JP2002341114A

JP2002341114A - 光拡散板用フィルム

Info

Publication number: JP2002341114A
Application number: JP2001141920A
Authority: JP
Inventors: Yukari Nakamori; ゆか里中森; Tetsuya Tsunekawa; 哲也恒川; Shoji Nakajima; 彰二中島
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 2001-05-11
Filing date: 2001-05-11
Publication date: 2002-11-27

Abstract

(57)【要約】【課題】耐熱性、平面性および透明性に優れる光拡散板
用フィルムを提供する。【解決手段】ポリイミドとポリエチレンテレフタレート
からなる二軸配向フィルムであり、フィルムの全光線透
過率が８０％以上、ヘーズが２％以下、表面粗さが０．
１〜１０ｎｍ以下である光拡散板用フィルムであり、こ
の光拡散板用フィルムの少なくとも片面に集光ビーズを
含有させた光拡散層を設け、光拡散フィルムとすること
ができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光線を均一に拡散
する光拡散板用フィルムに関するものである。さらに詳
しくは、本発明は、特に液晶表示ディスプレイ、さらに
デスクトップに使用されるような１５インチ以上の大型
の液晶表示ディスプレイにおいて、液晶パネルのバック
ライトに用いられる光源の光を均一に拡散するための光
拡散板として好適に用いられる光拡散板用フィルムに関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムは、その優れた機械的性質、耐熱性および高温での
寸法安定性を生かし、液晶表示ディスプレイの光拡散板
の集光ビーズの基材として用いられている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
液晶表示板のコントラストの向上や大型化のために、光
源であるバックライト光源の光量アップが必要となって
いるが、従来のポリエチレンテレフタレートフィルムで
は、使用中に温度が上昇し、光拡散板の耐熱性の不足の
ため、光量アップができないという問題がある。

【０００４】そこで本発明は、耐熱性、平面性および透
明性に優れた光拡散板用フィルムおよび光拡散フィルム
を提供することを課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の光拡
散板用フィルムは、ポリイミドとポリエステルＡからな
る層を少なくとも１層有する二軸配向フィルムであっ
て、該二軸配向フィルムの全光線透過率が８０％以上、
ヘーズが２％以下、表面粗さが０．１〜１０ｎｍ以下の
光拡散板用フィルムである。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。

【０００７】本発明の光拡散板用フィルムは、ポリイミ
ドとポリエステルＡからなる層を少なくとも１層有する
二軸配向フィルムで基本的に構成されている。

【０００８】本発明の光拡散板用フィルムを構成するポ
リイミドは、溶融成形性であり、環状イミド基を含有す
るものであれば特に限定されないが、ポリエステルＡと
の溶融成形性や取り扱い性などの点から、例えば、下記
一般式で示されるポリエーテルイミドが好ましい。

【０００９】

【化１】（ただし、上記式中Ｒ₁は、６〜３０個の炭素原子を有
する２価の芳香族または脂肪族残基；Ｒ₂は６〜３０個
の炭素原子を有する２価の芳香族残基、２〜２０個の炭
素原子を有するアルキレン基、２〜２０個の炭素原子を
有するシクロアルキレン基、及び２〜８個の炭素原子を
有するアルキレン基で連鎖停止されたポリジオルガノシ
ロキサン基からなる群から選択された２価の有機基であ
る。）上記Ｒ₁、Ｒ₂としては、例えば、下記式群に示される芳
香族残基を挙げることができる。

【００１０】

【化２】（ただし、上記式中、ｎは１〜１６の整数、好ましくは
２〜１０の整数である。）本発明では、ポリイミドとして、ポリエステルとの相溶
性、コストおよび溶融成形性等の観点から、下記式で示
される構造単位を有する、２，２−ビス［４−（２，３
−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水
物とｍ−フェニレンジアミン、またはｐ−フェニレンジ
アミンとの縮合物が好ましく用いられる。このポリエー
テルイミドは、“ウルテム”（登録商標）の商標名で、
ジーイープラスチックス社より入手可能である。

【００１１】

【化３】または

【００１２】

【化４】（ただし、上記式中、ｎは３３〜１０１の整数であ
る。）ここでいう相溶性の相溶とは、得られたチップのガラス
転移温度（Ｔｇ）が単一であることにより判断すること
ができる。また、得られたチップのＴｇとは、ポリエス
テルのペレットのＴｇとポリイミドのペレットのＴｇの
間に存在するものを指し、さらに、熱流束のギャップ
が、ポリエステルＡの熱流束のギャップの１／１０以下
のものは含まない。

【００１３】本発明において、ポリイミドをポリエステ
ルＡに添加する時期は、特に限定されないが、ポリエス
テルの重合前、例えば、エステル化反応前に添加しても
よく、重合後に溶融押出前に添加してもよい。また、溶
融押出前に、ポリエステルとポリイミドをペレタイズし
てもよい。

【００１４】本発明の光拡散板用フィルムを構成するポ
リエステルＡとしては、エチレンテレフタレ−ト、エチ
レン２，６-ナフタレンジカルボキシレ−ト、エチレン
α，β−ビス（２-クロルフェノキシ）エタン-４，４’
-ジカルボキシレ−ト単位から選ばれた少なくとも一種
の構造単位を主要構成成分とするポリエステルが好まし
く、特に、エチレンテレフタレ−トまたはエチレン２，
６-ナフタレンジカルボキシレ−トを繰り返し単位に７
０重量％以上含有するポリエステルが特に好ましい。例
えば、エチレンテレフタレート単位は、酸成分としてテ
レフタル酸、ジオール成分としてエチレングリコールか
ら構成される。ポリエステルは、エチレンテレフタレー
ト単位以外の、例えば、芳香族ジカルボン酸、脂環族ジ
カルボン酸または脂肪族ジカルボン酸などの酸成分やジ
オール成分から構成されるポリエステル単位を共重合や
混合、ブレンドで含有していてもよい。

【００１５】芳香族ジカルボン酸成分としては、例え
ば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４―
ナフタレンジカルボン酸、１，５―ナフタレンジカルボ
ン酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸、４，４’―ジ
フェニルジカルボン酸、４，４’―ジフェニルエーテル
ジカルボン酸、４，４’―ジフェニルスルホンジカルボ
ン酸等を用いることができ、なかでも好ましくは、テレ
フタル酸、フタル酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸
を用いることができる。

【００１６】脂環族ジカルボン酸成分としては、例え
ば、シクロヘキサンジカルボン酸等を用いることができ
る。脂肪族ジカルボン酸成分としては、例えば、アジピ
ン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を
用いることができる。これらの酸成分は一種のみを用い
てもよく、二種以上を併用してもよい。

