器を介してガス流量を決定し、ガス流量は、第2検索表と、流量制限器の上流の圧力、流量制限器の下流の圧力、および流量制限器の温度を測定した値とを用いて決定されるステップと、所望の流量を得るために、第1検索表から、要求される制御バルブ位置の変更を判定するステップと、その制御バルブ位置の変更を適用するステップと、所望の流量がゼロでない値である期間、上述のステップを反復するステップと、を含む。
他の態様において、ガスの流量を制御するための装置が提供され、該装置は、制御可能なバルブと、制御可能なバルブの上流の流量制限器とを含み、バルブの位置およびバルブ上流のガス圧力が測定され、第1検索表とともに使用されて、バルブを介してガス流量を決定し、流量制限器の温度と流量制限器の上流および下流のガス圧力とが測定され、第2検索表とともに用いられて、流量制限器を介してガス流量を決定する。第1検索表から決定された流量と第2検索表から決定された流量との比較は、流量の正確性を検証するために用いられる。流量制限器は、管または機械加工した金属ブロックに形成されたチャネルを含むとよい。
本明細書に組み込まれてその一部を構成する添付の図面は、本発明の実施形態を例示し、明細書とともに本発明の原理を説明し図示する役割を担う。図面は、例示的な実施形態の主要な構成要素を図式で示すことを意図したものである。図面では、実際の実施形態のすべての構成要素や図示された要素の相対的な寸法を描くことが意図されておらず、正確な縮尺で描かれていない。
図1は、自己検証型ガス流制御のための本発明によるガスフローコントロール装置の一実施形態の簡易的な概略模式図である。 図2Aは、制御バルブに用いられる、制御可能な高精度流量制限のための本発明による装置の一実施形態の簡易的な概略模式図である。図2Aは、閉位置の制御バルブを示す。 図2Bは、制御バルブに用いられる、制御可能な高精度流量制限のための本発明による装置の一実施形態の簡易的な概略模式図である。図2Bは、開位置の制御バルブを示し、開放量は「h」によって示される。 図3は、流量制限器の一実施形態の簡易的な概略模式図である。 図4において、図4Aおよび図4Bは、流量制限器の他の実施形態の簡易的な概略模式図である。 図5は、ガスの流量を制御および検証するための方法の一実施形態のフローチャートである。 図6は、ガスの流量を制御および検証するための方法の他の実施形態のフローチャートである。 図7は、自己検証型ガス流制御のための本発明によるガスフローコントロール装置の一実施形態の簡易的な概略模式図である。
本発明の態様において、標準的なマスフローコントローラは新規のガスフローコントローラ(gas flow controller、GFC)に置き換えられる。一般に、標準的MFCでは、測定されるものは(ガスによって運ばれる熱の形態の)エネルギー移動であり、これはガスの質量流量と相関することを理解する必要がある。しかし、開示のガスフローコントローラでは、測定および制御されるものはガス流であり、質量流量ではない。つまり、開示の構成を用いることで、ガス流が良好に制御される。
図1は、自己検証型ガス流制御のための本発明によるガスフローコントロール装置100の一実施形態の簡易的な概略模式図である。図1において、ガス源104がGFC100の吸気口101にガス流を供給する。圧力変換器106は吸気口101におけるガス圧力を測定する。次に、ガスは流量制限器110に流れ込む(図3、図4Aおよび図4Bに関して以下にさらに説明される)。第2圧力変換器112が流量制限器110の下流に設けられる。
図1において、GFC100は、(1)上流圧力と、下流圧力と、温度と、流量との間の関係が良好に特徴づけられた流量制限器110と、続く(2)バルブ位置と流量制限特性との間において、非常に正確に、且つ、繰り返し可能なマッピングを行うように設計されるとともに、バルブ位置の非常に正確な測定および制御を行うことができる制御バルブ108との2つの連続的な流量制限を実施するものである。これら2つの流量制限を連続的に行うことで、ガス流の良好な制御が可能になり、また十分なパラメータを提供して、GFCによる自己監視を可能にする。
本発明の種々の実施形態において、流量制限部の寸法を非常に高精度で測定および制御できる、制御可能な流量制限部を有する制御バルブ108が用いられる。
本発明の実施形態において、以下の特性、つまり、
1.流量制限部の2つの対向する面の一軸の動作において、他の2つの軸における横方向動作および/または回転動作が約1nm未満に限られること、
2.その一軸次元の動作の測定は約1nmの精度であること、
3.動作のアクチュエーションは約0.1nmの分解能を有すること、
を取り入れることで、このレベルの精度が得られる。
図2Aおよび図2Bには、そうした制御バルブの例示的実施形態が示される。この実施形態において、制御バルブは、流量制限部211を形成する平面接触領域を有する2つの隣接したボディ201および202からなる。図2Aは、閉鎖した、すなわち流れのない状態を示し、図2Bは開放位置を示す。図示されるように、ボディ202は、上部および下部湾曲部221を介してボディ201に連結される。一実施形態において、ボディ201及びボディ202は円筒状であり、湾曲部分221はボディ202から延びる丸いディスクであって、ボディ202と同じブロックから機械加工されたものであってもよく、例えば溶接によって単にボディ202に取り付けられたものであってもよい。他の形状も可能であるが、円形形状により、均質かつバランスのよい動作となる。この実施形態において、下部湾曲部分221は、封止空間213に対する封止部210としても機能するが、別の封止部を提供することも明らかに可能である。空間213は、ボディ201の下部分、ボディ202の底面、および下部湾曲部分221によって封じ込められ、入口配管208と連結された空間204と、出口配管209と連結された空間205とを含む。ボディ202が緩んだ位置のとき、空間204と空間205とを密封して分離する。ボディ202が上昇位置にあるとき、空間204と空間205との間で流体の流量を制御することを可能にする。
リニアアクチュエータ206は、レバー240とボディ201の上部分との間に設けられており、アクチュエータ206が伸びると、図2Bに示されるように、レバー240を上昇させて、ボディ202を上昇させ且つボディ202の湾曲部分を弾力をもって曲げるようにする。上昇位置において、流量制限面を形成するボディ202の底面は、ボディ201の補完的流量制限面から距離「h」だけ上昇し、それにより、流量制限バルブ211を介して、空間213への流体の流量の制御が可能となり、そのため、ガスが出口配管209へと流れ込むことができる。この実施形態において、2つの円筒状湾曲部は、ボディ201とボディ202との間の相対的動作を1つの自由度(垂直)に限定し、平面におけるボディの互いに対する回転を制限する。このため、流量制限部211を介した流体流量の高精度の制御が可能になる。
アクチュエータ206は第1ボディ201に設けられ、第1ボディは、第2ボディ202に作用して当該第2ボディの変位を誘発し、それにより流量制限の寸法を変更する。第1ボディには変位センサ207が設けられ、第1ボディに対する第2ボディ202の変位を測定する。あるいは、変位センサはレバー240またはアクチュエータ206の変位を測定することができる。一実施形態において、これは、1ナノメートル程度の直線変位を測定することができる容量測定装置または変位センサを用いて実施される。
閉ループ制御回路は、センサ207の出力及びアクチュエータ206の作用によって形成され、流量制限部211の寸法の制御、および結果として2つの空間を連結するフローコンダクタンスの制御を実現する。ガス流が1つの空間に導かれ、他の空間から出るように導かれて、すべての流れが2つのボディにより規定された流量制限部を通過しなければならないように、配管208及び配管209はシステムに組み込まれる。
