JP2021081714A - 感光性樹脂組成物及びこれから調製された絶縁膜 - Google Patents

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Abstract

【課題】低温で硬化し、染料を含まない着色された絶縁膜を調製することができる感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】（Ａ）コポリマーと、（Ｂ）光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）イソシアネート系化合物と、（Ｅ）環状ケトン系化合物を含む溶媒と、を含む感光性樹脂組成物。【選択図】なし

Description

本発明は、優れた膜保持率、硬度、及び解像度を有する着色された絶縁膜を形成することができる感光性樹脂組成物、並びにこれから調製された絶縁膜に関する。
ＬＣＤは、液晶の屈折率の異方性を使用して画面に情報を表示する表示デバイスである。これは、上部基板、下部基板、及び基板間に挿入された液晶から構成される。一般的に、下部基板は、駆動素子のアレイを含み、上部基板は、カラーフィルターを含み、基板間のギャップを維持するために所定の厚さを有するスペーサーが配置される。必要に応じて、タッチスクリーンパネル（ＴＳＰ）等を上部基板に接続することができる。
スペーサーの間隔と厚さは正確に調整する必要があり、外圧による変形を減らすために均一に形成される必要がある。この検査には、透明スペーサーよりも色のあるカラムスペーサーを使用する方が便利である。
加えて、ＬＣＤを作製する場合、より正確なパターンを形成するための位置合わせキーの目的で絶縁膜を採用することができる。一般的に、ＴＳＰは、カラーフィルターと薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が結合されたＬＣＤの組み立て工程の後に作製される。すでに作製されているカラーフィルターへの影響を最小限に抑えるために、ＴＳＰの絶縁膜は、低温で硬化する必要がある。しかしながら、低温で硬化される場合、絶縁膜の強度が不十分であるという問題があるため、まずＴＳＰを作製し、次にカラーフィルターを作製する。このような場合、カラーフィルターを正しい位置に配置するために、ＴＳＰの絶縁膜が色を有することが有利である。
染料（又は顔料）を含む組成物は、色を有するこのような絶縁膜を調製するための従来の技術として知られている（（特許文献１）を参照）。しかしながら、染料含有組成物を使用した技術のほとんどは、染料自体の分散性及び組成物における安定性が低く、現像性及び解像度を十分に満たすことができない。
韓国特許出願公開第２０１５−０００８７５９号明細書 韓国特許出願公開第２００４−０００７７００号明細書 韓国特許出願公開第２００５−００８４１４９号明細書 韓国特許出願公開第２００８−００８３６５０号明細書 韓国特許出願公開第２００８−００８０２０８号明細書 韓国特許出願公開第２００７−００４４０６２号明細書 韓国特許出願公開第２００７−００９１１１０号明細書 韓国特許出願公開第２００７−００４４７５３号明細書 韓国特許出願公開第２００９−０００９９９１号明細書 韓国特許出願公開第２００９−００９３９３３号明細書 韓国特許出願公開第２０１０−００９７６５８号明細書 韓国特許出願公開第２０１１−００５９５２５号明細書 国際公開第１０１０２５０２号パンフレット 国際公開第１０１３３０７７号パンフレット
従って、本発明は、低温で硬化し、染料を含まない着色された絶縁膜を調製することができる感光性樹脂組成物を提供することを目的としている。
上記の目的を達成するために、本発明は、（Ａ）コポリマーと、（Ｂ）光重合性化合物と、Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）イソシアネート系化合物と、（Ｅ）環状ケトン系化合物を含む溶媒とを含む感光性樹脂組成物を提供する。
別の目的を達成するために、本発明は、感光性樹脂組成物から調製された絶縁膜を提供する。
発明の有利な効果
本発明の感光性樹脂組成物は、染料を使用せずに着色された絶縁膜を調製することができる。加えて、本発明の感光性樹脂組成物は、低温で硬化することができ、膜強度、硬度、及び解像度などの全ての特性に優れた絶縁膜を調製することができる。
本発明は、以下に記載されるものに限定されない。むしろ、本発明の主旨が変更されない限り、本発明は、様々な形態に修正することができる。
本明細書の全体に渡って、ある部分がある要素を「含む」と言われる場合、特に明記しない限り、他の要素を除外するよりもむしろ、他の要素が含まれ得ると理解される。加えて、本明細書で用いられる成分の量、反応条件等に関する全ての数字及び表現は、特に明記しない限り、用語「約」で修飾されていると理解されるべきである。
本発明は、（Ａ）コポリマーと、（Ｂ）光重合性化合物と、Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）イソシアネート系化合物と、（Ｅ）環状ケトン系化合物を含む溶媒とを含む感光性樹脂組成物を提供する。
この組成物は、任意選択的に、（Ｆ）界面活性剤、及び／又は（Ｇ）シランカップリング剤を更に含み得る。
本明細書で使用される場合、用語「（メタ）アクリル」は、「アクリル」及び／又は「メタクリル」を意味し、用語「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」及び／又は「メタクリレート」を意味する。
以下に記載の各成分の重量平均分子量（ｇ／モル又はＤａ）は、ポリスチレン標準を基準にしてゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ、溶出液：テトラヒドロフラン）により測定される。
（Ａ）コポリマー
本発明による感光性樹脂組成物は、以下に記載されるように、結合剤としてコポリマー（Ａ）を含み得る。
コポリマーは、（ａ１）エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和カルボン酸無水物、又はこれらの組み合せに由来する構造単位と、（ａ２）エポキシ基を含むエチレン性不飽和化合物に由来する構造単位と、（ａ３）（ａ１）及び（ａ２）とは異なるエチレン性不飽和化合物に由来する構造単位とを含み得る。
