JP2021100822A - 樹脂フィルム、積層フィルム、光学部材、表示部材、前面板、及び積層フィルムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】屈曲性に優れる積層フィルムを提供すること。【解決手段】ポリイミド系高分子を含有する樹脂フィルム10と、樹脂フィルム10の少なくとも一方の主面10a側に設けられた機能層20とを備える積層フィルム30が開示される。樹脂フィルム10のヘイズが1.5%以下である。樹脂フィルム10が、ケイ素原子を含むケイ素材料を更に含有してもよい。積層フィルム30に機能層20の側から所定の光を照射する光照射試験を行ったときに、積層フィルム30の光照射試験前後での黄色度の差が2.5未満であってもよい。樹脂フィルム10の主面10aにおける、ケイ素原子と窒素原子との原子数比であるSi/Nが8以上であってもよい。【選択図】図2
Description
本発明は、樹脂フィルム、積層フィルム、光学部材、表示部材、前面板、及び積層フィルムの製造方法に関する。
従来、太陽電池又はディスプレイ等の各種表示部材の基材材料として、ガラスが用いられてきた。しかしながら、ガラスは、割れやすい、重いとった欠点があるとともに、近年のディスプレイの薄型化、軽量化及びフレキシブル化に際して、必ずしも充分な材質特性を有していなかった。そのため、ガラスに代わる材料として、アクリル系樹脂、及び樹脂に耐擦傷性を付与した積層フィルムが検討されている。また、ポリイミド及びシリカを含むハイブリッドフィルムのような有機材料と無機材料の複合材料も検討されている(例えば、特許文献1、2参照。)。
公知のアクリル系樹脂を基材として有し、基材上に設けられた機能層を有する積層フィルムは、フレキシブルデバイスの表示部材又は前面板として用いるには屈曲性が必ずしも充分ではなかった。
そこで、本発明の一側面は、屈曲性に優れる積層フィルムを提供することを目的とする。
また、積層フィルムをフレキシブルデバイスの表示部材又は前面板として用いるためには、屈曲時の良好な視認性を有することも求められる。しかし、優れた屈曲性を有する積層フィルムであっても、屈曲時にコントラスト及び色相の変化を生じることがあった。
そこで、本発明の別の側面は、機能層を有する積層フィルムに関して、屈曲時の視認性を改善することを目的とする。
ポリイミド系高分子及びシリカを含有するハイブリッドフィルムをフレキシブル部材として使用するためには、一般に、光学調整機能及び粘着機能のような様々な機能を有する機能層をハイブリッドフィルム上に形成する必要がある。しかし、ハイブリッドフィルム上に機能層を形成したときに、機能層とハイブリッドフィルムとの密着性が必ずしも充分ではないことがあった。
そこで、本発明の更に別の側面は、各種機能層との密着性に優れた樹脂フィルム、及びこれを用いた積層フィルムを提供することを目的とする。
本発明によれば、積層フィルムを用いた光学部材、表示部材及びフレキシブルデバイス用前面板も提供される。
本発明の一態様に係る積層フィルムは、ポリイミド系高分子を含有する樹脂フィルム(樹脂基材)と、該樹脂フィルムの少なくとも一方の主面側に設けられた機能層と、を備える。
本発明の一態様に係る積層フィルムにおいて、前記ケイ素材料は、シリカ粒子であってもよい。
一態様に係る積層フィルムから5cmの距離に設けられた出力40Wの光源によって、当該積層フィルムに機能層の側から313nmの光を24時間照射する光照射試験を行ったときに、当該積層フィルムが以下の条件:
(i)光照射試験後の当該積層フィルムが、550nmの光に対する85%以上の透過率を有する、及び、
(ii)光照射試験前の当該積層フィルムが5以下の黄色度を有し、当該積層フィルムの光照射試験前後での黄色度の差が2.5未満である、
を満たしていてもよい。光照射試験後の当該樹脂フィルムが1.0%以下のヘイズを有していてもよい。
(i)光照射試験後の当該積層フィルムが、550nmの光に対する85%以上の透過率を有する、及び、
(ii)光照射試験前の当該積層フィルムが5以下の黄色度を有し、当該積層フィルムの光照射試験前後での黄色度の差が2.5未満である、
を満たしていてもよい。光照射試験後の当該樹脂フィルムが1.0%以下のヘイズを有していてもよい。
本発明の一態様に係る積層フィルムにおいて、前記機能層は、紫外線吸収、表面硬度、粘着性、色相調整及び屈折率調整の群から選択される少なくとも1種の機能を有する層であってもよい。
本発明の一態様に係る積層フィルムにおいて、前記機能層は、紫外線吸収及び表面硬度のうち少なくともいずれか一方の機能を有する層であってもよい。
本発明の一態様に係る樹脂フィルムは、ポリイミド系高分子とケイ素原子を含むケイ素材料とを含有する。この樹脂フィルの少なくとも一方の主面における、ケイ素原子と窒素原子との原子数比であるSi/Nが8以上であってもよい。前記ケイ素材料は、シリカ粒子であってもよい。
本発明の一態様に係る積層フィルムは、本発明の一態様に係る樹脂フィルムと、該樹脂フィルムのSi/Nが8以上である主面側に設けられた機能層と、を備える。
本発明の一態様に係る積層フィルムにおいて、前記樹脂フィルムと前記機能層との間に、プライマー層が設けられていてもよい。前記プライマー層は、シランカップリング剤を含んでいてもよい。前記シランカップリング剤は、メタクリル基、アクリル基及びアミノ基からなる群から選択される少なくとも1種の置換基を有していてもよい。
本発明の一態様に係る光学部材は、本発明の積層フィルムを具備する。本発明の一態様に係る表示部材は、本発明の積層フィルムを具備する。本発明の一態様に係る前面板は、本発明の積層フィルムを具備する。
本発明によれば、屈曲性に優れる積層フィルムを提供することができる。本発明の積層フィルムは、フレキシブルデバイスの光学部材、表示部材又は前面板に適用する場合に要求される透明性、耐紫外線特性、及び表面硬度等の機能を有することができる。本発明によれば、屈曲時の視認性に優れた積層フィルムを提供することができる。
本発明によれば、各種機能層との密着性に優れた樹脂フィルム、その樹脂フィルムを用いた積層フィルム、及び積層フィルムの製造方法を提供することができる。本発明はさらに、積層フィルムを用いた光学部材、表示部材及び前面板を提供することができる。本発明で得られる樹脂フィルムは、優れた透明性及び屈曲性を有することができる。
以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
[第一の実施形態]
図1は、本実施形態の樹脂フィルムを示す概略断面図である。本実施形態の樹脂フィルム10は、ポリイミド系高分子を含有し、対向する一対の主面10a,10bを有する。
図1は、本実施形態の樹脂フィルムを示す概略断面図である。本実施形態の樹脂フィルム10は、ポリイミド系高分子を含有し、対向する一対の主面10a,10bを有する。
樹脂フィルム10に含まれるポリイミド系高分子はポリイミドであってもよい。ポリイミドは、例えば、ジアミン類とテトラカルボン酸二無水物とを出発原料として、重縮合によって得られる縮合型ポリイミドである。ポリイミド系高分子として、樹脂フィルム形成のために用いられる溶媒に可溶なものを選択することができる。
ジアミン類としては、特に制限はなく、ポリイミドの合成に通常用いられる芳香族ジアミン類、脂環式ジアミン類、脂肪族ジアミン類等を用いることができる。ジアミン類は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用して用いてもよい。
テトラカルボン酸二無水物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物等を用いることができ、特に制限されることはない。テトラカルボン酸二無水物は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用して用いてもよい。テトラカルボン酸二無水物に代えて、酸クロライド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体から選ばれるテトラカルボン酸化合物を出発原料として用いてもよい。
ジアミン類及びテトラカルボン酸化合物(テトラカルボン酸二無水物)のうち少なくともいずれか一方が、フッ素系置換基、水酸基、スルホン基、カルボニル基、複素環、炭素数1〜10の長鎖アルキル基等からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基を1つ又は複数有していてもよい。中でも透明性の観点から、官能基としてフッ素系置換基が導入されたジアミン類及びテトラカルボン酸化合物(テトラカルボン酸二無水物)が好ましい。フッ素系置換基は、フッ素原子を含む基であればよく、その具体例は、フッ素基(フッ素原子,−F)、及びトリフルオロメチル基である。
溶剤に対する溶解性、樹脂フィルム10を形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、テトラカルボン酸化合物として、脂環式テトラカルボン酸化合物(脂環式テトラカルボン酸二無水物等)又は芳香族テトラカルボン酸化合物(芳香族テトラカルボン酸二無水物等)を用いることが好ましい。樹脂フィルムの透明性、及び着色の抑制の観点から、テトラカルボン酸二無水物として、フッ素系置換基を有する、脂環式テトラカルボン酸化合物又は芳香族テトラカルボン酸化合物を用いることがさらに好ましい。
ジアミン類として、芳香族ジアミン、脂環式ジアミン、脂肪族ジアミンを単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。溶剤に対する溶解性、樹脂フィルム10を形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、ジアミン類として、脂環式ジアミン又は芳香族ジアミンを用いることが好ましい。樹脂フィルムの透明性、及び着色の抑制の観点から、ジアミン類として、フッ素系置換基を有する、脂環式ジアミン又は芳香族ジアミンを用いることがさらに好ましい。
ポリイミド系高分子を使用すれば、特に優れた屈曲性を有し、高い光透過率(例えば、550nmの光に対して85%以上又は88%以上)、及び、低い黄色度(YI値、例えば5以下又は3以下)、低いヘイズ(例えば1.5%以下又は1.0%以下)の樹脂フィルムが得られ易い。
上記ポリイミドは、下記(PI)式で表される繰り返し構造単位を有していてもよい。ここで、Gは4価の有機基であり、Aは2価の有機基である。
Gとしては、非環式脂肪族基、環式脂肪族基、及び、芳香族基からなる群から選ばれる4価の有機基が挙げられる。Gは、環式脂肪族基又は芳香族基であることが好ましい。芳香族基としては、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、および、2以上の芳香族環を有しそれらが直接または結合基により相互に連結された非縮合多環式芳香族基等が挙げられる。樹脂フィルムの透明性、及び着色の抑制の観点から、Gは、環式脂肪族基であってもよいし、フッ素系置換基を有する、環式脂肪族基、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基又は非縮合多環式芳香族基であってもよい。より具体的には、飽和又は不飽和シクロアルキル基、飽和又は不飽和へテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、ヘテロアルキルアリール基、及び、これらの内の任意の2つの基(同一でもよい)が直接又は結合基により相互に連結された基が挙げられる。結合基としては、−O−、炭素数1〜10のアルキレン基、−SO2−、−CO−又は−CO−NR−(Rは、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基又は水素原子を表す)が挙げられる。Gの炭素数は通常2〜32であり、2〜27であることが好ましく、5〜10であることがより好ましく、6〜8であることがさらに好ましく、3〜8であることが特に好ましい。Gが環式脂肪族基又は芳香族基である場合、炭素原子の一部がヘテロ原子で置き換えられていてもよい。Gの例は、飽和又は不飽和シクロアルキル基、飽和又は不飽和へテロシクロアルキル基であり、これらは3〜8の炭素原子を有することができる。ヘテロ原子の例は、O、N又はSが挙げられる。