図1に示されるように、この実施形態のGFCは流量制限器110も含む。流量制限器の典型的な実施形態は、図3および図4A〜4Bに示される。図3において、流量制限器にはU字型に湾曲した管が用いられる。図3に示されるように、この管301は、ボルト穴303に挿入されるボルトでフローコントロール装置(図示せず)のボディに固定されるフランジ302内部に溶接されて、1つは流量制限器の上流、1つは下流でこれもフローコントロール装置のボディに固定される2つの圧力変換器106および112のガス流経路に、流量制限器のガス流経路を接続する。図4A〜4Bにおいて、流量制限チャネル401がブロックに機械加工され、このブロックは同様に、ボルト穴403に挿入されるボルトでフローコントロール装置に固定される。
流量を制御する前に、検索表、またはデータを記録するいずれか他の形式(概して「検索表」として言及される)が、上流圧力と、下流圧力と、温度と、流量制限器110を通る流量との間の関係を記述するために作成される。同様の情報を得る他の方法は、上流圧力と、流量制限器にわたる圧力低下と、温度と、流量制限器110を通る流量との間の関係を記述することである。この検索表と流量制限器110両端の圧力センサ、および流量制限器の温度を測定する温度センサ114によって、流量制限器110が流量センサーとして使用されることができる。流量制限器には可動部品がないので、検索表からのガス流の変動は、あっても最小限であると考えられる。
図1のガスフローコントローラ100は、流量の正確性、およびバルブの位置、圧力変換器変動など他のパラメータについて自己診断を行うことができるように、観察および制御可能な、十分な数のパラメータを有する。さらに、これらの自己診断は、ガスフローコントローラが処理チャンバに所望の流量でガスを搬送しているときに、行うことができる。
図1のコントローラ120は、コンピュータ読み出し可能な記憶媒体内に値を保存しており、該値は、所定のガス圧力および温度について所望される流量を得るために必要とされる、要求される流量制限部開放量hを決定することを可能にする。要求される開放量は、広範囲な圧力、温度、およびバルブの位置hの値についてガス流量を測定することで事前に決定された検索表を用いて決定可能である。
図5のフローチャートにおいて、ガス制御バルブ108を通るガスの流量を制御および検証するための方法の一実施形態が示され、これは以下のようにまとめられる。
1.ステップ500において、流量の所望の設定値がコントローラ120に送信される。505において設定値が0である場合、処理が完了していると推定され、510においてコントローラはバルブを閉鎖する信号を送信し、515においてプロセスは停止する。
2.505において設定値が0でない場合、プロセスはステップ520に進み、コントローラは、圧力変換器P2 112によって示される測定圧力とともに制御バルブ108のための検索表を用いて、制御バルブの必要な位置を検索表から決定する。
3.コントローラは、バルブの決定位置を第1検索表から設定するために必要な駆動信号を決定する。これは閉ループ制御システムを用いて行われ、これにより、第1検索表から決定された位置が525にて定められたと制御バルブの位置センサが判定するまで、駆動信号を変化させる。
4.コントローラは、圧力変換器P1 106およびP2 112と、温度センサT114との値を読み取る。このデータを用いて、コントローラは、流量制限器110のための第2検索表から流量を決定する。
5.535では、コントローラは、流量制限器の第2検索表によって決定された流量と、制御バルブの第1検索表によって決定された流量とを比較する。535において値が合致すると、プロセスはステップ505に戻る。
6.535において、流量制限器の第2検索表によって決定された流量が、制御バルブの第1検索表によって決定された流量と異なるとき、540では、コントローラが、流量制限器の第2検索表によって決定された流量に合致させるように、制御バルブの第1検索表を更新する。
7.さらに、ステップ540の比較において、流量制限器の検索表によって決定された流量と、制御バルブの検索表によって決定された流量との差が、所定のしきい値より大きいことを示す場合、550において、コントローラはアラームを送信する。
8.設定値がゼロでない任意の値である期間、一定の間隔でステップ2〜7が繰り返される。
別の実施形態において、図6のフローチャートでは、制御バルブ108によってガスの流量を制御および検証するための方法が示され、これは以下のようにまとめられる。
1.600において、流量の所望の設定値をコントローラに送信する。605において設定値がゼロである場合、処理が完了していると推定され、610においてコントローラはバルブを閉鎖する信号を送信し、プロセスは停止する。
2.605において値が0でない場合、コントローラは、圧力変換器P1およびP2と、温度センサTとの値を読み取る。615において、流量制限器のための第2検索表とともにこのデータを用いて、コントローラは現在の流量を判定し、これにより、設定値の流量を得るために流量にどのくらいの変化が必要かの計算が可能になる。
3.620においてコントローラは制御バルブのための第1検索表を用い、ステップ615において判定された流量の変化を得るためにバルブがどのくらい移動する必要があるかを判定する。
4.コントローラは、625において必要な量の移動をするように制御バルブに命令する。
5.設定値がゼロでない任意の値である期間、一定の間隔で上述のステップ2、3および4が繰り返される。
6.命令、または設定値の各変更、または他の都合のよいときに、630において、流量の正確性が判定毎に確認されることがある。これは、635において、流量制限器の検索表によって決定された流量と、制御バルブの検索表によって決定された流量とを比較することで行われる。640においてこれらの2つの値が所定のしきい値を超えて異なる場合、645において警告またはアラームが送信され、流量の正確性が検証できなかったことを操作者に警告する。
この実施形態において、ステップ5に記載される一定の間隔は、制御バルブが要求される位置に移動可能である時間よりも短くなるように選択される。結果的として、制御バルブが、所望の設定値と同等に流量制限器用検索表によって決定された流量を保つために、要求される位置を最終的にとるように、コントローラは、制御バルブの要求される動きを定期的に更新している。
さらに他の実施形態において、要求される正確性がさほど高くないが、ある種の流量検証が所望される場合、流量制限器の代わりに熱センサをガス制御バルブの上流に配置することができる。これは図7の図面に示され、熱センサ701が流量の正確性を検証するために用いられている。図7において、熱センサ701によって測定される2つの発熱素子間の温度差は、GFC108の上流の、ガスの質量流量を示すものである。この質量流量データは、GFCの検索表とともに用いられて、GFCを通る実際の流量を検証し、任意の変動を修正する。「背景技術」の項において説明したように、熱センサ701は、流量制限器より不正確であり得るが、流量の検証は、制御バルブが正確に作動できない場合に有用であり、これは、制御バルブがGFC108における変動を検証するために使用可能なデータを提供するためである。図7における熱センサ701の使用は、先行技術のMFCにおいては熱センサ出力がMFCを通る流量の指標となるので、先行技術のMFCにおける使用とは異なるということが言及される。しかし、図7の実施形態において、熱センサの出力は、GFC上流の流量の指標となる一方で、GFCを通る流量は検索表によって決定され、熱センサ701の出力によって検証される。

