JP2021109441A

JP2021109441A - ポリエステルフィルム

Info

Publication number: JP2021109441A
Application number: JP2020218319A
Authority: JP
Inventors: 敏弘千代; Toshihiro Sendai; 維允鈴木; Tadamasa Suzuki; 卓司東大路; Takuji Higashioji
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 2020-01-08
Filing date: 2020-12-28
Publication date: 2021-08-02

Abstract

【課題】搬送性と巻取り性に優れた表面をフィルム両側に有すると共に、良好な光学特性を有するポリエステルフィルムを提供する。【解決手段】次の（１）〜（２）の要件を満たすポリエステル樹脂を主成分とするポリエステルフィルム。（１）ポリエステルフィルムの両面の二乗平均平方根粗さＳｑ（ｎｍ）を測定した際、Ｓｑの値が高い面をＡ面とし、当該Ａ面の二乗平均平方根粗さをＳｑＡ（ｎｍ）とし、前記Ａ面とは反対側表面をＢ面とし、Ｂ面の二乗平均平方根粗さをＳｑＢ（ｎｍ）した場合において、ＳｑＡが３．０以上４．８以下であること。（２）前記Ａ面と前記Ｂ面との静摩擦係数が１．０以下であること。【選択図】なし

Description

搬送性と巻取り性に優れた表面をフィルム両側に有し、良好な光学特性を有するポリエステルフィルムに関する。

熱可塑性樹脂はその加工性の良さから、様々な工業分野に利用されている。また、これら熱可塑性樹脂をフィルム状に加工した製品は工業用途、光学製品用途、包装用途、磁気記録テープ用途など今日の生活において重要な役割を果たしている。近年、電子情報機器において、小型化、高集積化が進み、それに伴って、電子情報機器の配線作製に用いられるフィルムには加工性の向上が求められている。特に、電子情報機器の配線作製には、フィルム表面に他の素材を積層させ、フィルムごとフォトレジストなどの光学的な加工を施す手法が多く採られており、次世代製品では配線幅が２〜５μｍと非常に精細な加工を行うこと必要となってくる。このため、次世代製品の配線作製に用いられるフィルムには透明性を保持しレジスト用レーザー光がフィルム内部で光散乱することを低減することで配線描写の欠陥を防ぐことが必要となってくる。

一般に、ポリエステルフィルムは、製膜した後、ロール状に巻き取られる。この時、フィルム表面が平滑すぎるとフィルム同士が密着するため、フィルムの巻取り性や搬送性が悪化する。そのため、フィルムの巻取り性や搬送性を担保するためにフィルムに粒子を添加・含有させることで、フィルム表面を一定程度荒らす（フィルム表面に突起を形成させる）方法が知られている。添加する粒子の量を低減させたり、添加粒子の粒径を小径化したりすることでフィルムの光学特性を高めることができる。しかし、その一方でフィルム製造・加工を行う際の搬送・巻取り工程にて突起高さの高い突起部が存在しないとフィルムが密着し、シワや擦り傷が生じることで品位が低下することがある。

かかる課題に対して、例えば特許文献１では、特定の粒子径を有する粒子を表層に添加・含有させることで表層の平面性を制御する技術が公開されている。

特開２００５―５９２８５号公報

しかしながら、特許文献１に記載されているようなサイズの粒子をフィルムに添加・含有させる場合、一定程度の光学特性の向上が得られるが、依然としてフィルム中に含有する粒子に起因する光の散乱などが発生するため、次世代電子情報機器に向けた配線描写（描写性、配線欠陥抑制）には光学特性が不十分であり、粒子添加のみでは巻取り性と光学特性の両立は困難である。

本発明者らが鋭意検討したところ、上記の課題を解決するためには、片側表面の表面粗さを特定範囲内に納めると共に、反対側のフィルム表面の表面粗さを特定の範囲とすることで、平滑性と光学特性、巻取り性を両立できることが判った。本発明は上記事情に鑑み、光学特性、搬送性巻取り性を有するポリエステルフィルムを提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明は以下の構成を有する。すなわち、
［Ｉ］次の（１）〜（２）の要件を満たすポリエステル樹脂を主成分とするポリエステルフィルム。
（１）ポリエステルフィルムの両面の二乗平均平方根粗さＳｑ（ｎｍ）を測定した際、Ｓｑの値が高い面をＡ面とし、当該Ａ面の二乗平均平方根粗さをＳｑＡ（ｎｍ）とし、前記Ａ面とは反対側表面をＢ面とし、Ｂ面の二乗平均平方根粗さをＳｑＢ（ｎｍ）した場合において、ＳｑＡが３．０以上４．８以下であること。（２）前記Ａ面と前記Ｂ面との静摩擦係数が１．０以下であること。
［ＩＩ］前記Ｂ面の二乗平均平方根粗さＳｑＢが２．０以上４．５未満である［Ｉ］に記載のポリエステルフィルム。
［ＩＩＩ］前記Ａ面を有する層（Ｐ１層）に粒子が含まれており、当該粒子の体積基準粒度分布測定を行い、横軸に粒子径、縦軸に粒子の存在比率をプロットしたとき、粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域と、粒子径が１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の領域にそれぞれ１つ以上のピークを有し、粒子径が３００ｎｍを超える領域にはピークを有さない［Ｉ］または［ＩＩ］に記載のポリエステルフィルム。
［ＩＶ］前記Ｂ面を有する層（Ｐ２層）に粒子が含まれており、当該粒子の体積基準粒度分布測定を行い、横軸に粒子径、縦軸に粒子の存在比率をプロットしたとき、粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域に１つ以上のピークを有する［Ｉ］〜［ＩＩＩ］のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
［Ｖ］前記Ｐ２層に含有される粒子の体積基準粒度分布測定において、横軸に粒子径、縦軸に粒子の存在比率をプロットしたとき、粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域に２つ以上のピークを有するか、粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域と粒子径が１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の領域にそれぞれ１つ以上のピークを有する［ＩＶ］に記載のポリエステルフィルム。
［ＶＩ］前記Ａ面を有する層（Ｐ１層）、前記Ｂ面を有する層（Ｐ２層）の層厚みがどちらも２．０μｍ以下である［Ｉ］〜［Ｖ］のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
［ＶＩＩ］波長３６５ｎｍの光に対する光線透過率が８０％以上である［Ｉ］〜［ＶＩ］のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
［ＶＩＩＩ］ヘイズが０．７％以下である［Ｉ］〜［ＶＩＩ］のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
［ＶＩＩＩ］前記Ａ面、前記Ｂ面の少なくともいずれかの表面が、ＡＦＭ（ＡｔｏｍｉｃＦｏｒｃｅＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で測定される突起高さが１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の突起個数（Ｍ１０）が３．０〜４０．０個／μｍ^２以下である［Ｉ］〜［ＶＩＩＩ］のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
［Ｘ］ドライフィルムレジスト支持体用途に用いられる［Ｉ］〜［ＩＸ］のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
［ＸＩ］ドライフィルムレジスト支持体用途に用いられる際、前記Ａ面側から露光を行うように用いられる［Ｘ］に記載のポリエステルフィルム。
［ＸＩＩ］前記露光が平行露光方式で行われる［ＸＩ］に記載のポリエステルフィルム。
［ＸＩＩＩ］前記平行露光方式がプロキシミティ露光方式、コンタクト露光方式のいずれかである［ＸＩＩ］に記載のポリエステルフィルム。
［ＸＩＶ］前記露光が投影露光方式で行われる［ＸＩ］に記載のポリエステルフィルム。

本発明のポリエステルフィルムは、良好な光学特性と搬送性・巻取り性を有する。

本発明のポリエステルフィルムのＡ面の一態様をあらわす概念図である。本発明のポリエステルフィルムのＢ面の一態様をあらわす概念図である。本発明のポリエステルフィルムの２層構成をあらわす概念図である。本発明のポリエステルフィルムの異種３層構成をあらわす概念図である。本発明のポリエステルフィルムをドライフィルムレジスト支持体として用いる際に平行露光方式で露光を行う一態様をあらわす概念図である。本発明のポリエステルフィルムをドライフィルムレジスト支持体として用いる際に投影露光方式で露光を行う一態様をあらわす概念図である。

以下、本発明を詳細に説明する。

本発明はポリエステルフィルムに関する。
（ポリエステル）
本発明で言うポリエステルフィルムとは、ポリエステル樹脂を主成分とするフィルムを示す。ここでいう主成分とはフィルムの全成分１００質量％において、５０質量％を超えて含有している成分を示す。

また、本発明で言うポリエステル樹脂はジカルボン酸構成成分とジオール構成成分を重縮合してなるものである。なお、本明細書内において、構成成分とはポリエステルを加水分解することで得ることが可能な最小単位のことを示す。

かかるポリエステルを構成するジカルボン酸構成成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、もしくはそのエステル誘導体が挙げられる。

また、かかるポリエステルを構成するジオール構成成分としては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール等の脂肪族ジオール類、シクロヘキサンジメタノール、スピログリコールなどの脂環式ジオール類、上述のジオールが複数個連なったものなどが挙げられる。

本発明において用いられるポリエステル樹脂としては、機械特性、透明性の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート（ＰＥＮ）、およびＰＥＴのジカルボン酸成分の一部にイソフタル酸やナフタレンジカルボン酸を共重合したもの、ＰＥＴのジオール成分の一部にシクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、ジエチレングリコールを共重合したポリエステルが好適に用いられ、その中でも特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。

本発明のポリエステルフィルムは二軸配向していることが好ましい。二軸配向していることにより、フィルムの機械強度が向上することでシワが入りにくくなり、巻取り性が向上させることができ、また延伸工程において均一な延伸応力をかけることで表面の平滑性をフィルム全域において均一にすることができる。ここでいう二軸配向とは、広角Ｘ線回折で二軸配向のパターンを示すものをいう。ポリエステルフィルムは、一般に未延伸状態の熱可塑性樹脂シートをシート長手方向および幅方向に延伸し、その後熱処理を施し結晶配向を完了させることにより、得ることができる。詳しくは後述する。