具体的には、Gは以下の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)又は式(26)で表される基であることができる。式中の*は結合手を示す。ここで、Zは、単結合、−O−、−CH2−、−C(CH3)2−、−Ar−O−Ar−、−Ar−CH2−Ar−、−Ar−C(CH3)2−Ar−又は−Ar−SO2−Ar−を表す。Arは炭素数6〜20のアリール基を表し、その例はフェニレン基(ベンゼン環)である。これらの基の水素原子のうち少なくとも1つが、フッ素系置換基で置換されていてもよい。
Aとしては、非環式脂肪族基、環式脂肪族基及び芳香族基からなる群から選択された2価の有機基が挙げられる。Aで表される2価の有機基は、環式脂肪族基及び芳香族基であることが好ましい。芳香族基としては、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、および2以上の芳香族環を有しそれらが直接または結合基により相互に連結された非縮合多環式芳香族基が挙げられる。樹脂フィルムの透明性、及び着色の抑制の観点から、Aの少なくとも一部には、フッ素系置換基が導入されていることが好ましい。
より具体的には、Aは、飽和又は不飽和シクロアルキル基、飽和又は不飽和へテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、ヘテロアルキルアリール基、及び、これらの内の任意の2つの基(同一でもよい)が直接又は結合基により相互に連結された基が挙げられる。ヘテロ原子としては、O、N又はSが挙げられ、結合基としては、−O−、炭素数1〜10のアルキレン基、−SO2−、−CO−又は−CO−NR−(Rはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基又は水素原子を表す)が挙げられる。
Aで表される2価の有機基の炭素数は、通常2〜40であり、好ましくは5〜32であり、より好ましくは12〜28であり、さらに好ましくは24〜27である。
Aで表される2価の有機基の炭素数は、通常2〜40であり、好ましくは5〜32であり、より好ましくは12〜28であり、さらに好ましくは24〜27である。
具体的には、Aは以下の式(30)、式(31)、式(32)、式(33)又は式(34)で表される基であることができる。式中の*は結合手を示す。ここで、Z1〜Z3は、それぞれ独立して、単結合、−O−、−CH2−、−C(CH3)2−、−SO2−、−CO−又は―CO―NR−(Rはメチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜3のアルキル基又は水素原子を表す)であることができる。下記の基において、Z1とZ2、及び、Z2とZ3は、それぞれ、各環に対してメタ位又はパラ位にあることが好ましい。また、Z1と末端の単結合、Z2と末端の単結合、及び、Z3と末端の単結合とは、メタ位又はパラ位にあることが好ましい。1つの例は、Z1及びZ3が−O−であり、かつ、Z2が−CH2−、−C(CH3)2−又は−SO2−である。これらの基の水素原子のうち少なくとも1つが、フッ素系置換基で置換されていてもよい。
A及びGの少なくとも一方において、少なくとも1つの水素原子が、フッ素基及びトリフルオロメチル基などフッ素原子を含むフッ素系置換基、水酸基、スルホン基、炭素数1〜10のアルキル基等からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基で置換されていてもよい。また、A及びGがそれぞれ環式脂肪族基又は芳香族基である場合に、上記A及びGの少なくとも一方がフッ素系置換基を有することが好ましく、A及びGの両方がフッ素系置換基を有することがより好ましい。
ポリイミド系高分子は、式(PI)、式(a)、式(a’)又は式(b)で表される繰り返し構造単位を少なくとも1種含む重合体であってもよい。式(a)中のG2は3価の有機基を表し、A2は2価の有機基を表す。式(a’)中のG3は4価の有機基を表し、A3は2価の有機基を表す。式(b)中のG4及びA4は、それぞれ2価の有機基を表す。
式(a)中のG2は、3価の基である点以外は、式(PI)中のGと同様の基から選択することができる。例えば、G2は、Gの具体例として例示された式(20)〜式(26)で表される基における4つの結合手のうちいずれか1つが水素原子に置き換わった基であってもよい。式(a)中のA2は式(PI)中のAと同様の基から選択することができる。
式(a’)中のG3は、式(PI)中のGと同様の基から選択することができる。式(a’)中のA3は、式(PI)中のAと同様の基から選択することができる。
式(b)中のG4は、2価の基である点以外は、式(PI)中のGと同様の基から選択することができる。例えば、G4は、Gの具体例として例示された式(20)〜式(26)で表される基における4つの結合手のうちいずれか2つが水素原子に置き換わった基であってもよい。式(b)中のA4は、式(PI)中のAと同様の基から選択することができる。
式(PI)、式(a)、式(a’)又は式(b)で表される繰り返し構造単位を少なくとも1種含む重合体であるポリイミド系高分子は、ジアミン類と、テトラカルボン酸化合物又はトリカルボン酸化合物(酸クロライド化合物およびトリカルボン酸無水物などのトリカルボン酸化合物類縁体を含む)の少なくとも1種類とを重縮合させることにより得られる縮合型高分子であってもよい。出発原料としては、これらに加えて、さらにジカルボン酸化合物(酸クロライド化合物などの類縁体を含む)を用いることもある。式(a’)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類及びテトラカルボン酸化合物から誘導される。式(a)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類及びトリカルボン酸化合物から誘導される。式(b)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類及びジカルボン酸化合物から誘導される。ジアミン類及びテトラカルボン酸化合物の具体例は、上述のとおりである。
トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂環式トリカルボン酸、非環式脂肪族トリカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられる。トリカルボン酸化合物は、好ましくは芳香族トリカルボン酸、脂環式トリカルボン酸、非環式脂肪族トリカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロライド化合物である。トリカルボン酸化合物は、2種以上併用してもよい。
溶剤に対する溶解性、樹脂フィルム10を形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、トリカルボン酸化合物は、脂環式トリカルボン酸化合物及び芳香族トリカルボン酸化合物であることが好ましい。樹脂フィルムの透明性及び着色の抑制の観点から、トリカルボン酸化合物は、フッ素系置換基を有する脂環式トリカルボン酸化合物及びフッ素系置換基を有する芳香族トリカルボン酸化合物であることが好ましい。
ジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、非環式脂肪族ジカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられる。ジカルボン酸化合物は、好ましくは芳香族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、非環式脂肪族ジカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロライド化合物である。ジカルボン酸化合物は、2種以上併用してもよい。
溶剤に対する溶解性、樹脂フィルム10を形成した場合の透明性及び屈曲性の観点から、ジカルボン酸化合物は、脂環式ジカルボン酸化合物及び芳香族ジカルボン酸化合物であることが好ましい。樹脂フィルムの透明性及び着色の抑制の観点から、ジカルボン酸化合物は、フッ素系置換基を有する脂環式ジカルボン酸化合物及びフッ素系置換基を有する芳香族ジカルボン酸化合物であることが好ましい。
ポリイミド系高分子は、異なる種類の複数の上記の繰り返し単位を含む共重合体でもよい。ポリイミド系高分子の重量平均分子量は、通常10,000〜500,000である。ポリイミド系高分子の重量平均分子量は、好ましくは、50,000〜500,000であり、さらに好ましくは100,000〜500,000又は70,000〜400,000である。重量平均分子量は、GPCで測定した標準ポリスチレン換算分子量である。ポリイミド系高分子の重量平均分子量が大きい方が高い屈曲性を得られやすい傾向があり、ポリイミド系高分子の重量平均分子量が大きすぎると、ワニスの粘度が高くなり、加工性が低下する傾向がある。
ポリイミド系高分子は、上述のフッ素系置換基等によって導入できるフッ素原子等のハロゲン原子を含んでいてもよい。ポリイミド系高分子がハロゲン原子を含むことにより、樹脂フィルムの弾性率を向上させ且つ黄色度を低減させることができる。これにより、樹脂フィルムにキズ及びシワ等が発生することを抑制し、且つ、樹脂フィルムの透明性を向上させることができる。例えばフッ素原子は、ジアミン類及びテトラカルボン酸二無水物の少なくとも一方として、フッ素基又はトリフルオロメチル基等のフッ素系置換基を有する化合物を用いることで、ポリイミドの分子内に導入することができる。ポリイミドにおけるハロゲン原子(又はフッ素原子)の含有量は、ポリイミド系高分子の質量を基準として、1質量%〜40質量%であることが好ましく、1質量%〜30質量%であることがより好ましい。
樹脂フィルム10は、無機粒子等の無機材料を更に含有していてもよい。無機材料は、ケイ素原子を含むケイ素材料であってもよい。樹脂フィルム10がケイ素材料等の無機材料を含有することで、屈曲性の点で特に優れた効果が得られる。
ケイ素原子を含むケイ素材料としては、シリカ粒子、オルトケイ酸テトラエチル(TEOS)等の4級アルコキシシラン等のケイ素化合物等が挙げられる。これらのケイ素材料の中でも、樹脂フィルム10の透明性及び屈曲性の観点から、シリカ粒子が好ましい。
シリカ粒子の平均一次粒子径は、10nm〜100nmであることが好ましく、20nm〜80nmであることがより好ましい。シリカ粒子の平均一次粒子径が100nm以下であると透明性が向上する傾向がある。シリカ粒子の平均一次粒子径が10nm以上であると、樹脂フィルムの強度が向上する傾向、及びシリカ粒子の凝集力が弱まるために取り扱い易くなる傾向がある。
樹脂フィルム中のシリカ粒子の(平均)一次粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)による観察で求めることができる。樹脂フィルムを形成する前のシリカ粒子の粒子分布は、市販のレーザー回折式粒度分布計により求めることができる。