（ａ１）エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和カルボン酸無水物、又はこれらの組み合わせに由来する構造単位
本発明における構造単位（ａ１）は、エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和カルボン酸無水物、又はこれらの組み合せに由来することができる。
エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和カルボン酸無水物、又はこれらの組み合せは、分子中に少なくとも１つのカルボキシル基を含む重合性不飽和化合物である。これは、不飽和モノカルボン酸、例えば（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロロアクリル酸及びケイ皮酸、不飽和ジカルボン酸及びその無水物、例えばマレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、イタコン酸無水物、シトラコン酸、シトラコン酸無水物及びメサコン酸、３以上の原子価を有する不飽和ポリカルボン酸及びその無水物、並びに二価以上の原子価のポリカルボン酸のモノ［（メタ）アクリロイルオキシアルキル］エステル、例えばモノ［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］スクシネート、モノ［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］フタレートなどから選択される少なくとも１つであり得る。しかし、これは、それらに限定されない。特に現像性の観点から、その中でも（メタ）アクリル酸が好ましくあり得る。
エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和カルボン酸無水物、又はこれらの組み合わせに由来する構造単位（ａ１）の含有量は、コポリマー（Ａ）を構成する構造単位の総モル数に基づいて、５重量％〜５０重量％、１０重量％〜４０重量％、又は１５重量％〜３５重量％の範囲であり得る。上記の範囲内では、好ましい現像性を維持しながら、膜のパターン形成を達成することができる。
（ａ２）エポキシ基を含むエチレン性不飽和化合物に由来する構造単位
本発明の構造単位（ａ２）は、エポキシ基を含むエチレン性不飽和化合物に由来し得る。
具体的には、構造単位（ａ２）は、（ａ２−１）以下の式１で表される脂環式エポキシ基を含む不飽和モノマーに由来する構造単位と、（ａ２−２）以下の式２で表される非環式エポキシ基を含む不飽和モノマーに由来する構造単位とを含み得る。
Figure 2021081714
上記の式では、Ｒ２及びＲ４は、それぞれ独立して、水素、又はＣ１〜４アルキルであり、Ｒ１及びＲ３は、それぞれ独立して、Ｃ１〜４アルキレンである。より具体的には、Ｒ２及びＲ４は、それぞれ独立して、水素又はメチルであり得、Ｒ１及びＲ３は、Ｃ１−４アルキレンであり得る。
脂環式エポキシ基を含む不飽和モノマー（ａ２−１）は、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート又は３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートであり得る。非環式エポキシ基を含む不飽和モノマー（ａ２−２）は、グリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリレートであり得る。
構造単位（ａ２−１）及び（ａ２−２）の総含有量は、コポリマー（Ａ）の構造単位の総モル数に基づいて、１０モル％〜５０モル％、１０モル％〜４５モル％、１０モル％〜４０モル％、１０モル％〜３０モル％、１０モル％〜２０モル％、１５モル％〜５０モル％、１５モル％〜４５モル％、１５モル〜４０モル％、１５モル％〜３０モル％、又は１５モル％〜２０モル％の範囲であり得る。上記の範囲内で、組成物の貯蔵安定性が維持され、膜保持率が向上する。
加えて、構造単位（ａ２−１）と（ａ２−２）のモル比は、５０〜９９：５０〜１、５０〜９０：５０〜１０、５０〜８５：５０〜１５、５０〜８０：５０〜２０、又は５０〜７５：５０〜２５である。上記の範囲内で、優れた室温での経時安定性、耐熱性、及び耐化学薬品性を実現することが可能であり、パターン形成を促進する。
（ａ３）（ａ１）及び（ａ２）とは異なるエチレン性不飽和化合物に由来する構造単位
本発明の構造単位（ａ３）は、構造単位（ａ１）及び（ａ２）とは異なるエチレン性不飽和化合物に由来し得る。
具体的には、構造単位（ａ３）は、芳香族環を有するエチレン性不飽和化合物、例えば、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｐ−ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｐ−ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、オクチルスチレン、フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、ヨードスチレン、メトキシスチレン、エトキシスチレン、プロポキシスチレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、アセチルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ビニルフェノール、ｏ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｍ−ビニルベンジルメチルエーテル、及びｐ−ビニルベンジルメチルエーテル、不飽和カルボン酸エステル、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、メチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、エチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、プロピルα−ヒドロキシメチルアクリレート、ブチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール）メチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、及びジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニル基を含むＮ−ビニル三級アミン、例えば、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、及びＮ−ビニルモルホリン、不飽和エーテル、例えば、ビニルメチルエーテル及びビニルエチルエーテル、並びに不飽和イミド、例えば、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）マレイミド、及びＮ−シクロヘキシルマレイミドからなる群から選択される少なくとも１つであり得る。