Claims (6)

  1. ガス流制御バルブによってガス流量を制御する方法であって、
    a. 前記ガス流制御バルブの上流の圧力、バルブの測定位置、および流量を相関させる第1検索表を作成するステップと、
    b. 前記制御バルブの上流に配置された流量制限器によってガス流量を決定し、前記ガス流量は、第2検索表と、前記流量制限器の上流の圧力、前記流量制限器の下流の圧力、および前記流量制限器の温度を測定した値とを用いて決定されるステップと、
    c. 所望の流量を得るために制御バルブ位置の必要な変更を前記第1検索表から決めるステップと、
    d. 前記制御バルブの位置を変更させるステップと、
    e. 前記所望の流量と前記流量制限器を通過した流量との差を計算するステップと、
    f. 前記差を用いて前記第1検索表を更新し、前記所望の流量を得るように連続的に前記圧力を測定して前記ガス流制御バルブを調整するステップと、
    g. 前記差が所定の値を超える場合にアラームを送信するステップと、
    h. 前記所望の流量がゼロでない値である期間、上記のステップb〜gを反復するステップと、を含む方法。
  2. ガスの流量を制御するための装置であって、バルブの位置および前記バルブの上流のガス圧力が測定されるとともに、前記バルブを通過するガス流量を決定するために第1検索表とともに使用される制御可能なバルブと、流量制限器の温度と前記流量制限器の上流および下流のガス圧力とが測定されるとともに、前記ガスの流量を決定するために第2検索表とともに用いられる制御可能なバルブの上流の流量制限器と、所望の流量と前記流量制限器を通過した流量との間の差を計算し、その差を用いて前記第1検索表を更新するコントローラとを含む、装置。
  3. 前記流量の正確性を検証するために、前記第1検索表から決定された前記流量と前記第2検索表から決定された前記流量との比較が用いられる、請求項2に記載の装置。
  4. 前記流量制限器は管を含む、請求項2に記載の装置。
  5. 前記流量制限器は機械加工された金属ブロックに形成されたチャネルを含む、請求項2に記載の装置。
  6. ガスの流量を制御するための装置であって、
    制御バルブと、
    前記制御バルブの上流に配置された流量制限器と、
    前記流量制限器の上流に配置された第1圧力変換器と、
    前記流量制限器の下流かつ前記制御バルブの上流に配置された第2圧力変換器と、
    前記流量制限器において温度を測定するように配置された温度センサと、
    プロセッサおよび記憶媒体を含むコントローラと、を含み、
    前記記憶媒体は、前記制御バルブの上流で測定される前記第2圧力変換器の圧力、測定された前記制御バルブの位置、および前記制御バルブを通る流量を相関させる第1検索表と、前記流量制限器の上流の圧力、前記流量制限器の下流の圧力、前記温度センサの温度、および前記流量制限器を通る質量流量を相関させる第2検索表とを含み、
    前記コントローラは、所望の流量と前記流量制限器を通る流量との間の差を計算し、その差を用いて前記第1検索表を更新するステップとを含む、装置。
JP2021109827A 2015-07-10 2021-07-01 ガス流制御のための方法および装置 Active JP7291176B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201562191272P 2015-07-10 2015-07-10
US62/191,272 2015-07-10
JP2018500675A JP6938460B2 (ja) 2015-07-10 2016-07-08 ガス流制御のための方法および装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018500675A Division JP6938460B2 (ja) 2015-07-10 2016-07-08 ガス流制御のための方法および装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021184257A true JP2021184257A (ja) 2021-12-02
JP7291176B2 JP7291176B2 (ja) 2023-06-14