本発明の一態様として、ポリエステルフィルムの両面の二乗平均平方根粗さＳｑ（ｎｍ）を測定した際、Ｓｑの値が高い面をＡ面とし、当該Ａ面の二乗平均平方根粗さをＳｑＡ（ｎｍ）とし、前記Ａ面とは反対側表面をＢ面とし、Ｂ面の二乗平均平方根粗さをＳｑＢ（ｎｍ）した場合において、ＳｑＡが３．０以上４．８以下であるポリエステルフィルムが挙げられる。二乗平均平方根粗さ（Ｓｑ）は、表面粗さとして一般に用いられる算術平均粗さ（Ｓａ）と比べて、高さの高い突起および、深い谷部分の影響を多く見積もった平均粗さの値である。Ａ面、およびＢ面の二乗平均平方根粗さは、後述の方法に従って走査型白色干渉顕微鏡（ＶｅｒｔＳｃａｎ）測定を行い、走査型白色干渉顕微鏡付属のソフトウェアにより求まるＩＳＯ２５１７８に基づき、後述する測定方法により測定される値である。

（Ａ面を有する層：Ｐ１層）
本発明におけるＡ面の二乗平均平方根粗さをＳｑＡ（ｎｍ）が３．０以上４．８以下であることは、Ａ面に極微細な表面凹凸と、一定程度の大きさを有する表面凹凸を兼ね備えて有していることを表す。ＳｑＡ（ｎｍ）をかかる範囲とすることで、本発明のポリエステルフィルムを巻き取る際に、Ａ面と反対面（Ｂ面）が接触する面積（以下、接触面積と称することがある）が低下するため、フィルムの巻取り性が向上するとともに搬送による傷つきが防止できる。二乗平均平方根粗さＳｑＡ（ｎｍ）が４．８より大きい場合、フィルムの搬送性・巻取り性が向上する一方で、ＳｑＡ（ｎｍ）を４．８より大きくするためには粗大な粒子を添加・含有させたり、エンボスなどで表面を荒らしたりする必要があり、フィルム透明性が下がることで、次世代に向けた微細配線形成のレジスト工程にて欠陥が生じる場合がある。二乗平均平方根粗さＳｑＡ（ｎｍ）が３．０より小さい場合、一定程度の大きさを有する表面凹凸が少ないか、極微細な表面凹凸が有していないことを表しており、フィルムが平坦になることで他の面との接触面積が増加し摩擦が増加し巻取り性が悪化し、また、シワやキズが入ることで品位が低下する。二乗平均平方根粗さＳｑＡ（ｎｍ）の好ましい範囲としては、３．６以上４．８以下、更に好ましくは３．６以上４．０以下であり、更に好ましくは３．６以上３．７以下である。

本発明のポリエステルフィルムのＡ面において、二乗平均平方根粗さＳｑＡ（ｎｍ）を上記の範囲とするための方法は特に限定されないが、例えば、ナノインプリントのようにモールドを用いて表面に形状を転写させる方法、未延伸シートに大気圧グロー放電によるプラズマ表面処理をした後、二軸延伸を行うことで地肌部を細かく荒らす方法、粒子を少量添加する方法などが挙げられる。インラインでの製膜適応性の観点からは、特定の粒径を有する粒子を特定量添加・含有させることにより一定程度の大きさを有する表面凹凸を形成させる方法と、大気圧グロー放電によるプラズマ処理を行い二軸延伸することによって極微細な表面凹凸を形成させる方法とを組み合わせることがより好ましい。ここでいう大気圧とは７００Ｔｏｒｒ〜７８０Ｔｏｒｒの範囲である。大気圧グロー放電処理は、相対する電極とアースロール間に処理対象のフィルムを導き、装置中にプラズマ励起性気体を導入し、電極間に高周波電圧を印加することにより、該気体をプラズマ励起させ電極間においてグロー放電を行うものである。これによりフィルム表面が微細に分解・除去され、地肌部を細かく荒らすことができると共に、粒子含有により形成する一定程度の大きさを有する凹凸形状を顕在化することで、極微細な表面凹凸形状と一定程度の大きさを有する表面凹凸形状の異なる形状・大きさを有する表面凹凸形状を形成させることができる。このため、後述する粒子を含有する表面においてプラズマ処理を施さない場合、二乗平均平方根高さが同様であってもプラズマにより形成する凹凸の違いにより突起高さのバリエーションが減ることで巻取り性が低下する場合がある。

プラズマ励起性気体とは前記のような条件においてプラズマ励起されうる気体をいう。プラズマ励起性気体としては、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガス、窒素、二酸化炭素、酸素、またはテトラフルオロメタンのようなフロン類およびそれらの混合物などが挙げられる。また、プラズマ励起性気体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の混合比で組み合わせてもよい。

プラズマ処理における高周波電圧の周波数は１ｋＨｚ〜１００ｋＨｚの範囲が好ましい。また、以下方法で求められる放電処理強度（Ｅ値）は、１０〜２０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２の範囲で処理することが突起形成の観点から好ましく、より好ましくは１００〜１０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２である。放電処理強度（Ｅ値）が低すぎると、突起が十分に形成されない場合があり、放電処理強度（Ｅ値）が高すぎると、ポリエステルフィルムにダメージを与えて異物が形成し粒子数Ｂが増大する場合がある。
＜放電処理強度（Ｅ値）の求め方＞
Ｅ＝Ｖｐ×Ｉｐ／（Ｓ×Ｗｔ）
Ｅ：Ｅ値（Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２）
Ｖｐ：印加電圧（Ｖ）
Ｉｐ：印加電流（Ａ）
Ｓ：処理速度（ｍ／ｍｉｎ）
Ｗｔ：処理幅（ｍ）
一般的に、大気圧グロー放電処理によってポリエステルフィルム、とくにＰＥＴやＰＥＮのように非晶部と結晶部を持つフィルムの表面を分解・除去する場合、柔らかい非晶部から分解・除去されていく。結晶部と非晶部を細分化させることで、大気圧グロー放電処理することでより微細な凹凸を形成することができ、また、結晶部を増やしておくことで柔らかい非晶部が深く削れることで表面粗さをより高くすることが可能となる。

本発明のポリエステルフィルムのＰ１層は、本発明の効果が損なわれない範囲で、粒子および、耐熱安定剤、耐酸化安定剤、帯電防止剤、有機系／無機系の易滑剤、核剤、染料、分散剤、カップリング剤、波長変換材料等の添加剤が配合されていてもよい。

本発明のポリエステルフィルムのＰ１層には、上述のＳｑＡ（ｎｍ）を制御する目的から粒子を含有してもよい。添加する粒子種に関しては特に限定されず、無機粒子、有機粒子どちらを用いても良く、２種類以上の粒子を併用してもよい。無機粒子としては例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化マグネシウム、硫酸バリウム、硫化亜鉛、リン酸カルシウム、アルミナ（αアルミナ、βアルミナ、γアルミナ、δアルミナ）、マイカ、雲母、雲母チタン、ゼオライト、タルク、クレー、カオリン、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、モンモリロナイト、ジルコニア、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイダルシリカなどが挙げられる。アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂などを構成成分とする有機粒子、コアシェル型有機粒子などが例示できる。

前記粒子の平均粒子径は、フォトレジスト工程における露光阻害を起こさないことが重要である。ドライフィルムレジストを用いた代表的な配線の作成手法としては、投影露光方式、平行露光方式（等倍投影露光方式）などが挙げられ、投影露光方式としては等倍投影露光方式、縮小投影露光方式が挙げられ、また平行露光方式としては、プロキシミティ露光方式、コンタクト露光方式が挙げられる。平行露光方式である、プロキシミティ露光方式、コンタクト露光方式は、ｉ線（波長：３６５ｎｍ）レーザー光を光源とし、配線マスクパターンに平行光を当てることで大面積を短時間で配線パターン描写を行うことができる。平行露光方式で露光を行う場合、図５に記載されているとおり、配線パターンを通過したフォトレジスト照射光がポリエステルフィルムを通過してレジスト部材に照射される。このとき、露光をされる側が前述のＡ面となるように（レジスト部材と密着させる側を前述のＢ面となるように）用いると、本発明のポリエステルフィルムとレジスト部材との間の密着性を良好とすることができ、気泡やシワなどによる露光阻害を抑制することができるため好ましい。

一方、投影露光方式（等倍投影露光方式、縮小投影露光方式）で露光を行う場合、図６に記載されているとおり、ｉ線（波長：３６５ｎｍ）を光源とした光が、配線パターンを有するレクチルを通したのち投影レンズによりレジスト部材に焦点を合わせ、配線パターン描写を数回に分けて行われる。縮小投影露光法においては、光の焦点をレジスト部材に合わせることから、ドライフィルムレジストの支持体として用いるポリエステルフィルムにおいて、レジスト部材に近い表層に含有する粒子による光の散乱の影響を受けやすい（一方、平行露光方式では、レジスト部材に近い位置に粒子を有していても、レジスト部材に遠い位置（露光される側の表層）に粒子を有していても、影響は大きく変わらない）。したがって、本発明のポリエステルフィルムをドライフィルムレジスト支持体として用いる場合において、縮小投影露光法で露光を行う場合においては、前記Ａ面側から露光を行うと、露光を行う側の反対側の表層（Ｐ２層）の粒子含有量を少なくできることから、粒子による露光阻害の影響を少なくできるため好ましい。

Ｐ１層に含有する粒子は、平均粒子径がｉ線波長である３６５ｎｍよりも小さいと、平行露光方式ある、プロキシミティ露光方式、コンタクト露光方式において、露光阻害をさらに抑制することができるため好ましい。平均粒子径は１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以上２２０ｎｍ未満であることがさらに好ましい。

また、Ｐ１層に含有する粒子は、当該粒子の体積基準粒度分布測定を行い、横軸に粒子径、縦軸に粒子の存在比率をプロットしたとき、粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域と、粒子径が１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の領域にそれぞれ１つ以上のピークを有することが好ましい。粒子径の異なる少なくとも２つ以上のピークを有する粒子を用いることで、Ａ面の表面に高さの異なる一定程度の大きさを有する凹凸を作り出すことができ、フィルムのロール巻取り時にフィルム間の隙間が形成しやすくシワの発生を低減することができる。

粒子径に対する存在比率のピークが３００ｎｍより大きい領域に存在する場合、レジスト工程での欠陥が多くなる場合が有るため、３００ｎｍより大きい領域にはピークが存在しないことが好ましい。１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域、あるいは、粒子径が１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の領域のいずれか一方にのみしかピークを有していない場合や、ピークが１０ｎｍ未満の領域にのみ存在する場合は、搬送性や巻取り性が大幅に低下する場合がある。粒子径が５０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域と、粒子径が１００ｎｍ以上２２０ｎｍ以下の領域にそれぞれ１つ以上のピークを有することがより好ましい。