樹脂フィルム10において、ポリイミドと無機材料(ケイ素材料)の配合比は、質量比で、1:9〜10:0又は1:9〜9:1であることが好ましく、3:7〜10:0又は3:7〜8:2であることがより好ましい。この配合比は、さらに好ましくは3:7〜8:2であり、より一層好ましくは3:7〜7:3である。あるいは、ポリイミド及び無機材料の合計質量に対する無機材料の割合は、通常20質量%以上であり、好ましくは30質量%以上であり、通常90質量%以下であり、好ましくは70質量%以下である。ポリイミドと無機材料(ケイ素材料)の配合比が上記の範囲内であると、樹脂フィルムの透明性及び機械的強度が向上する傾向がある。
樹脂フィルム10は、透明性及び屈曲性を著しく損なわない範囲で、ポリイミド及び無機材料(ケイ素材料)以外の成分を更に含有していてもよい。ポリイミドと無機材料(ケイ素材料)以外の成分としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤、難燃剤、滑剤、及びレベリング剤が挙げられる。ポリイミド及び無機材料の合計の割合は、樹脂フィルム10の質量に対して、0%を超えて20質量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは0%を超えて10質量%以下である。
樹脂フィルム10がポリイミド及びケイ素材料を含有するとき、少なくとも一方の主面10aにおける、ケイ素原子の窒素原子に対する原子数比であるSi/Nが8以上であってもよい。この原子数比Si/Nは、X線光電子分光(X−ray Photoelectron Spectroscopy、XPS)によって、主面10aの組成を評価し、これによって得られたケイ素原子の存在量と窒素原子の存在量から算出される値である。
樹脂フィルム10の主面10aにおけるSi/Nが8以上であることにより、後述する機能層20との充分な密着性が得られる。密着性の観点から、Si/Nは、9以上であることが好ましく、10以上であることが好ましく、通常50以下であり、40以下であることが好ましい。
樹脂フィルム10の厚さは、積層フィルム30が適用されるフレキシブルデバイスに応じて適宜調整されるが、10μm〜500μmであることが好ましく、15μm〜200μmであることがより好ましく、20μm〜100μmであることがさらに好ましい。このような構成の樹脂フィルム10は、特に優れた屈曲性を有する。
次に、本実施形態の樹脂フィルム10の製造方法の一例を説明する。
公知のポリイミドの合成手法を用いて重合された溶媒可溶なポリイミドを溶媒に溶解し、ポリイミドワニスを調製する。溶媒は、ポリイミドを溶解する溶媒であればよく、例えば、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、γ−ブチロラクトン(GBL)、又はそれらの組み合わせ(混合溶媒)であることができる。
公知のポリイミドの合成手法を用いて重合された溶媒可溶なポリイミドを溶媒に溶解し、ポリイミドワニスを調製する。溶媒は、ポリイミドを溶解する溶媒であればよく、例えば、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、γ−ブチロラクトン(GBL)、又はそれらの組み合わせ(混合溶媒)であることができる。
無機材料(ケイ素材料)を含有する樹脂フィルムを製造する場合、次いで、ポリイミド系高分子ワニスに、無機材料を添加し、公知の撹拌法により撹拌及び混合して、ケイ素材料が均一に分散された分散液を調製する。
ポリイミド系高分子ワニス又は分散液におけるポリイミドと無機材料の配合比は、質量比で、1:9〜9:1であることが好ましく、3:7〜8:2であることがより好ましい。
ポリイミド系高分子ワニス又は分散液は、添加剤を更に含んでいてもよい。添加剤は、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤、難燃剤、滑剤、及びレベリング剤から選ばれる。ポリイミド系高分子ワニス又は分散液は、無機粒子(シリカ粒子等)同士の結合形成に寄与する、金属アルコキシド基を1個又は2個以上有するアルコキシシランなどの化合物を含んでいてもよい。このような化合物を含む分散液を用いることで、樹脂フィルムの透明性等の光学特性を維持しながら、無機粒子の配合割合を大きくすることができる。このような化合物の例としては、アミノ基を有するアルコキシシランがある。
次いで、上記の分散液を、例えば公知のロール・ツー・ロールやバッチ方式により基材に塗布して塗膜を形成する。その塗膜を乾燥して、フィルムを形成する。その後、基材からフィルムを剥離することによって、樹脂フィルム10が得られる。基材は、例えば、PET基材、SUSベルト、又はガラス基材であってもよい。
塗膜の乾燥、及び/又はベーキングのために、塗膜を加熱してもよい。塗膜を、温度50℃〜350℃にて、適宜、不活性雰囲気又は減圧の条件下で加熱することができる。塗膜の加熱により溶媒を蒸発させることができる。塗膜を50〜150℃で乾燥することと、乾燥後の塗膜を180〜350℃でベーキングすることとを含む方法により、樹脂フィルムを形成してもよい。
次いで、樹脂フィルムの少なくとも一方の主面に、表面処理を施してもよい。表面処理は、好ましくはUVオゾン処理である。UVオゾン処理により、Si/Nを容易に8以上とすることができる。ただし、Si/Nを8以上とする方法は、UVオゾン処理に限られない。樹脂フィルム10の主面10a及び/又は10bには、後述する機能層との密着性を向上するために、プラズマ処理又はコロナ放電処理のような表面処理が施されていてもよい。
UVオゾン処理は、200nm以下の波長を含む公知の紫外光源を用いて行うことができる。紫外光源の例として、低圧水銀ランプが挙げられる。紫外光源としては、紫外光源を備えた各種市販装置を用いてもよい。市販装置としては、例えば、テクノビジョン社製の紫外線(UV)オゾン洗浄装置UV−208が挙げられる。
このようにして得られる本実施形態の樹脂フィルム10は、屈曲性に優れる。また、少なくとも一方の主面10aにおいて、ケイ素原子と窒素原子との原子数比であるSi/Nを8以上としたときに、後述する機能層20との優れた密着性が得られる。
[第二の実施形態]
以下、図2を参照して、第二の実施形態に係る積層フィルムを説明する。
図2は、本実施形態の積層フィルムを示す概略断面図である。図2において、図1に示した第一の実施形態の樹脂フィルムと同一の構成要素には同一符号を付して、その説明を省略する。
本実施形態の積層フィルム30は、樹脂フィルム10と、樹脂フィルム10の一方の主面10aに積層された機能層20とから概略構成されている。
以下、図2を参照して、第二の実施形態に係る積層フィルムを説明する。
図2は、本実施形態の積層フィルムを示す概略断面図である。図2において、図1に示した第一の実施形態の樹脂フィルムと同一の構成要素には同一符号を付して、その説明を省略する。
本実施形態の積層フィルム30は、樹脂フィルム10と、樹脂フィルム10の一方の主面10aに積層された機能層20とから概略構成されている。
機能層20は、積層フィルム30をフレキシブルデバイスの光学部材、表示部材又は前面板として用いるときに、積層フィルム30にさらに機能(性能)を付与するための層であり得る。機能層20は、紫外線吸収、表面硬度、粘着性、色相調整、及び屈折率調整からなる群から選択される少なくとも1種の機能を有する層であることが好ましい。
機能層20としての、紫外線吸収の機能を有する層(紫外線吸収層)は、例えば、紫外線硬化型の透明樹脂、電子線硬化型の透明樹脂、及び熱硬化型の透明樹脂から選ばれる主材と、この主材に分散した紫外線吸収剤とから構成される。機能層20として紫外線吸収層を設けることにより、光照射による黄色度の変化を容易に抑制することができる。
紫外線吸収層の主材としての紫外線硬化型、電子線硬化型、又は熱硬化型の透明樹脂は、特に限定されないが、例えば、ポリ(メタ)アクリレートであってもよい。
紫外線吸収剤は、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であってもよい。
本明細書において、「系化合物」とは、当該「系化合物」が付される化合物の誘導体を指す。例えば、「ベンゾフェノン系化合物」とは、母体骨格としてのベンゾフェノンと、ベンゾフェノンに結合している置換基とを有する化合物を指す他の「系化合物」についても同様である。
紫外線吸収剤は、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であってもよい。
本明細書において、「系化合物」とは、当該「系化合物」が付される化合物の誘導体を指す。例えば、「ベンゾフェノン系化合物」とは、母体骨格としてのベンゾフェノンと、ベンゾフェノンに結合している置換基とを有する化合物を指す他の「系化合物」についても同様である。
紫外線吸収層は、400nm以下の波長の光(例えば波長313nmの光)を95%以上吸収する層であってもよい。言い換えると、紫外線吸収層は、400nm以下の波長の光(例えば波長313nmの光)の透過率が5%未満である層であってもよい。紫外線吸収層は、このような透過率が得られるような濃度の紫外線吸収剤を含むことができる。光照射による積層フィルムの黄色度の増大を抑制する観点から、紫外線吸収層(機能層20)における紫外線吸収剤の割合は、紫外線吸収層の質量を基準として、通常1質量%以上であり、3質量%以上であることが好ましく、通常10質量%以下であり、8質量以下であることが好ましい。
機能層20としての、表面硬度の機能(表面に高硬度を発現する機能)を有する層(ハードコート層)は、例えば、樹脂フィルムの表面の鉛筆硬度よりも高い鉛筆硬度を有する表面を積層フィルムに与える層である。ハードコート層の表面の鉛筆硬度は、例えば2H以上であってもよい。このハードコート層は、特に限定されないが、ポリ(メタ)アクリレート類に代表される、紫外線硬化型、電子線硬化型、又は熱硬化型の樹脂を含む。ハードコート層は、光重合開始剤、有機溶剤を含んでもよい。ポリ(メタ)アクリレート類は、例えば、ポリウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、及び他の多官能ポリ(メタ)アクリレートから選ばれる1種以上の(メタ)アクリレート類から形成されるポリ(メタ)アクリレートである。ハードコート層は、上記成分の他に、シリカ、アルミナ、ポリオルガノシロキサン等の無機酸化物を含んでもよい。
機能層20としての、粘着性の機能を有する層(粘着層)は、積層フィルム30を他の部材に接着させる機能を有する。粘着層の形成材料としては、通常知られたものを用いることができ、例えば、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を用いることができる。
粘着層は、重合性官能基を有する成分を含む樹脂組成物から構成されていてもよい。この場合、積層フィルム30を他の部材に密着させた後に粘着層を構成する樹脂組成物をさらに重合させることにより、強固な接着を実現することができる。樹脂フィルム10と粘着層との接着強度は、0.1N/cm以上が好ましく、0.5N/cm以上がより好ましい。
粘着層は、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を材料として含んでいてもよい。この場合、事後的にエネルギーを供給することで樹脂組成物を高分子化し硬化させることができる。
粘着層は、感圧型接着剤(Pressure Sensitive Adhesive、PSA)と呼ばれる、押圧により対象物に貼着される層であってもよい。感圧型接着剤は、「常温で粘着性を有し、軽い圧力で被着材に接着する物質」(JIS K6800)である粘着剤であってもよく、「特定成分を保護被膜(マイクロカプセル)に内容し、適当な手段(圧力、熱等)によって被膜を破壊するまでは安定性を保持できる接着剤」(JIS K6800)であるカプセル型接着剤であってもよい。
