JP2021167722A - クリーンブース - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の高清浄度クリーンブースは、(A)高清浄度環境を成立させるための吹出し構造、(B)ブース側壁を均一な循環経路とするための二重壁構造、(C)各種装置により生じる気流の乱れ、滞留および発塵を低減するための整流構造、および(D)局所吸気機構を備え、これらは実条件を考慮した(E)数値流体力学(CFD)により設計される。
【選択図】図1
Description
(A)FFUのフィルタ占有率70%以下、フィルタ間隔500mm以下(好ましくは300mm以下)、下部200mm以内(好ましくは下部100mm)に全面パンチング板(開口率20〜40%)とした100%の全面整流機構
(B)クリーンブース全体の気流循環を均一にするため、少なくとも二面以上の側壁を二重化し(隙間〜200mm)、穴開きの床板が不要な偏流を抑えた均一循環機構
(C)装置により生じるパスライン(ライン設備での材料の通り道、プロセスエリアにおける実質重要な箇所)上の気流の乱れ、巻き上がり、剥離、渦生成等の偏流および/または滞留を低減させるための装置付帯の整流・導風手段の設置
(D)装置およびその稼働により生じるパスライン周辺の発塵と気流の乱れを回避・低減するための局所吸引機構
(E)以上のように、全体空間(A)・(B)、装置周りの空間(C)、局所空間(D)の段階的な設計を、実条件を考慮した数値流体力学(CFD:Computational Fluid Dynamics)により実行し、ISO Class3からClass4要求エリア(主にパスライン)において、下向きの速度0.3m/s前後、空気齡(吹出し位置を0sとしたときに空間内の各位置に到達するのに必要な時間)を理論値の3倍以下、クリーンブース内陽圧を20〜40Paとする
以上の構成により、安定した高清浄度空間を提供することができるようにした。
2 空気清浄手段
3 パンチング板
4 内壁
5 外壁
6 装置
7 整流・導風手段
8 局所吸引機構
Claims (8)
- 清浄度環境が求められるエリアを区画部材を用いて区画することにより局所的にクリーンブースを形成し、前記クリーンブースの天井には空気清浄手段を設け、前記空気清浄手段のフィルタ下部にパンチング板を設けたことを特徴とするクリーンブース。
- 前記クリーンブースの少なくとも二面以上の側壁を外壁と内壁で覆うことで二重壁とし、前記内壁の下部に吸込み口を設け、前記吸込み口から前記クリーンブース内の空気を吸込み、前記二重壁の隙間を通して、前記空気清浄手段へ前記クリーンブース内の空気を循環させるようにしたことを特徴とする請求項1に記載のクリーンブース。
- 前記空気清浄手段がFFUである請求項1または請求項2に記載のクリーンブース。
- 前記空気清浄手段のフィルタ占有率を70%以下とし、前記フィルタ下部200mm以内に前記パンチング板を設けたことを特徴とする請求項1から請求項3いずれか一項に記載のクリーンブース。
- 前記パンチング板を全面設けたことを特徴とする請求項1から請求項4いずれか一項に記載のクリーンブース。
- 前記パンチング板を通過した空気が平均気流速度0.1〜0.5m/sで供給されることを特徴とする請求項1から請求項5いずれか一項に記載のクリーンブース。
- 床部は穴開きの床板を不要とした請求項1から6いずれか一項に記載のクリーンブース。
- 前記外壁と前記内壁の隙間は200mm以下であることを特徴とする請求項2から請求項7いずれか一項に記載のクリーンブース。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7518874B2 (ja) | 2022-06-09 | 2024-07-18 | 株式会社Screenホールディングス | 気体供給装置、基板処理装置および基板搬送装置 |
Citations (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52121986A (en) * | 1976-04-06 | 1977-10-13 | Hitachi Plant Eng & Constr Co | Clean room filter sterilizer |
JPS5378080U (ja) * | 1976-12-01 | 1978-06-29 | ||
JPS60130315A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-11 | 株式会社大氣社 | クリ−ンブ−ス |
JPS6315438U (ja) * | 1986-07-15 | 1988-02-01 | ||
JPH04347435A (ja) * | 1991-05-22 | 1992-12-02 | Hitachi Ltd | 簡易クリーンルーム |
JPH0525241U (ja) * | 1991-03-20 | 1993-04-02 | 新日本空調株式会社 | 可搬式クリーンブースにおける曲面多孔板吹出構造 |
JPH06307108A (ja) * | 1993-04-23 | 1994-11-01 | Ind Technol Res Inst | 半導体集積回路デバイスを生産するための生産プラント及び該プラントの構築方法 |
JPH0979630A (ja) * | 1995-09-13 | 1997-03-28 | Ohbayashi Corp | クリーンルームシステム |
JPH09257289A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-09-30 | Matsushita Electron Corp | クリーンルームおよびその運転方法 |
JP2001074286A (ja) * | 1999-09-07 | 2001-03-23 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 清浄空間の形成方法及びクリーンブース |
JP2001219018A (ja) * | 1999-11-30 | 2001-08-14 | Pyuarekkusu:Kk | 空間清浄度保持装置 |
JP2001336798A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-07 | Keitaro Mori | クリーンブース |
JP2003294285A (ja) * | 2002-04-03 | 2003-10-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 防爆型ファンフィルタユニット |
CN1971151A (zh) * | 2005-11-23 | 2007-05-30 | 郭智雄 | 无尘室气体整流装置 |
JP2007155205A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | クリーンブース |