構造単位（ａ３）の総含有量は、コポリマー（Ａ）の構造単位の総モル数に基づいて、５モル％〜７０モル％、５モル％〜６５モル％、１０モル％〜７０モル％、１０モル％〜６５モル％、１０モル％〜６０モル％、２０モル％〜６５モル％、２０モル％〜５５モル％、３０モル％〜６５モル％、３０モル％〜６０モル％、３０モル％〜５５モル％、４０モル％〜６５モル％、４０モル〜６０モル％、４０モル％〜５５モル％、又は４０モル％〜５０％の範囲であり得る。上記の範囲内で、コポリマー（Ａ）の反応性を制御し、その溶解度を高めることが可能であり、その結果、感光性樹脂組成物のコーティング性が著しく向上する。
本発明で使用されるコポリマー（Ａ）は、５００Ｄａ〜５０，０００Ｄａ、好ましくは３，０００Ｄａ〜３０，０００Ｄａの重量平均分子量を有し得る。上記の範囲内の重量平均分子量を有する場合、基板への接着性は優れており、物理的及び化学的特性は良好であり、粘度は適切である。
本発明で使用されるコポリマー（Ａ）は、当技術分野で公知の共重合よって合成することができる。コポリマー（Ａ）の含有量は、残量の溶媒を除いた感光性樹脂組成物の総重量に基づいて、１重量％〜８０重量％、５重量％〜８０重量％、５重量％〜７０重量％、５重量％〜６０重量％、１０重量％〜８０重量％、１０重量％〜７０重量％、１０重量％〜６０重量％、２０重量％〜８０重量％、２０重量％〜７０重量％、２０重量％〜６０重量％、３０重量％〜８０重量％、３０重量％〜７０重量％、３０重量％〜６０重量％、４０重量％〜８０重量％。４０重量％〜７０重量％、４０重量％〜６０重量％、５０重量％〜８０重量％、５０重量％〜７０重量％、又は５０重量％〜６０重量％の範囲であり得る。上記の範囲内で、現像後のパターンプロファイルは有利であり、膜保持率及び耐化学薬品性などの特性が向上する。
（Ｂ）光重合性化合物
本発明で使用される光重合性化合物（又はモノマー）は、光重合開始剤の作用により重合可能な化合物である。それは、少なくとも１つのエチレン性不飽和基を有するアクリル酸又はメタクリル酸の単官能性又は多官能性エステル化合物を含み得る。耐化学薬品性の観点から、好ましくは、少なくとも２つの官能基を有する多官能性化合物であり得る。
重合性化合物は、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートとコハク酸のモノエステル、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートとコハク酸のモノエステル、カプロラクトン修飾ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート−ヘキサメチレンジイソシアネート（ペンタエリスリトールトリアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートの反応生成物）、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエポキシアクリレート、及びエチレングリコールモノメチルエーテルアクリレートからなる群から選択される少なくとも１つであり得るが、これらに限定されない。
加えて、それは、直鎖アルキレン基及び脂環式構造を有する化合物を２つ以上のイソシアネート基と反応させることによって得られる多官能性ウレタンアクリレート化合物、及び分子内に１つ以上のヒドロキシル基及び３、４、又は５つのアクリロイルオキシ基及び／又はメタクリロイルオキシ基を有する化合物を含み得るが、これに限定されない。
市販の光重合性化合物の例としては、Ｔｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製のＡｒｏｎｉｘ Ｍ−１０１、Ｍ−１１１、及びＭ−１１４、Ｎｉｐｐｏｎ Ｋａｙａｋｕ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製のＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ及びＴＣ−１２０Ｓ、並びにＯｓａｋａ Ｙｕｋｉ Ｋａｇａｋｕ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製のＶ−１５８及びＶ−２３１１などの単官能性（メタ）アクリレート、Ｔｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製のＡｒｏｎｉｘ Ｍ−２１０、Ｍ−２４０、及びＭ−６２００、Ｎｉｐｐｏｎ Ｋａｙａｋｕ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製のＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ、ＨＸ−２２０、及びＲ−６０４、並びにＯｓａｋａ Ｙｕｋｉ Ｋａｇａｋｕ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製のＶ２６０、Ｖ３１２、及びＶ３３５ＨＰなどの二官能性（メタ）アクリレート、並びにＴｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製のＡｒｏｎｉｘ Ｍ−３０９、Ｍ−４００、Ｍ−４０３、Ｍ−４０５、Ｍ−４５０、Ｍ−７１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０、及びＴＯ−１３８２、Ｎｉｐｐｏｎ Ｋａｙａｋｕ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製のＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、ＤＰＨＡ、ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、及びＤＰＣＡ−１２０、並びにＯｓａｋａ Ｙｕｋｉ Ｋａｇａｋｕ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製のＶ−２９５、Ｖ−３００、Ｖ−３６０、Ｖ−ＧＰＴ、Ｖ−３ＰＡ、及びＶ−４００などの３以上の官能性（メタ）アクリレートを挙げることができる。