本発明のポリエステルフィルムのＰ１層に含有する粒子量は特に限定されないが、透明性を損なわないためにはＰ１層の重量全体に対して２．０質量％以下とすることが好ましい。２．０質量％を超えると平均粒子径が好ましい範囲にある粒子を用いてもフィルムが部分的に白濁し、後述する光学特性が低下し、配線欠陥が増大する場合がある。より好ましくは１．０質量％以下、更に好ましくは０．８質量％以下である。

（Ａ面との反対面であるＢ面を有する層：Ｐ２層）
本発明のポリエステルフィルムは、ポリエステルフィルムの両面の二乗平均平方根粗さＳｑ（ｎｍ）を測定した際、Ｓｑの値が高い面をＡ面とし、当該Ａ面の二乗平均平方根粗さをＳｑＡ（ｎｍ）とし、前記Ａ面とは反対側表面をＢ面とし、Ｂ面の二乗平均平方根粗さをＳｑＢ（ｎｍ）した場合において、ＳｑＡ−ＳｑＢが０．１ｎｍ以上であることが好ましい。これは、片側の表面（Ａ面）を極微細な凹凸と一定程度の大きさを有する凹凸を設けた表面とすることで、搬送性や巻取り性を確保しつつ、反対側の表面（Ｂ面）の凹凸を少なくすることで他素材（例えば、レジスト部材）との密着性を向上させることができるためである。また、Ａ面の二乗平均平方根粗さＳｑＡを前述の範囲とすることで、Ｂ面を有する層（Ｐ２層）に含有させる粒子量を可能な限り低減させることができるため、透明性を向上させることができ、ドライフィルムレジスト支持体用途に用いる場合、露光阻害を抑制することができる。
すなわち、フィルム両面の二乗平均平方根粗さに差を設けることで、Ｐ１層表面（Ａ面）を搬送性・巻取り性を付与する層、Ｐ２層表面（Ｂ面）をレジスト部材との密着性に優れた平滑性を付与する層とした機能分離をさせることが可能となる。

本発明のポリエステルフィルムにおいて、ＳｑＡとＳｑＢの差（ＳｑＡ−ＳｑＢ）は、０．１以上２．０ｎｍ以下であることが好ましく、０．２以上１．３ｎｍ以下であることがさらに好ましい。かかる範囲とすることで、ポリエステルフィルムの搬送性や巻取り性を良好にしつつ、レジスト部材との密着性を良好にすることができる。

本発明のポリエステルフィルムＢ面の二乗平均平方根粗さであるＳｑＢ（ｎｍ）は２．０以上４．５未満であることが好ましい。本発明のポリエステルフィルムをドライフィルムレジスト支持体用として用いる際に露光をされる側を前述のＡ面として用いる場合、図５に示すように、Ｂ面はレジスト部材と貼り合わされることになるが、ＳｑＢ（ｎｍ）が４．５以上の場合、レジスト部材と貼り合わせる工程において密着不良を起こし気泡が入ることで歩留まりが悪くなったり、気泡によってレジスト精度が低下したりする場合がある。密着性を向上させたい場合はＳｑＢ（ｎｍ）を３．０未満とすることが好ましいが、ＳｑＢ（ｎｍ）が低下するほどフィルムの滑り性は低下し、２．０ｎｍ未満の場合、ＳｑＡ（ｎｍ）が好ましい範囲に合っても、フィルムの滑り性が著しく悪化する場合がある。ＳｑＢのより好ましく範囲としては２．５ｎｍ以上３．６ｎｍ以下である。

本発明のポリエステルフィルムのＢ面において、二乗平均平方根粗さＳｑＢ（ｎｍ）を前記範囲とする手法は特に限られるものでは無く、例えば、Ａ面表面に凹凸を形成させる方法が挙げられる。例えば、粒子を含有させる方法では、前記Ｐ１層に含有させる粒子と同種の粒子、あるいは前記Ｐ１層に含有させる粒子よりも平均粒子径の小さい粒子を、Ｂ面を有するＰ２層に含有させる方法を挙げることができる。Ｐ２層に含有させる粒子の平均粒子径としては前述の通りｉ線波長である３６５ｎｍよりも小さいことが好ましく、３００ｎｍ以下であることがより好ましく、２２０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、２０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の粒子であることが本発明のポリエステルフィルムの透明性を高める観点からは特に好ましい。また粒子径の異なる粒子を２種類以上用いることで、フィルムの巻取り性が向上する場合がある。

このため、Ｐ２層に含有する粒子としては、前述の通りｉ線波長である３６５ｎｍ超える粒子径を有することで露光方式によらず、レジストレーザー光の光散乱を誘発するため、当該粒子の体積基準粒度分布測定を行い、横軸に粒子径、縦軸に粒子の存在比率をプロットしたとき、４００ｎｍを超える領域にピークを有さないことが好ましい。より好ましくは、３６５ｎｍを超える領域にピークを有さないことが好ましい。

また、Ｐ２層に含有する粒子は、当該粒子の体積基準粒度分布測定を行い、横軸に粒子径、縦軸に粒子の存在比率をプロットしたとき、粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域に１つ以上のピークを有することが好ましく、粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域に２つ以上のピークを有することがより好ましい。かかるピークを有する粒子を用いることで、巻取性を維持しつつ、光学特性の低下を抑制することができる。Ｐ２層に含有する粒子の含有量は特に限定されないが透明性を損なわないためには、Ｐ２層全体に対して２．０質量％以下とすることが好ましい。２．０質量％を超えると平均粒子径が好ましい範囲にある粒子を用いてもフィルムが部分的に白濁し、後述する光線透過率とヘイズが好ましい範囲から外れる場合がある。より好ましくは１．０質量％以下、更に好ましくは０．８質量％以下であり、更に好ましくは０．２質量％以下である。

また、巻取性と光学特性、特に投影露光方式を用いた際の微細配線レジスト性を更に向上させる観点からは、Ｐ２層に含有する粒子は、当該粒子の体積基準粒度分布測定を行い、横軸に粒子径、縦軸に粒子の存在比率をプロットしたとき、粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域に１つ以上のピークを有し、かつ粒子径が１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の領域に１つ以上のピークを有することで突起高さのバリエーションを増加させ、フィルムロール巻取時にフィルム間に噛み込まれた空気が抜けやすく巻姿が良好になるため好ましい。

上記の通り粒子径領域の異なる２種類の粒子を用いる構成とする場合、Ｐ２層に含有される粒子は粒子径１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の領域にピークを有する粒子の含有濃度を０．００１質量％以上０．０１質量％以下とすることが好ましい。これは、粒子径１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の領域の粒子が存在することで巻取性を向上させつつ、また粒子含有濃度を上記範囲とすることで、レジスト層と接する層が含有する粒子が微細配線レジスト性の低下に寄与する平行露光方式、投影露光方式いずれともにおける微細配線レジスト性の低下を最小限に抑制できる。さらに粒子径１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域にピークを有する粒子の含有濃度を０．１質量％以下とすることで、投影露光方式を用いた際の微細配線レジスト性を更に向上させることができるため好ましい。

（中間層：Ｐ３層）
本発明のポリエステルフィルムは、単層のポリエステルフィルムであっても良く、Ｐ１層・Ｐ２層を有する２層以上の積層ポリエステルフィルムであってもよい。Ｐ１層、Ｐ２層に含有する粒子・添加剤による光学特性への影響を最小限に留めることを目的として、Ｐ１層とＰ２層の間に、実質的に粒子を含まないＰ３層を設けた３層以上の積層ポリエステルフィルムであることが好ましい。粒子を実質的に含有しないとは、ポリエステル樹脂に対する粒子の含有量が５００ｐｐｍ以下であることをあらわす。より好ましくは５０ｐｐｍ以下、最も好ましくは１０ｐｐｍ以下である。また、かかるＰ３層には、添加剤も実質的に含まないことが好ましい。

（ポリエステルフィルム）
本発明のポリエステルフィルムにおいて、フィルム固有粘度（ＩＶ）は、０．５０ｄｌ／ｇ以上であることが好ましく、より好ましくは０．６０ｄｌ／ｇ以上である。ＩＶは、分子鎖の長さを反映した数字であり、分子鎖が長い方が、同一分子鎖の中で結晶部と非晶部を明確に形成しやすいため、大気圧グロー放電処理することでより微細な突起を形成することが容易となるため好ましい。また、ＩＶが０．５０ｄｌ／ｇ未満の場合、分子鎖が短いことで結晶化が進行しやすくなるため、延伸工程で破断が頻発し製膜が困難になる場合がある。

本発明のポリエステルフィルムは、上述のＰ１層、Ｐ２層からなり、前記表面とその反対面が最表面に配される２層以上の構成（Ｐ１層／Ｐ２層、およびＰ１層／Ｐ３層／Ｐ２層）であることが好ましい。特にＰ１層に粒子・添加剤を添加する場合は光学特性の観点から３層構成とすることが好ましい。

Ｐ１層とＰ２層、Ｐ３層等の他の樹脂層を積層する方法としては特に制限されないが、後述する共押出法や、製膜途中のフィルムに他の樹脂層原料を押出機に投入して溶融押出して口金から押出しながらラミネートする方法（溶融ラミネート法）、製膜後のフィルム同士を接着剤層とを介して積層する方法などを用いることができ、中でも前述処理による突起形成と積層を同時に行える共押出法が好ましく用いられる。

本発明のポリエステルフィルムは、波長３６５ｎｍの光に対する光線透過率が８０％以上であることが好ましい。平行露光方式である、プロキシミティ露光方式、コンタクト露光方式は、ｉ線（波長：３６５ｎｍ）レーザー光を光源として露光を行うところ、波長３６５ｎｍの光に対する光線透過率が８０％以上とすることで、レジスト部材に届く光量が下がることなくフォトレジスト加工の効率を向上させることができる。より好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。

また、本発明のポリエステルフィルムは、ヘイズが０．７％以下であることが好ましい。ヘイズが０．７％を超える場合、透過光が散乱されてしまい配線に欠陥が発生する場合がある。より好ましくは、ヘイズは０．６％以下であり、更に好ましくは、ヘイズは０．５％以下である。波長３６５ｎｍの光に対する光線透過率とヘイズは、その両方を前述の好ましい範囲を同時に満たすと、フォトレジスト加工の効率が良好であり、かつ、配線精度を高めることができるため、更に好ましい。

