KR20200081858A - 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 절연막 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 절연막에 관한 것으로, 상기 화학식 1 내지 6으로 표시되는 반복단위를 포함하는 공중합체는 산기 저하없이 광중합성 관능기 도입이 가능하므로, 감광성 수지 조성물 내 가교도를 높여 유기 용매에 대한 내화학성을 보다 우수하게 향상시킬 수 있으므로 절연막 형성시 패턴화가 용이하다. 나아가, 상기 공중합체를 포함하는 감광성 수지 조성물은 100℃ 이하의 저온에서 경화 가능할 뿐만 아니라, 해상도, 부착성, 투과도, 고온에서의 경시 안정성, 막강도 등의 측면에서도 보다 우수한 물성을 갖는 절연막을 형성할 수 있다.

Description

감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 절연막{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND INSULATING FILM PREPARED THEREFROM}
본 발명은 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 절연막에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 가교도가 향상된 공중합체, 이를 포함함으로써 내화학성 및 저온 경화가 가능한 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조되며 액정표시장치 및 유기EL표시장치 등에 사용되는 절연막에 관한 것이다.
최근 디스플레이 산업에서는 터치 스크린 패널(Touch Screen Panel; TSP)을 갖는 디스플레이의 개발이 활발하다. TSP는 기기의 소형화 및 대면적화에 적합하나, 높은 내구성, 정밀한 터치감, 우수한 광학 특성 등의 물성이 수반되어야 한다. TSP 제작은 일반적으로 디스플레이 상부의 발광부(LCD 또는 OLED)를 제작한 후, 이어서 TSP를 제작한다. 이때, TSP 내 금속 전극 사이에는 절연막을 필요로 하는데, 이미 제작되어 있는 발광부에 미치는 영향을 최소화하기 위해 TSP에 적용되는 절연막의 온도는 일반 절연막보다 저온에서 열경화를 진행해야만 한다. 그러나, 저온에서 제조되는 절연막은 절연막 제조시의 패턴화 공정에서 사용하는 유기계 현상액에 매우 취약하다는 단점이 있다.
이러한 문제점을 해결하기 위해 올레핀계 화합물에 메타크릴레이트계 화합물을 중합시킨 아크릴계 공중합체를 사용하여 120℃ 이하에서 경화가 가능하고, 경화 후에도 내열성, 내화학성 등을 보다 개선시키고자 하는 시도가 있었다(한국 공개특허 제2008-0102838호). 그러나, 상기 특허에서 사용하는 아크릴계 공중합체는 올레핀계 화합물과 같은 알칼리 가용성 수지에 메타크릴레이트계 화합물의 관능기(광중합성 관능기)가 도입될수록 산기(예: 카르복실기)의 비율이 낮아지므로, 광중합성 관능기의 비율에 따라 증가하는 감광도를 만족시키기에 충분하지 않다.
이에, 알칼리 가용성 수지의 산가를 유지하기 위해 광중합성 관능기 도입 후 부가 산기를 도입하는 방법(히드록시기 및 카르복시산 무수물의 반응에 의해 산기를 증가시킴)으로 공중합체를 제조함으로써, 낮아진 산기를 보상하고자 하는 시도가 있었다(한국 등록특허 제10-0709891호). 그러나, 상기 특허는 광중합성 관능기의 함량이 증가함으로써 낮아진 산기를 보상하기 위한 별도의 반응이 수행되어야 할 뿐만 아니라, 이로부터 발생하는 부반응 조절도 어렵다는 단점이 있다.
한국 공개특허 제2008-0102838호 한국 등록특허 제10-0709891호
따라서, 본 발명은 알칼리 가용성 수지로서 기본이 되는 단량체의 산기를 유지하면서 목적하는 함량의 광중합성 관능기가 도입된 공중합체를 제공하고자 한다. 나아가, 상기 공중합체를 포함함으로써 보다 낮은 온도에서 경화가 가능하고, 유기 용매에 대한 내화학성이 우수한 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 절연막을 제공하고자 한다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은 하기 화학식 1 내지 6으로 표시되는 반복단위를 포함하는, 공중합체를 제공한다:
[화학식 1] [화학식 2] [화학식 3] [화학식 4] [화학식 5] [화학식 6]
Figure pat00001
상기 식에서, R1은 수소 또는 C1-10 알킬이고, X는 C6-10 아릴, C1-6 알킬로 치환된 C6-10 아릴, C1-6 알콕시로 치환된 C6-10 아릴, 할로겐으로 치환된 C6-10 아릴 또는 말레이미드이며, R2 내지 R9는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-10 알킬이고, L1 내지 L13은 각각 독립적으로 직접결합 또는 C1-10 알킬렌이고, a 내지 f는 각각 상기 공중합체에서 반복단위의 몰비를 나타내며, a는 0.1 내지 0.5이고, b는 0.1 내지 0.3이며, c는 0 내지 0.6이고, d는 0.1 내지 0.6이며, e는 0.1 내지 0.6이고, f는 0.1 내지 0.6 이다.
상기 다른 목적을 달성하기 위해 본 발명은 (A) 상기 공중합체; (B) 광중합성 화합물; (C) 광중합 개시제; 및 (D) 용매;를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
상기 다른 목적을 달성하기 위해 본 발명은 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 절연막을 제공한다.
본 발명에 따른 상기 화학식 1 내지 6으로 표시되는 반복단위를 포함하는 공중합체는 산기 저하없이 광중합성 관능기 도입이 가능하므로, 감광성 수지 조성물 내 가교도를 높여 유기 용매에 대한 내화학성을 보다 우수하게 향상시킬 수 있으므로 절연막 형성시 패턴화가 용이하다. 나아가, 상기 공중합체를 포함하는 감광성 수지 조성물은 100℃ 이하의 저온에서 경화 가능할 뿐만 아니라, 해상도, 부착성, 투과도, 고온에서의 경시 안정성, 막강도 등의 측면에서도 보다 우수한 물성을 갖는 절연막을 형성할 수 있다.