機能層20としての、色相調整の機能を有する層(色相調整層)は、積層フィルム30を目的の色相に調整することができる層である。色相調整層は、例えば、樹脂及び着色剤を含有する層である。この着色剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、チタニウムオキサイド系焼成顔料、群青、アルミン酸コバルト、及びカーボンブラック等の無機顔料;アゾ系化合物、キナクリドン系化合物、アンスラキノン系化合物、ペリレン系化合物、イソインドリノン系化合物、フタロシアニン系化合物、キノフタロン系化合物、スレン系化合物及びジケトピロロピロール系化合物等の有機顔料;硫酸バリウム及び炭酸カルシウム等の体質顔料;塩基性染料、酸性染料及び媒染染料等の染料を挙げることができる。
機能層20としての、屈折率調整の機能を有する層(屈折率調整層)は、樹脂フィルム10とは異なる屈折率を有し、積層フィルムに所定の屈折率を付与することができる層である。屈折率調整層は、例えば、適宜選択された樹脂、及び場合によりさらに顔料を含有する樹脂層であってもよいし、金属の薄膜であってもよい。
屈折率を調整する顔料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び酸化タンタルが挙げられる。顔料の平均粒子径は、0.1μm以下であることが好ましい。顔料の平均粒子径を0.1μm以下とすることにより、屈折率調整層を透過する光の乱反射を防止し、透明度の低下を防止することができる。
屈折率調整層に用いられる金属としては、例えば、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸窒化チタン、窒化チタン、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素等の金属酸化物又は金属窒化物が挙げられる。
機能層20は、積層フィルム30の用途に応じて、上記の機能を適宜有する。機能層20は、単層であっても、複数の層であってもよい。各層が1つの機能又は2つ以上の機能を有していてもよい。
機能層20は、表面硬度及び紫外線吸収の機能を有することが好ましい。この場合の機能層20は、「表面硬度及び紫外線吸収の機能を有する単層」、「表面硬度を有する層と紫外線吸収を有する層とを含む多層」、又は、「表面硬度及び紫外線吸収の機能を有する単層と表面硬度を有する層とを含む多層」を含むことが好ましい。
機能層20の厚さは、積層フィルム30が適用されるフレキシブルデバイスに応じて適宜調整されるが、例えば、1μm〜100μmであることが好ましく、2μm〜80μmであることがより好ましい。機能層20は、典型的には、樹脂フィルム10よりも薄い。
積層フィルム30は、樹脂フィルム10の主面10a上に機能層20を形成することで、得ることができる。機能層20は、公知のロール・ツー・ロールやバッチ方式により、形成することができる。
機能層20としての紫外線吸収層は、例えば、樹脂フィルム10の主面10aに、紫外線吸収剤と、紫外線吸収剤が分散される樹脂などの主材とを含む分散液を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させる方法により、形成することができる。
機能層20としてのハードコート層は、例えば、樹脂フィルム10の主面10aに、ハードコート層を形成する樹脂を含む溶液を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させる方法により、形成することができる。
機能層20としての粘着層は、例えば、樹脂フィルム10の主面10aに、粘着層を形成する粘着剤を含む溶液を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させる方法により、形成することができる。
機能層20としての色相調整層は、例えば、樹脂フィルム10の主面10aに、色相調整層を形成する顔料等と、顔料等が分散される樹脂などの主材とを含む分散液を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させる方法により、形成することができる。
機能層20としての屈折率調整層は、例えば、樹脂フィルム10の主面10aに、屈折率調整層を形成する無機粒子等と、無機粒子等が分散される樹脂等の主材とを含む分散液を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させる方法により、形成することができる。
機能層20としての、表面硬度及び紫外線吸収の機能を有する単層は、樹脂フィルム10の主面10aに、紫外線吸収剤と、紫外線吸収剤が分散される樹脂等の主材と、ハードコート層を形成する樹脂とを含む分散液を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させる方法により、形成することができる。主材となる樹脂と、ハードコート層を形成する樹脂とは同じであってもよい。
樹脂フィルム10の主面10aに、紫外線吸収剤と、紫外線吸収剤が分散される樹脂などの主材とを含む分散液を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させることにより、紫外線吸収層を形成し、次いで、その紫外線吸収層に、ハードコート層を形成する樹脂を含む溶液を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させることにより、ハードコート層を形成してもよい。この方法により、表面硬度を有する層と紫外線吸収を有する層とを含む多層の機能層が形成される。
樹脂フィルム10の主面10aに、紫外線吸収剤と、紫外線吸収剤が分散される樹脂などの主材と、ハードコート層を形成する樹脂とを含む分散液を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させて、表面硬度及び紫外線吸収の機能を有する単層を形成し、さらに、その単層上に、ハードコート層を形成する樹脂を含む溶液を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させることにより、ハードコート層を形成してもよい。この方法により、表面硬度及び紫外線吸収の機能を有する層と表面硬度を有する層とを含む多層の機能層が形成される。
このようにして得られる本実施形態の積層フィルム30は、屈曲性に優れる。積層フィルム30は、フレキシブルデバイスの光学部材、表示部材又は前面板に適用する場合に要求される透明性、耐紫外線特性、及び表面硬度等の機能性を有することができる。樹脂フィルム10の主面10aにおけるSi/Nが8以上である場合、樹脂フィルム10と機能層20との密着性も優れている。
積層フィルム30から5cmの距離に設けられた出力40Wの光源によって、積層フィルム30に機能層20の側から313nmの光を24時間照射する光照射試験を行ったときに、積層フィルム30が以下の条件:
(i)光照射試験後の積層フィルムが、550nmの光に対する85%以上の透過率、及び1.0%以下のヘイズを有する、及び、
(ii)光照射試験前の積層フィルムが5以下の黄色度(YI値)を有し、積層フィルムの光照射試験前後での黄色度の差が2.5未満である、
を満たしていてもよい。これら条件(i)及び(ii)を満たす積層フィルムは、屈曲時にコントラスト又は色相の変化を生じ難く、良好な視認性を維持することができる。
(i)光照射試験後の積層フィルムが、550nmの光に対する85%以上の透過率、及び1.0%以下のヘイズを有する、及び、
(ii)光照射試験前の積層フィルムが5以下の黄色度(YI値)を有し、積層フィルムの光照射試験前後での黄色度の差が2.5未満である、
を満たしていてもよい。これら条件(i)及び(ii)を満たす積層フィルムは、屈曲時にコントラスト又は色相の変化を生じ難く、良好な視認性を維持することができる。
例えば、紫外線吸収の機能を有する層を機能層20として設け、さらに、樹脂フィルム10及び機能層20として、550nmの光に対する85%以上の透過率、及び1.0%以下のヘイズを有しているものを用いると、条件(i)及び(ii)を満たす積層フィルムを容易に得ることができる。
光照射試験後の積層フィルムの550nmの光に対する透過率は、90%以上であることが好ましく、100%以下、又は95%以下であってもよい。光照射試験後の積層フィルムのヘイズは、0.9以下であることが好ましく、0.1以上であってもよい。光照射試験前の積層フィルムが、550nmの光に対する85%以上の透過率、及び1.0以下のヘイズ値を有していてもよい。透過率、及びヘイズの測定方法の詳細は、後述の実施例において説明される。
光照射試験前の積層フィルムの黄色度は、4以下であることが好ましく、3以下であることがより好ましく、0.5以上であってもよい。光照射試験前の黄色度がYI0で、光照射後の黄色度がYI1であるとき、積層フィルムの光照射試験前後での黄色度の差ΔYIは、式:ΔYI=YI1−YI0によって計算される。ΔYIは、2.2以下であることが好ましく、2.0以下であることがより好ましく、0.1以上であってもよい。黄色度の測定方法の詳細は、後述の実施例において説明される。
本実施形態では、樹脂フィルム10の一方の主面10aに機能層20が積層された構成を例示したが、本発明はこれに限定されない。例えば、樹脂フィルムの両面に機能層が積層されていてもよい。
本実施形態の積層フィルム30は、フレキシブルデバイスの光学部材、表示部材及び前面板として好適に用いられる。
[第三の実施形態]
以下、図3を参照して、第三の実施形態に係る積層フィルムを説明する。
図3は、本実施形態の積層フィルムを示す概略断面図である。図3において、図2に示した第二の実施形態の積層フィルムと同一又は対応する構成要素には同一符号を付して、その説明を省略する。本実施形態の積層フィルム30は、樹脂フィルム10と、樹脂フィルム10の一方の主面10a側に設けられた機能層20と、樹脂フィルム10と機能層20との間に設けられたプライマー層25とから概略構成されている。プライマー層25は、樹脂フィルム10の一方の主面10aに積層されている。機能層20は、プライマー層25の樹脂フィルム10と接する主面とは反対側の主面(以下、「一方の主面」ということがある。)25aに積層されている。
以下、図3を参照して、第三の実施形態に係る積層フィルムを説明する。
図3は、本実施形態の積層フィルムを示す概略断面図である。図3において、図2に示した第二の実施形態の積層フィルムと同一又は対応する構成要素には同一符号を付して、その説明を省略する。本実施形態の積層フィルム30は、樹脂フィルム10と、樹脂フィルム10の一方の主面10a側に設けられた機能層20と、樹脂フィルム10と機能層20との間に設けられたプライマー層25とから概略構成されている。プライマー層25は、樹脂フィルム10の一方の主面10aに積層されている。機能層20は、プライマー層25の樹脂フィルム10と接する主面とは反対側の主面(以下、「一方の主面」ということがある。)25aに積層されている。
プライマー層25は、プライマー剤から形成された層であり、樹脂フィルム10及び機能層20との密着性を高めることのできる材料を含んでいることが好ましい。プライマー層25に含まれる化合物が、樹脂フィルム10に含まれるポリイミド系高分子又はケイ素材料等と、界面において化学結合していてもよい。
プライマー剤として、例えば、紫外線硬化型、熱硬化型又は2液硬化型のエポキシ系化合物のプライマー剤がある。プライマー剤は、ポリアミック酸であってもよい。これらは、樹脂フィルム10及び機能層20との密着性を高めるために好適である。
プライマー剤は、シランカップリング剤を含んでいてもよい。シランカップリング剤は、縮合反応により樹脂フィルム10に含まれるケイ素材料と化学結合してもよい。シランカップリング剤は、特に樹脂フィルム10に含まれるケイ素材料の配合比が高い場合に好適に用いることができる。