本発明の一態様として、搬送性および巻取り性の観点から、Ａ面、Ｂ面間の静摩擦係数（μｓ）が１．０以下であるポリエステルフィルムが挙げられる。静摩擦係数を１．０以下とすることで、フィルム同士の密着によるロール巻取り時にシワが入るのを抑制し、巻取り性を向上させることができる。より好ましい範囲としては０．９５以下であり、更に好ましい範囲としては、０．９０以下である。静摩擦係数を上記の範囲とする方法は特に限られるものでは無いが、例えば、前記Ａ面のＳｑＡ（ｎｍ）を前述の範囲にした上で、前記Ａ面、前記Ｂ面の少なくともいずれかの表面が、ＡＦＭ（ＡｔｏｍｉｃＦｏｒｃｅＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で測定される突起高さが１ｎｍ以上１０ｎｍ以下という極微細な突起の個数（Ｍ_１０）が３．０個／μｍ^２以上４０．０個／μｍ^２以下とすることが挙げられる。また、かかる突起はフィルム表面に前述の大気圧グロー放電によるプラズマ処理を行うことなどにより形成することができる。極微細な突起の個数（Ｍ_１０）のさらに好ましい範囲としては３．０個／μｍ^２以上２０．０個／μｍ^２以下である。

次に、本発明のポリエステルフィルムの製造方法について、二軸配向ポリエステルフィルムを例に挙げて説明するが、本発明は、かかる例によって得られる物のみに限定して解釈されるものではない。

本発明に用いられるポリエステルを得る方法としては、常法による重合方法が採用できる。例えば、テレフタル酸等のジカルボン酸成分またはそのエステル形成性誘導体と、エチレングリコール等のジオール成分またはそのエステル形成性誘導体とを公知の方法でエステル交換反応あるいはエステル化反応させた後、溶融重合反応を行うことによって得ることができる。また、必要に応じ、溶融重合反応で得られたポリエステルを、ポリエステルの融点温度以下にて、固相重合反応を行っても良い。

本発明のポリエステルフィルムは、従来公知の製造方法で得ることが出来る。具体的には本発明のポリエステルフィルムは、必要に応じて乾燥した原料を押出機内で加熱溶融し、口金から冷却したキャストドラム上に押し出してシート状に加工する方法（溶融キャスト法）を使用することができる。その他の方法として、原料を溶媒に溶解させ、その溶液を口金からキャストドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して膜状とし、次いでかかる膜層から溶媒を乾燥除去させてシート状に加工する方法（溶液キャスト法）等も使用することができる。

２層以上の積層ポリエステルフィルムを溶融キャスト法により製造する場合、積層ポリエステルフィルムを構成する層毎に押出機を用い、各層の原料を溶融せしめ、これらを押出装置と口金の間に設けられた合流装置にて溶融状態で積層したのち口金に導き、口金からキャストドラム上に押し出してシート状に加工する方法（共押出法）が好適に用いられる。該積層シートは、表面温度２０℃以上６０℃以下に冷却されたドラム上で静電気により密着冷却固化し、未延伸シートを作製する。キャストドラムの温度は、より好ましくは２５℃以上６０℃以下、さらに好ましくは３０℃以上５５℃以下である。２０℃以下ではプラズマを照射し、二軸延伸した後のフィルム表面の突起形成が十分でない場合がある。６０℃を超えると、キャストドラムにフィルムが貼り付き、未延伸シートを得ることが困難になる場合がある。

次いで、ここで得られた未延伸フィルムに大気圧グロー放電によるプラズマ処理などの表面処理を施す。これらの表面処理は未延伸フィルムを得た直後でも、微延伸を施した後でも、縦および／又は横方向に延伸した後でも良いが、本発明では未延伸フィルムに表面処理することが好ましい。また、表面処理を施す面はキャストドラムに接していた面（ドラム面）でもキャストドラムに接していない面（非ドラム面）のいずれでも良い。

その後、未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法又は同時二軸延伸法を用いることができる。最初に長手方向、次に幅方向の延伸を行う逐次二軸延伸法が、延伸破れなく本発明のポリエステルフィルムを得るのに有効である。

（二軸延伸）
未延伸フィルムを二軸延伸する場合の延伸条件に関しては特に制限されるものでは無いが、本発明のポリエステルフィルムがポリエステルを主成分とする場合、長手方向の延伸としては、未延伸シートを７０℃以上に加熱されたロール群に導き、長手方向（縦方向、すなわちシートの進行方向）に延伸し、２０〜５０℃の温度のロール群で冷却することが好ましい。長手方向の延伸における加熱ロール温度の下限についてはシートの延伸性を損なわない限り特に制限はないが、使用するポリエステル樹脂のガラス転移温度を超えることが好ましい。また、長手方向の延伸倍率の好ましい範囲は３倍〜５倍である。より好ましい範囲としては３倍〜４．５倍である。長手方向の延伸倍率が３倍未満であると、配向結晶化が進行せずフィルム強度が著しく低下する。一方で、延伸倍率が５倍を超える場合、延伸に伴うポリエステル樹脂の配向結晶化が進行することで脆くなると共に製膜時の破れが発生する場合がある。

本発明のポリエステルフィルムではＰ１層へのプラズマ処理を施した後に縦延伸を行うため、プラズマ処理によるフィルム帯電に伴うロール粘着破れを防ぐ目的に、ロール温度を４０℃に設定した除電ロールをＰ１層側が接するように通した後に上述の延伸操作を行った。

続いて、長手方向に直角な方向（幅方向）の延伸に関しては、フィルムの両端をクリップで把持しながらテンターに導き、７０〜１６０℃の温度に加熱された雰囲気中にて、長手方向に直角な方向（幅方向）への３倍〜５倍の延伸、およびその後、延伸されたフィルムを熱処理し内部の配向構造の安定化を行うことが好ましい。熱処理時にフィルムの受けた熱履歴温度に関しては、後述する示差走査熱量計（ＤＳＣ）にて測定される融点温度の直下に現れる微小吸熱ピーク（Ｔｍｅｔａと称することがある。）温度にて確認することができるが、テンター装置設定温度としてはポリエステル（融点２５５℃）が主成分である場合には、テンター内の最高温度が２００℃以上２５０℃以下であるように設定することが好ましく、他の熱可塑性樹脂を主成分とする際は、樹脂融点−５５℃以下樹脂融点−５℃以下に設定することが好ましい。熱処理温度が２００℃を下回る場合、前記、大気圧グロー放電処理により形成された突起が十分に成長できず結果として前述の好ましい範囲の突起を形成することが困難になる。一方２５０℃を超えて熱処理を施す場合、フィルムが融解し破れが多発、生産性が低下する場合がある。より好ましい範囲としては２２０℃以上２４５℃以下である。

熱処理時にフィルムの受けた熱履歴温度を表すＴｍｅｔａの範囲としては、ポリエステル樹脂を主成分とする場合、前述の理由から１９０℃以上２４５℃以下であることが好ましい。より好ましい範囲としては２１０℃以上２４０℃以下である。
更に熱処理した後に寸法安定性を付与することを目的として、０％以上６％以下の範囲でリラックス処理を行ってもよい。
延伸倍率は、長手方向と幅方向それぞれ３〜５倍とするが、その面積倍率（縦延伸倍率×横延伸倍率）は９〜２２倍であることが好ましく、９〜２０倍であることがより好ましい。面積倍率が９倍未満であると、得られる二軸延伸シートの耐久性が不十分となり、面積倍率が２２倍を超えると延伸時に破れを生じ易くなる傾向がある。

［特性の評価方法］
Ａ．走査型白色干渉顕微鏡（ＶｅｒｔＳｃａｎ）による二乗平均平方根粗さＳｑＡ（ｎｍ）、ＳｑＢ（ｎｍ）
本発明のポリエステルフィルムより６ｃｍ×６ｃｍのサンプリングを行い、それぞれのサンプルについて、走査型白色干渉顕微鏡（装置：日立ハイテクサイエンス社製 “ＶｅｒｔＳｃａｎ”（登録商標）ＶＳ１５４０）を用い、本発明のポリエステルフィルムの両面それぞれを、５０倍対物レンズを使用して測定面積１１３μｍ×１１３μｍで３０視野測定を行う。サンプルセットは、測定Ｙ軸がサンプルフィルムの長手方向（長手方向とは、フィルムの製造工程においてフィルムが走行する方向）となるようにサンプルをステージにセットして測定する。
得られた顕微鏡像について、該顕微鏡に内蔵された表面解析ソフトウェアＶＳ−ＶｉｅｗｅｒＶｅｒｓｉｏｎ１０．０．３．０にて、下記条件にて画像処理を行った。

（画像処理条件）
下記の順にて画像処理を行う
・補間処理：完全補間
・フィルタ処理：メジアン（３×３ピクセル）
・面補正：４次
ポリエステルフィルムの片側表面に関して３０視野の走査型白色干渉顕微鏡測定を行い前述の画像処理を行った後、各像に関して、表面解析ソフトウェア内の「ＩＳＯパラメータ」解析において以下の解析条件と共に「ＨｅｉｇｈｔＰａｒａｍｅｔｅｒｓ」を選択し得られた数値群をパラメータシート欄に出力することで得られる二乗平均平方根粗さＳｑ（ｎｍ）を求め、３０視野の平均値を測定面の二乗平均平方根粗とする。同様にして前記測定面の反対表面に関して３０視野測定の平均値から二乗平均平方根粗さＳｑ（ｎｍ）を求める。両数値を比較し、数値の大きい方の表面をＡ面とし、その二乗平均平方根粗さをＳｑＡ（ｎｍ）、数値の小さな方の表面をＢ面とし、その二乗平均平方根粗さをＳｑＢ（ｎｍ）とする。この際、Ａ面を含む層をＰ１層、Ｂ面を含む層をＰ２層とする。
（ＩＳＯパラメータ解析条件）
下記の条件にてＩＳＯパラメータ解析処理を行う。
・Ｓ−Ｆｉｌｔｅｒ：自動
・正規確率紙
分割数：３００
計算範囲の上限：３．０００
計算範囲の下限：−３．０００
・パラメータ：「ＨｅｉｇｈｔＰａｒａｍｅｔｅｒｓ」のみを選択
・出力：「パラメータリスト」を選択
（パラメータシート出力）
上記ＩＳＯパラメータ解析によって表示される「ＩＳＯパラメータ」ウインドウ中の「ＨｅｉｇｈｔＰａｒａｍｅｔｅｒｓ」を選択し「パラメータシートに追加」を行うことで「パラメータシート」ウインドウの「ＩＳＯパラメータ」タブで表示される「Ｓｑ［ｎｍ］」を用いる。