Family

ID=57730874

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018500675A Active JP6938460B2 (ja) 2015-07-10 2016-07-08 ガス流制御のための方法および装置
JP2021109827A Active JP7291176B2 (ja) 2015-07-10 2021-07-01 ガス流制御のための方法および装置

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018500675A Active JP6938460B2 (ja) 2015-07-10 2016-07-08 ガス流制御のための方法および装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10401202B2 (ja)
EP (1) EP3320408A1 (ja)
JP (2) JP6938460B2 (ja)
KR (1) KR102371907B1 (ja)
CN (1) CN107924199A (ja)
TW (1) TWI604291B (ja)
WO (1) WO2017011325A1 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2557670B (en) 2016-12-15 2020-04-15 Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh Improved gas flow control
US10983537B2 (en) 2017-02-27 2021-04-20 Flow Devices And Systems Inc. Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller
US11105664B2 (en) 2017-03-23 2021-08-31 Honeywell International Inc. Apparatus and method for creating inferential process flow measurements using flow restrictor and upstream and downstream pressure measurements
JP6670791B2 (ja) * 2017-03-30 2020-03-25 東京エレクトロン株式会社 流量制御器を検査する方法及び被処理体を処理する方法
RU2655649C1 (ru) * 2017-07-04 2018-05-29 Акционерное общество "Государственный ракетный центр имени академика В.П. Макеева" Способ измерения расхода жидкости и устройство для его осуществления
JP7164938B2 (ja) * 2017-07-31 2022-11-02 株式会社堀場エステック 流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御装置用プログラム
US10558227B2 (en) * 2018-02-15 2020-02-11 Johnson Controls Technology Company System and method for output compensation in flow sensors using pulse width modulation
US11002461B2 (en) * 2018-02-15 2021-05-11 Johnson Controls Technology Company System and method for output compensation in flow sensors
KR20200130473A (ko) * 2018-04-03 2020-11-18 램 리써치 코포레이션 Mems 코리올리 가스 유량 제어기
JP2020021176A (ja) * 2018-07-30 2020-02-06 株式会社堀場エステック 流量制御装置
WO2020154197A1 (en) * 2019-01-25 2020-07-30 Lam Research Corporation Differential-pressure-based flow meters
EP3838411A1 (en) * 2019-12-18 2021-06-23 TECAN Trading AG Pipetting device and method
CN112696520A (zh) * 2020-12-08 2021-04-23 江苏中电创新环境科技有限公司 一种气动调节阀的控制系统及其方法
CN112786223B (zh) * 2021-01-14 2023-10-31 中广核研究院有限公司 余热排出系统及流量稳定方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5332764U (ja) * 1976-08-27 1978-03-22
JPH075022U (ja) * 1993-06-22 1995-01-24 東ソー株式会社 オリフィス流量検出端
JP2005024421A (ja) * 2003-07-03 2005-01-27 Tadahiro Omi 差圧式流量計及び差圧式流量制御装置
JP2010186234A (ja) * 2009-02-10 2010-08-26 Surpass Kogyo Kk 流量コントローラ
JP2011510404A (ja) * 2008-01-18 2011-03-31 ピヴォタル システムズ コーポレーション ガスの流量を決定する方法、ガス・フロー・コントローラの動作を決定する方法、ガスフローコントロールシステムの一部の容量を決定する方法、及びガス搬送システム