【００１７】また、ジオール成分としては、例えば、エ
チレングリコール、１，２ープロパンジオール、１，３
―プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３
―ブタンジオール、１，４―ブタンジオール、１，５―
ペンタンジオール、１，６―ヘキサンジオール、１，２
―シクロヘキサンジメタノール、１，３―シクロヘキサ
ンジメタノール、１，４―シクロヘキサンジメタノー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ポリアルキレングリコール、２，２’―ビス（４’―β
―ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン等を用いるこ
とができ、なかでも好ましくは、エチレングリコール、
１，４―ブタンジオール、１，４―シクロヘキサンジメ
タノール、ジエチレングリコール等を用いることがで
き、特に好ましくは、エチレングリコール等を用いるこ
とができる。これらのジオール成分は一種のみを用いて
もよく、二種以上を併用してもよい。

【００１８】また、ポリエステルＡには、トリメリット
酸、ピロメリット酸、グリセロール、ペンタエリスリト
ール、２, ４―ジオキシ安息香酸、ラウリルアルコー
ルあるいはイソシアン酸フェニル等の単官能化合物等の
他の化合物を、ポリマーが実質的に線状である範囲内で
共重合されていてもよい。さらに、上記の酸成分とジオ
ール成分以外に、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｍ−ヒドロ
キシ安息香酸、２，６−ヒドロキシナフトエ酸などの芳
香族ヒドロキシカルボン酸およびｐ−アミノフェノー
ル、ｐ−アミノ安息香酸などを、本発明の効果が損なわ
れない程度の少量であればさらに共重合せしめることが
できる。

【００１９】本発明の光拡散板用フィルムのポリイミド
の含有量は、耐熱性の観点からポリイミドを含む層にお
いて１〜５０重量％の範囲にあることが好ましい。さら
に好ましくは、ポリイミドの含有量は５〜４０重量％の
範囲であり、より好ましくは、１０〜３５重量％の範囲
である。ポリエステルＡとポリイミドの溶融粘度は大き
く異なるため、ポリイミドの含有量が１重量％未満であ
れば、押出機にて十分な混練を得て互いに相溶すること
が困難になったり、本発明の耐熱性を得ることができな
い場合がある。また、ポリイミドの含有量が５０重量％
を超える量であれば、押出成形加工が困難であったり、
延伸加工を施すことが困難となる場合や、本発明の平面
性、透明性を得ることができなくなる場合があるので注
意すべきである。

【００２０】本発明の光拡散板用フィルムは、ポリイミ
ドとポリエステルＡからなる層を少なくとも１層有する
二軸配向フィルムであり、該フィルムはポリイミドとポ
リエステルＡからなる層のみの単層でも他のポリマ層が
積層された２層以上の積層構成であっても構わない。ポ
リイミドとポリエステルＡからなる層の全フィルム厚み
に対する比率は、熱収縮率や熱耐光性の点から５〜１０
０％、好ましくは１０〜１００％、更に好ましくは３０
〜１００％である。

【００２１】本発明の光拡散板用フィルムには、添加剤
を含有させてもよい。添加剤としては、例えば、安定
剤、染料、滑剤、紫外線吸収剤および難燃剤を例示する
ことができる。

【００２２】フィルムに滑り性を付与するために、不活
性粒子を少量割合含有させることは好ましい態様であ
る。かかる不活性粒子としては、例えば、球状シリカ、
多孔質シリカ、炭酸カルシウム、シリカアルミナ、アル
ミナ、二酸化チタン、カオリンクレー、硫酸バリウム、
ゼオライトのごとき無機粒子、あるいはシリコン樹脂粒
子、架橋ポリスチレン粒子のごとき有機粒子をあげるこ
とができる。

【００２３】不活性粒子は、天然品、合成品のいづれで
もよいが、無機粒子の場合は、粒径が均一であることが
好ましいなどの理由により、天然品よりも合成品である
ことが好ましく、結晶形態、硬度、比重、色などについ
ては特に制限を受けることなく使用することができる。

【００２４】不活性粒子は、前記例示した中から選ばれ
た単一成分でもよく、二成分あるいは三成分以上を含む
多成分であってもよい。不活性微粒子の平均粒径は、
０．０１〜１．０μｍの範囲であることが好ましく、
０．０５〜０．８μｍであることが更に好ましい。

【００２５】本発明の光拡散板用フィルムにおける不活
性微粒子の含有量は、０．００１〜１重量％であること
が好ましく、０．００３〜０．５重量％であることが更
に好ましい。添加量が１重量％より多いと、滑り性は十
分であるが、ひび割れの総数が増加し、ヘーズ値が増加
するため好ましくない。０．００１重量％より少ない
と、滑り性が劣りハンドリングしにくいフィルムとなり
好ましくない。

【００２６】本発明の光拡散板用フィルムは、そのヘー
ズが２％以下、好ましくは１％以下である。ヘーズがこ
の値より大きいと、入射光がフィルム内部で拡散し出射
光量が減少するため光線透過率が減少する。また、ヘー
ズは低い程よい。通常製膜上のヘーズの下限値の限界
は、０．０５％程度と考えられる。ヘーズを本発明の範
囲内とするためには、上述のように、フィルム中の特定
の平均粒径を有する不活性微粒子の含有量を低く押さえ
ると同時に、フィルムの表面粗さやポリイミドとポリエ
ステルＡのチッップのガラス転移温度（Ｔｇ）を単一に
すること、さらに、ポリエステルＡの触媒を適宜変更す
ることによってコントロールできる。

【００２７】本発明の光拡散板用フィルムは、その全光
線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上である。
全光線透過率が８０％より小さいと輝度が下がる。全光
線透過率の製膜上の上限値は９９．９％程度である。全
光線透過率を本発明の範囲内とするには、フィルム表面
の表面粗さやフィルム中の不活性微粒子を調整すると同
時に、ポリイミドとポリエステルＡのチッップのガラス
転移温度（Ｔｇ）を単一にすることや、ポリエステルＡ
の触媒を適宜変更することによってコントロールでき
る。

【００２８】さらに、本発明の光拡散板用フィルムにお
いては、高温下での光拡散蛍光灯照射による全光線透過
率の低下率が、好ましくは５％未満、さらに好ましくは
２％未満である。光線透過率の低下率が少ないほど、長
期間の使用に耐える熱耐光性のあるフィルムとなり好ま
しい。高温下での光拡散蛍光灯照射による全光線透過率
の低下率を本発明の範囲内とするには、ポリイミドとポ
リエステルＡからなる層の全フィルム厚みに対する比率
を５〜１００％に調節したり、製膜条件を適宜選択する
ことで熱収縮率を本発明の範囲内とすることによって達
成できる。

【００２９】本発明の光拡散板用フィルムは、その表面
粗さが０．１〜１０ｎｍ以下、好ましくは０．３〜８ｎ
ｍ以下である。１０ｎｍより大きいとフィルムの表面が
粗れ、表面反射が大きくなり、全光線透過率が減少す
る。表面粗さを本発明の範囲内とするには、特徴面を形
成するフィルム層中に含有させる不活性微粒子の平均粒
径や含有量を適宜調節することによって達成できる。

【００３０】本発明の光拡散板用フィルムは、１０５℃
×３０分の熱収縮率が、全方向にわたり０．５％以下で
あることが好ましい。この熱収縮率が大きすぎると、光
拡散板として用いたとき、熱がかかったときの平面性が
悪くなり好ましくない。熱収縮率を本発明の範囲内とす
るには、ポリイミドの含有量やポリイミドとポリエステ
ルＡからなる層と全フィルム厚みとの比率、さらには、
製膜工程の熱処理条件や冷却工程を多段冷却方式を適宜
調節することによって達成できる。