Ｂ．ＡＦＭ（ＡｔｏｍｉｃＦｏｒｃｅＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）による高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起の個数Ｍ１０（個／μｍ^２）
以下の測定方法によって得られるフィルム表面の画像を、付属の解析ソフト（ＮａｎｏＳｃｏｐｅＡｎａｌｙｓｉｓＶｅｒｓｉｏｎ１．４０）を用い解析する。得られるフィルム表面のＨｅｉｇｈｔＳｅｎｓｏｒ画像を下記するＦｌａｔｔｅｎ処理のみを施した後、ＰａｒｔｉｃｌｅＡｎａｌｙｓｉｓ解析モードを下記の通り設定することで、フィルム表面の基準面が自動的に決定される。該基準面から、突起高さの閾値（ＴｈｒｅｓｈｏｌｄＨｅｉｇｈｔ）を１ｎｍ、１０ｎｍと定め、各閾値で得られる突起個数をカウントする。突起高さの閾値（ＴｈｒｅｓｈｏｌｄＨｅｉｇｈｔ）が１ｎｍ（Ｒ_１ｎｍ）での１μｍ^２当たりの突起密度の平均値（Ｄｅｎｓｉｔｙ行、Ｍｅａｎ列の値）をＮ_１ｎｍ（個／μｍ^２）、１０ｎｍ（Ｒ_１０ｎｍ）での１μｍ^２当たりの突起密度の平均値（Ｄｅｎｓｉｔｙ行、Ｍｅａｎ列の値）をＮ_１０ｎｍ（個／μｍ^２）とした時、次の式で求められる値をその測定画像の高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起の個数Ｍ１０（個／μｍ^２）とする。
Ｍ１０（個／μｍ^２）＝Ｎ_１ｎｍ（個／μｍ^２）−Ｎ_１０ｎｍ（個／μｍ^２）
前記解析を各サンプルにおける２０か所の測定画像全てにおいて行い、その平均値をサンプルの高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起の個数Ｍ１０（個／μｍ^２）とする。

［ＡＦＭ測定方法］
・装置：Ｂｒｕｋｅｒ社製原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）
ＤｉｍｅｎｔｉｏｎＩｃｏｎｗｉｔｈＳｃａｎＡｓｙｓｔ
・カンチレバー：窒化ケイ素製プローブＳｃａｎＡｓｙｓｔＡｉｒ
・走査モード：ＳｃａｎＡｓｙｓｔ
・走査速度：０．９７７Ｈｚ
・走査方向：後述する方法にて作製した測定サンプルの幅方向に走査を行う
・測定視野：５μｍ四方
・サンプルライン：５１２
・ＰｅａｋＦｏｒｃｅＳｅｔＰｏｉｎｔ：０．０１９５Ｖ〜０．０２０５Ｖ
・ＦｅｅｄｂａｃｋＧａｉｎ：１０〜２０
・ＬＰＤｅｆｌｅｃｔｉｏｎＢＷ：４０ｋＨｚ
・ＳｃａｎＡｓｙｓｔＮｏｉｓｅＴｈｒｅｓｈｏｌｄ：０．５ｎｍ
・サンプル調整：２３℃、６５％ＲＨ、２４時間静置
・ＡＦＭ測定環境：２３℃、６５％ＲＨ
・測定サンプル作成方法：ＡＦＭ試料ディスク（直径１５ｍｍ）の片面に両面テープを貼りつけ、ＡＦＭ試料ディスクと、約１５ｍｍ×１３ｍｍ（長手方向×幅方向）に切り出した本発明のポリエステルフィルムの前記表面（測定面）とは逆側の面とを張り合わせ、測定サンプルとした。

・サンプル測定回数：各サンプル同士が少なくとも５μｍ以上離れるように場所を変え、２０回測定を行う。

・測定値：測定した２０か所の画像に関して前述の解析を行い、各数値を測定しその平均値をサンプルの持つ各数値として扱う。
［Ｆｌａｔｔｅｎ処理］
・ＦｌａｔｔｅｎＯｒｄｅｒ：３ｒｄ
・ＦｌａｔｔｅｎＺＴｈｒｅｓｈｈｏｌｄｉｎｇＤｉｒｅｃｔｉｏｎ：Ｎｏｔｈｅｒｅｓｈｏｌｄｉｎｇ
・ＦｉｎｄＴｈｒｅｓｈｏｌｄｆｏｒ：ｔｈｅｗｈｏｌｅｉｍａｇｅ
・ＦｌａｔｔｅｎＺＴｈｒｅｓｈｏｌｄ％：０．００％
・ＭａｒｋＥｘｃｌｕｄｅｄＤａｔａ：Ｙｅｓ
［ＰａｒｔｉｃｌｅＡｎａｌｙｓｉｓモード設定］
（Ｄｅｔｅｃｔタブ）
・ＴｈｒｅｓｈｏｌｄＨｅｉｇｈｔ：各値に応じて入力
・ＦｅａｔｕｒｅＤｉｒｅｃｔｉｏｎ：Ａｂｏｖｅ
・ＸＡｘｉｓ：Ａｂｓｏｌｕｔｅ
・ＮｕｍｂｅｒＨｉｓｔｏｇｒａｍＢｉｎｓ：５１２
・ＨｉｓｔｏｇｒａｍＦｉｌｔｅｒＣｕｔｏｆｆ：０．００ｎｍ
・ＭｉｎＰｅａｋｔｏＰｅａｋ：１．００ｎｍ
・ＬｅｆｔＰｅａｋＣｕｔｏｆｆ：０．０００００％
・ＲｉｇｈｔＰｅａｋＣｕｔｏｆｆ：０．０００００％
（Ｍｏｄｉｆｙタブ）
・ＢｅｕｇｈｂｉｒｈｏｏｄＳｉｚｅ：３
・ＮｕｍｂｅｒＰｉｘｅｌｓＯｆｆ：１
・一切のＤｉｌａｔｅ／Ｅｒｏｄｅ操作を行わない。
（Ｓｅｌｅｃｔタブ）
・ＩｍａｇｅＣｕｒｓｏｒＭｏｄｅ：ＰａｒｔｉｃｌｅＳｅｌｅｃｔ
・ＢｏｕｎｄＰａｒｔｉｃｌｅｓ：Ｙｅｓ
・Ｎｏｎ−ＲｅｐｒｅｓｅｎｔａｔｉｖｅＰａｒｔｉｃｌｅｓ：Ｎｏ
・ＨｅｉｇｈｔＲｅｆｅｒｅｎｃｅ：ＲｅｌａｔｉｖｅＴｏＭａｘＰｅａｋ
・ＮｕｍｂｅｒＨｉｓｔｏｇｒａｍＢｉｎｓ：５０
・前記数値を求めるに際し、解析画像中の特定のピーク、エリアを選択しない。
・Ｄｉａｍｅｔｅｒ、Ｈｅｉｇｈｔ、Ａｒｅａ全てのヒストグラムで特定の場所を選択しない。

Ｃ．ヘイズ
本発明のポリエステルフィルムから一辺が５ｃｍの正方形状のフィルムサンプルを３点（３個）準備する。次にサンプルを２３℃、６０％ＲＨにおいて、４０時間放置する。それぞれのサンプルを日本電色工業（株）製濁度計「ＮＤＨ５０００」を用いて、ＪＩＳ「透明材料のヘイズの求め方」（Ｋ７１３６２０００年版）に準ずる方式で実施した。それぞれの３点（３個）のヘイズの値を平均して、ポリエステルフィルムのヘイズＨ（％）の値とした。

Ｄ．光線透過率
５ｃｍ×５ｃｍで切り出した本発明のポリエステルフィルムを分光光度計（Ｕ−４１００Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ、（株）日立ハイテクノロジーズ製）に付属の積分球を用いた構成で光線透過率測定を行った。本測定では、装置付属の酸化アルミニウムの副白板を基準として測定した。透過率測定では、前記表面とは反対面側を光源側とし、積分球の前に設置した。測定条件として、スリットは２ｎｍ、ゲインは２と設定し、走査速度を６００ｎｍ／分で波長２８０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の範囲を測定した。得られたスペクトルデータより波長３６５ｎｍにおける光線透過率を読み取る。それぞれのフィルムに関して異なる３点の波長３６５ｎｍにおける光線透過率を同様に求め、それらの平均値をポリエステルフィルム光線透過率Ｔ（％）とした。

Ｅ．静摩擦係数（μｓ）
本発明のポリエステルフィルムを２３℃６５％ＲＨにて調湿した後、製膜ライン方向が長手となるように、幅７５ｍｍ、長さ１００ｍｍの短冊状に２枚切り出してサンプルとし、スベリ係数測定装置（型式ＳＴ−２００、（株）テクノニーズ製）を使用し、２３℃６５％ＲＨ雰囲気下にて測定する。該装置の測定資料台上に短冊状サンプルを該装置引っ張り方向が短冊サンプルの長手方向となり、また前記表面側が上になるようにセットし固定する。その上にもう１枚の短冊状サンプルを前記表面が上側、引っ張り方向が長手方向になるように置き、前記表面とその反対面とを接触させるとともに、サンプル端部を該装置の加重検出用Ｕゲージに固定する。その後フィルムを静置し、その上に、サンプル接触面が６．５ｃｍ×６．５ｃｍのテフロンシートであり荷重が２００ｇの錘を置きサンプル同士を密着させた後、上側のフィルムを以下の条件で引っ張った際の静摩擦係数を測定する。５回の測定の平均値をもって静摩擦係数（μｓ）とする。
測定距離：１２ｍｍ
測定速度：２１０ｍｍ／ｍｉｎ
Ｆ．空気抜け時間
デジベック平滑度試験機（（株）東洋精機製作所製）を用いて、２５℃、６５％ＲＨにて測定する。ポリエステルフィルムを５ｃｍ角サイズに２枚切り出し、その一方の中央部に１ｃｍ角の穴を空け、それぞれを以下の通りにセットし測定を行う。まず１ｃｍ角の穴を空けたサンプルのＢ面を持つ面が試料台と接するようにセットし、試料台に空いた穴が、サンプル中央部に空けた穴以外では、完全に覆われるようにセットする。続いてその上に穴の空いていないサンプルのＢ面が、穴の空いたサンプルのＢ面とは反対面（Ａ面）と接し、かつ中央部に空いたサンプルの穴を完全に塞ぐように覆い被せてセットする。２枚のサンプルフィルムがセットされた状態で１ｋｇ／ｃｍ^２の荷重を加えて、初期減圧度を３８５ｍｍＨｇに設定する。常圧より３８５ｍｍＨｇ減圧した後、常圧に戻ろうとするため、２枚のサンプルフィルム間から空気が流れ込んでいく。この時、減圧度が３８２ｍｍＨｇから３８１ｍｍＨｇになる時間（空気抜け時間）を測定する。