본 발명은 (A) 공중합체; (B) 광중합성 화합물; (C) 광중합 개시제; 및 (D) 용매;를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
상기 조성물은 선택적으로, (E) 계면활성제 및/또는 (F) 접착보조제를 더 포함할 수 있다.
이하, 상기 감광성 수지 조성물에 대해 구성 성분별로 구체적으로 설명한다.
본 명세서에서, "(메트)아크릴"은 "아크릴" 및/또는 "메타크릴"을 의미하고, "(메트)아크릴레이트"는 "아크릴레이트" 및/또는 "메타크릴레이트"를 의미한다
하기 각 구성들에 대한 중량평균분자량은 겔 투과 크로마토그래피(gel permeation chromatography; GPC, 테트라히드로퓨란을 용출용매로 함)로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량(g/mol)을 말한다.
(A) 공중합체
본 발명에 사용되는 공중합체(A)는 하기 화학식 1 내지 6으로 표시되는 반복단위를 포함한다:
[화학식 1] [화학식 2] [화학식 3] [화학식 4] [화학식 5] [화학식 6]
Figure pat00002
상기 식에서, R1은 수소 또는 C1-10 알킬이고, X는 C6-10 아릴, C1-6 알킬로 치환된 C6-10 아릴, C1-6 알콕시로 치환된 C6-10 아릴, 할로겐으로 치환된 C6-10 아릴 또는 말레이미드이며, R2 내지 R9는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-10 알킬이고, L1 내지 L13은 각각 독립적으로 직접결합 또는 C1-10 알킬렌이고, a 내지 f는 각각 상기 공중합체에서 반복단위의 몰비를 나타내며, a는 0.1 내지 0.5이고, b는 0.1 내지 0.3이며, c는 0 내지 0.6이고, d는 0.1 내지 0.6이며, e는 0.1 내지 0.6이고, f는 0.1 내지 0.6 이다.
구체적으로, 상기 R1은 수소이고, X는 C6-10 아릴, C1-6 알킬로 치환된 C6-10 아릴, 할로겐으로 치환된 C6-10 아릴 또는 말레이미드이며, R2 내지 R9는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-5 알킬이고, L1 내지 L13은 각각 독립적으로 직접결합 또는 C1-10 알킬렌이며, a는 0.1 내지 0.5이고, b는 0.1 내지 0.2이며, c는 0 내지 0.6이고, d는 0.1 내지 0.6이며, e는 0.1 내지 0.6이고, f는 0.1 내지 0.6 이다.
보다 구체적으로, 상기 R1은 수소이고, X는 C6-10 아릴이며, R2 내지 R9는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸이며, L1 내지 L13은 직접결합이고, a는 0.1 내지 0.4이고, b는 0.1 내지 0.2이며, c는 0 내지 0.5이고, d는 0.1 내지 0.5이며, e는 0.1 내지 0.3이고, f는 0.1 내지 0.3일 수 있다.
상기 화학식 1로 표시되는 반복단위는 방향족환 함유 에틸렌성 불포화 화합물로부터 유도될 수 있다. 상기 방향족환 함유 에틸렌성 불포화 화합물의 구체적인 예로는, 페닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메트)아크릴레이트; 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 트리에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 헵틸스티렌, 옥틸스티렌 등의 알킬 치환기를 갖는 스티렌; 플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 요오도스티렌 등의 할로겐을 갖는 스티렌; 메톡시스티렌, 에톡시스티렌, 프로폭시스티렌 등의 알콕시 치환기를 갖는 스티렌; 4-히드록시스티렌, p-히드록시-α-메틸스티렌, 아세틸스티렌; 및 비닐톨루엔, 디비닐벤젠, 비닐페놀, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등을 들 수 있다. 상기 예시된 화합물로부터 유도되는 반복단위는 단독으로 또는 2종 이상 조합되어 공중합체에 포함될 수 있다. 이들 중 스티렌계 화합물로부터 유도되는 반복단위가 중합성 측면에서 유리하다.
상기 화학식 2로 표시되는 반복단위는 에틸렌성 불포화 카복실산, 에틸렌성 불포화 카복실산 무수물, 또는 이들의 조합으로부터 유도될 수 있다. 상기 에틸렌성 불포화 카복실산 및 에틸렌성 불포화 카복실산 무수물은, 분자에 하나 이상의 카복실기가 있는 중합가능한 불포화 단량체로서, 구체적인 예로서, (메트)아크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산 등의 불포화 모노카복실산; 말레인산, 말레인산 무수물, 푸마르산, 이타콘산, 이타콘산 무수물, 시트라콘산, 시트라콘산 무수물, 메사콘산 등의 불포화 디카복실산 및 이의 무수물; 3가 이상의 불포화 폴리카복실산 및 이의 무수물; 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]숙시네이트, 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]프탈레이트 등의 2가 이상의 폴리카복실산의 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬]에스테르 등일 수 있다. 상기 예시된 화합물로부터 유도되는 반복단위는 단독 또는 2종 이상 조합되어 공중합체(A)에 포함될 수 있다.
상기 화학식 3으로 표시되는 반복단위는 히드록시기를 포함하는 화합물로부터 유도될 수 있고, 구체적으로 히드록시기를 포함하는 아크릴레이트계 화합물로부터 유도될 수 있다.