【００３１】本発明の光拡散板用フィルムの厚み方向の
屈折率ｎＺは好ましくは１．４９５以上、さらに好まし
くは１．５０以上、１．５５以下である。屈折率ｎＺが
この値より小さいと、ヘーズが増加したり、平面性が悪
くなるため好ましくない。

【００３２】本発明の光拡散板用フィルムは、高さ１．
５μｍ以上の粗大突起数が０〜５／１００ｃｍ²以下で
あることが好ましい。この粗大突起数が５個／１００ｍ
ｍ²より多いと拡散板としたときに輝度が低下し好まし
くない。

【００３３】本発明の光拡散板用フィルムは、その全厚
みが好ましくは３５〜１３０μｍ、さらに好ましくは７
０〜１２５μｍである。全厚みが３５μｍより薄いと光
拡散板としたときに腰がなく取り扱いにくくなり好まし
くない。また、全厚みが１３０μｍよりも厚いと、厚み
による光の吸収量が増加し、光線透過率が下がるため好
ましくない。

【００３４】本発明の光拡散板用フィルムは、ポリイミ
ドとポリエステルＡからなる層（Ａ層）の少なくとも片
面に熱可塑性樹脂Ｂからなる層（Ｂ層）を有する２層積
層フィルム（Ａ／Ｂ）であってもよく、さらには３層以
上の積層フィルム（Ａ／Ｂ／Ａ、Ａ／Ａ’／Ａ、Ａ／Ｂ
／Ａ’）であっても良い。

【００３５】熱可塑性樹脂Ｂとしては、ポリイミドとポ
リエステルＡからなる層との密着性の点からポリエステ
ルが好ましい。さらに好ましくは、また、熱可塑性樹脂
Ｂを構成するポリエステルとポリエステルＡとは同一で
も異なっていても構わない。熱可塑性樹脂Ｂとして用い
られるポリエステルとしては、ポリエステルＡとして挙
げた上述のポリエステルを用いることができる。

【００３６】熱可塑性樹脂Ｂ層の積層厚みとしては、本
発明の透明性を高めるために、熱可塑性樹脂Ｂ層にのみ
粒子を含有させ、ハンドリング性、透明性、耐熱性を両
立させるためには、熱可塑性樹脂Ｂ層の積層厚みは０．
１〜３μｍ、好ましくは０．３〜１．５μｍであるとよ
い。さらに、熱可塑性樹脂Ｂ層に含有する粒子の粒径
（ｄ）と積層厚み（ｔ）の比（ｄ／ｔ）を０．０１〜２
の範囲に調節することは、本発明の全光線透過率とヘー
ズ、表面粗さを本発明の範囲内とすることに有効であ
る。

【００３７】本発明の光拡散板用フィルムには、さらに
その少なくとも片面に光拡散層を備えることができる
が、光拡散板用フィルムと光拡散層との接着性を向上さ
せるため、光拡散板用フィルムの光拡散層と接着する側
の表面に、さらに塗付層を有することが好ましい。

【００３８】塗付層は、ポリエステル系樹脂、ウレタン
系樹脂、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂およびこれらで
変性されたポリエステル系樹脂からなる群から選ばれた
少なくとも一種の水溶性または水分散性樹脂からなるこ
とが好ましい。

【００３９】ポリエステル系樹脂としては、それを構成
する成分として以下のような多価カルボン酸および多価
ヒドロキシ化合物を例示することができる。ここで、多
価カルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、
オルトフタル酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、
２，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレン
ジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、
２−カリウムスルホテレフタル酸、５−ナトリウムスル
ホイソフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン
酸、ドデカンジカルボン酸、グルタル酸、コハク酸、ト
リメリット酸、トリメシン酸、無水トリメリット酸、無
水フタル酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、トリメリット酸
モノカリウム塩、およびそれらのエステル形成性誘導
体、等を用いることができ、また、多価ヒドロキシ化合
物としては、エチレングリコール、１，２−プロピレン
グリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−
ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２−メチ
ルー１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ｐ−キシリ
レングリコール、ビスフェノールＡ−エチレングリコー
ル付加物、ビスフェノールＡ−１，２−プロピレングリ
コール付加物、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリテトラ
メチレンオキシドグリコール、ジメチロールプロピオン
酸、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジメチロー
ルエチルスルホン酸ナトリウム、ジメチロールプロピオ
ン酸カリウム、等を用いることができる。これらの化合
物の中から、それぞれ適宜１つ以上選択して、常法の重
縮合反応によりポリエステル系樹脂を合成する。

【００４０】なお、上記のほか、ポリエステル系樹脂と
ともに、またはポリエステル系樹脂に代えて、後述する
アクリルおよびビニル系樹脂変性ポリエステル樹脂や、
ポリエステルポリオールをイソシアネートで鎖延長した
ポリエステルポリウレタンなどのポリエステル成分を有
する複合高分子化合物を、変性されたポリエステル系樹
脂として用いることができる。

【００４１】ウレタン系樹脂は、それを構成する成分と
して、以下のような多価ヒドロキシ化合物、多価イソシ
アネート化合物、鎖長延長剤、架橋剤などを例示するこ
とができる。ここで、多価ヒドロキシ化合物としては、
ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレン
グリコール、ポリオキシテトラメチレングリコールのよ
うなポリエーテル類、ポリエチレンアジペート、ポリエ
チレン−ブチレンアジペート、ポリカプロラクトンのよ
うなポリエステル類、ポリカーボネート類、アクリル系
ポリオール、ひまし油、などを用いることができる。多
価イソシアネート化合物としては、トリレンジイソシア
ネート、フェニレンジイソシアネート、４，４’−ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、キシリレンジイソシアネート、４，４’−
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロン
ジイソシアネート、などを用いることができる。また、
鎖長延長剤あるいは架橋剤の例としては、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリメチロールプロパン、ヒドラジン、エチレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、エチレンジアミン−ナ
トリウムアクリレート付加物、４，４’−ジアミノジフ
ェニルメタン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメ
タン、水などを用いることができる。これらの化合物の
中から、それぞれ適宜１つ以上選択して、常法の重縮合
−架橋反応によりポリウレタン系樹脂を合成する。

【００４２】アクリル系樹脂としては、アルキルアクリ
レートあるいはアルキルメタクリレートを主要な成分と
するものが好ましく、当該成分が３０〜９０モル％であ
り、共重合可能でかつ官能基を有するビニル単量体成分
７０〜１０モル％を含有する水溶性あるいは水分散性樹
脂であることが好ましい。アルキルアクリレートあるい
はアルキルメタクリレートと共重合可能でかつ官能基を
有するビニル単量体は、官能基としてカルボキシル基ま
たはその塩、酸無水物基、スルホン酸基またはその塩、
アミド基またはアルキロール化されたアミド基、アミノ
基（置換アミノ基を含む）またはアルキロール化された
アミノ基あるいはそれらの塩、水酸基、エポキシ基など
を有するビニル単量体であることが好ましい。これらの
中でも特に好ましいものは、カルボキシル基またはその
塩、酸無水物基、エポキシ基などを有するビニル単量体
である。これらの基は、アクリル系樹脂中に２種類以上
含有されていてもよい。アルキルアクリレートおよびア
ルキルメタクリレートのアルキル基の例としては、メチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチル
ヘキシル基、ラウリル基、ステアリル基、シクロヘキシ
ル基などが挙げられる。