光重合性化合物は、単独で、又はこれらの２つ以上と組み合わせて使用することができる。それは、コポリマー（Ａ）の１００重量部に基づいて（固形分に基づいて）、１重量部〜１００重量部、１０重量部〜８０重量部、２０重量部〜８０重量部、２０重量部〜７０重量部、３０重量部〜８０重量部、３０重量部〜７０重量部、４０重量部〜８０重量部、４０重量部〜７０重量部、５０重量部〜８０重量部、又は５０重量部〜７０重量部の量で使用することができる。上記の範囲内で、優れたパターン現像性と膜特性を備えた高感度を実現することができる。
（Ｃ）光重合開始剤
本発明において使用される光重合開始剤は、可視光、紫外線照射、深紫外線照射などによって硬化させることが可能なモノマーの重合を開始させるのに機能する。
光重合開始剤は、ラジカル重合開始剤であり得る。その例としては、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾイル系、キサントン系、トリアジン系、ハロメチルオキサジアゾール系、及びロフィンダイマー系の光重合開始剤からなる群から選択される少なくとも１つが挙げられるが、これらに限定されない。
その特定の例としては、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウリル、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ジエチルチオキサントン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ｐ−メトキシフェニル−ｓ−トリアジン、２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキソジアゾール、９−フェニルアクリジン、３−メチル−５−アミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリルダイマー、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−オクタン−１，２−ジオン−２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）、ｏ−ベンゾイル−４’−（ベンズメルカプト）ベンゾイルヘキシルケトキシム、２，４，６−トリメチルフェニルカルボニル−ジフェニルホスホニルオキシド、ヘキサフルオロホスホロ−トリアルキルフェニルスルホニウム塩、２−メルカプトベンズイミダゾール、２，２’−ベンゾチアゾリルジスルフィド、及びこれらの混合物を挙げることができるが、これらに限定されない。加えて、（特許文献２）、（特許文献３）、（特許文献４）、（特許文献５）、（特許文献６）、（特許文献７）、（特許文献８）、（特許文献９）、（特許文献１０）、（特許文献１１）、（特許文献１２）、（特許文献１３）、及び（特許文献１４）に開示されているオキシム系化合物を使用することができる。
光重合開始剤は、コポリマー（Ａ）の１００重量部に基づいて（固形分に基づいて）、０．１重量部〜２０重量部、０．１重量部〜１５重量部、１重量部〜２０重量部、１重量部〜１５重量部、１重量部〜１０重量部、１重量部〜８重量部、１重量部〜６重量部、１重量部〜５重量部、２重量部〜１０重量部、２重量部〜８重量部、２重量部〜６重量部、又は２重量部〜５重量部の量で使用することができる。上記の範囲内で、優れたパターン現像性と膜特性を備えた高感度を実現することができる。
（Ｄ）イソシアネート系化合物
本発明で使用されるイソシアネート系化合物は、接着助剤として機能する。イソシアネート系化合物の−ＮＣＯ基は、ヒドロキシル基、アミン基、カルボキシル基、エポキシ基、水、酸等などの活性水素を有する化合物と容易に反応する高い反応性を有する。このような反応による架橋反応は、絶縁膜と基板の間の接着を更に高めることができる。
同時に、感光性樹脂組成物におけるコポリマー（Ａ）及び溶媒（Ｅ）などの他の成分と反応して、色を有する三次元ポリマー化合物を形成し、その結果、絶縁膜が色を呈する。
イソシアネート系化合物は、３−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、アリルイソシアネート、（トリメチルシリル）イソシアネート、（Ｒ）−（−）−３−メチル−２−ブチルイソシアネート、（Ｒ）−（＋）−１−フェニルプロピルイソシアネート、（Ｒ）−（−）−２−ヘプチルイソシアネート、ヘキシルイソシアネート、ブチルイソシアネート、イソプロピルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネート、プロピルイソシアネート、オクタデシルイソシアネート、フェニルイソシアネート、２−イソシアナトエチルメタクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート、１，１−（ビスアクリロイルオキシアセチル）イソシアネート、エチルイソシアヌレート、及び２−イソシアナトエチルアクリレートからなる群から選択される少なくとも１つであり得る。
加えて、それは、多官能性イソシアネート系化合物ポリマーを更に含み得る。
例えば、Ｓｈｉｎｅｔｓｕ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．のＫＢＥ−９００７Ｎをイソシアネート系化合物として使用することができ、Ｓｈｉｎｅｔｓｕ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．のＸ−１２−１１５９Ｌを更に使用することができる。