상기 화학식 3으로 표시되는 반복단위는, 예를 들면, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-클로로프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 글리세롤(메트)아크릴레이트, 메틸 α-히드록시메틸아크릴레이트, 에틸 α-히드록시메틸아크릴레이트, 프로필 α-히드록시메틸아크릴레이트, 부틸 α-히드록시메틸아크릴레이트, 6-히드록시헥실 (메트)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸 (메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸렌글리콜 (메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필렌글리콜 (메트)아크릴레이트 등의 히드록시기를 포함하는 화합물로부터 유도될 수 있다.
상기 예시된 화합물로부터 유도되는 반복단위는 단독으로 또는 2종 이상 조합되어 공중합체(A)에 포함될 수 있다. 상기 히드록시기를 포함하는 아크릴레이트계 화합물로부터 유도되는 반복단위가 절연막의 강도 향상 측면에서 보다 유리하다.
상기 화학식 4 내지 6으로 표시되는 반복단위는 상기 화학식 3 내지 5으로 표시되는 반복단위가 일부 및/또는 전부 치환되어 형성될 수 있다. 자세한 설명은 하기 제조방법에서 하도록 한다.
상기 공중합체(A)는 다음과 같은 방법으로 제조될 수 있다.
먼저, 상기 각각의 단량체들(상기 화학식 1 내지 3으로 표시되는 반복단위를 유도하는 각각의 단량체들)을 유기 용매와 혼합하고, 적정 온도에서 가열 교반한 후 침전시켜 전구체 고분자를 만든다.
그 다음, 상기 전구체 고분자를 광중합성 관능기, 예를 들어, 아크릴릭무수물, 숙신산무수물, 글루타르산무수물, 아디프산무수물, 프탈산무수물, 헥사히드로프탈산무수물, 시스-1,2,3,6-테트라히드로프탈산무수물, 3,4,5,6-테트라히드로프탈산무수물, 이타콘산무수물, 트리멜릭산 무수물, 시스-5-노보넨-엔도-2,3-디카르복시산무수물 등과 반응시켜 전구체 고분자에 광중합성 관능기를 도입함으로써 공중합체(A)를 제조할 수 있다.
상기 화학식 4 내지 6으로 표시되는 반복단위는 상기 화학식 3 및/또는 5로 표시되는 반복단위와 광중합성 관능기와의 반응에 의해 형성될 수 있다. 구체적으로, 상기 화학식 3 및/또는 5로 표시되는 반복단위는 말단에 히드록시기를 갖는데, 상기 히드록시기에 광중합성 관능기가 치환될 수 있다.
광중합성 관능기의 함량에 따라 상기 반복단위 3 또는 5로 표시되는 반복단위는 상기 화학식 4 내지 6으로 표시되는 반복단위 중 적어도 하나 이상으로 일부 또는 전부 치환될 수 있다.
즉, 상기 공중합체(A)는 상기 화학식 1 및 2의 산기(예: 카르복실기), 구조는 일정하게 유지하면서, 화학식 3으로 표시되는 반복단위, 및/또는 화학식 5로 표시되는 반복단위에 광중합성 관능기가 도입됨으로써 가교도를 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 광중합성 관능기의 함량에 따라 상기 화학식 3 내지 6으로 표시되는 반복단위의 함량 조절이 가능하다.
상기 공중합체(A)의 중량평균분자량(Mw)은 500 내지 50,000 g/mol, 5,000 내지 20,000 g/mol, 또는 4,000 내지 15,000 g/mol일 수 있다. 공중합체(A)의 중량평균분자량이 상기 범위 내일 때, 기판과의 밀착성이 우수하고 물리적, 화학적 물성이 좋으며 적정 점도를 유지할 수 있다.
전체 감광성 수지 조성물 중의 공중합체(A)의 함량은, 상기 감광성 수지 조성물 총 중량(고형분 함량 기준)을 기준으로 30 내지 80 중량%, 또는 35 내지 55 중량%일 수 있다. 상기 범위 내일 때, 가교도가 우수하고 현상후 패턴 현상이 양호하며, 잔막률, 내화학성 등의 특성이 향상될 수 있다.
(B) 광중합성 화합물
본 발명의 감광성 수지 조성물은 필요에 따라, 광중합성 화합물(B)을 추가로 더 포함할 수 있다. 상기 광중합성 화합물(B)은 광중합 개시제의 작용으로 중합될 수 있는 화합물로서, 적어도 1개의 에틸렌성 불포화기를 가지는 단관능 또는 다관능 에스테르 화합물을 포함할 수 있고, 내화학성 측면에서 바람직하게는 2관능 이상의 다관능성 화합물일 수 있다.