【００４３】アルキルアクリレートあるいはアルキルメ
タクリレートと共重合する官能基を有するビニル系単量
体としては、反応性官能基、自己架橋性官能基、親水性
基などの官能基を有する下記の化合物類を使用すること
ができる。カルボキシル基またはその塩、酸無水物基を
有する化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、マレイン酸、これらのカルボン酸のナトリウ
ムなどとの金属塩、アンモニウム塩あるいは無水マレイ
ン酸などが挙げられる。また、スルホン酸基またはその
塩を有する化合物としては、ビニルスルホン酸、スチレ
ンスルホン酸、これらのスルホン酸のナトリウムなどと
の金属塩、アンモニウム塩などが挙げられる。

【００４４】アミド基あるいはアルキロール化されたア
ミド基を有する化合物としては、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、メチロー
ル化アクリルアミド、メチロール化メタクリルアミド、
ウレイドビニルエーテル、β−ウレイドイソブチルビニ
ルエーテル、ウレイドエチルアクリレートなどが挙げら
れる。アミノ基あるいはアルキロール化されたアミノ基
あるいはそれらの塩を有する化合物としては、ジエチル
アミノエチルビニルエーテル、２−アミノエチルビニル
エーテル、３−アミノプロピルビニルエーテル、２ーア
ミノブチルビニルエーテル、ジメチルアミノエチルメタ
クリレート、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、そ
れらのアミノ基をメチロール化したもの、ハロゲン化ア
ルキル、ジメチル硫酸、サルトンなどにより４級化した
ものなどが挙げられる。水酸基を有する化合物として
は、β−ヒドロキシエチルアクリレート、β−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、β−ヒドロキシプロピルアク
リレート、β−ヒドロキシプロピルメタクリレート、β
−ヒドロキシエチルビニルエーテル、５−ヒドロキシペ
ンチルビニルエーテル、６−ヒドロキシヘキシルビニル
エーテル、ポリエチレングリコールモノアクリレート、
ポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロ
ピレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレング
リコールモノメタクリレートなどが挙げられる、エポキ
シ基を有する化合物としては、グリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタクリレートなどが挙げられる。その
他官能基を有する化合物として、ビニルイソシアネー
ト、アリルイソシアネートなどが挙げられる。さらに、
エチレン、プロピレン、メチルペンテン、ブタジエン、
スチレン、α−メチルスチレンなどのオレフィン類や、
ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニル
トリアルコキシシラン、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、塩化ビニリデン、塩化ビニル、フッ化ビニリ
デン、四フッ化エチレン、酢酸ビニルなどもビニル系単
量体化合物として挙げられる。

【００４５】ビニル系樹脂で変性されたポリエステル系
樹脂の水溶性または水分散性樹脂は、ポリエステルの水
溶性または水分散性樹脂中においてビニル系樹脂を重合
することによって合成することができる。このポリエス
テルを構成する成分として、以下のような多塩基酸また
はそのエステル形成誘導体とポリオールまたはそのエス
テル形成誘導体を例示できる。ここで、多塩基酸成分と
しては、テレフタル酸、イソフタール酸、フタル酸、無
水フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４
−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン
酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、、ダイマー酸等
が挙げられる。これら酸成分を２種以上を用いて共重合
ポリエステル樹脂を合成する。

【００４６】また、若干量ながら、不飽和多塩基酸成分
のマレイン酸、イタコン酸等及びｐ−ヒドロキシ安息香
酸等の如きヒドロキシカルボン酸を用いることができ
る。

【００４７】また、ポリオール成分としては、エチレン
グリコール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリ
コール、ジプロピレングリコール、１，６−ヘキサンジ
オール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、キシレ
ングリコール、ジメチロールプロパン、ポリ（エチレン
オキシド）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシ
ド）グリコール等が挙げられる。これらは２種以上を用
いることができる。また、ビニル系樹脂成分としては、
以下に例示するようなビニル系モノマーが挙げられる。
このビニル系モノマーとしては、アルキルアクリレー
ト、アルキルメタクリレート（アルキル基としては、メ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、
ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチ
ルヘキシル基、シクロヘキシル基等）；２−ヒドロキシ
エチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノ
マー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎーアルキ
ルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキ
ルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル
基、シクロヘキシル基等）、Ｎ−アルコキシアクリルア
ミド、Ｎ−アルコキシメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
アルコキシアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシメ
タクリルアミド（アルコキシ基としては、メトキシ基、
エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等）、Ｎ−メ
チロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリル
アミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニル
メタクリルアミド等のアミド基含有モノマー；グリシジ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグ
リシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー；アクリ
ル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマー
ル酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナ
トリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミ
ン塩等）等のガルボキシ基またはその塩を含有するモノ
マー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物の
モノマー；ビニルイソシアネート、アリルイソシアネー
ト、スチレン、αーメチルスチレン、ビニルメチルエー
テル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシ
ラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマ
ール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステ
ル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニ
リデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、ブタジエン等のモノマーが挙げられる。また、これ
らモノマーが挙げられるがこれらに限定されるものでは
ない。これらモノマーは１種あるいは２種以上を用いて
共重合することができる。

【００４８】塗布層を形成するための塗布液は、上記樹
脂の水溶性または水分散性樹脂や他の添加物に影響を与
えない限り、若干の有機溶剤を含んでいてもよい。この
塗布液には、アニオン型界面活性剤、カチオン型界面活
性剤あるいはノニオン型界面活性剤等の界面活性剤を必
要量添加して用いることができる。かかる界面活性剤と
しては、水性塗布液の表面張力を４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以
下に低下でき、ポリエステルフィルムへの濡れを促進す
るものが好ましく、例えば、ポリオキシエチレンアルキ
ルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンー脂肪酸エス
テル、ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エ
ステル、脂肪酸金属石鹸、アルキル硫酸塩、アルキルス
ルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、第４級アンモ
ニウムクロライド塩、アルキルアミン塩酸、ベタイン型
界面活性剤等を挙げることができる。

【００４９】塗布層には、固着性（ブロッキング性）、
耐水性、耐溶剤性、機械的強度の改良のために架橋剤と
してイソシアネート系化合物、エポキシ系化合物、オキ
サゾリン系化合物、アジリジン化合物、メラミン系化合
物、シランカップリング剤、チタンカップリング剤ある
いはジルコ−アルミネート系カップリング剤などを含有
させることができる。