シランカップリング剤は、ケイ素原子と、該ケイ素原子に共有結合した1〜3個のアルコキシ基とを有するアルコキシシリル基を有する化合物である。ケイ素原子にアルコキシ基が2個以上共有結合している構造を含む化合物が好ましく、ケイ素原子にアルコキシ基が3個共有結合している構造を含む化合物がより好ましい。上記アルコキシ基として、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基等が挙げられる。なかでも、メトキシ基、エトキシ基がケイ素材料との反応性を高めることができるため好ましい。
シランカップリング剤は、樹脂フィルム10及び機能層20との親和性の高い置換基を有することが好ましい。樹脂フィルム10に含まれるポリイミド系高分子との親和性の観点から、シランカップリング剤の置換基は、エポキシ基、アミノ基、ウレイド基又はイソシアネート基であることが好ましい。機能層20が(メタ)アクリレート類を含む場合、プライマー層25に用いるシランカップリング剤が、エポキシ基、メタクリル基、アクリル基、アミノ基又はスチリル基を有していると、親和性が高まるので好ましい。これらのなかでも、メタクリル基、アクリル基及びアミノ基から選ばれる置換基を有するシランカップリング剤は、樹脂フィルム10及び機能層20との親和性に優れる傾向を示すため好ましい。
プライマー層25の厚さは、機能層20に応じて適宜調整されるが、0.01nm〜20μmであることが好ましい。エポキシ系化合物のプライマー剤を用いる場合には、プライマー層25の厚さは0.01μm〜20μmであることが好ましく、0.1μm〜10μmであることがより好ましい。シランカップリング剤を用いる場合には、プライマー層25の厚さは0.1nm〜1μmであることが好ましく、0.5nm〜0.1μmであることがより好ましい。
次に、本実施形態の図3の積層フィルム30の製造方法を説明する。
まず、第一の実施形態と同様にして、樹脂フィルム10を作製する。次いで、公知のロール・ツー・ロールやバッチ方式により、樹脂フィルム10の一方の主面10aに、プライマー剤を溶解した溶液を塗布して第1の塗膜を形成する。第1の塗膜は、必要に応じて、やや硬化させてもよい。
まず、第一の実施形態と同様にして、樹脂フィルム10を作製する。次いで、公知のロール・ツー・ロールやバッチ方式により、樹脂フィルム10の一方の主面10aに、プライマー剤を溶解した溶液を塗布して第1の塗膜を形成する。第1の塗膜は、必要に応じて、やや硬化させてもよい。
次いで、第一の実施形態と同様にして、第1の塗膜上に、機能層20の原料を塗布して第2の塗膜を形成する。第1の塗膜と第2の塗膜を同時に、または個別に硬化させることにより、プライマー層25と機能層20を形成し、積層フィルム30を得る。
このようにして得られる本実施形態の積層フィルム30は、屈曲性に優れる。また、樹脂フィルム10と機能層20の間に、プライマー層25が設けられているので、樹脂フィルム10と機能層20の密着性が高い。積層フィルム30は、フレキシブルデバイスの光学部材、表示部材及び前面板に適用する場合に要求される透明性、耐紫外線特性、及び表面硬度等の機能性を有することができる。
本実施形態では、樹脂フィルム10の一方の主面10a側に機能層20が設けられ、樹脂フィルム10と機能層20との間にプライマー層25が設けられた場合を例示したが、本発明はこれに限定されない。樹脂フィルムの両側に、プライマー層を介して機能層が積層されていてもよい。
[第四の実施形態]
以下、図4を用いて、第四の実施形態に係る表示装置を説明する。
図4は、本実施形態の積層フィルムの適用例である表示装置の一例を示す概略断面図である。本実施形態の表示装置100は、有機EL装置50と、タッチセンサ70と、前面板90と、を有する。これらは通常、筐体に収容されている。有機EL装置50とタッチセンサ70との間、及びタッチセンサ70と前面板90との間は、たとえば不図示の光学接着剤(Optical Clear Adhesive、OCA)で接着されている。
以下、図4を用いて、第四の実施形態に係る表示装置を説明する。
図4は、本実施形態の積層フィルムの適用例である表示装置の一例を示す概略断面図である。本実施形態の表示装置100は、有機EL装置50と、タッチセンサ70と、前面板90と、を有する。これらは通常、筐体に収容されている。有機EL装置50とタッチセンサ70との間、及びタッチセンサ70と前面板90との間は、たとえば不図示の光学接着剤(Optical Clear Adhesive、OCA)で接着されている。
有機EL装置50は、有機EL素子51と、第1の基板55と、第2の基板56と、封止材59とを有している。
有機EL素子51は、一対の電極(第1電極52及び第2電極53)と、発光層54とを有している。発光層54は、第1電極52と第2電極53との間に配置されている。
第1電極52は、光透過性を有する導電性材料によって形成されている。第2電極53も、光透過性を有していてもよい。第1電極52及び第2電極53としては、公知の材料を採用することができる。
発光層54は、有機EL素子を構成する公知の発光材料によって形成することができる。発光材料は、低分子化合物と高分子化合物のいずれでもよい。
第1電極52と第2電極53との間に電力が供給されると、発光層54にキャリア(電子及び正孔)が供給され、発光層54に光が生じる。発光層54で生じた光は、第1電極52及び第1の基板55を介して有機EL装置50の外部に射出される。
第1の基板55は、光透過性を有する材料から形成される。第2の基板56は、光透過性を有していてもよい。第1の基板55と第2の基板56とは、有機EL素子の周囲を取り囲むように配置されている封止材59によって貼り合わされている。第1の基板55、第2の基板56及び封止材59が、有機EL素子を内部に封止する封止構造を形成している。第1の基板55及び/又は第2の基板56は、ガスバリア材であることが多い。
第1の基板55及び第2の基板56のいずれか一方または両方の形成材料として、ガラスのような無機材料、又はアクリル系樹脂のような公知の透明樹脂を用いることができる。これら部材として、上述した本実施形態に係る積層フィルムを採用することもできる。
本実施形態に係る積層フィルムを採用し得る第1の基板55及び第2の基板56は、本実施形態における表示部材又はガスバリア材に該当する。このような第1の基板55及び第2の基板56を有する有機EL装置50は、本実施形態に係る積層フィルムを採用するため、屈曲性に優れる。
タッチセンサ70は、基板71(タッチセンサー基材)と、基板71上に形成された検出素子を有する素子層72と、を有している。
基板71は、光透過性を有する材料によって形成される。基板71として、ガラスのような無機材料、又はアクリル系樹脂のような公知の透明樹脂を用いることができる。基板71として、上述した本実施形態に係る積層フィルムを採用することもできる。
素子層72には、半導体素子、配線、抵抗等から構成される公知の検出素子が形成されている。検出素子の構成としては、マトリクススイッチ、抵抗膜方式、静電容量式など、公知の検出方式を実現する構成を採用することができる。
本実施形態に係る積層フィルムを採用し得る基板71は、本実施形態における光学部材に該当する。このような基板71を有するタッチセンサ70は、本実施形態に係る積層フィルムを採用するため、屈曲性に優れる。
前面板90は、光透過性を有する材料から形成される。前面板90は表示装置の表示画面側の最表層に位置し、表示装置を保護する保護部材として機能する。前面板は、ウィンドウフィルムと称されることもある。前面板90としては、ガラスのような無機材料、又はアクリル系樹脂のような公知の透明樹脂を用いることができる。前面板90として、上述した本実施形態に係る積層フィルムを採用することもできる。前面板90として積層フィルムを採用する場合、通常、機能層が表示装置の外側に位置する向きで積層フィルムが配置される。
本実施形態に係る積層フィルムを採用し得る前面板90は、本実施形態における光学部材に該当する。このような前面板90は、本実施形態に係る積層フィルムを採用するため、屈曲性に優れる。
表示装置100が、有機EL装置50、タッチセンサ70、及び前面板90から選ばれる1つ以上の構成部材として、本実施形態に係る積層フィルムを採用すると、全体として優れた屈曲性を有することができる。すなわち、表示装置100は、フレキシブルデバイスであることができる。
本実施形態に係る積層フィルムを適用可能な装置(フレキシブルデバイス)は、上記表示装置に限らない。例えば、光電変換素子が形成された基板と、基板表面に設けられた前面板とを有する太陽電池にも採用可能である。この場合、太陽電池の基板又は前面板として、本実施形態に係る積層フィルムを採用すると、太陽電池が全体として優れた屈曲性を有することができる。
以下、実施例及び比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されない。
−検討1−
実施例1
公知文献(例えば、United States Patent; Patent No. US8,207,256B2)に準拠して、ポリイミドとシリカ粒子とを含有する樹脂フィルム(シリカ粒子含有量60質量%)を以下のように作製した。
窒素置換した重合槽に、(1)式の酸無水物、(2)式及び(3)式のジアミン、触媒、溶媒(γブチロラクトン及びジメチルアセトアミド)を仕込んだ。仕込み量は、(1)式の酸無水物75.0g、(2)式のジアミン36.5g、(3)式のジアミン76.4g、触媒1.5g、γブチロラクトン438.4g、ジメチルアセトアミド313.1gとした。(2)式のジアミンと(3)式のジアミンとのモル比は3:7、ジアミン合計と酸無水物とのモル比は、1.00:1.02であった。
実施例1
公知文献(例えば、United States Patent; Patent No. US8,207,256B2)に準拠して、ポリイミドとシリカ粒子とを含有する樹脂フィルム(シリカ粒子含有量60質量%)を以下のように作製した。
窒素置換した重合槽に、(1)式の酸無水物、(2)式及び(3)式のジアミン、触媒、溶媒(γブチロラクトン及びジメチルアセトアミド)を仕込んだ。仕込み量は、(1)式の酸無水物75.0g、(2)式のジアミン36.5g、(3)式のジアミン76.4g、触媒1.5g、γブチロラクトン438.4g、ジメチルアセトアミド313.1gとした。(2)式のジアミンと(3)式のジアミンとのモル比は3:7、ジアミン合計と酸無水物とのモル比は、1.00:1.02であった。
重合槽内の混合物を攪拌して原料を溶媒に溶解させた後、混合物を100℃まで昇温し、その後、200℃まで昇温し、4時間保温して、ポリイミドを重合した。この加熱中に、液中の水を除去した。その後、精製及び乾燥により、ポリイミドを得た。
次に、濃度20質量%に調整したポリイミドのγブチロラクトン溶液、γブチロラクトンに固形分濃度30質量%のシリカ粒子を分散した分散液、及び、アミノ基を有するアルコキシシランのジメチルアセトアミド溶液を混合し、30分間攪拌した。
ここで、シリカ粒子とポリイミドとの質量比を60:40、アミノ基を有するアルコキシシランの量をシリカ粒子及びポリイミドの合計100質量部に対して1.67質量部とした。
混合溶液を、ガラス基板に塗布し、50℃で30分、140℃で10分加熱して溶媒を乾燥した。その後、フィルムをガラス基板から剥離し、金枠を取り付けて210℃で1時間加熱することで、厚み80μmの樹脂フィルムを得た。
得られた樹脂フィルムの一方の面に、2液硬化型のプライマー(商品名:アラコートAP2510、荒川化学工業社製)を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させて、厚さ1μmのプライマー層を形成した。