Family Cites Families (130)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4114419A (en) 1977-06-06 1978-09-19 Kimbell Charles L Method of testing an analyzer to determine the accuracy thereof and a volumetric primary standard apparatus for doing same
US4285245A (en) 1979-12-06 1981-08-25 Precision Machine Products, Inc. Method and apparatus for measuring and controlling volumetric flow rate of gases in a line
JPS6062118A (ja) 1983-09-16 1985-04-10 Canon Inc 位置検出装置
US4560871A (en) 1983-12-22 1985-12-24 Marquest Medical Products, Inc. Actuator for control valves and related systems
US4617952A (en) 1984-07-31 1986-10-21 Yamatake-Honeywell Co. Limited Switching valve and an electro-pneumatic pressure converter utilizing the same
US4695034A (en) 1984-11-27 1987-09-22 Stec Inc. Fluid control device
JPS62141381A (ja) 1985-12-16 1987-06-24 Hitachi Metals Ltd 圧電駆動式弁
US5154206A (en) 1988-12-01 1992-10-13 United Technologies Corporation Vibration damper
JPH0694909B2 (ja) 1988-12-15 1994-11-24 工業技術院長 圧電素子を用いた流体制御バルブ
ES2061042T3 (es) 1989-06-14 1994-12-01 Westonbridge Int Ltd Microbomba perfeccionada.
DE3919876A1 (de) 1989-06-19 1990-12-20 Bosch Gmbh Robert Mikroventil
DE3926647A1 (de) 1989-08-11 1991-02-14 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur herstellung eines mikroventils
US5238223A (en) 1989-08-11 1993-08-24 Robert Bosch Gmbh Method of making a microvalve
US5092360A (en) 1989-11-14 1992-03-03 Hitachi Metals, Ltd. Flow rated control valve using a high-temperature stacked-type displacement device
JPH0434275A (ja) 1990-05-26 1992-02-05 Stec Kk 常閉型流体制御バルブ
US5062446A (en) 1991-01-07 1991-11-05 Sematech, Inc. Intelligent mass flow controller
US5094430A (en) 1991-03-04 1992-03-10 Stec, Inc. Control valve
US5146941A (en) * 1991-09-12 1992-09-15 Unitech Development Corp. High turndown mass flow control system for regulating gas flow to a variable pressure system
FR2685752B1 (fr) 1991-12-31 1995-03-17 Gaz De France Procede de modulation en continu d'un debit de fluide, a l'aide d'un clapet sequentiel commande electriquement.
DE4221089A1 (de) 1992-06-26 1994-01-05 Bosch Gmbh Robert Mikroventil
DE69431994T2 (de) 1993-10-04 2003-10-30 Res Int Inc Mikro-bearbeitetes fluidbehandlungsvorrichtung mit filter und regelventiler
WO1995019549A1 (en) 1994-01-14 1995-07-20 Unit Instruments, Inc. Flow meter
US5624409A (en) 1994-06-10 1997-04-29 Fluidsense Corporation Variable-pulse dynamic fluid flow controller
US5497804A (en) 1994-06-27 1996-03-12 Caterpillar Inc. Integral position sensing apparatus for a hydraulic directional valve
US5566710A (en) 1994-09-29 1996-10-22 Dana Corporation Pre-detent tactile feedback assembly for a fluid control valve
US5532922A (en) * 1994-09-30 1996-07-02 Honeywell Inc. Non-linear control system for a single input single output process
US5593134A (en) 1995-02-21 1997-01-14 Applied Power Inc. Magnetically assisted piezo-electric valve actuator
JP3291161B2 (ja) * 1995-06-12 2002-06-10 株式会社フジキン 圧力式流量制御装置
DE19526897A1 (de) 1995-07-22 1997-01-23 Bosch Gmbh Robert Mikroventil mit verbundenen Schichten und Verfahren zur Herstellung eines Mikroventils
US5684245A (en) 1995-11-17 1997-11-04 Mks Instruments, Inc. Apparatus for mass flow measurement of a gas
JP3260279B2 (ja) 1996-04-03 2002-02-25 株式会社荏原製作所 水圧電磁比例制御弁
US5730861A (en) 1996-05-06 1998-03-24 Sterghos; Peter M. Swimming pool control system
US5868159A (en) 1996-07-12 1999-02-09 Mks Instruments, Inc. Pressure-based mass flow controller
US5865417A (en) 1996-09-27 1999-02-02 Redwood Microsystems, Inc. Integrated electrically operable normally closed valve
DE19648730C2 (de) 1996-11-25 1998-11-19 Fraunhofer Ges Forschung Piezoelektrisch betätigtes Mikroventil
DE19735156C1 (de) 1996-11-25 1999-04-29 Fraunhofer Ges Forschung Piezoelektrisch betätigtes Mikroventil
US5787915A (en) 1997-01-21 1998-08-04 J. Otto Byers & Associates Servo positioning system
US6062256A (en) 1997-02-11 2000-05-16 Engineering Measurements Company Micro mass flow control apparatus and method
US5856743A (en) 1997-03-31 1999-01-05 Honeywell Inc. Position-determining apparatus
JPH1133471A (ja) 1997-07-23 1999-02-09 Tokyo Electron Ltd 塗布装置
US5942892A (en) 1997-10-06 1999-08-24 Husco International, Inc. Method and apparatus for sensing armature position in direct current solenoid actuators
US5997280A (en) 1997-11-07 1999-12-07 Maxon Corporation Intelligent burner control system
TW392048B (en) 1997-12-12 2000-06-01 Smc Kk Piezoelectric valve