JP2008275233A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | 温調用ブース |
JP2011106757A (ja) * | 2009-11-18 | 2011-06-02 | Sanpo Denki Kk | 気流整流装置および気流整流システム |
JP2014052129A (ja) * | 2012-09-06 | 2014-03-20 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | 温調システム |
JP2014169815A (ja) * | 2013-03-04 | 2014-09-18 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | ドライブース |
JP2014169816A (ja) * | 2013-03-04 | 2014-09-18 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | ドライブース |
JP2014210091A (ja) * | 2013-04-19 | 2014-11-13 | 清水建設株式会社 | 手術室用照明装置及びこれを備えた手術室 |
JP2016050755A (ja) * | 2014-09-02 | 2016-04-11 | 株式会社日立産機システム | ファンフィルタユニット |
-
2021
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Patent Citations (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52121986A (en) * | 1976-04-06 | 1977-10-13 | Hitachi Plant Eng & Constr Co | Clean room filter sterilizer |
JPS5378080U (ja) * | 1976-12-01 | 1978-06-29 | ||
JPS60130315A (ja) * | 1983-12-16 | 1985-07-11 | 株式会社大氣社 | クリ−ンブ−ス |
JPS6315438U (ja) * | 1986-07-15 | 1988-02-01 | ||
JPH0525241U (ja) * | 1991-03-20 | 1993-04-02 | 新日本空調株式会社 | 可搬式クリーンブースにおける曲面多孔板吹出構造 |
JPH04347435A (ja) * | 1991-05-22 | 1992-12-02 | Hitachi Ltd | 簡易クリーンルーム |
JPH06307108A (ja) * | 1993-04-23 | 1994-11-01 | Ind Technol Res Inst | 半導体集積回路デバイスを生産するための生産プラント及び該プラントの構築方法 |
JPH0979630A (ja) * | 1995-09-13 | 1997-03-28 | Ohbayashi Corp | クリーンルームシステム |
JPH09257289A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-09-30 | Matsushita Electron Corp | クリーンルームおよびその運転方法 |
JP2001074286A (ja) * | 1999-09-07 | 2001-03-23 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 清浄空間の形成方法及びクリーンブース |
JP2001219018A (ja) * | 1999-11-30 | 2001-08-14 | Pyuarekkusu:Kk | 空間清浄度保持装置 |
JP2001336798A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-07 | Keitaro Mori | クリーンブース |
JP2003294285A (ja) * | 2002-04-03 | 2003-10-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 防爆型ファンフィルタユニット |
CN1971151A (zh) * | 2005-11-23 | 2007-05-30 | 郭智雄 | 无尘室气体整流装置 |
JP2007155205A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | クリーンブース |
JP2008275233A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | 温調用ブース |
JP2011106757A (ja) * | 2009-11-18 | 2011-06-02 | Sanpo Denki Kk | 気流整流装置および気流整流システム |
JP2014052129A (ja) * | 2012-09-06 | 2014-03-20 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | 温調システム |
JP2014169815A (ja) * | 2013-03-04 | 2014-09-18 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | ドライブース |
JP2014169816A (ja) * | 2013-03-04 | 2014-09-18 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | ドライブース |
JP2014210091A (ja) * | 2013-04-19 | 2014-11-13 | 清水建設株式会社 | 手術室用照明装置及びこれを備えた手術室 |
JP2016050755A (ja) * | 2014-09-02 | 2016-04-11 | 株式会社日立産機システム | ファンフィルタユニット |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
川又 亨: "製造現場におけるエアークオリティコントロール", 食品機械装置 VOL.37 NO.5, vol. 第37巻, JPN6022010437, ISSN: 0004732188 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7518874B2 (ja) | 2022-06-09 | 2024-07-18 | 株式会社Screenホールディングス | 気体供給装置、基板処理装置および基板搬送装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7102032B2 (ja) | 2022-07-19 |
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