次いで、プライマー層の上に、機能層形成用の溶液を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させて、厚さ10μmの機能層(表面硬度及び紫外線吸収の機能を有する層)を形成して、実施例1の積層フィルムを得た。機能層形成用の溶液は、4官能アクリレート(商品名:A−TMMT、新中村化学社製)47.5質量部、3官能アクリレート(商品名:A−TMPT、新中村化学社製)47.5質量部、反応性ウレタンポリマー(商品名:8BR−600、大成ファインケミカル社製、40質量%品)12.5質量部、トリアジン系紫外線吸収剤(TINUVIN(登録商標)479、BASF社製)3質量部、光重合開始剤(IRGACURE(登録商標)184、チバスペシャリティケミカルズ社製)8質量部、レベリング剤(商品名:BYK−350、ビックケミージャパン社製)0.6質量部、及び、メチルエチルケトン107質量部を混合し、攪拌することで調製した。
次いで、プライマー層の上に、機能層形成用の溶液を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させて、厚さ10μmの機能層(表面硬度及び紫外線吸収の機能を有する層)を形成して、実施例1の積層フィルムを得た。機能層形成用の溶液は、4官能アクリレート(商品名:A−TMMT、新中村化学社製)47.5質量部、3官能アクリレート(商品名:A−TMPT、新中村化学社製)47.5質量部、反応性ウレタンポリマー(商品名:8BR−600、大成ファインケミカル社製、40質量%品)12.5質量部、トリアジン系紫外線吸収剤(TINUVIN(登録商標)479、BASF社製)3質量部、光重合開始剤(IRGACURE(登録商標)184、チバスペシャリティケミカルズ社製)8質量部、レベリング剤(商品名:BYK−350、ビックケミージャパン社製)0.6質量部、及び、メチルエチルケトン107質量部を混合し、攪拌することで調製した。
比較例1
厚さ120μmのポリメタクリル酸メチル(PMMA)からなる基材(PMMAフィルム)の一方の主面上に、実施例1と同様にして厚さ10μmの機能層を形成し、比較例1の積層フィルムを得た。
厚さ120μmのポリメタクリル酸メチル(PMMA)からなる基材(PMMAフィルム)の一方の主面上に、実施例1と同様にして厚さ10μmの機能層を形成し、比較例1の積層フィルムを得た。
(評価)
鉛筆硬度の測定
実施例1及び比較例1の積層フィルムの、機能層側の表面の鉛筆硬度を、JIS K5600−5−4に準拠して測定した。鉛筆硬度の測定における荷重は1kgとした。結果を表1に示す。
鉛筆硬度の測定
実施例1及び比較例1の積層フィルムの、機能層側の表面の鉛筆硬度を、JIS K5600−5−4に準拠して測定した。鉛筆硬度の測定における荷重は1kgとした。結果を表1に示す。
屈曲性の評価
実施例1及び比較例1の積層フィルムを1cm×8cmに切断した。切断後の積層フィルムの機能層の面を内側にして半径r=1mmのロールに巻き付け、積層フィルムにおけるヒビ割れの有無を確認した。以下の基準で屈曲性を判定した。結果を表1に示す。
A:ヒビ割れが入らず、良好な外観を維持した。
C:ヒビ割れが5本以上生じた。
実施例1及び比較例1の積層フィルムを1cm×8cmに切断した。切断後の積層フィルムの機能層の面を内側にして半径r=1mmのロールに巻き付け、積層フィルムにおけるヒビ割れの有無を確認した。以下の基準で屈曲性を判定した。結果を表1に示す。
A:ヒビ割れが入らず、良好な外観を維持した。
C:ヒビ割れが5本以上生じた。
光学特性
黄色度(YI値)
実施例1及び比較例1の積層フィルムの黄色度(Yellow Index:YI値)を、日本分光社製の紫外可視近赤外分光光度計V−670によって測定した。サンプルがない状態でバックグランド測定を行った後、積層フィルムをサンプルホルダーにセットして、300nm〜800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求めた。YI値を、下記の式に基づいて算出した。
YI値=100×(1.28X−1.06Z)/Y
以下の基準で光学特性を判定した。結果を表1に示す。
A:YI値が3未満
C:YI値が3以上
黄色度(YI値)
実施例1及び比較例1の積層フィルムの黄色度(Yellow Index:YI値)を、日本分光社製の紫外可視近赤外分光光度計V−670によって測定した。サンプルがない状態でバックグランド測定を行った後、積層フィルムをサンプルホルダーにセットして、300nm〜800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求めた。YI値を、下記の式に基づいて算出した。
YI値=100×(1.28X−1.06Z)/Y
以下の基準で光学特性を判定した。結果を表1に示す。
A:YI値が3未満
C:YI値が3以上
透過率
日本分光社製の紫外可視近赤外分光光度計V−670を用い、300nm〜800nmの光に対する透過率を測定した。以下の基準で透過率を判定した。結果を表1に示す。
A:550nmの波長の光に対する透過率が90%以上
C:550nmの波長の光に対する透過率が90%未満
日本分光社製の紫外可視近赤外分光光度計V−670を用い、300nm〜800nmの光に対する透過率を測定した。以下の基準で透過率を判定した。結果を表1に示す。
A:550nmの波長の光に対する透過率が90%以上
C:550nmの波長の光に対する透過率が90%未満
ヘイズ
スガ試験機社製の全自動直読ヘーズコンピューターHGM−2DPにより、積層フィルムをサンプルホルダーにセットして、積層フィルムのヘイズを測定した。以下の基準でヘイズを判定した。結果を表1に示す。
A:ヘイズ(%)が1.0%未満
C:ヘイズ(%)が1.0%以上
スガ試験機社製の全自動直読ヘーズコンピューターHGM−2DPにより、積層フィルムをサンプルホルダーにセットして、積層フィルムのヘイズを測定した。以下の基準でヘイズを判定した。結果を表1に示す。
A:ヘイズ(%)が1.0%未満
C:ヘイズ(%)が1.0%以上
紫外線劣化加速試験(QUV試験、光照射試験)
積層フィルムを、Atras社製のUVCONを用いたQUV試験に供した。光源はUV−B 313nm、出力は40Wであり、サンプル(積層フィルム)と光源との距離を5cmに設定した。積層フィルムに対して、機能層側から紫外線を24時間照射した。
紫外線照射後、上述のように光学特性(YI値、透過率)を評価した。結果を表1に示す。
積層フィルムを、Atras社製のUVCONを用いたQUV試験に供した。光源はUV−B 313nm、出力は40Wであり、サンプル(積層フィルム)と光源との距離を5cmに設定した。積層フィルムに対して、機能層側から紫外線を24時間照射した。
紫外線照射後、上述のように光学特性(YI値、透過率)を評価した。結果を表1に示す。
表1の結果から、実施例1の積層フィルムは、屈曲性に優れる。加えて、実施例1の積層フィルムは耐紫外線特性及び表面硬度等の機能性を有しており、フレキシブルデバイスの光学部材、表示部材及び前面板に用いることができることが分かった。
−検討2−
実施例2
実施例1と同様のポリイミドを用いて、濃度20質量%に調整したポリイミドのγブチロラクトン溶液を調製した。この溶液と、γブチロラクトンに固形分濃度30質量%のシリカ粒子を分散した溶液と、アミノ基を有するアルコキシシランのジメチルアセトアミド溶液と、水とを混合し、30分間攪拌した。
実施例2
実施例1と同様のポリイミドを用いて、濃度20質量%に調整したポリイミドのγブチロラクトン溶液を調製した。この溶液と、γブチロラクトンに固形分濃度30質量%のシリカ粒子を分散した溶液と、アミノ基を有するアルコキシシランのジメチルアセトアミド溶液と、水とを混合し、30分間攪拌した。
ここで、シリカ粒子とポリイミドの質量比を60:40、アミノ基を有するアルコキシシランの量をシリカ粒子及びポリイミドの合計100質量部に対して1.67質量部、水の量をシリカ及びポリイミドの合計100質量部に対して10質量部とした。
得られた混合溶液を用い、実施例1と同様にして、樹脂フィルム、プライマー層、及び機能層がこの順で積層された積層フィルムを得た。ただし、機能層の厚みは6μmに変更した。
実施例3
390℃のガラス転移温度を有するポリイミド(三菱ガス化学社製「ネオプリム」)を準備した。このポリイミドの濃度20質量%のγブチロラクトン溶液、γブチロラクトンに固形分濃度30質量%のシリカ粒子を分散した分散液、アミノ基を有するアルコキシシランのジメチルアセトアミド溶液、及び、水を混合し、30分間攪拌して混合溶液を得た。シリカ粒子とポリイミドの質量比が55:45で、アミノ基を有するアルコキシシランの量がシリカ粒子及びポリイミドの合計100質量部に対して1.67質量部で、水の量がシリカ粒子及びポリイミドの合計100質量部に対して10質量部であった。この混合溶液を用いて、実施例1と同様にして、樹脂フィルム、プライマー層、及び機能層(厚み10μm)がこの順で積層された実施例3の積層フィルムを得た。
390℃のガラス転移温度を有するポリイミド(三菱ガス化学社製「ネオプリム」)を準備した。このポリイミドの濃度20質量%のγブチロラクトン溶液、γブチロラクトンに固形分濃度30質量%のシリカ粒子を分散した分散液、アミノ基を有するアルコキシシランのジメチルアセトアミド溶液、及び、水を混合し、30分間攪拌して混合溶液を得た。シリカ粒子とポリイミドの質量比が55:45で、アミノ基を有するアルコキシシランの量がシリカ粒子及びポリイミドの合計100質量部に対して1.67質量部で、水の量がシリカ粒子及びポリイミドの合計100質量部に対して10質量部であった。この混合溶液を用いて、実施例1と同様にして、樹脂フィルム、プライマー層、及び機能層(厚み10μm)がこの順で積層された実施例3の積層フィルムを得た。
比較例2
プライマー層及び機能層を形成する前の実施例2の樹脂フィルムを、比較例2のフィルムとして評価した。
プライマー層及び機能層を形成する前の実施例2の樹脂フィルムを、比較例2のフィルムとして評価した。
(評価)
光学特性
実施例2及び比較例2のフィルムを、検討1と同様のQUV試験(光照射試験)に供した。試験前後のフィルムについて、検討1と同様に透過率、YI値及びヘイズを測定した。試験前後でのYI値の差ΔYIも求めた。結果を表2に示す。
光学特性
実施例2及び比較例2のフィルムを、検討1と同様のQUV試験(光照射試験)に供した。試験前後のフィルムについて、検討1と同様に透過率、YI値及びヘイズを測定した。試験前後でのYI値の差ΔYIも求めた。結果を表2に示す。
視認性
光照射試験前のフィルムを屈曲させ、そのときのコントラスト及び色相等の外観の状態を確認し、以下の基準で視認性を判定した。結果を表2に示す。
A:コントラスト及び色相の変化が認められない。
C:コントラスト及び色相の変化などの外観変化が認められた。
光照射試験前のフィルムを屈曲させ、そのときのコントラスト及び色相等の外観の状態を確認し、以下の基準で視認性を判定した。結果を表2に示す。
A:コントラスト及び色相の変化が認められない。
C:コントラスト及び色相の変化などの外観変化が認められた。
表2に示されるように、光照射試験に供された実施例2の積層フィルムは、上述の条件(i)及び(ii)を満たしており、この積層フィルムは、屈曲時に高い視認性を有することが確認された。
−検討3−
実施例4
実施例1と同様にして、ポリイミドとシリカ粒子とを含有する厚さ75μmの樹脂フィルム(シリカ粒子含有量60質量%)を作製した。
樹脂フィルムの一方の主面にUVオゾン処理を施した。UVオゾン処理は、テクノビジョン社製の紫外線(UV)オゾン洗浄装置UV−208を用いて15分間実施した。
次いで、樹脂フィルムのUVオゾン処理が施された主面に、アミノシ基を有するシランカップリング剤(3−アミノプロピルトリエトキシシラン、商品名:Z6011、東レ・ダウコーニング社製)を塗布して、プライマー層を形成した。