JP3557087B2 (ja) 1998-02-06 2004-08-25 シーケーディ株式会社 マスフローコントローラ流量検定システム
DE19849700C2 (de) 1998-10-28 2001-06-28 Festo Ag & Co Mikroventilanordnung
EP1144890A2 (en) 1998-11-16 2001-10-17 California Institute of Technology Parylene micro check valve and fabrication method thereof
US6244296B1 (en) 1999-02-23 2001-06-12 Spx Corporation Position detection for rotary control valves
DE19914372B4 (de) 1999-03-30 2007-05-16 Pierburg Gmbh Vorrichtung zur Überwachung des Ventilhubes eines elektromagnetisch angetriebenen Ventils
JP3635982B2 (ja) 1999-04-19 2005-04-06 横河電機株式会社 バルブポジショナ及び電空変換器
JP2001012632A (ja) 1999-04-30 2001-01-16 Tokyo Keiso Co Ltd 流量調節弁及び流量調節システム
US6363958B1 (en) 1999-05-10 2002-04-02 Parker-Hannifin Corporation Flow control of process gas in semiconductor manufacturing
JP4390231B2 (ja) 1999-05-14 2009-12-24 油研工業株式会社 電磁操作装置
US6119710A (en) 1999-05-26 2000-09-19 Cyber Instrument Technologies Llc Method for wide range gas flow system with real time flow measurement and correction
US6581623B1 (en) 1999-07-16 2003-06-24 Advanced Technology Materials, Inc. Auto-switching gas delivery system utilizing sub-atmospheric pressure gas supply vessels
US6138708A (en) 1999-07-28 2000-10-31 Controls Corporation Of America Mass flow controller having automatic pressure compensator
JP2001141091A (ja) 1999-11-16 2001-05-25 Smc Corp 流量制御弁
US6460567B1 (en) 1999-11-24 2002-10-08 Hansen Technologies Corpporation Sealed motor driven valve
US6247493B1 (en) 2000-03-09 2001-06-19 Richard C. Henderson Miniature pulsatile flow controller
JP2001317646A (ja) 2000-05-08 2001-11-16 Smc Corp 圧電式流体制御弁
US6276385B1 (en) 2000-06-09 2001-08-21 Fisher Controls International, Inc. Plug and seat positioning system for control applications
US6412444B1 (en) 2000-06-21 2002-07-02 Vaughn P. Esham Animal anchor and tether system
US6539968B1 (en) * 2000-09-20 2003-04-01 Fugasity Corporation Fluid flow controller and method of operation
JP2002099330A (ja) 2000-09-22 2002-04-05 Aera Japan Ltd 流量制御装置
WO2002037199A2 (en) 2000-11-06 2002-05-10 Brooks Automation Inc. Method and apparatus for a flow regulator having an integral hinge
US6648019B2 (en) 2000-12-15 2003-11-18 Siemens Automotive Inc. Air mass flow controller
US6782906B2 (en) 2000-12-28 2004-08-31 Young-Chul Chang Time based mass flow controller and method for controlling flow rate using it
JP2002200597A (ja) 2000-12-28 2002-07-16 Matsushita Electric Works Ltd 半導体マイクロアクチュエータ及びこれを用いた半導体マイクロバルブ
JP3801446B2 (ja) 2001-01-15 2006-07-26 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
US6382226B1 (en) 2001-04-17 2002-05-07 Fisher Controls International, Inc. Method for detecting broken valve stem
US6761063B2 (en) 2001-07-02 2004-07-13 Tobi Mengle True position sensor for diaphragm valves
JP3756429B2 (ja) 2001-07-12 2006-03-15 Smc株式会社 流量制御弁
US6627465B2 (en) 2001-08-30 2003-09-30 Micron Technology, Inc. System and method for detecting flow in a mass flow controller
JP4102564B2 (ja) * 2001-12-28 2008-06-18 忠弘 大見 改良型圧力式流量制御装置
FR2836536B1 (fr) 2002-02-26 2004-05-14 Cedrat Technologies Vanne piezoelectrique
US6981518B2 (en) 2002-03-15 2006-01-03 Cytonome, Inc. Latching micro-regulator
DK1367307T3 (da) 2002-05-31 2004-08-30 Festo Ag & Co Piezoventil
US7809473B2 (en) 2002-06-24 2010-10-05 Mks Instruments, Inc. Apparatus and method for pressure fluctuation insensitive mass flow control
US7136767B2 (en) 2002-06-24 2006-11-14 Mks Instruments, Inc. Apparatus and method for calibration of mass flow controller
US6948508B2 (en) 2002-06-24 2005-09-27 Mks Instruments, Inc. Apparatus and method for self-calibration of mass flow controller
CN100422616C (zh) * 2002-08-28 2008-10-01 霍里巴斯特克公司 高精度基于压力的流量控制器
US7559926B1 (en) 2003-01-13 2009-07-14 Advanced Neuromodulation Systems, Inc. Actuation system and method for an implantable infusion pump
US7089134B2 (en) 2003-01-17 2006-08-08 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for analyzing gas flow in a gas panel
DE10314386A1 (de) 2003-03-28 2004-10-07 Abb Research Ltd. Durchflussregeleinrichtung
EP1564464B1 (de) 2004-02-11 2006-04-19 FESTO AG & Co Piezoventil
US7790325B2 (en) 2004-03-31 2010-09-07 Canon Kabushiki Kaisha Valve having valve element displaced by at least one of a movement of a diaphragm and a movement of an actuator, and fuel cell using the valve
US7882852B2 (en) 2004-05-04 2011-02-08 Woodward Hrt, Inc. Direct drive servovalve device with redundant position sensing and methods for making the same