イソシアネート系化合物は、コポリマー（Ａ）の１００重量部（固形分に基づいて）に基づいて、０．０１重量部〜５重量部、０．０１重量部〜３重量部、０．１重量部〜５重量部、０．２重量部〜５重量部、０．１重量部〜３重量部、又は０．２重量部〜３重量部の量で使用することができる。上記の範囲内で、基板への優れた接着性を有し、（不透明な）色を有する絶縁膜を得ることができる。
（Ｅ）溶媒
本発明の感光性樹脂組成物は、上記の成分が溶媒と混合されている液体組成物として調製され得る。このような場合、溶媒は、環状ケトン系化合物を含み得る。
具体的には、環状ケトン系化合物は、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、及びシクロブタノンからなる群から選択される少なくとも１つであり得る。これは好ましくはシクロペンタノンであり得る。
環状ケトン系化合物の沸点は、７０℃〜１６０℃、９０℃〜１５０℃、又は１２０℃〜１４０℃であり得る。
環状ケトン系化合物は、絶縁膜に色を与えるよう機能する。
具体的には、環状ケトン系化合物は、酸触媒の存在下でアルドール反応により色を有する化合物を形成し得る。例えば、シクロペンタノンは、エノール化、アルドール付加、及び脱水を受け、黄色の２−シクロペンチリデンシクロペンタン−１−オンを形成する。
加えて、他の溶媒は、それらが上記の感光性樹脂組成物の成分と適合性があり、それらが本発明の効果を損なわない限り、本発明において更に使用され得る。
このような溶媒の例としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、及びプロピレングリコールモノブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、及びプロピレングリコールジブチルエーテルなどのプロピレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレングリコールヂメチルエーテルなどのジプロピレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、及びプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、エチルセロソルブ及びブチルセロソルブなどのセロソルブ、ブチルカルビトールなどのカルビトール、メチル乳酸、エチル乳酸、ｎ−プロピル乳酸、及びイソプロピル乳酸などの乳酸エステル、エチル酢酸、ｎ−プロピル酢酸、イソプロピル酢酸、ｎ−ブチル酢酸、イソブチル酢酸、ｎ−アミル酢酸、イソアミル酢酸、イソプロピルプロピオン酸、ｎ−ブチルプロピオン酸、及びイソブチルプロピオン酸などの脂肪族カルボン酸エステル、メチル３−メトキシプロピオン酸、エチル３−メトキシプロピオン酸、メチル３−エトキシプロピオン酸、エチル３−エトキシプロピオン酸、メチルピルビン酸、及びエチルピルビン酸などのエステル、トルエン及びキシレンなどの芳香族炭化水素、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、及び４−ヘプタノンなどのケトン、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、及びＮ−メチルピロリドンなどのアミド、γ−ブチロラクトンなどのラクトン、並びにこれらの混合物が挙げられるが、これらに限定されない。溶媒は、単独又は２つ以上の組み合せで使用され得る。
本発明による感光性樹脂組成物において、溶媒の含有量は、特に限定されないが、このようにして調製された感光性樹脂組成物のコーティング性及び安定性の観点から、固形分が、組成物の総重量に基づいて、５重量％〜８０重量％、５重量％〜７０重量％、５重量％〜６０重量％、１０重量％〜７０重量％、１０重量％〜６０重量％、１０重量％〜５５重量％、１０重量％〜５０重量％、１０重量％〜４５重量％、１０重量％〜４０重量％、１０重量％〜３０重量％、２０重量％〜６０重量％、２０重量％〜５５重量％、２０重量％〜５０重量％、２０重量％〜４５重量％、２０重量％〜４０重量％、又は２０重量％〜３０重量％であるように溶媒を使用することができる。
加えて、溶媒は、溶媒の総重量に基づいて、１重量％〜９０重量％、１重量％〜７０重量％、１重量％〜５０重量％、１重量％〜３０重量％、５重量％〜１００重量％、５重量％〜５０重量％、５重量％〜４０重量％、５重量％〜３０重量％、５重量％〜２０重量％、７重量％〜９０重量％、７重量％〜５０重量％、１０重量％〜９０重量％、又は１０重量％〜５０重量％の量の環状ケトン系化合物を含み得る。
上記の範囲内で、感光性樹脂組成物の他の成分との適合性が良好であり、室温又は低温でさえの貯蔵安定性が優れている。加えて、溶媒は、絶縁膜が形成されるとき（コーティング時）、プリベーク温度で適切な量のままであり得、その結果、コーティング膜の形成又は平滑化を助けることができる。更に、７０℃〜１５０℃の温度で十分に蒸発して、低温硬化時にコーティング膜を形成することができる。
加えて、本発明の感光性樹脂組成物は、その特性を改善するために他の成分を更に含み得る。例えば、他の成分は、界面活性剤（Ｆ）及び／又はシランカップリング剤（Ｇ）を含み得る。
（Ｆ）界面活性剤
本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じて、コーティング性を向上させるために且つ欠陥の発生を防ぐために界面活性剤を更に含み得る。
界面活性剤の種類は、特に限定されない。好ましくは、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤などを含み得る。好ましくは、分散性の観点から、上記のうち、ＢＹＫのＢＹＫ−３０７を使用することができる。