次いで、プライマー層の上に、機能層形成用の溶液を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させて、厚さ5μmの機能層(表面硬度及び紫外線吸収の機能を有する層)を形成して、実施例3の積層フィルムを得た。機能層形成用の溶液は、4官能アクリレート(商品名:A−TMMT、新中村化学社製)47.5質量部、3官能アクリレート(商品名:A−TMPT、新中村化学社製)47.5質量部、反応性ウレタンポリマー(商品名:8BR−600、大成ファインケミカル社製、40質量%品)12.5質量部、トリアジン系紫外線吸収剤(TINUVIN(登録商標)479、BASF社製)3質量部、光重合開始剤(IRGACURE(登録商標)184、チバスペシャリティケミカルズ社製)8質量部、レベリング剤(商品名:BYK−350、ビックケミージャパン社製)0.6質量部、及びメチルエチルケトン107質量部を混合し、撹拌して調製した。
実施例4
実施例1と同様にして、ポリイミドとシリカ粒子とを含有する厚さ75μmの樹脂フィルム(シリカ粒子含有量60質量%)を作製した。
樹脂フィルムの一方の主面にUVオゾン処理を施した。UVオゾン処理は、テクノビジョン社製の紫外線(UV)オゾン洗浄装置UV−208を用いて15分間実施した。
次いで、樹脂フィルムのUVオゾン処理が施された主面に、アミノシ基を有するシランカップリング剤(3−アミノプロピルトリエトキシシラン、商品名:Z6011、東レ・ダウコーニング社製)を塗布して、プライマー層を形成した。
次いで、プライマー層の上に、機能層形成用の溶液を塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させて、厚さ5μmの機能層(表面硬度及び紫外線吸収の機能を有する層)を形成して、実施例3の積層フィルムを得た。機能層形成用の溶液は、4官能アクリレート(商品名:A−TMMT、新中村化学社製)47.5質量部、3官能アクリレート(商品名:A−TMPT、新中村化学社製)47.5質量部、反応性ウレタンポリマー(商品名:8BR−600、大成ファインケミカル社製、40質量%品)12.5質量部、トリアジン系紫外線吸収剤(TINUVIN(登録商標)479、BASF社製)3質量部、光重合開始剤(IRGACURE(登録商標)184、チバスペシャリティケミカルズ社製)8質量部、レベリング剤(商品名:BYK−350、ビックケミージャパン社製)0.6質量部、及びメチルエチルケトン107質量部を混合し、撹拌して調製した。
参考例
実施例1と同様にして、ポリイミドとシリカ粒子とを含有する厚さ75μmの樹脂フィルム(シリカ粒子含有量60質量%)を作製した。
次いで、樹脂フィルムの一方の主面に、アミノ基を有するシランカップリング剤(3−アミノプロピルトリエトキシシラン、商品名:Z6011、東レ・ダウコーニング社製)を塗布して、プライマー層を形成した。
次いで、プライマー層の上に実施例3と同様の機能層を形成して、参考例の積層フィルムを得た。
実施例1と同様にして、ポリイミドとシリカ粒子とを含有する厚さ75μmの樹脂フィルム(シリカ粒子含有量60質量%)を作製した。
次いで、樹脂フィルムの一方の主面に、アミノ基を有するシランカップリング剤(3−アミノプロピルトリエトキシシラン、商品名:Z6011、東レ・ダウコーニング社製)を塗布して、プライマー層を形成した。
次いで、プライマー層の上に実施例3と同様の機能層を形成して、参考例の積層フィルムを得た。
樹脂フィルムの表面組成の評価
実施例3の樹脂フィルムにおけるUVオゾン処理が施された面、及び、参考例の樹脂フィルムの一方の主面を、X線光電子分光(XPS)法により評価した。
X線光電子分光法には、X線光電子分光装置(商品名:Quantera SXM、ULVAC PHI社製)を用いた。X線は、AlKa(1486.6eV)、100μm径とした。帯電補正のため、電子銃1eV、Arイオン銃10eVを用いた。光電子取り出し角を、75°とした。
装置付属の解析ソフト:Multipak V8.2Cを用い、得られたXPSスペクトルから各元素のピーク面積を求め、そのピーク面積からフィルム表面における各元素の量をatom%単位で算出した。さらに、Si2pピーク及びN1sピークから、ケイ素原子の窒素原子に対する原子数比(Si/N)を算出した。結果を表3に示す。
実施例3の樹脂フィルムにおけるUVオゾン処理が施された面、及び、参考例の樹脂フィルムの一方の主面を、X線光電子分光(XPS)法により評価した。
X線光電子分光法には、X線光電子分光装置(商品名:Quantera SXM、ULVAC PHI社製)を用いた。X線は、AlKa(1486.6eV)、100μm径とした。帯電補正のため、電子銃1eV、Arイオン銃10eVを用いた。光電子取り出し角を、75°とした。
装置付属の解析ソフト:Multipak V8.2Cを用い、得られたXPSスペクトルから各元素のピーク面積を求め、そのピーク面積からフィルム表面における各元素の量をatom%単位で算出した。さらに、Si2pピーク及びN1sピークから、ケイ素原子の窒素原子に対する原子数比(Si/N)を算出した。結果を表3に示す。
ヘイズ
積層フィルムのヘイズ(%)を検討1と同様の方法で評価した。結果を表4に示す。
積層フィルムのヘイズ(%)を検討1と同様の方法で評価した。結果を表4に示す。
表3に示されるように、実施例4の樹脂フィルムにおけるUVオゾン処理が施された面では、ケイ素原子と窒素原子との比であるSi/Nは8.3であった。一方、参考例の樹脂フィルムの一方の面では、Si/Nが6.5であることが分かった。
機能層の密着性の評価
実施例及び参考例の積層フィルムにおける機能層の密着性を、JIS−K5600−5−6に準拠したクロスハッチ試験によって評価した。2mm間隔で10×10の基盤目状に傷を入れ、セロテープ(登録商標、ニチバン製)を貼り付け、面に対して60°の方向にセロテープを引き剥がした後に残っている基盤目の数をカウントした。以下の基準で密着性を判定した。結果を表3に示す。
A:残っている碁盤目の数が100
C:残っている碁盤目の数が99以下
実施例及び参考例の積層フィルムにおける機能層の密着性を、JIS−K5600−5−6に準拠したクロスハッチ試験によって評価した。2mm間隔で10×10の基盤目状に傷を入れ、セロテープ(登録商標、ニチバン製)を貼り付け、面に対して60°の方向にセロテープを引き剥がした後に残っている基盤目の数をカウントした。以下の基準で密着性を判定した。結果を表3に示す。
A:残っている碁盤目の数が100
C:残っている碁盤目の数が99以下
表5の結果から、実施例4の積層フィルムは、機能層の密着性が高く、参考例の積層フィルムは、機能層の密着性が低いことが分かった。
10…樹脂フィルム、20…機能層、25…プライマー層、30…積層フィルム、50…有機EL装置、70…タッチセンサ、90…前面板、100…表示装置。
Claims (1)
- ポリイミド系高分子を含有する樹脂フィルムと、
該樹脂フィルムの少なくとも一方の主面側に設けられた機能層と、
を備え、
前記樹脂フィルムのヘイズが1.5%以下である、
積層フィルム。
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JP2018103392A (ja) * | 2016-12-22 | 2018-07-05 | コニカミノルタ株式会社 | 透明ポリイミドフィルム積層体 |
CN108373543B (zh) | 2017-02-01 | 2022-09-20 | 住友化学株式会社 | 聚酰亚胺膜 |
WO2018150940A1 (ja) * | 2017-02-20 | 2018-08-23 | 東洋紡株式会社 | ポリエステルフィルムとその用途 |
CN110475810B (zh) * | 2017-04-05 | 2022-12-20 | 住友化学株式会社 | 聚酰亚胺系膜及显示装置 |
JP2019012165A (ja) * | 2017-06-30 | 2019-01-24 | 大日本印刷株式会社 | 表示装置用部材 |
JP6556812B2 (ja) * | 2017-11-28 | 2019-08-07 | Nissha株式会社 | ハードコート付フィルムタイプタッチセンサとこれを用いたフレキシブルディバイス |
KR102638825B1 (ko) * | 2018-01-24 | 2024-02-21 | 주식회사 동진쎄미켐 | 폴리이미드 필름 및 그 제조방법 |
CN110092936A (zh) * | 2018-01-29 | 2019-08-06 | 住友化学株式会社 | 光学层叠体 |
JP6530125B1 (ja) * | 2018-04-27 | 2019-06-12 | 住友化学株式会社 | 光学フィルム |
JP6568290B1 (ja) * | 2018-04-27 | 2019-08-28 | 住友化学株式会社 | 光学フィルム |
CN110408061A (zh) * | 2018-04-27 | 2019-11-05 | 住友化学株式会社 | 光学膜 |
JP6541856B1 (ja) * | 2018-10-02 | 2019-07-10 | 住友化学株式会社 | 光学フィルム、フレキシブル表示装置及び光学フィルムの製造方法 |
JP2021115861A (ja) * | 2020-01-29 | 2021-08-10 | 住友化学株式会社 | フィルムロール |
KR102514272B1 (ko) * | 2020-04-29 | 2023-03-27 | 에스케이마이크로웍스 주식회사 | 폴리아마이드계 복합 필름 및 이를 포함한 디스플레이 장치 |
KR102591029B1 (ko) * | 2020-12-31 | 2023-10-17 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 낮은 광투과도 변화율을 갖는 광학 필름 및 이를 포함하는 표시장치 |
KR20240055773A (ko) | 2021-08-27 | 2024-04-29 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 표시 장치용 적층체 및 표시 장치 |
KR20230045860A (ko) * | 2021-09-29 | 2023-04-05 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 다층구조를 가지는 광학 필름 및 이를 포함하는 표시장치 |
JP2024004123A (ja) | 2022-06-28 | 2024-01-16 | 住友化学株式会社 | 光学積層体 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20060020383A (ko) * | 2004-08-31 | 2006-03-06 | 한국화학연구원 | 우수한 표면평활도 및 헤이즈 특성을 가진 폴리이미드계나노복합필름 및 이의 제조방법 |
JP2008163107A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光学部材 |
WO2008146637A1 (ja) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 無色透明樹脂フィルムの製造方法及び製造装置 |
WO2011065131A1 (ja) * | 2009-11-26 | 2011-06-03 | 株式会社カネカ | 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、透明基板、画像表示装置及び太陽電池 |