상기 광중합성 화합물(B)로는 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트와 숙신산의 모노에스테르화물, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트와 숙신산의 모노에스테르화물, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트(펜타에리트리톨트리아크릴레이트와 헥사메틸렌디이소시아네이트의 반응물), 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A 에폭시아크릴레이트, 및 에틸렌글리콜모노메틸에테르아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
또한, 이외에도 직쇄 알킬렌기 및 방향족 고리 구조를 갖고 2개 이상의 이소시아네이트기를 갖는 화합물과, 분자 내에 1개 이상의 히드록실기를 갖고 3개, 4개 또는 5개의 아크릴로일옥시기 및/또는 메타크릴로일옥시기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 다관능 우레탄아크릴레이트 화합물 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상업적으로 구매 가능한 상기 광중합성 화합물로는, 단관능 (메트)아크릴레이트의 시판품으로서, 아로닉스 M-101, 동 M-111, 동 M-114(도아고세이(주) 제품), AKAYARAD TC-110S, 동 TC-120S(닛본가야꾸(주) 제품), V-158, V-2311(오사카유끼 가가꾸고교(주) 제품) 등이 있고, 2관능 (메트)아크릴레이트의 시판품으로서, 아로닉스 M-210, 동 M-240, 동 M-6200(도아 고세이(주) 제품), KAYARAD HDDA, 동 HX-220, 동 R-604(닛본가야꾸(주) 제품), V260, V312, V335 HP(오사카유끼 가가꾸고교(주) 제품) 등이 있으며, 3관능 이상의 (메트)아크릴레이트의 시판품으로서는 아로닉스 M-309, 동 M-400, 동 M-403, 동 M-405, 동 M-450, 동 M-7100, 동 M-8030, 동 M-8060, TO-1382(도아고세이(주) 제품), KAYARAD TMPTA, 동 DPHA, 동 DPH1-40H, 동 DPC1-20, 동-30, 동-60, 동-120(닛본가야꾸(주) 제품), V-295, 동-300, 동-360, 동-GPT, 동-3PA, 동-400(오사카유끼 가가꾸고교(주) 제품) 등을 들 수 있다.
상기 광중합성 화합물(B)은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있으며, 상기 공중합체(A)의 고형분 총 중량을 기준으로 10 내지 99 중량%, 또는 50 내지 90 중량%의 양으로 사용될 수 있다. 상기 범위에서 잔막율을 일정하게 유지할 수 있으면서 우수한 패턴 현상성 및 도막 특성을 얻을 수 있다.
(C) 광중합 개시제
본 발명에 사용되는 광중합 개시제(C)는 가시광선, 자외선, 심자외선(deep-ultraviolet radiation) 등에 의하여 경화될 수 있는 단량체들의 중합 반응을 개시하는 역할을 할 수 있다.
상기 광중합 개시제(C)의 종류는 특별히 한정되지 않으나 아세토페논계, 벤조페논계, 벤조인계 및 벤조일계, 크산톤계, 트리아진계, 할로메틸옥사디아졸계 및 로핀다이머계 광중합 개시제로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상이 사용될 수 있다.
상기 광중합 개시제(C)의 구체적인 예로서, p-디메틸아미노아세토페논, 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(4-모포리닐)페닐]-1-부탄온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 벤조페논, 벤조인프로필에테르, 디에틸티옥산톤, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-p-메톡시페닐-s-트리아진, 2-트리클로로메틸-5-스티릴-1,3,4-옥소디아졸, 9-페닐아크리딘, 3-메틸-5-아미노-((s-트리아진-2-일)아미노)-3-페닐쿠마린, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸릴 이량체, 1-페닐-1,2-프로판디온-2-(o-에톡시카르보닐)옥심, 1-[4-(페닐티오)페닐]-옥탄-1,2-디온-2-(o-벤조일옥심), o-벤조일-4'-(벤즈메르캅토)벤조일-헥실-케톡심, 2,4,6-트리메틸페닐카르보닐-디페닐포스포닐옥사이드, 헥사플루오로포스포로-트리알킬페닐술포늄염, 2-메르캅토벤즈이미다졸, 2,2'-벤조티아조릴디설파이드 또는 이들의 혼합물을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
다른 예로서, 상기 광중합 개시제(C)는 적어도 1종의 옥심계 화합물을 포함할 수 있다.
상기 옥심계 화합물은 옥심 구조를 포함하는 라디칼 개시제라면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어, 옥심 에스테르계 화합물일 수 있으며, 바람직하게는 옥심에스테르 플루오렌계 화합물일 수 있다.
상기 옥심계 화합물은 대한민국 공개특허공보 제2004-0007700호, 제2005-0084149호, 제2008-0083650호, 제2008-0080208호, 제2007-0044062호, 제2007-0091110호, 제2007-0044753호, 제2009-0009991호, 제2009-0093933호, 제2010-0097658호, 제2011-0059525호, 제2011-0091742호, 제2011-0026467호, 제2011-0015683호, 제2013-0124215호, 대한민국 등록특허공보 제10-1435652호, 국제특허공개 WO 2010/102502호 및 WO 2010/133077호에 기재된 옥심계 화합물 중의 1종 이상을 사용하는 것이 고감도의 측면에서 바람직하다.
이들의 상품명으로서는 OXE-01(BASF), OXE-02(BASF), N-1919(ADEKA), NCI-930(ADEKA), NCI-831(ADEKA), SPI-02(삼양 EMS), SPI-03(삼양 EMS) 등을 들 수 있다.
상기 광중합 개시제(C)는, 공중합체(A)의 고형분 총 중량을 기준으로 0.1 내지 20 중량%, 또는 5 내지 10 중량%의 양으로 사용될 수 있다. 상기 범위에서 고감도이면서 우수한 현상성 및 도막 특성을 얻을 수 있다.
(D) 용매
본 발명의 감광성 수지 조성물은 바람직하게는 상기 성분들을 용매와 혼합한 액상 조성물로 제조될 수 있다.
상기 용매(D)로는 전술한 감광성 수지 조성물 성분들과 상용성을 가지되 이들과 반응하지 않는 것으로서, 감광성 수지 조성물에 사용되는 공지의 용매이면 어느 것이나 사용 가능하다.