界面活性剤の例としては、ＢＭ ＣＨＥＭＩＥ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．によって供給されるＢＭ−１０００及びＢＭ−１１００、Ｄａｉ Ｎｉｐｐｏｎ Ｉｎｋ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｋｏｇｙｏ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．によって供給される、Ｍｅｇａｐａｃｋ Ｆ１４２Ｄ、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１８３、Ｆ−４７０、Ｆ−４７１、Ｆ−４７５、Ｆ−４８２、及びＦ−４８９、Ｓｕｍｉｔｏｍｏ ３Ｍ Ｌｔｄ．によって供給される、Ｆｌｏｒａｄ ＦＣ−１３５、ＦＣ−１７０Ｃ、ＦＣ−４３０、及びＦＣ−４３１、Ａｓａｈｉ Ｇｌａｓｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．によって供給される、Ｓｕｆｒｏｎ Ｓ−１１２、Ｓ−１１３、Ｓ−１３１、Ｓ−１４１、Ｓ−１４５、Ｓ−３８２、ＳＣ−１０１、ＳＣ−１０２、ＳＣ−１０３、ＳＣ−１０４、ＳＣ−１０５、及びＳＣ−１０６、Ｓｈｉｎａｋｉｄａ Ｋａｓｅｉ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．によって供給される、Ｅｆｔｏｐ ＥＦ３０１、３０３、及び３５２、Ｔｏｒａｙ Ｓｉｌｉｃｏｎｅ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．によって供給される、ＳＨ−２８ ＰＡ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８、ＤＣ−５７、及びＤＣ−１９０、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｔｏｒａｙ Ｓｉｌｉｃｏｎｅ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．によって供給される、ＤＣ３ＰＡ、ＤＣ７ＰＡ、ＳＨ１１ＰＡ、ＳＨ２１ＰＡ、ＳＨ８４００、ＦＺ−２１００、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２２２２、及びＦＺ−２２３３、ＧＥ Ｔｏｓｈｉｂａ Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．によって供給される、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、及びＴＳＦ−４４５２、並びにＢＹＫ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎによって供給される、ＢＹＫ−３３３及びＢＹＫ−３０７などのフッ素及びシリコーン系界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、及びポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル及びポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル、並びにポリオキシエチレンジラウレート及びポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステルなどの非イオン性界面活性剤、並びにオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、（メタ）アクリレート系コポリマーＰｏｌｙｆｌｏｗ Ｎｏ．５７及び９５（Ｋｙｏｅｉ Ｙｕｊｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）等を挙げることができる。それらは、単独で又はこれらの２つ以上の組み合わせで使用され得る。
界面活性剤は、コポリマー（Ａ）の１００重量部に基づいて（固形分に基づいて）、０．０００１重量部〜５重量部、０．０００１重量部〜３重量部、０．００１重量部〜５重量部、０．００１重量部〜３重量部、０．０１重量部〜５重量部、０．０１重量部〜３重量部、０．１重量部〜５重量部、又は０．１重量部〜３重量部の量で使用することができる。上記の範囲内で、組成物のコーティングは、スムーズに行われる。
（Ｇ）シランカップリング剤
基板への接着性を高めるために、本発明の感光性樹脂組成物は、カルボキシル基、（メタ）アクリロイル基、アミノ基、メルカプト基、ビニル基、及びエポキシ基からなる群から選択される少なくとも１つの反応性基を有するシランカップリング剤を更に含み得る。
シランカップリング剤の種類は特に限定されない。それは、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、及びβ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランからなる群から選択される少なくとも１つであり得る。好ましいのは、エポキシ基を有するγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン又はγ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランであり、これは、膜保持率を高めることができ、基板への接着性に優れている。
シランカップリング剤は、コポリマー（Ａ）の１００重量部に基づいて（固形分に基づいて）、０．０００１重量部〜５重量部、０．０００１重量部〜３重量部、０．００１重量部〜５重量部、０．００１重量部〜３重量部、０．０１重量部〜５重量部、０．０１重量部〜３重量部、０．０１重量部〜１重量部、０．１重量部〜５重量部、又は０．１重量部〜３重量部の量で使用することができる。上記の範囲内で、基板への接着性は良好である。
加えて、本発明の感光性樹脂組成物は、感光性樹脂組成物の物理的特性に悪影響を及ぼさない限り、酸化防止剤及び安定剤などの他の添加剤を更に含み得る。
上記の本発明の感光性樹脂組成物は、比較的低温で硬化させることができる。具体的には、硬化温度は、７０℃〜１５０℃、１００℃〜１５０℃、１００℃〜１４０℃、又は１１０℃〜１３０℃であり得る。
本発明は、感光性樹脂組成物から形成される絶縁膜（硬化膜）を提供する。
絶縁膜は、当技術分野で公知の方法によって調製することができる。例えば、感光性樹脂組成物を、６０℃〜１３０℃の温度で６０秒〜１３０秒のプリベークを行って溶媒を除去するスピンコーティング法により、基板にコーティングされる。次いで、所望のパターンを有するフォトマスクを使用して露光し、現像液（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）溶液）を使用して現像して、コーティング層にパターンを形成する。その後、必要に応じて、そのパターン形成したコーティング層を、温度７０〜１５０℃で１０分〜５時間のポストベークにかけて、所望の絶縁膜を調製する。