US20120296050A1 (en) * | 2011-05-18 | 2012-11-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Poly(amide-imide) block copolymer, article including same, and display device including the article |
WO2012176806A1 (ja) * | 2011-06-21 | 2012-12-27 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 難燃化された脂環式ポリイミド樹脂組成物およびその薄肉成型体 |
JP2013067718A (ja) * | 2011-09-22 | 2013-04-18 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 光学積層フィルム |
JP2013076026A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Sekisui Chem Co Ltd | ポリイミド樹脂組成物 |
JP2013209498A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Toyobo Co Ltd | 微粒子含有ポリマー溶液、透明ポリイミド系フィルム及びその製造方法 |
WO2013180509A1 (ko) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | 주식회사 엘지화학 | 하드코팅 필름 |
WO2014003451A1 (en) * | 2012-06-29 | 2014-01-03 | Kolon Industries, Inc. | Polyimide and polyimide film comprising the same |
WO2014041816A1 (ja) * | 2012-09-14 | 2014-03-20 | 三井化学株式会社 | 透明ポリイミド積層体及びその製造方法 |
WO2014046180A1 (ja) * | 2012-09-19 | 2014-03-27 | 本州化学工業株式会社 | ポリイミド及びその成形体 |
WO2014162733A1 (ja) * | 2013-04-04 | 2014-10-09 | 三井化学株式会社 | ポリアミド酸、及びこれを含むワニス、並びにポリイミドフィルム |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5610450A (en) * | 1979-07-05 | 1981-02-02 | Teijin Ltd | Transparent conductive film |
US4592925A (en) * | 1982-12-20 | 1986-06-03 | Hughes Aircraft Company | Polyimide composition and method for protecting photoreactive cells |
JP2002341114A (ja) * | 2001-05-11 | 2002-11-27 | Toray Ind Inc | 光拡散板用フィルム |
CN1790060A (zh) * | 2004-12-17 | 2006-06-21 | 日东电工株式会社 | 硬涂薄膜及其制造方法 |
US20060134400A1 (en) * | 2004-12-17 | 2006-06-22 | Nitto Denko Corporation | Hard-coated film and method of manufacturing the same |
TW200712579A (en) * | 2005-08-12 | 2007-04-01 | Dainippon Printing Co Ltd | Protective film for polarizing plate and polarizing plate |
JP2007063417A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Fujifilm Corp | フィルムおよびフィルムの製造方法、ガスバリア層付フィルム、透明導電層付フィルム、並びに、画像表示装置 |
TWI370833B (en) | 2006-12-29 | 2012-08-21 | Ind Tech Res Inst | Composition with high transparency, high thermal-resistant, and low coefficient of thermal expansion, and flexible transparent film and optoelectronic device employing the same |
KR20080110148A (ko) * | 2007-06-14 | 2008-12-18 | 주식회사 엘지화학 | 액정표시소자용 포토마스크 및 이를 이용한 컬러필터의제조방법 |
JP4957592B2 (ja) * | 2008-03-10 | 2012-06-20 | 新日本理化株式会社 | ポリイミド樹脂組成物及びその成形体 |
JP2010042564A (ja) * | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Mitsubishi Materials Corp | フレキシブル基材の製造方法およびフレキシブル基材 |
JP2010106061A (ja) * | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Sony Corp | 耐候性ハードコートフィルム、及び紫外線硬化性樹脂組成物 |
KR101370197B1 (ko) * | 2008-12-30 | 2014-03-06 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 폴리이미드 필름 |
JP5281986B2 (ja) * | 2009-08-26 | 2013-09-04 | 富士フイルム株式会社 | 積層フィルムおよび複合フィルム |
CN102576094B (zh) * | 2009-09-30 | 2014-07-23 | 大日本印刷株式会社 | 光学层积体及光学层积体的制造方法 |
TW201116861A (en) * | 2009-11-12 | 2011-05-16 | Ind Tech Res Inst | Heat-resistant flexible color filter |
TWI434883B (zh) | 2009-11-27 | 2014-04-21 | Ind Tech Res Inst | 有機/無機混成材料及其製造方法 |
CN102181151B (zh) * | 2010-01-12 | 2014-06-11 | 财团法人工业技术研究院 | 有机/无机共混材料及其制造方法 |
WO2012013361A2 (en) * | 2010-07-30 | 2012-02-02 | Sony Corporation | A polymeric substrate having a glass-like surface and a chip made of said polymeric substrate |
KR101688173B1 (ko) * | 2011-12-26 | 2016-12-21 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 플라스틱 기판 |
JP5709018B2 (ja) * | 2012-01-26 | 2015-04-30 | 東レ・デュポン株式会社 | 金属積層体 |
CN104704057B (zh) * | 2012-09-27 | 2017-04-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚酰亚胺树脂组合物 |
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Patent Citations (14)
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KR20060020383A (ko) * | 2004-08-31 | 2006-03-06 | 한국화학연구원 | 우수한 표면평활도 및 헤이즈 특성을 가진 폴리이미드계나노복합필름 및 이의 제조방법 |
JP2008163107A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 光学部材 |
WO2008146637A1 (ja) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 無色透明樹脂フィルムの製造方法及び製造装置 |
WO2011065131A1 (ja) * | 2009-11-26 | 2011-06-03 | 株式会社カネカ | 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、透明基板、画像表示装置及び太陽電池 |
US20120296050A1 (en) * | 2011-05-18 | 2012-11-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Poly(amide-imide) block copolymer, article including same, and display device including the article |
WO2012176806A1 (ja) * | 2011-06-21 | 2012-12-27 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 難燃化された脂環式ポリイミド樹脂組成物およびその薄肉成型体 |
JP2013067718A (ja) * | 2011-09-22 | 2013-04-18 | Mitsubishi Gas Chemical Co Inc | 光学積層フィルム |
JP2013076026A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Sekisui Chem Co Ltd | ポリイミド樹脂組成物 |
JP2013209498A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Toyobo Co Ltd | 微粒子含有ポリマー溶液、透明ポリイミド系フィルム及びその製造方法 |
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WO2014003451A1 (en) * | 2012-06-29 | 2014-01-03 | Kolon Industries, Inc. | Polyimide and polyimide film comprising the same |
WO2014041816A1 (ja) * | 2012-09-14 | 2014-03-20 | 三井化学株式会社 | 透明ポリイミド積層体及びその製造方法 |
WO2014046180A1 (ja) * | 2012-09-19 | 2014-03-27 | 本州化学工業株式会社 | ポリイミド及びその成形体 |
WO2014162733A1 (ja) * | 2013-04-04 | 2014-10-09 | 三井化学株式会社 | ポリアミド酸、及びこれを含むワニス、並びにポリイミドフィルム |
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