【００５０】塗付層の樹脂成分に架橋反応点があれば、
過酸化物、アミン類などの反応開始剤や、感光性樹脂な
どに増感剤を含有しても良い。

【００５１】固着性や滑り性改良のために、塗布層中に
微粒子を含有させることができる。微粒子としては、無
機系微粒子と有機系微粒子のいずれでもよく、無機系微
粒子として、シリカ、シリカゾル、アルミナ、アルミナ
ゾル、ジルコニウムゾル、カオリン、タルク、炭酸カル
シウム、リン酸カルシウム、酸化チタン、硫酸バリウ
ム、カーボンブラック、硫化モリブデン、酸化アンチモ
ンゾルなどを、有機系微粒子として、ポリスチレン、ポ
リエチレン、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリル
酸エステル、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹
脂などを含有してもよい。これら無機系微粒子と有機系
微粒子の形態は、球状微粒子であることが好ましく、そ
の粒径は０．０１〜０．２μｍの範囲にあることが好ま
しい。また、添加量としてはフィルム表面に１万〜１０
００万個／ｍｍ²存在するように塗布することが好まし
い。微粒子が存在することで、フィルムの滑り性が向上
し、ハンドリング性が向上するとともに、光線透過率が
向上する。この理由は明確になっていないが、フィルム
表面が均一にかつ微細に粗れることで、入射光の界面反
射が押さえられるためと考えられる。微粒子の粒径が
０．２μｍより大きいと、粗さが大きくなり逆に光線透
過率が下がり、また粒子の脱落により工程が汚れてしま
い好ましくない。また、粒径が０．０１μｍ以下では、
滑り性の向上および、光線透過率の向上効果がほとんど
なく好ましくない。添加量は１０００万個／ｍｍ²より
多い場合、粒子の脱落により工程が汚れてしまい好まし
くない。１万個／ｍｍ²より少ない場合、滑り性の向上
および、光線透過率の向上効果がほとんどなく好ましく
ない。添加する微粒子は１成分でも２成分でもさらには
３成分以上でもかまわない。

【００５２】塗付層には、さらに必要に応じて、消泡
剤、塗布性改良剤、増粘剤、帯電防止剤、有機系潤滑
剤、酸化防止剤、発泡剤、染料、顔料などを含有させる
ことがてきる。

【００５３】本発明の光拡散板用フィルムには、集光用
ビーズ等を含有する光拡散層を設けることができる。光
拡散層は、集光用ビーズ等を基層に分散させたものであ
る。光拡散層は、好適には上記の塗付層を介して光拡散
板用フィルムに設けることができる。集光用ビーズとし
ては、公知のもの、例えば、ガラス、アクリル樹脂、ウ
レタン樹脂、塩化ビニール樹脂、ポリカーボネート樹脂
などからなる集光用ビーズが挙げられ、ビーズの平均粒
径は、好ましくは１〜５００μｍである。集光用ビーズ
は、１種を使用してもよいし、２種以上を、例えばブレ
ンドして併用してもよい。

【００５４】光拡散層の基層としては、例えば、主剤の
アクリル樹脂と硬化剤としてのイソシアネート系合成樹
脂とを使用した２液硬化型の樹脂を用いることができ
る。基材は、厚さ１０〜２０μｍ（ビーズ粒子を含まな
い厚さ）とするのが、基材との密着性、光拡散効果の点
から好ましい。

【００５５】光拡散層における集光用ビーズ含有量は、
光拡散層の２０〜９０重量％が良好であり、２０重量％
未満では光が均一に拡散されず、９０重量％を超えると
密着性が得られないため好ましくない。

【００５６】集光用ビーズは、分散剤とともに基材に分
散含有させることができるが、これには、ロール練り
機、ボールミル、ブレンダー等の混合機を用いることが
できる。光拡散層は、光拡散板用フィルムに塗付して設
けることができるが、塗装にあたってはローラー塗り、
ロールコーター、スプレー塗装、静電塗装などが適宜選
択される。

【００５７】次に、本発明の光拡散板用フィルムの製造
方法の具体例について説明するがこれに限定されるもの
ではない。

【００５８】ポリエステルＡとして、ポリエチレンテレ
フタレートを用い、ポリイミドとしてポリエーテルイミ
ドである、「ウルテム」（ジーイープラスチックス社
登録商標）を用いた例を示すが、用いるポリエステルや
ポリイミドにより製造条件は異なる。

【００５９】まず、常法に従い、テレフタル酸とエチレ
ングリコールからエステル化し、または、テレフタル酸
ジメチルとエチレングリコールをエステル交換反応によ
り、ビスーβ―ヒドロキシエチルテレフタレート（ＢＨ
Ｔ）を得る。次に、このＢＨＴを重合槽に移行しなが
ら、真空下で２８０℃に加熱して重合反応を進める。こ
こで、固有粘度が０．５程度のポリエステルを得る。こ
のとき、所定量のポリエーテルイミドを添加しておいて
もよい。得られたポリエステルを、ペレット状で減圧下
において固相重合する。固相重合する場合は、あらかじ
め１８０℃以下の温度で予備結晶化させた後、１９０〜
２５０℃で１ｍｍＨｇ程度の減圧下、１０〜５０時間固
相重合させて、前記、好ましい範囲のＩＶを有したポリ
エステルを得る。また、フィルムを構成するポリエステ
ルに粒子を含有させる方法としては、エチレングリコー
ルに粒子を所定割合にてスラリーの形で分散させ、この
エチレングリコールをテレフタル酸と重合させる方法が
好ましい。粒子を添加する際には、例えば、粒子を合成
時に得られる水ゾルやアルコールゾルを一旦乾燥させる
ことなく添加すると粒子の分散性がよい。また、粒子の
水スラリーを直接所定のポリエステルペレットと混合
し、ベント式２軸混練押出機を用いて、ポリエステルに
練り込む方法も有効である。

【００６０】粒子の含有量と個数を調節する方法として
は、上記方法で高濃度の粒子のマスタを作っておき、そ
れを製膜時に粒子を実質的に含有しないポリエステルで
希釈して粒子の含有量を調節する方法が有効である。

【００６１】次に、該ポリエチレンテレフタレートのペ
レット（Ａ）とポリエーテルイミドのペレット（Ｂ）
を、一定の割合で混合して、２７０〜３００℃に加熱さ
れたベント式の２軸混練押出機に供給して、溶融押出す
る。このときの剪断速度は５０〜３００ｓｅｃ^-1が好ま
しく、より好ましくは１００〜２００ｓｅｃ^-1、滞留時
間は０．５〜１０分が好ましく、より好ましくは１〜５
分の条件である。さらに、上記条件にて相溶しない場合
は、得られたチップを再び二軸押出機に投入し相溶する
まで押出を繰り返してもよい。上記混練によって、ポリ
エチレンテレフタレートとポリエーテルイミドは相溶
し、ガラス転移点が単一のポリエステルのペレット
（Ｃ）を得ることができる。