露光は、２００〜４５０ｎｍの波長域において３６５ｎｍの波長を基準として１０ｍＪ／ｃｍ２〜１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で行われ得る。本発明のプロセスによると、プロセスの観点から所望のパターンを容易に形成することが可能である。
基板への感光性樹脂組成物のコーティングは、例えば、２〜２５μｍの所望の厚さで、スピンコーティング法、スリットコーティング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、アプリケーター法などによって行われ得る。加えて、露光（照射）のために使用される光源として、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、ハロゲン化金属ランプ、アルゴンガスレーザーなどを使用し得る。Ｘ線、電子線なども所望されれば使用され得る。
本発明の感光性樹脂組成物は、耐熱性、耐溶媒性、耐酸性、耐アルカリ性、膜保持率、硬度、及び解像度の点で優れた不透明な（着色された）絶縁膜を形成することができる。
例えば、絶縁膜は、４００ｎｍの波長で８０％以下、７８％以下、又は７０％以下の透過率を有し得る（評価例３を参照）。
従って、このように形成された本発明の絶縁膜は、これが熱処理に供される、又は溶媒、酸、塩基などに浸漬される、又は溶媒、酸、塩基などと接触したとき、表面粗さがない解像度及び硬度などの優れた物理的特性を有する。このように、絶縁膜は、液晶ディスプレイ又は有機ＥＬディスプレイの薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板のための平坦化膜、有機ＥＬディスプレイのパーティション（ｐａｒｔｉｔｉｏｎ）、半導体デバイスの層間絶縁体、光導波路のコア又はクラッド材などとして効果的に使用することができる。
発明を実施するための実施形態
本明細書では以下、本発明を以下の実施例に関連してより詳細に説明する。しかしながら、これらの実施例は、本発明を説明するために提供されるものであり、本発明の範囲をそれのみに限定するものではない。
以下の調製実施例では、重量平均分子量は、ポリスチレン標準を参照としたゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ、溶離液：テトラヒドロフラン）により決定される。
調製実施例１：コポリマー（Ａ）の調製
還流冷却器及びスターラーを備えた５００ｍｌの丸底フラスコに、５０モル％のスチレン、２２モル％のメタクリル酸、１０モル％のグリシジルメタクリレート、及び１８モル％の３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートからなる４０ｇのモノマー混合物を、溶媒として１２０ｇのメチル３−メトキシプロピオネート（ＭＭＰ）及びラジカル重合開始剤として２ｇの２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）とともに入れた。その後、温度を７０℃に上げ８時間撹拌し、３３重量％の固形分を有するコポリマー（Ａ）溶液を得た。このようにして調製されたコポリマー（Ａ）は、７，０００Ｄａの重量平均分子量を有した。
実施例及び比較例：感光性樹脂組成物の調製
以下の実施例及び比較例に使用した成分は、以下の通りである。
Figure 2021081714
実施例１
調製実施例１で調製したコポリマー（Ａ）１００重量部、光重合性化合物として６官能性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート６６．７重量部、光重合開始剤としてＯＸＥ−０２（Ｃ）５．２重量部、イソシアネート系化合物（Ｄ）として３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン０．９重量部、及び界面活性剤（Ｆ）１．７重量部を混合した。ここで、それぞれの含有量は、溶媒を除く固形分を基準にしたものである。その後、シクロペンタノン（Ｅ−１）を、混合物の固形分が２１重量％であるように混合物に加えた。結果として得られたものを、振盪機を用いて２時間混合して液相感光性樹脂組成物を調製した。
実施例２及び３並びに比較例１及び２
それぞれの成分の種類及び／又は含有量を以下の表２に示す通りに変更した以外は、実施例１と同じ方法で感光性樹脂組成物溶液をそれぞれ調製した。
Figure 2021081714
［評価例］
絶縁膜はそれぞれ、実施例１〜３並びに比較例１及び２で得られた感光性樹脂組成物から調製された。絶縁膜の膜保持率、鉛筆硬度、透過率、及び解像度を評価し、結果を以下の表３に示す。
［絶縁膜の調製］
実施例及び比較例で得られた感光性樹脂組成物をスピンコーターを用いてガラス基板にそれぞれコーティングして、１００℃で６０秒間プレベークして、コーティングされた膜を形成した。コーティングされた膜の５ｃｍ×５ｃｍの領域が１００％露光されるように且つ基板とのギャップが２５μｍに維持されるように、こうして形成されたコーティングされた膜にマスクを配置した。その後、この膜を、２００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長を有する光を放射するアライナー装置（モデル名：ＭＡ６）を用いて、３６５ｎｍの波長を基準にして３０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で、一定時間露光させた。露光された膜を、露光されていない部分が完全に洗い流されるまで、２３℃で２．３８重量％の水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）の水性現像液で現像した。パターンが形成された露光された膜をオーブンにて１３０℃で１時間加熱（ポストベーク）して、２．５（±０．２）μｍの厚さを有する絶縁膜を得た。
評価例１：膜保持率
プリベーク時の初期厚さを、絶縁膜の調製プロセスに従って測定した。絶縁膜の調製プロセス後、２３℃でＴＭＡＨ２．３８重量％に希釈した水溶液で現像した。１３０℃で１時間硬化させて厚さを測定した。膜保持率は、プリベーク時の膜の厚さに対する最終的な絶縁膜の厚さのパーセントでの比を計算することによって得られた。