이러한 용매(D)의 예로는 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르 등의 프로필렌글리콜모노알킬에테르류; 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르, 프로필렌글리콜디프로필에테르, 프로필렌글리콜디부틸에테르 등의 프로필렌글리콜디알킬에테르류; 디프로필렌글리콜디메틸에테르 등의 디프로필렌글리콜디알킬에테르류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜모노알킬에테르아세테이트류; 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 셀로솔브류; 부틸카르비톨 등의 카르비톨류; 락트산 메틸, 락트산 에틸, 락트산 n-프로필, 락트산 이소프로필 등의 락트산 에스테르류; 아세트산 에틸, 아세트산 n-프로필, 아세트산 이소프로필, 아세트산 n-부틸, 아세트산 이소부틸, 아세트산 n-아밀, 아세트산 이소아밀, 프로피온산 이소프로필, 프로피온산 n-부틸, 프로피온산 이소부틸 등의 지방족 카복실산 에스테르류; 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸 등의 에스테르류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 2-헵타논, 3-헵타논, 4-헵타논, 시클로헥사논 등의 케톤류; N-디메틸포름아미드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드류; γ-부티로락톤 등의 락톤류; 및 이들의 혼합물을 들 수 있지만, 이에 한정되지는 않는다. 상기 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 용매(D)의 함량은 특별히 한정되지 않지만, 감광성 수지 조성물의 도포성, 안정성 등의 관점에서, 감광성 조성물 총 중량을 기준으로 고형분 함량이 5 내지 70 중량%, 또는 10 내지 55 중량%가 되도록 유기용매를 포함할 수 있다.
(E) 계면활성제
본 발명의 감광성 수지 조성물은 필요에 따라, 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면활성제(E)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 계면활성제(E)의 종류는 특별히 한정되지 않으나, 바람직하게는 불소계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제, 비이온계 계면활성제 및 그 밖의 계면활성제를 들 수 있다. 이 중 분산성 측면에서 바람직하게는 BYK사의 BYK 333이 사용될 수 있다.
상기 계면활성제(E)의 예로서는 BM-1000, BM-1100(BM CHEMIE사 제조), 메가팩 F142 D, 메가팩 F172, 메가팩 F173, 메가팩 F183, F-470, F-471, F-475, F-482, F-489(다이닛뽄잉크 가가꾸고교(주) 제조), 플로라드 FC-135, 플로라드 FC-170 C, 플로라드 FC-430, 플로라드 FC-431(스미또모 스리엠(주) 제조), 서프론 S-112, 서프론 S-113, 서프론 S-131, 서프론 S-141, 서프론 S-145, 서프론 S-382, 서프론 SC-101, 서프론 SC-102, 서프론 SC-103, 서프론 SC-104, 서프론 SC-105, 서프론 SC-106(아사히 가라스(주) 제조), 에프톱 EF301, 에프톱 EF303, 에프톱 EF352(신아끼따 가세이(주) 제조), SH-28 PA, SH-190, SH-193, SZ-6032, SF-8428, DC-57, DC-190(도레 실리콘(주) 제조), DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA, SH8400, FZ-2100, FZ-2110, FZ-2122, FZ-2222, FZ-2233(다우코닝도레이 실리콘사(주) 제조), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460, TSF-4452(GE 도시바 실리콘사(주) 제조), BYK-333(BYK사(주) 제조) 등의 불소계 및 실리콘계 계면활성제; 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌스테아릴에테르, 폴리옥시에틸렌올레일에테르 등의 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 등의 폴리옥시에틸렌아릴에테르류, 및 폴리옥시에틸렌디라우레이트, 폴리옥시에틸렌디스테아레이트 등의 폴리옥시에틸렌디알킬에스테르류 등의 비이온계 계면활성제; 및 오르가노실록산 폴리머 KP341(신에쓰 가가꾸고교(주) 제조), (메트)아크릴산계 공중합체 폴리플로우 No. 57, 95(교에이샤 유지 가가꾸고교(주) 제조) 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
상기 계면활성제(E)는 상기 공중합체(A)의 고형분 총 중량을 기준으로 0.001 내지 5 중량%, 또는 0.1 내지 2 중량%의 양으로 사용할 수 있다. 상기 범위에서 조성물의 코팅이 원활해진다.
(F) 접착보조제
본 발명의 감광성 수지 조성물은 기판과의 접착성을 향상시키기 위해 접착보조제(F)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 접착보조제(F)는 카르복실기, (메트)아크릴로일기, 이소시아네이트기, 아미노기, 메르캅토기, 비닐기 및 에폭시기로 이루어진 그룹에서 선택되는 적어도 1종 이상의 반응성 그룹을 가질 수 있다.
상기 접착보조제(F) 의 종류는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 트리메톡시실릴벤조산, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐트리메톡시실란, γ-이소시아네이토프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, N-페닐아미노프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 또는 이들의 혼합물을 들 수 있다.
바람직하게는 γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 또는 N-페닐아미노프로필트리메톡시실란을 사용하는 것이 잔막율 및 기판과의 접착성을 보다 향상시킬 수 있다.
상기 접착보조제(F)는 상기 공중합체(A)의 고형분 총 중량을 기준으로 0.001 내지 5 중량%, 또는 0.01 내지 4 중량%의 양으로 사용할 수 있다. 상기 함량 범위 내에서 기판과의 접착성을 보다 향상시킬 수 있다.
이 외에도, 본 발명의 감광성 수지 조성물은 물성을 저하시키지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타의 첨가제를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물을 기재 위에 도포한 후 경화하여 절연막을 제조할 수 있다. 이때, 상기 절연막은 상기 감광성 수지 조성물을 150℃ 이하, 50 내지 150℃, 50 내지 120℃, 50 내지 100℃, 또는 50 내지 90℃에서 열경화하여 얻어질 수 있다.