【００６２】ポリエステルＡとポリエーテルイミドを相
溶させる場合、ポリエーテルイミドをポリエステルＡに
添加する時期は、特に限定されないが、ポリエステルの
重合前、例えば、エステル化反応前に添加してもよい
し、重合後に溶融押出前に添加してもよい。中でも、溶
融押出前に、ポリエステルＡとポリエーテルイミドをポ
リエーテルイミドが高濃度になるように、例えば、３０
〜９０％となるようにペレタイズして、マスターチップ
にすることが溶融成形性の観点から好ましい。

【００６３】得られたポリエーテルイミド含有のポリエ
ステルのペレット（Ｃ）を、１８０℃で３時間以上真空
乾燥した後、固有粘度が低下しないように窒素気流下あ
るいは真空下で２８０〜３２０℃に加熱された押出機に
供給し、従来から行なわれている方法により製膜する。
また、異物や変質ポリマーを除去するために各種のフィ
ルター、例えば、焼結金属、多孔性セラミック、サン
ド、金網などの素材からなるフィルターを用いることが
好ましい。

【００６４】２層以上の積層構成フィルムを得る場合
は、熱可塑性樹脂Ｂとして、例えば、上述により得られ
たポリエチレンテレフタレートのペレット（Ａ）とし、
それぞれ十分乾燥した後、溶融押出機に供給するが、２
台以上の溶融押出機にそれぞれ別に供給し、２または３
層のマニホールドまたは合流ブロックを用いて、ポリイ
ミド含有ペレット（Ｃ）の少なくとも片面にペレット
（Ａ）からなるポリマ層をポリマ管あるいは口金の段階
で積層し、スリット状の口金から２または３層のシート
を押し出す。この場合、合流断面が矩形の合流ブロック
を用いて積層する方法が、ポリエーテルイミド含有のポ
リエステル層を薄く均一に積層するのに有効である。こ
の溶融押出フイルムを、静電印加キャスト法を用いて、
冷却金属ロール表面で冷却し、未延伸フィルムを得る。
この未延伸フィルムを延伸して二軸配向積層フィルムと
する。延伸方法としては、逐次二軸延伸法、または同時
二軸延伸法を用いることができる。

【００６５】逐次二軸延伸の場合、最初に長手方向の延
伸を行ない、続いて幅方向の延伸を行なう方法が延伸破
れなく安定に製膜ができこのましい態様である。この場
合、長手方向の延伸倍率は２段階以上に分けて、特に限
定されないが、延伸速度５０００〜５００００％／分の
速度で、総延伸倍率は２．８〜１０倍とすることが好ま
しく、さらに好ましくは３．５〜９倍の範囲である。

【００６６】幅方向の延伸は、公知のテンターを用い
て、好ましくは９０〜１６０℃、より好ましくは１００
〜１５０℃の延伸温度で、好ましくは３〜１０倍、より
好ましくは３．３〜８倍、幅方向の延伸速度は１０００
〜３００００％／分の範囲で行なうことが望ましい。さ
らに必要に応じて、この二軸延伸フィルムを再度縦、幅
方向に延伸を行ってもよい。この場合の延伸倍率は、
１．１〜１．９倍が好ましい。

【００６７】次に、この延伸フィルムを熱処理する。こ
の場合の熱処理温度は、好ましくは１７０〜２５０℃、
特に好ましくは１８０〜２３０℃で、処理時間は通常
０．２〜３０秒である。

【００６８】また、延伸法として同時二軸延伸法を用い
る場合は、クリップをパンタグラフで連結し、クリップ
間隔を開くパンタグラフ式、クリップをスクリュー形状
の軸で駆動し、スクリュー溝の間隔を調整することでク
リップ間隔を開くスクリュー式、また、リニアモーター
式などがあるが、例えば、リニアモーターを利用した駆
動方式によるテンターを用いて同時二軸延伸方法を用い
ることが好ましい。同時二軸延伸温度としては、熱可塑
性樹脂のガラス転移温度以上、（ガラス転移温度Ｔｇ＋
５０℃）以下であることが好ましい。延伸温度がこの範
囲を大きく外れると、均一延伸ができなくなり厚み斑や
フィルム破れが悪化し好ましくない。延伸倍率は、縦方
向、横方向それぞれ３〜１０倍に延伸する。延伸速度と
しては特に限定されないが、２０００％／分〜５０００
０％／分が好ましい。

【００６９】次にこの延伸フィルムを熱処理する。この
場合の熱処理温度は好ましくは１７０〜２５０℃、特に
好ましくは１８０〜２３０℃である。熱処理時間は１〜
３０秒の範囲が好適である。

【００７０】このように、それぞれの方法で二軸配向し
熱処理を施したフィルムを室温まで徐冷しワインダーに
て巻き取る。冷却方法は、２段階以上に分けて室温まで
徐冷するのが好ましい。このとき、長手方向と幅方向に
０．５〜１０％程度のリラックス処理を行なうことは、
熱寸法安定性を本願の範囲内にする上で有効である。冷
却温度は、第１段目が好ましくは［熱処理温度−２０
℃］〜１２０℃であり、第２段目は［１段目の冷却温度
−３０℃］〜４０℃の範囲内が好ましい。

【００７１】塗布液を塗布する場合は、二軸延伸フィル
ムの製造工程中で結晶配向が完了する前のポリエステル
の一軸または二軸延伸フィルムの片面または両面に塗工
することが好ましい。塗布工程は、本発明の二軸延伸フ
ィルムの製造工程と切り離して塗工してもよいが、この
場合では、塵や埃等を巻き込みやすく、その部分が印刷
時の欠点となりクリーンな雰囲気が望ましく、更には好
適なフィルムを比較的安価で製造でき、これらの点から
製造工程中の塗工が好ましい。その際塗布液の固形分濃
度は、通常０．１〜３０重量％であり、更に好ましくは
１〜１０重量％である。塗布量は、走行中のフィルム１
ｍ²当り０．５〜５０ｇが好ましい。

【００７２】本発明の光拡散板用フィルムは、粒径が
０．０１〜０．２μｍの球状微粒子を分散含有する、ポ
リエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、
ビニル系樹脂およびこれらで変性されたポリエステル系
樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一種の水溶性ま
たは水分散性樹脂を、フィルムの配向結晶化の完了前
に、少なくともフィルム片面に塗工し、乾燥、延伸およ
び熱固定を施して、塗布層を形成して、好適に製造する
ことができる。

【００７３】塗工方法としては公知の方法を適用するこ
とができる。例えば、ロールコート法、グラビアコート
法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナ
イフ法、含浸法あるいはカーテンコート法等を単独また
は組み合わせて適用するとよい。

【００７４】本発明の光拡散板用フィルムは、特に１５
インチ以上の大型のディスプレイに用いる光拡散板用フ
ィルム等に好適に用いられる。

【００７５】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。なお、例中の各特性値は、次の方法により測定し
た。また、例中の「部」とあるのは「重量部」を表す。

【００７６】（１）全光線透過率およびヘーズＪＩＳＫ６７１４−１９５８に従い、全光線透過率Ｔ
ｔ（％）と散乱光透過率Ｔｄ（％）を求め、ヘーズ（Ｔ
ｄ／Ｔｔ×１００）（％）を算出した。