２０サンプルに関して前述の空気抜け時間を測定し、数値の大きい方および小さい方からの３点ずつを除した残り１４サンプルの平均値をポリエステルフィルムの有する空気抜け時間とする。空気抜け時間が小さいほど、サンプル間に存在する空気が抜けやすいことを表しており、フィルムをロールに巻き取る際に噛み込んだ空気を原因として発生する巻取りロールにおけるシワを抑制できる。

Ｇ．ポリマー特性
（ｉ）固有粘度（ＩＶ）
オルトクロロフェノール１００ｍｌに、ポリエステルフィルムを溶解させ（溶液濃度Ｃ（測定試料質量／溶液体積）＝１．２ｇ／１００ｍｌ）、その溶液の２５℃での粘度を、オストワルド粘度計を用いて測定した。また、同様に溶媒の粘度を測定した。得られた溶液粘度、溶媒粘度を用いて、下記式（２）により、［η］を算出し、得られた値をもって固有粘度（ＩＶ）とした。
ηｓｐ／Ｃ＝［η］＋Ｋ［η］^２・Ｃ・・・（２）
（ここで、ηｓｐ＝（溶液粘度／溶媒粘度）―１、Ｋはハギンス定数（０．３４３とする）である。）
なお、測定試料を溶解させた溶液に無機粒子などの不溶物がある場合は、以下の方法を用いて測定を行った。
（１−１）オルトクロロフェノール１００ｍＬに測定試料を溶解させ、溶液濃度が１．２ｇ／１００ｍＬよりも濃い溶液を作成する。ここで、オルトクロロフェノールに供した測定試料の質量を測定試料質量とする。
（１−２）次に、不溶物を含む溶液を濾過し、不溶物の質量測定と、濾過後の濾液の体積測定を行う。
（１−３）濾過後の濾液にオルトクロロフェノールを追加して、（測定試料質量（ｇ）−不溶物の質量（ｇ））／（濾過後の濾液の体積（ｍＬ）＋追加したオルトクロロフェノールの体積（ｍＬ））が、１．２ｇ／１００ｍＬとなるように調整する。
（例えば、測定試料質量２．０ｇ／溶液体積１００ｍＬの濃厚溶液を作成したときに、該溶液を濾過したときの不溶物の質量が０．２ｇ、濾過後の濾液の体積が９９ｍＬであった場合は、オルトクロロフェノールを５１ｍＬ追加する調整を実施する。（（２．０ｇ−０．２ｇ）／（９９ｍＬ＋５１ｍＬ）＝１．２ｇ／１００ｍＬ））
（１−４）（１−３）で得られた溶液を用いて、２５℃での粘度をオストワルド粘度計を用いて測定し、得られた溶液粘度、溶媒粘度を用いて、上記式（３）により、［η］を算出し、得られた値をもって固有粘度（ＩＶ）とする。

（ｉｉ）末端カルボキシル基量（表中ではＣＯＯＨ量と記載する。）
末端カルボキシル基量については、Ｍａｕｌｉｃｅの方法に準じて、以下の方法にて測定した。（文献Ｍ．Ｊ．Ｍａｕｌｉｃｅ，Ｆ．Ｈｕｉｚｉｎｇａ，Ａｎａｌ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，２２３６３（１９６０））
ポリエステルフィルム２ｇをｏ−クレゾール／クロロホルム（質量比７／３）５０ｍＬに温度８０℃にて溶解し、０．０５ＮのＫＯＨ／メタノール溶液によって滴定し、末端カルボキシル基濃度を測定し、当量／ポリエステル１ｔの値で示した。なお、滴定時の指示薬はフェノールレッドを用いて、黄緑色から淡紅色に変化したところを滴定の終点とした。なお、測定試料を溶解させた溶液に無機粒子などの不溶物がある場合は、溶液を濾過して不溶物の質量測定を行い、不溶物の質量を測定試料質量から差し引いた値を測定試料質量とする補正を実施した。

Ｈ．含有粒子評価
（ｉ）平均粒子径
本発明のポリエステルフィルムに関して、ミクロトームを用いて表面に対して垂直方向に切削した小片を作成し、その断面を電界放射走査型電子顕微鏡ＪＳＭ−６７００Ｆ（日本電子（株）製）を用いてＰ１層またはＰ２層を１００００倍に拡大観察して撮影した。その断面写真よりＰ１層またはＰ２層中に存在する粒子の粒度分布を画像解析ソフトＩｍａｇｅ−ＰｒｏＰｌｕｓ（日本ローパー（株））を用いて求めた。断面写真は異なる任意の測定視野から選び出し、断面写真中から任意に選び出した４００個以上の粒子の円相当径を測定し体積基準平均粒子径を得た。下記粒子の構成元素分析により２種類以上の粒子が含有される場合には、各粒子に関して２００個以上の粒子の円相当径を測定し体積基準円相当径の平均値より平均粒子径を求めた。

（ｉｉ）粒度分布解析
前記（ｉ）にて記載の方法にて得られた粒子径に関して体積基準粒度分布解析を行った。ここで、体積基準粒度分布において横軸を担う粒子径は、０ｎｍを初点とした１０ｎｍ間隔毎の階級にて表す（前記（ｉ）にて記載の方法で０ｎｍを超えて１０ｎｍ以下の粒子径を有する粒子は１０ｎｍの階級に含め、前記（ｉ）にて記載の方法１０ｎｍを超えて２０ｎｍ以下の粒子径を有する粒子は２０ｎｍの階級に含めて存在比率をプロットする）。得られた粒子の粒度分布チャートから、極大を示すピークトップの粒子径を読みとった。

（ｉｉｉ）粒子含有量
本発明のポリエステルフィルムのＰ１層またはＰ２層部分を１Ｎ−ＫＯＨメタノール溶液２００ｍｌに投入して加熱還流し、ポリマーを溶解した。溶解が終了した該溶液に２００ｍｌの水を加え、ついで該液体を遠心分離器にかけて粒子を沈降させ、上澄み液を取り除いた。粒子にはさらに水を加えて洗浄、遠心分離を２回繰り返した。このようにして得られた粒子を乾燥させ、その質量を量ることで各層に含有される粒子の含有量（質量％）を算出した。添加粒子に有機粒子が含まれる場合、ポリマーは溶解するが有機粒子は溶解させない溶媒を選択し、過熱還流すること無くポリマーを溶解し、粒子を遠心分離して粒子の含有量（質量％）を算出した。

［用途特性の評価方法］
Ｉ．フォトレジスト評価
（ｉ）レジスト配線パターン作成
本発明のポリエステルフィルムを用いて、以下ａ．からｃ．の方法によりプロキシミティ露光法を用いたフォトレジスト評価を行った。
ａ．片面鏡面研磨した６インチＳｉウエハー上に、東京応化（株）製のネガレジスト“ＰＭＥＲＮ−ＨＣ６００”を塗布し、大型スピナーで回転させることによって厚み７μｍのレジスト層を作製する。次いで、窒素循環の通風オーブンを用いて７０℃の温度条件で約２０分間の前熱処理を行う。
ｂ．本発明のポリエステルフィルムのＢ面をレジスト部材と接触するように重ね、ゴム製のローラーを用いて、レジスト層上にポリエステルフィルムをラミネートした。ラミネート状態を後述の（ｉｉ）に記載の通り確認し、気泡や汚れの生じていないラミネートサンプルに関してその上に、クロム金属でパターニングされた配線パターンを配置し、そのパターン上から投影レンズを具備したｉ線（波長３６５ｎｍにピークをもつ紫外線）レーザー光を平行光として用いたプロキシミティ露光を行う。
ｃ．レジスト層からポリエステルフィルムを剥離した後、現像液Ｎ−Ａ５が入った容器にレジスト層を入れ約１分間の現像を行う。その後、現像液から取り出し、水で約１分間の洗浄を行う。現像後に作成されたレジスト配線パターンのＬ／Ｓ（μｍ）（ＬｉｎｅａｎｄＳｐａｃｅ）＝５／５μｍの３０本の状態を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて約８００〜３０００倍率で観察する。
（ｉｉ）レジスト部材密着性評価
前記（ｉ）に記載の方法にて作成したラミネートサンプル３０枚用意し、各サンプルの５ヶ所を光学顕微鏡にて５０倍観察を行い、貼り合わせ時に生じる気泡数をカウントし、レジスト部材との密着性を以下の通り評価した。
Ａ：気泡の確認できるサンプルが２枚以下
Ｂ：気泡の確認できるサンプルが３枚以上６枚未満
Ｃ：気泡の確認できるサンプルが６枚以下１０枚未満
Ｄ：気泡の確認できるサンプルが１０枚以上。
レジスト部材密着性としてはＡ〜Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。
（ｉｉｉ）微細配線レジスト性
前項（ｉ）にて観察した３０本のレジストパターンに関して、配線が１．５μｍ以上のサイズで失われた（配線欠点）本数を確認し、フィルムのレジスト欠点抑制を下記の通り評価した。
Ａ：欠けのある本数が５本以下。
Ｂ：欠けのある本数が６本以上１０本以下。
Ｃ：欠けのある本数が１１本以上１５本以下。
Ｄ：欠けのある本数が１６本以上。
微細配線レジスト性としてはＡ〜Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。

Ｊ．搬送性
本発明のポリエステルフィルムを、製膜速度が１００ｍ／分以上の条件にて製膜を行い、連続した５０００ｍのロール巻取りを行う。その際、ロール表面を、欠点検出器を用いて発生するキズに由来する欠点数をカウントしフィルム搬送性を下記の通り評価した。
Ａ：ロールの内、キズ由来の欠点数が３以下。
Ｂ：ロールの内、キズ由来の欠点数が４以上７以下。
Ｃ：ロールの内、キズ由来の欠点数が８以上１０以下。
Ｄ：ロールの内、キズ由来の欠点数が１１以上。
巻取り性としてはＡ〜Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。