구체적으로, 상기 절연막은 당 기술분야에 알려져 있는 방법에 의해 제조할 수 있다. 예컨대 실리콘 기판 위에 상기 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅 방법에 의하여 도포하고, 60 내지 130℃에서 60 내지 130초간 예비경화(pre-bake)하여 용매를 제거한 후, 원하는 패턴이 형성된 포토마스크를 이용하여 노광하고, 현상액(예: 테트라메틸암모늄히드록사이드 용액(TMAH))으로 현상함으로써 코팅층에 패턴을 형성할 수 있다. 이후 패턴화된 코팅층을 10분 내지 5시간 동안 150℃ 이하, 50 내지 150℃, 50 내지 120℃, 50 내지 100℃, 또는 50 내지 90℃에서 열경화(후경화(post-bake))시켜 목적하는 절연막을 얻을 수 있다.
상기 노광은 200 내지 450 nm의 파장대에서 10 내지 100 mJ/cm2의 노광량으로 조사하여 수행할 수 있다.
이렇게 제조된 절연막은 우수한 패턴 현상성, 고온 경시 안정성, 내열성, 강도 및 내화학성을 나타내어 터치 패널을 포함하는 디바이스 장치에 유용하게 적용할 수 있다.
이하, 하기 실시예에 의하여 본 발명을 좀더 상세하게 설명하고자 한다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐 본 발명의 범위가 이들만으로 한정되는 것은 아니다. 하기 제조예에 기재된 중량평균분자량은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 폴리스티렌 환산값이다.
[ 실시예 ]
제조예 1: 공중합체(A-1)의 제조
환류 냉각기와 교반기를 장착한 500 ㎖의 둥근바닥 플라스크에 스티렌 50 몰%, 메타크릴산 50 몰%의 몰비를 갖는 단량체 혼합물 40 g, 용매로서 PGMEA 140 g 및 라디칼 중합 개시제로서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 2 g을 첨가한 다음, 70℃로 상승시켜 8시간 동안 교반하여 고형분 함량이 20%인 공중합체를 중합하였다. 생성된 공중합체의 중량평균분자량(Mw)은 7,000 g/mol이었다.
상기 공중합체 20 g을 질소 투입구가 부착된 플라스크에 투입하고 PGMEA 80 g으로 용해시켰다. 그 다음, 온도를 100℃로 올리고, 글리시딜 메타크릴레이트 30 몰%을 천천히 2시간동안 서서히 적가한 후 에폭시가 완전히 사라질 때까지 충분히 반응시켰다. 그 다음, 헵테인 200 g을 첨가하여 침전을 형성시키고 진공 하에서 건조하여 공중합체(A-1)를 얻었다. 생성된 공중합체(A-1)의 중량평균분자량(Mw) 10,000 내지 15,000 g/mol이었다.
제조예 2: 공중합체(A-2)의 제조
환류 냉각기와 교반기를 장착한 500 ㎖의 둥근바닥 플라스크에 스티렌 30 몰%, 메타크릴산 20 몰% 및 히드록시에틸 메타크릴레이트 50 몰%의 몰비를 갖는 단량체 혼합물 30 g, 용매로서 테트라히드로퓨란(THF) 148 ㎖을 혼합한 다음, 라디칼 중합 개시제로서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 65 ㎖(히드로퓨란내 2.3몰)을 60℃에서 1시간동안 천천히 적가 하였다. 그 다음, 60℃를 유지하면서 3시간 교반한 후, 헵테인 400 g을 넣어 침전을 형성시키고 여과하여 흰색 고체 상태의 공중합체(전구체 고분자)를 얻었다.
질소 하에서 상기 공중합체 17 g 및 트리에틸아민 80.9 mmol을 클로로포름 120 ㎖에 녹이고, 메타크릴릭무수물 50 몰%를 40℃에서 1시간 동안 천천히 적하한 다음, 40℃에서 3시간 동안 교반하였다. 반응 중 히드록시에틸 메타크릴레이트 50 몰%는 메타크릴릭무수물 50 몰%과 반응, 히드록시기가 전량 치환된다. 이후, 소량의 아세트산을 넣어 반응을 종결시킨 후 헵테인 200 g을 넣어 침전을 형성시키고 여과하여 흰색 고체 상태의 공중합체를 얻었다. 여기에 PGMEA를 넣어 고형분 함량이 33%인 공중합체(A-2)를 제조하였다. 생성된 공중합체(A-2)의 중량평균분자량(MW)은 7,000 내지 15,000 g/mol이었다.
제조예 3 내지 5 :공중합체(A-3 내지 A-5)의 제조
하기 표 1에 기재된 바와 같이 단량체의 종류 및 함량을 사용하여 공중합체를 제조하는 것을 제외하고는, 제조예 2와 동일한 방법으로 공중합체 A-3 내지 A-5를 제조하였다.
생성된 공중합체(A-3)는 반응 중 히드록시에틸 메타크릴레이트 50 몰%는 메타크릴릭무수물 40 몰%과 반응, 히드록시기 일부(40 몰%)가 치환되고 10 몰%는 치환되지 못하고 남게 된다.
생성된 공중합체(A-4)는 반응 중 히드록시에틸 메타크릴레이트 50 몰%는 메타크릴릭무수물 30 몰%과 반응, 히드록시기 일부(30 몰%)가 치환되고 20 몰%는 치환되지 못하고 남게 된다.
생성된 공중합체(A-5)는 반응 중 히드록시에틸 메타크릴레이트 40 몰% 및 2,3-디히드록시프로필 메타크릴레이트 10몰%는 메타크릴릭무수물 60 몰%과 반응, 히드록시에틸 메타크릴레이트 및 2,3-디히드록시프로필 메타크릴레이트의 히드록시기가 전량 치환된다.
Figure pat00003
실시예 및 비교예 : 감광성 수지 조성물의 제조
상기 제조예에서 제조된 화합물들을 이용하여 하기 실시예 및 비교예의 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
이하의 실시예 및 비교예에서 사용한 성분들에 대한 정보는 다음과 같다.