ES2245239B1 (es) 2004-06-03 2007-03-01 Consejo Sup. Investig. Cientificas Servoposicionador para valvula de microrregulacion.
JP4086057B2 (ja) 2004-06-21 2008-05-14 日立金属株式会社 質量流量制御装置及びこの検定方法
JP2008089607A (ja) 2004-06-21 2008-04-17 Hitachi Metals Ltd 質量流量制御装置及びこの調整方法
CN100483286C (zh) 2004-06-21 2009-04-29 日立金属株式会社 流量控制装置及其调整方法
US20060006484A1 (en) 2004-07-06 2006-01-12 Dilan Seneviratne Functional material for micro-mechanical systems
WO2006014508A2 (en) 2004-07-07 2006-02-09 Parker Hannifin Corporation Flow control apparatus and method with internally isothermal control volume for flow verification
US7412986B2 (en) 2004-07-09 2008-08-19 Celerity, Inc. Method and system for flow measurement and validation of a mass flow controller
JP4977947B2 (ja) 2004-07-16 2012-07-18 日産自動車株式会社 燃料電池システム
JP2008530423A (ja) 2005-02-07 2008-08-07 ボーグワーナー・インコーポレーテッド ディーゼルエンジン用の排気スロットルegr弁モジュール
US7992395B2 (en) 2006-01-17 2011-08-09 Hussmann Corporation Expansion valve with piezo material
US7283894B2 (en) 2006-02-10 2007-10-16 Dresser, Inc. System and method for fluid regulation
US7409871B2 (en) * 2006-03-16 2008-08-12 Celerity, Inc. Mass flow meter or controller with inclination sensor
JP5123175B2 (ja) * 2006-05-26 2013-01-16 株式会社堀場エステック サーマル式質量流量計及びサーマル式質量流量制御装置
US7631492B2 (en) 2006-12-20 2009-12-15 Suresh Arvind S System and method for inhibiting uncontrolled regeneration of a particulate filter for an internal combustion engine
DE102007004595A1 (de) 2007-01-30 2008-08-07 Samson Ag Verfahren und Einrichtung zum Übertragen von elektrischen Stellungsinformationen eines Stellglieds
JP4933936B2 (ja) 2007-03-30 2012-05-16 株式会社フジキン 圧電素子駆動式制御弁
US8205629B2 (en) 2008-04-25 2012-06-26 Applied Materials, Inc. Real time lead-line characterization for MFC flow verification
CN101299767A (zh) * 2008-05-07 2008-11-05 珠海欧比特控制工程股份有限公司 流量计算系统及流量计算方法
JP5177864B2 (ja) 2008-06-04 2013-04-10 株式会社フジキン 熱式質量流量調整器用自動圧力調整器
US7826986B2 (en) * 2008-09-26 2010-11-02 Advanced Energy Industries, Inc. Method and system for operating a mass flow controller
US8844901B2 (en) 2009-03-27 2014-09-30 Horiba Stec, Co., Ltd. Flow control valve
US8160833B2 (en) * 2009-07-14 2012-04-17 Hitachi Metals, Ltd Thermal mass flow sensor with improved response across fluid types
TWI435196B (zh) 2009-10-15 2014-04-21 Pivotal Systems Corp 氣體流量控制方法及裝置
CN101696742B (zh) 2009-10-21 2010-12-08 潘兆铿 多通道阶跃式电动燃气调节阀
US8271210B2 (en) 2009-12-09 2012-09-18 Pivotal Systems Corporation Method and apparatus for enhancing in-situ gas flow measurement performance
US8271211B2 (en) * 2009-12-09 2012-09-18 Pivotal Systems Corporation Method and apparatus for enhancing in-situ gas flow measurement performance
US8265888B2 (en) 2009-12-09 2012-09-11 Pivotal Systems Corporation Method and apparatus for enhancing in-situ gas flow measurement performance
US8504311B2 (en) * 2010-04-09 2013-08-06 Hitachi Metals, Ltd. Method and mass flow controller for enhanced operating range
US9400004B2 (en) * 2010-11-29 2016-07-26 Pivotal Systems Corporation Transient measurements of mass flow controllers
US20120197446A1 (en) * 2010-12-01 2012-08-02 Glaudel Stephen P Advanced feed-forward valve-control for a mass flow controller
US9690301B2 (en) * 2012-09-10 2017-06-27 Reno Technologies, Inc. Pressure based mass flow controller
JP5809012B2 (ja) * 2011-10-14 2015-11-10 株式会社堀場エステック 流量制御装置、流量測定機構、又は、当該流量測定機構を備えた流量制御装置に用いられる診断装置及び診断用プログラム
US9557744B2 (en) * 2012-01-20 2017-01-31 Mks Instruments, Inc. System for and method of monitoring flow through mass flow controllers in real time
JP5833475B2 (ja) * 2012-03-02 2015-12-16 アズビル株式会社 ガス流量測定装置および流量制御バルブ
JP5887188B2 (ja) * 2012-04-12 2016-03-16 株式会社堀場エステック 流体制御用機器
JP5868796B2 (ja) * 2012-07-03 2016-02-24 株式会社堀場エステック 圧力制御装置、流量制御装置、及び、圧力制御装置用プログラム、流量制御装置用プログラム
CN102841178B (zh) * 2012-08-24 2014-11-19 东莞市升微机电设备科技有限公司 具有进气流量补偿控制系统的voc释放舱及控制方法
JP6002029B2 (ja) * 2012-12-26 2016-10-05 アズビル株式会社 流量演算装置および流量制御装置
US9488516B2 (en) * 2013-03-14 2016-11-08 Hitachi Metals, Ltd. On-tool mass flow controller diagnostic systems and methods
US9454158B2 (en) * 2013-03-15 2016-09-27 Bhushan Somani Real time diagnostics for flow controller systems and methods
JP6264152B2 (ja) * 2014-03-31 2018-01-24 日立金属株式会社 質量流量計、及び当該質量流量計を使用する質量流量制御装置
JP2016192039A (ja) * 2015-03-31 2016-11-10 アズビル株式会社 流量制御弁
JP6512959B2 (ja) * 2015-06-19 2019-05-15 東京エレクトロン株式会社 ガス供給系、ガス供給制御方法、及びガス置換方法
KR102579543B1 (ko) * 2015-08-31 2023-09-18 엠케이에스 인스트루먼츠, 인코포레이티드 비임계적 흐름 조건에서 압력 기반의 흐름 측정을 위한 방법 및 장치