Ｋ．巻取り性
前記Ｊ項と同様にして本発明のポリエステルフィルムを、製膜速度が１００ｍ／分以上の条件にて製膜を行い、連続した５０００ｍのロール巻取りを１０回採取する。得られた１０本のロールの巻き姿からフィルム巻取り性を下記の通り評価した。

Ａ：１０本のロールの内、シワの発生したロールが２本以下。
Ｂ：１０本のロールの内、シワの発生したロールが３本以上４本以下。
Ｃ：１０本のロールの内、シワの発生したロールが５本以上６本以下。
Ｄ：１０本のロールの内、シワの発生したロールが７本以上。
巻取り性としてはＡ〜Ｃが良好であり、その中で最もＡが優れている。

以下、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。

［ＰＥＴ−１の製造］テレフタル酸およびエチレングリコールから、三酸化アンチモンを触媒として、常法により重合を行い、実質的に粒子を含有しない溶融重合ＰＥＴを得た。得られた溶融重合ＰＥＴのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．５５であった。その後、常法により固相重合を行い、固相重合ＰＥＴを得た。得られた固相重合ＰＥＴのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．６５であった。

［ＭＢ−Ａの製造］前項ＰＥＴ−１の重合に際し、ＰＥＴに対する含有量が２．０質量％となるように、エチレングリコールに分散させた平均１次粒子径が８５ｎｍのδアルミナ粒子（アルミナ−１）を添加し、ＰＥＴベースマスタ―ペレットＭＢ−Ａを得た。得られた溶融重合ＭＢ−Ａのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．６３であった。

［ＭＢ−Ｂの製造］前項ＰＥＴ−１の重合に際し、ＰＥＴに対する含有量が２．０質量％となるように、エチレングリコールに分散させた平均１次粒子径が４５ｎｍのδアルミナ粒子（アルミナ−２）を添加し、ＰＥＴベースマスタ―ペレットＭＢ−Ｂを得た。得られた溶融重合ＭＢ−Ｂのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．６３であった。

［ＭＢ−Ｃの製造］前項ＰＥＴ−１の重合に際し、ＰＥＴに対する含有量が２．０質量％となるように、エチレングリコールに分散させた平均１次粒子径が６５ｎｍのδアルミナ粒子（アルミナ−３）を添加し、ＰＥＴベースマスタ―ペレットＭＢ−Ｃを得た。得られた溶融重合ＭＢ−Ｃのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．６３であった。

［ＭＢ−Ｄの製造］前項ＰＥＴ−１の重合に際し、ＰＥＴに対する含有量が２．０質量％となるように、エチレングリコールに分散させた平均１次粒子径が１６０ｎｍのδアルミナ粒子（アルミナ−３）を添加し、ＰＥＴベースマスタ―ペレットＭＢ−Ｄを得た。得られた溶融重合ＭＢ−Ｄのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．６３であった。

［ＭＢ−Ｅの製造］前項ＰＥＴ−１の重合に際し、ＰＥＴに対する含有量が２．０質量％となるように、エチレングリコールに分散させた平均１次粒子径が２１０ｎｍのシリカ粒子（シリカ−１）を添加し、ＰＥＴベースマスタ―ペレットＭＢ−Ｅを得た。得られた溶融重合ＭＢ−Ｅのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．６２であった。

［ＭＢ−Ｆの製造］前項ＰＥＴ−１の重合に際し、ＰＥＴに対する含有量が２．０質量％となるように、エチレングリコールに分散させた平均１次粒子径が３１５ｎｍのシリカ（シリカ−２）を添加し、ＰＥＴベースマスタ―ペレットＭＢ−Ｆを得た。得られた溶融重合ＭＢ−Ｆのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．６２であった。

［ＭＢ−Ｇの製造］前項ＰＥＴ−１の重合に際し、ＰＥＴに対する含有量が２．０質量％となるように、エチレングリコールに分散させた平均１次粒子径が１１０ｎｍのシリカ（シリカ−３）を添加し、ＰＥＴベースマスタ―ペレットＭＢ−Ｇを得た。得られた溶融重合ＭＢ−Ｇのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．６２であった。

［ＭＢ−Ｈの製造］前項ＰＥＴ−１の重合に際し、ＰＥＴに対する含有量が２．０質量％となるように、エチレングリコールに分散させた平均１次粒子径が３３０ｎｍのシリカ粒子（シリカ−４）を添加し、ＰＥＴベースマスタ―ペレットＭＢ−Ｈを得た。得られた溶融重合ＭＢ−Ｈのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．６３であった。

［ＭＢ−Ｉの製造］前項ＰＥＴ−１の重合に際し、ＰＥＴに対する含有量が２．０質量％となるように、エチレングリコールに分散させた平均１次粒子径が６５ｎｍのシリカ（シリカ−５）を添加し、ＰＥＴベースマスタ―ペレットＭＢ−Ｉを得た。得られた溶融重合ＭＢ−Ｉのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．６３であった。

［ＭＢ−Ｊの製造］前項ＰＥＴ−１の重合に際し、ＰＥＴに対する含有量が２．０質量％となるように、エチレングリコールに分散させた平均１次粒子径が３７０ｎｍのシリカ粒子（シリカ−６）を添加し、ＰＥＴベースマスタ―ペレットＭＢ−Ｊを得た。得られた溶融重合ＭＢ−Ｊのガラス転移温度は８１℃、融点は２５５℃、固有粘度は０．６３であった。

（実施例１）
ＰＥＴ−１、マスターペレットＭＢ−Ａ（アルミナ−１含有）、マスタ―ペレットＭＢ−Ｅ（シリカ−１含有）、マスタ―ペレットＭＢ−Ｉ（シリカ−５含有）を１８０℃で２時間半減圧乾燥した後、粒子濃度が表１に記載のＰ１層からＰ３層の量になるように配合し、３台それぞれの押出機に供給し、溶融押出してフィルタで濾過した後、フィードブロックにてＰ１層／Ｐ３層／Ｐ２層と積層するように合流させた後、Ｔダイを介し３５℃に保った冷却ロール上に静電印可キャスト法を用いて巻き付け冷却固化して未延伸フィルムを得た。この未延伸フィルムを相対する電極とアースロール間に導き、装置中に窒素ガスを導入し、処理強度（Ｅ値）が２００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２となる条件で大気圧グロー放電処理を行った。
処理後の未延伸フィルムをロール温度が３０℃に設定された除電ロールを通した後、逐次二軸延伸機により表２に記載の条件にて、長手方向に４．０倍、および幅方向にそれぞれ４．５倍、トータルで１８倍延伸しその後、定長下２３８℃で熱処理した。その後、幅方向に弛緩処理を施し、厚み１６μｍの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、含有粒子解析、表面特性、フィルム特性は表３、４に示す通りであった。用途適性評価を表５に示す通り、レジスト部材密着性は僅かに劣るものの実用の範囲内で有り、搬送性、巻取り性、平行露光法（プロキシミティ露光法）および縮小投影露光法における微細配線レジスト性が良好なフィルムであった。

（実施例２〜４）
実施例２〜４では、Ｐ１層およびＰ２層に添加する粒子を表１に記載の通り変更した以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、含有粒子解析、表面特性、フィルム特性は表３、４に示す通りであった。

実施例２では実施例１より平均粒子径の大きな粒子をＰ１層に添加することにより走査型白色干渉顕微鏡にて測定されるＰ１層表面の二乗平均平方根高さＳｑＡ（ｎｍ）が増加し静摩擦係数が低下したが滑り性評価としては実施例１と同等であった。一方、粗大な粒子が添加されることにより微細配線レジスト性は実施例１より悪化したが実用の範囲内であり、その他特性である巻取り性、レジスト部材密着性は良好なフィルムであった。
実施例３、４では実施例１より平均粒子径の小さな粒子をＰ１層およびＰ２層添加することにより走査型白色干渉顕微鏡にて測定されるＰ１層表面の二乗平均平方根高さＳｑＡ（ｎｍ）、およびＰ２層表面の二乗平均平方根高さＳｑＢ（ｎｍ）が低下した。粒子小径化によってヘイズが低下する一方で静摩擦係数は上昇し、搬送性が実施例１に比べて低下するも実用の範囲内であり、またＡ面に含有される粒子の平均粒子径が小さくなることで巻取り性も低下したが実用の範囲内であり、その他の特性に優れるフィルムであった。実施例３と実施例４では平均粒子径のより大きな粒子をＰ１層に添加している実施例４の方が搬送性と巻取り性は優れるフィルムであった。

実施例５では実施例１より平均粒子径の小さな粒子をＰ２層添加することにより、走査型白色干渉顕微鏡にて測定されるＰ２層表面の二乗平均平方根高さＳｑＢ（ｎｍ）が低下することで、レジスト部材密着性が実施例１よりも良化する一方で、実施例１より搬送性が悪化するものの実用の範囲内であり、その他の特性に優れるフィルムであった。

（実施例６、７）
実施例６では、大気圧グロー放電処理の処理強度を表２に記載の通りに変更した以外は実施例１と同様にして厚み１６ｍの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、含有粒子解析、表面特性、フィルム特性は表３、４に示す通りであった。大気圧グロー放電処理の処理強度を増加させたことにより走査型白色干渉顕微鏡にて測定されるＰ１層表面の二乗平均平方根高さＳｑＡ（ｎｍ）が増大することで静摩擦係数が低下することで、実施例１と同様に特性に優れたフィルムであった。
実施例７では、大気圧グロー放電処理の処理強度を表２に記載の通りに変更し、Ｐ２層に添加する粒子を表１の通りに変更した以外は実施例１と同様にして厚み１６ｍの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、含有粒子解析、表面特性、フィルム特性は表３、４に示す通りであった。大気圧グロー放電処理の処理強度を低下させたことにより走査型白色干渉顕微鏡にて測定されるＰ１層表面の二乗平均平方根高さＳｑＡ（ｎｍ）が減少することで静摩擦係数が増加し、搬送性が実施例１より低下するものの実用の範囲内で有り、その他の特性は実施例１と同様に特性に優れたフィルムであった。