【００７７】（２）表面粗さ１（中心線表面粗さＲa）
および表面突起個数原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて以下の条件で、走査
範囲は適宜選択して場所を変えて１０視野測定を行な
い、走査範囲１２５μ□で計測したときの１０視野の平
均値を表面粗さＲａとした。使用装置：ＮａｎｏＳｃｏｐｅ III ＡＦＭ（Digital
Instruments社製）カンチレバー：シリコン単結晶走査モード：タッピングモード走査範囲：３０〜１２５μｍ□ 走査速度：０．５Ｈｚ〜１．０Ｈｚまた、表面突起個数については、突起の高さのしきい値
（突起高さ）が１０ｎｍ以上の突起について走査視野を
３０μｍに変更して上記条件にて計測し、１０視野の平
均値を１ｍｍ²に換算して表面突起個数とした。

【００７８】（３）フィルム厚みアンリツ（株）製電子マイクロメータ（Ｋ−３１２Ａ
型）を用いて、針圧３０ｇにてフィルム厚みを測定し
た。

【００７９】（４）積層厚み透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−６００型）を用いて、加
速電圧１００ｋＶで、フィルム断面を、超薄切片法（Ｒ
ｕＯ４染色）で観察し、その界面をとらえ、その積層厚
さｈ１を求める。倍率は、判定したい積層厚さによって
選ぶことが通常であり、特に限定されないが、１万〜５
０万倍が適当である。

【００８０】（５）粒子の粒径フィルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、
１０万倍以上の倍率で観察する。ＴＥＭの切片厚さは約
１００ｎｍとし、場所を変えて１００視野以上測定す
る。粒子の平均径は、重量平均径（等価円相当径）から
求める。ｎｍとし、場所を変えて５００視野以上測定
し、上記の式から体積平均径ｄを求める。

【００８１】（６）熱収縮率（熱収）温度を１０５℃に設定されたオーブンの中に無緊張状態
で３０分フィルムを保持し、加熱処理前後での寸法変化
を熱収縮率として下式により算出した。熱収縮率％＝（（Ｌ０−Ｌ）／Ｌ０）×１００Ｌ０：熱処理前の標点間距離Ｌ：熱処理後の標点間距離。

【００８２】（７）屈折率（厚み方向）アッベ屈折計を用い、ナトリウムＤ線（５８９ｎｍ）を
光源としてフィルム面垂直方向（ｎＺ）の屈折率を求め
た。

【００８３】（８）粗大突起数クロスニコル下１０倍の倍率でフィルムを観察し、フィ
ッシュアイとして光る部分にマーキングをし、その部分
の高さを二光束法で測定し５次以上、即ち１．１μｍ以
上の高さを持つ突起の数を１００ｃｍ²についてカウン
トし粗大突起数とした。

【００８４】（９）熱耐光性（蛍光灯による全光線透過
率の低下率）蛍光灯としてナショナルパルック蛍光灯２７Ｗ（ＦＨＬ
２７ＥＸ−Ｎ）を用い、蛍光灯より１ｃｍの距離にフィ
ルムを表面温度６０℃に制御したホットプレート上に固
定し、７２０ｈｒ照射した後の全光線透過率を測定し、
照射前の光線透過率に対する低下の割合を算出した。低
下率が２％未満を優、５〜２％以上を良、５％以上を不
良と判断した。低下率が５％未満、特に、２％未満であ
ると、長期耐熱性に優れた光拡散板用ベースフィルムで
あるといえる。

【００８５】［実施例１］公知の方法により得られたポ
リエチレンテレフタレート（固有粘度０．６１、滑剤と
して平均粒径０．１μｍのケイ酸アルミニウム粒子０．
２５重量％配合）のペレット（ペレット１）、ポリエー
テルイミドのペレット“ウルテム１０１０”（ジーイー
プラスチックス社登録商標）（ペレット２）、無粒子
のポリエチレンテレフタレート（固有粘度０．８５、ペ
レット３）を作成し、上記ペレット２と上記ペレット３
を１対１の割合となるように配合し、２８０℃に加熱さ
れたベント式の２軸混練押出機に供給して、剪断速度１
００ｓｅｃ^-1、滞留時間１分にて溶融押出し、ポリエー
テルイミドを５０重量％含有したポリエステルチップ
（ペレット４）を得た。ペレット４とペレット１を配合
しポリエーテルイミドを２０重量％、粒子含有量０．１
重量％のポリマ（ポリマＡ）を得た。

【００８６】２８０℃に加熱された押出機に、ポリイミ
ド含有ポリエチレンテレフタレート（固有粘度０．６
２、ガラス転移温度９８℃）のペレット４を１８０℃で
３時間真空乾燥した後に供給し、表面温度２５℃のキャ
ストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、
未延伸フィルムを作成した。この未延伸フィルムを、ロ
ール式延伸機にて長手方向に３段に分けて、温度９０℃
で１．３倍、９５℃で２．２倍、さらに９８℃で１．３
倍延伸した。この縦延伸フィルムの両面に、下記組成１
の塗剤を乾燥後の塗膜厚みが０．１μｍになるようにグ
ラビアコーターで塗工した。続いてテンターに供給し、
９２℃にて横方向に３．８倍に延伸した。得られた二軸
配向フィルムを定長化で２１０℃の温度で５秒間熱固定
し、冷却ゾーンにてリラックス率５％にて１５０℃で３
秒、１００℃で３秒徐冷し、厚み１００μｍの二軸配向
フイルムを得た。得られたフイルム上に光拡散層とし
て、アクリルビーズ（粒径５〜４０μｍ）を基剤となる
アクリル樹脂１００重量部に対し１４０重量部となるよ
うに分散させてコート主剤とし、この１００重量部に対
し硬化剤としてイソシアネート５重量部を添加して２液
硬化型の樹脂とした。この樹脂を上記フィルム表面に厚
さ１５〜２５μｍ（ビーズを含まない厚さ）となるよう
に、周知のＭＢ（コンマ）ロールコート方式を用いて塗
布乾燥を行い光拡散シートを作製した。この光拡散用フ
ィルムの特性は表１に示すとおり、良好なものであっ
た。

【００８７】（塗剤１の組成）塗剤１の組成は以下のよ
うな構成である。アクリル系樹脂は、メチルメタクリレ
ート６５モル％／エチルアクレート２８モル％／２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート２モル％／Ｎ−メチロー
ルアクリルアミド５モル％で構成され、固形分重量で３
１重量％、また、ポリエステル系樹脂は、酸成分として
テレフタル酸３５モル％／イソフタル酸モル１３モル％
／５−ナトリウムスルホイソフタル酸２モル％、グリコ
ール成分としてエチレングリコール４５モル％／ジエチ
レングリコール５モル％で構成され、固形分重量で６１
重量％、そして粒径０．０８μｍの球状シリカ微粒子を
固形分重量で６ｗｔ％、濡れ剤としてラウリルポリオキ
シエチレンを固形分重量で２重量％含有する。