Figure pat00004
실시예 1.
고형분 기준으로, 제조예 2에서 제조한 공중합체(A-2) 100 중량부, 광중합성 화합물(B)로서 60 중량부, 광중합 개시제(C)로서 SPI-02 8 중량부, 계면활성제(E)로서 BYK-333 1 중량부 및 접착보조제(F)로서 KBE-9007N 3 중량부를 균일하게 혼합하고, 고형분 함량이 21%가 되도록 용매(D)로서 PGMEA를 사용하여 용해시켰다. 이를 2시간 동안 교반하여 감광성 수지 조성물 용액을 얻었다.
실시예 2 내지 4 및 비교예 1.
각각의 구성성분의 종류 및/또는 함량을 하기 표 3에 기재된 바와 같이 변화시킨 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 조성물 용액을 얻었다.
Figure pat00005
[ 평가예 ]
감광성 수지 조성물로부터 절연막의 제조
유리 기판 상에 스핀 코터를 이용하여 상기 실시예 및 비교예에서 제조된 감광성 수지 조성물을 각각 도포한 후, 110℃에서 120초간 예비경화하여 2.5 ㎛ 두께를 가진 도막을 형성하였다. 이후, 200 nm에서 450 nm의 파장을 내는 어라이너(aligner, 모델명 MA6)를 이용하여, 365 nm 기준으로 30 mJ/㎠이 되도록 일정시간 노광한 후, 2.38 중량% 테트라메틸암모늄하이드로옥사이드(TMAH) 수용성 현상액(수용액)으로 23℃에서 비노광부가 완전히 씻겨져 나갈때 까지 현상하였다. 그 다음, 85℃ 오븐에서 120초 경화하여 절연막을 얻었다.
평가예 1: 내화학성 평가
상기 절연막의 제조방법에 따라, 상기 실시예 및 비교예에서 얻은 각각의 조성물을 유리 기판 상에 도포하여 코팅하고, 예비경화, 노광 및 현상하였다. 현상된 막을 컨백션 오븐에서 85℃에서 60분 동안 가열하여 절연막을 얻었다. 상기 얻어진 절연막을 50℃에서 유기용매(유기계 스트리퍼; MEA 70% + DMSO 30%)에 1분 동안 담근 후에 꺼내었다. 이때, 유기용매는 모노에틸아민(MEA) 70% 및 디메틸 설폭사이드(DMSO) 30%의 중량비로 혼합하여 사용하였다. 이후 막의 두께를 비접촉식 두께 측정기(SIS-2000, SNU)로 측정하여, 하기 수학식에 따라 내화학성(%)을 계산하였다.
[수학식]
내화학성(%) = (유기계 스트리퍼 처리 후 두께 / 유기계 스트리퍼 처리 전 두께) x 100.
평가예 2: 부착성
상기 절연막의 제조방법에 따라 절연막이 형성된 기판을 제작하였다. 그 다음, ASTM D3359에 의거하여 크로스-컷 테스트(cross-cut test)를 실시하여 부착성을 평가하였다. 부착성 평가 기준은 다음과 같다.
0B : 박편으로 부서지며 65% 이상 떨어져 나감
1B : 자른 부위의 끝단 및 격자가 떨어져 나가며 면적은 35% 내지 65%
2B : 자른 부위의 끝단 및 격자가 떨어져 나가며 면적은 15% 내지 35%
3B : 자른 부위의 교차 부분에서 작은 영역이 떨어져 나가며 면적은 5% 내지 15%
4B : 자른 부위의 교차 부분에서 떨어져 나가며 면적이 5% 이하
5B : 자른 부위의 끝단이 부드러우며 떨어져 나가는 격자가 없음
평가예 3: 연필 경도
상기 절연막의 제조방법에 따라 예비경화 후의 총 두께가 2.5(±0.2) ㎛인 절연막을 제조하였다. 연필 경도 측정기를 사용하여, 추 무게 700 g을 같은 방향으로 일정한 속도 및 각도(45°)를 적용하여 6B에서 9H까지의 미쓰비시 UNI 연필로 절연막이 손상을 입는 정도를 관찰하였다.
평가예 4: 잔막률 (Film retention rate)
상기의 절연막 제조 방법에 따라 예비경화 후의 총 두께가 2.5(±0.2) ㎛인 절연막을 제조하여 초기 두께를 측정하였다. 절연막 제조 공정 후, 2.38 중량% TMAH 수용액으로 23℃에서 현상 후의 두께를 다시 측정하였다. 마지막으로, 85℃에서 120초 동안 경화시킨 후 두께를 측정하고, 예비경화 직후의 막 두께에 대한 최종 절연막의 두께의 백분율을 계산하여 잔막률(%)을 산출하였다.
평가예 5: 해상도( Litho performance) 평가
상기 실시예 및 비교예에서 얻은 각각의 조성물을, 유리 기판 상에 스핀 코터를 이용해서 균일하게 도포한 후, 85℃로 유지되는 핫 플레이트 위에서 1분간 건조시켜 2.5 ㎛의 건조막을 형성시킨 기판을 제작하였다. 건조막이 형성된 기판에 대하여 라인 폭 12 ㎛의 개구 패턴을 갖는 네거티브 마스크를 적용한 후, 노광기(aligner, 모델명 MA6)를 이용해서 노광량 30 mJ/cm2로 노광한 후, 2.38 중량% TMAH 수용성 현상액으로 23℃에서 비노광부가 완전시 씻겨져 나갈 때까지 현상하였다. 이후 패턴이 형성된 노광막을 85℃ 오븐에서 120초 동안 후경화하여 절연막을 형성하였다. 절연막이 형성된 기판에 대해, 비접촉식 두께 측정기(SIS-2000, SNU)로 패턴 바닥부 라인 폭(Bottom CD)을 측정하고 하기 기준에 따라 해상도를 평가하였다.