評価例２：鉛筆硬度
最終硬化時の全厚さが２．５（±０．２）μｍの絶縁膜を、絶縁膜の調製プロセスに従って調製した。鉛筆硬度試験機を用いて、同じ方向に一定の速度と角度（４５°）で５００ｇの重りをかけて、６Ｂ〜９ＨまでのＭｉｔｓｕｂｉｓｈｉ ＵＮＩ鉛筆を用いて絶縁膜の損傷の程度を観察した。
評価例３：透過率（紫外−可視）
絶縁膜の調製プロセスに従って、ガラス基板に厚さ２．５μｍの予備絶縁膜を形成した。透過率を以下の方法で測定した。
透過率は、紫外／可視光計（バリアンＵＶ分光計）を使用して２００ｎｍ〜８００ｎｍの波長領域を走査し、４００ｎｍの波長で透過率を測定することによって測定した。４００の波長での透過率が低いほど良好である。
評価例４：解像度（リソ性能）
実施例及び比較例で調製した組成物を、それぞれスピンコーティングによりガラス基板に均一にコーティングし、次いで１００℃に保たれたホットプレート上で１分間乾燥させて基板を形成した。線幅３０μｍの開口パターンを有するネガ型マスクを、乾燥膜が形成される基板に配置した。次いで、アライナー装置（モデル名：ＭＡ６）を使用して３０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で露光し、未露光部分が完全に洗い流されるまで、２３℃でＴＭＡＨ２．３８重量％に希釈した水溶液で現像した。その後、パターンが形成された露光された膜を、１３０℃でオーブンにて１時間ポストベークして、厚さ２．５（±０．２）μｍの絶縁膜を得た。絶縁膜を形成した基板については、非接触式厚さ計（ＳＩＳ−２０００、ＳＮＵ）でパターンの底部の線幅を測定し、以下の基準で解像度を評価した。
○底部線（ｂｏｔｔｏｍ ｌｉｎｅ）は、２０μｍ以上の幅でオープンであった（ｗａｓ ｏｐｅｎ）。
×底部線は、２０μｍ未満の幅でオープンであった。
Figure 2021081714
表３から分かるように、本発明の範囲内にある、実施例の組成物から得られた絶縁膜は、膜保持率、鉛筆硬度、及び所望のレベルの透過率での解像度において全体的に優れていた。対照的に、本発明の範囲外である、比較例１及び２の組成物から得られた絶縁膜は、実施例で調製された絶縁膜と比較して、膜保持率及び解像度が低く、所望のレベルの透過率を達成することができなかった。

Claims (12)

  1. （Ａ）コポリマーと、
    （Ｂ）光重合性化合物と、
    （Ｃ）光重合開始剤と、
    （Ｄ）イソシアネート系化合物と、
    （Ｅ）環状ケトン系化合物を含む溶媒と、
    を含む感光性樹脂組成物。
  2. 前記コポリマー（Ａ）は、（ａ１）エチレン性不飽和カルボン酸、エチレン性不飽和カルボン酸無水物、又はこれらの組み合せに由来する構造単位と、（ａ２）エポキシ基を含むエチレン性不飽和化合物に由来する構造単位と、（ａ３）（ａ１）及び（ａ２）とは異なるエチレン性不飽和化合物に由来する構造単位とを含む、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
  3. 前記構造単位（ａ２）は、（ａ２−１）以下の式１で表される脂環式エポキシ基を含む不飽和モノマーに由来する構造単位と、（ａ２−２）以下の式２で表される非環式エポキシ基を含む不飽和モノマーに由来する構造単位とを含む
    Figure 2021081714
     （上記の式では、Ｒ２及びＲ４は、それぞれ独立して、水素、又はＣ１−４アルキルであり、Ｒ１及びＲ３は、それぞれ独立して、Ｃ１−４アルキレンである）請求項２に記載の感光性樹脂組成物。
  4. 前記構造単位（ａ２−１）及び（ａ２−２）の総含有量は、前記コポリマー（Ａ）の構造単位の総モル数に基づいて、１０モル％〜５０モル％の範囲である、請求項３に記載の感光性樹脂組成物。
  5. 前記構造単位（ａ２−１）と（ａ２−２）のモル比は、５０〜９９：５０〜１である、請求項３に記載の感光性樹脂組成物。
  6. 前記イソシアネート系化合物は、３−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、アリルイソシアネート、（トリメチルシリル）イソシアネート、（Ｒ）−（−）−３−メチル−２−ブチルイソシアネート、（Ｒ）−（＋）−１−フェニルプロピルイソシアネート、（Ｒ）−（−）−２−ヘプチルイソシアネート、ヘキシルイソシアネート、ブチルイソシアネート、イソプロピルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネート、プロピルイソシアネート、オクタデシルイソシアネート、フェニルイソシアネート、２−イソシアナトエチルメタクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート、１，１−（ビスアクリロイルオキシアセチル）イソシアナート、エチルイソシアヌレート、及び２−イソシアナトエチルアクリレートからなる群から選択される少なくとも１つである、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
  7. 前記環状ケトン系化合物は、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、及びシクロブタノンからなる群から選択される少なくとも１つである、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
  8. 前記環状ケトン系化合物は、７０℃〜１６０℃の沸点を有する、請求項７に記載の感光性樹脂組成物。
  9. 前記溶媒（Ｅ）は、前記溶媒（Ｅ）の総重量に基づいて、５重量％〜１００重量％の量の前記環状ケトン系化合物を含む、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
  10. ７０℃〜１５０℃の硬化温度を有する、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
  11. 請求項１に記載の感光性樹脂組成物から調製された絶縁膜。
  12. ４００ｎｍの波長で８０％以下の透過率を有する、請求項１１に記載の絶縁膜。
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