【００８８】［実施例２］実施例１において、添加する
粒子の種類、粒径および添加量を表１のとおりに変更し
たこと以外は、すべて実施例１と同様に行なった。評価
結果を表１に示す。

【００８９】［実施例３］実施例１において、添加する
粒子の種類、粒径および添加量を表のとおりにし、フィ
ルム表面に塗布する塗液の組成を下記組成２に変更した
こと以外は、すべて実施例１と同様に行なった。評価結
果を表１に示す。

【００９０】（塗剤２の組成）塗剤２の組成は以下のよ
うな構成であるる。アクリル樹脂は、メチルメタクリレ
ート６５モル％／エチルアクレート２８モル％／２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート２モル％／Ｎ−メチロー
ルアクリルアミド５モル％で構成され、固形分重量で３
０重量％、また、ポリエステル樹脂は、酸成分としてテ
レフタル酸３５モル％／イソフタル酸モル１３モル％／
５−ナトリウムスルホイソフタル酸２モル％、グリコー
ル成分としてエチレングリコール４５モル％／ジエチレ
ングリコール５モル％で構成され、固形分重量で６０重
量％、そして粒径０．０７μｍの球状シリカ微粒子を固
形分重量で８重量％、濡れ剤としてラウリルポリオキシ
エチレンを固形分重量で２重量％含有する。

【００９１】［実施例４］実施例１において、ポリエー
テルイミドの含有量を３０重量％に変更したこと以外
は、全て実施例１と同様に行なった。評価結果を表１に
示す。

【００９２】［実施例５］公知の方法により得られた無
粒子のポリエチレンテレフタレートのペレット（ペレッ
ト１）、ポリエーテルイミドのペレット“ウルテム１０
１０”（ジーイープラスチックス社登録商標）（ペレ
ット２）、平均粒径が０．３μｍ球形シリカ粒子を１重
量％含有したポリエチレンテレフタレート（ペレット
３）を作成し、ペレット１とペレット２を１対１で配合
し、２８０℃に加熱されたベント式の２軸混練押出機に
供給して、剪断速度１００ｓｅｃ^-1、滞留時間１分にて
溶融押出し、ポリエーテルイミドを５０重量％含有した
ポリエステルチップ（ペレット４）を得た。このペレッ
ト４と上記ペレット１及び３を適当量配合しポリエーテ
ルイミドを１０重量％、粒子含有量０．１重量％のポリ
マ（ポリマＡ）を得た。さらに、ポリマＢとして上記ペ
レット４と上記ペレット１を適当量配合し、ポリエーテ
ルイミドを３５重量％になるように調節したポリマを作
成した。

【００９３】押出機２台を用い、２８０℃に加熱された
押出機Ａには、ポリマＡを１８０℃で３時間真空乾燥し
た後に供給し、同じく２８５℃に加熱された押出機Ｂに
は、ポリマＢを１８０℃で３時間真空乾燥した後に供給
し、ポリマＡが最外層になるように３層積層するべくＴ
ダイ中で合流させ（積層構成：Ａ／Ｂ／Ａ）、表面温度
２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着
冷却固化し、積層未延伸フィルムを作成し、実施例１と
同様にしてＡ層の積層厚さ１μｍ、全厚さ１００μｍの
積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルム上
に、実施例１と同様の光拡散層を設け光拡散シートを作
成した。この光拡散用フィルムの特性は表１に示すとお
りであり、良好であった。

【００９４】［比較例１］実施例１のペレット１で用い
た粒子の含有量を表１のように変更したこと以外は、す
べて実施例１と同様にして二軸配向フィルムを作成し
た。評価結果を表１に示す。

【００９５】［比較例２］実施例１において、粒子の粒
径及び添加量を表のとおりに変更したこと以外は、すべ
て実施例１と同様に行なった。評価結果を表１に示す。

【００９６】［比較例３］実施例１で用いた粒子含有ポ
リマＡを中間層に用い、表層部は実施例１で作成したペ
レット１の粒子種、粒径を０．６μｍのシリコン粒子を
０．２重量％に変更したポリマを用いてＢ／Ａ／Ｂの３
層積層構成の未延伸フィルムを作成した。この未延伸フ
ィルムをロール式延伸機にて長手方向に３段に分けて、
温度９０℃で１．３倍、９５℃で２．３倍、さらに９８
℃で１．５倍延伸した。続いてテンターに供給し、９２
℃にて横方向に３．８倍に延伸した。得られた二軸配向
フィルムを定長化で２１０℃の温度で５秒間熱固定し厚
み１００μｍの二軸配向フイルムを得た。評価結果を表
１に示す。

【表１】

【００９７】

【発明の効果】本発明によれば、耐熱性、平面性および
透明性に優れた光拡散板用フィルムおよび光拡散フィル
ムを提供することができる。この光拡散フィルムは、特
に１５インチ以上の大型のディスプレイに用いる光拡散
板用フィルムとして好適に用いることができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０８Ｊ 7/04 Ｃ０８Ｊ 7/04 ＥＣ０８Ｌ 67/00 Ｃ０８Ｌ 67/00 79/08 79/08 ＺＧ０２Ｂ 1/04 Ｇ０２Ｂ 1/04 Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA03 BA12 BA15 BA20 4F006 AA35 AA39 AB23 AB35 AB37 AB43 BA01 CA08 4F071 AA43 AA60 AA83 AF43 AH12 4F100 AA03H AK25C AK41A AK41C AK42A AK49A AK51C AK54 AL05A AL06C AT00B BA02 BA03 BA04 BA05 BA10A BA10C BA10D CA19 CC00C DD07 DE04D EJ38 GB41 JA03 JB09C JJ03 JK15 JM01C JN01 JN02 JN18 JN18D YY00 4J002 CF001 CF061 CF081 CM041 GA01 GQ00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ポリイミドとポリエステルＡからなる層
を少なくとも１層有する二軸配向フィルムであって、該
二軸配向フィルムの全光線透過率が８０％以上、ヘーズ
が２％以下、表面粗さが０．１〜１０ｎｍ以下である光
拡散板用フィルム。
【請求項２】１０５℃×３０分の熱収縮率が０．５％
以下である請求項１記載の光拡散板用フィルム。
【請求項３】高さ１．５μｍ以上の粗大突起数が０〜
５個／１００ｃｍ²以下である請求項１または２記載の
光拡散板用フィルム。
【請求項４】ポリエステルＡが、ポリエチレンテレフ
タレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレンジカ
ルボキシレートである請求項１〜３のいずれかに記載の
光拡散板用フィルム。
【請求項５】さらに塗付層を有する請求項１〜４のい
ずれかに記載の光拡散板用フィルム。
【請求項６】塗付層が、ポリエステル系樹脂、ウレタ
ン系樹脂、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂およびこれら
で変性されたポリエステル系樹脂からなる群から選ばれ
た少なくとも一種の水溶性または水分散性樹脂からなる
請求項５記載の光拡散板用フィルム。
【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載の光拡散
板用フィルムの少なくとも片方の表面にビーズを含有す
る光拡散層を備えた光拡散フィルム。