○ : 바닥부 라인 폭이 6 ㎛이상 개구하고 있음.
Ⅹ : 바닥부 라인 폭이 6 ㎛미만 개구하고 있음.
추가로, 2.38 중량% TMAH 수용성 현상액(pH 9.5~10.7) 보다 더 염기성 조건에서도 현상되는지 여부를 평가하기 위해 다음과 같은 방법으로 실험하였다.
구체적으로, 실시예 1의 조성물을 사용하여 상기 동일한 방법으로 절연막을 형성하되, 현상액으로 0.04 중량% KOH 수용성 현상액(pH 11.3~11.7)을 사용하였다.
절연막이 형성된 기판에 대해, 비접촉식 두께 측정기(SIS-2000, SNU)로 패턴 바닥부 라인 폭, 막 두께를 측정하였다. 또한, 상기 평가예 4와 동일한 방법으로 잔막률(%)를 산출하였다.
평가예 6: 투과도 측정(UV- vis )
상기 절연막의 제조방법과 동일한 방법으로 유리 기판 상에 두께 2.5 ㎛의 예비경화막을 형성하고, 이에 대해, 자외선/가시광선 측정기(Varian UV spectrometer)를 사용하여 200 내지 800 nm의 파장 영역을 스캔 후 400 내지 800 nm 파장대의 투과도를 측정하였다. 400 내지 800 nm 파장에서의 투과도 평균값이 높을수록 우수한 것으로 평가하였다.
평가예 7: 경시 안정성(Shelf-life)
실시예 및 비교예의 감광성 수지 조성물 용액 10 g을 20 ㎖ 유리 바이알 병에 넣고 40℃의 고온 오븐에 48시간 보관한 후 겔화(점도 상승 여부; gelation)를 확인하였다. 육안, 촉감 등으로 확인하였을 때 겔화가 진행되지 않은 경우 경시 안정성이 우수하다고 평가하였다.
Pass : 감광성 수지 조성물의 용액의 겔화가 진행되지 않음.
Non-pass : 감광성 수지 조성물의 용액의 겔화 진행.
구분 내화학성(%)
(50℃/1분)		 부착성 연필경도 해상도 잔막률(%) 투과도(%) 경시 안정성
(40℃/48시간)
실시예 1 101.3 5B 1H ○ 87 99 Pass
실시예 2 102.2 5B 1H ○ 89 99 Pass
실시예 3 102.8 5B 1H ○ 88 99 Pass
실시예 4 100.7 5B 2H Ⅹ 93 99 Pass
비교예 1 105.0 5B HB ○ 88 99 Pass
실시예 1 0.04 중량% KOH (pH 11.3~11.7)
Bottom CD(㎛) 6.76
막 두께(㎛) 1.68
잔막률(%) 95.4
표 4 및 5의 결과를 살펴보면, 본 발명의 범위에 속하는 실시예의 조성물로부터 얻은 절연막은 내화학성, 부착성, 연필경도, 해상도, 잔막률, 투과도 및 경시 안정성 측면에서 골고루 우수하게 나타났고, 염기성 조건에서도 잔막률 및 해상도가 우수하게 나타난 반면, 본 발명의 범위에 속하지 않는 비교예 1의 조성물로부터 얻어진 절연막은 상기 물성값들 중 어느 하나 이상의 결과가 저조하게 나타났고, 특히, 내화학성 측면에서 매우 저조한 결과를 나타냈다.

Claims (6)

  1. 하기 화학식 1 내지 6으로 표시되는 반복단위를 포함하는, 공중합체:
    [화학식 1] [화학식 2] [화학식 3] [화학식 4] [화학식 5] [화학식 6]
    Figure pat00006

    상기 식에서,
    R1은 수소 또는 C1-10 알킬이고,
    X는 C6-10 아릴, C1-6 알킬로 치환된 C6-10 아릴, C1-6 알콕시로 치환된 C6-10 아릴, 할로겐으로 치환된 C6-10 아릴 또는 말레이미드이며,
    R2 내지 R9는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-10 알킬이고,
    L1 내지 L13은 각각 독립적으로 직접결합 또는 C1-10 알킬렌이고,
    a 내지 f는 각각 상기 공중합체에서 반복단위의 몰비를 나타내며, a는 0.1 내지 0.5이고, b는 0.1 내지 0.3이며, c는 0 내지 0.6이고, d는 0.1 내지 0.6이며, e는 0.1 내지 0.6이고, f는 0.1 내지 0.6 이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 R1은 수소이고,
    X는 C6-10 아릴이며,
    R2 내지 R9는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸이며,
    L1 내지 L13은 각각 독립적으로 직접결합 또는 C1-10 알킬렌인, 공중합체.
  3. (A) 제1항의 공중합체;
    (B) 광중합성 화합물;
    (C) 광중합 개시제; 및
    (D) 용매;를 포함하는 감광성 수지 조성물.
  4. 제3항에 있어서
    상기 감광성 수지 조성물이 상기 감광성 수지 조성물 총 중량(고형분 함량 기준)을 기준으로 상기 공중합체(A)를 30 내지 80 중량%로 포함하는, 감광성 수지 조성물.
  5. 제3항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 절연막.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 절연막이 상기 감광성 수지 조성물을 50 내지 90℃의 온도에서 열경화하여 얻어진 것인, 절연막.
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