（実施例８）
実施例８では、Ｐ１層に添加する粒子をアルミナ粒子（アルミナ−４）のみとし、表１に記載の量とすることで、走査型白色干渉顕微鏡にて測定されるＰ１層表面の二乗平均平方根高さＳｑＡ（ｎｍ）を実施例１と合わせた以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、含有粒子解析、表面特性、フィルム特性は表３、４に示す通りであった。
実施例１同様の表面粗さを有するものの、Ｐ１層に添加される粒子が１種類となることでＰ１層表面の突起高さバリエーションが減少し巻取り時にフィルム間の空気が抜けにくくなることで巻取り性が低下するものの実用の範囲内であった。その他物性は実施例１と同様に特性に優れたフィルムであった。

（実施例９）
実施例９では、フィルム構成を２層構成（Ｐ１層／Ｐ２層）に変更し、Ｐ２層に添加する粒子をシリカ粒子（シリカ−５）のみとし表１に記載の量を添加することで走査型白色干渉顕微鏡にて測定されるＰ２層表面の二乗平均平方根高さＳｑＢ（ｎｍ）を実施例１と合わせた以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、含有粒子解析、表面特性、フィルム特性は表３、４に示す通りであった。
Ｂ面は実施例１同様の表面粗さを有するものの、フィルム構成が２層構成となりＰ２層厚みが厚くなることでフィルムヘイズが増加し、微細配線レジスト性は低下するものの実用の範囲内であり、その他物性は実施例１と同様に特性に優れたフィルムであった。

（実施例１０）
実施例１０では、実施例１にて得たフィルムをレジスト評価においてＰ１層をレジスト部材と貼り合わせフォトレジスト評価を行った。レジスト部材と密着する面の表面粗さが増加することによりレジスト部材密着性が低下するも実用の範囲内であった。
フォトレジスト評価を行うに際し、平行露光法のレジスト方式を採用した場合は、レジスト部材側にＰ１層が配されフィルム内に添加された粒子とレジスト層の距離は変わっても微細配線レジスト性は実施例１と同等であった。一方で縮小投影露光法のレジスト方式を採用した場合は、レジスト層近くにＰ２層に含有される平均粒子径の大きな粒子が存在するため、微細配線レジスト性は実施例１よりも低下したが実用の範囲内であり、その他物性は実施例１と同様に優れるフィルムであった。

（実施例１１〜１２）
実施例１１および１２では、Ｐ１層およびＰ２層に添加する粒子を表１に記載の通り変更した以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、含有粒子解析、表面特性、フィルム特性は表３、４に示す通りであった。
実施例１１では、Ｐ２層に含有させる粒子処方において体積基準粒度分布測定において１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下領域にピークを有する粒子を微少量含有させる代わりに、１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満領域にピークを有する粒子の含有量を減らしているものの、Ｂ面の二乗平均平方根高さＳｑＢ（ｎｍ）は実施例１と近しく、微細配線レジスト性は実施例１と同等に優れるフィルムであった。また、１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下領域にピークを有する粒子を含有することで搬送性や巻取り性に寄与する静摩擦係数および空気抜け時間は実施例１よりも優れていた。
実施例１２では、実施例１１よりＰ１層に含有させる粒子の濃度を低下させることで、配線レジスト性は実施例１よりも優れるフィルムとなった。その一方で、１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下領域にピークを有する粒子を含有することによって、搬送性や巻取り性は実施例１と同等に優れるフィルムであった。

（実施例１３）
実施例１３では、Ｐ１層およびＰ２層に添加する粒子を表１に記載の通り変更した以外は、実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、含有粒子解析、表面特性、フィルム特性は表３、４に示す通りであった。

実施例１３では、Ｐ２層に含有させる粒子処方において体積基準粒度分布測定において１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下領域にピークを有する粒子を微少量含有させる代わりに、４００ｎｍ（３６５ｎｍ）を超える領域にピークを有する粒子を含有させることで、Ｂ面の二乗平均平方根高さＳｑＢ（ｎｍ）は実施例１よりも大きくなることで、レジスト部材密着性および微細配線レジスト性は実施例１より低下するものの実用の範囲内であった。一方で、４００ｎｍ（３６５ｎｍ）を超える領域にピークを有する粒子が存在することで搬送性や巻取り性に寄与する静摩擦係数および空気抜け時間は優れていた。

（比較例１）
実施例１と同様の方法で未延伸フィルムを得た後、大気圧グロー放電処理を行わずに、実施例１での除電ロールおよび逐次二軸延伸機へと導入したこと以外は実施例１と同様の方法で二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、含有粒子解析、表面特性、フィルム特性は表３、４に示す通りであった。
大気圧グロー放電処理を実施していないため、走査型白色干渉顕微鏡にて測定されＰ１層表面の二乗平均平方根高さより平均粒子径の小さい粒子を含有するＰ２層よりも大幅に低下した。実施例１に比べＳｑＡ（ｎｍ）、ＳｑＢ（ｎｍ）が大幅に低下することで静摩擦係数が増大することで、搬送性が大幅低下するとともに、大気圧グロー放電処理を施さないためＰ１層表面の突起高さが大幅に減少しまた突起高さのバリエーションも少なくなることで巻取り時にフィルム間の空気が抜けにくくなり巻取り性が大幅に劣るフィルムとなった。

（比較例２）
Ｐ１層に実施例１より平均粒子径の大きなシリカ粒子（シリカ−４）を添加した以外は、実施例１と同様の方法で二軸配向ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、含有粒子解析、表面特性、フィルム特性は表３、４に示す通りであった。Ｐ１層に粗大なシリカ粒子が添加されたことでＰ１層表面の二乗平均平方根高さが増大する一方でヘイズが増加し、微細配線レジスト性が大幅に劣るフィルムとなった。

（比較例３、４）
比較例３、４では、Ｐ１層に添加する粒子を表１に記載の通り変更し、Ｐ２層に粒子を添加せずフィルム構成を２層構成とした以外は実施例１と同様にして厚み１６μｍの二軸配向フィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの構成、含有粒子解析、表面特性、フィルム特性は表３、４に示す通りであった。
比較例３では、平均粒子径を小さな粒子を少量添加したのみのため、ＳｑＡ（ｎｍ）およびＳｑＢ（ｎｍ）が大幅に低下し、搬送性と巻取り性に大幅に劣るフィルムであった。
比較例４では、Ｐ１層の二乗平均平方根高さは実施例１と同様であるものの、粒子を添加しないＰ２層の二乗平均平方根高さが大幅に低下するため、比較例５に比べ巻取り性は改善する一方で搬送性が大幅に劣るフィルムであった。

本発明のポリエステルフィルムは良好な光学特性と搬送性・巻取り性を有するため、片面に感光樹脂組成物を体積して使用することで、次世代向けた微細配線を加工する工程にて好適に用いることができる。

１．ＳｑＡの表面を有する層（Ｐ１層）
２．ＳｑＡを有する表面（Ａ面）
３．走査型白色干渉顕微鏡測定におけるＡ面側の基準面（高さ０ｎｍ）
４．Ａ面に存在する突起
５．Ｐ１層と反対側の表層（Ｐ２層）
６．Ｐ１層と反対側の表面（Ｂ面）
７．走査型白色干渉顕微鏡測定におけるＢ面側の基準面（高さ０ｎｍ）
８．Ｂ面に存在する突起
９．Ｐ３層
１０．フォトレジスト照射光（平行光線）
１１．配線パターンを有するフォトマスク
１２．レジスト部材
１３．フォトマスクを通過して平行にレジスト部材に照射されるフォトレジスト照射光
１４．投影レンズ
１５．フォトマスクを通過後、投影レンズにより縮小されながらレジスト部材に照射されるフォトレジスト照射光

Claims

次の（１）〜（２）の要件を満たすポリエステル樹脂を主成分とするポリエステルフィルム。
（１）ポリエステルフィルムの両面の二乗平均平方根粗さＳｑ（ｎｍ）を測定した際、Ｓｑの値が高い面をＡ面とし、当該Ａ面の二乗平均平方根粗さをＳｑＡ（ｎｍ）とし、前記Ａ面とは反対側表面をＢ面とし、Ｂ面の二乗平均平方根粗さをＳｑＢ（ｎｍ）した場合において、ＳｑＡが３．０以上４．８以下であること。
（２）前記Ａ面と前記Ｂ面との静摩擦係数が１．０以下であること。
前記Ｂ面の二乗平均平方根粗さＳｑＢが２．０以上４．５未満である請求項１に記載のポリエステルフィルム。
前記Ａ面を有する層（Ｐ１層）に粒子が含まれており、当該粒子の体積基準粒度分布測定を行い、横軸に粒子径、縦軸に粒子の存在比率をプロットしたとき、粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域と、粒子径が１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の領域にそれぞれ１つ以上のピークを有し、粒子径が３００ｎｍを超える領域にはピークを有さない請求項１または２に記載のポリエステルフィルム。
前記Ｂ面を有する層（Ｐ２層）に粒子が含まれており、当該粒子の体積基準粒度分布測定を行い、横軸に粒子径、縦軸に粒子の存在比率をプロットしたとき、粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域に１つ以上のピークを有する請求項１〜３のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
前記Ｐ２層に含有される粒子の体積基準粒度分布測定において、横軸に粒子径、縦軸に粒子の存在比率をプロットしたとき、粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域に２つ以上のピークを有するか、粒子径が１０ｎｍ以上１００ｎｍ未満の領域と粒子径が１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の領域にそれぞれ１つ以上のピークを有する請求項４に記載のポリエステルフィルム。
前記Ａ面を有する層（Ｐ１層）、前記Ｂ面を有する層（Ｐ２層）の層厚みがどちらも２．０μｍ以下である請求項１〜５のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
波長３６５ｎｍの光に対する光線透過率が８０％以上である請求項１〜６のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
ヘイズが０．７％以下である請求項１〜７のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
前記Ａ面、前記Ｂ面の少なくともいずれかの表面が、ＡＦＭ（ＡｔｏｍｉｃＦｏｒｃｅＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）で測定される突起高さが１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の突起個数（Ｍ１０）が３．０〜４０．０個／μｍ^２以下である請求項１〜８のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
ドライフィルムレジスト支持体用途に用いられる請求項１〜９のいずれかに記載のポリエステルフィルム。
ドライフィルムレジスト支持体用途に用いられる際、前記Ａ面側から露光を行うように用いられる請求項１０に記載のポリエステルフィルム。
前記露光が平行露光方式で行われる請求項１１に記載のポリエステルフィルム。
前記平行露光方式がプロキシミティ露光方式、コンタクト露光方式のいずれかである請求項１２に記載のポリエステルフィルム。
前記露光が投影露光方式で行われる請求項１１に記載のポリエステルフィルム。