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5332764U (ja) * 1976-08-27 1978-03-22
JPH075022U (ja) * 1993-06-22 1995-01-24 東ソー株式会社 オリフィス流量検出端
JP2005024421A (ja) * 2003-07-03 2005-01-27 Tadahiro Omi 差圧式流量計及び差圧式流量制御装置
JP2011510404A (ja) * 2008-01-18 2011-03-31 ピヴォタル システムズ コーポレーション ガスの流量を決定する方法、ガス・フロー・コントローラの動作を決定する方法、ガスフローコントロールシステムの一部の容量を決定する方法、及びガス搬送システム
JP2010186234A (ja) * 2009-02-10 2010-08-26 Surpass Kogyo Kk 流量コントローラ

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018520441A (ja) 2018-07-26
WO2017011325A1 (en) 2017-01-19
TW201702781A (zh) 2017-01-16
KR102371907B1 (ko) 2022-03-08
KR20180030089A (ko) 2018-03-21
JP6938460B2 (ja) 2021-09-22
US10401202B2 (en) 2019-09-03
JP7291176B2 (ja) 2023-06-14
CN107924199A (zh) 2018-04-17
TWI604291B (zh) 2017-11-01
EP3320408A1 (en) 2018-05-16
US20170010625A1 (en) 2017-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2021184257A (ja) ガス流制御のための方法および装置
KR101423062B1 (ko) 상류의 질량 유량 검증 시스템 및 질량 유량 측정 장치의 성능 검증 방법
US9983595B2 (en) Method and apparatus for gas flow control
JP4395186B2 (ja) 流量制御装置および体積の内部等温制御により流量検証を行うための方法
JP6093019B2 (ja) 質量流量制御システム
JP4788920B2 (ja) 質量流量制御装置、その検定方法及び半導体製造装置
US10048105B2 (en) System and method for providing a self validating mass flow controller and mass flow meter
TWI642910B (zh) 流量控制機器、流量控制機器的流量校正方法、流量測定機器及使用流量測定機器的流量測定方法
US10437264B2 (en) System and method for improving the accuracy of a rate of decay measurement for real time correction in a mass flow controller or mass flow meter by using a thermal model to minimize thermally induced error in the rod measurement
US9739655B2 (en) System and method for using a rate of decay measurement for real time measurement and correction of zero offset and zero drift of a mass flow controller or mass flow meter
JP2018010696A (ja) 質量流量コントローラ
KR20190079564A (ko) 교정 데이터 작성 장치 및 교정 데이터 작성 방법, 및 유량 제어 장치
US20170336810A1 (en) Wireless flow restrictor of a flowmeter
Wright et al. Errors in rate-of-rise gas flow measurements from flow work
JP7249030B2 (ja) 流量測定装置内の容積測定方法および流量測定装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210701

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220729

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220802

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20221026

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20221228

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230202

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230509

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230602

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7291176

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150